DE19610300C2 - Hochfeste transluzente Glimmer-Glaskeramiken, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung - Google Patents
Hochfeste transluzente Glimmer-Glaskeramiken, Verfahren zu ihrer Herstellung und VerwendungInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft Glimmer-Glaskeramiken, die
aufgrund ihrer mechanischen Eigenschaften für ein breites
Anwendungsgebiet geeignet sind, sowie Zahnersatz als Beispiel
hierfür.
Glimmer-Glaskeramiken sind allgemein bekannt für die
Möglichkeit, sie mit spanabhebenden Verfahren zu bearbeiten. Die
Bearbeitbarkeit wird durch die tafelförmige Morphologie und die
gute Spaltbarkeit der Glimmer ermöglicht.
Die Glimmerkristalle in Glaskeramiken zeigen ähnlich wie
natürliche Glimmer ein weites Zusammensetzungsspektrum. Die
Zwischenschichtposition in der Glimmerstruktur kann mit
Elementen der Alkali- und Erdalkaligruppe besetzt werden. Wäh
rend die Besetzung mit Kalium oder anderen schweren
Alkalielementen eher den häufig vorkommenden natürlichen
Zusammensetzungen entspricht, können in Glaskeramiken auch
Glimmer mit Erdalkali- und Lithiumionen in der Zwischenposition
ausgeschieden werden. Diese zeigen - mit Ausnahme der
Mg-haltigen Glimmer - allerdings eine Eigenschaft, die sie für
technische Anwendungen nur bedingt anwendungsfähig erscheinen
lassen. Bei Kontakt mit Wasser quillt die Glimmerstruktur auf,
und die Glaskeramik zerfällt zwangsläufig (S. N. Hoda, G. H.
Beall: "Alkaline earth mica glass-ceramics" in Adv. in
Ceramics, Vol. 4, Nucleation and Crystallisation in Glasses, Am.
Ceram. Soc, Columbus Ohio, 1982).
So haben Baik et al. J. Am. Ceram. Soc. 78 (5) 1217-22 (1995)
die mechanischen Eigenschaften von Glimmer-Glaskeramiken mit 0,9
Gewichts-% Lithiumoxid beschrieben. Diese werden bei höheren
ZrO2-Gehalten (so bei 6 Gewichts-% ZrO2) spontan trübe. Auch die
in der DE-OS 44 04 921 offenbarten calciumhaltigen Glimmer-
Glaskeramiken, die sich für die Verwendung als Zahnkronen
eignen, zeigen das Problem der hydrolytischen Unbeständigkeit.
Die vollständige Besetzung der Tetraederposition der
Glimmerstruktur mit Silicium führt zu tetrasilicatischen
Glimmern, die ebenfalls schon als Glimmer-Phase in Glimmer-
Glaskeramik ausgeschieden wurden.
Die klassischen Eigenschaften der Glimmer-Glaskeramiken
ermöglichen Anwendungen in der Elektronik (hoher spez.
Widerstand, geringe Dielektrizitätskonstante) und in der
Vakuumtechnik (Porenfreiheit). Aufgrund des biokompatiblen
Verhaltens der Glimmer-Glaskeramik werden diese auch in der
Medizin als Werkstoff für Knochenersatz eingesetzt.
In vielen Fällen steht jedoch einer Verwendung der Glimmer-
Glaskeramik die vergleichsweise geringe Festigkeit des
Werkstoffs entgegen. Auch die lithiumhaltigen
Glimmerglaskeramiken von Baik et. al. (siehe a. a. O.) sind
diesbezüglich nicht zufriedendstellend. Eine verbesserte
Festigkeit in Verbindung mit einer guten Bearbeitbarkeit,
zumindest in erwünschten Phasen des Herstellungsverfahrens,
würde das Anwendungsgebiet der Glimmer-Glaskeramik erheblich
erweitern.
Die Herstellung großer glasartiger Keramikkörper beschreibt die
DE 37 30 637 A1. Diese sind zwar bezüglich der Bearbeitbarkeit
häufig mit gut zu bewerten, ihre Festigkeiten sind jedoch
verbesserungsbedürftig.
Die Anwendung der Glimmer-Glaskeramiken in der restaurativen
Zahnmedizin ist Stand der Technik. Die EP 0 083 828 B1
beschreibt tetrasilicatische Glimmer-Glaskeramiken erhöhter
Verfärbungsbeständigkeit (durch Zugabe von Al2O3 und ZrO2) zur
Verwendung als Dentalkonstruktion. Die entsprechende Glaskeramik
kann als vorgefertigter Block in handelsüblichen CAD-CAM
Verfahren eingesetzt werden, um daraus Inlays oder Onlays zu
fertigen.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Glimmer-
Glaskeramik bereitzustellen, die eine gute chemische
Beständigkeit sowie hohe mechanische Festigkeit, hohe
Transluzenz sowie eine für die Verarbeitung auf CAD-CAM-
Maschinen ausreichende Bearbeitbarkeit besitzt.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Glaskeramik mit darin
ausgeschiedenen Glimmer- und ZrO2-Kristallen, enthaltend:
K2O: 0-6,6 Gew.-%
Na2O: 0-9 Gew.-%
mit der Maßgabe, daß Na2O und K2O zusammen mindestens etwa 4 Gew.-% ausmachen,
SiO2: 35-60 Gew.-%
MgO: 10-25 Gew.-%
Al2O3: 7-30 Gew.-%
ZrO2: 4-12 Gew.-%
F⁻: 2-10 Gew.-%,
die im wesentlichen frei ist von Lithium, Calcium, Strontium und Barium.
K2O: 0-6,6 Gew.-%
Na2O: 0-9 Gew.-%
mit der Maßgabe, daß Na2O und K2O zusammen mindestens etwa 4 Gew.-% ausmachen,
SiO2: 35-60 Gew.-%
MgO: 10-25 Gew.-%
Al2O3: 7-30 Gew.-%
ZrO2: 4-12 Gew.-%
F⁻: 2-10 Gew.-%,
die im wesentlichen frei ist von Lithium, Calcium, Strontium und Barium.
Bevorzugt liegt der Anteil an F⁻ bei 4-10 Gew.-%.
"Im wesentlichen frei" soll dabei ausdrücken, daß die genannten
Elemente höchstens in solchen Anteilen vorhanden sein sollen,
die durch das Einschleppen von Verunreinigungen verursacht sind,
typischerweise insgesamt unter 1 Gew.-%.
Außerdem können noch Komponenten zur Farbgebung, Fluoreszenz
oder zur Verbesserung der verarbeitungstechnischen Eigenschaften
des Glases zugegeben werden, z. B.:
CeO2, La2O3, MnO2, Fe2O3, TiO2, Y2O3 und B2O3 in Mengen bis zu etwa 5% jeder Komponente, zusammen nicht mehr als etwa 10%. Die Gemenge werden in den entsprechenden Anteilen aus den Rohstoffen (Oxiden, Fluoriden, Carbonaten, etc.) hergestellt. Die Gemenge werden bei 1300-1600°C, bevorzugt 1400-1550°C für z. B. 1-5 Stunden im abgedeckten Tiegel unter Rühren eingeschmolzen, in entsprechende Formen vergossen und anschließend auf Raumtemperatur abgekühlt.
CeO2, La2O3, MnO2, Fe2O3, TiO2, Y2O3 und B2O3 in Mengen bis zu etwa 5% jeder Komponente, zusammen nicht mehr als etwa 10%. Die Gemenge werden in den entsprechenden Anteilen aus den Rohstoffen (Oxiden, Fluoriden, Carbonaten, etc.) hergestellt. Die Gemenge werden bei 1300-1600°C, bevorzugt 1400-1550°C für z. B. 1-5 Stunden im abgedeckten Tiegel unter Rühren eingeschmolzen, in entsprechende Formen vergossen und anschließend auf Raumtemperatur abgekühlt.
Die anschließende Überführung des Glases in eine Glaskeramik
erfolgt durch kontinuierliches Aufheizen der Gläser auf
Kristallisationstemperatur oder durch Aufheizen auf eine
Temperatur zur Keimbildung und anschließendes Erhöhen der
Temperatur zur Kristallisation der Gläser. Die
Keimbildungstemperatur liegt etwa 20-200 K über der
Transformationstemperatur, die Zeit zur Keimbildung beträgt etwa
0,5-3 Stunden. Die Kristallisationstemperatur liegt etwa 200-
450 K über der Transformationstemperatur, und die
Kristallisationszeit beträgt etwa 0,5-5 Stunden.
Bei der beschriebenen Temperaturbehandlung kristallisieren
mindestens Glimmerkristalle und ZrO2-Kristalle aus. Außerdem ist
die Kristallisation von Nebenphasen (Cordierit, Enstatit,
Spinell) in geringer Menge möglich.
Eine hohe Transluzenz wird durch die Ausscheidung sehr
feinkristalliner Glimmer mit Korngrößen von 0,5-3 µm erreicht.
Durch das Kartenhausgefüge dieser sehr feinen Glimmer ist eine
ausreichende Bearbeitbarkeit sichergestellt.
Die Festigkeit der Glaskeramik wird im wesentlichen durch die
feinkörnigen Glimmer und die Umwandlungsverstärkung durch
tetragonales ZrO2 sichergestellt. Tetragonales ZrO2 kann
spannungsinduziert martensitisch in die monokline Modifikation
umgewandelt werden. Diese Umwandlung ist mit einer 3-5
prozentigen Volumenzunahme verbunden. Dadurch wird die Spitze
eines einlaufenden Risses unter Druck gesetzt, und die
Festigkeit des Werkstoffs steigt an. Andere Verfestigungsme
chanismen des ZrO2 sind die Mikrorißverstärkung durch die
Mikrorißbildung an spontan umgewandelten ZrO2-Körnern und die
Verfestigung durch Oberflächendruckspannungen, die durch die
Umwandlung des oberflächennahen tetragonalen ZrO2 in die
monokline Modifikation (z. B. durch Anschleifen) erzeugt werden
können.
Die erfindungsgemäßen Glimmer-Glaskeramiken können auf
verschiedene Arten verarbeitet werden.
Es ist möglich, vorgefertigte Blöcke der Glaskeramik auf
entsprechenden CAD-CAM-Fräsen zu beschleifen um ein präzise
dimensioniertes Werkstück zu erhalten (siehe Beispiel 1 und 2).
Wenn eine bessere Bearbeitbarkeit der Glaskeramik gefordert ist,
kann man die Glaskeramik in einem vorgetemperten, gut
bearbeitbaren Zustand spanabhebend bearbeiten und das so
erhaltene Werkstück durch eine anschließende Temperatur
behandlung verfestigen, wobei die Bearbeitbarkeit verringert
wird, zugleich aber die Verschleißbeständigkeit zunimmt (siehe
Beispiel 3).
Weiterhin ist es möglich, von den Zusammensetzungen Gläser zu
erschmelzen und diese schmelzflüssig in eine entsprechende Form
(im zahnärztlichen Bereich z. B. Zahnkrone oder Brücke) zu
gießen und anschließend zur Glaskeramik auszukristallisieren.
Die erfindungsgemäße Glaskeramik ist aufgrund ihrer mechanischen
Eigenschaften nicht nur für Inlays und Onlays geeignet wie die
Werkstoffe der EP 0 083 828 B1; sie kann darüberhinaus z. B. auch
für anderen Zahnersatz (Kronen und Brücken) verwendet werden, da
sie neben der erforderlichen Bearbeitbarkeit, z. B. bei CAD-CAM
Geräten, auch eine hohe mechanische Festigkeit besitzt und mit
Hilfe der geeigneten Zusätze auch eine dem Zahnschmelz
entsprechende Transluzenz und Färbung aufweisen kann. Sie
besitzt ferner die für die Anwendung als Zahnersatz
erforderliche chemische Beständigkeit.
Nachfolgend werden einige Ausführungsbeispiele für die neuen
Glimmer-Glaskeramiken gegeben.
Die Zusammensetzungen sind als Einwaage gegeben. Von einigen
Gläsern werden außerdem die analysierten Zusammensetzungen
angegeben. Die beschriebenen Festigkeiten wurden im 4-Punkt-
Biegeversuch (40 mm unterer, 20 mm oberer Auflagenabstand) an
3×4×≧45 mm3 großen Proben ermittelt. Die Bearbeitbarkeit der
Proben bedeutet, daß sie selbst mit Hilfe eines handelsüblichen
gehärteten Stahlsägeblattes angesägt werden können. Die
Transluzenz wurde qualitativ an 3 mm dicken Proben ermittelt.
"Gut" bedeutet hier, daß ein schwarzer Strich auf weißem
Untergrund durch eine Glaskeramikplatte noch zu erkennen ist.
Zusammensetzung (Gew.-%)
SiO2
SiO2
: 51,58
Al2
Al2
O3
: 15,5
MgO: 10,42
MgF2
MgO: 10,42
MgF2
: 8,9
Na2
Na2
O: 3,5
K2
K2
O: 2,7
ZrO2
ZrO2
: 7,4
Schmelztemperatur 1500°C/3 Std.
1. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 4 K/min, 700°C, 1,5 Std. und 970°C, 2,5 Std.
Festigkeit: 265 MPa (± 27 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: gut
Schmelztemperatur 1500°C/3 Std.
1. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 4 K/min, 700°C, 1,5 Std. und 970°C, 2,5 Std.
Festigkeit: 265 MPa (± 27 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: gut
Zusammensetzung (Gew.-%)
SiO2
SiO2
: 53
Al2
Al2
O3
: 10,5
MgO: 11,5
MgF2
MgO: 11,5
MgF2
: 10,3
Na2
Na2
O: 1,5
K2
K2
O: 6,2
ZrO2
ZrO2
: 7,0
Schmelztemperatur 1500°C/3 Std.
1. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 720°C, 1,5 Std. und 1030°C, 2 Std.
Festigkeit: 290 MPa (± 31 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: gut
Schmelztemperatur 1500°C/3 Std.
1. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 720°C, 1,5 Std. und 1030°C, 2 Std.
Festigkeit: 290 MPa (± 31 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: gut
| Zusammensetzung (Gew.-%) | |
| Analyse (Gew.-% | |
| SiO2: 45,04 | n. a. |
| Al2O3: 23,42 | 22,7 |
| MgO: 10,35 | 17,4* |
| MgF2:10,18 | 4,94 |
| Na2O: 5,01 | 5,12 |
| ZrO2: 6,0 | 5,94 |
*) analysiert als Mg und auf MgO berechnet
Schmelztemperatur 1520°C/2,5 h
Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 680°C, 2 Std. und 900°C, 1 Std.
Festigkeit: 205 MPa (± 46 MPa)
Transluzenz: sehr gut
Bearbeitbarkeit: gut
2. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min,
1000°C, 1 Std.
Festigkeit: 268 MPa (± 35 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: schlecht
alternative 2. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 1000°C, 3 Std.
Festigkeit: 308 MPa (± 19 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: schlecht
Schmelztemperatur 1520°C/2,5 h
Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 680°C, 2 Std. und 900°C, 1 Std.
Festigkeit: 205 MPa (± 46 MPa)
Transluzenz: sehr gut
Bearbeitbarkeit: gut
2. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min,
1000°C, 1 Std.
Festigkeit: 268 MPa (± 35 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: schlecht
alternative 2. Temperung: Aufheizgeschwindigkeit 5 K/min, 1000°C, 3 Std.
Festigkeit: 308 MPa (± 19 MPa)
Transluzenz: gut
Bearbeitbarkeit: schlecht
Claims (9)
1. Glaskeramik mit darin ausgeschiedenen Glimmer- und ZrO2-
Kristallen, enthaltend:
K2O: 0-6,6 Gew.-%
Na2O: 0-9 Gew.-%
mit der Maßgabe, daß Na2O und K2O zusammen mindestens etwa 4 Gew.-% ausmachen,
SiO2: 35-60 Gew.-%
MgO: 10-25 Gew.-%
Al2O3: 7-30 Gew.-%
ZrO2: 4-12 Gew.-%
F⁻: 2-10 Gew.-%,
die im wesentlichen frei ist von Lithium, Calcium, Strontium und Barium.
K2O: 0-6,6 Gew.-%
Na2O: 0-9 Gew.-%
mit der Maßgabe, daß Na2O und K2O zusammen mindestens etwa 4 Gew.-% ausmachen,
SiO2: 35-60 Gew.-%
MgO: 10-25 Gew.-%
Al2O3: 7-30 Gew.-%
ZrO2: 4-12 Gew.-%
F⁻: 2-10 Gew.-%,
die im wesentlichen frei ist von Lithium, Calcium, Strontium und Barium.
2. Glaskeramik nach Anspruch 1, zusätzlich enthaltend
mindestens ein Oxid, ausgewählt unter CeO2, La2O3, MnO2,
Fe2O3, TiO2, Y2O3 und B2O3, in Mengen bis zu etwa 5 Gew.-%
jedes Oxids und in einem Gesamtanteil von nicht mehr als 10
Gew.-%, als Komponenten zur Farbgebung, Fluoreszenz oder zur
Verbesserung der verarbeitungstechnischen Eigenschaften des
Glases.
3. Verfahren zum Herstellen einer Glaskeramik gemäß einem der
Ansprüche 1 oder 2, worin die entsprechenden
Ausgangssubstanzen vermischt und bei 1300-1600°C erschmolzen
werden und das erschmolzene Glas nach Abkühlen
kontinuierlich auf die Kristallisationstemperatur gebracht
wird.
4. Verfahren zum Herstellen einer Glaskeramik gemäß einem der
Ansprüche 1 oder 2, worin die entsprechenden
Ausgangssubstanzen vermischt und bei 1300-1600°C erschmolzen
werden und das erschmolzene Glas nach Abkühlen auf eine
Temperatur zur Keimbildung und anschließend weiter auf
Kristallisationstemperatur gebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, worin die
Ausgangssubstanzen unter den entsprechenden Fluoriden,
Oxiden, Carbonaten und anderen bei hohen Temperaturen in
Oxide übergehenden Salzen ausgewählt werden.
6. Verwendung einer Glaskeramik nach einem der Ansprüche 1 oder
2 als Zahnersatz oder Teil eines Zahnersatzes.
7. Verwendung nach Anspruch 6, wobei die Glaskeramik mit
spanabhebenden Verfahren bearbeitet und/oder geformt wird.
8. Verwendung nach Anspruch 6, wobei ein vorgetemperter
Formkörper aus Glaskeramik bearbeitet und durch eine
nachfolgende Temperung verfestigt wird.
9. Verwendung nach Anspruch 6, wobei ein erschmolzenes Glas in
eine feuerfeste Form vergossen und anschließend darin einer
Temperaturbehandlung unterzogen wird, bei der die
Glaskeramik entsteht.
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19610300A DE19610300C2 (de) | 1996-03-15 | 1996-03-15 | Hochfeste transluzente Glimmer-Glaskeramiken, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
| US08/952,464 US6080692A (en) | 1996-03-15 | 1997-03-13 | High-strength, translucent mica glass-ceramics |
| PCT/DE1997/000504 WO1997034847A1 (de) | 1996-03-15 | 1997-03-13 | Hochfeste transluzente glimmer-glaskeramiken |
| JP9533032A JP2000500730A (ja) | 1996-03-15 | 1997-03-13 | 高硬質の透明な雲母−ガラスセラミック |
| EP97920506A EP0828694A1 (de) | 1996-03-15 | 1997-03-13 | Hochfeste transluzente glimmer-glaskeramiken |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19610300A DE19610300C2 (de) | 1996-03-15 | 1996-03-15 | Hochfeste transluzente Glimmer-Glaskeramiken, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE19610300A1 DE19610300A1 (de) | 1997-09-18 |
| DE19610300C2 true DE19610300C2 (de) | 1998-07-02 |
Family
ID=7788447
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19610300A Expired - Fee Related DE19610300C2 (de) | 1996-03-15 | 1996-03-15 | Hochfeste transluzente Glimmer-Glaskeramiken, Verfahren zu ihrer Herstellung und Verwendung |
Country Status (5)
| Country | Link |
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| EP (1) | EP0828694A1 (de) |
| JP (1) | JP2000500730A (de) |
| DE (1) | DE19610300C2 (de) |
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