DE1491514C - Time-of-flight tube, especially klystron - Google Patents
Time-of-flight tube, especially klystronInfo
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Description
1 21 2
Die Erfindung betrifft eine langgestreckte Lauf- anderes als Gettermaterial besonders geeignetesThe invention relates to an elongated barrel other than getter material particularly suitable
zeitröhre, insbesondere ein Klystron, mit einer Element der IV,, V. oder VI. Gruppe des Periodi-time tube, especially a klystron, with an element of IV, V. or VI. Group of periodic
im wesentlichen becherförmigen Auffangelektrode sehen Systems der Elemente einschließlich deressentially cup-shaped collecting electrode see system of elements including the
(Kollektor) und einer im Kollektorbereich an- seltenen Erden in Frage.(Collector) and a rare earth in the collector area.
geordneten und gegen den Kollektor isolierten 5 Durch Anschließen eines Vakuum-tlberwachungslonensaugelektrode
(USA.-Patentschrift 2 991 391). Instrumentes an die Ionensaugelektrode ist es äußer-Ferner
ist eine langgestreckte Laufzeitröhre, ins- dem möglich, das Vakuum in der Röhre betriebsbesondere
Klystron, mit asymmetrisch zur Elek- mäßig laufend zu überwachen,
tronenstrahlachse angeordneten lonensaugelektroden Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausbildung
bekannt (USA.-Patentschrift 2 963 605). io äsr Erfindung wird die Ionensaugelektrode gtgen-orderly and insulated from the collector 5 By connecting a vacuum monitoring ion suction electrode (US Pat. No. 2,991,391). It is external to the instrument to the ion suction electrode. Furthermore, an elongated transit time tube is possible, in particular to continuously monitor the vacuum in the tube, especially the klystron, with asymmetrical to the elec- trical,
Ion suction electrodes arranged on the electron beam axis according to a particularly advantageous embodiment known (US Pat. No. 2,963,605). In accordance with the invention, the ion suction electrode is
Bei beiden bekannten Röhren wurde zwair der über dem Kollektor derart negativ vorgespannt, daß
angestrebte Erfolg, im Elektronenstrahl vorhandene die durch das Auftreffen des Elektronenstrahls
Ionen abzusaugen, erreicht, es traten jedoch durch auf der Kollektorinnenwand erzeugten Sejcundärdas
Vorhandensein der lonensaugelektroden andere elektronen weitgehend auf die Kollektorinnenwand
Störungen auf. Bei asymmetrischer Anordnung der 15 zurüc':gelenkt werden, so daß der Rauschpegel der
lonensaugelektroden wurde der Strahl durch das Röhre gegenüber Betrieb ohne eine solche Ionen-Feld
der Ionensaugelektrode gestört, so daß ein Teil saugelektrode sogar noch verringert wird,
des Strahls abgelenkt wurde und auf Teile der Die Erfindung soll an Hand der Zeichnung näher
Röhre aufprallte, so daß bei höheren Leistungen erläuten werden; es zeigtIn both known tubes, the one above the collector was biased so negatively that the desired success of sucking off the ions present in the electron beam as a result of the impact of the electron beam was achieved, but the presence of the ion suction electrodes generated on the inner wall of the collector caused other electrons to largely hit the inner wall of the collector Disturbances on. With an asymmetrical arrangement of the 15 backwards, so that the noise level of the ion suction electrodes, the beam through the tube was disturbed compared to operation without such an ion field of the ion suction electrode, so that a part of the suction electrode is even reduced,
of the beam was deflected and on parts of the The invention is based on the drawing closer to the tube impinged, so that at higher powers will be explained; it shows
örtliche (Jberhitzungeu der Röhre zu erwarten sind 20 Fig. 1 einen Längsschnitt durch einen Zwei-local overheating of the tube is to be expected 20 Fig. 1 is a longitudinal section through a two-
und in jedem Falle aber Sekundärelektronen erzeugt kammer-Klystronoszillator nach der Erfindung,and in any case secondary electrons are generated by the chamber klystronic oscillator according to the invention,
werden, die zu einem höheren Rauschpegel führen. Fig. 2 ein vereinfachtes schematisches Schaltbildleading to a higher noise level. 2 shows a simplified schematic circuit diagram
Dieser Nachteil wurde zwar bei der Röhre ver- des Klystrons nach Fig. 1 undThis disadvantage was admittedly in the case of the tube of the klystron according to FIGS. 1 and
mieden, bei de· die Ionensaugelektrode im Kollek- F i g. 3 den Ionensaugelektrodenstrom (/ c) in Abtorbereich
angeordnet ist. aber auch bei dieser Röhre »5 hängigkeit von der Spannung der Ionensaugelektrode
hat sich gezeigt, daß der Rauschpegel durch das (Ec) für ein Klystron nach Fig. 1.
Vorhandensein der Ionensaugelektrode erheblich er- In Fig. 1 ist ein Zweikammer-Klystronoszillator 1
höht wird dargestellt, der eine Ionensaugelektrode 2 enthältavoided, in which · the ion suction electrode in the collector F i g. 3 the ion suction electrode current (/ c) is arranged in the absorber area. but also in this tube "5 dependence of the voltage of the Ionensaugelektrode has been found that the noise level by the (Ec) for a klystron of FIG. 1.
In FIG. 1, a two-chamber klystronic oscillator 1 is shown which contains an ion suction electrode 2
Ls wurde festgestellt, daß bei einer im Kollektor- die im Bereich des Kollektors 3 angeordnet ist.
bereich angeordneten I r.ensaugelektrode die zwang- 30 Der Kollektor 3 besteht aus einem Hauptkörper
läufig im Koüektorbereich erzeugten Sekundär- 13, vorzugsweise aus Kupfer, mit einer axialen
elektronen durch das Feld der Ionensaugelektrode Hauptbohrung 14 und einer dazu im Winkel anin
den Hauptstrahl zurückfokussi ;rt '-'erden, wo- geordneten Bohrung 15. die zu einem Saugstutzen 16
durch selbstverständlich der Rauschpegel erhöht führt, der mit einem Schutzdeckel 17 abgedeckt isi.
wird. Darüber hinaus trifft bei der bekannten Röhre 35 Ein relativ dicker Ausgangsflansch 38 zusammen mil
der Hauptsirahl auf die Ionensaugelektrode, so daß der Masse des Kollektorhauptkörpers 13 bildet einen
diese selbst noch zusätzliche Sekundärelektronen er- Wärmeleitweg und ermöglicht damit eine Konzeugt,
vcktionskühlung des KlystronsIt was found that in the case of one in the collector, the one in the area of the collector 3 is arranged.
30 The collector 3 consists of a main body running in the Koüektorbereich secondary 13, preferably made of copper, with an axial electron through the field of the ion suction electrode main bore 14 and a back focus at an angle to the main beam; rt '-'erden, properly arranged bore 15, which leads to a suction port 16, which naturally increases the noise level, which is covered with a protective cover 17. will. In addition, in the known tube 35, a relatively thick outlet flange 38 meets the ion suction electrode together with the main sirahl, so that the mass of the collector main body 13 forms an additional secondary electron heat conduction path and thus enables convection cooling of the klystron
Ιλ war dishalb die Aufgabe /u lösen, eine Ionen- In einer Querbohrung 18 und aus der Achse 19Ιλ was dishalb the task / u solve an ion in a cross hole 18 and out of the axis 19
saugelektrode so in der Röhre anzuordnen, daß zwar 40 des Elektronenstrahls herausgesetzt liegt die Ionen-to arrange suction electrode in the tube so that although 40 of the electron beam is exposed, the ionic
die Ionen einwandfrei abgesaugt werden, aber weder saugelektrode 2, die vakuumdicht eingesetzt ist undthe ions are properly sucked off, but neither suction electrode 2, which is inserted vacuum-tight and
Störfelder im Bereich des Hauptstrahls erzeugt wer- aus einer Elektrode 2CL vorzugsweise aus Kovar. bc-Interference fields in the area of the main beam are generated from an electrode 2CL, preferably made from Kovar. bc-
den tioch andere Felder, die Sekundärelektronen in steht, auf der eine knopfartige Spitze 21 aus Titanthe other fields, which are secondary electrons, on which a button-like tip 21 made of titanium
den Hauptstrahl lenken können. sitzt. Fine Schelle 22 aus Stahl od. dgl. und ein mitcan direct the main beam. sits. Fine clamp 22 made of steel or the like. And one with
Die gestellte Aufgabe wird erfindungsgemäß bei 45 einem Flansch versehener Einsatz 23 mit einerThe object set is according to the invention at 45 a flange provided insert 23 with a
einer Röhre der eingangs genannten Art dadurch keramischen Isolierscheibe 24. vorzugsweise ausa tube of the type mentioned at the outset, thereby preferably consisting of ceramic insulating washer 24
gelöst, daß die Ionensaugelektrode in einer seitlichen Tonerde, an die ein Ring 25 aus Kovar od. dgl.solved that the ion suction electrode in a lateral clay to which a ring 25 of Kovar od. Like.
Ausnehmung der Kollektorwand untergebracht ist. angelötet ist. umfassen und tragen die Ionensaug-Recess of the collector wall is housed. is soldered on. embrace and carry the ion suction
Durch im anderen Zusammenhang an sich eben- elektrode 2By, in a different context, actually flat electrode 2
falls bekannte Anordnung der Ionensaugelektrode so Ein Leiter 26 aus Kupfer od. dgl. ist leitend anIf the arrangement of the ion suction electrode is known, a conductor 26 made of copper or the like is conductive
im Kollektorbereich wird die günstigste Wirkung in die Elektrode 20 mit einer Anzapfung 27 ange-In the collector area, the most favorable effect in the electrode 20 is obtained with a tap 27.
bc7iic auf die lonenabsaugung erreicht und außer- schlossen. Eine Silastik-Isolierung 28 und eine topf-bc7iic reached on the ion suction and excluded. A silastic insulation 28 and a pot
dcm vermieden, daß das Feld des Hauptslrahls ge- förtriige Silastik-Kappe 29 bedecken und schützenThis prevents the field of the main beam from being covered and protected by a molded silastic cap 29
stört wird. Durch die asymmetrische Anordnung die üonensaugelektrode 2. Ein Mikroamperemeter 33is disturbing. Due to the asymmetrical arrangement, the ion suction electrode 2. A micro-ammeter 33
der Ionensaugelektrode wird weder der Hauptstrahl 55 ist, wie dargestellt, an den Leiier 26 angeschlossen,the ion suction electrode, neither the main beam 55 is connected to the lyre 26, as shown,
abgefangen, so daß die Ionensaugelektrode nicht Eine extrem einfache Vorspanneinrichtung gemäßintercepted so that the ion suction electrode is not an extremely simple biasing device according to
selbst noch Sekundärelektronen liefert, noch werden Fig. 2. in welcher schematisch die lonensaug-itself still supplies secondary electrons, Fig. 2. in which schematically the ion suction
dic Sekundärelektronen in den Hauptstrahl zurück- elektrode 2, der Kollektor 3, das Hauptgefäß 4 unddic secondary electrons in the main beam back electrode 2, the collector 3, the main vessel 4 and
fokussiert. die Kathode 6 mit der zugehörigen Spannungs-focused. the cathode 6 with the associated voltage
kann die fnnennaugefekirode zum Vakuumpumpen jede gewünschte Spannung Ec gegenüber demthe ennnennaugefekirode for vacuum pumping can have any desired voltage Ec with respect to the
erreicht, daß wenigstens ein Teil der lonensaug- Betriebsspannung E b angezapft wird, die dte Strahl-achieved that at least part of the ion suction operating voltage E b is tapped, the dte beam
fcltktrode aus einem Material besteht, das bei Born- spannung bestimmt, te ist äquivalent dem Ionen*fcltktrode consists of a material that determines at Boron voltage that te is equivalent to the ion *
hardivrung mit Ionen oder Elektronen zerstäubt wird H hardivrung with ions or electrons is atomized H strom, der mit einem Überwachungsinstrument, wieelectricity generated with a monitoring tool, such as
und dann af» gasabsorbierende Substanz wirkt dem Mikroamperemeter 33, gemessen wird, Fluk-and then the gas-absorbing substance acts on the micro-ammeter 33;
(Geiterntdterial); als Oettermateriat kommen vor tuatlonen in Ic bei fester Ec liefern eine Anzeige(Geiterntdterial); as Oettermateriat come before tuatlonen in Ic with fixed Ec provide an indication
altem Strontium und/oder Titan, Zirkon oder ein der Vakuumbedlngungen in der Rohr·. Wenn sichold strontium and / or titanium, zirconium or one of the vacuum conditions in the tube ·. If
491 514491 514
tin kräftiger Anstieg in lc bei fester Ec ergibt, ist bewirken positive Ionen kein erneutes ZerstäubenIf there is a sharp increase in Ic at a fixed Ec , positive ions do not cause re-atomization
das ein sicheres Anzeichen für eine undichte Rühre, der darauf niedergeschlagenen aktiven Moleküle,this is a sure sign of a leaky stirrer, the active molecules deposited on it,
Weil d«e lonensaugfclektrode 2 in der Kollektor- Die Fig, 3 veranschaulicht eine typische Kennhauptbohrung
14 liegt, sind die elektrischen Feld- linie IcIKc für die Röhre nach Fig. I mit Vor-
|inten34, die sich in die Strahlachse 19 und darüber 5 spannung nach Fig. 2. Ersichtlich nimmt bei Verhinaus
erstrecken, für den brauchbaren Teil des änderung der Spannung F-ν der Elektrode 20 mit
Hauptstrahls nicht schädlich, und es ist deshalb Titanspitze 21 zu negativen Spannungen hin die
keine radikale Änderung der Fokussiertechnik er- Elektrode weniger Sekundärelektronen auf und beforderlich,
um deren Einfluß zu kompensieren. Weil ginnt hauptsächlich als lonenabsaugung zu arbeiten,
die Erzeugung von unerwünschten Ionen in Elek- >q wie durch die Änderung der Polarität der Jr-Kenntronenentladungseinrichtungen
direkt mit der Anzahl linie dargestellt ist. Der Ic wächst allmählich bis /u
von Kollisionen zwischen Elektronen und Gas- einem Punkt an, an dem weniger und weniger
molekülen in der Röhre in Beziehung steht und weil Sekundärelekironen die elektrischen Feldlinien um
der Kollektorbereich, wo der Hauptstrahl abgeführt die Elektrode 20 durchdringen. Dadurch wird /1
wird, der Bereich iit, in dem die große Mehrheit »5 kleiner, es wird jedoch nicht nennenswert weniger
der Sekundärelektronen erzeugt wird, und damit der aktives Material auf den Wänden des Kollektors
Bereich, in dem die meisten Ionen erzeugt werden, niedergeschlagen, weil die Elektronen, die wesentlich
ergibt sich durch die Erfindung durch die An- geringere Masse als Ionen haben, eine entsprechend
Ordnung der lonensaugelektrode in dem Bereich, in kleinere Menge des aktiven Materials von der Spitze
dem der Hnnntstrahl auftrifft, ein erhöhter Ionen- 20 21 zerstäuben. Die Ii-Kennlinie fällt allmählich mil
saug Wirkungsgrad. Darüber hinaus wird durch die größerer negativer Vorspannung an der Elektrode-Erfindung
eine zusätzliche Funktion erfüllt, es wer- 20, weil dann weniger und weniger Sekundär
den nämlich die durch das Aufprallen des Haupt- elektronen auf die Spitze 21 aufprallen und ent
Strahls erzeugten Sekundärelektronen daran ge- sprechend weniger und weniger Sekundärelektronen
hindert, in den ausgenutzten Wechselwirkungs'uereich 25 wieder abgestrahlt werden. Es wird angenommen,
der Röhre einzutreten, und zwar durch die Lage der d'ß diese Erklärung theoretisch korrekt ist. dei
elektrischen Feldlinien 34 im Kollektorbereich, die genaue Mechanismus kann jedoch tatsächlich ande-r^
sich aus der Lage einer asymmetrischen, negativ sein, was sich gegebenenfalls bei der weiteren Untcrvortiespannten
lonensaugelektrode im Bereich der suchung der Pump-, Ablenk- und Absaugeffekk
Kollektorhauptbohrung 14 ergibt. Die elektrischen 30 nach der Erfindung ergeben kann. Es bleibt jedoch
Feldlinien 34 sorgen dafür, daß eine Mehrheit der die Tatsache bestehen, daß durch die erfindunys-Sekundärelektronen.
die durch das Aufprallen des gemäße Einrichtung gleichzeitig gepumpt wird. Hauptstrahls auf die küpfernen Kollektonvände er- Ionen abgesaugt werden, Sekundärelektrone'n abv
zeugt werden, gemäß der unterbrochenen Linien 35 lenkt werden und das Vakuum überwacht wird. Der
an die Seitenwand der Hauptbohrung 14 abgelenkt 35 wünschenswerteste oder in Fig. 3 als »günstigster
werden, während sie· gleichzeitig bewirken, daß Betriebsbereich« bezeichnete Bereich ist einfach ein
Ionen im Kollektorbercich angezogen werden. Ionen Konipromißbereich unter Berücksichtigung um
werden .tärker angezogen und in die Titansoitze Überschlagsproblemen bei höheren negativen Spaneingebettet, wenn deren Potential immer stärker nungen an der Elektrode 20.
negativ wird, wie durch die Kennlinie ic Ec gemäß 40 Selbstverständlich kann irgendeine geeignete Vor-Fig.
3 angedeutet wird. Gleichzeitig bewirken diese spannungsschaltung dazu verwendet werden, die
Ionen ein Zerstäuben der Titanspitze, wie noch Vorspannung für Elektrode 20 zu liefern. Weiter ist
näher beschrieben wird. Durch die Erfindung ergibt es offensichtlich, daß die Ionensan»technik nach der
sich also eine erhebliche Herabsetzung in den Erfindung gleicherweise mit Vorteil an jeder F.lek-Dichtennderungcn
des Primärstrahls durch einge- 45 tronenentladungseinrichtung verwendet werden kann
streute wilde Sekundärelektronen und ferner eine wie Wanderfeldröhren, Linearbeschleuniccrn usw
wesentliche Herabsetzung von Ionenoszillationon Ferner kann die ganze Elektrode 20 aus einem
durch das Vorhandensein von Ionen im Primär- aktiven Material bestehen, wie es für die Spitze 2!
strahl, so daß durch beide Verbesserungen eine er- verwendet wird, statt daß gerade nur das Ende der
hebliche Verbesserung des Rauschpegels der Röhre 5° Elektrode mit einem aktiven Material versehen wird,
bewirk, wird. Ein Zweikammer-Klystronoszillator gemäß Fig. 1Because the ion suction electrode 2 is located in the collector, FIG. 3 illustrates a typical characteristic main bore 14, the electric field lines IcIKc for the tube according to FIG The voltage according to Fig. 2. Obviously increases when extending, for the useful part of the change in the voltage F-ν of the electrode 20 with the main beam, and it is therefore titanium tip 21 towards negative voltages that does not radically change the focusing technique fewer secondary electrons and required to compensate for their influence. Because begins to work mainly as an ion extraction, the generation of undesired ions in elec-> q as shown by the change in polarity of the Jr electron discharge devices directly with the number line. The Ic gradually grows to / u from collisions between electrons and gas - a point where fewer and fewer molecules are related in the tube and because secondary electrons penetrate the electric field lines around the collector area where the main beam carried away by the electrode 20. This makes / 1, the area in which the vast majority »5 is smaller, but not significantly less, of the secondary electrons is generated, and thus the active material on the walls of the collector is the area in which most of the ions are generated. because the electrons, which essentially result from the invention, have a lower mass than ions, a corresponding order of the ion suction electrode in the area, in a smaller amount of the active material from the tip on which the inner beam strikes, an increased ionic strength 20 21 atomize. The Ii curve gradually falls with suction efficiency. In addition, the greater negative bias voltage on the electrode invention fulfills an additional function, because then fewer and fewer secondary electrons, namely the secondary electrons generated by the impact of the main electron on the tip 21 and generated by the beam correspondingly fewer and fewer secondary electrons are prevented from being re-emitted into the utilized interaction area 25. It is believed to enter the tube, and indeed by the location of which this explanation is theoretically correct. The electric field lines 34 in the collector area, but the exact mechanism can actually be different from the position of an asymmetrical, negative one, which may result from the further underexposed ion suction electrode in the area of the search for the pump, deflection and suction effect of the main collector bore 14 . The electrical 30 according to the invention can result. It remains, however, field lines 34 ensure that a majority of the fact that by the invention secondary electrons exist. which is pumped at the same time by the impact of the proper device. The main beam onto the copper collector walls, ions are sucked off, secondary electrons are generated, according to the broken lines 35 are deflected and the vacuum is monitored. The most desirable area deflected towards the side wall of the main bore 14 or "most favorable" in FIG. 3 while at the same time causing the operating range "is simply an ion to be attracted to the collector area. Ions in the compromise range, taking into account around, are more strongly attracted and are embedded in the titanium tip with flashover problems in the case of higher negative chips, if their potential becomes stronger and stronger at the electrode 20.
becomes negative, as shown by the characteristic curve ic Ec of FIG. 3 is indicated. At the same time, this voltage circuit is used to provide the ions with a sputtering of the titanium tip, as well as a bias voltage for electrode 20. Next is described in more detail. The invention clearly shows that the ion technology, which results in a considerable reduction in the invention, can be used equally with advantage at every change in density of the primary beam by single electron discharge means scattered wild secondary electrons and also such as traveling wave tubes , Linear accelerators, etc. Substantial reduction in ion oscillationon Furthermore, the entire electrode 20 can consist of a material which is active due to the presence of ions in the primary, as is the case for the tip 2! beam, so that one is used by both improvements, instead of just providing the end of the considerable improvement in the noise level of the tube 5 ° electrode with an active material. A two-chamber klystronic oscillator according to FIG. 1
Die knopfartige Spitze 21 aus aktiven Materialien. wurde aufgebaut und bei 13,3 GHz geprüft mit einer wie Strontium und'oder Titan, Zirkon oder irgend- HF-Ausgangsleistung von 7,7 W. E b von 2200 V einem anderen Übergangselement der IV.. V. oder Gleichspannung, einem Strahls.rom Ib von etwa VI. Gruppe des Periodischen Systems der Elemente 55 Ί6 mA Gleichstrom, einer Heizspannung von 6.3 V einschließlich der seltenen Erden, wird in geeigneter und einer Ec, die zwischen 100 und 2000 V Weise an der Elektrode 20 befestigt. Positive Ionen, Gleichspannung geändert wurde. Tonfrequenzen im die von der Spitze 21 auf Grund ihres negativen Bereich von 60 bis 10 000 Hz bei 50 VefT. Potentials angezogen werden, bewirken eine Auf- wurden auf den Ionenkollektor eines Zweikammerlösung oder ein Zerstäuben des Materials der Spitze 60 Oszillators gemäß F i g. 1 gegeben und die an- 21, so daß dessen Moleküle auf den Wänden der gegebenen elektrischen Parameter verwendet; es KoHektotliauptbohrung 14 niedergeschlagen werden. wurde eine Titanspitze auf der lonensaugelektrode Diese reagierenden Moleküle absorbieren durch benutzt. Es war unmöglich, irgendwelche Frequenz-Fallen- und Getterfnnktton auf ihrem Weg und nach oder Amplitudenahweichungen im Träger, 13.3 OHz. ihrpm Niederschlag auf den Wänden des Kollektors 65 zu messen, wodurch verdeutlicht wird, daß die nor- freie Oasmoleküle in der Röhre, so daß ein kon- malen elektrischen Röhrenparameter durch die ünuierlicher Pumpprozeß erha'ten wird. Weil die Hinzufügung der lonensaugelektrode nicht beeinflußt Kollektorwände auf positivem Potential Eb liegen, werden. Darüber hinaus wurde das vollständige The button-like tip 21 made of active materials. was set up and tested at 13.3 GHz with a like strontium and'or titanium, zirconium or any- HF output power of 7.7 W. E b of 2200 V another transition element of IV .. V. or direct voltage, a beam .rom Ib from about VI. Group of the Periodic Table of the Elements 55 Ί6 mA direct current, a heating voltage of 6.3 V including the rare earths, is attached to the electrode 20 in a suitable manner and an Ec between 100 and 2000 V manner. Positive ions, DC voltage has been changed. Tone frequencies in the range of tip 21 due to their negative range of 60 to 10,000 Hz at 50 VefT. Potential are attracted, cause an up on the ion collector of a two-chamber solution or a sputtering of the material of the tip 60 oscillator according to FIG. 1 given and the an- 21 so that its molecules are used on the walls of the given electrical parameters; KoHektotlia main borehole 14 will be knocked down. a titanium tip was used on the ion suction electrode. These reacting molecules absorb through. It was impossible to detect any frequency trapping and gettering tones on their way or after or amplitude deviations in the carrier, 13.3 OHz. Their precipitation on the walls of the collector 65 is measured, which makes it clear that the normal-free oas molecules in the tube, so that a common electrical tube parameter is obtained by the more thorough pumping process. Because the addition of the ion suction electrode does not affect the collector walls are at positive potential Eb . In addition, the full
t 491t 491
Fehlen von irgendwelchen kohärenten Frequenz- »Pips« auf Grund von tonenoszillationen im Seltenband-Spektrum der Ausgangsfrequenz eines Zweikiinimcr-Klystronoszillalors gemäß Pig. 1 unter Verwendung einer tonensaugelektrode 2 beobachtet, die auf Oleichpotentialen arbeitete, und das statistische Rauschen im Seitenbandspektrum war geringer als das in einem ähnlichen Zweikarnttier-Ktystronoszillator ohne die tonensaugelektföde.Lack of any coherent frequency "Pips" due to tone oscillations in the rare band spectrum of the output frequency of a two-inch klystronic oscillator according to Pig. 1 using a clay suction electrode 2 observed the worked at equal potentials and the statistical noise in the sideband spectrum was less than that in a similar two-carved animal ctystronic oscillator without the tonensuckektföde.
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