[go: up one dir, main page]

DE1564126B2 - Leistungstransistor - Google Patents

Leistungstransistor

Info

Publication number
DE1564126B2
DE1564126B2 DE19661564126 DE1564126A DE1564126B2 DE 1564126 B2 DE1564126 B2 DE 1564126B2 DE 19661564126 DE19661564126 DE 19661564126 DE 1564126 A DE1564126 A DE 1564126A DE 1564126 B2 DE1564126 B2 DE 1564126B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
base
emitter
collector
transistor
power transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19661564126
Other languages
English (en)
Other versions
DE1564126C3 (de
DE1564126A1 (de
Inventor
George Frederick Sunnyvale; Winkler Richard Hallett PaIo Alto; Levine Sidney San Jose; Calif. Hardy (V.St.A.)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Micronas GmbH
Original Assignee
Deutsche ITT Industries GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Deutsche ITT Industries GmbH filed Critical Deutsche ITT Industries GmbH
Publication of DE1564126A1 publication Critical patent/DE1564126A1/de
Publication of DE1564126B2 publication Critical patent/DE1564126B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1564126C3 publication Critical patent/DE1564126C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D62/00Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
    • H10D62/10Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
    • H10D62/13Semiconductor regions connected to electrodes carrying current to be rectified, amplified or switched, e.g. source or drain regions
    • H10D62/133Emitter regions of BJTs
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D99/00Subject matter not provided for in other groups of this subclass
    • H10W20/40
    • H10W40/70
    • H10W72/20
    • H10W76/132

Landscapes

  • Bipolar Transistors (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft Transistoren für hohe Leistungen, insbesondere ein Hochfrequenz-Hochleistungstransistor-B auelement.
Beim Betrieb von Transistoren mit hohen Leistungen in der Größenordnung von 2 Watt und darüber sind die Ableitung der im Halbleitermaterial erzeugten Wärme und der Temperaturausgleich im Material wichtig und stellen eine Grenze dar. Das halbleitende Material muß mit dem Sockel in guten Wärmeaustauschbeziehungen stehen. Eine gleichmäßige Wirkung der gesamten Fläche des Transistors verhindert die Ausbildung von überhitzten Stellen (hot spots) und gestattet das Arbeiten bei einer höheren Leistung. Bei hohen Frequenzen nimmt die Impedanz der Zuleitungen zu. Es ist daher wichtig, daß diese so ausgebildet werden, daß zwischen den Elektroden wirkende und verstreute konstante Effekte vermieden werden. Eine günstige Ausbildung der Zuleitungen kann dazu beitragen, den Strom über die gesamte Fläche eines Transistors und, im Falle daß zwei Transistoren parallel arbeiten, auch zwischen den beiden Transistoren, zu verteilen.
Verschiedene Maßnahmen zur Verbesserung von Transistoren im Hinblick auf höhere Frequenzen und höhere Leistungen sind bereits bekannt. Aus der britischen Patentschrift 839176 ist ein Transistor hoher Verlustleistung mit einem Ringemitter bekannt, bei dem das Transistorelement mit dem Kollektor auf eine erhöhte Stelle des Sockels aufgelötet ist.
Aus den USA.-Patentschriften 2 887 628 und 3 025 473 sind Transistoren bekanntgeworden, bei denen Halbleiterkörper und Zuleitungen isoliert im Gehäuse angeordnet sind.
Aus der USA.-Patentschrift 3 074 145 ist ein photolithographisches Verfahren zum Herstellen der Verbindung zwischen den Transistorelektroden und den Gehäuseanschlüssen zu entnehmen.
Aus der französischen Patentschrift 1358 189 ist schließlich ein Leistungstransistor bekannt, bei dem die Teilbereiche der Emitterelektrode über gleich große parallelgeschaltete Widerstände mit dem Emitteranschluß verbunden sind. Die Anordnungen
nach dem Stand der Technik haben den gemeinsamen Nachteil, daß komplexe Maßnahmen zur Verbesserung sowohl der Hochfrequenzeigenschaften als auch der Wärmeabführung fehlen.
Der Erfindung liegt also die Aufgabe zugrunde, verbesserte Hochfrequenzleistungstransistoren für hohe Frequenzen zu schaffen mit einer verbesserten "Wärmeabführung vom Halbleiterkörper in gleichmäßiger Belastung der gesamten Transistorfläche sowie symmetrische Ausbildung des Wechselstromwiderstandes. Sie betrifft Leistungstransistoren mit impedanzarmem Aufbau auf einem Sockel mit mindestens einem Transistorelement als Basis-, Kollektor- und Emitterzonen und einer wärmeleitenden, elektrisch isolierenden Anordnung, die das Transistorelement trägt und mit dem Sockel mechanisch verbindet.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe dadurch gelöst, daß der an sich bekannte elektrisch isolierende Teil einen Kontakt für den Kollektor enthält, der eine ohmsche Verbindung mit der Kollektorzone herstellt, daß ein Ständer aus elektrisch leitendem Material unmittelbar neben dem Transistorelement mit einem Ende am Sockel befestigt ist und mit dem anderen Ende neben dem Transistorelement liegt, daß Zuleitungen eine elektrische Verbindung zwischen dem Ständer und der Emitterzone herstellen, derart, daß der Sockel gleichzeitig den Emitteranschluß bildet, und daß Basis- und Kollektorzuleitungen in an sich bekannter Weise isoliert durch den Sockel geführt und mit den Basis- und Kollektorkontakten verbunden sind.
Die Merkmale der Erfindung werden im folgenden im Zusammenhang mit der Zeichnung näher erläutert:
F i g. 1 stellt eine perspektivische Ansicht eines Transistorbauelementes nach der Erfindung dar;
F i g. 2 ist eine Draufsicht auf das Transistorbauelement gemäß Fig. 1, bei dem die Kappe entfernt ist, um die innere Anordnung der Zuleitungen und des Halbleiterkörpers zu zeigen;
F i g. 3 zeigt einen Schnitt entlang der Linie 3-3 in Fig.2;
F i g. 4 ist eine vergrößerte Teilansicht des Transistors und veranschaulicht die Emitter- und Basisanschlüsse;
Fig. 5 stellt eine Ansicht entlang der Linie 5-5 von F i g. 4 dar;
F i g. 6 zeigt eine andere Transistoranordnung nach der Erfindung;
F i g. 7 zeigt das Prinzipschaltbild eines Transistors nach der Erfindung, und
F i g. 8 zeigt das Prinzipschaltbild für einen Doppeltransistor, der gemäß der Erfindung in einer gemeinsamen Hülle untergebracht ist.
Das Transistorbauelement enthält einen Sockel 11, der das Halbleitermaterial, das das eigentliche Transistorelement bildet, andere Teile der Anordnung und die Zuleitungen trägt. Der Sockel 11 ist zur Aufnahme einer Kappe 12 ausgebildet, welche zur Unterbringung und zum Schutz der Anordnung vor der Umgebung dient. Der Sockel kann außerdem ein paar in Abstand voneinander angebrachte Montagelöcher 13 enthalten, mit deren Hilfe er an zugehörigen Einrichtungen mittels Schrauben befestigt werden kann. Selbstverständlich kann der Sockel auch anderen bekannten Typen entsprechen, z. B. einem Typ, der einen Schraubansatz enthält zum direkten Einschrauben in entsprechend ausgebildete zugehörige Anordnungen.
Der Transistor 16, um mit der Beschreibung von Einzelheiten zu beginnen, wird durch eine wärmeleitende Schichtenanordnung (sandwich) 17 getragen, die den Transistor elektrisch vom Sockel isoliert. Die Schichtenanordnung besteht vorzugsweise aus Material mit dem gleichen Wärmeausdehnungskoeffizienten wie das Transistorelement 16, um Bruch infolge
ίο unterschiedlicher Wärmeausdehnung zu vermeiden. Für einen Siliciumtransistor kann die Schichtenanordnung z. B. aus einer Molybdänscheibe 18 bestehen, die in geeigneter Weise mittels bekannter Methoden an den z. B. aus Kupfer bestehenden Sockel angelötet ist. Eine zweite Molybdänscheibe 19 ist mit der Kollektorzone des den Transistor bildenden Halbleiterkörpers verlötet. Eine Schicht aus Berylliumoxyd 21 ist zwischen den beiden Molybdänscheiben zum Herstellen einer mechanischen Verbindung angeordnet. Eine derartige Verbindung ist elektrisch isoliert. Die Berylliumoxydschicht 21 ist relativ dünn und hat eine gute Wärmeleitfähigkeit, so daß die Wärmeleitung zwischen dem Transistorelement 16 und dem Sockel 11 verhältnismäßig gut ist.
Die in F i g. 1 bis 3 dargestellte Anordnung enthält die beiden Transistorelemente 16 a und 16 b, die nebeneinander mit gegenüberliegenden Enden angeordnet sind. Ein Ständer 22 aus Material mit guter elektrischer Leitfähigkeit ist entlang den beiden gegenüberliegenden Seiten der Transistoren und parallel zu diesen auf dem Sockel befestigt. Die obere Seite des Ständers hat nahezu die gleiche Höhe wie die obere Fläche der Transistoren. Sie kann eine Molybdänscheibe 23 enthalten, welche in geeigneter Weise mit dem Kupferständer verbunden ist und welche ein Siliciumplättchen 24 trägt. Die obere Oberfläche des Siliciumplättchens kann mit einer aufgedampften ohmschen Kontaktschicht versehen sein. Kurze Emitterzuleitungen 26 verbinden den ohmschen Oberflächenkontakt und die Emitterzonen des entsprechenden Transistors. Der Stromweg des Emitterstromes setzt sich aus dem Sockel 11, dem Ständer 22, der Siliciumscheibe 24 und den Emitterzuleitungen 26 zusammen. Die Siliciumscheibe 24 stellt einen Serienwiderstand dar. Der Widerstand der Siliciumscheibe kann durch Einstellen ihrer Dicke, durch ihre Verunreinigungskonzentration oder ähnliche Maßnahmen festgelegt werden, so daß mit den Zuleitungen zusammen ein vorgegebener Serienwiderstand erhalten werden kann.
Die Basiselektrode besteht aus einem C-förmig gebogenen Teil 27 mit den beiden Enden 28, die einander gegenüber und über einem jeweils darunter befindlichen Transistor liegen. In der Mitte des Bügels des C-förmigen Teils ist dieser mit einem Stift 29 verbunden, der durch den Sockel führt. Der Stift ist mittels einer Glasperle durch den Sockel geführt, die eine dichte Durchführung bildet. Basiszuleitungen, die ohmsche Anschlüsse mit der Basiszone des Transistors bilden, verbinden nach oben verlaufend die C-förmig gebogene Elektrode und den ohmschen Basiskontakt.
Der Kollektoranschluß besteht aus einem U-förmig gebogenen Bügel 31, der bei 32 einen um 90° gebogenen bandförmigen Verlauf hat und der in geeigneter Form mit der sich nach auswärts erstreckenden Nase 33 der Molybdänscheibe 19 verbunden ist. Wie ersichtlich ist, läuft je einer dieser Streifen zu je
5 6
einem der entsprechenden Transistoren. Die beiden Die Basiszonen der Anordnungen sind durch C-för-
Enden des U-förmigen Kollektorbügels sind mit je mig gebogene Zuleitungen kontaktiert. Wegen dieser
einem dieser Streifen verbunden. Im mittleren Teil symmetrischen Ausbildung ist die Eigenimpedanz der
ist der U-förmig gebogene Kollektorbügel mit einem beiden Hälften im wesentlichen gleich, wodurch
Stift 34 verbunden, der mittels einer eine dichte 5 sichergestellt ist, daß von beiden Transistoren jeder
Durchführung bildenden Glasperle 35 durch den anteilig belastet wird. Die U-förmig gebogenen KoI-
Sockel geführt ist. lektorzuleitungen sind ebenfalls symmetrisch, wo-
Der Leistungstransistor ist in Fig. 4 und 5 in Ein- durch ebenfalls eine ausgleichende Wirkung entsteht,
zelheiten klarer dargestellt. Er hat eine Kollektor- Es ist damit gewährleistet, daß das Bauelementepaar
zone 41, eine Basiszone 42, die beide einen Basis- io bei unterschiedlichen Frequenzen und Belastungen
Kollektorübergang bilden, und eingesetzte Emitter- im wesentlichen gleich arbeitet,
zonen 43. Die Ersatzschaltung für einen einzelnen Tran-
Wie in Fig. 4 dargestellt, handelt es sich um einen sistor, der entsprechend der Erfindung kontaktiert Transistor mit ineinandergreifender fingerartiger ist, ist in Fig. 7 dargestellt, wo die Induktanz der Struktur, bei dem der Emitter aus einer Mehrzahl 15 Basiszuleitung bei 61 angegeben ist, die Induktanz von Fingern 40 besteht. Die Teile des Emitter-Basis- der Kollektorzuleitung bei 62 und die einzelnen Inüberganges, die an die Oberfläche treten, werden duktanzen der verschiedenen Emitterzuleitungen bei durch eine Oxydschicht 44 geschützt. Die Emitter- 63 a, 63 b usw., zugeordnet zu den schematisch darkontakte 46 und die Basiskontakte 47 werden durch gestellten verschiedenen Emitterkontakten. Die Aufdampfen eines fingerartig ineinandergreifenden 20 Serienwiderstände sind bei 64 a, 64 b usw. dargestellt. Kontaktmusters auf die Oberfläche des Bauelementes Für den symmetrischen Aufbau ist die Ersatzhergestellt. Das Kontaktmuster weist im wesent- schaltung in F i g. 8 dargestellt, bei der die Induktanz liehen als Grundlage eine rippenartige Struktur auf 65 der Kollektorzone symmetrisch ausgebildet ist und mit kammerartigen Emitterkontakten. Der Kollektor- eine Serieninduktanz 65 a für den Teil der Zuleitung, kontakt 48 wird durch die bereits früher beschriebene 25 der durch die Glasdurchführung des Sockels verläuft, Molybdänscheibe gebildet. angegeben ist. Entsprechend ist die Induktanz des
Der kammartige Emitterkontakt ist unterbrochen C-förmig gebogenen Teils der Basiszuleitung bei 66
und bildet eine Mehrzahl derartig ausgebildeter Kon- angegeben mit der Zuleitungsinduktanz 66 a. Ferner
takte 46a, 46b usw. Wie aus Fig. 2 zu entnehmen ist jedem Teilemitter zugeordnet eine Vielzahl von
ist, sind 8 derartige Emitterzonen oder -abschnitte 30 Emitterwiderständen 67λ, 67 b usw. angegeben. Diese
vorhanden. Jeder dieser Abschnitte ist mit einer Widerstände haben im wesentlichen den gleichen
■Emitterzuleitung 26 verbunden. Die Emitterzuleitun- Wert, da sie aus einem einzigen Siliciumplättchen,
gen sind nebeneinander mit dem Emitterwiderstand das auf dem Ständer montiert ist, gebildet .sind.
24 verbunden. Danach liegt in Serie mit jedem der Außerdem sind die Zuleitungsinduktanzen 68 a, 68 b
Emitterkontakte 46 ein Widerstand. Die Serien-Emit- 35 usw. dargestellt.
terwiderstände sollen gewährleisten, daß der Strom- Der Ständer kann aus- den beiden Armen eines fluß zu jeder der Emitterzonen im wesentlichen gleich U-förmig gebogenen, als Kanal wirkenden Teiles beist. Es ist leicht einzusehen, daß ein Ansteigen des stehen, welches die schichtförmige Anordnung 17 Stromes in einem der Serienkreise ebenfalls ein An- zur Wärmeübertragung aufnimmt und welches ansteigen des Spannungsabfalls im Widerstand zur 40 dererseits an dem Sockel befestigt ist. Dies kann als Folge hat und damit einen Abfall der Emitterspan- Teilanordnung ausgebildet und dann auf dem Sockel nung, durch den auch der Strom vermindert wird. montiert werden. In Fig. 6 ist ein Teil des Sockels Es ist also ein negativer Rückkopplungseffekt vor- mit der darauf befestigten U-förmig gebogenen Anhanden, der darauf hinwirkt, daß der durch den Ordnung 71 mit den Ständern 72 dargestellt. Die Transistor fließende Strom gleichmäßig verteilt wird. 45 Teilanordnung, bestehend aus dem Transistor 16,
Es ist zu beachten, daß bei hohen Frequenzen jede der Schichtanordnung 17, den Emitterzuleitungen 26 der Zuführungen eine eigene Impedanz hat. Diese und dem U-förmigen Teil 71 mit den Ständern 72 ist Impedanz liegt in Reihe mit der entsprechenden vollständig dargestellt. Der restliche Teil der geZone. Es wird angestrebt, die Impedanz der Emitter- samten Anordnung ist mit den bereits beschriebenen Zuleitungen so weit wie möglich herabzusetzen. Bei 50 Teilen identisch.
der dargestellten Anordnung sind z. B. die Zuleitun- In der vorstehenden Beschreibung ist ein Hochgen 26 verhältnismäßig kurz gehalten. Der Weg leistungstransistor beschrieben, der leicht aufzubauen durch den Emitterwiderstand und den Ständer ist ist, bei dem die Unsymmetrie der verschiedenen bei ebenfalls verhältnismäßig kurz, ferner sind die Ab- Hochfrequenz auftretenden Effekte auf ein Minimum messungen und die Formgebung des Widerstandes 55 herabgesetzt ist und welcher sowohl in symme- und des Ständers so ausgebildet, daß die Serienin- irischem, als auch in unsymmetrischem Aufbau bei duktanz herabgesetzt wird. Damit ist eine gute Über- relativ hohen Frequenzen betrieben werden kann, tragung des Signals gewährleistet. Es besteht nur ge- Die Serienwiderstände gewährleisten, daß der Strom ringe Wahrscheinlichkeit, daß die Hochfrequenzim- gleichmäßig über die gesamte Anordnung verteilt pedanzen der verschiedenen Wege sich wesentlich 60 wird und damit überhitzte Stellen (hot spots) verunterscheiden, da mit Ausnahme der kurzen Zulei- mieden werden. Die Art der Montage gewährleistet tungen 26 der Weg in allen Fällen identisch ist. eine gute Wärmeleitung vom Halbleiterkörper.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (7)

Patentansprüche:
1. Leistungstransistor mit impedanzarmem Aufbau auf einem Sockel mit mindestens einem Transistorelement aus Basis-, Kollektor- und Emitterzonen und einer wärmeleitenden, elektrisch isolierenden Anordnung, die das Transistorelement trägt und mit dem Sockel mechanisch verbindet, dadurch gekennzeichnet, daß der an sich bekannte elektrisch isolierende Teil (17) einen Kontakt für den Kollektor enthält, der eine ohmsche Verbindung mit der Kollektorzone herstellt, daß ein Ständer (24) aus elektrisch leitendem Matertial unmittelbar neben dem Transistorelement (16) mit einem Ende am Sockel (11) befestigt ist und mit dem anderen Ende neben dem Transistorelement liegt, daß Zuleitungen (26) eine elektrische Verbindung zwischen dem Ständer und der Emitterzone (43) herstellen, derart, daß der Sockel (11) gleichzeitig den Emitteranschluß bildet, und daß Basis- und Kollektorzuleitungen in an sich bekannter Weise isoliert durch den Sockel geführt und mit den Basis- und Kollektorkontakten (46 bzw. 48) verbunden sind.
2. Leistungstransistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Transistorelement aus Silicium besteht, der wärmeleitende elektrisch isolierende Teil (17) schichtenartig derart zusammengesetzt ist, daß zwischen zwei aus Molybdän bestehenden äußeren Scheiben (18 und 19) eine elektrisch isolierende, gut wärmeleitende Oxydschicht liegt, und daß die eine der Molybdänscheiben (19) mit dem Kollektor einen ohmschen Kontakt herstellt und die andere (18) mit dem Sockel (11) verbunden ist.
3. Leistungstransistor nach Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Emitter in eine Mehrzahl voneinander getrennter Zonen (43) unterteilt ist, daß getrennte ohmsche Kontakte (46 a, 46 b usw.) auf jedem der Emitterteile angebracht sind und daß die Basiskontakte (47) in unmittelbarer Nähe der Emitterkontakte liegen, daß auf der oberen Oberfläche des Ständers (22) Wider-Standsmaterial (24) in ohmschem Kontakt mit dem Ständer aufgebracht ist, daß Zuleitungen (26) von jedem der Emitterteile zu dem Widerstandsmaterial führen, so daß ein durch das Widerstandsmaterial gebildeter Serienwiderstand in jeder Emitterzuleitung liegt.
4. Leistungstransistor nach Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß eine Siliciumscheibe vorbestimmter Dicke und mit vorgegebener Verunreinigungskonzentration das Widerstandsmaterial bildet.
5. Leistungstransistor nach Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Emitterzonen eine nach innen weisende, kammartige Struktur besitzen und die Basiszonen fingerartig dazwischenliegen und an jeder Seite des Transistors ein Ständer angeordnet ist.
6. Leistungstransistor nach Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Transistorelemente (16a und 16 b) gemeinsam auf der elekirisch isolierenden wärmeleitenden Schichtenanordnung (17) angebracht sind und über die mit dem Sockel (11) verbundenen Ständer (22) einen gemeinsamen Emitteranschluß haben, daß ein U-förmig geformter Bügel (31) mit beiden offenen Enden (32) mit jedem Kollektor verbunden ist und durch Verbindung mit einem isoliert durch den Sockel geführten Sockelstift (29) einen gemeinsamen Kollektoranschluß herstellt, und daß : .eine C-förmig gebogene, Basiselektrode (27) über den' fingerartigen Transistorstrukturen liegt und durch Verbindung mit einem weiteren isoliert durch den Sockel geführten Sockelstift (34) den gemeinsamen Basisanschluß bildet.
7. Leistungstransistor nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Ständer die beiden Enden (72) eines U-förmig gebogenen Teiles (71) bilden, das mit dem Sockel (11) verbunden ist, den gut wärmeleitenden elektrisch isolierenden Schichtenaufbau (17) mit den Transistorelementen (16) aufnimmt und mit diesen und den entsprechenden elektrischen Verbindungsleitungen (26) einen einheitlichen Montageteil bildet.
DE1564126A 1965-03-08 1966-03-05 Leistungstransistor Expired DE1564126C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US43796065A 1965-03-08 1965-03-08

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1564126A1 DE1564126A1 (de) 1970-01-15
DE1564126B2 true DE1564126B2 (de) 1972-03-23
DE1564126C3 DE1564126C3 (de) 1974-05-22

Family

ID=23738642

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1564126A Expired DE1564126C3 (de) 1965-03-08 1966-03-05 Leistungstransistor

Country Status (5)

Country Link
US (1) US3506886A (de)
DE (1) DE1564126C3 (de)
ES (1) ES323958A1 (de)
GB (1) GB1109211A (de)
NL (1) NL6603046A (de)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL164703C (nl) * 1968-06-21 1981-01-15 Philips Nv Halfgeleiderinrichting, voorzien van een contact met ten minste twee gedeelten en een voor deze gedeelten gemeenschappelijk gedeelte, waarbij in elk der ver- bindingswegen tussen de gedeelten en het gemeenschappe- lijke gedeelte een serieweerstand is opgenomen.
DE1789063A1 (de) * 1968-09-30 1971-12-30 Siemens Ag Traeger fuer Halbleiterbauelemente
US4546374A (en) * 1981-03-23 1985-10-08 Motorola Inc. Semiconductor device including plateless package

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3259814A (en) * 1955-05-20 1966-07-05 Rca Corp Power semiconductor assembly including heat dispersing means
NL101297C (de) * 1956-06-12
US3079254A (en) * 1959-01-26 1963-02-26 George W Crowley Photographic fabrication of semiconductor devices
US3025437A (en) * 1960-02-05 1962-03-13 Lear Inc Semiconductor heat sink and electrical insulator
US3095526A (en) * 1961-02-20 1963-06-25 Philco Corp Semiconductor unit
US3187240A (en) * 1961-08-08 1965-06-01 Bell Telephone Labor Inc Semiconductor device encapsulation and method
US3195026A (en) * 1962-09-21 1965-07-13 Westinghouse Electric Corp Hermetically enclosed semiconductor device
NL296170A (de) * 1962-10-04
US3225261A (en) * 1963-11-19 1965-12-21 Fairchild Camera Instr Co High frequency power transistor

Also Published As

Publication number Publication date
GB1109211A (en) 1968-04-10
DE1564126C3 (de) 1974-05-22
NL6603046A (de) 1966-09-09
US3506886A (en) 1970-04-14
ES323958A1 (es) 1966-11-16
DE1564126A1 (de) 1970-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0590354B1 (de) Anordnung mit einer Leiterplatte, mindestens einem Leistungsbauelement und einem Kühlkörper
DE2619312C2 (de) Halbleiter-Heizelement mit positivem Temperaturkoeffizienten(PTC)
DE2532670C2 (de)
DE69124256T2 (de) Selbstregulierende ptc-anordnungen mit laminar geformten leitenden anschlüssen
DE4000089C2 (de)
DE112006002516T5 (de) Chip-Widertand
DE2337694A1 (de) Halbleitergleichrichteranordnung
EP2407005A1 (de) Elektrische heizung insbesondere für ein hybrid- oder elektrofahrzeug
DE3134074A1 (de) Halbleiterbauelement
DE3590491T1 (de) Elektrische Heizvorrichtung
DE4336564A1 (de) Temperaturwächter
DE3149236C2 (de) Schweißwerkzeug
DE19608858A1 (de) Elektrisches Bauteil
DE19848823A1 (de) NTC-Thermistor
DE1564126C3 (de) Leistungstransistor
EP0484756B1 (de) Widerstandsanordnung in SMD-Bauweise
DE3017750C2 (de) Halbleiterbauelement vom Planar-Epitaxial-Typ mit mindestens einem bipolaren Leistungstransistor
DE1614858C3 (de) Halbleiteranordnung
EP0266783A1 (de) Anzündbauteil
DE1439623B2 (de) Mehrfachtransistor
DE19549097A1 (de) Halbleitergehäuse für die Oberflächenmontage
DE2247882B2 (de) Festkörperbauelement zum thermisch gesteuerten Schalten
DE3615583C2 (de) Schaltungsanordnung
DE1539111B2 (de) Halbleiterbauelement
EP0557753A2 (de) Vorrichtung zum Schützen eines Geräts

Legal Events

Date Code Title Description
SH Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
EHJ Ceased/non-payment of the annual fee