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DE112015000814A5 - Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils sowie optoelektronisches Halbleiterbauteil - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils sowie optoelektronisches Halbleiterbauteil Download PDF

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Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014105999A1 (de) 2014-04-29 2015-10-29 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterchips
DE102014112750A1 (de) 2014-09-04 2016-03-10 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils und optoelektronisches Halbleiterbauteil
DE102015119353B4 (de) 2015-11-10 2024-01-25 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronisches Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils
DE102016104381A1 (de) 2016-03-10 2017-09-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronische Leuchtvorrichtung, Verfahren zum Beleuchten einer Szene, Kamera sowie mobiles Endgerät
DE102016104385A1 (de) 2016-03-10 2017-09-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Projektionsoptik, optoelektronischer Halbleiterchip, optoelektronisches Beleuchtungssystem, Kamera, Endgerät
DE102016104383A1 (de) 2016-03-10 2017-09-14 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren und optoelektronische Leuchtvorrichtung zum Beleuchten eines Gesichts einer Person sowie Kamera und mobiles Endgerät
DE102016220915A1 (de) 2016-10-25 2018-04-26 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Halbleiterbauteilen und optoelektronisches Halbleiterbauteil
DE102019105402A1 (de) * 2019-03-04 2020-09-10 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Strahlungsemittierender halbleiterchip, strahlungsemittierendes halbleiterbauelement und scheinwerfer
FR3105880B1 (fr) * 2019-12-26 2023-09-15 Commissariat Energie Atomique Diode comportant au moins deux couches de passivation, en particulier formées de diélectrique, localement superposées pour optimiser la passivation
DE102020200621A1 (de) * 2020-01-21 2021-07-22 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Strahlungsemittierender halbleiterchip und verfahren zur herstellung eines strahlungsemittierenden halbleiterchips
US11848402B2 (en) 2020-03-11 2023-12-19 Lumileds Llc Light emitting diode devices with multilayer composite film including current spreading layer
US11735695B2 (en) 2020-03-11 2023-08-22 Lumileds Llc Light emitting diode devices with current spreading layer
US11942507B2 (en) 2020-03-11 2024-03-26 Lumileds Llc Light emitting diode devices
US11569415B2 (en) 2020-03-11 2023-01-31 Lumileds Llc Light emitting diode devices with defined hard mask opening
GB2593193B (en) 2020-03-18 2022-03-23 Plessey Semiconductors Ltd Light Emitting Diode Structure and High Resolution Monolithic RGB Arrays
DE102020112414A1 (de) 2020-05-07 2021-11-11 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Strahlung emittierendes Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Strahlung emittierenden Halbleiterbauelements

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4960665B2 (ja) * 2006-08-11 2012-06-27 キヤノン株式会社 発光素子アレイ及び画像形成装置
JP2003168823A (ja) * 2001-09-18 2003-06-13 Toyoda Gosei Co Ltd Ｉｉｉ族窒化物系化合物半導体発光素子
DE10147791A1 (de) * 2001-09-27 2003-04-10 Osram Opto Semiconductors Gmbh Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements auf der Basis eines Nitrid-Verbindungshalbleiters
JP2005252086A (ja) * 2004-03-05 2005-09-15 Sony Corp 半導体発光素子の製造方法、半導体発光素子、集積型半導体発光装置の製造方法、集積型半導体発光装置、画像表示装置の製造方法、画像表示装置、照明装置の製造方法および照明装置
JP2006041403A (ja) * 2004-07-29 2006-02-09 Nichia Chem Ind Ltd 半導体発光素子
JP2007305708A (ja) * 2006-05-10 2007-11-22 Rohm Co Ltd 半導体発光素子アレイおよびこれを用いた照明用器具
KR100928259B1 (ko) * 2007-10-15 2009-11-24 엘지전자 주식회사 발광 장치 및 그 제조방법
US8368100B2 (en) * 2007-11-14 2013-02-05 Cree, Inc. Semiconductor light emitting diodes having reflective structures and methods of fabricating same
US8008683B2 (en) * 2008-10-22 2011-08-30 Samsung Led Co., Ltd. Semiconductor light emitting device
DE102009023849B4 (de) * 2009-06-04 2022-10-20 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterkörper und optoelektronischer Halbleiterchip
JP5326957B2 (ja) * 2009-09-15 2013-10-30 豊田合成株式会社 発光素子の製造方法及び発光素子
DE102010025320B4 (de) * 2010-06-28 2021-11-11 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zu dessen Herstellung
KR101761385B1 (ko) * 2010-07-12 2017-08-04 엘지이노텍 주식회사 발광 소자
CN102386200B (zh) * 2010-08-27 2014-12-31 财团法人工业技术研究院 发光单元阵列与投影系统
DE102010045784B4 (de) * 2010-09-17 2022-01-20 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterchip
JP5050109B2 (ja) * 2011-03-14 2012-10-17 株式会社東芝 半導体発光素子
DE102011016302B4 (de) * 2011-04-07 2026-01-15 OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung Optoelektronischer Halbleiterchip
WO2012141031A1 (ja) * 2011-04-11 2012-10-18 日亜化学工業株式会社 半導体発光素子及びその製造方法
DE102011056888A1 (de) 2011-12-22 2013-06-27 Osram Opto Semiconductors Gmbh Anzeigevorrichtung und Verfahren zur Herstellung einer Anzeigevorrichtung
JP2013179215A (ja) * 2012-02-29 2013-09-09 Toyohashi Univ Of Technology Ｌｅｄアレイ及び光電子集積装置
US8816383B2 (en) * 2012-07-06 2014-08-26 Invensas Corporation High performance light emitting diode with vias

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Publication number Publication date
JP2017510980A (ja) 2017-04-13
US20170062661A1 (en) 2017-03-02
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US9685591B2 (en) 2017-06-20
WO2015121062A1 (de) 2015-08-20
CN105993075A (zh) 2016-10-05
DE102014101896A1 (de) 2015-08-20
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KR20160123316A (ko) 2016-10-25
CN105993075B (zh) 2019-09-10

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