DE1958004A1 - High vacuum film deposition plant with - ante chambers for charge trolleys - Google Patents
High vacuum film deposition plant with - ante chambers for charge trolleysInfo
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Abstract
Description
Hochvakuum-Bedampfungsanlage Die Erfindung bezieht sich auf eine Hochvakuum-Bedampfungsanlage, umfassend eine das Bedampfungsgut aufnehmende Bedampfungskammer, die mindestens einen Terd.ampSer, einen Anschluß zur Energiezufuhr zu dem Verdampfer und einen Anschluß an eine Hochvakuumpumpe enthält, und eine an eine Vakuumpumpe anschließbare, zur Aufnahme des Bedampfungsguts geeignete, mit der Bedampfungskammer zum Durchtritt des Bedampfungsguts verbindbare Vorkammer, die ihrerseits eine verschließbare Öffnung für den Durchtritt des Bedampfungsguts aufweist. High vacuum evaporation system The invention relates to a High vacuum vapor deposition system, comprising a vapor deposition chamber accommodating the material to be vaporized, the at least one Terd.ampSer, a connection for supplying energy to the evaporator and one connection to a high vacuum pump, and one to a vacuum pump connectable, suitable for receiving the material to be vaporized, with the vaporization chamber an antechamber which can be connected for the passage of the material to be vaporized and which in turn has a closable Has opening for the passage of the vaporized material.
Es ist bekannt, Kunststoffe, Glas, Keramik usw. im Hochvakuum zu bedampfen. Zur Erzielung großer Durchsatzzengen werden entweder große Einzelkainmeranlagen verwendet oder solche Anlagen, bei denen das Bed.ampfungsgut nacheinander im Takt verschiedene, mit Schleusen verbundene Druckstufen durchläuft. In letzterem Fall wird die eigentliche Bedåmpfungskammer nicht dem Atmosphärendruck ausgesetzt, so daß sich gegenüber Einzelkammeranlagen wesentlich kürzere Chargenzeiten erzielen lassen.It is known to vaporize plastics, glass, ceramics, etc. in a high vacuum. To achieve large throughputs, either large single-chamber systems are used used or those systems in which the steaming material one after the other in the cycle different pressure levels associated with locks passes through. In In the latter case, the actual damping chamber is not at atmospheric pressure exposed, so that significantly shorter batch times compared to single-chamber systems can be achieved.
Die bekannten Nehrkammeranlagen weisen jedoch den Nachteil auf, daß sie wegen den turchgangsschleusen zwischen den einzelnen Druckstufen aufwend.ige Konstruktionen bedingen. Die Schleusenöffnungen müssen mindestens die lichte Weite des Durchmessers des Bedampfungsguts haben.However, the known Nehrkammeranlagen have the disadvantage that They are expensive because of the passage locks between the individual pressure levels Constructs require. The lock openings must be at least the clear width the diameter of the material to be vaporized.
Ferner ist es nicht ohne weiteres möglich, ohne ein Stillsetzen der Anlage von einem Bedampfung-smaterial auf ein anderes umzustellen, die hohem Verschleiß unterworfenen Verdampferquellen zu wechseln oder die Anordnung des Gutes zu verändern. Beispielsweise werden Bedampfungsteile, die einseitig bedampft werden sollen, zweckniäßigerweise auf Scheiben gelegt, während allseitig zu bedampfendes Gut auf rotierenden Rahmetgestellen befestigt wird. In beiden Fällen bedarf es daher verschiedener Verdampferanordnungen und verschiedener Vorrichtungen zur Aufnahme des Bedampfungsgutes.Furthermore, it is not easily possible without stopping the Changing the system from one vaporization material to another, which is subject to high wear to change subject evaporation sources or to change the arrangement of the goods. For example, steaming parts that are to be steamed on one side are expediently placed on panes, while items to be steamed on all sides on rotating frame racks is attached. In both cases, therefore, different evaporator arrangements are required and various devices for receiving the material to be vaporized.
Aufgabe der Erfindung ist es d.aher, eine Eochvakuum-Bedampfungsanlage zu schaffen, die die kurzen Pumpzeiten und kurzen Chargenzeiten der bekannten Mehrkammeranlagen aufweist, die edooh im übrigen die anderen genannten Nachteile dieser Anlagen vermeidet.The object of the invention is therefore to provide a high vacuum vapor deposition system to create the short pumping times and short batch times of the well-known multi-chamber systems which edooh avoids the other mentioned disadvantages of these systems.
Die Aufgabe wird bei einer Hochvakuum-Bedampfungsanlage der eingangs genannten Art dadurch gelost, daß die Vorkammer die Bedampfungskammer zumindest teilweise umschließt, daß die Bedampfungskammer auf einer Seite offen ist und mit der offenen Seite in~einer Betriebsstellung dichtend an einer in der Vorkammer feststehenden, mit dem Anschluß an die Hochvakuumpumpe versehenen Dichtfläche anliegt und. daß d.ie Bedampfungskammer innerhalb der Vorkammer aus ihrer Betriebsstellung so weit gegenüber der Dichtfläche in eine abgehobene Stellung verstellbar ist, daß dann zu der Vorkammer hin die Öffnung für den Durchtritt von Bedampfungsgut gebildet ist.In the case of a high-vacuum vapor deposition system, the task is described at the beginning named type solved in that the antechamber is at least the vapor deposition chamber partially encloses that the vapor deposition chamber is open on one side and with the open side in ~ an operating position sealing against a fixed in the antechamber, provided with the connection to the high vacuum pump The sealing surface and. that d.the vaporization chamber within the antechamber out of its operating position is adjustable so far with respect to the sealing surface in a lifted position that then the opening for the passage of vaporized material is formed towards the antechamber is.
Eine Ausführungsform der Erfindung besteht darin, daß die Vorkammer mindestens zwei Unterkammern aufweist, von denen die eine als Ausweichkammer zur Aufnahme der Bedampfungskammer bei deren abgehobener Stellung dient und von denen die übrigen zur Aufnahme von zu bedampfendem und/oder bedampftem Gut dienen und jeweils eine eigene verschließbare Öffnung aufweisen.One embodiment of the invention is that the antechamber has at least two sub-chambers, one of which is used as an alternative chamber for Serves inclusion of the vapor deposition chamber in its raised position and of which the rest are used to accommodate the material to be steamed and / or steamed and each have their own closable opening.
Anhand von Zeichnungen werden im folgenden Aufbau, Wirkungsweise und Vorteile der Erfindung beschrieben.With the help of drawings, the structure, mode of operation and Described advantages of the invention.
Es stellen dar: Fig. 1 einen Längsschnitt durch die neue Hochvakuum-Bedampfungsanlage, Fig. 2 einen schematischen Grundriß einer anderen Ausführungsform d.er neuen Bedampfungsanlage und Fig. 3 gleichfalls einen schematischen Grundriß einer dritten Ausführungsform der Erfindung.The figures show: FIG. 1 a longitudinal section through the new high-vacuum vapor deposition system, Fig. 2 is a schematic plan view of another embodiment of the new vapor deposition system and FIG. 3 likewise shows a schematic plan view of a third embodiment the invention.
In Pig. 1 ist eine Bedampfungskammer 1 von einer Vor- Kammer 2 umschlossen.. Die Vorkammer 2 ist in drei Unterkammern 3, 4 und 5 unterteilt, von denen die Unterkammern 3 und 4 eine Ur 6, 7 aufweisen, mit deren Hilfe die Unterkammern 3, 4 druckdicht verschließbar sind. in die auf zwei Ständern 8 und 9 ruhende Vorkammer 2 ist außerdem eine Pumpenkammer 10 angeschlossen, in der eine Hochvakuumpumpe 11 angeordnet ist. Die Pumpenkammer 11 weist eine iuslaßöffnung 12 auf, an die eine Auslaßleitung 13 mit einem zwischengeschalteten Durchlaßventil 14 angeschlossen ist. In die Wand der Unterkammer 3 ist ein Entlüftungsventil 15 eingelassen, während die Unterkammer 4 eine Ansaugöffnung 16 aufweist, an die -ber eine insaugleitung 17 und ein Ansaugventil 18 eine nicht gezeigte weitere Yakuumpumpe angeschlossen ist.In Pig. 1 is a vapor deposition chamber 1 from a pre chamber 2 enclosed .. The antechamber 2 is divided into three sub-chambers 3, 4 and 5, of which the sub-chambers 3 and 4 have a Ur 6, 7, with the help of which the sub-chambers 3, 4 can be closed in a pressure-tight manner. into the antechamber resting on two stands 8 and 9 2, a pump chamber 10 is also connected, in which a high vacuum pump 11 is arranged. The pump chamber 11 has an outlet opening 12 to which one Outlet line 13 connected to an interposed gate valve 14 is. In the wall of the sub-chamber 3, a vent valve 15 is embedded, while the lower chamber 4 has a suction opening 16 to which a suction line is connected 17 and a suction valve 18, a further Yakuumpump, not shown, is connected is.
In der Vorkammer 2 sind an ihrer unteren Wand drei Gleitschienen 19 mit Zahnradantrieben 20 zum Transport von Bedampfungsgut enthaltenden Behältern 21 angeordnet. Von den drei in der Vorkammer befindlichen Behältern 21 ist der mittlere im Querschnitt gezeigt. Die übrigen Behälter 21 sind nur in ihren Umrissen angedeutet. Der Zylindermantel der Behälter 21 weist am Umfang jeweils große Ausschnitte auf, durch die der Innenraum mit der Umgebung in Verbindung steht und die das Auswechseln der im Innenraum angeordneten Gutstrager 40 sowie den Zugang zu diesen ermöglichen. Durch die Wand 22 des Behälters 21 sind Elektroden 23 von Verdampfern 24 geführt, die innerhalb des Behälters 21 angeordnet sind.In the antechamber 2 there are three slide rails 19 on its lower wall with gear drives 20 for the transport of containers containing vaporized material 21 arranged. Of the three containers 21 located in the antechamber, the middle one is shown in cross section. The remaining containers 21 are only indicated in their outlines. The cylinder jacket of the container 21 has large cutouts on the circumference, through which the interior is in contact with the environment and through which the replacement the Gutstrager 40 arranged in the interior and enable access to them. Electrodes 23 of evaporators 24 are passed through the wall 22 of the container 21, which are arranged within the container 21.
Der mittlere Behälter 21 befindet sich innerhalb der Bedampfungskammer 1, die mit ihrer offenen Seite auf einer Dichtfläche 25 der Vorkammer 2 druckdicht aufliegt. Die Dichtfläche 25 weist eine Dichtung 26 auf, auf der ein Flansch 27 der Bedampfungskammer 1 aufliegt. In der oberen Wand der Bedampfungakammer 1 befinden sich zwei druckdichte Durchführungen 28, 29 für elektrische Leitungen 30, 31. Innerhalb der Bedampfungskammer 1 sind zwei glemmkontakte 52, 33 angeordnet, die mit den elektrischen Leitungen 30, 3 verbunden sind und in die die Elektroden 23 der Verdampfer 24 in der hier dargestellten Lage der Bedampfungskammer 1 eingeklemmt sind.The middle container 21 is located inside the vapor deposition chamber 1, the pressure-tight with its open side on a sealing surface 25 of the prechamber 2 rests. The sealing surface 25 has a seal 26 on which a flange 27 the steaming chamber 1 rests. Located in the upper wall of the steaming chamber 1 two pressure-tight bushings 28, 29 for electrical lines 30, 31. Inside the vapor deposition chamber 1 two glemmkontakte 52, 33 are arranged, which with the electrical Lines 30, 3 are connected and in which the electrodes 23 of the evaporator 24 in the position of the vapor deposition chamber 1 shown here are clamped.
Die mindestens teilweise flexibel ausgebildeten elektrischen Leitungen 30, 31 führen zu zwei druckdichten Durchfuhrungen 34, 35 in der Wand der Unterkammer 5.The at least partially flexible electrical lines 30, 31 lead to two pressure-tight passages 34, 35 in the wall of the lower chamber 5.
Von dort sind sie an eine nicht gezeigte Spannungsquelle zur Versorgung der Verdampfer 24 anschließbar. An ihrer oberen Seite ist die Bedampfungskammer 1 mit einer Kolbenstange 36 verbunden, die durch eine druckdichte Öffnung 37 in der Wand der Unterkammer 5 geführt ist und mit dem anderen Ende mit einem Kolben 38 eines Verstellzylinders 39 verbunden ist. Der Verstellzylinder 39 ist auf seiner der Unterkammer-5 abgewandten Seite fest angeordnet, so daß mit Hilfe des Kolbens 38 und der Kolbenstange 36 die Bedampfungskammer 1 vertikal verschiebbar ist. Innerhalb des in der Bedampfungskammer 1 angeordneten Behälters 21 befinden sich drehbare Gutsträger 40,auf denen Bedampfungsgut 41 angeordnet ist. Die Gutsträger 40 sind mit an ihren Enden befestigten Achsen 42, 43 drehbar in einem drehbaren Rahmen 44 gelagert. Auf den unteren Achsen 42 befinden sich drehfest angeordnete lanetenzahnräder 45, die in einem am Boden des Behälters 21 angeordneten Ringzahnrad 46 kämmen. Der untere Teil des drehbaren Rahmens 44 weist eine Kupplungswelle 47 auf, die in einem ebenfalls an dem Boden des Behälters 41 angeordneten Lager 48 gelagert ist und durch eine Öffnung des Behälterbodens geführt ist. Am Ende der Kupplungswelle 47 ist eine flexible Kupplungsscheibe 49 befestigt. Unterhalb der Bedampfungskammer 1 weist die Vorkammer 2 einen Trägerrahmen 50 auf, auf denen Lager 51 für eine weitere Kupplungswelle 52 angeordnet ist. Der Trägerrahmen 50 dient zugleich zur Abstützung der mittleren Fördereinrichtung 19. Die Kupplungswelle 52 wird an ihrem unteren Ende über ein Kegelradgetriebe 53 von einem nicht gezeigten Antrieb angetrieben. An ihrem oberen Ende weist die Kupplungswelle 52 eine Kupplungsscheibe 54 auf, die in der hier gezeigten Stellung an der flexiblen Kupplungsscheibe 49 anliegt. Mit Hilfe des nicht gezeigten Antriebs kann somit über das Kegelradgetriebe 53, die Kupplungswelle 52, die beiden Kupplungsscheiben 54 und 49 und die Kupplungswelle-47 der drehbare Rahmen 44 in Drehung versetzt werden. Dadurch drehen sich über die in dem Ringzahnrad 46 kämmenden Planetenräder 45 auch die Gutsträger 40, so daß eine allseitige gleichmäßige Bedampfung des Bedampfungsguts 41 erfolgen kann.From there they are connected to a voltage source (not shown) for supply the evaporator 24 can be connected. The vapor deposition chamber is on its upper side 1 connected to a piston rod 36 which passes through a pressure-tight opening 37 in the wall of the lower chamber 5 is guided and with the other end with a piston 38 of an adjusting cylinder 39 is connected. The adjusting cylinder 39 is on his the lower chamber-5 side facing away from the fixed position, so that with the help of the piston 38 and the piston rod 36, the vapor deposition chamber 1 is vertically displaceable. Within of the arranged in the vapor deposition chamber 1 container 21 are rotatable Material carriers 40 on which material to be vaporized 41 is arranged. The Gutträger 40 are with axles 42, 43 attached at their ends, rotatable in a rotatable frame 44 stored. On the lower axles 42 there are non-rotatably arranged planetary gears 45, which mesh in a ring gear 46 arranged at the bottom of the container 21. Of the lower part of the rotatable frame 44 has a coupling shaft 47 which is in a also arranged on the bottom of the container 41 bearing 48 is mounted and through an opening of the container bottom is guided. At the end of the coupling shaft 47 is a flexible clutch disc 49 attached. Below the vapor deposition chamber 1 has the prechamber 2 has a support frame 50 on which bearings 51 for a further coupling shaft 52 is arranged. The support frame 50 also serves to support the middle Conveyor 19. The coupling shaft 52 is at its lower end over a Bevel gear 53 driven by a drive, not shown. At her upper At the end, the coupling shaft 52 has a coupling disk 54 on the in the position shown here on the flexible coupling disc 49. With The help of the drive, not shown, can thus be via the bevel gear 53, the Clutch shaft 52, the two clutch disks 54 and 49 and the clutch shaft 47 the rotatable frame 44 can be rotated. This will turn over the in the ring gear 46 meshing planet gears 45 and the crop carriers 40, so that uniform vapor deposition on all sides of the material to be vaporized 41 can take place.
Nachfolgend soll die Arbeitsweise der erfindungsgemäßen Hochvakuum-Bedampfungsanlage beschrieben werden. Innerhalb der Bedampfungskammer 1 befindet sich -immer ein Höchstdruck, der mindestens gleich dem maximal zulässigen Ansaugdruck einer Hochvakuumpumpe ist, also beispielsweise 0,1 mm Hg.The following is the mode of operation of the high-vacuum vapor deposition system according to the invention to be discribed. Inside the steaming chamber 1 there is always a maximum pressure, which is at least equal to the maximum permissible suction pressure of a high vacuum pump, for example 0.1 mm Hg.
Während die Vorkammer 2 über das Ventil 15 belüftet ist, wird ein erster Behälter 21 über die Tür 7 in die Unterkammer 4 der Vorkammer 2 transportiert. Dann wird das Entlüftungsventil 15 geschlossen und das Ansaugventil 18 geöffnet, so daß die nicht gezeigte Vakuumpumpe in der Vorkammer 2 einen Unterdruck erzeugen kann, der mindestens gleich dem maximal zulässigen Ansaugdruck für die Hochvakuumpumpe ist. Bei diesem Druck kann im Bedarfsfall in bekannter Weise eine physikalische Reinigung des Bedampfungsgutes durch Glimmentladung durchgeführt werden.While the antechamber 2 is ventilated via the valve 15, a The first container 21 is transported via the door 7 into the lower chamber 4 of the antechamber 2. Then the vent valve 15 is closed and the suction valve 18 is opened, so that the vacuum pump, not shown, in the antechamber 2 generate a negative pressure that is at least equal to the maximum permissible suction pressure for the high vacuum pump is. At this pressure, if necessary, a physical Cleaning of the material to be vaporized can be carried out by glow discharge.
Danach wird die Bedampfungskammer 1 mit Hilfe des Kolbens 38 und seiner Kolbenstange 36 angehoben und von der Unterkammer 5 der Vorkammer 2 aufgenommen. Daraufhin wird der erste Behälter 21 unter die Bedamp,fungskammer gefahren.Thereafter, the vapor deposition chamber 1 with the help of the piston 38 and his The piston rod 36 is raised and taken up by the lower chamber 5 of the antechamber 2. The first container 21 is then moved under the steaming chamber.
Mit Hilfe der Zahnradantriebe 20 kann eine exakte Lage des Behälters 21 unterhalb der Bedampfungskammer 1 erreicht werden. Zu diesem Zeitpunkt herrscht also gleiches Vakuum in der Vorkammer 2 und in der Bedampfungskammer 1. Nach Absenken der Bedampfungskammer 2 wird diese mit Hilfe der Vakuumpumpe 11 auf das Aufdampfvakuum gebracht. Das für die Bedampfung notwendige Vakuum liegt zwischen 10 4 bis 10 5 mm Hg. Während des Bedampfungsvorganges wird das Ansaugventil 18 geschlossen und die Vorkammer 2 über das geöffnete Entlüftungsventil 15 belüftet.With the help of the gear drives 20, an exact position of the container 21 below the vapor deposition chamber 1 can be achieved. At this point there is so the same vacuum in the antechamber 2 and in the vapor deposition chamber 1. After lowering the vapor deposition chamber 2 is this with the aid of the vacuum pump 11 to the vapor deposition vacuum brought. That The vacuum required for vapor deposition is between 10 4 to 10 5 mm Hg. The suction valve 18 is closed during the vapor deposition process and the antechamber 2 is ventilated via the open vent valve 15.
Über die Tür 7 wird ein neuer Behälter 21 in die Unterkammer 4 transportiert. Nach Schließen der Tür 7 wird durch entsprechende Einstellung der Ventile 15, 18 die Vorkammer 2 wieder auf den maximal zulässigen Ansaugdruck für die Hochvakuumpumpe gebracht. Nach beendetem Bedampfungsvorgang wird die Bedampfungskammer 1 wieder angehoben, so daß der unter ihr befindliche Behälter 21 nach links in die Unterkammer 3 transportiert werden kann. Gleichzeitig wird der neue Behälter 21 unter die Bedampfungskammer gefahren. Nach dem Absenken der Bedampfungskammer 1 wird diese erneut auf das Aufdampfvakuum evakuiert. Die Vorkammer 2 wird über das Ventil 15 erneut belüftet und über die Tür 6 der Unterkammer 3 der das fertig bedampfte Bedampfungsgut enthaltende Behälter 21 entnommen, während über die Tür 7 der Unterkammer 4 ein neuer Behälter eingefahren werden kann. Dieses Arbeitsspiel wiederholt sich, wobei nach jeweiligem Belüften der Vorkammer 2 eine fertige Charge über die Tür 6 entnommen werden kann.A new container 21 is transported into the lower chamber 4 via the door 7. After the door 7 has been closed, the valves 15, 18 the antechamber 2 back to the maximum permissible suction pressure for the high vacuum pump brought. After the vaporization process has ended, the vaporization chamber 1 is again raised so that the container 21 located below it to the left into the lower chamber 3 can be transported. At the same time, the new container 21 is placed under the steaming chamber drove. After lowering the vapor deposition chamber 1, this is again applied to the vapor deposition vacuum evacuated. The prechamber 2 is ventilated again via the valve 15 and via the Door 6 of the lower chamber 3 of the container containing the finished vaporized material to be vaporized 21 removed while a new container is retracted through the door 7 of the lower chamber 4 can be. This work cycle is repeated after each ventilation a finished batch can be removed from the antechamber 2 via the door 6.
Aus diesen Ausführungen wird ersichtlich, daß es möglich ist, ohne Zeitverlust nacheinander verschieden bestückte Behälter durchzusetzen. Die Behälter brauchen nicht notwendigerweise mit einem Planetengetriebe versehen sein, beispielsweise können sie auch fliegende Teller mit Schüttgut mit darüber befindlichen Verdampfern aufweisen. Der innere Aufbau innerhalb des Behälters bezüglich Anordnung der Verdampfer oder des zu bedampfenden Gutes kann den jeweils geforderten Verhältnissen ohne weiteres angepasst sein. Ohne Betriebsunterbrechung können die Art des zu bedampfenden Gutes, daten Anordnung und die Art der Verdampfungsmaterialien variiert werd.en.From this it can be seen that it is possible without Loss of time to push through differently stocked containers one after the other. The containers need not necessarily be provided with a planetary gear, for example you can also use flying plates with bulk material with evaporators above them exhibit. The internal structure within the container with regard to the arrangement of the evaporators or the item to be steamed can easily meet the required conditions be adjusted. The type of material to be steamed, data arrangement and the type of evaporation materials can be varied.
Die Erfindung beschränkt sich nicht auf eine nur lineare Durchsetzrichtung, wie sie in Fig. 1 dargestellt ist.The invention is not limited to an only linear enforcement direction, as shown in FIG.
Fig. 2 zeigt. schematisch eine erfindungsgemäße Bedampfungsanlage mit kreisförmiger Durchsetzrichtung. Innerhalb einer Vorkammer 55 ist exzentrisch eine zylindrische Bedampfungskammer 56 angeordnet. In der Vorkammer 55 ist ferner ein zylindrischer Behälter 57, der im Aufbau den Behältern nach Fig. 1 gleicht, und der bedampftes Gut enthält, angeordnet. Der Behälter 57 kann durch eine Tür 58 aus der Vorkammer 55 entfernt werden. Ein.Fig. 2 shows. schematically a vapor deposition system according to the invention with circular enforcement direction. Inside an antechamber 55 is eccentric a cylindrical vapor deposition chamber 56 is arranged. In the antechamber 55 is also a cylindrical container 57, which is similar in structure to the containers according to FIG. 1, and the steamed material contains, arranged. The container 57 can through a door 58 can be removed from the antechamber 55. A.
Behälter 59 mit zu bedampfendem Gut ist über eine Tür 60 in d.er Vorkammer 55 in diese hineingefördert worden.Container 59 with the material to be steamed is via a door 60 in the antechamber 55 been promoted into this.
Der Behälter 59 ist ebenfalls exzentrisch innerhalb der Vorkammer 55 angeordnet. Die Behälter 57 und 59 bewegen sich auf einer kreisrunden Durchsatzbahn 61 durch die Vorkammer 55. Einen ähnlichen Aufbau wie Fig. 2 zeigt die erfindungsgemäße Bedampfungsanlage nach Fig. 3.The container 59 is also eccentric within the antechamber 55 arranged. The containers 57 and 59 move on a circular throughput path 61 through the antechamber 55. The structure according to the invention shows a structure similar to that in FIG Vapor deposition system according to FIG. 3.
Vier in einer Vorkammer 62 angeordnete Behälter 63, 64, 65 und 66 mit bedampStem bzw. zu bedampfendem Gut bewegen sich auf halbkreisförmigen Bahnen 67, 68 durch die Vorkammer 62 und werden über ihre Türen 69, 70 in die Vorkammer 62 hinein- bzw. aus ihr heraus-befördert. Das Hinein- bzw. Herausbefördern der Behälter 63 bis 66 durch jeweils eine Tür ist durch die Pfeile 71 angedeutet. Eine derartige Anordnung erhöht beträchtlich die Durchsatzgeschwindigkeit, da hier in zwei gegenüberliegenden Bedampfungskammern 72, 73 jeweils zwei Bedampfungsvorgänge gleichzeitig durchgeführt werden können. Eine Bedampfungsanlage nach Fig. 3 weist außerdem eine sehr gute Raumausnutzung auf.Four containers 63, 64, 65 and 66 arranged in an antechamber 62 with steamed items or items to be steamed move on semicircular paths 67, 68 through the antechamber 62 and are via their doors 69, 70 into the antechamber 62 conveyed in or out of it. Moving the containers in and out 63 to 66, each with a door, is indicated by the arrows 71. Such a one Arrangement significantly increases the throughput speed, since here in two opposite Steaming chambers 72, 73 each carried out two steaming processes at the same time can be. A vapor deposition system according to FIG. 3 also has a very good one Use of space on.
Die in den Figuren 1 bis -3 dargestellten erfindungsgemäßen Bedampfungsanlagen stellen lediglich Ausführungsbeispiele dar. Die Erfindung läßt eine große Anzahl von verschiedenen Ausführungsformen zu und ist daher nicht auf die dargestellten Ausführungsbeispiele beschränkt.The vapor deposition systems according to the invention shown in FIGS. 1 to -3 represent only exemplary embodiments. The invention allows a large number from different embodiments and is therefore not based on the illustrated embodiments are limited.
Claims (1)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19691958004 DE1958004A1 (en) | 1969-11-18 | 1969-11-18 | High vacuum film deposition plant with - ante chambers for charge trolleys |
| CH1550170A CH557890A (en) | 1969-11-18 | 1970-10-20 | HIGH VACUUM EVAPORATION SYSTEM. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19691958004 DE1958004A1 (en) | 1969-11-18 | 1969-11-18 | High vacuum film deposition plant with - ante chambers for charge trolleys |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1958004A1 true DE1958004A1 (en) | 1971-05-19 |
Family
ID=5751471
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19691958004 Pending DE1958004A1 (en) | 1969-11-18 | 1969-11-18 | High vacuum film deposition plant with - ante chambers for charge trolleys |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CH (1) | CH557890A (en) |
| DE (1) | DE1958004A1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2725334A1 (en) * | 1975-11-07 | 1978-12-07 | Mathbirk Ltd | LINKING MACHINE |
| EP0837154A1 (en) * | 1996-10-17 | 1998-04-22 | Leybold Systems GmbH | Vaccum coating apparatus |
| EP0797687A4 (en) * | 1994-12-14 | 1998-09-02 | Tapematic Spa | Cross flow metalizing of compact discs |
-
1969
- 1969-11-18 DE DE19691958004 patent/DE1958004A1/en active Pending
-
1970
- 1970-10-20 CH CH1550170A patent/CH557890A/en not_active IP Right Cessation
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2725334A1 (en) * | 1975-11-07 | 1978-12-07 | Mathbirk Ltd | LINKING MACHINE |
| EP0797687A4 (en) * | 1994-12-14 | 1998-09-02 | Tapematic Spa | Cross flow metalizing of compact discs |
| EP0837154A1 (en) * | 1996-10-17 | 1998-04-22 | Leybold Systems GmbH | Vaccum coating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CH557890A (en) | 1975-01-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 19529948 Format of ref document f/p: P |