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DE1764007A1 - Hochfrequenzentladungs-Plasmagenerator - Google Patents

Hochfrequenzentladungs-Plasmagenerator

Info

Publication number
DE1764007A1
DE1764007A1 DE19681764007 DE1764007A DE1764007A1 DE 1764007 A1 DE1764007 A1 DE 1764007A1 DE 19681764007 DE19681764007 DE 19681764007 DE 1764007 A DE1764007 A DE 1764007A DE 1764007 A1 DE1764007 A1 DE 1764007A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
discharge
high frequency
test sample
plasma generator
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19681764007
Other languages
English (en)
Other versions
DE1764007B2 (de
DE1764007C3 (de
Inventor
Hiromitsu Muatsuno
Seiichi Murayama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Publication of DE1764007A1 publication Critical patent/DE1764007A1/de
Publication of DE1764007B2 publication Critical patent/DE1764007B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1764007C3 publication Critical patent/DE1764007C3/de
Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)

Description

  • @Ioa@hf@requet@@ünt@.adunge@@lasmagenerator
    ;83.e Erfindung besieht sich auf $pektralanalysatoren, die als
    Lichtquelle einen Hoohfrequensentlsdungs-Plaomagenerstor ver-
    wenden.
    Eisher verwendet man in Spektralanalynatoren zur Erregung der
    Unterauohungsprobe üblioharweine eine durch eine chemische
    Reaktion unterhaltene Flamme, einen Lichtbogen, eine funken
    entladung uaw. s Jedoch halben alle diene übliehen Anregungequellei
    ;ihre opezifinahen Nachteile. So int man bei. Verwendung einer
    durch eine oheminohe Reaktion unterhaltenen Flämme in der,
    ünterouoriungeprobe auf Elemente be®ehränkt, die eine nur geringe
    Anregungnenergie aufweisen, da die Flammentemperatur niedrig
    liegt. lm Falle eines Lichtbogens oder einer Funken entladung
    muß man die lntennität der Opektrallinlen über die Zeit
    integrieren, da die Entladung zeitlich instabil verläuft.
    Man wiflt daher Ublieherweise der Integrierten Meawart durch
    Photometrie einer photografioahen Aufnahme oder mit Hilfe eineo
    elektrioohen lntsgratorn. Jedneh verlangt eine photometrische
    Auamessung von photografischen Aufnahmen umfangreiche Aus-
    wertuogearbeit, und beim Einsatz einen elektri.sqhen Integrators wird
    das Gerät für die Durchführung der Spektralanalyse selbst
    sehr umfangreich. In oemrer Zeit hat sieb daher als Abhilfe
    für alle diese Nachteile eine Methode eingeführt, bei der zur
    Anregung der zu analyeterenden Untereuchungeprobe eine Plasma-
    flemew benutzt wird, die durch eine Nochfrequenaentladung
    erzeugt wird.
    Ein Noohfrequenzentladuuge-Piaemagenerator der oben erwähnten
    Hauart besitzt fei Prinzip ein rohrförmiges Eatladungegefäü, dan
    einen-Durahtrittekanal für ein Entladungsgas bildet, und ein
    zu dem Entladungsgefäß koaxiales und mit seiner Entladeepitze
    auf das offene Ende den Entladungegefäßee hinzeigendes
    Elektrodenbauteil, wodurch sich zwischen dem Blektrodenbauteil
    und der Innenwand den Entladungsgefäßes ein ringförmiger
    Durohtrittekanai für das Entladegan ergibt, sowie Mittel
    zum Einführen des Entlsdegaaes in der Weise, daß es rund um
    die Entladeetelle den ]Blektrodenbauteils herumfliegt und dann
    durch das offene Ende des Entladungegefäßee in den Außenraum
    geblasen wird, und schließlich Mittel zur Zuführung von
    Hqvhfrequenzenergie zu den Entladungegefä8, die an der
    Entladeetelle den Blektrodenbanteile eine hochfrequente
    Hochspannung induzieren.
    Dun am schwierigsten zu lösende Problem beim Bineat$ einen
    solchen Hoohireauenzentladunge-Plaeeageneratore als
    hiehtqualle für Spektmisnairnetoren liegt in den Verbreuab
    und °in der tterunreioigung de@@c Siextrade. Der Verbrauch der .
    Elektrode läflt die ]ntladung instabil werden und verllngt
    eine blutige Br®etaug der Elektrode. Zu sind daher naterteüen
    mit hoher Lebensdauer segenUber P-ochf»duensentladuuagea
    entwickelt worden! und heute wird beispielsweise Aluminium
    als Elektroäeruzaterial verwendet. Außerdem hat Sao, « eine
    Aonzentrition dsr@.8l@tlädeetelle auf* einen kleinen Spitzen-
    bereioh des Elektrodenbauteile au verhindern, 1rlotbod*n ent-
    wickelt, der üntereuohungsprobe und den Intladegas ad den
    Innenleiter und an den an der Spitze dieses Innenleitern
    sitzenden Blektrodenbauteil einen Durahtrittskanal Eu aohaffen
    und das Entladegae 8s Ende der Elektrode auszublasen oder das
    EndstUok der Elektrode in etwa eben zu machen. Jedoch können
    selbst in diese® Falle bei der se von korrosiven Unter-
    auehungeproben, wie s.B. säurehaltigen Untersuohuogeproben,
    die Rauteile, die mit der Untereuehungsprobe in urittelbare
    Berührung kommen, d.h. , die Elektrode und die ; Innenasund des
    Entladungsgefäßes korrodi»n und leicht nerunreiniatt werden,
    wobei eioh'die Verühreiriigungsprodutte Lasur wieder entfernen
    lassen.
    überdies stören Rückstände lrherer Untersuchungsproben an
    dem Elektrodenbauteil oder an sonstigen Bauteilen, die mit der
    Untersuchungsprobe in unmittelbare Bernhrnng tosnen, bei der
    Analyse neuer Untereuehungeproben, woraus sich die Forderung
    nach einer Bauweise für Lichtquellen für Spektralanalynatoren
    ergibt, die eine leichte Entfernung von alten Untersachunge---
    probenrückständen ermöglicht.
    Ziel der Erfindung ist es daher, ,genaue und zuverlässige
    Spektralanalyoen mit Spektralapparaten, die als Lichtquelle
    einen gochfrequenzentladunge@Plaenagenerator verwenden, zu er-
    möglichen, indem eine Verunreinigung der Probe verhindert wird,
    und die Handhabung einer solchen Einrichtung zu vereinfachen,
    indem die Reinigung der Lichtquelle beim Austausch der Unter-
    suchungeprobe erleiehtert wird.
    Weiter zielt die Erfindung darauf ab, eine durch die Untern=
    euchungsprobe veranladte Korrosion des EntladungegefäBes
    und der Elektrode einen derartigen Hcschfrequenzentladunge.
    Plasmagenerators zu verhindern.
    Erfindungsgemäß werden dazu bei einem Nochfrequenzantladnnga.
    Plgemaaenerator als yiehtquelle für Bpektralanalysatoren auf den
    im 'fege der Untersuchungsprobe liegenden Oberflächen 711nte aus
    korroeionsfeetem dielektrische.m Material aufgebracht, um eine
    durch die Untersuchungsprobe ausgelöste Korrosion ohne echädlie
    Rückwirkung auf die Hochfrequenzentlgdung zu verhüten und um
    die Reinigung der 'feile den Entladusgefgßen zu erleichterup
    die mit der üntezeuchnngsprcba in Berrrg knmme
    Als däelektrisches Material für die Herstellung der korrosionsverhindernden Films sind Materialien reit niedrigen Verlusten bei Hochfrequenz bevorzugt, und es lassen sich beispielsweise keramische Materialien, wie Aluminiumoxyd, oder Polytetrafluoräthylen oder Polyäthylen usw.. verwenden. Für die Aufbringung der Firne aus den dielektrischen Materialien auf die Elektrodenoberflächen lassen sich verschiedene Verfahren einsetzen. Beim Aufbringen von keramischem Material ist eine Alu®itbehandlung durch oberflächliche Oxydation oder Aufspritzen anwendbar, beim Aufbringen von dielektrischen Materialien aus organischen Hochpolymeren kann man mit ,Sprühen, Überziehen oder Aufschmelzen arbeiten. Die Stärke des Filmes ist für die Erfindung bedeutungslos, jedoch verdient ein dünner Film den Vorzug, wenn es darum geht, die leietungsverluate und die Abmessungen der Elektrode oder des Entladungegefäßes zu verkleinern.
  • Nunmehr so12en zur weiteren Erläuterung der Erfindung einige in der Zeichnung -veranachaulichte Ausführungsbeispiele näher be-
    schrieben werden., In der Zeiehnung zeigens
    Fig: i und 2 eine vereinfachte Vorderansicht bzw.
    Seitenansicht, die den wesentlichen Aufbau einer
    bevorzugten Ausführungsform eines erfindungs-
    gemäßen Hochfrequenzentladungs-Plasmagenerators
    erke»n lassen;
    Fig. 3 einen fieilochnitt entlang der Schnittlinie
    #t11.-111 in PJ.g. 2, der die als EntladungegefäB
    benutzte Koaxialleitung und einen Teil eines recht-
    eckigen Hohlleiters zeigt, die den wesentlichen Teil
    des in den Pig. 1 und 2 veranecha&ichten Generatorn
    bilden;
    Fig. 4 einen Teilschnitt gleichr Art durch eine andere
    Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Generators;
    Pig. 5 wieder eine andere Ausführungsform eines erfindunge-
    gemäßen Generators in einer entsprechenden Schnitt-
    .
    darstellung.
    Der in den Pig. 1,2 und 3 veransche.ichte Hochfrequenzent. ladunge.wPlaemagenerator weist im wesentlichen eine Hochfrequenz-. quelle 1 mit einer Nochfrequenz-®ezillatorröhre, wie z.B.
  • einem Magnetron, einen in dem Ausführungsbeispiel rechteckig ausgebildeten Hohlleiter 2 als Übertragungskanal für die Hochfrequenzenergie und eine Koazialleitung 3 auf, die das Entladungsgefäß bildet und gleichzeitig-als Übertragungskanal für die Hochfrequen$energie dient. Der äußere Aufbau der Koazialleitung 3 besteht aus einem rohr:rö:!,»migen Außenlaster 8a und aus einem sich quer durch den rechteckigen Hohlleiter 2 erstreckenden rohrförmigen Ansatz 10 aus einem elektrisch isolierenden Material. Koaxial zu dem Außenleiter Ba und seinem Ansatz 10 ist ein Innenleiter 8 angeordnet, der an seinem oberen Ende mit einer Entladungselektrode 9 versehen .ist. Am Boden der Köanialleitung 3 ist ein Einlaßkanal 4 für das Entladegao vorgesehen. ,Der der Übertragungskanal -fier die Hochfrequenzenergie bildende Iiohllei ter- 2 braucht nicht unbedingt rechteckig zu sein, es lassen sich auch Hohlleiter anderer Form verwenden, sofern sie nur in Zusammenarbeit mit der Koaxialleitung 3 für die Zufuhr von Hochfrequenzenergfe zu dem eich an der Spitze der Entladungselektrode 9 ausbildenden Entladungsplasma geeignet sind. Auf der Innenwand des Außenleiters 8a der Koagialleitung 3 und-auf der Oberfläche des Innenleiters 8 sind Filme aufgebracht, die aus dielektrischem Material bestehen.
    Hei.ƒ Betriebe des dargestellten Hochfrequenzentladungs-
    Plasmageneratore wird Hochfrequenzenergie mit einer Frequenz
    von einigen 100 bis zu einigen 1000 MHz und einer leistung von
    einigen 100 Watt bis zu einigen 10 lNatt aus der Nochfrequenz-
    -quelle 1 durch den rechteckigen Hohlleiter 2 geschickt und in
    das aus der senkrecht in den rechteckigen Hohlleiter 2 einge-
    schobenen Koaxialleitung 3 bestehende Entladungsgefäß einge-
    speist, wodurch in dem Innenleiter 8 der Koaaialleitung 3 ein
    hochfrequenter Strom induziert wird. Dieser hochfrequente
    Strom führt zur Ausbildung eine®-hochfrequenten elektromagne-
    tischen Feldes im Innern der Koaxialleitung 3, und in der
    am Ende des Innenleiters, 8 sitzenden Elektrode 9 wird eine
    hochfrequente Hochspannung induziert.
    .Anschließend wird ein geeignetes Entladegas, wie z.H.
    Argon, Stickstoff, asserstoff, Sauerstoff, luft, Helium,
    Stadtgas, Propan usw. durch den Einlaß 4 in das Entladungs-
    gefäß eingeapeiet, und der Spitze der Elektrode 9 wird ein
    leitender Stab ,genähert, worauf eich zwischen dem Stab und
    der Spitze'der Elektrode 9 eine Nochfrequenzentladung aus-
    bildet. Die eo erzeugte Hoohfrequenzfackel führt zu einer
    kontinuierlichen Ionisierung des Entladegaees, und dieses
    ionisierte Gas wird als Plasmaflamme 5 in den Außenraum
    hinauegeblaeen, da das erzeugte Plasma eine äußerst ,
    hohe Temperatur vor 5000 bis 20000°C aufweist.
    Beim Einsatz dieser Plasmaflamme' als Wärnequelle fair die Anregung von Emiasioneapektren von üntersuchungeproben für deren Spektralanalyse wird die zu untersuchende Probe entweder vor der Auslösung*der Entladung an der Spitze der Elektrode 9 angebracht, oder die Probe wird in Form einer Lösung zubereitet, die dann zerstäubt und zusammen mit dem Entladegas durch den Einlaßkanal 4 in die Plasmaflamme 5 eingebracht werden kann.
  • In der hohen Temperatur der Plasmaflamme 5 dissoziiert die Untersuchungsprobe, und es kommt zur Aussendung von Liebt mit einem Linienspektrum,. das charakteristisch ist für die t die Untersuchungsprobe bildenden Elemente. Durch eine Messung diesen Linienspektrums läßt sich daher die Zusammensetzung der Untersuchungsprobe analysieren.
    Bei der 1.n ,der Fis. 1 veranschaulichten Ausführungsform eines
    Hochfrequenzentladungsa->Plasmageneratore ist der Einlaßkanal 4
    fUr das Entladegan und die Untersuchungsprobe am Boden der
    Koaaialleitung 3-vorgesehen, und die Innenwand des Außenleiters
    8a der Koaxialleitung und die Außenflächen der an deren Ende
    vorgesehenen Elektrode 9 sind mit .Ausnahme des Entladefleokee
    mit filmen` 11 und 11e auo Polytetrafluorä-bhylen überzogen. .
    Ein Überziehen der aus dielektrieahen Materialien bestehenden
    Teile, wie z.B. des isolierenden Ansatzes 10, i®t@niobt
    erforderlich.
    Die Fis. 4. zeigt eine Ausführungsform für einen Hochfrequenz"
    entladunge-flasmagenerator, bei welcher der Einlaßkanal 4 für das
    Entladungsgas und die Untersuchungsprobe im Inneren des
    Innenleiters 8 liegt, so daß das Entladegae am Ende der
    Elektrode 9 ausg®blaoen werden kann, und_dielektrisehe
    Filme 11 und 11' sind nur en den Teilen des Außenleiters
    Sa und des Innenleiters 8 der Koaxialleitung 3 angebracht,
    wo ein .Anhaften der Untersuehungeprobe zu erwarten ist.
    Da die Hocbfrequenzentladung durch die Anbringung eines
    Filmes 14 auf einem Teil des im Inneren des Innenleitern 8
    liegenden Eiulaßkanals 4 für das Entladegas und die Unter-
    suchungsprobe nicht gestört wird, ist es nicht erforderlieh#-_
    w
    dielektrische Materialien für den Film. 14 zu verwenden.
    fei den oben beschriebenen Ausführuugsfnrmen von Hochfrequenz-
    entladungs-Plaumageneratoren läßt eich eine Korrosion oder eine
    Verunreinigung der Elektrode durch die Untersuchungsprobe
    ohne Beeinträchtigung der Hoehfrequenzentladung verhindert
    und an der Elektrode 9 oder an der Innenwand des Außen--
    leitere 8a anhaftende feile der Untersuchungsprobe lassen
    sich leicht entfernen.
    Die Pig.a zeigt eine-weiter verbesserte Ausführungsform
    des in der Pig. 1 veranschaulichten Hochfrequenzentladunge-
    Plasmagenerator$, bei der zur weiteren Erleichterung der
    Reinigung des Entladungsgefäßes am Boden des Außenleiters 8a
    der goaxialleitung 3 pin nach außen führendes Doch 12 vorge-
    sehen ist, durch das sich in den Außenleiter 8a der
    Hoaxialleitung 3 eingebrachte Reinigungsflüssigkeit ohne
    weiteres entfernen läßt. Da eich bei dieser Ausführungsform
    eine Reinigung des Entladungsgefäßes ohne dessen Entfernung
    von der Vorrichtung als Ganzes, wie dien bei den üblichen
    Spektralapparaten erforderlich ist, vornehmen läßt, lassen
    eich erhebliche Einsparungen an Arbeitszeit und Arbeits-
    aufwand für den Austausch der Unter$ucbungeprobe erzielen.
    Bei dieser Ausführungsform können zwar Entladega® oder Teile
    der Untereuchungeprobe durch das sich nach außen öffnende
    Loch 12 austreten, jedoch verursacht dies keine Schwierigkeiten,
    solange, das Loch hinreichend klein ist oder sobald an dieses
    Loch ein Rohr angeschlosnen wird, dessen freies'Ende zur
    Abdichtung in Wasser eintaucht.
    Was nun die relative Lage des Einlaßkanals 4 für die
    Untersuchungsprobe und das Entladegas zu dem Loch 12
    anbelangt, so ist ein vertikaler Abstand von mehr als 10 mm
    zwischen dem unteren. Teil der Öffnung des Einlaßkanals 4
    und dem oberen Ende des Lochen 12 für die 'Absaugung der Reini-
    gungsflüssigkeit bevorzugt. Kommt dieser Abstand einem Wert
    von 10 mm nahe, so wird ein Ausfließen von Reinigungsflüssig-
    keit auf die Seite des Zinlaßkanals 4 für die Untersuchungs-
    probe und das Entladegas wahrscheinlich, und insbesondere
    dann, wenn eine flüssige Untersuchungsprobe in Nabe.form einge-
    sprüht und mit dem@Etitladegas vermischt wird, steigt die
    Feuchtigkeit in der Nachbarschaft des Loches 12 stark an, und
    eine Ansammlung von Plüsaigkeitsträpfehen an dieser Stelle
    wird wahrscheinlich.
    Iden oben beschriebenen Mitteln zum hinreichenden Beseitigen
    der Verunreinigungen, die _ sich im Innern der Koarialleitung 3
    ansammeln, kommt eine große Bedeutung zu, da eine Verunreini-
    gung der Untersuchungsprobe die Genauigkeit der Analyse
    verringert oder gar zu Analysenfehlern führt. Außerdem können
    bei einem Einsprühen einer flüssigen Untereuchungsp:(, erbe in das
    Entladungsgas und deren Einführung in die durch die Entladung
    entstehende Plasmatla®me Flüssigkeitströpfchen auf den Boden
    der Koaxialleitung 3 gelangen und, falle sie eich dort
    ansammeln, zu einer fYtladung an dieser Stelle führen. Eine
    Entfernung der Verunreinigungen io-also auch zur Verhütung
    einer solchen Entladung von Bedeutung.
    Dementsprechend ist es auch dann, wenn die korrosiven Eigen-
    achaften der Untersuchungsprobe keine Schwierigkeiten bereiten,
    ein überziehen der Elektrode new. mit diglektrischen filmen
    also nicht erforderlich ist, sehr wirkungsvoll, am roden der
    Koa-xialleitungr 3 ein nach außen führendes doch 12 vorzusehen.

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    Hochfrequenzentladungs-Plasaagenerator als Lichtquelle für Spektralanalysatoren mit einem Lntladungsgefäß in Porm diner Koaxialleitung mit einem am Ende eine Entladungselektrode auf- weisenden Innenleiter, einem diesen koaxial umgebenden Außenleiter und Anschlüssen zur Zuführung von Hoehfrequenz- ene@gie, Entiädegas und einer flüssigen Ünterauchungsprobe zu der Entladestrecka, d a d u r o h g e k e n n z e i c h n 'e t daB mindestens die Innenwand des Augenleiters und die mit der Untersuchungsprobe in Berührung kommenden Teile den Innen- leiters und der Entladungselektrode mit einem Film aus lcorrosionsbeständigem, dielektriechem Material überzogen sind. Plasmagenerator nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein im- Inneren des Innenleiters bis zu der Entladungselektrode an dessen Ende führenden Einlaßkanal für die Untersuchungsprobe, dessen Innenwandung ebenso wie die Innenwand des Außenleiters und die äußere Mantelfläche der Entladungselektorde mit einen Pilm aus korrosionsbeständigem Material überzogen ist. 3. Plasmagenerator insbesondere nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch ein zusätzlich zu den Aneahlüssen für die Zuführung des Entladega®en und der Untersuchungsprobe vorgesehenes' nach außen führendes Laich am Hoden den Entladungsgefäßes als Ab iührunge- öffnung für ein flü®eigen Reinigungsmittel aus dem Inneren des 1 Entladungegefäßee.
DE19681764007 1967-03-24 1968-03-21 Hochfrequenzentladungs-Plasmagenerator Expired DE1764007C3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1798067 1967-03-24
JP7330967 1967-08-28

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1764007A1 true DE1764007A1 (de) 1972-02-24
DE1764007B2 DE1764007B2 (de) 1974-06-12
DE1764007C3 DE1764007C3 (de) 1975-01-23

Family

ID=26354585

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681764007 Expired DE1764007C3 (de) 1967-03-24 1968-03-21 Hochfrequenzentladungs-Plasmagenerator

Country Status (1)

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DE (1) DE1764007C3 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2547693A1 (fr) * 1983-06-17 1984-12-21 Air Liquide Torche a plasma, notamment pour le soudage ou le coupage de metaux

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2547693A1 (fr) * 1983-06-17 1984-12-21 Air Liquide Torche a plasma, notamment pour le soudage ou le coupage de metaux

Also Published As

Publication number Publication date
DE1764007B2 (de) 1974-06-12
DE1764007C3 (de) 1975-01-23

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Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
EHJ Ceased/non-payment of the annual fee