DE1274563B - Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer sinterbaren Verbindung - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer sinterbaren VerbindungInfo
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- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 33
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 29
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 13
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 9
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 9
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 4
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 3
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 3
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 2
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/01—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
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- C04B35/2633—Compositions containing one or more ferrites of the group comprising manganese, zinc, nickel, copper or cobalt and one or more ferrites of the group comprising rare earth metals, alkali metals, alkaline earth metals or lead containing barium, strontium or calcium
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B1/00—Single-crystal growth directly from the solid state
- C30B1/02—Single-crystal growth directly from the solid state by thermal treatment, e.g. strain annealing
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
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- C30B29/22—Complex oxides
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/26—Complex oxides with formula BMe2O4, wherein B is Mg, Ni, Co, Al, Zn, or Cd and Me is Fe, Ga, Sc, Cr, Co, or Al
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
- H01F1/03—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity
- H01F1/0302—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials characterised by their coercivity characterised by unspecified or heterogeneous hardness or specially adapted for magnetic hardness transitions
- H01F1/0311—Compounds
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- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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Description
DEUTSCHES
PATENTAMT
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Int. α.:
Deutsche Kl.:
Nummer:
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BOIj
C04b
12 g -17/02
80 b-8/092
80 b-8/131
P 12 74 563.0-43 (N 21737)
22. Juni 1962
8. August 1968
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer sinterbaren
Verbindung, bei dem eine auf eine Unterlage aufgebrachte Schicht der Verbindung auf eine Temperatur
erhitzt wird, die im Umkristallisationstemperaturbereich der Verbindung liegt.
Es ist bekannt, Einkristallkörper dadurch herzustellen, daß die betreffende Verbindung geschmolzen
wird und während der Abkühlung derartige Maßnahmen getroffen werden, daß die Teilchen der erstarrenden
Schmelze sich auf eine bestimmte Weise zueinander ordnen. Dies kann z. B. dadurch erfolgen,
daß die Kristallisierung in der Schmelze mit einem »kalten Finger«, an dem sich meistens ein kleiner
Impfkristall befindet, induziert wird. Auch ist es bekannt, ein Pulver der betreffenden Verbindung in der
Flamme eines Knallgasgebläses zu erhitzen, wobei das Pulver durch das Innenrohr des Gebläses mitgenommen
wird. Das Pulver wird auf einem hitzebeständigen Stab aufgefangen, und dabei kann es zu
einem Einkristallkörper erstarren.
In diesen Fällen erfolgt das Verfahren bei der Schmelztemperatur der reinen Verbindung. Selbstverständlich
soll die Gasatmosphäre dem Gleichgewicht der Verbindung bei dieser Temperatur angepaßt
werden. Mit Rücksicht auf die hohen Schmelztemperaturen ist dies oft schwer zu realisieren, wodurch
manche Verbindungen sich bei der Schmelztemperatur völlig zersetzen.
Auch sind Verfahren bekannt, die bei einer Temperatur niedriger als die Schmelztemperatur der reinen
Verbindung verlaufen. Die Schmelze enthält dann neben der reinen Verbindung noch eine oder
mehrere andere Verbindungen, die als Flußmittel wirksam sind. Dieses Verfahren kann in den Fällen
verwendet werden, in denen ein geeignetes Flußmittel für die betreffende Verbindung besteht. Außerdem
müssen noch besondere Maßnahmen getroffen werden, um die Kernbildung zu beeinflussen und um
unkontrollierte Kernbildung zu verhindern.
Es sind auch Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls
aus einer sinterbaren Verbindung bekannt, bei dem eine Schicht auf eine Temperatur im Umkristallisationstemperaturbereich,
also unterhalb der Schmelztemperatur der Verbindung erhitzt wird. Das Aufbringen der Schicht erfolgt durch Aufdampfen
aus der Dampfphase. Hierbei müssen aber besondere Maßnahmen vorgesehen werden, damit die einzelnen
Komponenten der Verbindung in den richtigen Mengen aufgedampft werden.
Diese Nachteile werden bei einem Verfahren eingangs erwähnter Art gemäß der Erfindung dadurch
Verfahren zur Herstellung eines
Einkristalls aus einer sinterbaren Verbindung
Einkristalls aus einer sinterbaren Verbindung
Anmelder:
N. V. Philips1 Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)
Vertreter:
Dipl.-Ing. H. Auer, Patentanwalt,
2000 Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
2000 Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Als Erfinder benannt:
Cornells Kooy, Eindhoven (Niederlande)
Beanspruchte Priorität:
Niederlande vom 26. Juni 1961 (266 376)
vermieden, daß die Schicht durch Aufbringen von Pulver der Verbindung oder der Stoffe, aus denen bei
Erhitzung die Verbindung entsteht, mit einer Teilchengröße von höchstens 5 Mikron gebildet wird,
wobei die Schichtdicke höchstens 200 Mikron beträgt, und daß als Unterlage ein Einkristall verwendet
wird.
Hierbei ist die Zusammensetzung der Schicht in einfacher Weise regelbar. Besteht nämlich das Pulver aus der betreffenden Verbindung selbst, dann ist die Zusammensetzung sowieso genau. Besteht es aus Stoffen, die bei Erhitzung die betreffende Verbindung bilden, dann sind die Mengen dieser Stoffe derart zu wählen, daß ihre Zusammensetzung der der herzustellenden Verbindung entspricht, was keine Schwierigkeiten bereitet.
Hierbei ist die Zusammensetzung der Schicht in einfacher Weise regelbar. Besteht nämlich das Pulver aus der betreffenden Verbindung selbst, dann ist die Zusammensetzung sowieso genau. Besteht es aus Stoffen, die bei Erhitzung die betreffende Verbindung bilden, dann sind die Mengen dieser Stoffe derart zu wählen, daß ihre Zusammensetzung der der herzustellenden Verbindung entspricht, was keine Schwierigkeiten bereitet.
Das Verfahren erfolgt unterhalb der Schmelztemperatur, da der Umkristallisationstemperaturbereich
unterhalb der Schmelztemperatur liegt. Der Umkristallisationstemperaturbereich liegt zwischen der
Hälfte und zwei Dritteln der absoluten Schmelztemperatur. Eine Temperatur in diesem Gebiet wird auch
Tamman-Temperatur genannt. Beim Verfahren kristallisieren die Teilchen des Pulvers um, und zwar
nach einem geordneten Muster infolge der einkristallinischen Unterlage, auf dem es sich befindet. Die
Stärke der Schicht beträgt höchstens 200 Mikron, um zu verhüten, daß willkürliche Umkristallisierung in
einem Teil der aufgebrachten Schicht stattfindet. Gute Ergebnisse werden erhalten bei einer Schichtstärke
von höchstens 20 Mikron. Die Teilchen des
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Pulvers befinden sich in einer willkürlichen Orientierung auf der Unterlage. Es zeigt sich, daß das geordnete
Wachstum von demjenigen Teilchen des Pulvers ausgeht, deren Kristallorientierung in epitaktischer
Hinsicht der Kristallorientierung der Unterlage entspricht. Die Teilchengröße des Pulvers soll höchstens
5 Mikron sein, um zu gewährleisten, daß das Pulver reaktionsfähig ist. Die Verbindung wird also nicht in
atomarer oder molekularer Form aufgebracht, sondern in Form kleiner kristallinischer pulverförmiger
Teilchen. Das Pulver kann aus Teilchen der betreffenden Verbindung bestehen. In diesem Fall läuft
das Verfahren nach der Erfindung im wesentlichen auf eine Umkristallisierung hinaus mit einer kontrolin
einer Kugelmühle und dann noch 16 Stunden in einer Vibrationsmühle gemahlen. Nach dem Trocknen
wurde vom Pulver eine Suspension in Amylacetat mit etwa 0,25 °/o Nitrozellulose hergestellt. Von
dieser Suspension wurde eine 20 Mikron starke Schicht auf die (OOOl)-Fläche eines Einkristallkörpers
aus SrFe12O19 gestrichen, die nach dem Trocknen
eine homogen verteilte Pulverteilchenschicht auf der Oberfläche des Einkristallkörpers lieferte. Diese
wurde 15 Minuten auf 1250° C in Sauerstoff erhitzt. Von diesem Produkt wurde eine Röntgendiffraktionsaufnahme
gemacht, die außer der Reflexionen der Basisfläche des SrFeloO19-Einkristalls, auch die
(Hl)-, (222)-, (333)- usw. Reflexionen des Spinell-
lierten Kernbildung der Umkristallisationskeime. 15 gitters von NiFeO4 aufwies. Das Verfahren wurde
Auch kann das Pulver aus Stoffen bestehen, die bei noch einige Male wiederholt. Nach fünfmal zeigte
Erhitzung die betreffende Verbindung bilden. In die- das Röntgendiffraktionsdiagramm immer nur die
sem Fall findet sowohl eine Reaktion als auch eine (lll)-Reflexionen von Spinell und diejenigen der
geordnete Kristallisation statt. Basisfläche von SrFe12O19, woraus hervorgeht, daß
Das Pulver wird auf eine Einkristallunterlage auf- ao die gebildete Schicht aus NiFe2O4 einkristallinisch ist
gebracht. Die Zusammensetzung dieser Unterlage oder daß diese eine ausgesprochene Orientierung hat
kann gleich derjenigen des herzustellenden Körpers
sein, kann aber auch eine andere Zusammensetzung
und sogar eine Kristallstruktur aufweisen, die von
derjenigen des herzustellenden Einkristallkörpers 25
verschieden ist. In diesem letzteren Fall soll zur Bildung von umkristallisierten Orientierungskeimen ein
genügend großer Unterschied zwischen der Phasen-
sein, kann aber auch eine andere Zusammensetzung
und sogar eine Kristallstruktur aufweisen, die von
derjenigen des herzustellenden Einkristallkörpers 25
verschieden ist. In diesem letzteren Fall soll zur Bildung von umkristallisierten Orientierungskeimen ein
genügend großer Unterschied zwischen der Phasen-
grenzenergie gegenüber der Unterlage bei orientier- Verhältnis von 1:1 auf der (ÖOOl)-Fläche" eines Einten
und nicht orientierten Teilchen des Pulvers be- 30 kristallkörpers aus BaCo2Fe16O27 aufgebracht, der
der (lll)-Achse parallel zur hexagonalen c-Achse
des Unterlageneinkristalls.
Beispiel Π
Mittels der schematisch in F i g. 1 dargestellten Vorrichtung wurden kleine Mengen eines pulverfÖrmigen
Gemisches aus NiCO3 d FO i i
und Fe2O3 h
in einem
stehen. Die Pulverschicht kann auf verschiedene Weise auf die Unterlage aufgebracht werden. Sie
kann in Form einer Suspension aufgebracht werden, worauf die Unterlage mit der Suspensionsschicht erhitzt
wird. Auch kann eine dünne Pulverschicht unmittelbar auf die bereits erhitzte Unterlage aufgebracht
werden, indem das Pulver mittels eines Gasstromes auf die Unterlage geblasen wird.
Auf diese Weise entstehen dünne einkristallinische sich auf einer Temperatur von 1325° C befand. In
einem Rohrofen 1 befindet sich der genannte Einkristallkörper 2. Auf einer Seite reicht ein Aluminiumoxydrohr
3 in den Ofen bis nahezu an den Einkristallkörper 2. Mittels eines Verbindungsstückes 4 ist
das Rohr 3 mit einem Glasrohr 5 mit zwei Zweigen verbunden. Im einen Zweig befindet sich ein Glasgefäß
6 mit dem Pulvergemisch 7 aus NiCO3 und In das Gefäß 6 reicht bis in das Pulverge-
Fe2O,
Schichten, die, wenn sie aus einem anderen Stoff als 40 misch 7 ein Rohr 8, das einen magnetischen Verdas
der Unterlage bestehen, leicht von der Unterlage Schluß 9 und einen Strömungsmesser 10 aufweist. Im
getrennt werden können. Zum Erhalten von Einkristallkörpern mit einer größeren Stärke wird das Verfahren
nach der Erfindung einige Male nacheinander durchgeführt.
Verbindungen, von denen mit dem Verfahren nach der Erfindung Einkristallkörper hergestellt werden
können, sind z. B. BaTiO3 und NiFe2O4. Da es sehr
schwierig ist, nach einem bekannten Verfahren einen anderen Zweig des Rohres 5 befinden sich ein magnetischer
Verschluß 11 und ein Strömungsmesser 12. Durch das Rohr 8 wurde mit einer Geschwindigkeit
von 5 bis 10 l/Min, ein Sauerstoffstrom geblasen, der im Gefäß 6 Wirbel verursachte, wodurch das
Pulver mehr oder weniger fluidisiert wurde und die kleinsten Teilchen so weit in das Rohr S hineingeführt
wurden, daß sie durch einen dem anderen
Einkristallkörper aus NiFe2O4 zu erhalten, wird hier- 50 Zweig des Rohres 5 mit einer Geschwindigkeit von
bei nach der Erfindung ein Einkristallkörper mit Magnetoplumbitstruktur verwendet, z. B. ein Körper
mit einer Zusammensetzung BaFe12O19, oder ein
Einkristallkörper mit einer anderen hexagonalen Kristallstruktur, z. B. ein Körper mit einer Zusammen- 55 künden lang Pulver auf den Einkristallkörper 2 gesetzung BaCo2Fe18O27. blasen. Hierbei wurde 0,2 bis 0,4 mg des Pulverge-F i g. 1 zeigt eine schematische Darstellung einer misches auf die Fläche des Einkristallkörpers aufge-Vorrichtung, die bei dem Verfahren nach der Erfin- bracht, der eine Oberfläche von 0,5 · 0,5 cm2 hatte, dung verwendet werden kann; Dieses Verfahren wurde viele Male wiederholt. Das F i g. 2, 3 und 4 zeigen Intensitäten einer Röntgen- 60 Ergebnis ist in den F i g. 2, 3 und 4 dargestellt; die diffraktionsaufnahme von nach dem Verfahren ge- Röntgendiffraktionsaufnahmen sind nach 14, 68
mit einer Zusammensetzung BaFe12O19, oder ein
Einkristallkörper mit einer anderen hexagonalen Kristallstruktur, z. B. ein Körper mit einer Zusammen- 55 künden lang Pulver auf den Einkristallkörper 2 gesetzung BaCo2Fe18O27. blasen. Hierbei wurde 0,2 bis 0,4 mg des Pulverge-F i g. 1 zeigt eine schematische Darstellung einer misches auf die Fläche des Einkristallkörpers aufge-Vorrichtung, die bei dem Verfahren nach der Erfin- bracht, der eine Oberfläche von 0,5 · 0,5 cm2 hatte, dung verwendet werden kann; Dieses Verfahren wurde viele Male wiederholt. Das F i g. 2, 3 und 4 zeigen Intensitäten einer Röntgen- 60 Ergebnis ist in den F i g. 2, 3 und 4 dargestellt; die diffraktionsaufnahme von nach dem Verfahren ge- Röntgendiffraktionsaufnahmen sind nach 14, 68
bzw. 106 Bearbeitungen erfolgt. In den Figuren ist die Intensität I der Reflexionen einer Moka-Strahlung
in einer willkürlichen Einheit als Funktion des Beugungswinkels 2 Θ aufgetragen. Aus der Zunahme
des Verhältnisses der Intensitäten der (lll)-Spinell-
10 bis 15 I/Min, zugeführten Sauerstoffstrom auf den
Einkristallkörper 2 geblasen wurden. Die Ofentemperatur war 1325° C. Durch Regelung des magnetischen
Verschlusses 11 wurde alle 10 Minuten 2 Se-
mäß der Erfindung hergestellten Körpern;
F i g. 5 zeigt die Intensität einer Röntgendiffraktionsaufnahme
eines bekannten Körpers.
Ein Gemisch aus NiCO3 und Fe2O3 in einem Verreflexion
und der Basisreflexionen von BaCo0Fe10O27
hältnis von 1:1 wurde 16 Stunden in Äthylalkohol kann die Folgerung gezogen werden, daß eine geord-
nete Spinellschicht auf der Einkristallunterlage gebildet ist. Die Orientierung folgt aus der Abwesenheit
aller anderen Reflexionen als derjenigen der (lll)-Fläche. In Fig. 4 fällt die Spitze der (333)-Linie
außerhalb der Zeichenebene. Zum Vergleich zeigt F i g. 5 die Reflexionen eines aus NiFe2O4 bestehenden
Körpers, in dem die Teilchen willkürlich vorhanden sind. Auf diese Weise erhaltene Einkristallkörper
mit Stärken von 100 bis 300 Mikron konnten von der Unterlage gelöst werden.
Das gleiche Ergebnis wurde bei einem Verfahren erzielt, bei dem das Gemisch aus NiCO3 und Fe2O3
durch ein Pulver aus NiFe2O4 ersetzt wurde, das dadurch
erhalten worden war, daß das Pulvergemisch aus NiCO3 und Fe2O3 bei 1000° C erhitzt und das
Reaktionsprodukt in Alkohol 16 Stunden in einer Kugelmühle und 8 Stunden in einer Vibrationsmühle
gemahlen und darauf getrocknet wurde.
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer sinterbaren Verbindung, bei dem eine
20 auf eine Unterlage aufgebrachte Schicht der Verbindung auf eine Temperatur erhitzt wird, die
im Umkristallisationstemperaturbereich der Verbindung liegt, dadurch gekennzeichnet,
daß die Schicht durch Aufbringen von Pulver der Verbindung oder der Stoffe, aus denen bei Erhitzung
die Verbindung entsteht, mit einer Teilchengröße von höchstens 5 Mikron gebildet wird,
wobei die Schichtdicke höchstens 200 Mikron beträgt, und daß als Unterlage ein Einkristall verwendet
wird.
2. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß eine Pulverschicht mit einer
Dicke von höchstens 20 Mikron aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Pulverschicht auf die
bereits erhitzte Unterlage aufgebracht wird.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 040 693,
1087425,1098 316;
USA.-Patentschrift Nr. 2 759 861.
Deutsche Auslegeschriften Nr. 1 040 693,
1087425,1098 316;
USA.-Patentschrift Nr. 2 759 861.
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809 589/473 7.68 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL266376 | 1961-06-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1274563B true DE1274563B (de) | 1968-08-08 |
Family
ID=19753113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEN21737A Pending DE1274563B (de) | 1961-06-26 | 1962-06-22 | Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer sinterbaren Verbindung |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3332796A (de) |
| DE (1) | DE1274563B (de) |
| FR (1) | FR1326252A (de) |
| GB (1) | GB943184A (de) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3498836A (en) * | 1966-04-25 | 1970-03-03 | Ibm | Method for obtaining single crystal ferrite films |
| US3421933A (en) * | 1966-12-14 | 1969-01-14 | North American Rockwell | Spinel ferrite epitaxial composite |
| US3486937A (en) * | 1967-03-24 | 1969-12-30 | Perkin Elmer Corp | Method of growing a single crystal film of a ferrimagnetic material |
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