DE1214806B - Photoempfindlicher Feld-Effekt-Unipolar-transistor und seine Betriebsschaltung - Google Patents
Photoempfindlicher Feld-Effekt-Unipolar-transistor und seine BetriebsschaltungInfo
- Publication number
- DE1214806B DE1214806B DEJ19162A DEJ0019162A DE1214806B DE 1214806 B DE1214806 B DE 1214806B DE J19162 A DEJ19162 A DE J19162A DE J0019162 A DEJ0019162 A DE J0019162A DE 1214806 B DE1214806 B DE 1214806B
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- transistor according
- layer
- field effect
- light
- operating circuit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005669 field effect Effects 0.000 title description 22
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 3
- 239000011324 bead Substances 0.000 claims description 3
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N lead tin Chemical compound [Sn].[Pb] LQBJWKCYZGMFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 229910052754 neon Inorganic materials 0.000 description 6
- GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N neon atom Chemical compound [Ne] GKAOGPIIYCISHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 5
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 206010012289 Dementia Diseases 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001245 Sb alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 239000002140 antimony alloy Substances 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000013642 negative control Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000013641 positive control Substances 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F30/00—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors
- H10F30/20—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors
- H10F30/21—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
- H10F30/28—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices being characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistors
- H10F30/285—Individual radiation-sensitive semiconductor devices in which radiation controls the flow of current through the devices, e.g. photodetectors the devices having potential barriers, e.g. phototransistors the devices being sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation the devices being characterised by field-effect operation, e.g. junction field-effect phototransistors the devices having PN homojunction gates
- H10F30/2863—Field-effect phototransistors having PN homojunction gates
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D99/00—Subject matter not provided for in other groups of this subclass
Landscapes
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOIl
Deutsche Kl.: 21 g - 29/10
Nummer: 1214 806
Aktenzeichen: J19162 VIII c/21 g
Anmeldetag: 16. Dezember 1960
Auslegetag: 21. April 1966
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf lichtempfindliche Halbleitervorrichtungen, insbesondere
auf solche vom Feldeffekttyp. In der Halbleitertechnik kennt man bereits seit langem die Erscheinung
der Photoleitung. Es wurden auch Photodioden in Form von Spitzen- und Flächendioden hergestellt, bei
denen sowohl das Ziehverfahren als auch die Legierungsmethode zur Anwendung gelangten. Bei den
bisher bekannten Vorrichtungen bewirkt ein auf eine PN-Schicht einwirkender Lichtstrom eine Änderung
des die Schicht durchsetzenden Stromes. Die erzielten Empfindlichkeiten liegen bei Werten bis zu 30 mA/Lumen.
Wenn diese Empfindlichkeit auch für die meisten Zwecke ausreicht, so gibt es doch in der Elektronik-Anwendungsgebiete,
die eine höhere Empfindlichkeit wünschenswert erscheinen lassen.
Weiterhin wurden auch Phototransistoren sowie Sperrschichtphotoelemente zur Umwandlung von
Strahlung in elektrische Energie bekannt. Bei den genannten Bauelementen ist der im folgenden näher
beschriebene Effekt im allgemeinen am Leitungsmechanismus unbeteiligt.
Bekannt sind ebenfalls Feldeffekttransistoren. Eine solche Vorrichtung besteht gewöhnlich aus einem
schmalen halbleitenden Stäbchen, dessen für den Leitungsvorgang effektiv ausnutzbarer Querschnitt
durch ein elektrisches Feld beeinflußt wird. Das Stäbchen wird beiderseits von zwei Halbleiterstücken
entgegengesetzten Leitfähigkeitstyps eingeschlossen. Der von dem elektrischen Feld zu beeinflussende
Strom durchfließt das Halbleiterstäbchen in axialer Richtung. Im folgenden sei das eine Ende des Stäbchens
mit »Quelle«, das andere mit »Senke« bezeichnet. Bei einem gewissen kritischen Wert der Vorspannung
wachsen die beiden Erschöpfungszonen der an den Seiten des Halbleiterstäbchens befindlichen
Trennschichten derart an, daß eine Überlappung dieser Zone stattfindet. Der Stromfluß durch das
Halbleiterstäbchen ist dann praktisch völlig unterbunden. Derartige Vorrichtungen weisen einige nützliehe
Eigenschaften auf. Im Gegensatz zu den herkömmlichen Spitzen- oder Flächentransistoren ergeben
sich eine hohe Eingangsimpedanz, eine ebenfalls ziemlich hohe Ausgangsimpedanz, gutes Hochfrequenzverhalten
sowie eine geringe innere Rückwirkung zwischen Ein- und Ausgang.
Die genannten Vorteile ergeben sich bei einem photoempfindlichen Unipolartransistor, der aus einer
dünnen, in Richtung der größten Ausdehnung von einem Strom durchflossenen Schicht aus Halbleitermaterial
eines Leitungstyps besteht, deren eine große Oberflächenseite zur Erzeugung von Ladungsträgern
Photoempfindlicher Feld-Effekt-Unipolartransistor und seine Betriebsschaltung
Anmelder:
Internationale Business Machines Corporation,
Armonk,N.Y. (V.St.A.)
Vertreter:
Dipl.-Ing. H. E. Böhmer, Patentanwalt,
Böblingen (Württ), Sindelfinger Str. 49
Als Erfinder benannt:
Edward Maxwell Davis jun.,.
Poughkeepsie, Dutchess, N. Y. (V. St. A1)
Poughkeepsie, Dutchess, N. Y. (V. St. A1)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 18. Dezember 1959
(860 466)
V. St. v. Amerika vom 18. Dezember 1959
(860 466)
mit Licht bestrahlt wird, nach der Erfindung dadurch, daß die andere, große Seite der dünnen Schicht an ein
Gebiet aus Halbleitermaterial des entgegengesetzten Leitungstyps unter Bildung einer Sperrschicht angrenzt,
deren durch eine Vorspannung erzeugtes elektrisches Feld vermöge der Ausbildung einer
Erschöpfungszone den durch die dünne Schicht (JV) fließenden Strom steuert.
Von besonderer Bedeutung ist die Tatsache, daß bei dem Gegenstand der Erfindung im Gegensatz zu
bereits bekannten Feldeffekttransistoren die Erschöpfungszone sich zwischen der halbleitenden Schicht
und einem lediglich einseitig angrenzenden Halbleitergebiet entgegengesetzten Leitfähigkeitstyps ausbildet,
dessen Zuleitung im folgenden mit Steuerelektrode bezeichnet sei. Wegen dieser Anordnung und der
geringen Dicke der Schicht stellt die Erschöpfungszone sozusagen einen Oberflächeneffekt dar. Von
außerordentlicher Wichtigkeit ist weiterhin die Dicke der Schicht. Ist die Dicke geringer als die freie Weglänge
der Ladungsträger, so bedeutet dies, daß die von der Lichteinstrahlung erzeugten Elektronen-Lochpaare
nicht vor ihrem Wirksamwerden rekombinieren können, wodurch die hohe Empfindlichkeit
des Unipolartransistors nach der Erfindung erzielt wird. Es zeigt
609 559/326
3 4
F i g. 1 einen Transistor nach der Erfindung, niedrigen Widerstandes um den PN-Übergang herum
F i g. 2 die Kennlinien des Transistors nach F i g. 1, zu entfernen. Das schwarze Wachs bleibt durch das
F i g. 3 die Abhängigkeit des Stromes durch die Ätznatron relativ unbeeinflußt. Nach diesem Schritt
Sperrschicht von der Steuerspannung des Tran- kann das schwarze Wachs durch Auflösung in einem
sistors nach F i g. 1 bei Belichtung und unbelichtet, 5 geeigneten Lösungsmittel, wie z. B. Trichloräthylen,
F i g. 4 eine Betriebsschaltung des Feldeffekttran- entfernt werden. Der Kanalbereich des photoempfind-
sistors nach F i g. 1, liehen Feldeffekttransistors wird dann dadurch ge-
F i g. 5 eine Betriebsschaltung des Transistors nach bildet, daß die Vorrichtung 17 Sekunden lang in einer
F i g. 1 zur Lichtverriegelung. Ätzlösung geätzt wird, die besonders zur Ätzung von
F i g. 1 zeigt den Feldeffekttransistor nach der Er- i° Germanium dient. Diese Lösung kann aus 5 Volumfindung.
Der Transistor besteht in dem gezeigten Bei- teilen 70%iger Salpetersäure, 3 Teilen Eisessig und
spiel aus einem Körper 1 aus Halbleitermaterial vom 3 Teilen 43°/0iger Fluorwasserstoffsäure bestehen. Ein
P-Leitfähigkeitstyp, der an eine Schicht aus Halb- in der beschriebenen Weise hergestellter Transistor
leitermaterial 2 vom N-Typ angrenzt. An den P-HaIb- wies folgende Eigenschaften auf: die Steilheit
leiter ist eine Elektrode 3 zur Steuerung angeschlossen. 15
leiter ist eine Elektrode 3 zur Steuerung angeschlossen. 15
Der Steuerelektrode 3 wird eine Spannung V zu- ^ *'<* _ a — 13 Mitmc^mmc
gefuhrt. An das obere Ende des N-Halbleitermatenals Δ vg
ist eine Elektrode 4 elektrisch angeschlossen, und eine
ist eine Elektrode 4 elektrisch angeschlossen, und eine
weitere Elektrode 5 ist an die untere Seite des N-Ma- der Steuersättigungsstrom = 0,8 μ,Α und der an-
terials angeschlossen. Der Teil 6 zwischen den ohm- 20 nähernde Flächeninhalt des Kanals = 4,8 · 10~4 cm2,
sehen Elektroden 4, 5 ist sehr dünn. Der aus den F i g. 3 zeigt Kurven, welche das Verhalten des
Hauptelektroden 4, 5 fließende Strom ist mit ia Feldeffekttransistors bei Belichtung darstellen. In
bezeichnet. diesen Kurven ist der Strom ig durch den PN-Über-
Der durch angelegte Vorspannung zwischen der gang in Abhängigkeit von der Steuerspannung Vg
Steuerelektrode 3 und der Elektrode 5 und durch den 25 dargestellt. Es kann mathematisch gezeigt werden,
ohmschen Abfall im Kanal 6 erzeugte Erschöpfungs- daß die an den Hauptelektroden liegenden Spannungen
bereich im N-Halbleitermaterial beeinflußt die wirk- nur eine geringe Wirkung auf das Ansprechen des
same Leitfähigkeit des Kanals 6. Dadurch hat der PN-Übergangs bei Belichtung haben. Die F i g. 3
Transistor die in F i g. 2 dargestellten Kennlinien. zeigt den Strom ig mit und ohne Belichtung. In beiden
F i g. 2 zeigt den Hauptstrom ia in Abhängigkeit von 30 Fällen ist der PN-Übergangsstrom ig bei allen Steuerder
Spannung V& für verschiedene Werte der Steuer- spannungswerten ziemlich konstant. Die Differenz
spannung V9. Wenn V9 gleich einem kritischen des PN-Übergangsstromes zwischen dem belichteten
Wert Vgc ist, fließt sehr wenig Strom durch die Schichtö und dem nicht belichteten Zustand sei mit Ai9 beunabhängig
von der an die Hauptelektroden an- zeichnet.
gelegten Ableitspannung Vg,. Bei diesem kritischen 35 F i g. 4 zeigt eine Betriebsschaltung des photo-
Wert der Steuerspannung ist der Erschöpfungsbereich empfindlichen Feldeffekttransistors. Ein Feldeffekt-
im N-Halbleitermaterial so weit ausgebildet, daß ein transistor 40 hat eine Steuerelektrode 41, die durch
sehr geringer Strom durch den Kanal 6 fließt. Die einen Steuerwiderstand 42 an eine Vorspannungs-
in F i g. 2 gezeigten Kennlinien ähneln stark den quelle 43 angeschlossen ist. Die Vorspannungsquelle
Kennlinien einer Pentoden-Vakuumröhre, dement- 40 ist zwischen der Steuerelektrode 41 und der Elek-
sprechend bestehen gewisse Ähnlichkeiten zwischen trode 44 angeschlossen. Die Elektrode 45 ist über
dem Feldeffekttransistor und einer solchen Röhre. einen Lastwiderstand 46 an eine Spannungsquelle 47
Ein photoempfindlicher Feldeffekttransistor, wie er angeschlossen. Ein Bereich 48 des Feldeffekttransistors
in F i g. 1 gezeigt ist, kann wie folgt aufgebaut werden: . wird durch eine Lichtquelle belichtet.
Man geht aus von einem Plättchen aus Germanium 45 Die Wirkungsweise der Schaltung von F i g. 4 und
vom P-Typ mit 4 Ohm · cm, das etwa 0,9 mm lang die Art in der man eine hohe Empfindlichkeit für
und 0,1 mm dick ist. Auf einer Oberfläche dieser auffallendes Licht erreicht, lassen sich am besten
Platte befindet sich eine vom N-Leitfähigkeitstyp im mathematisch darstellen. Die Spannung an der
Diffusionsverfahren aufgebrachte Schicht mit einer Steuerelektrode 41 ist durch den Ausdruck
Tiefe von 0,0035 cm. Die Haupt- und Steuerelektroden 50 V=V IR (ΐ)
sind an die Platte anlegiert. Die eine Hauptelektrode 9 ~ Go β s
besteht aus einer Scheibe, die mit dem N-Bereich in gegeben, wobei V3 gleich der Spannung an der Elekherkömmlicher Weise dadurch verbunden ist, daß die trode 41, Vg0 gleich der Spannung der Quelle 43, Einheit auf eine Temperatur erhitzt wird, bei der der ig gleich dem PN-Übergangsstrom und R3 gleich dem Zinnüberzug schmilzt und die Scheibe fest mit der 55 Wert des Widerstands 42 ist. Wird der PN-Übergang Germaniumoberfläche verbindet. Diese Scheibe besteht belichtet, entsteht eine Änderung im PN-Übergangsvorzugsweise aus Nickel, das mit einem Zinn-Blei- strom, die mit Ai9 bezeichnet wird. Dadurch wird die Überzug versehen ist. Die Hauptelektrode 5 ist eine Spannung V9 infolge des verstärkten Spannungs-Kugel mit 12,5 · ΙΟ-3 cm Durchmesser aus einer abfalls über den Widerstand 42 verändert. Daraus Blei-Antimon-Legierung, die etwa 90°/0 Blei und 60 folgt:
besteht aus einer Scheibe, die mit dem N-Bereich in gegeben, wobei V3 gleich der Spannung an der Elekherkömmlicher Weise dadurch verbunden ist, daß die trode 41, Vg0 gleich der Spannung der Quelle 43, Einheit auf eine Temperatur erhitzt wird, bei der der ig gleich dem PN-Übergangsstrom und R3 gleich dem Zinnüberzug schmilzt und die Scheibe fest mit der 55 Wert des Widerstands 42 ist. Wird der PN-Übergang Germaniumoberfläche verbindet. Diese Scheibe besteht belichtet, entsteht eine Änderung im PN-Übergangsvorzugsweise aus Nickel, das mit einem Zinn-Blei- strom, die mit Ai9 bezeichnet wird. Dadurch wird die Überzug versehen ist. Die Hauptelektrode 5 ist eine Spannung V9 infolge des verstärkten Spannungs-Kugel mit 12,5 · ΙΟ-3 cm Durchmesser aus einer abfalls über den Widerstand 42 verändert. Daraus Blei-Antimon-Legierung, die etwa 90°/0 Blei und 60 folgt:
10%Antimon enthält. Das Kügelchen wird in be- AVg = RgAl9. (2)
kannter Weise an den N-Bereichanlegiert und bildet π Änderung in der Steuerspannung bewirkt
einen ohmschen Kontakt Die Steuerelektrode is ein danQ wiederum |Qe ^ ^ g^e iä wie
Indiumkugelchen, das an den P-Bereich anlegiert ist, folgt·
so daß ebenfalls ein ohmscher Kontakt entsteht. Dann 65 ™' Λ . _ Λν r __ „ „ Λ . rv.
wird schwarzes Wachs oben auf die Einheit gelegt, Δια - uVgbm - KglxmAig, (j)
und der PN-Übergang wird 15 Sekunden lang bei wobei Aia gleich der Änderung des Stromes, AVg
0,5 Amp. in Ätznatron geätzt, um das Material gleich der Änderung in der Steuerspannung, Gm
gleich der Steilheit des Feldeffekttransistors, R9 gleich
dem Wert des Widerstandes 42 und Δ ig gleich der
Änderung des PN-Übergangsstromes ist.
Die Steilheit eines Feldeffekttransistors, wie z. B. des hier gezeigten, beträgt etwa 1000 Mikrosiemens.
Der Wert des Widerstandes 42, Rg, kann etwa zu 3,3 Megohm gewählt werden. Ein typischer PN-Übergang
der gezeigten Art hat eine Empfindlichkeit für auffallendes Licht von 30 mA/Lumen. Unter Verwendung
der vorstehenden Werte kann die Empfindlichkeit der vorliegenden Schaltung für auffallendes
Licht wie folgt berechnet werden:
Durch eine geringe Abwandlung der Gleichung (3) erhält man
ΔΦ
ΔΦ
= 3,3 · 106 · 1000 · 10-6 = 3,3 · 106 · 1000 · 10~6 · 30 · ΙΟ"3 = 100 A/Lumen. (4)
Dabei bedeutet Φ den in Lumen gemessenen Lichtstrom. Eine Empfindlichkeit von 100 A/Lumen, wie
man sie mit der vorliegenden Schaltung erhält, ist etwa gleich der Empfindlichkeit eines guten Bild-Verstärkers
und etwa lOOmal so groß wie die Empfindlichkeit des besten Phototransistors.
Bei der Schaltung yon F i g. 4 ist der Ableitstrom u
sehr stark vom PN-Übergangsstrom ig abhängig, der
in Germaniumvorrichtungen extrem temperaturabhängig ist. In bestimmten Anwendungen ist es daher
äußerst vorteilhaft, die Feldeffekttransistoren aus Silizium anstatt aus Germanium herzustellen.
Diese photoempfindlichen Feldeffekttransistoren, können z. B. auch bei Vorrichtungen zur Kartenabfühlung
und bei »lichtlogischen Schaltungen« angewendet werden. Die »Lichtlogik« ist eine Technik,
durch die die Übertragung zwischen logischen Schaltungen sowohl durch Licht als auch durch Ströme
über leitende Verbindungen erfolgt. Ein Beispiel für eine lichtlogische Schaltung ist die in F i g. 5 gezeigte
Lichtverriegelung. Gemäß F i g. 5 ist die Steuerelektrode 51, eines photoempfindlichen Feldeffekttransistors
50 über einen Steuerwiderstand 52 an eine Vorspannungsquelle 53 angeschlossen. Die Vorspannung
53 ist zwischen der Steuerelektrode 51 und der Elektrode 54 angelegt. Steuerimpulse werden durch
einen anderen Steuerwiderstand 55 an die Steuerelektrode 51 angelegt. Die Elektrode 56 des photoempfindlichen
Feldeffekttransistors 50 ist über einen Lastwiderstand 57 mit einer Spannungsquelle 58 verbunden.
An den Lastwiderstand 57 ist eine Neon-Entladungslampe 59 angeschlossen. Es kann aber
auch eine Glühlicht- oder eine Elektrolumineszenzquelle verwendet werden. Die Neonlampe 59 ist so
angeordnet, daß bei Einschaltung ihr Licht auf den Kanalbereich 60 der Vorrichtung 50 auffällt.
Die Schaltung von Fig. 5 arbeitet wie folgt: Zunächst
ist die Einheit abgeschaltet und die Neonbirne 59 ausgeschaltet. Zu diesem Zweck ist das
Potential der Vorspannungsquelle 53 größer als der Wert, der nötig ist, um den Feldeffekttransistor 50
im »abgeklemmten« Zustand zu halten. Wenn der Klemme 51 ein positiver Steuerimpuls über den
Steuerwiderstand 55 zugeführt wird, wird der Kanalbereich 60 zwischen den Elektroden 56 und 54 leitend.
Es fließt Strom durch den Lastwiderstand 57, und die Neonlampe 59 wird eingeschaltet. Die Belichtung von
der Neonlampe 59 hält den Feldeffekttransistor 50 nach Wegnahme des Steuerimpulses im gesättigten
Zustand. Die Einheit kann wieder abgeschaltet werden durch die Anlegung eines negativen Steuerimpulses
über den Widerstand 55, durch Unterbrechung der Spannung 58 oder durch Unterbrechung
des Lichtpfades zwischen der Neonbirne 59 und dem Kanal 60.
Claims (9)
1. Photoempfindlicher Unipolartransistor, der aus einer dünnen, in Richtung der größten Ausdehnung
von einem Strom durchflossenen Schicht aus Halbleitermaterial eines Leitungstyps besteht,
deren eine große Oberflächenseite zur Erzeugung von Ladungsträgern mit Licht bestrahlt ist, dadurch
gekennzeichnet, daß die andere große Seite der dünnen Schicht (N) an ein Gebiet
(P) aus Halbleitermaterial des entgegengesetzten Leitungstyps unter Bildung einer Sperrschicht
angrenzt, deren durch eine Vorspannung erzeugtes elektrisches Feld vermöge der Ausbildung
einer Erschöpfungszone den durch die dünne Schicht (N) fließenden Strom steuert.
2. Transistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die dünnere Schicht N-leitend ist.
3. Transistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der eine Ausgangskontakt
aus einem Nickelplättchen mit einem Zinn-Blei-Überzug besteht.
4. Transistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein anderer Ausgangskontakt
aus einem Kügelchen aus Blei-Antimon hergestellt ist.
5. Transistor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Eingangsklemme (3) aus
einem Indiumkügelchen hergestellt ist.
6. Verwendung eines Transistors nach einem der Ansprüche 1 bis 5 als bistabiles Schaltglied in einer
lichtlogischen bzw. Lichtverriegelungsschaltung.
7. Betriebsschaltung mit einem Transistor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß die Vorspannung (43) im Steuerkreis so groß ist, daß in der dünneren Schicht (N) ein
Erschöpfungsbereich entsteht.
8. Betriebsschaltung mit einem Transistor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß in Reihe mit der Vorspannung (43) ein ohmscher Widerstand (42) von der Größenordnung
von Megohm liegt.
9. Betriebsschaltung mit einem Transistor nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet,
daß der Hauptstrom eine Lichtquelle paarbildender Strahlung beeinflußt.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 021 097, 1 033 333, 039 149, 1 039 564, 1 054 586;
»Zeitschrift für Physik«, 132 (1952), S. 261 bis 284.
Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 021 097, 1 033 333, 039 149, 1 039 564, 1 054 586;
»Zeitschrift für Physik«, 132 (1952), S. 261 bis 284.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
609 559/326 4. 66 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US860466A US3051840A (en) | 1959-12-18 | 1959-12-18 | Photosensitive field effect unit |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1214806B true DE1214806B (de) | 1966-04-21 |
Family
ID=25333283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEJ19162A Pending DE1214806B (de) | 1959-12-18 | 1960-12-16 | Photoempfindlicher Feld-Effekt-Unipolar-transistor und seine Betriebsschaltung |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3051840A (de) |
| DE (1) | DE1214806B (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1299087B (de) * | 1966-05-10 | 1969-07-10 | Siemens Ag | Feldeffekt-Fototransistor |
| DE1764991B1 (de) * | 1967-09-21 | 1972-06-08 | Ncr Co | Bistabiles lichtempfindliches feldeffekt-halbleiterelement |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3143448A (en) * | 1962-02-21 | 1964-08-04 | Mette Herbert | Photomagnetoelectric cell and method |
| US3265899A (en) * | 1962-07-25 | 1966-08-09 | Gen Motors Corp | Semiconductor amplifying radiation detector |
| US3211911A (en) * | 1962-09-11 | 1965-10-12 | Justin M Ruhge | Method and photocell device for obtaining light source position data |
| US3363152A (en) * | 1964-01-24 | 1968-01-09 | Westinghouse Electric Corp | Semiconductor devices with low leakage current across junction |
| US3303431A (en) * | 1964-02-10 | 1967-02-07 | Ibm | Coupled semiconductor injection laser devices |
| NL6407445A (de) * | 1964-07-01 | 1966-01-03 | ||
| GB1108761A (en) * | 1964-07-03 | 1968-04-03 | Emi Ltd | Improvements relating to electrical scanning apparatus |
| US3443102A (en) * | 1964-10-28 | 1969-05-06 | Electro Optical Systems Inc | Semiconductor photocell detector with variable spectral response |
| US3366802A (en) * | 1965-04-06 | 1968-01-30 | Fairchild Camera Instr Co | Field effect transistor photosensitive modulator |
| GB1084705A (en) * | 1965-08-27 | 1967-09-27 | Standard Telephones Cables Ltd | Semiconductor planar optical mixer systems |
| US3486029A (en) * | 1965-12-29 | 1969-12-23 | Gen Electric | Radiative interconnection arrangement |
| US3459944A (en) * | 1966-01-04 | 1969-08-05 | Ibm | Photosensitive insulated gate field effect transistor |
| US3493761A (en) * | 1966-08-15 | 1970-02-03 | Stromberg Carlson Corp | Bi-stable electro-optical switching circuit |
| US3430053A (en) * | 1967-08-24 | 1969-02-25 | Lawrence A Westhaver | Method for aperture control in which the loop gain is caused to vanish when the absolute value of the error is less than a given value and is caused to assume its nominal value when the absolute value of the error is greater than a second given value |
| US3471755A (en) * | 1967-08-28 | 1969-10-07 | Sprague Electric Co | Distributed variable attenuator network |
| US3721839A (en) * | 1971-03-24 | 1973-03-20 | Philips Corp | Solid state imaging device with fet sensor |
| BR112014010178A2 (pt) * | 2011-10-28 | 2017-06-27 | Univ Georgetown | processo e sistema para gerar uma fotorresposta de junções de schottky de mos2 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1021097B (de) * | 1954-03-05 | 1957-12-19 | Western Electric Co | Sperrschicht-Photo-Element zur Umwandlung von Sonnenstrahlung in elektrische Energie |
| DE1033333B (de) * | 1953-05-14 | 1958-07-03 | Ibm Deutschland | Transistor mit einer zweiten Emitterelektrode |
| DE1039149B (de) * | 1955-05-26 | 1958-09-18 | Philips Nv | Strahlungs- und/oder Waermedetektor mit einem Grenzschichttransistor |
| DE1039564B (de) * | 1955-04-15 | 1958-09-25 | Ibm Deutschland | Bistabile Transistor-Schaltung mit Transistoren, welche die Eigenschaften gittergesteuerter Gasentladungsroehren aufweisen |
| DE1054586B (de) * | 1955-05-20 | 1959-04-09 | Ibm Deutschland | Transistor mit temperaturkompensiertem Kollektorstrom |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2641713A (en) * | 1951-03-21 | 1953-06-09 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor photoelectric device |
| US2794863A (en) * | 1951-07-20 | 1957-06-04 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor translating device and circuit |
| NL91981C (de) * | 1951-08-24 |
-
1959
- 1959-12-18 US US860466A patent/US3051840A/en not_active Expired - Lifetime
-
1960
- 1960-12-16 DE DEJ19162A patent/DE1214806B/de active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1033333B (de) * | 1953-05-14 | 1958-07-03 | Ibm Deutschland | Transistor mit einer zweiten Emitterelektrode |
| DE1021097B (de) * | 1954-03-05 | 1957-12-19 | Western Electric Co | Sperrschicht-Photo-Element zur Umwandlung von Sonnenstrahlung in elektrische Energie |
| DE1039564B (de) * | 1955-04-15 | 1958-09-25 | Ibm Deutschland | Bistabile Transistor-Schaltung mit Transistoren, welche die Eigenschaften gittergesteuerter Gasentladungsroehren aufweisen |
| DE1054586B (de) * | 1955-05-20 | 1959-04-09 | Ibm Deutschland | Transistor mit temperaturkompensiertem Kollektorstrom |
| DE1039149B (de) * | 1955-05-26 | 1958-09-18 | Philips Nv | Strahlungs- und/oder Waermedetektor mit einem Grenzschichttransistor |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1299087B (de) * | 1966-05-10 | 1969-07-10 | Siemens Ag | Feldeffekt-Fototransistor |
| DE1764991B1 (de) * | 1967-09-21 | 1972-06-08 | Ncr Co | Bistabiles lichtempfindliches feldeffekt-halbleiterelement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3051840A (en) | 1962-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1214806B (de) | Photoempfindlicher Feld-Effekt-Unipolar-transistor und seine Betriebsschaltung | |
| DE891580C (de) | Lichtelektrische Halbleitereinrichtungen | |
| DE1054586B (de) | Transistor mit temperaturkompensiertem Kollektorstrom | |
| DE1197549B (de) | Halbleiterbauelement mit mindestens einem pn-UEbergang und mindestens einer Kontakt-elektrode auf einer Isolierschicht | |
| DE3011484A1 (de) | Optisch steuerbarer, mit statischer induktion arbeitender thyristor | |
| DE1007887B (de) | Halbleiterverstaerker | |
| DE2611338B2 (de) | Feldeffekttransistor mit sehr kurzer Kanallänge | |
| DE2736734A1 (de) | Schaltung mit photoempfindlicher anordnung | |
| DE1564420C3 (de) | Symmetrisch schaltendes Halbleiterbauelement | |
| DE2427256A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
| DE2341899A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
| DE1614300B2 (de) | Feldeffekttransistor mit isolierter Steuerelektrode | |
| DE3102851C2 (de) | PNPN-Halbleiterschalter | |
| EP0029163B1 (de) | Lichtzündbarer Thyristor und Verfahren zu seinem Betrieb | |
| DE1524385A1 (de) | Lesevorrichtung | |
| DE2727944C2 (de) | ||
| DE4331391A1 (de) | Halbleiter(detektor)struktur | |
| DE2345686A1 (de) | Bildwiedergabe- und/oder -umwandlungsvorrichtung | |
| DE2606994C2 (de) | ||
| DE1208408B (de) | Steuerbares und schaltbares Halbleiterbauelement mit vier Schichten abwechselnd entgegengesetzten Leitungstyps | |
| DE1094883B (de) | Flaechentransistor | |
| DE3102916C2 (de) | Thyristor | |
| DE2247006A1 (de) | Halbleiterbauelement | |
| DE1210490B (de) | Steuerbares Halbleiterbauelement mit einer pnpn- oder npnp-Zonenfolge und Verfahren zum Herstellen | |
| DE2953403C2 (de) | Hochleistungs-Schalter unter Verwendung eines torgesteuerten Diodenschalters |