DE1222940B - Process for the production of a printing form by etching - Google Patents
Process for the production of a printing form by etchingInfo
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 26
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 19
- QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N Carbon disulfide Chemical compound S=C=S QGJOPFRUJISHPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 9
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 claims description 8
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 3
- 229960005265 selenium sulfide Drugs 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 9
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012822 chemical development Methods 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical group *[Se]* 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- -1 silver halogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003463 sulfur Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
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-
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0042—Photosensitive materials with inorganic or organometallic light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. inorganic resists
- G03F7/0043—Chalcogenides; Silicon, germanium, arsenic or derivatives thereof; Metals, oxides or alloys thereof
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL
Int. CL:Int. CL:
B41cB41c
Deutsche Kl.: ISb-1/01German class: ISb-1/01
Nummer: 1222 940Number: 1222 940
Aktenzeichen: P 26567 VI b/15 bFile number: P 26567 VI b / 15 b
Anmeldetag: 13. Februar 1961Filing date: February 13, 1961
Auslegetag: 18. August 1966Opening day: August 18, 1966
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Druckform durch Ätzen.The invention relates to a method for producing a printing form by etching.
Zweck der Erfindung ist es, das Verfahren so zu leiten, daß keine lichtempfindliche Substanz verwertet wird, welche die Lagerfähigkeit der Druckplatte beeinträchtigt, und daß weiterhin eine Kontrolle des Bildes während des Ätzvorganges möglich ist.The purpose of the invention is to direct the process in such a way that no photosensitive substance is used which affects the shelf life of the printing plate, and that continues to control the image is possible during the etching process.
Es ist bekannt, Druckplatten zu belichten und anschließend eine chemische Entwicklung durchzuführen, um die Auflösung des Silberhalogens zu erreichen, welches die empfindliche Oberfläche bildet. Nach diesem bekannten Verfahren sind die belichteten Zonen gewöhnlich so beeinflußt, daß die Oberfläche undurchlässig wird und daher ein Bild oder einen Ätzgrund in den belichteten Zonen darstellt. Diese belichteten Zonen sind in Lösungsmitteln weniger löslich. Diese Methoden sind verhältnismäßig teuer, da zuerst eine Oberfläche hergestellt werden muß, auf welcher der Ätzgrund gebildet wird, worauf dann die Ätzung oder Auflösung durchgeführt wird. Das Aufbringen des Ätzgrundes auf die Oberfläche bedingt normalerweise ein photographisches Verfahren, welches seinerseits von der mehr oder weniger groben bzw. feinen Körnung abhängig ist.It is known to expose printing plates and then to carry out chemical development, to dissolve the silver halogen which forms the sensitive surface. According to this known method, the exposed zones are usually so influenced that the surface becomes impermeable and therefore represents an image or an etching base in the exposed areas. These exposed areas are less soluble in solvents. These methods are proportionate expensive, since a surface must first be produced on which the etching base is formed, whereupon the etching or dissolution is carried out will. The application of the etching base to the surface usually requires a photographic one Process, which in turn depends on the more or less coarse or fine grain size.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Herstellung von Druckplatten oder einer lithographischen Flachdruckform od. dgl. zu vereinfachen, die Bildkörnung auf das durch das Original bedingte Mindestmaß zu beschränken und ein unmittelbar wirkendes Verfahren zu erreichen.The object of the invention is the production of printing plates or a lithographic planographic printing form od. The like. To simplify the image grain to the minimum required by the original limit and achieve an immediate process.
Die Lösung der Aufgabe nach der Erfindung besteht darin, daß eine mit einer Deckschicht versehene Druckplatte mit einem bei Lichteinwirkung wirksamen Lösungsmittel für die Schicht bedeckt wird, die belichteten Teile der Deckschicht herausgelöst werden und das so erhaltene Bild als Ätzgrund für die nachfolgende Ätzung des Druckplattenmaterials verwendet wird.The solution to the problem according to the invention is that one provided with a top layer The printing plate is covered with a solvent for the layer that is effective when exposed to light, the exposed parts of the cover layer are dissolved out and the image thus obtained as an etching base for the subsequent etching of the printing plate material is used.
Nach diesem neuen Verfahren wird keine lichtempfindliche Substanz verwendet. Eine Kontrolle des Bildes während seiner Entstehung ist möglich, und das Verfahren erzeugt unmittelbar den Ätzgrund, der für die nachfolgende Ätzung des Druckplattenmaterials verwendet wird.No photosensitive substance is used in this new process. A control of the Image during its creation is possible, and the process directly creates the etching base, the is used for the subsequent etching of the printing plate material.
Die photoleitfähige Schicht und das diese Schicht beeinflussende Licht können in verschiedenster Weise aufeinander abgestimmt sein.The photoconductive layer and the light influencing this layer can be used in the most varied of ways be coordinated.
Eine Möglichkeit ist, daß die empfindliche Oberfläche ein lichtelektrischer Leiter ist und die Belichtung von einer ultravioletten oder infraroten Quelle erzeugt wird.One possibility is that the sensitive surface is a photoelectric conductor and the exposure generated by an ultraviolet or infrared source.
Eine andere Ausführung besteht darin, daß die Verfahren zur Herstellung einer Druckform
durch ÄtzenAnother embodiment is that the method for producing a printing form
by etching
Anmelder:Applicant:
Photoelectric Limited, Adelaide (Australien)Photoelectric Limited, Adelaide (Australia)
Vertreter:Representative:
Dr.-Ing. G. Riebling, Patentanwalt,
Lindau (Bodensee), Rennerle 10Dr.-Ing. G. Riebling, patent attorney,
Lindau (Lake Constance), Rennerle 10
Als Erfinder benannt:Named as inventor:
Peter Alan MacGillivray, Croydon ParkPeter Alan MacGillivray, Croydon Park
(Australien)(Australia)
Beanspruchte Priorität:Claimed priority:
Australien vom 15. Februar 1960 (57 472)Australia February 15, 1960 (57 472)
empfindliche Oberfläche Selen und das Lösungsmittel Schwefelkohlenstoff ist.sensitive surface is selenium and the solvent is carbon disulfide.
Statt des Schwefelkohlenstoffs kann als Lösungsmittel auch Trichloräthylen verwendet werden.
Für die vom Selen gebildete Oberfläche kann als Lösungsmittel auch Perchloräthylen verwendet
werden.Instead of carbon disulfide, trichlorethylene can also be used as a solvent.
Perchlorethylene can also be used as a solvent for the surface formed by selenium.
Weitere Kombinationen bestehen darin, daß die empfindliche Oberfläche Gummi und das Lösungsmittel Zyklohexan ist.Other combinations are that the sensitive surface is rubber and the solvent Cyclohexane is.
Ferner kann für die Oberfläche amorpher Schwefel und als Lösungsmittel Perchloräthylen verwendet werden.Amorphous sulfur can also be used for the surface and perchlorethylene can be used as a solvent.
Es ist ferner möglich, die empfindliche Oberfläche oder die Grundlage wasseraufnahmefähig zu machen, während die andere Oberfläche Druckfarbe aufnehmen kann, um so eine Offsetplatte zu bilden.It is also possible to make the sensitive surface or the base water-absorbent, while the other surface can receive ink to form an offset plate.
Nach der Erfindung kann jedes sensitive MaterialAccording to the invention, any sensitive material
auf ähnliche Weise eingesetzt werden, soweit es nur durch eine Form von Strahlung aktiviert werden kann und das Lösungs- oder Ätzmittel während dieser Aktivierung gegenwärtig ist und angewendet wird.can be used in a similar manner, insofar as it can only be activated by some form of radiation and the solvent or etchant is present and applied during this activation.
Die Erfindung wird im einzelnen mit Bezug auf die Zeichnungen beschrieben. In diesen Zeichnungen zeigtThe invention will be described in detail with reference to the drawings. In these drawings shows
F i g. 1 in einem Diagramm die Aktivierung derF i g. 1 shows the activation of the
Auflösung durch ein Diapositiv mit Hilfe von Licht, F i g. 2 eine Teilansicht des Positivs und der PlatteDissolution through a slide with the help of light, FIG. Figure 2 is a partial view of the positive and the plate
bei der Behandlung, wobei die Lösung der Plattenoberfläche teilweise vollendet ist,during the treatment, in which the dissolution of the plate surface is partially complete,
F i g. 3 schematisch die Projektion eines Bildes,
F i g. 4 ein anderes Projektionssystem.F i g. 3 schematically the projection of an image,
F i g. 4 another projection system.
609 610/15609 610/15
Die Ausführungsform nach Fig. 1 und 2 besitzt eine Schale 1 mit einer Lösungsflüssigkeit 2, in welche die Platte so eingelegt wird, daß sie vollkommen eintaucht. The embodiment according to FIGS. 1 and 2 has a shell 1 with a dissolving liquid 2 into which the plate is inserted so that it is completely immersed.
Die Platte 3, welche transparent sein kann, hat eine sensitive Oberfläche 4, welche ein lichtelektrischer Leiter, beispielsweise Selen, sein kann.The plate 3, which can be transparent, has a sensitive surface 4, which is a photoelectric Conductor, for example selenium, can be.
Ein Diapositiv 5 wird durch an sich bekannte Mittel knapp über der sensitiven Fläche 4 der Platte 3 so gehalten, daß die Lösungsflüssigkeit 2 während des Lösungsvorganges frei über die Plattenfläche strömen kann.A slide 5 is just above the sensitive surface 4 of the plate 3 by means known per se held so that the solution liquid 2 flow freely over the plate surface during the dissolution process can.
Eine punktförmige Lichtquelle 6 ist über der Schale 1 angeordnet und wirft ihren Lichtstrahl durch das Diapositiv 5 auf die entsprechenden Zonen, um das auf die Platte 3 auffallende Licht zu modulieren. A point light source 6 is arranged above the shell 1 and casts its light beam through the slide 5 onto the corresponding zones in order to modulate the light incident on the plate 3.
In F i g. 2 ist die Zone 7 des Diapositivs 5 undurchsichtig, während die Zone 8 sich in ihrer Durchlässigkeit von einem Ende aus zum anderen ändert. Die Zone 9 der Platte 3 zeigt die gegen Licht abgeschirmte Zone, während Zone 10, deren Dicke allmählich abnimmt, die Wirkung der abnehmenden Lichtundurchlässigkeit der Zone 8 des Diapositivs 5 zeigt. In Fig. 2 wird die Lösung fortgesetzt. Der dünne Film, der auf der sensitiven Fläche 4 bei 11 gezeigt ist, wird allmählich abgetragen. Dabei zeigt es sich, daß die abgeschirmte Zone 9 ihre Dicke beibehält, so daß sich die Änderungen in der Deckkraft des Diapositivs 5 in entsprechenden Dickenänderungen des sensitiven Belags 4 der Platte 3 ausdrücken.In Fig. 2, the zone 7 of the slide 5 is opaque, while the zone 8 differs in its transparency changes from one end to the other. Zone 9 of plate 3 shows that which is shielded from light Zone, while zone 10, the thickness of which is gradually decreasing, the effect of decreasing Opacity of zone 8 of slide 5 shows. In Fig. 2 the solution is continued. Of the thin film shown on the sensitive surface 4 at 11 is gradually removed. It shows it is that the shielded zone 9 maintains its thickness, so that the changes in the opacity of the slide 5 in corresponding changes in the thickness of the sensitive covering 4 of the plate 3.
In der Ausführungsform nach F i g. 3 enthält die Schale 14 das Lösungsmittel 15, und die Platte 16 mit ihrer sensitiven Oberfläche 17 wird in das Lösungsmittel 15 in der Schale 14 so eingelegt, daß sie davon bedeckt ist.In the embodiment according to FIG. 3 contains the Dish 14 the solvent 15, and the plate 16 with its sensitive surface 17 is in the solvent 15 inserted in the shell 14 so that it is covered by it.
Das Bild wird auf die Fläche 17 durch das Diapositiv 18 mittels einer Lampe 19 und einer Linse 20 geworfen, wobei der Auszug 21 das Fokussieren gestattet. The image is shown on the surface 17 through the slide 18 by means of a lamp 19 and a lens 20 thrown, the extension 21 allowing focusing.
In der Ausführungsform nach F i g. 4 wird das Bild vom Original 22 über den Spiegel 23 und die Linse 24 auf die Fläche 25 der Platte 26 projiziert, wobei die Platte 26 im Lösungsmittel 27 in der Schale 28 untergetaucht ist. Der Auszug 29 dient zum Fokussieren des Bildes. Das Original moduliert hier das auf die Fläche 25 einfallende Licht.In the embodiment according to FIG. 4 is the image from the original 22 via the mirror 23 and the Lens 24 is projected onto the surface 25 of the plate 26, the plate 26 in the solvent 27 in the dish 28 is submerged. The excerpt 29 is used to focus the image. The original modulates that here light incident on the surface 25.
Zur Veranschaulichung des Verfahrens und seiner Durchführungsmöglichkeiten mögen die folgenden Beispiele dienen.To illustrate the process and how it can be carried out, the following may be used Examples serve.
Beispiel I
Selen und SchwefelkohlenstoffExample I.
Selenium and carbon disulfide
Eine Platte aus feinstem Gravierzink, ein Fabrikat der »Century Storage Battery Company«, Alexandria, Neusüdwales, Australien, wurde mit 10%iger Sodalösung vollkommen entfettet; nach Spülung mit Wasser wurde die Oberfläche der Zinkplatte mit 5%>iger saurer Scheidewasserlösung dekapiert, um eine geeignete Oberfläche zu schaffen. Dann wurde die Platte wieder mit Wasser gründlich abgespült; dies wurde mit destilliertem Wasser wiederholt. Schließlich wurde mit Heißluft getrocknet.A plate made of the finest engraving zinc, a make of the "Century Storage Battery Company", Alexandria, New South Wales, Australia, was completely degreased with 10% soda solution; after rinsing with Water, the surface of the zinc plate was pickled with 5% acidic separating water solution to create a suitable surface. Then the plate was rinsed again thoroughly with water; this was repeated with distilled water. Finally, it was dried with hot air.
Dann wurde ein amorpher Selenbelag von 2 mm Dicke auf die Zinkplatte durch das an sich bekannte Hochvakuumverfahren bei einem Höchstdruck von ΙΟ"4 Torr aufgedampft.An amorphous selenium coating 2 mm thick was then vapor-deposited onto the zinc plate by the high-vacuum process known per se at a maximum pressure of ΙΟ " 4 Torr.
Diese Selenplatte wurde in ein Bad aus Kohlenbisulfid eingelegt, das bei 45° C gehalten wurde. Über der Selenplatte wurde eine Platte mit einem photographischen Bild derart befestigt, daß diese Glasplatte von der Selenplatte einen Abstand von 1,58 mm hatte, diese jedoch nicht berührte. Natürlich könnte das Bild auch auf andere Art, wie beispielsweise nach F i g. 3 oder 4, reproduziert werden.This selenium plate was immersed in a bath of carbon bisulfide inserted, which was kept at 45 ° C. A plate with a photographic image attached so that this glass plate from the selenium plate a distance of 1.58 mm but did not touch it. Of course, the image could be in other ways, such as according to FIG. 3 or 4, can be reproduced.
Bei Einwirkung von elektromagnetischen Wellen aus einer Ultraviolettlampe mit 300 W Leistung, die in einer Entfernung von 280 mm vom Selen befestigt war, wurde das Selen in den nicht abgeschirmten Zonen in ungefähr einer Minute herausgelöst. Dies fand nur in den nicht abgeschirmten Zonen statt, so daß das Selen eine genaue Abbildung des Originals zeigte, wie in F i g. 2 dargestellt.When exposed to electromagnetic waves from an ultraviolet lamp with 300 W power, the was fixed at a distance of 280 mm from the selenium, the selenium in the unshielded Zones removed in about a minute. This only took place in the unshielded zones, so that the selenium showed an exact image of the original, as shown in FIG. 2 shown.
Beispiel II
Selen und TrichloräthylenExample II
Selenium and trichlorethylene
Ein Selenbelag, hergestellt wie im Beispiel I, wurde in ein Bad aus Trichloräthylen eingelegt, das auf 56° C erwärmt und gehalten wurde. Über dieser Selenplatte wurde eine dünne Glasplatte mit einem photographischen Bild derart befestigt, daß sie von der ersteren einen Abstand von 1,58 mm hatte und diese nicht berührte. Unter Einwirkung von elektromagnetischen Wellen aus einer Infrarot-Lampe mit 250W Leistung in einer Entfernung von 280 mm von der Selenfläche wurde das Selen in den nicht abgeschirmten Zonen in etwa 30 Minuten aufgelöst, so daß ein genaues Abbild des Originals im Selen entstand. A selenium coating, prepared as in Example I, was placed in a bath made of trichlorethylene, the was heated to 56 ° C and held. A thin glass plate with a attached to the photographic image so as to be 1.58 mm apart from the former and this did not touch. Under the action of electromagnetic waves from an infrared lamp with 250W power at a distance of 280 mm from the selenium surface was the selenium in the unshielded Zones dissolved in about 30 minutes, so that an exact copy of the original in the selenium was created.
Beispiel III
Selen und PerchloräthylenExample III
Selenium and perchlorethylene
Ein Selenbelag, hergestellt wie im Beispiel I, wurde in ein Bad aus Perchloräthylen eingelegt, das auf 70° C erwärmt und gehalten wurde. Über dieser Selenplatte wurde eine dünne Glasplatte mit einem photographischen Bild derart befestigt, daß sie von der ersteren einen Abstand von 1,58 mm hatte und diese nicht berührte. Unter Einwirkung von elektromagnetischen Wellen aus einer Infrarotlampe von 250W Leistung in einer Entfernung von 280 mm von der Selenfläche wurde das Selen in den nicht abgeschirmten Zonen in etwa 40 Minuten gelöst.A selenium coating, prepared as in Example I, was placed in a bath made of perchlorethylene, which on 70 ° C was heated and held. A thin glass plate with a attached to the photographic image so as to be 1.58 mm apart from the former and this did not touch. Under the action of electromagnetic waves from an infrared lamp from 250W power at a distance of 280 mm from the selenium surface, the selenium in the was not shielded zones resolved in about 40 minutes.
Beispiel IV
Gummi und ZyklohexanExample IV
Rubber and cyclohexane
Ein dünner Grundfilm wurde hergestellt, indem eine Dunloplösung in Benzin mit Trichloräthylen verdünnt wurde, um eine Lösung von 20 Volumprozent der ursprünglichen Lösung herzustellen. Dieses Präparat wurde gleichmäßig auf eine hochfeine Zinkplatte der im Beispiel I erwähnten Art und Herkunft aufgebracht, nachdem diese mit 2O°/oiger Sodalösung entfettet und nach Spülen in Wasser mit einer 5°/oigen Scheidewasserlösung unter laufendem Wasser dekapiert worden war. Die Zinkplatte wurde gründlich in destilliertem Wasser gespült und in Heißluft getrocknet.A thin base film was made by adding a Dunlop solution in gasoline with trichlorethylene was diluted to make a solution of 20 volume percent of the original solution. This preparation was evenly on a very fine zinc plate of the type mentioned in Example I and Origin applied after this was degreased with 20% soda solution and after rinsing in water with a 5% separation water solution had been picked up under running water. The zinc plate was rinsed thoroughly in distilled water and dried in hot air.
Nachdem der Gummifilm auf der vorbereiteten Zinkplatte 24 Stunden lang getrocknet hatte, wurde diese in ein auf 56° C gehaltenes Bad von Zyklohexan eingelegt.After the rubber film had dried on the prepared zinc plate for 24 hours, this is placed in a bath of cyclohexane kept at 56 ° C.
Eine dünne Glasplatte mit einem photographischen Bild wurde 1,58 mm über der gummibelegten Platte so befestigt, daß sie diese nicht berührte. Unter der Einwirkung von elektromagnetischen Wellen aus einer Ultraviolettlampe von 300 W in einer Entfernung von 280 mm während einer Zeit von 8 Minuten wurde der Gummibelag in den nicht abgeschirmten Zonen aufgelöst, so daß ein genaues Abbild im Gummi zustande kam.A thin glass plate with a photographic image was placed 1.58 mm above the rubber-coated plate fastened so that it does not touch them. Made under the action of electromagnetic waves an ultraviolet lamp of 300 W at a distance of 280 mm for a period of 8 minutes the rubber covering was dissolved in the unshielded zones, so that an exact image in the Rubber came about.
IOIO
Beispiel V
Schwefel und PerchloräthylenExample V
Sulfur and perchlorethylene
Eine Zinkplatte der oben beschriebenen Art wurde auf die bereits erwähnte Art und Weise entfettet, gereinigt und nach Behandlung in einem Netzmittel sowie gründlichem Waschen in destilliertem Wasser in Heißluft getrocknet.A zinc plate of the type described above was degreased in the manner already mentioned, cleaned and after treatment in a wetting agent and thorough washing in distilled water dried in hot air.
Eine amorphe Schwefelschicht von etwa 1 mm Dicke wurde auf die vorbereitete Zinkplatte in an sich bekannter Weise unter einem Vakuum von maximal 10~4Torr aufgedampft. Die derart zubereitete Schwefelplatte wurde in ein auf 70° C gehaltenes Bad aus Perchloräthylen eingelegt. Über dieser Schwefelplatte wurde eine dünne Glasplatte mit einem photographischen Bild in einer Entfernung von 1,58 mm derart befestigt, daß sie erstere nicht berührte. Unter der Einwirkung von elektromagnetischen Wellen aus einer Infrarotlampe von 250W in einer Entfernung von 280 mm über dem Schwefelbelag löste sich der Schwefel in den nicht abgeschirmten Zonen nach einer Zeit von einer Stunde auf, so daß ein genaues Abbild des Originals im Schwefel zustande kam.An amorphous sulfur layer of about 1 mm in thickness was deposited on the prepared zinc plate in a known manner under a vacuum of not more than 10 -4 Torr. The sulfur plate prepared in this way was placed in a bath of perchlorethylene kept at 70.degree. A thin glass plate with a photographic image was attached over this sulfur plate at a distance of 1.58 mm so as not to touch the former. Under the action of electromagnetic waves from an infrared lamp of 250W at a distance of 280 mm above the sulfur coating, the sulfur in the unshielded zones dissolved after a period of one hour, so that an exact image of the original in the sulfur was obtained.
Wie aus diesen Beispielen klar hervorgeht, kann die Oberfläche differentiell je nach der Intensität der elektromagnetischen Wellen gelöst werden; solche Wellen können Lichtwellen im sichtbaren und unsichtbaren Bereich sein. Die einzige Anforderung ist, daß die elektromagnetischen Wellen das Bild auf die Oberfläche projizieren, während die Ätzung vor sich geht. Die Erfindung ist dabei nicht auf die gewöhnlich als Photoleiter bezeichneten empfindlichen Oberflächen beschränkt, wie dies am Beispiel des Gummis verdeutlicht wurde. Erfindungsgemäß hat sich gezeigt, daß mit dem richtigen Lösungsmittel auf der zu ätzenden Oberfläche bei Projektion eines Musters mittels elektromagnetischer Wellen eine Differentialätzung zustande kommt, wobei die größte Auflösung dort stattfindet, wo die elektromagnetischen Wellen am wirksamsten sind.As is clear from these examples, the surface can be differentially depending on the intensity of the electromagnetic waves are released; Such waves can be light waves in the visible and invisible Be area. The only requirement is that the electromagnetic waves affect the image Project surface while the etch is in progress. The invention is not limited to the ordinary Sensitive surfaces known as photoconductors are limited, as demonstrated by the example of rubber was made clear. According to the invention it has been shown that with the right solvent on the too etching surface when a pattern is projected by means of electromagnetic waves comes about, with the greatest resolution taking place where the electromagnetic waves are most effective.
Bei Anwendung der Erfindung auf die Anfertigung von Druckstöcken kann das Bild auf die sensitive Oberfläche in seitenverkehrter Form oder anderweitig mittels eines Diapositivs nach F i g. 1 und 5 oder durch Spiegelwirkung wie in F i g. 4 geworfen werden. Die Fläche wird dabei entweder gelöst, um so eine Offset- oder Gummidruckplatte herzustellen, oder im Fall von Druckstöcken weiter geätzt.When applying the invention to the production of printing blocks, the image can be on the sensitive Surface in a reversed form or otherwise by means of a slide according to FIG. 1 and 5 or by mirror effect as in FIG. 4 are thrown. The area is either solved in order to to produce an offset or rubber printing plate, or in the case of printing blocks, further etched.
Die Wirkung ist derart, daß die nicht abgeschirmten Zonen aufgelöst werden, wenn das Licht bzw. die elektromagnetischen Wellen auf die sensitive Fläche auffallen, während das Bild unaufgelöst bleibt, um den Auftrag der Druckfarben anzunehmen.The effect is such that the unshielded zones are dissolved when the light or the electromagnetic waves strike the sensitive surface while the image remains unresolved to accept the order of the printing inks.
Im Fall eines dünnen Selenbelages auf einer Zinkplatte od. dgl. wird das Selen von den bildlosen Zonen weggeätzt, und normales Ätzen kann dann durchgeführt werden.In the case of a thin layer of selenium on a zinc plate or the like, the selenium is different from the non-image Zones are etched away and normal etching can then be performed.
Bei Gummiplattendruck oder Offsetdruck kann der Grund wasseraufnahmefähig sein, so daß das Selenbild die Druckfarbe aufnimmt und die Platte außer der bereits beschriebenen Behandlung keine weitere benötigt.In the case of rubber plate printing or offset printing, the ground can be water-absorbent, so that Selenium image absorbs the printing ink and the plate, apart from the treatment already described, does not more needed.
Dies ermöglicht die Herstellung der Platte mit bedeutender Einsparung an Zeit und erfordert nur die Projektion des Bildes auf das im Lösungsmittel eingetauchte Selen.This enables the panel to be manufactured with a significant saving in time and requires only that Projection of the image onto the selenium immersed in the solvent.
Claims (9)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AU57472/60A AU240111B2 (en) | 1960-02-15 | Differential solution of surf aces |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1222940B true DE1222940B (en) | 1966-08-18 |
Family
ID=3742847
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEP26567A Pending DE1222940B (en) | 1960-02-15 | 1961-02-13 | Process for the production of a printing form by etching |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE1222940B (en) |
| GB (1) | GB968141A (en) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3377169A (en) * | 1965-03-30 | 1968-04-09 | Du Pont | Copper thallium and lead halide and pseudohalides photosoluble crystals |
| BE687248A (en) * | 1966-09-22 | 1967-03-22 | ||
| US3637383A (en) * | 1966-11-03 | 1972-01-25 | Teeg Research Inc | Radiation-sensitive elements and etch processes using the same |
| US3663224A (en) * | 1966-11-03 | 1972-05-16 | Teeg Research Inc | Electrical components, electrical circuits, and the like, and methods for making the same by means of radiation sensitive elements |
| US3637378A (en) * | 1966-11-03 | 1972-01-25 | Teeg Research Inc | Radiation-sensitive element, provided with flexible base and methods for exposing and processing the same |
| US3637377A (en) * | 1966-11-03 | 1972-01-25 | Teeg Research Inc | Method for making a pattern on a support member by means of actinic radiation sensitive element |
| US3637379A (en) * | 1967-06-20 | 1972-01-25 | Teeg Research Inc | Method for making a relief pattern by means of electromagnetic radiation and heat-sensitive elements |
| US3650743A (en) * | 1967-10-06 | 1972-03-21 | Teeg Research Inc | Methods for making lithographic offset plates by means of electromagnetic radiation sensitive elements |
| IL39459A (en) * | 1971-05-17 | 1976-01-30 | Energy Conversion Devices Inc | Method for producing images |
-
1961
- 1961-02-06 GB GB430761A patent/GB968141A/en not_active Expired
- 1961-02-13 DE DEP26567A patent/DE1222940B/en active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB968141A (en) | 1964-08-26 |
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