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DE1790293A1 - METHOD OF MANUFACTURING BASE MATERIALS FOR PRINTED CIRCUITS - Google Patents

METHOD OF MANUFACTURING BASE MATERIALS FOR PRINTED CIRCUITS

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DE1790293A1
DE1790293A1 DE19661790293 DE1790293A DE1790293A1 DE 1790293 A1 DE1790293 A1 DE 1790293A1 DE 19661790293 DE19661790293 DE 19661790293 DE 1790293 A DE1790293 A DE 1790293A DE 1790293 A1 DE1790293 A1 DE 1790293A1
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DE
Germany
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bath
layer
electroless
metal
mask
Prior art date
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Application number
DE19661790293
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German (de)
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DE1790293B2 (en
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John F Mccormack
Frederick W Schneble
Fritz Stahl
H M Steffen
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Kollmorgen Corp
Original Assignee
Photocircuits Corp
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Publication date
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Priority to DE1665314A priority patent/DE1665314C2/en
Publication of DE1790293A1 publication Critical patent/DE1790293A1/en
Publication of DE1790293B2 publication Critical patent/DE1790293B2/en
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Description

PhötQOireuits Corporation, (ilen öove, jtfew York^ USAPhötQOireuits Corporation, (ilen öove, jtfew York ^ USA

Verfahren zur Herstellung tan ßäsismaterialien fürProcess for making tan ßäsismaterialien for

gedruckte Schaltungenprinted circuits

Die Irflndung tsezleht sioh auf ein Verfahren zur Herst tellur van BaMsmaterialien für gedruckte Schaltung en $ bestehend aU0 einem !Träger aus'isolierendem'Material, einer haftungsvermittelnden Zwischenschicht und einer gegebenenfalls ganz öder teilweise darauf befindlichen Metallgrundschicht *The Irflndung tsezleht SiOH to a process for tellurium Prod van BaMsmaterialien en printed circuit $ consisting Au0 a! Carrier aus'isolierendem'Material, an adhesion-promoting intermediate layer and a metal base layer is not fully extended barren located partially out *

Verdrahtungen aus gedruckten Behaltungen haben sich weitgehend in der Praxis duröhgesetzt. Im einfachsten falle bisstehen solche gedruckte Schaltungen bäsw* Leiterplatten aus lifiterpUgenj wie Kupfeffalie o* dgl*, die auf einem Isoliermaterial fest aufgebracht aindi, PUr komplizierte Verdrahtungen hat da sich als gweckffialüig er#ies©n, derartige Leiterzüge auf beiden Seiten einer Isolierstoffplatte anauordnen/ and &n Vorbestimmten Punkten entsprechende Leiterzüge, durch die Isolieräcnioht hindurch* miteinander ^u verbinden* öeöonders vorteilhaft ist es hierbei, die WandungWiring from printed retainers has largely grown in practice. In the simplest case Until now there are such printed circuits as well as printed circuit boards from lifiterpUgenj like Kupfeffalie o * the like *, which on a Insulation material firmly applied aindi, PUr complicated Wiring has proven to be useful, such Arrange conductor tracks on both sides of an insulating plate / and & n Conductor tracks corresponding to predetermined points, through the insulation * with each other ^ u It is particularly advantageous here to connect the wall

— ρ - - ρ -

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17902831790283

^ Durchbrechungen innerhalb des Isolieriiia.t©rials^ Openings within the Isolieriiia.t © rials

vermittels der Kombination einer mit und ohne atromiufuhV erreichbaren Hetaliabscheiduhgsschienten"entlang der" bei-' spiellstfeise gestanzter öder gebohrter Löeher her zustellen, so daiS eiiie direkt© Verbindung eines I/eitergniges auf der einen Seite mit einem Le it eräug' auf der" anderen Sei^e des" Iöoiiermaterials Bianergesteilt ist. i)@rartigg metaüi*- siörte itsönwaiiäüngen haben siön nioiit nur als aüßerordent-IiOh verläßliche* elektriaölie Verbindungen erwiesen» söMerr. bewirken gleichzeitig eine wesentliche Verbesserung von iiöverbindurigen zu AfisöhluBeiiten von Bauelemtiitmi lind der^· gleichen» Der Grund hierfür ist darin au sehen» daß siön der Zwiäohinrauiii zwischen üi©tailiii@rt©r iiOöhwand und in diesis liöciL eingösteokten Draht ganz mit Lötzinn gu füllen vermag* Aus diesem Grunde ist man in niuirgr Mit auch übergegättgenj mgtaliislerte IiööhwaMuiigtn bei gedruckten Schaltüiigga veriusglagni die lediglich auf einer äeite der e ein i©it©rit4gmusterby means of the combination of a metal separation strip that can be reached with and without atrial separation "along the" at least as much punched or drilled holes, so that a direct connection of a pus on one side with a conductor on the other side can be seen ^ e of the "Iöoiiermaterials Bianergesteil is. i) @rartigg metaüi * - siörte itsönwaiiäüngen have proven siön nioiit only as extremely reliable * electrical connections »söMerr. simultaneously cause of iiöverbindurigen to AfisöhluBeiiten of Bauelemtiit mi of ^ · lind same "The reason for this is seen in co» Sioen the Zwiäohinrauiii between iii © tailiii @ rt © r iiOöhwand and diesis liöciL eingösteokten wire fully with solder gu fill a significant improvement that able * For this reason one is in niuirgr with also übergegättgenj mgtaliislerte IiööhwaMuiigtn with printed circuitry veriusglagni which only on one side of the e an i © it © rit4gmuster

ßüÄL Herstellen- van Leiterplatten ohne metallisierte Lochwand ung en kann Vor allem das sogenannte Jj1OJlienkupfernteverfahren verwetidit wirdetu S1Ur dieses Virxahr^n wird ein Basismaterial benutzt t das auf einer Isolierstöffplatt©, die beispielsweise aus einem modifizierten Phenolpäpierlam-Lnateis can ßüÄL en Herstellen- van circuit boards without metallized hole wall ung Above all, the so-called Jj 1 OJlienkupfernteverfahren verwetidit wirdetu S 1 Ur ^ n this Virxahr a base material used on a t the Isolierstöffplatt ©, for example, of a modified Phenolpäpierlam-Lnate

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besteht und die eine Kupferfolie von z.B. 35 /U Stärke trägt« Ist für die Schaltung eine Leiterplatte erforderlieh, die auf beiden Seiten mit Leiterzügen ausgestattet sein soll, so wird als Baisismaterial eine Isolierstoffplatte benutzt, die auf beiden Seiten mit einer Kupferfoliensohicht versehen ist. Als J'olienmaterial hat sich ganz allgemein Elektrolyt-Kupferfolie in der Praxis durchgesetzt. Diese wird beispielsweise nach an sich bekannten galvanischen Verfahren auf Trommeln abgeschieden, von diesen abgezogen, auf einer Seite oxydiert und mittels eines wärmeaushärtbaren Klebstoffes mit der Isolierstoffoberfläche verbunden. Zweckmäßigerweise kann der Kaschiervorgang mit dem eigentlichen Herstellvorgang für das Phenolpapierlaminate verbunden werden.and which carries a copper foil of e.g. 35 / U thickness « Is a circuit board required for the circuit that should be equipped with conductor tracks on both sides, an insulating plate is used as the base material, which are provided with a copper foil layer on both sides is. As J'olienmaterial has become quite general Electrolyte copper foil prevailed in practice. These is deposited, for example, on drums using electroplating methods known per se, drawn off from them, oxidized on one side and by means of a thermosetting Adhesive connected to the surface of the insulating material. The lamination process can expediently be carried out with the actual Manufacturing process for the phenolic paper laminate will.

Ji1Ur das eigentliche Herstellen der gedruckten Schaltung wird die Kupferoberfläche des oben beschriebenen Basismaxerials Γ derart mit einer ätzfesten Schicht versehen, daß alle gene Oberflächenbezirke, die dem gewünschten Leiterzugmuster entsprechen, abgedeckt sind. Dies kann etwa im Offsetdruck, im Siebdruck, im Photodruek oder nach einem anderen Druckverfahren geschehen* Die derart vorbeireitet en Platten werden nachfolgend einem Atzmittel, beispielsweise üisentricnlorid oder Amujoniumpersulfat so lange ausgesetzt, daß alles nicht abgedecktes Kupfer vollkommen entfernt wird.Ji 1 Ur, the actual manufacturing of the printed circuit is provided in such a manner, the copper surface of the Basismaxerials Γ described above with an etch-resistant layer, that all genes surface areas corresponding to the desired conductor patterns are covered. This can be done in offset printing, screen printing, photographic printing or another printing process.

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AnaGfließend wird die Schutzschicht entfernt, §§ daß dje ungeät?$en :tfplienbez.irkß,die äem iewünsghtp. !jje.ite,rz.ugp--muster entspreehen^ frei liegen. Unter Umstand tji hat jgs, sich augJi als ?y?eei£mäiig eri/vie^en, niit lThe protective layer is removed in a flowing manner, §§ that each unat? $ en: tfplienbez.irkß, the äem iewünsghtp. ! jje.ite, rz.ugp - sample correspond to ^ lie free. Under certain circumstances tji has jgs, augJi as? y? eei £ mäiig eri / en, niit l

peMoht WOl- arbeitm ? die seifest JLQiibe,|i||istigfiid§ schäften besitzt und da&er· naeii 4©iB Jitf lernt ?iu werden braucht, Bei ^tandardr-|g!itfr|)l§tten das Verhältnis isfischeii der die Leiteriip ^ Kußferölierfl^che und .der isolierstQffpbgriig.c.he 30 bis 40^· Ϊ^θ-S bedeutet 1 dag 6Q big ^Qf9 des Kupfers w/eggeät2t vyerden müssen. j)a@,. ist Je<l8(?Ji iß w schaftlieher Hinsicht sehr naphteiiigi dp e§ §ieh bgi der für die Herstellung des ]|as,iisniaterials ¥fi?vyend§t§n K folie ma. ein hochwertiges Pradufct hand§it? 4θΡ fffi P.Qren sein aiuß, und bei deasfn Herstellung besgndfrg Sorgfalt erfprderiich ist« um eine gute zustellen.peMoht WOlwork m ? the so-called JLQiibe, | i || istigfiid§ possesses and that he · naeii 4 © iB Jitf learns? iu needs to be, with ^ tstandardr- | g! itfr |) the ratio is fisheii of the ladderiip ^ Kussferölierfl ^che and . der isolierstQffpbgriig.c.he 30 to 40 ^ · Ϊ ^ θ-S means 1 day 6Q big ^ Qf 9 of the copper must be used. Yes@,. is Je <l8 (? Ji iß economically very naphteiiigi dp e§§ieh bgi for the production of the] | as, iisniaterials ¥ fi? vyend§t§n K folie ma. a high quality Pradufct hand§it ? 4θΡ fffi P.Qren is required, and special care is required in the manufacture "in order to ensure a good delivery.

Um !leiterplatten herzustellen! welche derartige Schaltungen auf beiden Seiten tragen, wird vpn beidseitig mit Kupferfolie kaschiertem Material ausgegangen? wpbei • die eventuell auftretende Ausschußquote npch größer ist.To make! Printed circuit boards! Which such circuits carry on both sides is assumed from material clad with copper foil on both sides ? where • the reject rate npch that may occur is greater.

2um ^erstellen metallisierter zugeordnetβψ Lfit verbundene ijochwandungen wird neben einim Itzypr-gang auch2um ^ create metallized associated βψ Lfit connected ijochwandungen is besides einim Itzypr-gang also

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

die stromlose und galvanische Hetallabseheidung verwendet. Hierzu wird die kupferkaschierte Basismaterialplatte zunächst mit den zu metallisierenden Löchern versehen, die Lochwandungen werden daraufhin beispielsweise durch Behandeln mit Silbernitratlösungen oder mit Zinn-und MeI-metallionen für die stromlose Metallabscheidung aktiviert und in ein stromlos Metall abscheidendes Bad, beispielsweise Hickel oder vorzugsweise Kupier gebracht. Dort bildet sich eine* dünne, elektrisch leitende Metallschicht auf den Lochwandungen, die elektrisch mit der Kupferfolie verbunden ist. Anschließend wird in einem Ijruckvorgang eine Schutzschicht aufgebracht, die lediglich jene Bezirke frei läßt, die dem gewünschten Leiterbild entsprechen. Sodann wird zunächst eine der gewünschten Metallsehichtdicke auf den JJoekwandungen entsprechende galvanische Metallschicht, vorzugsweise eine Kupferschicht, aufgebracht und diese nachfolgend etwa wiederum galvanisch mit einer ätzfesten Schutzschicht abgedeckt. Hierzu kann unter anderem Silber, Zinn-Blei oder Gold verwendet werden. Anschließend wird die aufgedruckte Schutzschicht entfernt und das darunter liegende, dicke, dem gewünschten Leitermuster nicht entsprechende Folienkupfer weggeätzt. Auch hier ist der hohe Anteil des zu entfernenden Kupfers wirtschaftlich nachteilig. Diese Herstellung gedruckter Schaltungen ist darüber hinaus relativ aufwendig und eigentlich nur dann zuelectroless and galvanic metal separation is used. For this purpose, the copper-clad base material plate is first provided with the holes to be metallized, the hole walls are then for example by treatment activated with silver nitrate solutions or with tin and metal ions for electroless metal deposition and in an electroless metal plating bath, for example Hickel or preferably Kupier brought. There forms a * thin, electrically conductive metal layer on the hole walls, which is electrically connected to the copper foil is. A protective layer is then applied in a printing process applied, which only leaves those areas free that correspond to the desired conductor pattern. Then will first a galvanic metal layer corresponding to the desired metal layer thickness on the JJoek walls, preferably a copper layer, applied and this subsequently again covered galvanically with an etch-proof protective layer. Among other things, silver, Tin-lead or gold can be used. Then the printed protective layer is removed and the one underneath lying, thick foil copper that does not correspond to the desired conductor pattern is etched away. Here, too, is the high one The amount of copper to be removed is economically disadvantageous. This production of printed circuits is also relatively complex and actually only then

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BAÖBAÖ

— 6 — - .- 6 - -.

rechtfertigen, wenn der Herstellungspreis der einzelnen Leiterplatten verhältnismäßig klein im Vergleich zu dön Kosten des Gerätes,für das diese benutzt wird, ist.justify if the manufacturing price of each Printed circuit boards are relatively small compared to the cost of the device for which they are used.

Besonders in letzter Zeit werden jeaoch Leiterplatten mit metallisierten Lochwandungen auch für preiswertere Konsumgüter auf vielfältige Weise benutzt. Jjies&r !Tatbestand ist vor allem auch durch die starke Tendenz zur Verkleinerung elektrischer Geräte aller Art begründet und zwangsläufig gegeben. Insbesondere für Konsumgüter, wie Rundfunk- und Fernsehgeräte, ist es unerläßlich, auf Masse] lötverfahren, wie dem Tauch- oder Schlepplöten zurückzugreifen. Wenn hierbei übliche Leiterplatten ohne metaiii sierte Lochwandungen benutzt werden, so ist nicht nur eine sehr genaue Lötstellenkontrolle erforderlich, sondern es müssen auch eine große Anzahl sogenannter "kalter" oder sonst mangelhafter Lötstellen nachgelötet werden. Hierzu ist ein unverhältnismäßig hoher Personalaaifwand erforderlich, der sich notwendigerweise auf die Wirtschaftlichkeit ungunstig auswirkt. Ein weiterer Machteil bei der Verwendung der bisher bekannten Leiterplatten liegt darin, daß es beim Herstellvorgang unerläßlich ist, das lOlienkupfer im Bereich der Leiterzüge galvanisch um eine j Schicht zu verstärken, die jener entspricht, die minimal innerhalb einer Lochung verlangt werden muß· Dies führtEspecially recently, circuit boards have been using metallized perforated walls are also used for cheaper consumer goods in a variety of ways. Jjies & r! is mainly due to the strong tendency to reduce the size of electrical devices of all kinds and inevitably given. Particularly for consumer goods, such as radio and television sets, it is essential to be able to to resort to soldering processes, such as dip or drag soldering. If this is the case with the usual printed circuit boards without metaiii ized hole walls are used, so not only a very precise solder joint control is required, but a large number of so-called "cold" or otherwise defective soldering points must also be re-soldered. A disproportionately high personnel wall is required for this required, which necessarily affects the economy has an unfavorable effect. Another handicap at the use of the previously known circuit boards is that it is indispensable in the manufacturing process that lOlienkupfer in the area of the conductor tracks by a j To reinforce a layer that corresponds to that which must be minimally required within a perforation · This leads

_ γ_ γ

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BADORlGfNALBADORlGfNAL

dgr- fer^endung γοη Leiterzügen, die eine nutzlos dicke rschicht aufweisen. Weiter hat es sich als praktisch ögliQii e/r^iesen, wesentlich dünnere JiOlien, also solche IQ u Picke genügend porenfrei herzustellen und eini-dgr- fer ^ ending γοη ladder lines that are uselessly thick have rschicht. Next, it has been found to be practical ögliQii e / r ^ iesen, much thinner JiOlien, so such IQ u Picke to produce enough pore-free and

sicher zu handhaben. Besondere Schwierigkeiten treten vor allem dabei auf,derartig dünne, Pqlien auf?u~safe to use. Particular difficulties occur above all, such thin, surfaces? u ~

Up. dip sich aus dem hohen Pra^entsats angenutzten bzw, i;egguätgfnderi Tupfer ergebende Unvyirtschoftliehkeii ^u beseitigen, mjrae bereits irergeschlageni von unkaschierten JaßiSBi&tfcrial» al^s» beispielsweie.e Phenolpapierpiatten auszugehen und diese lediglich an den den gewünschten Leiter jsügsi! entsprechenden.-Oberflächenbezirken mit einer Metall-? vorzugsweise einer Kupferschicht, zu ¥eraehen.Up. dip oneself from the high pra ^ entsats used or, i; egguätgfnderi Eliminate uncleaned properties which result in swabs, mjrae already mistaken by uncovered ones JassiSBi & tfcrial »al ^ s» for example phenolic paper plates to go out and this only to the desired leader jsügsi! corresponding.-surface districts with a metal? preferably a copper layer, to be seen.

In. disbßm gusaiaihenhang wurde Yorgeschlagen, zunächst die Phenolpapieroberflache sorgfältig zu reinigen, und iawar ^weckm^ßigervveise unter Benutzung eines mechanischen Prozesses, wie Abbürs.teii q, dgl,, um 'Urennmittelreste sicher zu entfernen. Sodann wird die gereinigte und yqr~ texlhafterweiire aufgerauhte Oberfläche durch hinwirken " geeigneter Lösungen für die stromlose Metallabscheidung ajctijiert. üierzu hat sich beispielsweise das Benutzen vonIn. disbßm gusaiaihenhang was beaten, initially the Phenolic paper surface to be carefully cleaned and iawar ^ wake-up using a mechanical Process, like Abbürs.teii q, like, around 'Urennmittelreste safe to remove. Then the purified and yqr ~ texlhafterweiire roughened surface by working " suitable solutions for electroless metal deposition adjusted. For example, the use of

B —B -

Zinnsalz- und Edelmetalls al zlgsungen als. zweckmäßig- ■ . ■ erwiesen. Anschließend wird die gesamte .Isoliermäterial,-ob er fläche mit einer dünnen, aus einem ohne, äußere •Strom*-· zufuhr arbeitenden Bade abgeschiedenen Metallschicht, vorzugsweise einer Kupferschicht, überzogen. Wenn die Phenolpapierplatte vor dein ,.Aktivieren bereits mit .!».ο ehern versehen worden ist, sowwerden diese im gleichen Arbeitsgange mit der dünnen Metallschicht beaufschlagt, Hierauf , wird die Oberfläche mit einer ,Schicht ,versehen., -in der.. Regel bedruckt, die lediglich die dem gewünschten-Leitermuster; enu spricht, und daran anschließend .in diesen Be-^ zirken in bekannter :Weise eine entsprechend dicke galvanische Metallschicht abgeschieden. Hierauf wird die Schutzschicht entfernt und die dünne, ursprüngliche Kupferfolie weggeätzt* Dieses Verfahren vermeidet zwar das Aufbringen von Kupfer in Bezirken, in denen es nicht benötigt wird, wenn man von jener sehr dünnen ersten Kupferschicht ausieht, es weist jedoch als erheblichen Nachteil den Mangel ausreichender Haftung zwischen Basismaterial und.Kupferleitern auf. Zur Behebung dieses lfachteils wurde vorgesehlagen, die Oberfläche des Xs öl i ermat erials mit .-einem Klebemittel zu versehen und die mit den galvanisch abgeschiedenen Leiterzügen ausgestattete Leiterplatte abschließend einem Wärmeaushärt- und Pressvorgang zu unterziehen. Derartige Aushärtevorgänge sind jedoch nicht nur sehr aufwendig, sieTin salt and precious metal alloys as. expedient- ■. ■ proven. Subsequently, the entire insulating material or surface is coated with a thin metal layer, preferably a copper layer, deposited from a bath that works without an external current supply. If the phenolic paper plate has already been provided with.! ». Ο before your printed, which only the desired conductor pattern; enu talks, and subsequently .in this loading ^ circuses in known:, a correspondingly thick electrodeposited metal layer deposited. The protective layer is then removed and the thin, original copper foil is etched away Adhesion between base material and copper conductors. In order to remedy this technical part, it was proposed to provide the surface of the Xs oil material with an adhesive and finally to subject the circuit board equipped with the electrodeposited conductor tracks to a heat curing and pressing process. Such curing processes are not only very complex, they are

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BAD 0R}GINALBATHROOM 0R} GINAL

erfordern auch eine genaue Arbeitsfolgehüberwaehung und gehen damit über den Umfang der üblicherweise von Leiterplattenhersteller auszuführenden Arbeitsgänge weit hinaus.also require precise work sequence monitoring and thus go beyond the scope of what is usually used by printed circuit board manufacturers work steps to be carried out far beyond.

Weiterhin ist es erforderlich, die ursprüngliche, stromlos abgeschiedene" Metallschicht mit einer galvanischen Schutzschicht zu versehen, wenn nicht außerordentliche und kostenvermehrende Sorgfalt bei der Handhabung der- Halbfabrikate beobachtet werden solle All dies führt -zu einer Komplizierung und Verschlechterung der Wirtschaftlichkeit und hatte zur ü'olge, daß sich derartige Verfahren gegenüber dem Poli-eriätzverfahren nicht haben durchsetzen können.It is also necessary to use the original, de-energized deposited "metal layer with a galvanic protective layer to be provided, if not extraordinary and cost-increasing Care in handling the semi-finished products All this leads to a complication and deterioration of the economy and had the consequence that such proceedings were opposed the Poli-eriätzverfahren were not able to enforce.

Der. Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Haftfestigkeit zwischen durch Metallabscheidung hergestellten Leiterzügen und einem Trägermaterial zu erhöhen, wobei das verwendete Basismaterial so ausgebildet sein soll, daß sowohl bei stromloser Metallabscheidung allein als auch zusammen mit einer galvanischen Abscheidung gedruckte Schaltungen von Leiterplatten mit und onne metallisierte Lochwandungen • einfach und wirtschaftlich, herzustellen sind.Of the. The invention is based on the object of improving the adhesive strength between conductor tracks produced by metal deposition and to increase a carrier material, the used Base material should be designed so that both with electroless metal deposition alone as well as together with a galvanic deposition of printed circuits of printed circuit boards with and onne metallized hole walls • are easy and economical to manufacture.

Die Lösung dieser Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch .erreicht.» daß man auf die überfläche des (Prägers eineThis object is achieved according to the invention .achieved." that one on the surface of the (embossing a

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mindestens einen, durch Oxidationsmittel oxidierbaren, ' wärmehärtbaren modifizierten Grummi bzw. Kunstgummi (Kautschuk) gleichmäßig verteilt enthaltende Schicht äppliziertj-"daß man die aufgetragene Schicht durch Erwärmen wenigstens'teilweise härtet und daß man die wenigstens teilweise gehärtete Schicht vor der stromlosen oder strömlosen und galvanischen Metallabscheidung zumindest in den zu metallisierenden Bereichen mit einem Oxidationsmittel, vorzugsweise mit einer Chromschwefölsäure- oder , Permanganatlösung behandelt.at least one, oxidizable by oxidizing agents, ' thermosetting modified rubber or synthetic rubber (rubber) containing layer evenly distributed Applied that the applied layer is heated at least partially hardens and that at least one partially hardened layer prior to electroless or electroless and galvanic metal deposition at least in the areas to be metallized with an oxidizing agent, preferably with a chromium sulfuric acid or , Permanganate solution treated.

Entsprechende Untersuchungen haben gezeigt, daß' es in vorteilhafter Weise möglich ist, aufgebrachte Kupferschichten fest mit Isolierstoff oberflächen zu verbinden, ohne daß es häarfür eines Preüdruckes unxer vYärmezufuhr bedarf. Das verwendete Basismaterial zur Herstellung von Leiterplatten ist in einfacher Weise handhabbar. Hierbei hat es sich als vorteilhaft herausgestellt, α en Härtevorgang und den Oxydationsprozeß aufeinander abzustimmen und den Härtevorgang abzubrechen, ehe ein Zustand erreicht -wird-, in dem das benutzte Oxydationsmittel nicht mehr oder nur sehr langsam wirksam werden kann. Aufgrund einer Reihe von Versuchen konnte nachgewiesen werden, daß eine Anpassung des öxydationsvorganges an den Härtevorgang in weiten Grenzen und bei großer Toleranz möglich ist. Der- WärmeprozeCorresponding studies have shown that 'it is in it is advantageously possible to firmly connect applied copper layers with insulating material surfaces, without there being too much heat for a preprint requirement. The base material used to manufacture Printed circuit boards can be handled in a simple manner. It has been found to be advantageous to use a hardening process and to coordinate the oxidation process and the To cancel the hardening process before a state is reached, in which the oxidizing agent used can no longer or only very slowly become effective. Because of a number of Attempts could prove that an adaptation the oxidation process to the hardening process is possible within wide limits and with great tolerance. The heat process

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O-:^ _ BADORtGfNALO -: ^ _ BADORtGfNAL

kann bis hae zur vollständigen.Aushärtung geführt werden, . soll jedoch Tor dem Iiberhärtea?n abgebrochen, werden«can be brought to full hardening up to hae,. however, if the over-hardened gate is to be broken off, "

Als, geeignete. Klebschxchten werden solche verwendet, die .." einen, (natürlich vorkommenden) Kautschuk oder, synthetischen Kautschuk enthalten, der oxydierbar und abbaubar,; ist ,, wobei dieser. Bestandteil feinst verteilt in der Klebschicht Oder zumindest an der Oberfläche derselben in einer Zone, die beispielsweise exne Dicke von lü/u besitzt, vorhanden sein lauls. Braubare Substanzen sxnd beispielsweise Kautschukarten, beispielsweise Nitrilkautschuk, Butadien Styrd-Miscopolymerisate, Butylkautschuk, Polybutylen,.Neopren, Buna M, Polyvinyl acetal-Harze, Silikon-Kautschuk, Acrylnitrile-Butadien-Kaiitschuk, Oarboxylreste aufweisende ^nstharze, modifizierte Polyamide und mit Phenolharzen, Epoxydharzen und anderen geeigneten Jtiarzen und Kunststoff en modifizierlje Produkte derselben. .■·...As, suitable. Adhesive layers are used which contain ... "a (naturally occurring) rubber or synthetic rubber that is oxidizable and degradable;" where this component is finely distributed in the adhesive layer or at least on the surface of the same in a zone, brewable substances are, for example, types of rubber, for example nitrile rubber, butadiene styrene miscopolymers, butyl rubber, polybutylene, neoprene, Buna M, polyvinyl acetal resins, silicone rubber, acrylonitrile butadiene -Kaiitschuk, synthetic resins containing carboxyl radicals, modified polyamides and products thereof modified with phenolic resins, epoxy resins and other suitable resins and plastics.

Als Oxydations- und Abbaumittel haben sich beispielsweise Chromschwel'elsäure bzw,, Permanganat-Lösungen als besonders geeignet herausgestellt.. "....'As an oxidizing and degrading agent, for example Chromium sulphurous acid or, respectively, permanganate solutions as special suitably highlighted .. ".... '

im folgenden soll die _xi erst elxung des .erfindungsgemäßen ;<...;·. Baaismaterials an einem Beispiel näher dargestellt .werden;:. , ,in the following, the _xi is only intended to elix the .inventive; <...; ·. Baaismaterials are shown in more detail using an example;:. ,,

- 12- 12

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BAOBAO

* 12 -* 12 -

Beispiel IExample I.

B&si©mat©rial diejit eiäe tiartjÄfl&rglätte d.ef fei i»p sä piöfeg, jjiee# P|.&tf#· »?ii»4B & si © mat © rial diejit eiäe tiartjÄfl & rglitzer d.ef fei i »p sä piöfeg, jjiee # P |. & tf # ·»? ii »4

mit eiiies alfcäli^siiea HeiÄifS3?,iW)ö. ftilfft fsf»with eiiies alfcäli ^ siiea HeiÄifS3?, iW) ö. ftilfft fsf »

harzgernisch resinous BB.

*ii* ii

üllöslioheB PlieüolBüllöslioheB Plieüol

dehydharz 11dehyde resin 11

K&£i6«Möiit f-jg£#·#&#&, All$ gffijPK & £ i6 «Möiit f-jg £ # · # &# &, All $ gffijP

308113/0111 '308113/0111 '

BADBATH

Harzgemisch GResin mixture G

Butadien Acrylnitril-Kautsohuk Butadiene acrylonitrile rubber

15 g15 g

Chlorierter Kautschuk
Visk. 10 cps
Chlorinated rubber
Visc. 10 cps
20 g20 g
DiacetonalkoholDiacetone alcohol 75 g75 g MtromethanMtromethane 70 g70 g ulloslich.es' Phenol-
formaldehydharz
ulloslich.es' phenolic
formaldehyde resin
10 g10 g
ÄthanolEthanol 10 g10 g feint eiliges SiOpFine, urgent SiOp 7 g7 g XylolXylene 50 g50 g

Das Auftragen kann in bekannter Weise, beispielsweise vermittels von ßolxenlacK.iermaschinen, fiackellackiermaschinen oder im 'fauchverfahren geschehen. Je nach der gewählten Äufbrincart muß die Viskosität entsprechend eingestellt werden, v/ird beispielsweise ein Auftrag mit WalzenlacKiermaschxnen gewählt, so ist eine Viskosität von etwa 10 OOÜGPS zweckmäßig} für das Tauchverfahren hingegen sind Werte zwischen 500 und 1000 GPb vorteilhaft. Das Einstellen erfolgt durch Zugabe von Losungsmittel bzw. füller, wie SiOp.The application can be carried out in a known manner, for example by means of olxen lacquering machines, flaw lacquering machines or by the hissing process. Depending on the selected Äufbrin c art, the viscosity must be adjusted accordingly, v / ill be, for example, an order selected by WalzenlacKiermaschxnen, a viscosity of about 10 is appropriate OOÜGPS} for the dipping method, however, are advantageous values between 500 and 1000 GPb. Adjustment is made by adding a solvent or filler, such as SiOp.

Pur das vorliegende. Beispiel soll Walzenauftrag benutzt, werden, und zwar mit einer Einstellung, die eine l'roekensohichtPure the present. Example should be used roller application, and with an attitude that is a l'roekenso

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- 14 BAD ORIGINAL- 14 ORIGINAL BATHROOM

dicke von 20 bis 30/U ergibt, im ach. dem beil ichtauft rag wird diese ausgehärtet. Dies kann im IR-Ofen oder im Frischlux't-Umwälzofen geschehen. Pur das vorliegende Beispiel wird ein Umlaufofen mit Frischluftzufuhr benutzt. ■thickness of 20 to 30 / rev, im ach. the accompanying light task will be this hardened. This can be done in the IR oven or in the Frischlux't circulation oven happen. A circulating oven with a fresh air supply is used for the present example. ■

Als Harzgemisch dient jenes nach Formel B, eingestellt auf, 700 cps Viskosität· Der Auftrag erfolgt durch Tauchen, wobei die Geschwindigkeit,mit der die Platten herausgezogen werden (senkrecht), beispielsweise 6 m pro Stunde beträgt. Das Härten der luftvorgetrockneten Platten erfolgt im Frischluft--Umwälzofen bei 15O0G für 4 Stunden. i)ie abgekühlten Plattensind praktisch unbegrenzt haltbar und lagerfähig und dienen als eines uer Basismateriaiien.The resin mixture used is that according to formula B, adjusted to a viscosity of 700 cps. The application is carried out by dipping, the speed at which the plates are pulled out (vertically) being, for example, 6 m per hour. The hardening of the air pre-dried plates are in the fresh air - convection oven at 15O 0 G for 4 hours. i) The cooled plates have a practically unlimited shelf life and can be stored and serve as one of the basic materials.

Beispiel IIExample II

Als Äusgangsmaterial dient wieder ein Phenol-Formaldehyd-Papier Presslaminate; zum Beschichten im Tauenverfahren dient ein Harzgemisch D A phenol-formaldehyde paper press laminate is again used as the starting material; A resin mixture D is used for coating in the thawing process

Methyläthylketon Öellasolveacetat iMitrilkautsch.uk, flüssig jüitrilkautschuk in BrockenMethyl ethyl ketone Oil solve acetate in nitrile rubber, liquid Juitrile rubber in chunks

.-;. . ι,-).:. Ollösliches Phenolharz, wärmehärt bar.- ;. . ι, -).:. Oleoluble phenolic resin, thermosetting bar

Epoxydharz (ü/pochlorhydrinjAbkömml mg) _ Epoxy resin (ü / pochlorhydrin j derivative mg) _

309833/09&1309833/09 & 1

2375 g 590 g 350 g 350 g 400 g2375 g 590 g 350 g 350 g 400 g

- 15-- 15-

BADBATH

17S029317S0293

300 g 1830 g300 g 1830 g

ität ©ea £00 ßps» toei 2k? U·ität © ea £ 00 ßps »toei 2k? U ·

±u-± u-

O fäp ^ i/2 ötuaattenO fäp ^ i / 2 ötuaatten

X-L* ^.gdöGii mit sea WQQ ■$. SiQp uild siaerXL * ^ .gdöGii with sea WQQ ■ $. SiQp uild siaer

t äie eiue Yisitösitat v©ii a-ßa 12 000 ops i des? Auftrag aiit einer Wt äie eiue Yisitösitat v © ii a-ßa 12 000 ops i des? Order ai with a W

Beispiel IYExample IY

wi# Sgispiel II, jjgdjööji mit ,eiüem &ö4!fixiertenwi # Sgpiel II, jjgdjööji with, eiüem & ö4! fixed

() KuaMtkarM &ua BestjiiiGhten eier() KuaMtkarM & ua BestjiiiGhten eggs

i wobei die . Viskosität auf etwa 550 <3ps list und d^r Auftrag ±m TaüßiiyerfaiireS:i mit einer Afggt ßßa tfli'pro ütünde erfolgt* j)asi being the. Viscosity to about 550 <3 ps list and the order ± m TaüßiiyerfaiireS: i with an Afggt ßßa tfli'pro ütünde takes place * j) as

er-fölgt durch iirwärmen. auf l^Ü^ü für 4Ö Minuteii»he-followed by warming up. to l ^ Ü ^ ü for 4Ö minutes »

beispielsweise naeji-einem der vqraristeilend ti iiergestellte BasiSBiaterial wird zum iiersteileii eineiFor example, naeji - one of the basic materials produced in the first place becomes part of the basic material

'AL'AL

fest haftenden Metallschicht zunächst, zumindest in den zu metallisierenden Bezirken, einem geeigneten Oxydationsbzw. Abbaumittel ausgesetzt. Als geeignet haben sich ^.B. Chromschwefelsäurebäder bzw. P ermanganatiö sung en erwiesen. Beispielsweise kann zu diesem Zweck ein Bad folgender Zusam- > mensetzung benutzt werden:firmly adhering metal layer initially, at least in the to metallizing areas, a suitable oxidation or Exposed to mining agents. ^ .B. Chromosulfuric acid baths and / or P eranganatiö solutions have been proven. For example, a bath with the following composition can be used for this purpose:

Bad aBath a

Kaliumbichromat 57 gPotassium dichromate 57 g

Wasser 500 mlWater 500 ml

konz. Schwefelsäure 500 ml .conc. Sulfuric acid 500 ml.

Wird vorbereitetes Basismaterial nach Beispiel^IV benutzt, so beträgt die Einwirkungszeit, beispielsweise bei Zimmertemperatur 30 Minuten.If prepared base material according to example ^ IV is used, so is the exposure time, for example at room temperature 30 minutes.

Anschließend wird in Wasser gespült, und es werden die chromsäurereste, beispielsweise vermittels einer schwach sauren, 5$ Batriumsulfitlösung oder einer 5 bis 10$ ie++ Salzlösung, wie Eisensulfatlösung, und nachfolgendem Spülen mit Wasser entfernt. Die derart mit Mikroporen versehene beschichtete Trägerplatte bzw. das Basismaterial ist praktisch unbegrenzt lagerfähig, wenn sie nur vor der Weiter behandlung nach länge-, rem Lagern kurz in HGl, 10$ oder einer anderen geeigneten Säure gespült wird. . .It is then rinsed in water, and it will be the chromium-acid residues, for example by means of a weakly acidic, atriumsulfitlösung 5 $ B or a 5 to 10 $ ie ++ salt solution such as ferrous sulfate solution and then rinsing with water removed. The coated carrier plate provided with micropores or the base material can be stored for practically unlimited periods if it is briefly rinsed in HGl, 10 $ or another suitable acid before further treatment after longer storage. . .

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BADORJQfNALBADORJQfNAL

Soll die ganze Oberfläche der Basismaterialplatte nach Beispiel IV mit einer Metallschicht überzogen werden, so wird diese in an sich bekannter Weise, beispielsweise durch Einwirken von stabilisierten Siloersalzlösungen der von Palladiumsalzlösungen für die stromlose Metallabscheidung aktiviert. Zweckmäßig wird die Oberfläche in ebenfalls bekannter Weise zunächst einem Bad ausgesetzt, das Zinnionen enthält. Anschließend wird dann die aktivierte Basismaterial platte einem stromlos Metall abscheidenden Bad ausgesetzt, beispielsweise einem solchen, das Iiekel oder Kupfer abzuscheiden vermag. ■ . .Should follow the entire surface of the base material plate Example IV are coated with a metal layer, so this is done in a manner known per se, for example by the action of stabilized silo salt solutions from Palladium salt solutions activated for electroless metal deposition. The surface is also expediently known Way, first exposed to a bath that contains tin ions. Then the activated base material is then plate exposed to an electroless metal-depositing bath, For example, one to deposit the Iiekel or copper able. ■. .

Anstelle der Materialplatte nach Beispiel IV kann auch eine solche nach einem der anderen Beispiele benutzt werden. Ehenso kann zum Oxydieren und Herstellen der Mikroporen eine anders zusammengesetzte Ghromschweielsäurelösung verwendet werden, wie zum BeispielInstead of the material plate according to Example IV, a those according to one of the other examples can be used. Ehenso can be used to oxidize and create the micropores differently composed chromic acid solution is used be like for example

Bad bBath b

: iMatriumbichromat 120 g : iSodium dichromate 120 g

konz. Schwefelsäure 600 hlL Wasser 500 mlconc. Sulfuric acid 600 hlL Water 500 ml

oder eine Permangaiat-Lösung entsprechender Konzentration x>der ein arideres geeignetes üxydations- und Aobaumittel. Die Binwlrkungszeit dieses üades richtet sich nach der Art des Beschichtungsmaterials und dessen Härtezustand und kannor a permangealate solution of the appropriate concentration x> the other suitable oxidizing and building agent. The duration of this period depends on the type of the coating material and its hardness and can

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BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

für jede gewünschte Kombination in einfacher Weise durch Versuch festgelegt werden.for any desired combination in a simple manner Attempt to be set.

Beispiel VExample V

beschreibt das Herstellen eines die ganze Oberfläche des Basismaterials bedeckenden Kupferüberzuges, hierzu wird ein nach Beispiel IV oder in anderer beschriebenen Weise· vorbereitetes, mit Mikroporen ausgestattetes Basismaterial zunächst einer lösung ausgesetzt, die beispielsweisedescribes the making of one the whole surface of the Base material covering copper coating, this is a according to Example IV or in another manner described Prepared base material equipped with micropores is initially exposed to a solution such as

100100 gG Zinn(II)-ChloridTin (II) chloride 3535 mlml Salzsäurehydrochloric acid 10001000 mlml Wasserwater

enhält.contains.

Nach dem Spülen wird die Oberfläche sodann einem Bad ausgesetzt, das beispielsweise ausAfter rinsing, the surface is then exposed to a bath, that for example

11 SS. PalladiumchloridPalladium chloride 4040 ml ■ml ■ Salzsäurehydrochloric acid 10001000 mlml Wasserwater

besteht.consists.

Wach dem sorgfältigen Spülen wird die Basismaterialober-After careful rinsing, the base material surface is

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fläche einem geeigneten Kupferabscheidungsbad ausgesetzt. Um ausgezeichnete Haftung zwischen dem Kupferfilm und dem Untergrund sicherzustellen und um zu vermeiden, daß bei späteren Sehoclryibrations- oder Biegebelastungen Hisse in dem Kupferfilm auftreten, hat es sich als zweckmäßig und vortelhaft erwiesen, dafür Sorge zu tragen, daß die stromlos abgeschiedene Metallschicht gute Duktilität aufweist« Außerdem hat sich aus entsprechenden Untersuchungen ergeben, daß es durch Benutzen bestimmter Kupferabscheidungsbader möglich ist, eine Metallschicht herzustellen, die große Heinheit besitzt und· auf Grund ihrer Struktur und Beschaffenheit gestattet, auf ihr weitere, fest haftende, stromlos oder galvanisch hergewtei-Lte Metallschichten abzuscheiden« Bäder geeigneter Zusammensetzung enthalten neben einem Komplexbildner für die Cu(II) Ionen einen Komplexbildner für GU(I) Ionen in geringer Menge sowie die sonstigen üblichen Bestandteile, iiine gut geeignete Badlösung besteht beispielsweise ausexposed to a suitable copper plating bath. To have excellent adhesion between the copper film and the Ensure subsurface and to avoid that at later Visual vibration or bending loads hover in the Copper film, it has been found to be expedient and advantageous proven to ensure that the electroless deposited Metal layer has good ductility «In addition has shown from corresponding studies that it is possible by using certain copper deposition baths, to make a metal layer that has great unity and · permitted due to their structure and nature Your other, firmly adhering, currentless or galvanically produced Metal layers to be deposited «Baths of suitable composition contain a complexing agent for the Cu (II) Ions a complexing agent for GU (I) ions in small quantities as well as the other usual ingredients, ii a well-suited one Bath solution consists, for example, of

50 g pro Liter Cu2SO4 . 5H2O 150 g pro Lit er Rochellesalz50 g per liter of Cu 2 SO 4 . 5H 2 O 150 g per liter of Rochelle salt

1 ml Netzmittel
30 mg pro Liter iMatriumcyanid 15 ml pro Liter Formaldehyd (37%)
1 ml wetting agent
30 mg per liter of sodium cyanide 15 ml per liter of formaldehyde (37%)

Natriumhydroxyd in einer Menge, die ein pH von 13 ergib" ~b.. ■-■·-.,·.:.Sodium hydroxide in an amount giving a pH of 13 "~ b .. ■ - ■ · -., ·. : .

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Dieses Bad liefert einen gut duktielen, glatten, glänzenden Kupferniederschlag in einer Schichtstärke von etwa 3/U in 45 Minuten bzw. 6/U in 1 1/2 Stunden.This bath provides a ductile, smooth, shiny finish Copper deposit in a layer thickness of about 3 / U in 45 minutes or 6 / rev in 1 1/2 hours.

Es hat sich gezeigt,, daß derartige Wieaerschlage außerordentlich lagerfähig sind. Sie können durcii einfaches Aktivieren in, beispielsweise Schwefelsäure, auch nach längerem Lagern für das Aufbringen eines weiteren, stromlos oder galvanisch abgeschiedenen Überzuges vorbereitet werden. Darüber hinaus weisen solche Schichten nicht nur eine sehr hohe Haftfestigkeit auf, sondern sind auch, da stromlose Abscheidungen riehtungsjbhängig erfolgen, weitgehend frei von Poren. Etwa zu Beginn des Abscheidungsprozesses sich auf Grund von Aktivierungsimperfektionen ausbildende, porenförmige Inseln werden im weiteren Verlauf des stromlosen Metallabscheidungsvorganges automatisch aufgefüllt. Hierdurch unterscheiden sich derartige Metallfolien grundsätzlich von galvanisch hergestellten. Wegen der bei letzteren unvermeidlichen Poren„ bildung sowie der außerordentlichen Schwierigkeiten bei der herstellung sehr dünner galvanisch abgeschiedener Folien und bei deren Aufbringen auf einen Träger war es bislang praktisch unmöglich ein mit einer dünnen, beispielsweise 10 / sx&rken Xupferfölie versehenes Basismaterial herzustellen. Die praktisch porenfreie Kupi'erfolie geringer Dicke ist hoch duktil, haftet außerordentlich fest auf dem Unter-It has been shown that such changes are extraordinary are storable. You can simply activate it in, for example sulfuric acid, even after prolonged storage for applying another, currentless or galvanic deposited coating are prepared. In addition, such layers not only have a very high adhesive strength but are also largely free of pores, since electroless depositions take place depending on the direction. Approximately At the beginning of the deposition process, pore-shaped islands are formed due to activation imperfections become in the further course of the electroless metal deposition process automatically filled. In this way, such metal foils differ fundamentally from those produced by electroplating. Because of the inevitable pores in the latter " education as well as the extraordinary difficulties in the production of very thin electrodeposited foils and when applying them to a support, it has heretofore been practically impossible to use a thin one, for example 10 / sx & rken Xupferfölie provided base material. The practically pore-free copper foil of small thickness is highly ductile, adheres extremely firmly to the

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179Ö293179Ö293

grund und gestattet es ohne Schwierigkeit auf ihr fest haftende, weitere Metallschicht en abzuscheiden.reason and allows it to be stuck on it without difficulty Adhesive, further metal layers to be deposited.

In diesem Zusammenhang soll darauf hingewiesen werden, daß stromlose und galvanische Metallabscheidung getrennt durchgeführt oder auch kombiniert werden können, also beispielsweise eine MeTallschicht gewünschter Dicke zum Teil durch Abscheidung aus einen stromlos arbeitenden Bad und zum Teil durch galvanische Abscheidung hergestellt werden kann. Dies kann besonders vorteilhaft sein, wenn der fertige Leiterzug aus Metallen verschiedener Art bestehen soll, also beispielsweise aus 20/U Kupfer, 8 /U IM ick el und 2 ,u Gold.In this context it should be pointed out that Electroless and galvanic metal deposition carried out separately or can also be combined, for example a metal layer of the desired thickness partly by deposition from an electroless bath and partly by electrodeposition can be produced. This can be particularly advantageous when the finished conductor run is made Metals of different kinds should consist of, for example, 20 / U copper, 8 / U IM ick el and 2, u gold.

jpür das Aktivieren der Lochwandungen hat sich als besonders vorteilhaft eine Badlösung erwiesen, die aus einer wässrigen Lösung von Zinn- und Palladiumionen besteht und von 0,1 bis 5$ Methyläthylketon enthält. Diese gleiche Lösung kann auch zum Aktivieren vor dem Aufbringen der ersten dünnen Kupferfolie mit- Erfolg benutzt werden. ·jpür activating the hole walls has proven to be special A bath solution proved to be advantageous, which consists of an aqueous Solution of tin and palladium ions and from 0.1 to Contains 5 $ methyl ethyl ketone. This same solution can also to activate before applying the first thin copper foil be used successfully. ·

Um beispielsweise eine beidseitig mit einer gedruckten Schaltung versehene Leiterplatte herzustellen, wird das Basismaterial nach Art ues in Beispiel V beschriebenen Produktes nach einem der bekanntgewordenen Druckverfahren oder in andererFor example, to produce a printed circuit board on both sides with a printed circuit board, the base material According to the type of product described in Example V, according to one of the known printing processes or in another

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309833/0951309833/0951

©AD ORIQINAi© AD ORIQINAi

Weise mit einer Abdeckmaske versehen, die lediglich jene Bezirke frei läßt, die den gewünschten Leiterzügen entsprechen. Sodann wird die so maskierte Schicht einem stromlos Metall, beispielsweise Kupfer, abscheidenden Bad ausgesetzt und in diesem belassen, bis eine Abscheidung genügender Dicke erreicht ist. nierauf wird die Maske in üblicher Weise entfernt und. die darunger befindliche Basismaterialkupferfolie durch kurze Behandlung mit Ammoniumpersulfat oder einem anderen geeigneten Lösungsmittel entfernt. Dies geschieht außerdordentlich rasch und wirtschaftlich, da die Basismaterialfolie aus einer, gegenüber üblichen kupferkaschierten Basismaterialien, außerordentlich dünnen Kupferschicht besteht.Way provided with a mask that only those Leaves areas free that correspond to the desired ladder lines. The layer masked in this way is then de-energized Metal, for example copper, exposed to the deposition bath and left in this until deposition is sufficient Thickness is reached. The mask is then removed in the usual manner and. the base material located on the copper foil by brief treatment with ammonium persulfate or removed with another suitable solvent. This is done extremely quickly and economically because the Base material foil made of a copper-clad compared to the usual Base materials, an extremely thin layer of copper is made.

Dieses Verfahren soll in dein nachfolgenden Beispiel genauer dargelegt werden:This procedure is intended to be more precise in your example below are set out:

Beispiel VIExample VI

Als Ausgangsmaterial dient ein beispielsweise entsprechend Beispiel V hergestelltes Basismaterial,mit einer Kupferfilmstärke von z.B. 5/U und einem beide Seiten vollkommen bedeckenden Kupferfilm. An example according to Example V is prepared based material as a starting material, and with a K 5 / U and a pferfilmstärke both sides of, for example fully covering copper film.

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BADBATH

Um eine Leiterplatte mit beidseitig angebrachter gedruckter Schaltung anzufertigen, wird zunächst auf beiden Seiten des Basismaterials,in diesem Beispiel vermittels Siebdrucks, eine Maske aufgedruckte Diese Maske entspricht dem Hegativ des. gewünschten Leiterzugmusters, läßt also jene Bezirke unbedeckt, die den gewünschten Leitern entsprechen. Als i'arbe wird eine Komposition benutzt, die einerseits gute Widerstandsfähigkeit gegenüber den weiteren, zur Anwendung gelangenden Badflüssigkeiten aufweist, andererseits aber in einfacher Weise vermittels eines geeigneten Lösungsmittels entfernt werden kann. Solche Druckfarben sind in großer Zahl erhältlich. Ihre Widerstandsfestigkeit wird zweckmäßigerweise durch einen Härtevorgang, beispielsweise durch eine Wärmetrocknung verbessert. Die derart mit dem Maskenaufdruck versehene Basismaterialplatte wird anschließend kurz, beäspieisweise in einer alkalischen Lösung gereinigt und nach dem Spülen mit Wasser die Kupferoberfläche, beispielsweise in Schwefelsäure (lOfo), reaktiviert. Sodann wird die Piaute in ein duktiles Metall, beispielsweise solches Kupfer ohne äußere Stromzufuhr abscheidendes Bad gebracht und darin belassen, bis eine Kupferschieht der gewünschten Dicke in den Leiterzugmuster entsprechenden Bezirken aufgebaut ist. Ein besonders gut geeignetes Bad besteht t beispielsweise aus einem Badlösung nach folgender Zusammensetzung:To produce a printed circuit board with a printed circuit on both sides, a mask is first printed on both sides of the base material, in this example by means of screen printing. A composition is used as the paint which, on the one hand, has good resistance to the other bath fluids used, but on the other hand can be easily removed using a suitable solvent. Such printing inks are available in large numbers. Their resistance is expediently improved by a hardening process, for example by heat drying. The base material plate provided with the mask imprint in this way is then briefly cleaned, for example in an alkaline solution, and after rinsing with water, the copper surface is reactivated , for example in sulfuric acid (10fo). The piaute is then placed in a ductile metal, for example such a bath that deposits copper without an external power supply, and left therein until a copper layer of the desired thickness has been built up in the areas corresponding to the circuit pattern. A particularly useful bath consists t for example from a bath solution according to the following composition:

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ORlGlNAt.ORlGlNAt.

Kupfersulfat FormaldehydCopper sulfate formaldehyde

0,002 Mol/Liter bis 0,15 Mol/l0.002 mol / liter to 0.15 mol / liter

0,050.05

3,53.5

Komplexbildner fürComplexing agent for

Kupfer(II)Ionen 0,001 » " " 0,25 " "Copper (II) ions 0.001 »" "0.25" "

Komplexbildner fürComplexing agent for

Kupfer (I)lonen 0,00005" " " 0,09 " "Copper (I) ions 0.00005 "" "0.09" "

Alkalihydroxyd um ein pH zwischen 10 und 14 einzustellen Ein derartiges Bad besteht beispielsweise aus Bad dAlkali hydroxide to adjust the pH between 10 and 14 Such a bath consists for example of bath d

15 g/l15 g / l

GuSOGuSO

5H2O5H 2 O

Rochellesalz 45 g/lRochelle salt 45 g / l

latriumcyanid 0,7 g/lsodium cyanide 0.7 g / l

HGHO (37/0 10 ml/1HGHO (37/0 10 ml / 1

Natriumhydroxyd um ein pH von 13,5 zu erreichen.Sodium hydroxide to achieve a pH of 13.5.

Sehr gut geeignet ist auch ein Bad der folgenden Zusammensetzung
Bad e
A bath of the following composition is also very suitable
Bath e

GuSO4 . 5H2OGuSO 4 . 5H 2 O 55 g/lg / l - Trinatriumnitrilotri-
acetat(40$)
- trisodium nitrilotri-
acetate ($ 40)
2323 ml/1ml / 1
(xlyconitril(xlyconitrile 1212th mg/1mg / 1 2-Mercaptob'ezothiazol2-mercaptobezothiazole 00 ,08 mg/1, 08 mg / 1 HGHO (37$)HGHO ($ 37) 1010 ml/1ml / 1 NetzmittelWetting agents 22 g/lg / l Natriumhydroxyd.Sodium hydroxide. 22 ,1 g/l, 1 g / l

- 25 -- 25 -

3098 33/09513098 33/0951

JBAD ORIGINALJBAD ORIGINAL

179Q293179Q293

". 5H2O ;·. 10 g/l". 5H 2 O; ·. 10 g / l

äthylätliyl en-ethyl ethyl en-

diämihtriäcetat. (4-lfo) 15 ml/ldiämihtriacetat. (4-lfo) 15 ml / l

äatriümhydröxydaerosol hydroxide 22 g/lg / l i 55/Ü- Mofcei 55 / Ü- Mofce IHsrmsldehyd (37$)IHsrmsldehyd ($ 37) 66th mlAmlA ihiödiäthanöiihiödiäthanöi O1 O 1 i0Ö0Ö15 ml/1i0Ö0Ö15 ml / 1 NätriümcyaMtf : NätriümcyaMtf : 1010 mg/1mg / 1 ■*rt Mittel■ * rt means 11 g/lg / l MmMm Bääer liiferfi höcligläiizeiideBaäer liiferfi höcligläiizeiide äuß erdrdefili chexpress earth defili ch Kupfercopper hiederiüchiSge von heispieinweisedeprecated hints of hype 15 'S-feii15 'S-feii iläen.ilea.

Sötmld die erviiiiiäöHte Metallöcliieiitslär&e ert-eicht ist, wxrä die Mkskeflfärbe "atigelöst,· die fare sorgfältig gespült üM: "B-eispielä'vie±se iit einem fassertauoniacic überzögeii, üäi EörfööiÖn zti feriäeiäeri.If the viiiiiäöHte metal ocliieiitslär & e eert-calibrated, When the Mkske dye is dissolved, the fare is carefully rinsed üM: "B-ebeispielä'vie ± se iit ein fassertauoniacic überzögeii, üäi EörfööiÖn zti feriäeiäeri.

Seispiei TΪΙSeispiei TΪΙ

itelit eine ändere' Erfindtinöagem&ße' Verfanrensweisö dar; üierBei Wirä die daö ijeitefiiruoter bildende Met alls chi eilt galvanisch ätifgefeküti 2ünaeiist -iiil'ifä:|: iie in Beiäpiei Yl ebeni eine lasfce äüfgeördbiit^ die lediglich, öties deiiiitelit represents a different 'Inventor ö agem &ße'Veranrensweisö; Over at Wirä, the metal that forms the daö ijeitefiiruoter alls chi hurries galvanically ätifgefeküti 2ünaeiist -iiil'ifä: | : iie in Beiäpiei Yl also a lasfce äüfgeördbiit ^ which merely, öties deiii

3Ö9Ö33/öi61 v 3Ö9Ö33 / öi61 v

17äÖ29317äÖ293

Z 26 - Z 26 -

iie±t#3?iiiiisiii?. e'ntspricfienden Bezirke fiel MJt; Scjdämi wird die Glätte in lift gslvanisöiiäe Met^läb^tieidüngsb'äd; .bei:-- spielsweiäe in ein f^rbp1iä|)iist:::Kü[pferbad feingöb^äoHt^, wobei der elektrische iiiäönlilß vom Mnhahgig erteilt zu disr.diünnen. ölie deä Basisiaateriäls erfolgt. Nach entsprechender nisierzext > bliäpieisweiäS nacii o.a..4-5' Mniiteii f iir .iie ± t # 3? iiiiisiii ?. eligible districts fell to MJt; Scjdämi is the smoothness in lift gslvanisöiiäe Met ^ läb ^ tieidüngsb'äd; .at: - spielsweiäe in a f ^ rbp1iä |) iist ::: Kü [pferbad feingöb ^ äoHt ^, whereby the electrical iiiäönlilß from the Mnhahgig to disr. thin. Ölie deä Basisiaateriäls takes place. According to the appropriate nisierzext> bliäpieisweiäS nacii oa.4-5 'Mniiteii f iir.

35 /ti Öü wird die flatte iespült^Uiid hköH d§iii,J;rtt||r'|ien lör,;; i?ärbe ufid döffi liHsöfi des .£#1 seilen. deti Eeiterzügeh frÄi iiegjsidi dlii Bäsiäläte;rlMiIüpfe;rä.fiiit eiile;r Söiltit^BiiiÖiit gegeä . ......35 / ti Öü is the flatte iespült ^ UIID hköH d§iii, J; rtt || r '| ien LOER; ; i? ärbe ufid döffi liHsöfi des. £ # 1 ropes. deti Eeiterzuggeh frÄi iiegjsidi dlii Bäsiäläte ; rlMiIüpfe ; rä.fiiit hurry ; r Söiltit ^ BiiiÖiit Gege. ......

öä vetäe'iiln; . . .. , -.. .. . .- .... ..-,■< öä vetäe'iiln; . . .., - .. ... .- .... ..-, ■ <

ifliBi die' HSi-iteiiülig t<M i,eitärpiättiii äit iStäi teü 1.8öHwiiidiifi|ln iititär fer^endüni etii ifi de'ii Jiiä|)fglSH ti"" üüd fli ßeSciirie'Böniii terfaiireliääöiirittl: Mierb'li lird" ZtiimMiäl das SäöiiSäteriäi der Irtj'iiö UiU fiif d'i§ Jiiäßie'li TI tiiid tii beiÖÖrieBin Mrdi^ Mt aiii iBBM^rä aüMä MtBH- MMMit ^Sileiiliil dere'ri'fäiidHiiiieii MetäÜiÜIrt iüia/8defüs ?e;rb±Muligen z^isditäli tli-cgr^iigeli ttif biiältt sgitiü zÜisöitiger liSitörliiältifl ciieiiin Idliöni SbdäMii ferä til IiI "d§ii BBcMiingin verüBiÖS iiöisffiateriii|iiatti I BliM^iöil^iiäe" te'r- * littlis eliief' MnM- und 'iaiiittitaiiiSniii Mlüiiiitidln Iiöätilif "" iI Uk die i,BöH#ifidüngeit für dil itfBifeiOMllgiallltii Mi ätti^ilrin; MiÖiiiilBeiid IiM^ fie iii"dSn: Mi- ifliBi the 'HSi iteiiülig t <M i, eitärpiättiii dit iStäi teü 1.8öHwiiidiifi | ln iititär fer ^ endüni etii ifi de'ii Jiiä |) fglSH ti "" üüd fli ßeSciirie'Böniii terfaiireliääöiirittl: Mierb'li lird "ZtiimMiäl the SäöiiSäteriäi der Irtj'iiö UiU fiif d'i§ Jiiäßie'li TI tiiid tii beiÖÖrieBin Mrdi ^ Mt aiii iBBM ^ rä aüMä MtBH- MMMit ^ Sileiiliil dere'ri'fäiidHiiiieii MetäÜiÜIrt iüia / 8 isdefüsalen z tli ± e; rb cgr ^ iigeli #if biiältt sgitiü zÜisöitiger liSitörliiältifl ciieiiin Idliöni SbdäMii ferae til IiI "d§ii BBcMiingin verüBiÖS iiöisffiateriii | iiatti I Blim ^ ^ iöil iiäe"te'r- * littlis eliief 'mNm- and' iaiiittitaiiiSniii Mlüiiiitidln Iiöätilif "" iI Uk the i, BöH # ifidüngeit for dil itfBifeiOMllgiallltii Mi ätti ^ ilrin; MiÖiiiilBeiid IiM ^ fie iii "dSn : Mi-

-02-02

iöiiäi/öiitiöiiäi / öiit

spielen VI und. VlI beschrieben, die Maske gedruckt und weiter wie dort ausgeführt, verfahren, wobei jedoch in jedem Falle eine stromlose Metallschient, gegebenenfalls geringerer Dicke, hergestellt werden muß.play VI and. VlI described, printed the mask and on Proceed as stated there, but in each case a currentless metal bar, possibly less Thickness, must be made.

Schließlieh haben "Untersuchungen ergeben, daß die 'fertlggebtellte,Leiterplatte vor dem Aufbringen eines Korrosionsschutzes für kurze .Zeit einem Säurebad ausgesetzt wird, um so alle von früheren Verfahrensschritten noch zurückgebliebenen balzreste zu entfernen.Finally, "investigations have shown that the 'finished, printed circuit board exposed to an acid bath for a short time before applying corrosion protection so are all those still remaining from previous procedural steps to remove courtship rests.

Έach einer anderen Äusführungsforin der Erfindung wird bei der Herstellung von Leiterplatten von einem Basismaterial nach Art der in den Beispielen I bzw. II beschriebenen Materialien Diese bestehen, wie doapt ausgeführt, aus einem geeigneten Trägermaterial, beispielsweise einem Phenol- -tapierlaminat, das mit einer geeigneten Oberflächenschicht versehen ist. Dieses Basismaterial wird zunächst mit einer gegenüber dem Oxydations- und Aübaubad sowie den Bädern des Äktivierungsprozesses für die stromlose Metallabscheidung resistenten Maske bedeckt, die lediglich die dem späteren Leitermuster entsprechenden Überflächenbezirke frei laßt.Der Aufdruck kann "beispielsweise im Siebdruck erfolgen und als. besonders geeignetehaben sich hochätzfeste Druckfarben erwiesen» Um deren Beständigkeit noch zu verbessern, kann es Έ after another Äus Ausführungsforin of the invention is in the production of circuit boards from a base material in the manner of the materials described in Examples I and II suitable surface layer is provided. This base material is first covered with a mask that is resistant to the oxidation and build-up bath and the baths of the activation process for electroless metal deposition, which only leaves the surface areas corresponding to the later conductor pattern exposed Highly etch-resistant printing inks have proven »To improve their resistance, you can

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3098 3 3/09 513098 3 3/09 51

BADBATH

zweckmäßig sein, ,diese durch einen WarmeV· organg. zu .härten«'■--·, Sollen die Mterplatten mit metallisiert en. iocn wandung en ■-:.-. versehen werden, so werden, die entsprechenden IiOßimugep. ■■_ ■■·...■■ entweder vor oder· nach dem Aufbringen dieser.-Ms^eherge- ;...be expedient, this by a warm process. to .harden « '■ - ·, the mother plates are to be metallized with. iocn wall s ■ -: .-. are provided, the corresponding IiOßimugep. ■■ _ ■■ · ... ■■ either before or · after applying this.-Ms ^ rather-; ...

stellt. . .■-'... .·., -, .. ■■■ . ·■ ■■ ■ ■-· ... -represents. . . ■ -'.... ·., -, .. ■■■ . · ■ ■■ ■ ■ - · ... -

Sodann wird die freiliegende Basismaterial©Derflache dem, ■ Oxydations- und übDaumittel, Deispielsweise einer Permanganatlösung, ausgesetzt, und zwar für eine.. Zeitf. die ausreicht, ui eine ausreichende Oxydation herb; ei güf uhr en -wa&. -.'.. Mikroporen auszubilden. Daran anschließend wird, die Platten-Oberfläche nach vorangehender Spülung aktiviert, also beispielsweise einer Zinn- und Edelmetalliojieia, exithaltenden Lösung ausgesetzt» Zweckmäßigerweise enthält die die Edelmetallionen enthaltende Lösung einen geringen Prozentsatz, etwa bis zu 5^, an MEK. JMach dem Spülen wird die Maskenfarbe entfernt» AsI besonders vorteilhaft hat sich erwiesen, solche Maskenfarben zu benutzen, die sich in alkalischen Isä&ungeu ■ ablösen lassen. Hierauf wird die derart, vorbehandelte Basiematerialplatte einem geeigneten stromlos Metall abscheidenden-Bade ausgesetzt, und zwar für eine Zeit, die zum Aufbau .einer Schicht gewünschter Stärke ausreicht.Then the exposed base material © The surface is exposed to the, ■ Oxidation and transfer agent, De for example a permanganate solution, for a .. time f . which is sufficient to produce sufficient oxidation; ei güf uhr en -wa &. -. '.. to form micropores. The plate surface is then activated after rinsing, for example exposed to a solution containing tin and noble metal ions. The solution containing the noble metal ions expediently contains a small percentage, up to 5%, of MEK. The mask paint is removed after rinsing. It has proven particularly advantageous to use mask paints that can be removed in alkaline isä & ungeu . The base material plate pretreated in this way is then exposed to a suitable electroless metal plating bath for a time which is sufficient to build up a layer of the desired thickness.

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309833/0951309833/0951

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

Besonders vorteilhaft köruien die in den vorangehenden Beispielen beschriebenen stromlos arbeitenden Bäder benutzt werden. ,;Abs.Ghl,ieß;end werden die Platten sorgfältig gespült und gegebenenfalls nach weiteren Reinigungs- und iieutrali— sierbädern mit einem Korrosionsschutz versehen. Als solcher kann beispielsweise ein Wassertauchlack oder eine im Sprüh-' verfahren aufgetragene Zinnschicht oder eine Walzenyerzinnung dienen. -The electroless baths described in the preceding examples can be used particularly advantageously. , ; In the final section, the panels are carefully rinsed and, if necessary, provided with corrosion protection after further cleaning and neutralizing baths. A water-immersed lacquer or a spray-applied tin layer or roller tin plating can serve as such. -

Besonders vorteilhaft erweist sich bei dieser erfindungsgemäßten Ausführung, daß zwischen, den Leitern keine Reste von Substanzen aus dem Aktivierungszyklus vorhanden sein können, die. etwa ohne sorgfältige Reinigung zu einer Verschlechterung des Oberflächenwiderstandes Anlaß sein könnten.This one according to the invention has proven to be particularly advantageous Execution that between, the ladders no remnants of Substances from the activation cycle may be present, the. about without careful cleaning to deterioration the surface resistance could be the cause.

Andererseits mag es unter Umständen verfahrenstechnisch einfacher sein, von einem Basismaterial auszugehen, wie es dem Beispiel III entspricht. Dieses Basismaterial besitzt eine bereits, mit dem Oxydations— und Abbaumittel behandelte Oberflächenschicht. Für die Weiterverarbeitung zu Leiterplatten ergeben sich zwei Verfahrensvarianten, iüach der einen wird zunächst die Maske aufgebracht und anschließend so verfahren, wie in dem für Basismaterial nach der Art der Beispiele I und II gegebenen Verfahrensbeispiel ausgeführt.On the other hand, it may be procedurally simpler under certain circumstances be to start from a base material like the one Example III corresponds. This base material has a surface layer that has already been treated with the oxidizing and degrading agent. For further processing into printed circuit boards there are two process variants, one of which is first applied the mask and then proceed as in that for base material according to the type of examples I and II given method example carried out.

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309833/0951309833/0951

BAOBAO

Es kann jedoch auch zunäcnst die ganze unmaskierte Oberfläche^,. ;i However, the entire unmasked surface can also be used initially. ; i

für die stromlose Metallabscheidung aktiviert und erst ; f.activated for electroless metal deposition and only ; f.

daran anschließend die Maske aufgedruckt werden. Abgesehen von dieser Unterschiedlichkeit wird wie für die erste , ... Variante angedeutet . . ,then the mask can be printed on. Apart from this difference, as for the first, ... variant is indicated t . . ,

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30983 3/09 5 130983 3/09 5 1

BAD ORIGINALBATH ORIGINAL

Claims (13)

, .31 -, .31 - AnsprücheExpectations Verfahren zur Herstellung von ei· ü gedruckteοc&altungeh, bestellend aus einem 'frager aus isolierendem Material, einer haftungsvermittelnden Zwischenschicht und einer gegebenenfalls ganz oder -'teilweise -· ■· darauf befindlichen Metallgrunaschicht, dadurch g e k e η η ζ ei c h η e t , daß man auf die Oberfläche des i'rägers eine mindestens einen durch Oxidationsmittel oxidierbaren, wärmehärtbaren modifizierten Gummi bzw. Kunstgummi (Kautschuk) gleichmäßig verteilt enthaltende-Schicht appXxziertj daß man die aufgetragne Schicht durch Erwärmen wenigstens teilweise härtet und daß man die wenigstens teilweise genärtete Schicht vor der stromlosen oder stromlosen und galvanischen Metaliabscheidung zumindest in den zu'metallisierenden Bereichen mit einem Oxidationsmittel, vorzugsweise mit einer Chromschwefelsäure- oder Permanganatlösung Dehandelt.Process for the production of egg ü printedοc & altungeh, ordering from a 'questioner made of insulating material, an adhesion-promoting intermediate layer and one, if necessary, in whole or in part - · ■ · metal green layer on it, thereby g e k e η η ζ ei c h η e t that one is on the surface of the carrier one at least one by oxidizing agents layer containing oxidizable, thermosetting modified rubber or synthetic rubber (rubber) evenly distributed appXxziertj that the applied layer is passed through Heating at least partially cures and that the at least partially hardened layer before the electroless or electroless and galvanic metal deposition at least in the areas to be metallized with an oxidizing agent, preferably with a chromosulfuric acid or permanganate solution. 2. Verfahren nach -.Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die metallgrundscnicht zunächst mit einer übdeckmaske versehen wird, die lediglich die dem gewünschten Lei eermuster entsprechenden .Bezirke frei läßt, sodann die so maskierte Oberfläche einem stromlos Metall, vorzugsweise duktiles2. The method according to -.Anspruch 1, characterized in that the Metallgrundscnicht initially provided with a cover mask which merely correspond to the desired line pattern . Leaves districts free, then the masked one Surface an electroless metal, preferably ductile 309833/0951309833/0951 Kupfer abscheidendem Bad für eine der gewünschten Leiterdicke eni/sprecnende Zeit ausgesetzt wird, a schließend daran die Abdeckmaske, und entweder z oder in einem .darauffolgenden Arbeitsgang die-dünne, zwischen den Leiterzügen befindliche Metallschicht. entfernt vorzugsweise weggeätzt wird.Is exposed to a copper-plating bath for a time sufficient for the desired conductor thickness, a then the cover mask, and either z or, in a subsequent operation, the thin, Metal layer located between the conductor tracks. removed, preferably etched away. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Metalloberfläche zunächst mit einer iibdecksehicht versehen wird, die lediglich die dem gewünschten Leiterzugmuster entsprechenden Bezirke frei läßt, sodann die unmaskierte Überfläche vermittels eines galvanischen Prozesses verstärkt, anschließend die Maskenachicht entfernt und entweder zugleich oder anschließend die von. der Maske verdeckt gewesene, ursprüngliche dünne ' Metallschicht abgebaut vorzugsweise abgeätzt wird.3. The method according to claim 1 and 2, characterized in that that the metal surface is first covered with a cover layer is provided, which is only the desired Leaves the corresponding districts free, then the unmasked surface is reinforced by means of a galvanic process, then the mask layer removed and either at the same time or afterwards that of. original thin 'that was covered by the mask Metal layer degraded is preferably etched away. 4» Verfahren nach Anspruch 1 bis 3,zum Herstellen von gedruckten Schaltungen mit metallisierten Loch- bzw. Durchbruchwandungen, dadurch gekennzeichnet,"daß die Basismaterialplatte vor oder nach dem Aufbringen der lasken-. schicht,1 jedenfalls aber ehe sie in das zum Aufbau der Leiterzüge benutzte Metallisierbad gebracht wird, mit den entsprechenden Löchern bzw. Durohbrüchen versehen und einer -üblichen Aktigierungsbehandlung ausgesetzt wird4 »Method according to claims 1 to 3, for the production of printed circuits with metallized perforated or breakthrough walls, characterized in that" the base material plate is placed before or after the application of the layer of varnish, 1 but in any case before it is inserted into the Conductor lines used metallization bath is brought, provided with the appropriate holes or Durohbrbruch and exposed to a -customary activation treatment 309833/0 9 51309833/0 9 51 BADBATH 5- i Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch"gekennzeichnet, ' da®--die beschichtete 'frägermaterialoberf lache nach entsprechender Wärmebehandlung mit einer Abdeckschicht versehen wird, die lediglich die dem gewünschten Leiterbild entsprechenden Bezirke freiläßt, hierauf die derart maskierte Oberfläche für die entsprechende Zeitspanne einem Oxidationsmittel aussetzt und anschließend einem .Aktivierungsvorgang für die stromlose Metallabscheidung unterworfen wird, um schließlich nach dem !entfernen der Äbdeckschicht in ein stromlos Metall abscheidendes 'Bad für eine solche Zeitspanne gebraent zu werden, daß darm die erwünschten Leiterzüge in entsprechender Dicke aufgebracht -werden. ■5- i method according to claim 1 to 4, characterized in ", 'da® - the coated' substrate surface according to the corresponding Heat treatment is provided with a cover layer, which only corresponds to the desired conductor pattern leaves corresponding areas free, then the surface masked in this way for the corresponding period of time exposed to an oxidizing agent and then an activation process for electroless metal deposition is subjected to finally after the! remove the covering layer to be baked in an electroless metal plating bath for such a period of time that darm the desired conductor tracks in the appropriate thickness applied. ■ 6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Oxidationsmittel ausgesetzt gewesene Oberfläche mit feiner Maske bedruckt wird, die lediglich 3ene Bezirke frei läßt, die dem erwünschten Leiterbild entsprächen, die so frei gelassenen^Bezirke hierauf für die stromlose Metallabscheidung aktiviert und anschließend nach dein Entfernen der Maskenschicht die Leiterzüge in einem stromlos Metall abscheidenden Bade aufgebau weruen.6. The method according to claim 1 to 5, characterized in that that the surface that has been exposed to the oxidizing agent is printed with a fine mask, the only 3rd Leaving districts free which correspond to the desired pattern of conductors, the districts left free then for the electroless metal deposition activated and then after removing the mask layer, put the conductor tracks in an electroless metal separating bath built up weruen. - 34 -- 34 - 3 0 9833/09513 0 9833/0951 BAD ORIGINALBATH ORIGINAL 7. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 6, dadurch zeichnet, daß die oxydierte Oberflächenschicht, sie für die Abscheidung aus stromlos arbeitenden Bädern '· aktiviert worden ist, mit einer Abdeckmaske versehen wird, die lediglich die dem gewünschten Leitermuster entsprechen den Bezirke frei läßt, anschließend die Leiterzüge in7. The method according to claims 1 to 6, characterized in that the oxidized surface layer, they are used for separation from non-current baths' has been activated, is provided with a mask that corresponds only to the desired conductor pattern leaves the districts free, then the ladder tracks in einem stromlos arbeitenden Abscheidungsbad hergeTstellf .un|l die Abdeckmaske falls erwünscht entfernt wird. ! .">an electroless deposition bath and the cover mask can be removed if desired. ! . "> 8. Verfahren nach den Ansprüchen 5 bis 7, zum Herstellen von gedruckten Schaltungen mit metallisierten Loch- bzw. Durchbruc !wandungen, dadurch gekennzeichnet, daß die Aktivierung für die stromlose Abscheidung imrzeitlichen Ablauf an geeigneter Stelle vor dem Einbringen in das stromlos abscheidende Bad und nach dem Herstellen der Löcher bsaw. Durchbrüche erfolgt·8. The method according to claims 5 to 7, for the production of printed circuits with metallized hole or Durchbruc! Walls, characterized in that the activation for the electroless deposition in the r time sequence at a suitable point before introduction into the electrolessly separating bath and after making the holes bsaw. Breakthroughs occurred 9« Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß zum Aktivieren eine wässrige Lösung benutzt wird, welche neben Zinn- und Palladiumionen eine geringe Menge eines organischen Lösungsmittels, vorzugsweise Methyl-Äthylketone in einer Konzentration von 0,1 bis 5 % enthält.Process according to claim 5, characterized in that an aqueous solution is used for activation which, in addition to tin and palladium ions, contains a small amount of an organic solvent, preferably methyl ethyl ketone in a concentration of 0.1 to 5%. 10. Verfahren nach den Ansprüchen 6 bis 9 oder mindestens einem davon, dadurch gekennzeichnet, daß das stromlos Me-10. The method according to claims 6 to 9 or at least one of them, characterized in that the currentless meter R1^-m 0>£3 0 9 8 3 3 / 0 9 5 1R 1 ^ -m 0> £ 3 0 9 8 3 3/0 9 5 1 BADBATH tall^abscheidende Bad ein Kupferbad ist, das neben einem Reduktionsmittel und anderen geeigneten Bestandteilen sowohl ,Gupri- als auch Gupro-Ionenkomplexbildner enthält.tall ^ separating bath is a copper bath that is next to one Reducing agents and other suitable ingredients both , Gupri and Gupro ion complexing agents. 11» Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das stomlos Kupfer abscheidende Bad ein wasserlösliches €yanid,i vorzugsweise in einer Konzentration von 0,004 bis 0,025 Mol/l enthält.11 »Method according to claim 10, characterized in that the electroless copper separating bath is water-soluble € yanid, i preferably in a concentration of 0.004 to Contains 0.025 mol / l. 12. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die dem Oxydationsmittel.ausgesetzte Oberfläche anschließend einem Bad ausgesetzt wird, daß nach dem Waschen.der Oberfläche noch vorhandene Beste desselben neutralisiert bzw. in eine auswaschbare Form überführt.12. The method according to claims 1 to 11, characterized in that that the surface exposed to the oxidizing agent is then exposed to a bath, the best of which is still present after washing the surface neutralized or converted into a washable form. 13. Verfahren nach den Ansprüchen 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß die mit dem aufgebauten Leiterzügen verselfne von der Maskenschicht und gegebenenfalls von einer dünnen zwischen den Leiterzügen befindlichen Metallschicht befreiten Oberfläche nach dem Spülen einem Säurebad ausgeseti wiederum gespült und schließlich in an sich bekannter Weise vermittels eines geeigneten Wassertauchlackes mit13. The method according to claims 1 to 12, characterized in that that the covered with the built-up conductor tracks from the mask layer and possibly from a thin one The metal layer between the conductors was exposed to an acid bath after rinsing again rinsed and finally in a known manner by means of a suitable water immersion paint ; einer Schutzschicht versehen wird.; a protective layer is provided. 30 983 3/09 5130 983 3/09 51 Bfi®Bfi®
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4029845A (en) * 1974-08-15 1977-06-14 Sumitomo Bakelite Company, Limited Printed circuit base board and method for manufacturing same
ZA763010B (en) * 1975-07-25 1977-04-27 Kollmorgen Corp New polymeric substrates for electroless metal deposition
DE2612438C2 (en) * 1976-03-24 1983-04-28 Aeg Isolier- Und Kunststoff Gmbh, 3500 Kassel Adhesion promoter layer for the production of printed circuit boards
DE2809917B1 (en) * 1978-03-08 1979-07-26 Dynamit Nobel Ag Base material for producing printed circuits by additive processes and processes for producing the same
DE2828288C2 (en) * 1978-06-28 1982-04-15 Dynamit Nobel Ag, 5210 Troisdorf Process for the production of base material for printed circuits
DE3021896A1 (en) * 1980-06-06 1982-03-25 Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen METHOD FOR PRODUCING PRINTED CIRCUITS
DE3323476A1 (en) * 1982-07-01 1984-01-05 Kollmorgen Technologies Corp., 75201 Dallas, Tex. IMPROVED METHOD FOR GALVANIC METAL DEPOSITION ON NON-METALLIC SURFACES

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB892451A (en) * 1957-12-03 1962-03-28 Radio And Allied Ind Ltd Improvements in and relating to the manufacture of printed circuits
DE1496984C3 (en) * 1963-02-06 1974-01-24 Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen Process for the production of printed circuits with galvanically generated conductor tracks according to the build-up method

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