DE1252353B - Process for removing impulsive gases break in a recipient - Google Patents
Process for removing impulsive gases break in a recipientInfo
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- DE1252353B DE1252353B DENDAT1252353D DE1252353DA DE1252353B DE 1252353 B DE1252353 B DE 1252353B DE NDAT1252353 D DENDAT1252353 D DE NDAT1252353D DE 1252353D A DE1252353D A DE 1252353DA DE 1252353 B DE1252353 B DE 1252353B
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY
DEUTSCHESGERMAN
PATENTAMTPATENT OFFICE
Int. CL:Int. CL:
F04bF04b
Deutsche KL: 27 d- 4/00German KL: 27 d- 4/00
Nummer: 1252 353Number: 1252 353
Aktenzeichen: U 7504 VIII c/27 dFile number: U 7504 VIII c / 27 d
Anmeldetag: 10. Oktober 1960 Filing date: October 10, 1960
Auslegetag: 19. Oktober 1967Opened on: October 19, 1967
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entfernen von stoßartigen Gaseinbrüchen in einen Rezipienten, in dem ein Gleichgewichtsdruck von weniger als 10~e mm Hg "mittel einer Vakuumpumpe laufend hergestellt wird.The invention relates to a method for removing sudden gas penetrations into a recipient, in which an equilibrium pressure of less than 10 ~ e mm Hg "is continuously established by means of a vacuum pump.
Unter dem Ausdruck »Gettermetall« werden Metalle verstanden, die im allgemeinen große Mengen der meisten Gase, die gemeinsam in Vakuumapparaturen vorhanden sind, adsorbieren. Wenn nicht ausdrücklich anders erwähnt, wird dieser Ausdruck bezogen auf ein Gettermetall, das wenigstens teilweise entgast oder ausgeheizt wurde. Besonders bevorzugte Gettermetalle, die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendet werden, sind weiter unten genannt.The term "getter metal" is understood to mean metals which generally contain large amounts of adsorb most of the gases that are present together in vacuum equipment. If not explicitly otherwise mentioned, this term is related to a getter metal that is at least partially degassed or was baked out. Particularly preferred getter metals used in the method according to the invention are mentioned below.
Bei der gegenwärtigen Technik der Massenspektroskopie, der Teilchenbeschleuniger der thermonuklearen Reaktionen, der Elektronik, der Raumfahrtuntersuchungen und ähnlichen Gebieten sind die Schwellenwerte der Drücke häufig viel geringer als 10~e mm Hg. Zum Beispiel können zufällig vorhandene Gasteilchen fehlerhafte Ergebnisse der massenspektroskopischen Analyse von extrem kleinen oder reinen Proben ergeben, und die Schwellwerte nuklearer Reaktionen können von Drücken von 10~10 mm Hg oder darunter bedingt sein.In the current technology of mass spectroscopy, the particle accelerators of thermonuclear reactions, electronics, space exploration and similar fields, the threshold values of the pressures are often much lower than 10 ~ e mm Hg or pure samples, and the thresholds of nuclear reactions can be due to pressures of 10 ~ 10 mm Hg or less.
Maximale Anfordernisse an Vakuumpumpen bestehen in der modernen Technik beispielsweise bei
Plasmaversuchen, Beschleunigersystemen und fonenquellen, in denen Vakuum Verhältnisse aufrechterhalten
werden müssen, in denen fast jedes Gasteilchen entfernt wird. In diese Vorrichtungen werden energiereiche
geladene und neutrale Teilchen kontinuierlich eingebracht oder in dem System erzeugt. Die Vakuumpumpe
muß in der Lage sein, sowohl die anfängliche Evakuierung als auch die nachfolgende Entfernung der
gesamten Menge der erforderlichen schnellen Teilchen und eines Anteils von langsamen neutralen Teilchen
durchzuführen, um eine sehr geringe Dichte des »kalten« Neutralgases zu erhalten. Unter optimalen
Verhältnissen sollen die schnellen Teilchen entfernt werden, ohne vorherige Umwandlung zu langsamen
Teilchen, was mit Diffusionspumpen nicht möglich ist, da schnelle Teilchen schwierig zu den Düsen einer
Diffusionspumpe eintreten können. Weiter muß, wenn schnelle Teilchen zuerst zu langsamen reduziert
werden, ein breiteres Eingangsmundstück vorgesehen sein, da schnelle Teilchen durch eine schmale Öffnung
geschossen werden können, während dies mit langsamen Teilchen nicht möglich ist. Ein Verfahren und
eine Vorrichtung, womit Vakua in der Höhe von 10~10 mm Hg und darunter erzeugt und unter Auspumpen
der entsprechenden Tausende von Litern Verfahren zum Entfernen von stoßartigen
Gaseinbrüchen in einen RezipientenIn modern technology, maximum requirements are placed on vacuum pumps, for example in plasma tests, accelerator systems and phone sources, in which vacuum conditions must be maintained in which almost every gas particle is removed. High-energy charged and neutral particles are continuously introduced into these devices or generated in the system. The vacuum pump must be able to perform both the initial evacuation and the subsequent removal of all the required fast particles and a portion of slow neutrals in order to obtain a very low density of the "cold" neutral gas. Under optimal conditions, the fast particles should be removed without prior conversion to slow particles, which is not possible with diffusion pumps, since fast particles can be difficult to enter the nozzles of a diffusion pump. Further, if fast particles are reduced to slow ones first, a wider entrance mouthpiece must be provided since fast particles can be shot through a narrow opening, while slow particles cannot. A method and apparatus for creating vacuums as high as 10 ~ 10 mm Hg and below and pumping out the corresponding thousands of liters of method for removing jerky
Gas ingress into a recipient
Anmelder:Applicant:
United States Atomic Energy Commission,United States Atomic Energy Commission,
Germantown, Md. (V. St. A.)Germantown, Md. (V. St. A.)
Vertreter:Representative:
Dr.-Ing. W. Abitz, Patentanwalt,Dr.-Ing. W. Abitz, patent attorney,
München 27, Pienzenauer Str. 28Munich 27, Pienzenauer Str. 28
Als Erfinder benannt:'Named as inventor: '
Norman Milleron, Berkeley, Calif. (V. St. A.)Norman Milleron, Berkeley, Calif. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 16. Oktober 1959
(847 033) : Claimed priority:
V. St. v. America October 16, 1959
(847 033) :
as pro Sekunde aufrechterhalten werden können, besteht in der Verwendung von Getterpümpen oder Ionengetterpumpen, in denen der Rezipient und/oder die Sammelelektroden kontinuierlicn mit entgastem oder gereinigtem Gettermetall überzogen werden, das von einer Gettermetallquelle, die innerhalb des Rezipienten in der Nähe der Sammelelektroden angeordnet ist, abgedampft wird. Die Gase, die in diese Rezipienten eintreten und die auf die Wände oder auf die Sammelelektroden desselben auftreffen, werden absorbiert und von der frischen Schicht des desorbierten Gettermetalls, das kontinuierlich darauf niedergeschlagen wird, überdeckt.as can be sustained per second in the use of getter pumps or ion getter pumps, in which the recipient and / or the collecting electrodes continuously with degassed or Purified getter metal are coated by a source of getter metal that is contained within the recipient is arranged in the vicinity of the collecting electrodes, is evaporated. The gases that go into these recipients enter and which impinge on the walls or on the collecting electrodes of the same are absorbed and from the fresh layer of desorbed getter metal continuously deposited thereon is covered.
In einer derartigen Pumpvorrichtung wird ein Draht oder Streifen aus geeignetem Gettermaterial kontinuierlich in einen Pumpenraum oder einen Rezipienten durch ein von außen gekühltes Zuführungsrohr eingeführt, das geeignet ist, den Draht oder Streifen thermisch abzuschirmen, und das aus einem Material hergestellt ist, dessen Wärmeleitkoeffizient groß genug ist, um die in der Rohrfläche enthaltene oder erzeugte Wärme zu entfernen. Beim Austritt aus der Spitze des gekühlten Rohres in den Rezipienten wird der Draht einer Beschießung durch einen Elektronenstrahl oder anderen Heizeinrichtungen ausgesetzt, die bewirken, daß der Draht, der sich außerhalb der Zuführspitze befindet, erhitzt und geschmolzen wird. Die austretende Spitze ist vorzugsweise in einer senkrechtenIn such a pumping device, a wire or strip of suitable getter material becomes continuous introduced into a pump room or a recipient through an externally cooled supply pipe, which is suitable for thermally shielding the wire or strip, and which is made of one material is made, the coefficient of thermal conductivity is large enough to contain or generated in the pipe surface Remove heat. When exiting the tip of the cooled tube into the recipient, the wire exposed to bombardment by an electron beam or other heating devices that cause that the wire, which is located outside the feed tip, is heated and melted. The exiting Tip is preferably in a vertical one
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Stellung angeordnet, um eine symmetrische Verteilung teuere Überzüge auf den innenflächen der Rezipientendcs
Metalls durch die Gravitationskraft zu gewähr- räume während dieser Zeitdauer ausgebildet, sogar
leisten, und weiter ist der Draht im allgemeinen senk- wenn die Zahl der Gasteilchen, die wirklich eingefangen
recht zu der Ebene des Elektronenerzeugers oder der werden, relativ klein sein kann.
Wärmequelle angeordnet, um ein leichtes Schmelzen 5 Es ist ferner bereits eine Pumpe bekannt (USA.-hauplsächlich
in der äußersten Spitze des Drahtes zu Patentschrift 2 894 679), bei welcher in einem Rezibewirken.
Das geschmolzene Metall neigt dazu, eine pienten eine Gettermetallschicht niedergeschlagen wird
geschmolzene Kugel zu bilden, die durch die Ober- der mit einer Hochvakuumpumpe in Verbindung steht.
fUichenspannungcn zusammengehalten wird, wenn die In der bekannten Anordnung wird durch die Pump-Kühlung,
die Drahtzuführungseinrichtung und die io leistung der Getterschicht die Leistung der Hoch-Erhitzungscinrichtungcn
geeignet gesteuert werden. vakuumpumpe erhöht, wobei der Getter praktisch als Unter dem hierbei verwendeten Begriff »geschmolzene Hauptpumpe wirkt, wenn auf einen Druck unterhalb
Kugel« wird der Zusammenhalt irgendeiner Masse von von 10~' mm Hg evakuiert wird,
geschmolzenem Metall auf der Drahtspitze verstanden, Dem erfindungsgemäßen Verfahren liegt nicht die
der durch die Oberflächenspannung bewirkt wird. Die 15 Aufgabe zugrunde, das Pumpvermögen in Bereiche
Wärme in dem Draht hinter der geschmolzenen Kugel höheren Vakuums zu erweitern, sondern die Aufgabe
wird zu dem Zuführungsrohr in der Hauptsache mehr unter Verwendung eines Getters oder eines Ionendurch
Strahlung als durch Leitung abgeleitet. Das getters auch bei stoßartigen Gaseinbrüchen Gleichgeschmolzene
Metall in der Kugel wird nach außen in gewichtsdrücke von weniger als 10~e mm Hg aufrecht-
»Sichtlinicnrichtung« abgestrahlt, während gleich- 20 zuerhalten, ohne daß ein kontinuierliches Aufdampfen
zeitig weiteres Metall von dem zugeführten Draht von frischem Gettermaterial auf die Rezipientengeschmolzen
wird, um die geschmolzene Masse wieder flächen erforderlich ist.Positioned to ensure a symmetrical distribution of expensive coatings on the inner surfaces of the recipients of the metal formed by the force of gravity during this period, and further the wire is generally reduced when the number of gas particles actually trapped is too high the level of the electron generator or which can be relatively small.
Heat source arranged to ensure a slight melting 5 There is also already known a pump (USA.-mainly in the outermost tip of the wire to patent specification 2,894,679), in which in a reciprocating effect. The molten metal tends to form a layer of getter metal deposited into a molten sphere which is in communication through the top of a high vacuum pump. In the known arrangement, the output of the high-heating devices is suitably controlled by the pump cooling, the wire feed device and the output of the gettering layer. vacuum pump increased, whereby the getter acts practically as the term "melted main pump, if at a pressure below ball" the cohesion of any mass of 10 ~ 'mm Hg is evacuated,
Understood molten metal on the wire tip, the method according to the invention is not that caused by surface tension. The objective is to expand the pumping capacity into areas of heat in the wire behind the molten ball of higher vacuum, but the objective is diverted to the feed tube mainly by radiation rather than conduction using a getter or ion. The getters, even in the case of sudden gas penetrations, uniformly melted metal in the ball is radiated outwards at weight pressures of less than 10 ~ e mm Hg in an upright "line of sight", while at the same time maintaining further metal from the wire fed in without continuous vapor deposition fresh getter material is melted onto the recipient in order to flatten the melted mass again.
zu ergänzen. Der Gettermetalldraht wird natürlich Das erfindungsgemäße Verfahren ist dadurch ge-to complete. The getter metal wire is natural. The method according to the invention is thereby
vor dem Einführen in den Rezipienten entgast und kennzeichnet, daß im Rezipienten eine solche Getter-degassed before introduction into the recipient and indicates that such a getter
engc Toleranzen werden zwischen dem Zuführungs- 35 metallschicht niedergeschlagen wird, die die Gase beiNarrow tolerances are deposited between the feed 35 metal layer that the gases at
draht und dem Zuführungsrohr eingehalten. diesen kleinen Drücken wesentlich schneller absorbiertwire and the feed pipe adhered to. absorbs these small pressures much faster
Beim Arbeiten mit einer einfachen Getterpumpe als desorbiert, wobei die Absorptionskapazität derWhen working with a simple getter pump as desorbed, the absorption capacity of the
wird die Gasabsorption auf dem kontinuierlich Gettermetallschicht höher ist als die Anzahl vonthe gas absorption on the continuously getter metal layer is higher than the number of
aufgedampften Metallüberzug verwendet, um ein Teilchen bei einem solchen stoßartigen Gaseinbruch,vapor-deposited metal coating used to protect a particle in the event of such a sudden gas ingress,
hohes Vakuum zu erzeugen, nachdem gewöhnlich der 30 so daß zunächst durch Absorption dieser Teilchencreate high vacuum after usually the 30 so that initially by absorbing these particles
Rczipient anfänglich auf einen Druck von etwa ΙΟ"4 mm an der Gettermetallschicht der GleichgewichtsdruckThe equilibrium pressure is initially withdrawn to a pressure of about ΙΟ " 4 mm on the getter metal layer
Hg mit einer Vorpumpe evakuiert wurde, d. h. die aufrechterhalten wird, und daß nach der AbsorptionHg was evacuated with a foreline pump, d. H. which is sustained, and that after absorption
Teilchen, die in dem Rezipienten zurückbleiben, die von der Gettermetallschicht nun langsamer wiederParticles that remain in the recipient return more slowly from the getter metal layer
prallen wilkürlich auf die Wände dieses Rezipienten, desorbierten Gase dann von der Vakuumpumpe,randomly collide with the walls of this recipient, gases then desorbed from the vacuum pump,
der mit dem zu evakuierenden Behälter verbunden ist, 35 deren Anschluß sich in der Nähe der Gettermetall-which is connected to the container to be evacuated, 35 the connection of which is in the vicinity of the getter metal
und werden auf den Wänden festgehalten infolge des schicht befindet, entfernt werden,and will be stuck on the walls as a result of the layer being removed,
kontinuierlich anwachsenden Überzugs aus adsor- Die Ausnützung der Getterwirkung ist zur schnellencontinuously growing coating of adsor- The use of the getter effect is for rapid
bicrcndcm Metall. Entgasung von Röhren bekannt (»GetterstofFe« vonbicrcndcm metal. Degassing of tubes known (»GetterstofFe« from
Bei der Anwendung des Getterprinzips für Ionen- Martin Litt mann, Leipzig, 1938, S. 44), wo dasWhen applying the getter principle for ions, Martin Littmann, Leipzig, 1938, p. 44), where the
getlcrpumpen können gasförmige Teilchen, die ent- 40 Getter kurz vor oder nach dem Abschmelzen vonGetters can pump gaseous particles that enter 40 getters shortly before or after melting
fernt werden sollen, willkürlich in eine Fläche zwischen Elektronenröhren verdampft wird,are to be removed, is arbitrarily evaporated into an area between electron tubes,
zwei Kathodenplatten eintreten. Ein Strom von Diese Getterstoffe sind jedoch in erster Linie eintwo cathode plates enter. However, a stream of these getter substances are primarily one
Elektronen, der zwischen den Kathodenplatten durch- Reaktionsmittel und nicht ein Absorptions-Desorp-Electrons that pass between the cathode plates - reactants and not an absorption desorp-
läuft oder andere Einrichtungen ionisieren die Gas- tions-Mittel, wie es beim erfindungsgemäßen Verfahrenrunning or other devices ionize the gassing means, as is the case with the method according to the invention
moleküle, und die daraus entstehenden Tonen werden 45 benötigt wird. Infolgedessen wirkt das Material nichtmolecules, and the resulting clays are 45 needed. As a result, the material does not work
von den Kathodenplatten angezogen. Gewöhnlicher- als Puffer. Diese Getter bilden einen festen Bestandteilattracted by the cathode plates. More common- as a buffer. These getters form an integral part
weise können die Ionen die Platten nach dem Kontakt der Röhre, um deren Lebensdauer zu verlängern, undwisely, the ions can remove the plates after contacting the tube, in order to extend its service life, and
mit diesen wieder verlassen, da sie ihre Ladung ver- stellen nicht einen Teil der Pumpe dar. Bei diesemleave them again, as they are not a part of the pump
loren haben und neutrale Moleküle geworden sind. Herstellungsverfahren für Elektronenröhren wird nichthave loren and have become neutral molecules. Manufacturing process for electron tubes will not
Infolge der Anordnung der Gettermetallverdampfungs- 50 Gas aus einem abgeschlossenen Raum entfernt, son-As a result of the arrangement of the getter metal evaporation 50 gas is removed from an enclosed space, but
quelle, die oben beschrieben wurde, innerhalb des dem an dessen Wänden festgehalten. Beim erfindungs-source, which has been described above, held within the on its walls. When inventing
Gesichtsfeldcs der Kontaktflächen der Kathoden- gemäßen Verfahren wird dagegen ein plötzlicher Uber-On the other hand, a sudden over-
platlcn, schlägt sich jedoch der Gettermatelldampf auf druck oder ein an einer bestimmten Stelle auftretendesplatlcn, however, the getter material vapor hits pressure or occurs at a certain point
diesen Platten nieder, und die von diesen Kathoden- Bündel von Teilchen in der Umgebung der Pumpethese plates, and the cathode bundles of particles in the vicinity of the pump
platten angezogenen Ionen werden so nach der 55 zeitweise von den Getterstoffen absorbiert und späterPlate-attracted ions are thus temporarily absorbed by the getter substances after 55 and later
Neutralisation adsorbiert oder von dem kontinuierlich durch die Diffusionspumpe entfernt,Neutralization adsorbed or removed from it continuously by the diffusion pump,
niedergeschlagenen Metall zugedeckt. Ein Anwendungsbeispiel für das erfindungsgemäßecovered metal. An application example for the invention
Bei Verwendung der oben beschriebenen Vorrich- Verfahren ist bei Einrichtungen zum EinschließenWhen using the device methods described above, devices for containment
tung in Kombination mit Gettermetallen, wie z. B. von Plasmen für Versuche zur Erzielung gesteuertertion in combination with getter metals such. B. of plasmas for attempts to achieve controlled
Titan, Tantal, Wolfram, Molybdän, Zirkon, Niob, 60 Kernfusionsprozesse. Dabei wird ein das PlasmaTitanium, tantalum, tungsten, molybdenum, zirconium, niobium, 60 nuclear fusion processes. This is where the plasma becomes
Rhenium, Thorium und Uran, die vernachlässigbare einschließendes Magnetfeld von neutralen TeilchenRhenium, thorium and uranium, the negligible confining magnetic field of neutral particles
Dampfdrücke besitzen, können Vakua mit Drücken hoher Energie durchquert. Einige dieser TeilchenHaving vapor pressures can traverse vacuums with pressures of high energy. Some of these particles
von 10~J0 mm Hg und kleiner erhalten werden, werden beim Zusammenprall mit dem Plasma ionisiertof 10 ~ J0 mmHg and smaller are ionized upon collision with the plasma
während Pumpgeschwindigkeiten erreicht werden, die und eingefangen. Die nichtionisierten Teilchen tretenwhile pumping speeds are reached that and captured. The non-ionized particles occur
Hunderttausende von Litern pro Sekunde betragen. 65 auf der anderen Seite des magnetischen Feldes aus.Hundreds of thousands of liters per second. 65 on the other side of the magnetic field.
In vielen Fällen muß, wie nachfolgend beschrieben Es war bisher keine Vorrichtung bekannt, welche inIn many cases, as described below, no device was previously known which in
werden wird, ein sehr hohes Vakuum über lange Zeit der Lage ist, diese Teilchen zu entfernen, bevor siewill be, a very high vacuum for a long time is able to remove these particles before they can
aufrechterhalten werden. Bisher wurden dafür sehr wieder in das magnetische Feld als langsame Teilchenbe maintained. So far they were very back in the magnetic field as slow particles
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eintreten, welche den größten Teil ihrer Energie durch Bei einer bekannten Jonenpumpe (deutsche Auslege-enter, which most of their energy through a well-known ion pump (German design
Zusammenstöße mit Wandungen ui dgl. verloren schrift 1 065 561) wird ferner ein Gettermetall verwen-Collisions with walls and the like. Lost writing 1 065 561) a getter metal is also used.
haben. Ein langsames Teilchen und ein energiereiches det, das den Zweck hat, das Vakuum in einem Rezi-to have. A slow particle and a high-energy det that has the purpose of breaking the vacuum in a
Plasmaion tauschen beim Stoß ihre Ladung aus, und pienten, nachdem dieser vakuumdicht verschlossenPlasma ions exchange their charge when they collide, and after this has been sealed in a vacuum-tight manner
das neu gebildete neutrale Teilchen führt den größten 5 ist, für lange Zeit aufrechtzuerhalten. Ein Gasschub,the newly formed neutral particle results in the largest 5 is to maintain for a long time. A throttle,
Teil der Energie mit sich ab. Dieser Energieverlust der in diesen abgeschlossenen Rezipienten eingeführtPart of the energy with yourself. This loss of energy is introduced into this closed recipient
entzieht dem Plasma die zur Erzielung einer Fusion würde, würde jedoch unweigerlich eine Erhöhung desdeprives the plasma which would lead to a fusion, but would inevitably increase the
nötige Energie. Die Erfindung befaßt sich nicht damit, Druckes zur Folge haben, da keine ständige Evaku-necessary energy. The invention is not concerned with resulting in pressure, since there is no constant evacuation
allgemeineinenGleichgewichtsdruckvonetwalO-10mm ierung durch eine Vakuumpumpe erfolgt, und diegenerally an equilibrium pressure of about 10 mm is carried out by a vacuum pump, and the
Hg aufrechtzuerhalten. Da der durch die unerwünsch- io Bedingungen, bei denen das Absorptions-Desorptions-Maintain Hg. Since the undesirable conditions under which the absorption-desorption
ten Teilchen hervorgerufene Gesamtdruckanstieg ver- Gleichgewicht in der erfindungsgemäßen Weise zumth particles caused total pressure increase to equilibrium in the manner according to the invention
hältnismäßig klein ist, sind beispielsweise Diffusions- Auffangen eines Gasschubes herangezogen werdenis relatively small, for example diffusion interception of a gas surge can be used
pumpen durchaus in der Lage, den Gleichgewichts- kann, in dieser Auslegeschrift nicht offenbart sind,pumps are quite capable of equilibrium, which are not disclosed in this interpretative document,
druck aufrechtzuerhalten oder schnell wiederherzu- Vor allem gibt die bekannte Anordnung keinento maintain pressure or to quickly restore it
stellen. Die Hauptschwierigkeit besteht vielmehr 15 Hinweis darauf, daß· das Absorptions-Desorptions-place. Rather, the main difficulty lies in the fact that the absorption-desorption
darin, diese langsamen Teilchen zu beseitigen, bevor Gleichgewicht der Gettermetallschicht in der erfin-in eliminating these slow particles before equilibrium of the getter metal layer in the invention
sie wieder das magnetische Feld durchqueren, d. h. dungsgemäßen Weise nur bei Drücken unterhalbthey cross the magnetic field again, d. H. proper way only at pressures below
also: sofort. 10~e mm Hg nutzbar gemacht werden kann.so: immediately. 10 ~ e mm Hg can be harnessed.
Zur Lösung der der Erfindung zugrunde liegenden Schließlich ist noch eine Anordnung bekanntFinally, another arrangement is known for solving the problem on which the invention is based
Aufgabe genügt die Kenntnis der Gesamtpump- ao (deutsche Auslegeschrift 1 046 249), in welchem eineTask is sufficient to know the total pumping ao (German Auslegeschrift 1 046 249), in which a
geschwindigkeit P eines Gettermetalls allein noch nicht. Adsorption und Desorption von Gasionen auf einerspeed P of a getter metal alone is not enough. Adsorption and desorption of gas ions on one
Man muß die Absorptionsgeschwindigkeit A und beweglichen Gettermetallschicht erfolgt, die örtlich inThe absorption rate A and the movable getter metal layer must be determined locally in
Desoprtionsgeschwindigkeit D kennen, welche die einer mit einer Pumpe kommunierenden KammerKnow the desorption speed D , which is that of a chamber communicating with a pump
Pumpgeschwindigkeit gemäß folgender Gleichung erhitzt und dadurch entgast wird. Diese AnordnungPump speed is heated according to the following equation and thereby degassed. This arrangement
bestimmen: as ist in ihrem Aufbau infolge der vorgesehenen Rota-determine: as is their structure as a result of the intended rotation
dA aD tionsbewegung der Trägerschicht und der benötigten dA aD tion movement of the carrier layer and the required
P — ~fa jj~ · . Heizvorrichtung nicht nur erheblich komplizierter als P - ~ fa jj ~ ·. Heating device not only significantly more complicated than
die zur Durchführung des erfindungsgemäßen Ver-the implementation of the inventive
Der Erfinder verwendet daher ein Gettermetall, bei fahrens benötigte Vorrichtung, sondern sie arbeitetThe inventor therefore uses a getter metal, when driving the device, but it works
welchem^nicht nur in bezug auf M, sondern auch 3° 3^™^"^" Bewe«unS der Getterschicht^ which not only with respect to M, son countries also 3 ° 3 ^ ™ ^ '^' BEWE "un S of the getter
im absoluten Sinne klein ist und bei welchem die Die beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendeten Absorptionswahrscheinlichkeit bei einem Zusammen- Getterstoff^ sind an sich bekannt, beispielsweise stoß eines Gasteilchens mit dem Gettermetall groß ist. Tantal, Wolfram, Zirkon und Molybdän aus »High Bei der Vorrichtung nach der genannten USA.- 35 Vakua« von S. Inanananda, 1947, S. 293. Patentschrift 2 894 679 wird kontinuierlich Getter- Bei der Durchführung des erfindungsgemäßen Vermetalldampf niedergeschlagen, um die absorbierten fahrens wird ein Vakuumpumpenrezipient, der eine Gase zu überdecken und die alten Gettermetallnieder- Gettermetalloberfläche mit Pumpwirkung besitzt, zuschlage zu erneuern. Schon aus diesem Vorgang geht erst entweder mit frischem Metall überzogen oder hervor, daß es überraschend ist, die Gettermetall- 40 entgast, und der Rezipient und/oder die benachbarte schicht zum plötzlichen Einfangen eines Gasstoßes Vakuumkammer wird auf einen Druck von etwa verwenden zu können, denn zu diesem Zweck muß 10~° mm Hg oder darunter evakuiert. Zu diesemis small in the absolute sense and in which the die used in the method according to the invention Absorption probabilities in a composite getter substance are known per se, for example collision of a gas particle with the getter metal is large. Tantalum, tungsten, zirconium and molybdenum from »High In the device according to the above-mentioned USA.- 35 Vakua "by S. Inanananda, 1947, p. 293. Patent Specification 2,894,679 is continuously getter When carrying out the metal vapor according to the invention down to the absorbed driving becomes a vacuum pump recipient, the one To cover gases and the old getter metal low getter metal surface with pumping effect, strike to renew. Already from this process only goes either coated with fresh metal or show that it is surprising that the getter metal 40 degassed, and the recipient and / or the neighboring one layer for suddenly trapping a blast of gas vacuum chamber is raised to a pressure of about to be able to use, because for this purpose 10 ~ ° mm Hg or below must be evacuated. To this
■ . „, . dfl „ . ... , . -τ-* L Zeitpunkt, wenn nicht früher, wird eine Diffusions-■. ",. dfl ". ...,. -τ- * L point in time, if not earlier, a diffusion
ja der Wert -^ außerordenthch genng sein. Daher ^ angeschlossetlj die m|t einer Kuhlfal]e aus.yes, the value - ^ be extraordinarily acceptable. Hence ^ connected the m | t of a cold trap .
wird die erfindungsgemäße Verwendung eines Getter- 45 gerüstet ist, um eine Rückdiffusion von Öldämpfenthe use according to the invention of a getter 45 is equipped to prevent back diffusion of oil vapors
metalls in Verbindung mit einer Diffusionspumpe für zu vermeiden und die in der Lage ist, mittlere VoIu-metal in connection with a diffusion pump for and which is capable of medium volume
die Entfernung eines schnellen neutralen Teilchen- mina bei Drücken von 10~8 bis 10~lomm Hg aus-the removal of a fast, neutral particle mina at pressures of 10 ~ 8 to 10 ~ lo mm Hg.
bündels auch unter Berücksichtigung der Lehre der zupumpen. Die Diffusionspumpe wird in Reihe mitbundle also taking into account the teaching of pumping. The diffusion pump is in series with
vorausgehend genannten USA.-Patentschrift nicht dem Hauptrezipienten geschaltet und ermöglichtthe aforementioned USA patent is not switched to the main recipient and enabled
nahegelegt. 50 kontinuierlich die Gettermetalloberfläche und densuggested. 50 continuously the getter metal surface and the
Die Anwendung eines Gettermetalls ist zwar auch Rezipienten auszupumpen, wobei sich ein Gleich-The use of a getter metal can also be used to pump out recipients, whereby an equal
bereits in Verbindung mit Hochvakuumpumpen gewichtsdruck einstellt, der von dem Basisdruck dersets weight pressure already in connection with high vacuum pumps, which is different from the base pressure of the
bekannt, aber die bekannten Anwendungen unter- Diffusionspumpe, von den Undichtigkeiten in demknown, but the known applications under- diffusion pump, from the leaks in the
scheiden sich alle wesentlich von dem erfindungs- Pumpsystem und von anderen Faktoren abhängt,all differ essentially on the pumping system of the invention and depend on other factors,
gemäßen Verfahren. 55 Äquivalente Pumpeneinrichtungen können an Stelleproper procedures. 55 equivalent pumping equipment can be used in place of
So beschreibt die britische Patentschrift 768 003 der Diffusionspumpe ebenfalls verwendet werden, ein Verfahren, das darin besteht, in einem Raum Frische, in den Rezipienten eintretende Gase treffen durch kontinuierliches Verdampfen und Nieder- auf die Gettermetalloberfläche auf und werden unschlagen von Gettermetallschicht auf die Innenfläche mittelbaradsorbiert.DieDesorptionsgeschwindigkeiten dieses Raumes ein Vakuum aufrechtzuerhalten. Es soll 6c liegen im Bereich von etwa 10 bis 100 Teilchen pro hierbei durch die kontinuierliche Verdampfung und Quadratzentimeter und Sekunde für relativ reines oder Kondensation des Gettermetalls das Gas, das in ungesättigtes Metall bei Drücken im Bereich von einem früher niedergeschlagenen Gettermetall absor- 10~8 bis 1O-10 mm Hg. Diese Geschwindigkeiten biert ist, durch das später folgende Gettermetall ein- ermöglichen ein Abpumpen der Gase, die mit dieser geschlossen werden. Dementsprechend erfolgt dabei 65 Desorptionsgeschwindigkeit aus der Getterschicht im Gegensatz zum erfindungsgemäßen Verfahren keine austreten, mit der Diffusionspumpe. Wenn ein stoßständige Desorption der vom Gettermetall eingeschlos- artiger Einbruch von Gasteilchen oder Ionen in den senen Gase. Rezipienten kurzzeitig eintritt, wie z. B. infolge einesFor example, British patent specification 768 003 describes the diffusion pump can also be used, a process that consists in creating freshness in a room, gases entering the recipient hit the getter metal surface through continuous evaporation and deposition and are indirectly adsorbed by the getter metal layer on the inner surface .The rate of desorption of this space to maintain a vacuum. It should be in the range of about 10 to 100 particles per 6c due to the continuous evaporation and square centimeter and second for relatively pure or condensation of the getter metal, the gas that absorbed into unsaturated metal at pressures in the range of a previously precipitated getter metal 10 ~ 8 up to 10 -10 mm Hg. These speeds are enabled by the getter metal that follows later, allowing the gases to be pumped out, which are closed with this. Accordingly, in contrast to the method according to the invention, there is no desorption rate from the getter layer with the diffusion pump. If there is a sudden desorption of the break-in of gas particles or ions in the gases enclosed by the getter metal. Recipient briefly occurs, such as B. as a result of a
7 . 87th 8th
Entladungsstoßes von beschleunigten Teilchen, treffen mit einer für das Pumpverfahren nach der Erfindung
deshalb diese Teilchen auf die Gettermetalloberfläche geeigneten Pumpe verbunden werden kann,
auf und werden dort vollständig adsorbiert, ohne daß Zum Aufrechterhalten von Vakuumdrücken in
der Glcichgewichlsdruck merklich ansteigt, solange großen Behältern im Gebiet unterhalb 10~e mm Hg
die Adsorptionskapazität des Metalls nicht über- 5 wird der Behälter in den meisten Fällen vorevakuiert
schritten wird. Wenn der den Überdruck erzeugende unter Bedingungen, die ein Entgasen der Wandober-Gascinbruch
zu Ende ist, werden die Gase mit der- fläche und anderen Oberflächen innerhalb des Behälselbcn
Geschwindigkeit oder einer leicht höheren ters bewerkstelligen, z. B. mittels einer Diffusions-Geschwindigkeit
weiterhin ausgetrieben, und dadurch pumpe. Wo der evakuierte Raum oder Behälter zu
wird eine vollständige Entfernung des Gaseinbruchs io Experimentierzwecken oder Versuchszwecken verohne
merkliches Ansteigen des Gleichgewichtsdruckes wendet werden soll, wie z. B. in der Vakuumtechnik,
ermöglicht. bei Studien des Erdaußenraums, in der Massen-Impulse discharge of accelerated particles, hit with a pump suitable for the pumping method according to the invention, therefore these particles can be connected to the getter metal surface,
and are completely adsorbed there without the equilibrium pressure increasing noticeably, as long as the adsorption capacity of the metal in large containers in the area below 10 ~ e mm Hg does not exceed the adsorption capacity of the metal. When the overpressure generating under conditions that degassing of the wall top gas breach is over, the gases with the surface and other surfaces within the container will accomplish speed or a slightly higher rate, e.g. B. continues to be expelled by means of a diffusion speed, and thereby pump. Where the evacuated space or container is to be used for a complete removal of the gas ingress for experimental purposes or test purposes without a noticeable increase in the equilibrium pressure, such as e.g. B. in vacuum technology. in studies of the earth's outer space, in the mass
Dic Erfindung ermöglicht ein Pumpen bei Drücken spektroskopie, bei Plasmaeinrichtungen oder bei Kernunterhalb 10-" mm Hg ein Abpumpen der infolge Studien, werden Teilchen anders als Luft oder gewöhn-Desorption aus der Gettermetalloberfläche frei 15 liehe Gase auch dazu neigen, zusammen mit Resten werdenden Gase mit einer Diffusionspumpe, während oder entgasten Verunreinigungen anwesend zu sein, die meisten beim Gaseinbruch eintretenden Gase beim Solche Teilchen und Gase umfassen häufig Gasionen, gleichen Druck sofort adsorbiert werden. Dies wird energiereiche Elementarteilchen und Leichtgase, wie bewerkstelligt ohne besondere Erhitzung der Getter- z. B. zweiatomigen oder dissoziierten Wasserstoff, oberflächen, die sonst gewöhnlich durchgeführt wird, 20 Deuterium und Tritium. Diese Teilchen und Gase um Vakuumvorrichtungen zu entgasen. Wenn der können eine willkürliche thermische Bewegung aus-Druck des neu auftretenden Gases über den Druck, führen, jedoch werden sie eine anfänglich gerichtete, bei dem das Metall vorher entgast wurde, ansteigt, über ein Energiespektrum verteilte Geschwindigkeit adsorbiert das Gettermetall weiter Gas, und infolge besitzen, wodurch eine trägheitslose Vakuumleitung dessen großer Kapazität für diese Gase tut es dies fast 25 schwierig oder unbestimmt ist. Ein Teilcheneinfang unbegrenzt. Das Desorptions-Adsorptions-Gleichge- und -ausstoß mit vernachlässigbarer Rückdiffusion in wicht verlagert sich nur sehr langsam, so daß, nachdem den Vakuumraum selbst ist praktisch besonders zusätzliches Gas von einem Gaseinbruch adsorbiert schwierig, wenn die vorher erwähnten leichten Gasworden ist, der Desorptionsdruck fast unverändert teilchen, Wasserstoff, Deuterium und/oder Tritium bleibt. Zum Beispiel wurde gefunden, daß die Wände 30 anwesend sind, da die willkürlichen thermischen eines geschlossenen Raumes von 7500 cm2 Innenfläche Bewegungsgeschwindigkeiten sogar in relativ unerregbci einem Druck von 10~7 mm Hg 0,1 bis 0,2 Mikron ten Zuständen extrem hoch sind. Es ist klar, daß, um Liter Wasserstoff pumpen können und noch dieses das günstigste Gleichgewicht zu erhalten, die Anzahl Gas vollständig desorbieren bei einer Nettogeschwin- der Stöße zwischen den Gasteilchen oder auf nicht eindigkeit, die durch die Vakuumleitung des Diffusions- 35 fangende Oberflächen auf einem Minimum gehalten pumpcnsystems bestimmt ist. werden muß, da die Möglichkeit der RückdiffusionThe invention enables pumping at pressures spectroscopy, for plasma devices or for cores below 10- "mm Hg. As a result of studies, particles other than air or the usual desorption of gases from the getter metal surface also tend to be released together with residual gases with a diffusion pump to be present during or degassed impurities, most of the gases entering the gas ingress when such particles and gases often comprise gas ions, same pressure are adsorbed immediately. B. diatomic or dissociated hydrogen, surfaces, which is otherwise usually carried out, 20 deuterium and tritium. These particles and gases to degas vacuum devices. If the can lead to an arbitrary thermal movement out-pressure of the newly emerging gas above the pressure, however will you be an initially geric If the metal had previously been degassed increases, the getter metal continues to adsorb gas over an energy spectrum, and consequently have an inertial vacuum line whose large capacity for these gases makes this almost difficult or indeterminate. Unlimited particle capture. The desorption-adsorption equilibrium and discharge with negligible back diffusion in weight shifts only very slowly, so that after the vacuum space itself is practically particularly additional gas adsorbed by a gas intrusion, when the previously mentioned light gas has become, the desorption pressure is almost particles remain unchanged, hydrogen, deuterium and / or tritium remains. For example, it has been found that the walls are present 30 since the arbitrary thermal of a closed space of 7500 cm 2 inner surface moving speeds of a pressure of 10 -7 mm Hg 0.1 to 0.2 microns ten states are extremely high even in relatively unerregbci . It is clear that in order to be able to pump liters of hydrogen and still obtain the most favorable equilibrium, the number of gas will desorb completely at a net speed of collisions between the gas particles or on non-uniformity on the surfaces trapping through the vacuum line of the diffusion pumping system is kept to a minimum. must be, since the possibility of back diffusion
Durch kontinuierliches Pumpen mit der Diffusions- hierbei besonders groß ist.Due to continuous pumping with the diffusion this is particularly large.
pumpe wird ein gleichmäßig niederer Druck in dem Die kritischen Bedingungen, unter denen Vakuapump will produce a uniformly low pressure in which the critical conditions under which vacuums
Rczipicnten erhalten, sogar wenn größere Gasein- häufig aufrechterhalten werden müssen, werden bei-Recipients are obtained, even if larger gas incidents have to be maintained, both
brüchc intermittierend in dem Metall mit einer Ge- 40 spielsweise für Plasmavorrichtungen gestellt, in denenbrüchc intermittently in the metal with a device 40 for example for plasma devices in which
schwindigkeit adsorbiert werden, die größer als die die geladenen Teilchen innerhalb einer geeigneten An-velocity are adsorbed, which is greater than that of the charged particles within a suitable range
Desorptionsgeschwindigkeit ist. Ordnung von elektrischen und magnetischen Feldern inDesorption rate is. Order of electric and magnetic fields in
An Hand der Figuren, die Ausführungsbeispiele der einer Vakuumkammer enthalten sind. Im allgemeinenOn the basis of the figures, the exemplary embodiments of a vacuum chamber are included. In general
Erfindung darstellen, soll die Erfindung näher erläutert muß der Vakuumbehälter auf einen Basisdruck vonTo represent the invention, the invention is to be explained in more detail, the vacuum container must be set to a base pressure of
werden. 45 10~" mm Hg oder darunter ausschließlich des zentralwill. 45 10 ~ "mm Hg or below excluding the central
F i g. .1 zeigt einen Vertikalschnitt, teilweise schema- darin enthaltenen Plasmas evakuiert werden. Da getisch durch eine bevorzugte Ausführungsform einer ladene Teilchen wegen des magnetischen Führungs-Vorrichtung zum Verdampfen und kontinuierlichen feldes nicht direkt in den Zentralplasmabereich einge-Niederschlagen von Gettermetall im Vakuum, die leitet werden können, werden zahlreiche Verfahren besonders für die Verwendung in einer Getterpumpe, 50 zum Injizieren neutraler Teilchen verwendet. Zum Beiin der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt spiel können gerichtete Teilchen aus energiereichen werden kann, geeignet ist; neutralen Teilchen, wie z. B. Wasserstoff, DeuteriumF i g. .1 shows a vertical section, partially schematic, plasma contained therein are evacuated. There get table by a preferred embodiment of a charged particle because of the magnetic guiding device for evaporation and continuous field not deposited directly in the central plasma area of getter metal in a vacuum that can be conducted are numerous processes especially for use in a getter pump, 50 used to inject neutral particles. To the Beiin The game carried out the process according to the invention can play directed particles from high-energy can be, is suitable; neutral particles, such as B. hydrogen, deuterium
F i g. 2 zeigt einen Längsschnitt der flüssigkeitsge- und Tritium, durch Zusammenstoß energiereicherF i g. 2 shows a longitudinal section of the liquid and tritium, energetic by collision
kühlten, in F i g. 1 dargestellten, Einheit zur Zuführung Strahlen aus geladenen Teilchen mit solchen aus neu-chilled, in Fig. 1 shown, unit for supplying beams from charged particles with those from new-
des Gettcrmetalls; 55 tralen Teilchen oder durch Ladungsaustausch mit ge-of the getter metal; 55 neutral particles or through charge exchange with
F i g. 3 zeigt teilweise schematisch einen Querschnitt ladenen Teilchen erhalten werden, wobei der EintrittF i g. Fig. 3 shows partially schematically a cross section of charged particles obtained with the entrance
durch eine Ionenpumpe, die für das kontinuierliche in das entsprechende Gebiet durch ein elektrisches undby an ion pump, which is responsible for the continuous in the corresponding area by an electric and
Aufdampfen und Überziehen von Gettermetall auf die magnetisches Feld erreicht werden kann. Ionen undVapor deposition and coating of getter metal on the magnetic field can be achieved. Ions and
Kathodenplatten eingerichtet ist und in der das erfin- andere Teilchen werden innerhalb dieses BereichsCathode plates are set up and in which the inven- tive particles are located within this range
dungsgemäße Verfahren praktisch durchgeführt wer- 60 durch Plasmaladungsaustausch oder durch ionisierendemethods according to the invention are practically carried out by plasma charge exchange or by ionizing
den kann; Stöße und andere Effekte erhalten. Einige der neu-can; Received bumps and other effects. Some of the newly
F i g. 4 zeigt einen Längsschnitt durch eine mit tralen Teilchen durcheilen vollständig diesen BereichF i g. Fig. 4 shows a longitudinal section through a central particle running completely through this area
flüssigem Stickstoff gekühlte Kühlfalle, die Vorzugs- und müssen zusammen mit den geladenen TeilchenLiquid nitrogen-cooled cold trap, the preferred and must be used together with the charged particles
weise an den Einlaß einer öldiffusionspumpe ange- sowie auftretenden Verunreinigungen entfernt werden,wise at the inlet of an oil diffusion pump and any impurities are removed,
schlossen werden kann. 65 Für die wirksamste Verfahrensweise in Plasmavor-can be closed. 65 For the most effective procedure in plasma
Für die praktische Durchführung der Erfindung richtungen der oben beschriebenen Art werden dieFor the practical implementation of the invention directions of the type described above are the
wird gewöhnlich ein Rezipient oder ein Behälter vor- Pumpeinrichtungen in paralleler Flucht angeordnet,a recipient or a container is usually arranged in parallel alignment in front of the pumping devices,
gesehen, der auf niedere Vakuumdrücke evakuiert und um den Reststrahl der geladenen und/oder neutralenseen, the evacuated to lower vacuum pressures and around the residual beam of the charged and / or neutral
Teilchen aufzufangen, so daß die meisten der Teilchen Die Diffusionspumpe bleibt kontinuierlich ange- oder Gase eingefangen werden schon vor der Zeit, in schlossen, aber kein zusätzliches Gettermetall wird der sie ihre Geschwindigkeit verringern und willkür- auf die Oberflächen aufgedampft. Wenn beliebige lieh durch den Behälter wandern. Der Vakuumraum Mengen von Teilchen in den Pumpraum eindringen kann mit dem Pumpenraum einen gemeinsamen Raum 5 und auf die Gettermetalloberflächen infolge therbilden, jedoch wenn, wie vorher erwähnt, ein Teilchen- mischer Bewegung auf treffen, werden sie absorbiert strahl abgesaugt wird, wird eine weit geöffnete öffnung und wieder desorbiert, entsprechend dem Adsorptionsvon einiger Tiefe bevorzugt, um eine Aufnahme vor Desorptions-Gleichgewicht des Metalls, und werden den ersten Zusammenstößen zu erleichtern. Diese eventuell infolge einer willkürlichen Bewegung in den Probleme sind nicht nur für den Plasmaeinschluß allein io Diffusionspumpeneinlaß eintreten und somit entfernt kennzeichnend, sondern sie treten auch in Beschleuni- werden. Gaseinbrüche von kurzer Dauer, die in den gern und anderen Geräten mit hoher Teilchenenergie Pumphohlraum eintreten, treffen ebenfalls auf die auf. Wo sich eine ungeordnete oder thermische Bewe- Gettermetalloberflächen auf. Statt daß sich der Druck gung ausbildet, wie sie in Versuchsfeldern, wo geladene im Verhältnis zu der Größe der Gaseinbrüche erhöht, Teilchen normalerweise fehlen, um Gase in den 15 wird die ganze Gasmenge meistens unmittelbar Pumpenraum einzuführen, wird eine große Öffnung im adsorbiert — nachdem jedes Gasteilchen nur wenige Verhältnis zum Durchmesser oder zur Weite der Stöße gegen die GettermetaHoberfiäche ausgeführt Pumpkammer ebenfalls bevorzugt, um die Eintritts- hat —, bis die Oberfläche gesättigt ist. Die Desorpwahrscheinlichkeit zu erhöhen. Entsprechend dem tionsgeschwindigkeit wächst, statt daß sie im Verhalt-Verfahren nach der Erfindung wird, in einfachsten 20 nis zu der steigenden Zahl der adsorbierten Teilchen Worten ausgedrückt und in F i g. 1 dargestellt, ein zunehmen würde, nur in einem nichtlinearen Verhältnis Vakuumgenäuse 11 vorgesehen, das durch eine OfF- um wenige Prozent der Gaseinbrüche infolge der bemmgl5 mit einem Vakuumbehälter 13 kommuni- merkenswerten neuartig gefundenen Affinität von ziert, mit dem es vakuumdicht verbunden ist. Das Gettermetallen für große Mengen von Gas bei niederen Pumpgehäuse 11 bestimmt einen Rezipienten oder 35 Drücken. Durch Fortsetzung des Absaugens mit der Pumpraum 12, und die innere Oberfläche 116 des Diffusionspumpe oder mit anderen eine Pump-Gehäuses 11 weist ein Gettermetall auf, das, obgleich wirkung ausübenden Einrichtungen werden dann die es nicht erforderlich ist, mittels einer Aufdampf- aus den Gaseinbrüchen stammenden, zusätzlich adsoreinrichtung 27 aufgebracht werden kann. Neben den bierten Gase, wenn sie nun wieder desorbiert werden, eine Pumpwirkung ausübenden Flächen 116 und im 30 ohne ein merkliches Anwachsen des Gleichgewichtsallgemeinen an den dem Eintritt 15 gegenüberliegenden druckes entfernt. To collect particles so that most of the particles The diffusion pump remains on continuously. or gases are trapped in ahead of time, but no additional getter metal is made which they reduce their speed and randomly evaporated onto the surfaces. If any borrowed to wander through the container. The vacuum space allows quantities of particles to penetrate into the pumping space can form a common space 5 with the pump space and on the getter metal surfaces as a result, however, when, as mentioned earlier, a mix of particles encounter motion, they will be absorbed If the jet is sucked off, a wide-open opening is desorbed again, corresponding to the adsorption of some depth is preferred to an intake before desorption equilibrium of the metal, and be to facilitate the first collisions. This possibly as a result of an arbitrary movement in the Problems are not only occurring for plasma confinement alone and thus removed from the diffusion pump inlet characteristic, but they also occur in acceleration. Short-lived gas ingresses occurring in the like and other devices with high particle energy pump cavity enter, also hit the on. Where there is a disorderly or thermal moving getter metal surface. Instead of the pressure as it is in test fields, where charged levels are increased in relation to the size of the gas penetrations, Particles are normally absent to gases in the 15, the whole amount of gas is mostly immediate Introducing the pump space, a large opening is adsorbed in the - after each gas particle only a few Relation to the diameter or to the width of the joints against the getter metal surface Pump chamber also preferred to have the inlet - until the surface is saturated. The desorp probability to increase. According to the tion speed grows instead of them in the behavioral process According to the invention, in the simplest 20 nis to the increasing number of adsorbed particles Words and expressed in FIG. 1, one would increase only in a non-linear relationship Vacuum housing 11 is provided, which by an OfF- by a few percent of the gas ingress as a result of bemmgl5 with a vacuum container 13, the newly found affinity of with which it is connected in a vacuum-tight manner. The getter metals for large amounts of gas at low Pump housing 11 determines a recipient or 35 pressures. By continuing the suction with the Pump chamber 12, and the inner surface 116 of the diffusion pump or with others a pump housing 11 has a getter metal, which, although effect-exerting devices are then the It is not necessary to use an additional adsorber device from the gas ingress by means of vapor deposition 27 can be applied. In addition to the beer gases, if they are now desorbed again, surfaces 116 exerting a pumping action and in 30 are removed without a noticeable increase in equilibrium in general at the pressure opposite the inlet 15.
Ende des Pumpraums 12 befindet sich der Auslaß 117, Die Fähigkeit oder Affinität des Gettermetalls, dieAt the end of the pump chamber 12 is the outlet 117, The ability or affinity of the getter metal that
der zu den Pumpen, wie z. B. zu einer Diffusions- Gaseinbrüche zu adsorbieren, ist nur durch dieto the pumps, such. B. to adsorb a diffusion gas ingress is only through the
pumpe 118, führt. Kapazität des Metalls in Hinsicht auf die Gasaufnahmepump 118, leads. Capacity of the metal in terms of gas absorption
Bei der praktischen Durchführung des Verfahrens 35 begrenzt, wobei die Kapazität etwa 1014 bis 101B In the practical implementation of the method 35 is limited, the capacity being approximately 10 14 to 10 1B
nach der Erfindung wird die eine Pumpwirkung aus- Teilchen pro Quadratzentimeter SammeloberflächeAccording to the invention, the pumping action consists of particles per square centimeter of collecting surface
übende Oberfläche 116, die aus Gettermetall besteht, beträgt. Die Fähigkeit, einer gegebenen Vorrichtungexercising surface 116, which consists of getter metal, is. The ability of a given device
im allgemeinen zuerst entgast und der Pumpraum wird alle Teilchen eines Gaseinbruches zu adsorbieren,generally degassed first and the pump chamber will adsorb all particles of a gas intrusion,
mittels einer Pumpe, wie z. B. einer Diffusions- wird demnach von der Gesamtfläche des verwendetenby means of a pump, such as. B. a diffusion is therefore of the total area of the used
pumpe 118, gewöhnlich zusammen mit dem zu eva- 40 Gettermetalls abhängen. In der Praxis werden Gas-pump 118, usually along with the 40 getter metal to be evacuated. In practice, gas
kuierenden Vakuumhohlraum, auf einen Druck unter- einbrüche, die Druckvergrößerungen um den Faktor 10the vacuum cavity, the pressure increases by a factor of 10 in response to a pressure drop
halb 10~B mm Hg evakuiert. In den meisten Fällen oder 100 oder mehr hervorrufen, vollständig adsorbierthalf 10 ~ B mm Hg evacuated. For the most part, or 100 or more will cause it to be completely adsorbed
wird die eine Pumpwirkung ausübende Oberfläche 116 und hernach mit einer Geschwindigkeit, die von derbecomes the pumping surface 116 and thereafter at a rate equal to that of the
weiter kontinuierlich mit Gettermetall überzogen, Vakuumleitung der Diffusionspumpe abhängt, ab-continuously coated with getter metal, the vacuum line of the diffusion pump depends on,
indem eine kontinuierlich arbeitende Aufdampf- 45 gesaugt.by a continuously operating vapor deposition 45 sucked.
einrichtung 27 verwendet wird, um eine Pump- Insbesondere kann bei Verwendung der Metalle wirkung zu erhalten, durch die der Vakuumhohlraum Molybdän, Wolfram, Tantal, Zirkon, Titan, Niob als auf einen Gleichgewichtsdruck ausgepumpt wird. Gettermetalle auf einer Oberfläche in Form eines Andererseits kann durch verlängertes Pumpen der Überzugs von wenigstens 10~B cm Dicke eine Menge Gleichgewichtsdruck mit der Diffusionspumpe 118 50 gasförmigen Wasserstoffs, die etwa 1017 Teilchen allein aufrechterhalten werden. Am Ende dieses Ver- entspricht, auf jeden Quadratzentimeter der Wandfahrensabschnitts, der ein Entgasen durch eine Heiz- oberfläche bei einem Gleichgewichtsdruck von etwa einrichtung einschließen kann, wird der Gleich- 10~8 mm Hg adsorbiert werden, ohne daß der Druck gewichtsdruck mit der Diffusionspumpe 118 allein infolge des Adsorptions-Desorptions-Gleichgewichtes aufrechterhalten. Gewöhnlicherweise wird die Diffu- 55 auf mehr als 10~7 mm Hg ansteigt. Die ganze Gassionspumpe eine üblich konstruierte Pumpe sein, mit menge wird schnell nach nur wenigen Stoßen pro der Ausnahme, daß sie eine Kühlfalle oder andere Molekül gegen die Gettermetalloberfläche adsorbiert. Trenneinrichtungen besitzt, um eine Rückdiffusion Das Adsorptions-Desorptions-Gleichgewicht für andes Öls oder der Pumpenflüssigkeit bei niederen dere Gase, als zweiatomigen Wasserstoff ändert sich Drücken zu vermeiden. 60 unter den oben aufgeführten Umständen nur wenig,Device 27 is used to obtain a pumping effect, in particular when using the metals, through which the vacuum cavity molybdenum, tungsten, tantalum, zirconium, titanium, niobium is pumped out than to an equilibrium pressure. Getter on a surface in the form of an other hand, the coating of at least 10 ~ B cm thickness can be extended by pumping a lot of equilibrium pressure with the diffusion pump 118 50 gaseous hydrogen, which is about 10 17 particles are maintained alone. At the end of this comparison, for every square centimeter of the wall travel section, which can include degassing through a heating surface at an equilibrium pressure of approximately one, the equilibrium 10 ~ 8 mm Hg will be adsorbed without the pressure being weighted with the diffusion pump 118 maintained solely as a result of the adsorption-desorption equilibrium. Usually the diffusivity will rise above 10 ~ 7 mm Hg. The whole gas pump can be a conventionally designed pump, with quantity will quickly after only a few bumps per exception that it adsorbs a cold trap or other molecule against the getter metal surface. Has separating devices to avoid back diffusion. The adsorption-desorption equilibrium for andes oil or pump liquid in the case of lower gases than diatomic hydrogen changes pressures. 60 little under the circumstances listed above,
Nachdem der erforderliche Gleichgewichtsdruck da diese leichter adsorbiert und schwerer desorbiert
erreicht worden ist, wird mit der Arbeitsweise in dem werden. Andere Gettermetalle, die verwendet werden
Vakuumhohlraum begonnen, d. h., der Pumpraum können, für die aber genaue Werte nicht vorliegen,
wird zu dem zu evakuierenden Hohlraum geöffnet, sind Barium, Aluminium und Rhenium,
oder wenn er bereits geöffnet ist, werden die Versuche 65 In F i g. 1 ist eine bevorzugte Ausführungsform
oder Anwendungen innerhalb des Vakuumhohlraums einer zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verbegonnen.
Der Pumpraum ist dabei Gaseinbriichen fahrens praktisch verwendbaren Vorrichtung darausgesetzt,
die bei der Evakuierung erzeugt werden. gestellt, die einen Pumpraum aufweist, in dem Getter-After the required equilibrium pressure has been reached, since it is more easily adsorbed and more difficult to desorb, the procedure in the will be. Other getter metals that are used vacuum cavity started, that is, the pumping chamber, but for which exact values are not available, is opened to the cavity to be evacuated, are barium, aluminum and rhenium,
or if it is already open, attempts 65 in FIG. 1 is a preferred embodiment or applications within the vacuum cavity of one for performing the inventive concept. The pumping chamber is made up of a device which can be used in practice and which is generated during evacuation. provided, which has a pump chamber in which getter
11 1211 12
metall auf die Wände niedergeschlagen wird, und die Wand 17 hindurchgeführt und mit den Rollen 48 ebenfalls für eine kontinuierliche Evakuierung mit bzw. 49 verbunden sind, vakuumdicht abzudichten, einer Diffusionspumpe oder anderen Pumpeinrich- hat sich die Verwendung von flüssigen Metalldichtungen ausgerüstet ist. tungen als besonders geeignet und besonders dichtmetal is deposited on the walls, and the wall 17 is passed through and with the rollers 48 are also connected to or 49 for continuous evacuation, to be vacuum-tight, a diffusion pump or other pumping device has the use of liquid metal seals is equipped. as particularly suitable and particularly tight
Ein länglicher Zylinder Il schließt einen Rezipienten 5 bewährt. Zum Beispiel hat sich eine Metallzusammenoder
eine Vakuumkammer 12 ein, deren oberes Ende Setzung aus 62,5% Gallium, 21,5°/o Indium und 160I0
in einen nicht dargestellten Vakuumbehälter mündet, Zinn, die bei etwa 100C schmilzt, in der Praxis als
der durch Wände 13 angedeutet ist. Der Boden der besonders vorteilhaft bewiesen.
Kammer 12 ist durch eine entfernbare Grundplatte J4 Das gleiche Vakuum wird zwischen den Kammern 12
geschlossen, die ebenfalls als Endbegrenzung einer io und 16 aufrechterhalten, da diese durch das Drahtzweitcn
Vakuumkammer 16, die durch den Zylinder 17 zuführungsrohr 31 miteinander in Verbindung stehen,
bestimmt wird, dient. Die Zylinder 11 und 17 sind mit was durch eine Auswahl der Größe des zugeführten
ihren Flanschen 19 bzw. 21 zu beiden Seiten der Drahts bewirkt wird, der eine Toleranz von B/1000 oder
Grundplatte 14 angeordnet und im druckfesten Paß- weniger in bezug auf das Drahtzuführungsrohr 31
sitz mittels Bolzen 18 zusammengeschraubt, wobei 15 besitzt. Außerdem wird der Draht 46, bevor er in die
zwischen der Grundplatte 14 und jedem der Flanschel9 wassergekühlte Zuführungseinheit 27 eingeführt wird,
bzw. 21 Dichtungen 22 aus deformierbarem Metall entgast, wie es beispielsweise durch Ohmsche Erangeordnet
sind. Die zweite Kammer 16 ist in ge- wärmung über eine mit einer Stromquelle 51 verbuneignctcr
Weise an ihrem unteren Ende mittels einer dene Zuleitung 50 erfolgen kann. Diese Zuleitung 50
entfernbaren Endplatte 23 verschlossen und ist vor- ao ist an einer vakuumdichten isolierten Stelle 52 durch
zugsweise mit einer weiteren Pumpe 24 mittels des die Endplatte 23 hindurchgeführt und ist mit einem
Austrittsrohrs 26 verbunden. Spulenhalter 53 für die Trägerspule 47 verbunden.An elongated cylinder II closes a recipient 5, which has been tried and tested. For example, a metal assembly or a vacuum chamber 12, the upper end of which is composed of 62.5% gallium, 21.5% indium and 16 0 I 0 opens into a vacuum container (not shown), tin, which melts at about 10 0 C , in practice as indicated by walls 13. The soil which proved particularly beneficial.
Chamber 12 is closed by a removable base plate J4. The same vacuum is closed between chambers 12, which are also maintained as the end limits of a 10 and 16, as this is determined by the two wire vacuum chambers 16, which are connected to one another by the cylinder 17 feed tube 31 , serves. The cylinders 11 and 17 are arranged with what is effected by a selection of the size of the fed their flanges 19 and 21 on both sides of the wire, which has a tolerance of B / 1000 or base plate 14 and in the pressure-tight fit less with respect to the Wire feed tube 31 is screwed together seat by means of bolts 18, 15 having. In addition, the wire 46 is degassed before it is introduced into the feed unit 27, or 21 seals 22 made of deformable metal, which is water-cooled between the base plate 14 and each of the flanges 9, as is arranged, for example, by ohmic Er. The second chamber 16 can be heated via a connection to a current source 51 at its lower end by means of a dedicated supply line 50. This feed line 50, which can be removed from the end plate 23, is closed and is passed through the end plate 23 at a vacuum-tight, insulated point 52, preferably with a further pump 24, and is connected to an outlet pipe 26. Coil holder 53 for the carrier coil 47 connected.
Eine innerhalb der Kammer 12 koaxial zu dieser, Der Halter 53 ist aus einem leitenden Metall hergevcrtikalangeordnetewassergekühlteGetterversorgungsstellt
und ist gegenüber der Endplatte, wie allgemein einheit 27 ist in die Grundplatte 14 eingeschraubt. 25 bei 54 dargestellt ist, isoliert. Die Stromquelle 51 ist
Die Gettcrversorgungseinheit 27 ist im Querschnitt in mittels eines Kontakts 56 mit der Endplatte verbun-F
i g. 2 dargestellt. Sie besitzt einen mit einem Ge- den, um einen Stromkreis zu schließen, dessen Stromwinde
versehenen massiven Stopfen 28, der in die leitungsbahn den Draht 46 einschließt. Der Draht 46
Grundplatte 14 eingeschraubt werden kann. Durch wird deshalb infolge des durch ihn fließenden Stromes
den Stopfen erstreckt sich eine Bohrung 29 im all- 30 und seines Widerstandes erwärmt. Im Hinblick auf
gemeinen senkrecht zu der Ebene des außen herum- die Herstellung des Materials des Zuführungsdrahts 46
führenden Gewindes. Ein langes, zentral angeordnetes ist zu beachten, daß dieser Draht ein Gettermetall
Zulcitungsrohr 31 aus Metall ist im dichten Paßsitz oder eine Kombination mehrerer Gettermetalle sein
in der Bohrung 29 angeordnet und erstreckt sich der kann. Für die Adsorptions- und Pumpvorgänge wäh-Länge
nach eine bestimmte Strecke in die Vakuum- 35 rend der kontinuierlichen Verdampfung des Zukammcr
12. Geeignete Rohre 32 bzw. 33 sind kon- führungsdrahtes und während des darauffolgenden
zentrisch um das Zuleitungsrohr 31 angeordnet und Niederschiagens des Metalldampfes in dem Pumpbeide
sind ein Stück in den oberen Teil des Stopfens 28 hohlraum haben sich Titan, Tantal, Wolfram und
versenkt, wobei das äußerste Rohr 33 weniger tief als Molybdän, ebenso Zirkon, Niob, Thorium und Uran
das mittlere Rohr 32 eingesenkt ist. Eintritts- und Aus- 40 als bestens geeignet herausgestellt,
trittsöffnungen 34 und 36, die sich unter der Grund- Um den Zuführungsdraht 46, der aus dem oberen
platte 14 in dem Stopfen 28 befinden, sind zur Kühl- Ende des Zuführungsrohrs 31 austritt, auf eine hohe
mittelzuführung bzw. -abführung in den Rohren 33 Temperatur zu erhitzen, sind Einrichtungen vorge-
bzw. 32 vorgesehen. Eine passend geformteSpitze 37 sehen, um diesen Draht mit einem Elektronenstrahl
ist mit dem äußeren Rohr 33, wie es allgemein bei 38 45 zu beschießen. Ein Kathodenstrahlerzeuger 59, der
angezeigt ist, fest verbunden und so ausgebildet, daß einen Glühfaden 60 aufweist, ist über der Spitze 37
sie eine Einheit mit dem angeschlossenen Zuleitungs- angeordnet, z. B. mittels Kathodenhaltern 61, die in
rohr 31 bildet. Kühlwasser oder eine gleichwertige der Grundplatte 14 isoliert gehaltert sind. Die Er-Kühlflüssigkeit,
die zu der Einlaßöffnung 34 ein- hitzung des Fadens 59 zur Elektronenemission gegelassen
wird, fließt nach oben zwischen den Rohren 32 50 schieht über Zuleitungen 62, die mit den Haltern 61
und 33, wird durch die Spitze 37 umgeleitet und fließt an der unteren Seite der Grundplatte 14 verbunden
nach unten zwischen den Rohren 32 und 31 und zu sind. Diese Zuleitungen sind nach außen durch herder
Auslaßöffnung 36 aus. Mit der Einlaß- bziehungs- metisch abgedichtete Büchsen 63, die in der Endweise
AuslaßölTnung 34 bzw. 36 sind Rohrleitungen 39 platte 23 angeordnet sind, geführt und mit einer
bzw. 41 verbunden. Diese Rohrleitungen führen nach 55 geeigneten Stromquelle 64 verbunden, deren einer
außen durch die Kammerwand 17, wie allgemein bei Pol an dem geerdeten Gehäusepotential liegt. Die
42 bzw. 43 angedeutet ist, um eine Verbindung mit von dem Faden 60 emittierten Elektronen werden auf
einer äußeren Wasserversorgung 44 zu erleichtern. die geschmolzene Kugel oder Masse 72 grob fokussiertA water-cooled getter supply made of a conductive metal is made of a conductive metal and is screwed into the base plate 14 opposite the end plate, as is generally the unit 27. 25 shown at 54 is isolated. The power source 51 is. The power supply unit 27 is connected in cross section to the end plate by means of a contact 56. 2 shown. It has a massive plug 28 which is provided with a wire in order to close a circuit, its current winch and which encloses the wire 46 in the conductive path. The wire 46 base plate 14 can be screwed in. A bore 29 extends through the plug as a result of the current flowing through it, and its resistance is heated. With regard to the common thread perpendicular to the plane of the outside around the production of the material of the feed wire 46 leading. A long, centrally arranged one is to note that this wire is a getter metal supply pipe 31 made of metal in a tight fit or a combination of several getter metals can be arranged in the bore 29 and extends. For the adsorption and pumping processes for a certain distance into the vacuum, the continuous evaporation of the compound 12. Suitable pipes 32 and 33 are guide wire and are arranged centrally around the supply pipe 31 during the subsequent process and the metal vapor is deposited In the pump both are a piece in the upper part of the plug 28 cavity have sunk titanium, tantalum, tungsten and, with the outermost tube 33 less deep than molybdenum, as well as zirconium, niobium, thorium and uranium, the middle tube 32 is sunk. Entry and exit 40 highlighted as ideally suited,
Inlet openings 34 and 36, which are located under the base of the feed wire 46, which is located from the upper plate 14 in the plug 28, are to the cooling end of the feed pipe 31, to a high medium supply or discharge in the pipes 33 To heat the temperature, devices are provided or provided. A suitably shaped tip 37 can be seen to bombard this wire with an electron beam to the outer tube 33, as indicated generally at 38-45. A cathode ray generator 59, which is indicated, fixedly connected and designed to have a filament 60, is arranged over the tip 37 as a unit with the connected supply line, e.g. B. by means of cathode holders 61 which form in tube 31. Cooling water or an equivalent of the base plate 14 are held insulated. The Er cooling liquid, which is allowed to heat the inlet opening 34 of the thread 59 for electron emission, flows upwards between the tubes 32 50 passes via feed lines 62, which are connected to the holders 61 and 33, is diverted through the tip 37 and flows on the lower side of the base plate 14 connected down between the tubes 32 and 31 and to are. These leads are outwardly through the outlet port 36. Bushings 63 which are sealed with the inlet and which are arranged in the end-to-end outlet oil channel 34 and 36 are pipelines 39 plate 23, guided and connected to one or 41. These pipelines lead to a suitable power source 64 connected, one of which is externally through the chamber wall 17, as is generally the case with Pole, at the earthed housing potential. The 42 or 43 is indicated in order to facilitate a connection with electrons emitted by the filament 60 on an external water supply 44. the molten ball or mass 72 roughly in focus
Ein auf einer drehbaren Metallspule 47 aufgewickel- durch ein an eine Vorspannung gelegtes Netz 66, dasA wound on a rotatable metal reel 47 through a net 66 placed on a bias voltage, the
tcr Draht 46, der aus dem Gettermetall besteht, das 60 koaxial um die Spitze 37 angeordnet ist und von elek-tcr wire 46, which consists of the getter metal which is arranged 60 coaxially around the tip 37 and of elec-
nicdcrgeschlagen werden soll, wird kontinuierlich in trisch leitenden, mit den Haltern 61 verbundenenShould not be beaten, is continuously in trically conductive, with the holders 61 connected
das DrahtzuführungsiOhr 31 mittels zweier in üblicher Trägern 67 gehaltert wird. Das Netz 66 wird dadurchthe wire feeder ear 31 is held by means of two conventional carriers 67. The network 66 is thereby
Weise von außen angetriebener Zufuhrrollen 48 und auf einem ebenso negativen Potential wie die Strom-Externally driven feed rollers 48 and at a negative potential as well as the current
49, die zu einer leichten Förderung des Drahtes quelle 64 und deshalb auch wie der Faden 60 gehalten,49, the source 64 to a light promotion of the wire and therefore also held like the thread 60,
dienen, zugeführt. 65 Darüber hinaus wird der Getterdraht 46 auf demserve, supplied. 65 In addition, the getter wire 46 is on the
Während auch zahlreiche andere herkömmliche Potential der Grundplatte 14 gehalten, die, wie beiWhile numerous other conventional potentials of the base plate 14 are also maintained, as at
Einrichtungen verwendet werden können, um die sich 68 allgemein bezeichnet ist, geerdet ist, wodurch derDevices can be used around which 68 is generally referred to, is grounded, whereby the
drehenden Antriebswellen 57 und 58, die durch die Potentialunterschied zwischen dem Faden 60 und derrotating drive shafts 57 and 58, which by the potential difference between the thread 60 and the
13 1413 14
austretenden Spitze des Drahtes 46 eine Beschleuni- züge mit der bevorzugten Ausführungsform zu ergung des Elektronenstrahls auf diese Spitze zu bewirkt. halten, als ältere Überzüge bei niederen Vakuum-Der Aufprall des Elektronenstrahls bewirkt ein Ver- drücken zu entgasen. In den meisten Fällen wird das dampfen der Spitze des zugeführten Drahtes 46, wie ganze System mit der Vorrichtung evakuiert, indem weiter unten im Zusammenhang mit der Arbeitsweise 5 die vorteilhafte Getterwirkung des frisch niedernäher beschrieben werden wird. Um zu verhindern, geschlagenen Metalls verwendet wird. Dieses Verdaß die auf diese Weise entwickelten Metalldämpfe fahren des Evakuierens des Vakuumhohlraumes wird die Vakuumräume außerhalb des Hauptpumpen- deshalb bevorzugt, weil es viel schneller als andere raums 12 verunreinigen, wird eine kreisförmige Platte Verfahren zum Ziel führt und weil diese Wirkung 69 am besten im Abstand von der Wand 13 mittels in io normalerweise durch die Getterapparatur hervordieser verankerter Stützen 71 angeordnet. Alle diese gebracht wird. Am Ende dieser Pumpperiode soll in eben beschriebenen Einrichtungen dienen als bevor- allen Fällen noch genügend frischer Überzug · vorzugte Apparaturen für das erfindungsgemäße Ver- handen sein, so daß ein weiteres Evakuieren in dem fahren. Bereich niederen Drucks, nachdem die Getterpumpeexiting tip of the wire 46 can be accelerated with the preferred embodiment of the electron beam to this tip. hold than older coatings with lower vacuum der The impact of the electron beam causes compression to degas. In most cases it will Vaporize the tip of the fed wire 46 as evacuated by the entire system with the device the advantageous getter effect of the fresh will be described in more detail below in connection with mode of operation 5. To prevent beaten metal from being used. This verdict the metal vapors developed in this way will drive the evacuation of the vacuum cavity The vacuum chambers outside of the main pumping are preferred because it is much faster than others Contaminate space 12, a circular plate procedure will lead to the goal and because of this effect 69 preferably at a distance from the wall 13 by means of this normally through the getter apparatus anchored supports 71 arranged. All of this is brought out. At the end of this pumping period, in The devices just described serve as the preferred coating that is still sufficiently fresh in all cases Apparatus for the present invention, so that a further evacuation in the travel. Low pressure area after the getter pump
Wenn bei dem Vorgang des Überziehens der Be- 15 .selbst abgeschaltet ist, mit dem Verfahren nach der hälterwände oder anderer Oberflächen innerhalb des Erfindung, das im nachfolgenden genauer beschrieben Pumpraums 12 mit dem Gettermetall in Vorbereitung werden wird, erreicht wird.If the loading 15 itself is switched off during the process of pulling on, with the method according to the container walls or other surfaces within the invention, which is described in more detail below Pump chamber 12 with the getter metal in preparation is reached.
zu dem erfindungsgemäßen Verfahren und eventuell Mit der Vorrichtung zum Aufdampfen eines metalli-to the method according to the invention and possibly with the device for vapor deposition of a metallic
gleichzeitig der Evakuierung der Kammer die Diffu- sehen Getterüberzugs, die oben beschrieben wurde,
sionspumpe nicht verwendet wird, wie oben ausge- 20 wird zunächst eine vorbereitende Evakuierung vorgeführt,
dann arbeitet die Vakuumabdampfvorrichtung genommen, indem die obere und die untere Vakuumwie
folgt: Die Verdampfungskammer 12 wird zuerst kammer 12 und 16 zunächst während einer längeren
durch bekannte Einrichtungen, wie z. B. eine außer- Zeitdauer auf einen Druck von 10~4 mm Hg oder
halb angeordnete Pumpe (nicht dargestellt), auf einen weniger ausgepumpt wird, um die normalerweise in
Druck von 10~4mm Hg oder weniger ausgepumpt, 25 den Wänden der Kammern eingeschlossenen Gase
um eine direkte Entladung zu vermeiden, wenn der . auszutreiben. Während der Zeitdauer dieses vor-Kathodenstrahlerzeuger
erregt wird. Dann wird bereitenden Evakuierens oder während der späteren Kühlwasser durch die Getterversorgungseinheit 27 Arbeitsweise versorgt die Stromquelle 51 Einrichtundurchgeschickt,
wobei Wasser mit Raumtemperatur gen zum Erhitzen des zugeführten Drahtes 46 auf eine
oder sogar mit höherer Temperatur so lange geeignet 30 Temperatur um etwa 20000C durch Ohmsche Erist,
als seine Fließgeschwindigkeit innerhalb der wärmung, wobei die genaue Temperatur von dem
Kammer 12 ausreichend ist, um die Wärme hin- Schmelzpunkt des in dem betreffenden Fall verreichend
schnell zu entfernen. Die Zuführungsrollen 48 wendeten Drahtmaterials abhängt. Alle gasförmigen
und 49 werden hierauf in Gang gesetzt und der Glüh- Verunreinigungen sind normalerweise bei dieser
faden 60 geheizt. Wenn der Faden 60 geheizt wurde, 35 Temperatur ausgetrieben, und der Getterdraht 46
erhitzt der Elektronenstrom, der auf den austretenden wird dann eine Reinheit besitzen, die mit der des
Draht 46 auftrifft, die Drahtspitze und schmilzt sie. Ausgangsmetalls identisch ist. Die ganze Ver-Eine
selbst sich tragende geschmolzene Masse oder dampfungseinheit wird zunächst, wie weiter oben
Kugel 72 bildet sich auf der Spitze des Drahtes aus, im einzelnen beschrieben wurde, betätigt, und das
wobei diese Kugel durch die Oberflächenspannung 40 Metall dampft in Sichtlinie von der geschmolzenen
zusammengehalten wird. Die geschmolzene Kugel 72 Kugel aus auf die Wände und andere Oberflächen,
schirmt die Spitze 37 der Zuführungseinrichtung gegen die sich innerhalb der Kammer 12 befinden. Das
den Elektronenbeschuß ab. Eine hinreichend große gereinigte, reine Gettermetall überzieht die Wände
Energiemenge wird auf der Oberfläche der geschmol- kontinuierlich und absorbiert und bedeckt die Gaszenen
Kugel 72 konzentriert, um diese mit einer Ge- 45 moleküle auf den Wänden infolge Chemiesorption
schwindigkeit zu verdampfen, die der Zuführungs- undphysikalischer Absorption,
geschwindigkeit des Drahtes entspricht. Der züge- Selbstverständlich können andere VerfahrensweisenAt the same time as the evacuation of the chamber, the diffuse getter coating, which was described above, is not used, as explained above, a preparatory evacuation is first performed, then the vacuum evaporation device works by removing the upper and lower vacuum as follows: The evaporation chamber 12 is first chamber 12 and 16 first during a lengthy period by known devices, such as. B. (not shown) an outside length of time to a pressure of 10 -4 mm Hg or semi-disposed pump, is pumped to a less, usually pumped to the in pressure of 10 ~ 4 mm Hg or less, 25 the walls of the chambers enclosed gases to avoid direct discharge when the. to drive out. During the period this pre-cathode ray generator is energized. Then preparatory evacuation or during the later cooling water through the getter supply unit 27 is supplied to the power source 51 Einrichtund durchgeschickt, whereby water at room temperature is suitable for heating the supplied wire 46 to one or even a higher temperature as long as a temperature of about 2000 0 C by ohmic It is, as its flow rate within the heating, the precise temperature of the chamber 12 being sufficient to remove the heat from the melting point of the case in question sufficiently quickly. The feed rolls 48 depend on the turned wire material. All gaseous and 49 are then set in motion and the incandescent impurities are normally heated at this filament 60. When the filament 60 has been heated, 35 temperature is driven out, and the getter wire 46 is heated by the stream of electrons which is exiting on the exiting one, then having a purity which impinges with that of the wire 46, the wire tip and melts it. The starting metal is identical. The whole of the self-supporting molten mass or vaporization unit is first actuated as previously described ball 72 forms on the tip of the wire, and this ball vaporizes metal in line of sight from the surface tension 40 the melted one is held together. The molten ball 72, ball out onto the walls and other surfaces, shields the tip 37 of the feeder from those located within the chamber 12. That from the electron bombardment. A sufficiently large, purified, pure getter metal coats the walls. Amount of energy is continuously melted and absorbed on the surface of the gas scene, concentrated in order to vaporize it with a velocity of chemical sorption on the walls due to the chemical sorption. and physical absorption,
speed of the wire. Of course, other procedures can be used
führte Draht wird unmittelbar hinter "der Kugel verwendet werden, um die Wände des zu evakuierenden thermisch und elektrisch durch die wassergekühlte Hohlraums mit einem Getterüberzug zu versehen oder, Spitze 37 geschützt, ohne die die Kugel 72 schnell 50 wie bereits oben ausgeführt wurde, es können auch abbrennen würde, weil der Draht zu dünn werden von Anfang an Wände, die aus einem Gettermaterial würde und dann nicht mehr imstande wäre, die ge- bestehen, vorgesehen sein und mittels Entgasen bei schmolzene Kugel zu halten. erhöhter Temperatur von den adsorbierenden Gasenled wire will be used immediately behind "the ball" to line the walls of the evacuated to provide a getter coating thermally and electrically through the water-cooled cavity or, Tip 37 protected, without which the ball 72 quickly 50 as already stated above, it can also would burn off because the wire would be too thin to start with walls made of a getter material and would then no longer be able to exist, be provided and by means of degassing hold melted ball. elevated temperature from the adsorbing gases
Wenn die Verdampfungsvorrichtung, die oben gereinigt werden. Auch wird eine Vergrößerung der beschrieben wurde, nur als Einrichtung zum Auf- 55 Pumpkapazität bei der Ausbildung des Rezipienten dampfen von Gettermetall auf die Oberfläche 11 des wie eine konventionelle Tonengetterpumpe, z. B. von Pumpraums benutzt wird zur Vorbereitung des erfin- dem in Fig. 3 dargestellten Penning-Entladungstyp dungsgemäßen Verfahrens, werden der Getterdraht- mit flachen Kathoden-Kollektorplatten erreicht, in die Zuführungsmechanismus und der Kathodenstrahl- eine wassergekühlte Gettermetallzuführungseineit 27, erzeuger nur so lange zusammen betätigt, bis sich ein 60 wie sie oben beschrieben wurde, eingebracht wird. Überzug der gewünschten Stärke ausgebildet hat. Diese Gettermetallzuführungseinheit 27 wird am besten Dann werden die entsprechenden Einrichtungen abge- mit ihrer wassergekühlten Spitze 37 in senkrechter schaltet. Ein Überzug von wenigstens 10~B cm Dicke Stellung innerhalb des Pumpraums 73 angeordnet, ist im allgemeinen für die Zwecke der vorliegenden Wenn die geschmolzene Kugel 72 gebildet wird, beErfindung hinreichend. Am häufigsten wird der Über- 65 findet sie sich in Sichtlinie von den einander gegenzug auf einen alten Überzug aufgedampft, der für ein überliegenden Oberflächen der Kollektorelektroden 78 vorhergehendes Auspumpen verwendet wurde, da es die in .diesem Falle die mit dem Gettermetall überschneller und leichter möglich ist, frische reine Über- zogenen Tnnenteile des Rezipienten bilden. DieWhen the vaporizer that is cleaned above. Also, an enlargement that has been described is only used as a device for up- 55 pumping capacity in the formation of the recipient vaporizing getter metal onto the surface 11 of the like a conventional clay getter pump, e.g. B. is used by the pumping chamber to prepare the Penning discharge type according to the invention shown in Fig. 3, the getter wire with flat cathode collector plates are reached, in the feed mechanism and the cathode ray a water-cooled getter metal feed unit 27, generator only for so long operated together until a 60 as described above is inserted. Has formed coating of the desired thickness. This getter metal supply unit 27 is best then the corresponding devices are switched off with their water-cooled tip 37 in a vertical position. A coating of at least 10 ~ B cm thickness position located within the pump chamber 73, is, in general, for the purposes of the present When the molten ball 72 is formed, beer invention sufficiently. Most often, the over- 65 is found in the line of sight of the counterparts vapor-deposited onto an old coating that was used for prior pumping out of the overlying surfaces of the collector electrodes 78, since in this case the getter metal can be done faster and more easily is to form fresh, pure coated inner parts of the recipient. the
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Elektronenquelle und alle anderen Zusatzeinrichtun- werden soll. Die Verwendung der Oberfläche ausElectron source and all other additional equipment. The use of the surface
gen der das Gettermetall verdampfenden Quelle Gettermetall unterstützt die Diffusionspumpe infolgeAs a result, the getter metal source which evaporates the getter metal supports the diffusion pump
können dieselben sein, wie sie in Fi g. 1 dargestellt der verringerten Möglichkeit für Gaseinbrüche in diecan be the same as in Fig. 1 shows the reduced possibility for gas penetration into the
sind. Hauptvakuumkammer zurückzudiffundieren. Die Get-are. To diffuse back into the main vacuum chamber. The Get-
Die oben beschriebenen Ausführungsformen sind 5 terpumpe kann für kurze Zeitdauer angeschaltet bevorzugte Einrichtungen zum Herstellen eines Pump- werden, wenn eine Anpassung an außerordentliche raunies, der in seinem Inneren Flächen aus Getter- Erfordernisse bei dem Auspumpen dies nötig machen, metall aufweist, um das erfindungsgemäße Verfahren wenn z. B. eine Undichtigkeit der Außenatmosphäre durchzuführen. Zusätzlich muß auch eine zweite gegenüber auftritt oder wenn zusätzliche Behälter an Pumpe im Anschluß an den Pumpraum 12 über einen 10 das System angeschlossen werden. Unter solchen UmAuslaß 117 vorgesehen sein, um diesen Raum auf den ständen wird der Gleichgewichtsdruck um einen erforderlichen Ausgangsdruck auszupumpen. Da diese Faktor von 103 oder mehr ansteigen und das Volumen Pumpe imstande sein soll, größere Mengen bis zur des dazugekommenen Gases wird größer sein, als das Erreichung des genannten Ausgangsdrucks auszu- Gettermetall aufnehmen kann, pumpen, ist eine üblicherweise verwendete öldiffusions- 15The embodiments described above are 5 terpump can be switched on for a short period of time Procedure if z. B. perform a leak in the outside atmosphere. In addition, a second must also occur opposite or if additional containers are connected to the pump in connection with the pump chamber 12 via a 10 the system. Under such UmAuslaß 117 be provided to this space on the stands, the equilibrium pressure is pumped out to a required outlet pressure. Since this factor increases by 10 3 or more and the volume of the pump should be able to pump larger quantities up to the amount of the added gas will be larger than the reaching of the starting pressure mentioned getter metal can absorb, a commonly used oil diffusion 15
pumpe 181 im allgemeinen die geeignetste Einrichtung. Beispiel Für Zwecke, bei denen das Pumpverfahren nach derpump 181 is generally the most suitable device. example For purposes where the pumping method is based on the
Erfindung verwendet wird, d. h. wenn Drücke unter- Ein Vakuumbehälter aus rostfreiem Stahl mit einem halb 10-° mm Hg erreicht werden sollen, muß die Volumen von 701 wurde bei 4000C ausgeheizt und Diffusionspumpe mit Einrichtungen versehen sein, 20 durch eine öldiffusionspumpe evakuiert. Ein Unterum eine Rückdiffusion der ölmoleküle in den Pump- druck von 1Ό~β mm Hg wurde bei Verwendung der raum zu vermeiden. Verschiedene Kühlfallen sind Diffusionspumpe allein erhalten, wenn der Ansaugfür diesen Zweck, wie allgemein bekannt ist, geeignet kanal mittels einer flüssigen Stickstoff enthaltenden und können eine Rückdiffusion bis zu Drücken im Kühlfalle gekühlt wurde, wobei die Kühlfalle eine Bereich von 1O-8 mm Hg verhindern. Eine besondere 25 etwas verschiedene Bauweise, von der die oben Ausführungsform einer Trenn- oder Kühlfalle 18 ist beschrieben wurde, jedoch eine gleiche Funktion wie im Querschnitt in F i g. 4 dargestellt, wobei die Pfeile diese besaß. Nach dem Abdampfen von Molybdän die Richtung des Gasdurchflusses bezeichnen, um aus einer Getterpumpe, die identisch mit der vorher eine durch Wärmeleitung gekühlte Sperre 82 herum beschriebenen Ausführungsform -war, in dem Behälter und an einem Behälter 83, der flüssigen Stickstoff 30 etwa 1 Stunde lang, fiel der Druck des Systems auf enthält, vorbei, wobei das mit dem Öl der Diffusions- etwa 1 · 10"80 mm Hg ab. Die Kapazität der Pumppumpe bcladene Gas zum Einlaß 84 eintritt, die ge- anordnung des Systems wuTde getestet, indem gasnannten Einbauteile der Kühlfalle durchströmt, in förmiger Wasserstoff stoßweise in den Behälter eindenen das öl kondensiert und schließlich das Gas zum geleitet wurde, ohne daß die Getterpumpe in Tätigkeit Auslaß 86 ausströmt. 35 war. Dabei wurden folgende Daten erhalten:Invention is used, ie if pressures below a stainless steel vacuum container with half 10- ° mm Hg are to be achieved, the volume of 701 must be baked out at 400 0 C and diffusion pump with devices, 20 evacuated by an oil diffusion pump. In order to avoid a back diffusion of the oil molecules into the pump pressure of 1Ό ~ β mm Hg when using the space. Various cold traps are obtained by diffusion pumps alone if the suction for this purpose, as is well known, has been suitably channeled by means of a liquid nitrogen containing and back diffusion has been cooled down to pressures in the cold trap, the cold trap preventing a range of 10 -8 mm Hg. A special somewhat different construction, of which the above embodiment of a separating or cold trap 18 has been described, but has the same function as in the cross section in FIG. 4, the arrows having this. After molybdenum has evaporated, designate the direction of gas flow to flow out of a getter pump, which was identical to the embodiment previously described a conduction cooled barrier 82 around, in the container and on a container 83, the liquid nitrogen 30 for about 1 hour , the pressure of the system dropped to, over, with that with the oil of the diffusion about 1 x 10 " 80 mm Hg. The capacity of the pump pump charged gas entering inlet 84, the arrangement of the system was tested by gas-called built-in parts of the cold trap flows through, in the form of hydrogen intermittently into the container into which the oil condenses and finally the gas was passed to the outlet 86 without the getter pump being in operation. The following data were obtained:
Das crfindungsgemäße Verfahren wird unter Verwendung der oben beschriebenen bevorzugten Aus- Behälterinhalt etwa 701The inventive method is using the preferred output container content described above is approximately 701
führungsformen der Apparatur praktisch folgender- Flächenprojektion der mit Getter-guide forms of the apparatus practically following - surface projection of the with getter -
maßen durchgeführt: Der Rezipient und die Haupt- metall überzogenen Wand etwa 7500 cm2 measurements carried out: the recipient and the main metal-coated wall about 7500 cm 2
vakuumkammer werden zuerst bis zu dem gewünschten 40 Spezifische Fläche gemessen durchvacuum chambers are first measured up to the desired 40 specific area
Gleichgewichtsdruck evakuiert, indem die Getter- Argon-Adsorption auf einemEquilibrium pressure evacuated by the getter argon adsorption on a
pumpe oder Ionenpumpe verwendet wird, die einen Molybdänüberzug bei niedererpump or ion pump is used, which has a molybdenum coating at lower
kontinuierlichen Niederschlag von Gettermaterial auf Temperatur größer als dascontinuous precipitation of getter material at temperature greater than that
den Elektrodensammelplatten erzeugt. Während dieser 20fache der Flä-generated the electrode collector plates. During this 20 times the area
Zeitdauer ist ein Auspumpen mit der Diffusionspumpe 45 chenprojektionDuration is a pumping out with the diffusion pump 45 surface projection
nicht nötig. Wenn einmal der Gleichgewichtsdruck Unterdruck <l0-10mm Hgnot necessary. Once the equilibrium pressure pressure <10 mm Hg L0
erreicht ist, weiden die Gettereinrichtungen und/oder " '' ' ".is reached, the getter facilities and / or "'' '" graze.
die lonenpumpeinrichtungen abgeschaltet und die" Menge H8,-die pro· Gasstoß einge- inM_.,the ion pumping devices are switched off and the "amount H 8 , -the per · gas pulse entered- inM _.,
Diffusionspumpe angeschlossen. Zu dieser Zeit wird lassen ^αε >4 "10 Tede Diffusion pump connected. At this time, let ^ αε > 4 " 10 tede
bei den vorteilhaftesten Arbeitsweisen der deich- 50 Zeitdauer für einen Gasstoß <1 Sekundein the most advantageous ways of working the dike 50 duration for a gas surge <1 second
gewichtsdruck im Bereich von 10~7 bis 10~e mm Hg Druckanstieg pro Gasstoß (Wändeweight pressure in the range of 10 ~ 7 to 10 ~ e mm Hg pressure increase per gas impact (walls
oder darunter sein. In diesem Druckbereich adsorbiert neu aktiviert) 1 · 10~8 mm Hgor below. In this pressure range adsorbed reactivated) 1 · 10 ~ 8 mm Hg
die entgaste Gettermetalloberfläche leicht größere Gemessene äquivalente Pumpge-the degassed getter metal surface slightly larger Measured equivalent pump
Gasmengen, wenn ein kurzzeitiger Überdruck auf- schwindigkeit 4 · 10* 1 proGas quantities, if a short-term overpressure- speed 4 · 10 * 1 per
tritt, d. h. ein um den Faktor 10 oder mehr anwachsen- 55 Sekundeoccurs, d. H. an increase by a factor of 10 or more - 55 seconds
der Druck, da eine unerwartete Affinität des Getter- Benötigte H2-Menge pro Liter Behäl-the pressure, since an unexpected affinity of the getter- Required H 2 amount per liter container-
metalls bei Drücken festgestellt wurde, bei denen im terinhalt, um die Sättigung desmetal at pressures was found at which in the content, to the saturation of the
allgemeinen lediglich eine Desorption erwartet wurde, Überzugs zu erreichen,· d. h. einengenerally only desorption was expected to achieve coating; d. H. a
wie weiter oben ausführlicher diskutiert wurde. Nach Druckanstieg von 1 · 10~B mm Hgas discussed in more detail above. After a pressure increase of 1 x 10 ~ B mm Hg
der Adsorption beginnt das Gettermetall unmittelbar 60 zu bewirken etwa 1 mm/1the getter metal begins to cause adsorption immediately about 1 mm / l
wieder das Gas zu desorbieren. Bei geeigneter Wahlagain to desorb the gas. With a suitable choice
und/oder Einstellung des Durchflußleitwertes der öl- Nachdem die obigen Werte geprüft wurden, wuTde diffusionspumpe in bezug auf das RezipientenvoTumen die Getterpumpeneinheit abgeschaltet und gasförmiger entfernt die Diffusionspumpe praktisch das gesamte "Wasserstoff in das System eingelassen, bis der Gasaus dem Gettermetall desorbierte Gas, und dadurch 65 druck etwa 1 · 10~B mm Hg betrug, worauf der Wasserist eine kontinuierliche Inbetriebnahme der Getter- Stoffzustrom unterbrochen wurde. Hierauf wurde mit pumpe über lange Zeitdauer nicht erforderlich, wenn der Diffusionspumpe allein weiter evakuiert. Es wurde ein ultraniederer Vakuumdruck sicher aufrechterhalten beobachtet, daß die Diffusionspumpe S SekundenAfter the above values have been checked, the getter pump unit was switched off in relation to the recipient volume and the diffusion pump removed practically all of the hydrogen in the system until the gas was desorbed from the getter metal, and in gaseous form As a result, 65 pressure was about 1 x 10 ~ B mm Hg, whereupon the water is a continuous start-up of the getter flow was interrupted.Then a pump was not required for a long time if the diffusion pump alone continued to evacuate observed that the diffusion pump S seconds
brauchte, um den Druck von 2 auf 1 · 10~e mm Hg, Sekunden von 2 auf 1 · 10-' mm Hg und 570 Sekunden von 2 auf 1 · 10~8 mm Hg zu verringern. Dann wurde stoßweise Wasserstoff in der oben beschriebenen Größe, d.h. von 4· 10aeTeilchen, in den Behälter eingelassen. In jedem Fall betrug der Druckanstieg etwa 1 · 10~8 mm Hg nach dem Zuleiten der ersten Gasmenge, was beweist, daß der Wasserstoff fast vollständig unmittelbar durch die Getteroberfläche adsorbiert wurde. Die Desorption und die Entfernung des desorbierten Gases fand wiederum durch Evakuieren mit der Diffusionspumpe während der angezeigten Zeiten statt, wobei die Geschwindigkeit durch die Vakuumleitung des Diffusionspumpensystems bestimmt wird. istook to decrease the pressure from 2 to 1 x 10 ~ e mm Hg, seconds from 2 to 1 x 10 ~ 1 mm Hg, and 570 seconds from 2 to 1 x 10 ~ 8 mm Hg. Hydrogen was then intermittently admitted into the container in the size described above, that is to say 4 × 10 7 ae particles. In each case, the pressure rise was about 1 x 10 -8 mm Hg after the first amount of gas was introduced, proving that the hydrogen was almost completely adsorbed immediately by the getter surface. The desorption and the removal of the desorbed gas took place again by evacuation with the diffusion pump during the indicated times, the speed being determined by the vacuum line of the diffusion pump system. is
Claims (4)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US847033A US3037685A (en) | 1959-10-16 | 1959-10-16 | Method for pumping gases at low vacuum pressures |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1252353B true DE1252353B (en) | 1967-10-19 |
Family
ID=25299592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DENDAT1252353D Pending DE1252353B (en) | 1959-10-16 | Process for removing impulsive gases break in a recipient |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3037685A (en) |
| BE (1) | BE595989A (en) |
| DE (1) | DE1252353B (en) |
| NL (1) | NL256350A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3214245A (en) * | 1962-10-29 | 1965-10-26 | Gen Electric | Reactive metal diffusion pump |
| US3338676A (en) * | 1964-01-03 | 1967-08-29 | Nat Lead Co | Preparation of a titania hydrate |
| US3515171A (en) * | 1968-07-23 | 1970-06-02 | Sloan Instr Corp | Side pumped vacuum collar |
-
0
- NL NL256350D patent/NL256350A/xx unknown
- DE DENDAT1252353D patent/DE1252353B/en active Pending
-
1959
- 1959-10-16 US US847033A patent/US3037685A/en not_active Expired - Lifetime
-
1960
- 1960-10-13 BE BE595989A patent/BE595989A/en unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE595989A (en) | 1961-02-01 |
| US3037685A (en) | 1962-06-05 |
| NL256350A (en) |
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