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Technisches Gebiet
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Die
vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Herstellen
eines Verdrahtungssubstrats einer Mehrschichtstruktur mit Durchgangslöchern.
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Hintergrund der Erfindung
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In
den letzten Jahren wurde gleichzeitig mit dem Trend hin zu einer
hochdichten Befestigung von Komponenten ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat verwendet,
bei dem eine Mehrzahl von Verdrahtungsstrukturen gebildet ist, um
eine Mehrschichtstruktur aufzuweisen. Als ein Verfahren zum Herstellen
des Mehrschichtverdrahtungssubstrats, wie oben beschrieben wurde,
hat Patentdokument 1 eine Technik offenbart, bei der eine Verdrahtungsstruktur
auf einer Oberfläche eines harten Substrats gebildet ist,
eine Haftschicht auf der anderen Oberfläche desselben gebildet
ist, Löcher, die das harte Substrat und die Haftschicht
durchdringen, gebildet sind, um in Kontakt mit der Verdrahtungsstruktur
zu sein, und eine leitfähige Paste in die oben genannten
Löcher gefüllt ist.
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11A zeigt ein Beispiel des Herstellungsverfahrens,
das in Patentdokument 1 offenbart ist. Wie in 11A-(a) gezeigt
ist, wird ein Hartharzsubstrat 100, das mit einer Metallfolie 101 versehen
ist, die an der oberen Oberfläche desselben haftet, vorbereitet,
und die Metallfolie 101 wird durch eine Ätzbehandlung
verarbeitet, um eine Verdrahtungsstruktur 101a zu bilden,
wie in 11A-(b) gezeigt ist. Als Nächstes,
wie in 11A-(c) gezeigt ist, wird eine Haftschicht 102 auf
einer Oberfläche des Harzsubstrats 100 gebildet,
und nachfolgend werden durch einen Strahlungslaser von einer Haftschichtseite,
wie in 11A-(d) gezeigt ist, durchgehende
Durchgangslöcher 103, die jeweils die Haftschicht 102 und das
Harzsubstrat 100 durchdringen, gebildet. Zusätzlich
dazu, wie in 11A-(e) gezeigt ist,
wird eine leitfähige Paste 104 in die Durchgangslöcher 103 gefüllt, so
dass eine einseitige Schaltungsplatine erhalten werden kann. Auf
dieser Stufe sind die Haftschicht 102 und die leitfähige
Paste 104 beide in einem ungehärteten Zustand.
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Nachdem
eine Mehrzahl von einseitigen Schaltungssubstraten 105a bis 105d,
die durch ein ähnliches Verfahren gebildet werden wie das,
das oben beschrieben wurde, aneinander laminiert sind, wie in 11B gezeigt ist, werden die Haftschichten 102 und
die leitfähigen Pasten 104 gleichzeitig warmgehärtet,
so dass ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat, wie in 12 gezeigt
ist, erhalten werden kann.
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Wenn
die Durchgangslöcher 103, die jeweils einen Boden
aufweisen, der aus der Verdrahtungsstruktur 101a hergestellt
ist, in dem Harzsubstrat 100 durch Laserverarbeitung gebildet
sind, wie oben beschrieben wurde, kann insofern ein Problem entstehen,
dass die Durchgangslöcher 103 jeweils eine verjüngte
Form aufweisen. Der Grund dafür ist, dass in dem Durchgangsloch 103,
das einen Boden aufweist, die Energie des Laserlichts, die den Boden
des Durchgangslochs 103 erreicht, auf einen sehr niedrigen
Pegel reduziert wird, da das Laserlicht zu schwach eingestellt sein
muss, um zu verhindern, dass die Verdrahtungsstruktur 101a,
die den Boden des Durchgangslochs 103 bildet, durch das
Laserlicht beschädigt wird. In dem Fall, dass das Durchgangsloch 103 eine
verjüngte Form aufweist, ist es notwendig, den Durchmesser
eines Öffnungsabschnitts des Durchgangslochs 103 zu
erhöhen, da der Durchmesser des Bodens des Durchgangslochs klein
ist, um einen Verbindungsdefekt zwischen der leitfähigen
Paste 104 und der Verdrahtungsstruktur 101a auf
dem Boden des Durchgangslochs zu vermeiden. Folglich kann der Abstand
zwischen den Durchgangslöchern nicht verschmälert
werden und somit wird die Bildung einer Feinverdrahtung nachteilhaft
behindert. Genauer gesagt, wenn das Harzsubstrat 100 ein
Komponenten enthaltendes Substrat ist, d. h. wenn das Harzsubstrat 100 darin
eine Schaltungskomponente enthält, wird, da die Dicke des
Substrats vergrößert wird, der Durchmesser des Öffnungsabschnitts
des Durchgangslochs 103 weiter vergrößert.
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Zusätzlich
dazu, wird bei dem oben beschriebenen, herkömmlichen Herstellungsverfahren
die Haftschicht 102 in einem ungehärteten Zustand durch
Wärme geschmolzen und somit wird der Durchmesser des Durchgangslochs 103 in
der Haftschicht 102 unnötig vergrößert,
da der Laser auf das Harzsubstrat 100 strahlt, an das die
Haftschicht 102 gehaftet ist, wie in 11A-(d) gezeigt
ist. Das Vergrößern des Durchmessers, wie oben
beschrieben wurde, verhindert ferner die Bildung einer Feinverdrahtung
in Kombination mit der verjüngten Form des Durchgangslochs 103.
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Ferner,
da ein Harz, das durch Laserstrahlung entfernt wird, an den Umfängen
der Durchgangslöcher 103 und/oder der Oberfläche
des Verdrahtungsmusters 101a haften kann, wird z. B. notwendigerweise
eine Desmear-Behandlung (Schmierstoffentfernung) oder eine Plasma-Behandlung
ausgeführt, um das obige Harz zu entfernen. Durch das Verfahren
zum Entfernen von Schmierstoffen (Desmear), das oben beschrieben
wurde, wird ferner gleichzeitig die ungehärtete Haftschicht 102 entfernt. Folglich
werden Schmierstoffe nicht richtig entfernt und somit kann die elektrische
Zuverlässigkeit in einigen Fällen verschlechtert
werden.
- Patentdokument 1: japanische,
ungeprüfte Patentanmeldungsveröffentlichung Nr.
9-36551
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Offenbarung der Erfindung
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Probleme, die durch die Erfindung gelöst
werden sollen
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Dementsprechend
ist es eine Aufgabe gemäß bevorzugten Beispielen
der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zu schaffen zum Herstellen
eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats, das Durchgangslöcher
verarbeiten kann, ohne die Durchmesser derselben unnötig
zu vergrößern, und das ohne weiteres die Bildung
einer Feinverdrahtung erreichen kann.
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Mittel zum Lösen
der Probleme
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Ein
Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung weist folgende Schritte auf: einen ersten
Schritt zum Vorbereiten einer ersten Harzschicht in einem ausgehärteten
Zustand, die mit einer leitfähigen Struktur versehen ist
und in der zumindest ein erstes Durchgangsloch gebildet ist, das
einen Boden aufweist, der aus der leitfähigen Struktur
hergestellt ist; einen zweiten Schritt zum Vorbereiten einer zweiten
Harzschicht in einem ungehärteten Zustand, in der zumindest
ein zweites Durchgangsloch gebildet ist, an einer Position, die
dem ersten Durchgangsloch entspricht, um die zweite Harzschicht
zu durchdringen; einen dritten Schritt zum Laminieren der ersten
Harzschicht und der zweiten Harzschicht, so dass das erste Durchgangsloch
und das zweite Durchgangsloch miteinander kommunizieren; einen vierten Schritt
zum gleichzeitigen Füllen einer leitfähigen Paste
in das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch; einen
fünften Schritt zum Ausführen einer Druckverbindung
einer Metallfolie mit der zweiten Harzschicht, bei dem das zweite
Durchgangsloch mit der leitfähigen Paste gefüllt
wird, so dass die Metallfolie in Kontakt mit der leitfähigen
Paste gebracht wird; einen sechsten Schritt zum Aushärten
der zweiten Harzschicht und der leitfähigen Paste nach
dem fünften Schritt; und einen siebten Schritt zum Strukturieren
der Metallfolie, um eine Verdrahtungsstruktur zu bilden, die elektrisch
mit der leitfähigen Paste verbunden ist, die in dem zweiten
Durchgangsloch ausgehärtet ist.
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Ein
Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung weist folgende Schritte auf: einen ersten
Schritt zum Vorbereiten einer ersten Harzschicht in einem ausgehärteten
Zustand, die mit einer leitfähigen Struktur versehen ist,
und in der zumindest ein erstes Durchgangsloch gebildet ist, das
einen Boden aufweist, der aus der leitfähigen Struktur
gemacht ist; einen zweiten Schritt zum Laminieren einer zweiten
Harzschicht in einem ungehärteten Zustand auf einer oberen Oberfläche
der ersten Harzschicht; einen dritten Schritt zum Bilden von zumindest
einem zweiten Durchgangsloch in der zweiten Harzschicht an einer Position,
die dem ersten Durchgangsloch entspricht, nach dem zweiten Schritt;
einen vierten Schritt zum gleichzeitigen Füllen einer leitfähigen
Paste in das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch;
einen fünften Schritt zum Ausführen einer Druckverbindung
einer Metallfolie mit der zweiten Harzschicht, in der das zweite
Durchgangsloch mit der leitfähigen Paste gefüllt
ist, so dass die Metallfolie in Kontakt mit der leitfähigen
Paste gebracht wird; einen sechsten Schritt zum Aushärten
der zweiten Harzschicht und der leitfähigen Paste nach
dem fünften Schritt; und einen siebten Schritt zum Strukturieren
der Metallfolie, um eine Verdrahtungsstruktur zu bilden, die elektrisch
mit der leitfähigen Paste verbunden ist, die in dem zweiten
Durchgangsloch ausgehärtet ist.
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Ein
Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung weist folgende Schritte auf: einen ersten
Schritt zum Vorbereiten einer ersten Harzschicht in einem ausgehärteten
Zustand, die mit einer leitfähigen Struktur versehen ist
und in der zumindest ein erstes Durchgangsloch gebildet ist, das
einen Boden aufweist, der aus der leitfähigen Struktur
gemacht ist; einen zweiten Schritt zum Vorbereiten einer zweiten
Harzschicht in einem ungehärteten Zustand, in der zumindest
ein zweites Durchgangsloch an einer Position gebildet ist, die dem
ersten Durchgangsloch entspricht, um die zweite Harzschicht zu durchdringen; einen
dritten Schritt zum Laminieren der ersten Harzschicht und der zweiten
Harzschicht, so dass das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch
miteinander kommunizieren; einen vierten Schritt zum gleichzeitigen
Füllen einer leitfähigen Paste in das erste Durchgangsloch
und das zweite Durchgangsloch; einen fünften Schritt zum
Ausführen einer Druckverbindung eines Substrats, das mit einer
Verdrahtungsstruktur auf einer Oberfläche desselben versehen
ist, mit der zweiten Harzschicht, so dass die leitfähige
Paste, die in das zweite Durchgangsloch gefüllt ist, und
die Verdrahtungsstruktur in Kontakt miteinander gebracht werden;
und einen sechsten Schritt zum Aushärten der zweiten Harzschicht
und der leitfähigen Paste nach dem fünften Schritt.
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Ein
Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung weist folgende Schritte auf: einen ersten
Schritt zum Vorbereiten einer ersten Harzschicht in einem ausgehärteten
Zustand, die mit einer leitfähigen Struktur versehen ist
und in der zumindest ein erstes Durchgangsloch gebildet ist, das
einen Boden aufweist, der aus der leitfähigen Struktur
gemacht ist; einen zweiten Schritt zum Laminieren einer zweiten
Harzschicht in einem ungehärteten Zustand auf eine obere
Oberfläche der ersten Harzschicht; einen dritten Schritt zum
Bilden von zumindest einem zweiten Durchgangsloch in der zweiten
Harzschicht, das dem ersten Durchgangsloch nach dem zweiten Schritt
entspricht; einen vierten Schritt zum gleichzeitigen Füllen
einer leitfähigen Paste in das erste Durchgangsloch und
das zweite Durchgangsloch; einen fünften Schritt zum Ausführen
einer Druckverbindung eines Substrats, das mit einer Verdrahtungsstruktur
auf einer Oberfläche desselben versehen ist, mit der zweiten
Harzschicht, so dass die leitfähige Paste, die in das zweite
Durchgangsloch gefüllt ist, und die Verdrahtungsstruktur
in Kontakt miteinander gebracht werden; und einen sechsten Schritt
zum Aushärten der zweiten Harzschicht und der leitfähigen
Paste nach dem fünften Schritt.
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Hierin
nachfolgend wird das Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats gemäß dem
ersten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung beschrieben.
Zuerst wird in dem ersten Schritt eine erste Harzschicht in einem
gehärteten Zustand vorbereitet, die mit einer leitfähigen Struktur
versehen ist und in der zumindest ein erstes Durchgangsloch mit
einem Boden, hergestellt aus der leitfähigen Struktur,
vorbereitet ist. Um die erste Harzschicht zu erhalten, wie oben
beschrieben wurde, z. B. nachdem eine ungehärtete Harzschicht
mit einer Oberfläche eines Basisbauglieds druckverbunden
wird, das mit einer leitfähigen Struktur versehen ist,
die darauf gebildet ist, kann die erste Harzschicht gebildet werden
durch Aushärten der Harzschicht. Ferner wird das erste
Durchgangsloch, das einen Boden aufweist, der aus der leitfähigen
Struktur hergestellt ist, in dieser ersten Harzschicht gebildet,
und bei diesem Schritt kann eine Laserverarbeitung verwendet werden.
Wenn das erste Durchgangsloch mit einem Boden, hergestellt aus der
leitfähigen Struktur, durch Laserverarbeitung gebildet
ist, weist das Durchgangsloch unvermeidbar eine verjüngte
Form auf. Obwohl das Harz, das durch Laserstrahlung entfernt wird,
an dem Umfang des Durchgangslochs und/oder der Oberfläche
der Verdrahtungsstruktur haften kann, kann das Harz ohne weiteres
entfernt werden, da die erste Harzschicht eine gehärtete Harzplatte
ist, z. B. durch eine Nass-Desmear-Behandlung oder durch eine Trocken-Plasma-Behandlung.
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Als
Nächstes wird eine zweite Harzschicht in einem ungehärteten
Zustand, in der zumindest ein zweites Durchgangsloch an einer Position
gebildet ist, die dem ersten Durchgangsloch entspricht, an die erste
Harzschicht so laminiert, dass das erste Durchgangsloch und das
zweite Durchgangsloch miteinander kommunizieren. Da es unabhängig
von dem ersten Durchgangsloch in der ersten Harzschicht gebildet
wird, wird das zweite Durchgangsloch in der zweiten Harzschicht
nicht durch die Vergrößerung des Durchmessers
des ersten Durchgangslochs beeinflusst. Das heißt, sogar
wenn der Öffnungsdurchmesser des ersten Durchgangslochs
durch Laserverarbeitung vergrößert wird, kann
der Durchmesser des zweiten Durchgangslochs klein hergestellt werden, unabhängig
von dem Öffnungsdurchmesser des ersten Durchgangslochs,
und somit kann die Bildung der Feinverdrahtung realisiert werden.
Zusätzlich dazu, da es ein durchdringendes Loch ist, kann
das zweite Durchgangsloch ohne weiteres durch ein anderes Verfahren
gebildet werden, wie z. B. Bohrverarbeitung oder Stanzverarbeitung,
sowie durch Laserverarbeitung.
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Ferner
wird eine leitfähige Paste gleichzeitig in das erste Durchgangsloch
und das zweite Durchgangsloch gefüllt, und eine Metallfolie
wird mit der zweiten Harzschicht druckverbunden, in der das zweite
Durchgangsloch mit der leitfähigen Paste gefüllt
ist, um in Kontakt mit der leitfähigen Paste gebracht zu
werden. Nachfolgend werden die zweite Harzschicht und die leitfähige
Paste ausgehärtet und die Metallfolie wird strukturiert,
so dass eine Verdrahtungsstruktur, die elektrisch mit der leitfähigen
Paste verbunden ist, die in dem zweiten Durchgangsloch gehärtet
ist, gebildet wird. Wenn die Metallfolie mit der zweiten Harzschicht
druckverbunden wird, ist die Positionsgenauigkeit bei der Laminierung
nicht erforderlich. Zusätzlich dazu, wenn die erste Harzschicht und
die zweite Harzschicht aneinander laminiert werden, muss der Abstand
der ersten Durchgangslöcher dem Abstand der zweiten Durchgangslöcher
entsprechen; wenn jedoch der Durchmesser des zweiten Durchgangslochs
kleiner hergestellt ist als der Öffnungsdurchmesser des
ersten Durchgangslochs, kann eine leichte Abstandsverschiebung absorbiert werden.
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In
dem Fall des zweiten Ausführungsbeispiels, auf eine Weise
unterschiedlich zu der des ersten Ausführungsbeispiels,
wird, nachdem eine zweite Harzschicht, in der keine zweiten Durchgangslöcher gebildet
sind, auf die erste Harzschicht laminiert ist, zumindest ein zweites
Durchgangsloch verarbeitet. Als ein Verarbeitungsverfahren des zweiten
Durchgangslochs wird vorzugsweise lasergestrahlt. In dem Fall, der
oben beschrieben wurde, obwohl Schmierstoffe der zweiten Harzschicht
durch Laserstrahlung erzeugt werden, da das erste Durchgangsloch
bereits in der ersten Harzschicht gebildet ist, ist der Betrag der
somit erzeugten Schmierstoffe sehr gering und eine gesonderte Entfernung
derselben muss nicht ausgeführt werden. Der Durchmesser
des zweiten Durchgangslochs kann kleiner sein als der Öffnungsdurchmesser
des ersten Durchgangslochs.
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Bei
dem dritten Ausführungsbeispiel wird anstelle der Metallfolie
bei dem fünften Schritt gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel ein Substrat verwendet, das mit einer
Verdrahtungsstruktur auf einer Oberfläche desselben versehen
ist, und dieses Substrat wird mit der zweiten Harzschicht druckverbunden,
so dass die leitfähige Paste, die in das zweite Durchgangsloch
gefüllt ist, und die Verdrahtungsstruktur in Kontakt miteinander
gebracht werden. Nachfolgend werden die zweite Harzschicht und die leitfähige
Paste ausgehärtet. Wenn das zweite Durchgangsloch und die
Verdrahtungsstruktur miteinander verbunden sind, muss der Abstand
der zweiten Durchgangslöcher genau dem Abstand der Verdrahtungsstruktur
entsprechen. Andererseits, obwohl der Abstand der ersten Durchgangslöcher
und der Abstand der zweiten Durchgangslöcher einander entsprechen
muss, kann eine leichte Abstandsverschiebung absorbiert werden,
wenn der Durchmesser des zweiten Durchgangslochs kleiner hergestellt ist
als der Öffnungsdurchmesser des ersten Durchgangslochs.
Bei dem dritten Ausführungsbeispiel ist, nachdem die zweite
Harzschicht ausgehärtet ist, eine Strukturbildung nicht
erforderlich, da die Verdrahtungsstruktur vorher auf dem Substrat
gebildet wird.
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Bei
dem vierten Ausführungsbeispiel wird anstelle der Metallfolie
bei dem fünften Schritt gemäß dem zweiten
Ausführungsbeispiel ein Substrat verwendet, das mit einer
Verdrahtungsstruktur auf einer Oberfläche desselben versehen
ist. Auch in diesem Fall ist, nachdem die zweite Harzschicht ausgehärtet ist,
eine Strukturbildung nicht erforderlich.
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Die
erste Harzschicht und die zweite Harzschicht der vorliegenden Erfindung
können aus verschiedenen Harzmaterialien gebildet sein,
wie z. B. einem Epoxydharz, einem Polyimidharz, einem Acrylharz
und einem Phenolharz, einer Mischung aus einem wärmehärtbaren
Harz und einem anorganischen Füllstoff oder einem Verbundmaterial,
bei dem Glasfasern oder Kohlestofffasern mit einem wärmehärtbaren
Harz imprägniert sind.
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Gemäß einem
bevorzugten Ausführungsbeispiel, nachdem eine Schaltungskomponente
an der leitfähigen Struktur befestigt wird, die auf der
ersten Harzschicht vorgesehen ist, und dann in einer Harzschicht
in einem ungehärteten Zustand vergraben wird, kann die
Harzschicht ausgehärtet werden, um die erste Harzschicht
zu erhalten, in der die Schaltungskomponente eingebettet ist. In
dem oben beschriebenen Fall, da die erste Harzschicht ein Komponenten
enthaltendes Substrat ist, in das die Schaltungskomponente eingebettet
wird, wird die Dicke der ersten Harzschicht erhöht und
der Öffnungsdurchmesser des ersten Durchgangslochs neigt
dazu, zuzunehmen. Da jedoch das zweite Durchgangsloch in der zweiten
Harzschicht unabhängig von dem ersten Durchgangsloch in
der ersten Harzschicht gebildet werden kann, kann das zweite Durchgangsloch kleiner
hergestellt werden als der Öffnungsdurchmesser des ersten
Durchgangslochs, und sogar wenn die erste Harzschicht eine große
Dicke aufweist, wird die Bildung einer Feinverdrahtung nicht behindert.
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Obwohl
die Substrate des dritten und vierten Ausführungsbeispiels
ein Harzsubstrat sein können, auf dem eine Verdrahtungsstruktur
im Vorhinein gebildet ist, kann ein Träger als das Substrat
auf solche Weise verwendet werden, dass der Träger mit
der zweiten Harzschicht druckverbunden wird und dann nach dem sechsten
Schritt abgelöst wird, bei dem die zweite Harzschicht und
die leitfähige Paste ausgehärtet werden. In dem
oben beschriebenen Fall wird eine Verdrahtungsstruktur, die aus
einer Metallfolie hergestellt ist, auf der Oberfläche der
zweiten Harzschicht gebildet (in einem gehärteten Zustand).
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Ein
konvexer Abschnitt kann auf der freiliegenden Oberfläche
der Verdrahtungsstruktur des Substrats gemäß dem
dritten und dem vierten Ausführungsbeispiel gebildet werden
und kann in das zweite Durchgangsloch eingefügt werden,
wenn das Substrat mit der zweiten Harzschicht druckverbunden wird.
In dem oben beschriebenen Fall wird der konvexe Abschnitt, der in
das zweite Durchgangsloch eingefügt ist, in die leitfähige
Paste vergraben, die in das zweite Durchgangsloch gefüllt
ist, so dass ein Ankereffekt erhalten werden kann. Das heißt, wenn
die erste Harzschicht und das Substrat miteinander druckverbunden
sind und die zweite Harzschicht zwischen denselben positioniert
ist, verhindert der konvexe Abschnitt eine laterale Verschiebung
und somit kann eine Ausrichtung der Verdrahtungsstruktur mit dem
ersten und dem zweiten Durchgangsloch genau ausgeführt
werden. Ferner, da der konvexe Abschnitt in der leitfähigen
Paste vergraben ist, wird ein Innendruck desselben erhöht
und die Dichte eines leitfähigen Materials in der leitfähigen
Paste wird ebenfalls erhöht, so dass der Widerstandswert
verringert werden kann.
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Vorteile
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Wie
oben beschrieben wurde, wird bei dem Verfahren zum Herstellen eines
Mehrschichtverdrahtungssubstrats gemäß dem ersten
Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung die Metallschicht, nachdem
die zweite Harzschicht in einem ungehärteten Zustand, in
der zumindest ein zweites Durchgangsloch gebildet ist, auf die erste
Harzschicht in einem gehärteten Zustand, in der zumindest
ein erstes Durchgangsloch mit einem Boden, hergestellt aus der leitfähigen
Struktur, gebildet ist, laminiert ist, und die leitfähige
Paste in beide Durchgangslöcher gefüllt ist, druckverbunden
und wird dann strukturiert, nachdem die zweite Harzschicht und die
leitfähige Paste ausgehärtet sind; somit können
die zweiten Durchgangslöcher mit einem schmalen Abstand
gebildet werden, ohne Einflüsse des Durchmessers des ersten
Durchgangslochs zu erfahren. Dementsprechend kann der Durchmesser
des zweiten Durchgangslochs gebildet sein, um eine Größe
aufzuweisen, die der Verdrahtungsstruktur entspricht, und die Bildung der
Feinverdrahtung kann realisiert werden. Zusätzlich dazu,
da Schmierstoffe, die erzeugt werden, wenn das erste Durchgangsloch
verarbeitet wird, ohne weiteres durch ein bekanntes Verfahren entfernt
werden können, bevor die zweite Harzschicht laminiert wird,
kann ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat mit einer hohen elektrischen
Zuverlässigkeit erhalten werden. Ferner, da die Verdrahtungsstruktur auf
einer oberen Oberfläche der zweiten Harzschicht auf solche
Weise gebildet ist, dass die Metallfolie mit der zweiten Harzschicht
druckverbunden wird und dann strukturiert wird, ist eine genaue
Ausrichtung zwischen der Metallfolie und der ersten und der zweiten
Harzschicht nicht erforderlich und somit kann der Herstellungsprozess
vereinfacht werden.
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Bei
dem Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung, nachdem die zweite Harzschicht, in der
keine zweiten Durchgangslöcher gebildet sind, auf die erste
Harzschicht laminiert wird, in der das erste Durchgangsloch gebildet
ist, ist, da das zweite Durchgangsloch verarbeitet wird, nicht erforderlich,
dass die zweite Harzschicht genau mit der ersten Harzschicht ausgerichtet
ist, und somit kann der Herstellungsprozess vereinfacht werden.
Ferner können die zweiten Durchgangslöcher mit
einem schmalen Abstand gebildet werden, ohne jegliche Einflüsse
des Durchmessers des ersten Durchgangslochs zu erfahren. Zusätzlich
dazu, da Schmierstoffe, die erzeugt werden, wenn das erste Durchgangsloch
verarbeitet wird, entfernt werden können, bevor die zweite
Harzschicht laminiert wird, kann die Entfernung von Schmierstoffen
ohne weiteres durch ein bekanntes Verfahren ausgeführt
werden und somit kann ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat mit einer hohen
elektrischen Zuverlässigkeit erhalten werden.
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Bei
den Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
gemäß dem dritten und dem vierten Ausführungsbeispiel
der vorliegenden Erfindung, ist es da das Substrat, das mit einer
Verdrahtungsstruktur versehen ist, die im Vorhinein gebildet wird,
mit der zweiten Harzschicht druckverbunden wird, nicht notwendig,
die Verdrahtungsstruktur später zu bilden, und somit kann
eine weitere Mehrschichtbildung ohne weiteres realisiert werden.
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Beste Arten zum Ausführen der
Erfindung
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Hierin
nachfolgend werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der
vorliegenden Erfindung Bezug nehmend auf Beispiele beschrieben.
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Beispiel 1
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1 ist
eine Querschnittsansicht eines ersten Beispiels eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
der vorliegenden Erfindung. Ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat
A dieses Beispiels ist als ein Komponenten enthaltendes Modul gebildet,
in das eine Schaltungskomponente eingebettet ist.
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Das
Mehrschichtverdrahtungssubstrat A weist eine Dreischichtstruktur
auf. Die unterste Schicht (erste Schicht) ist ein Kernsubstrat (wie
z. B. ein LTCC-Substrat) 50, das mit einer Verdrahtungsstruktur
versehen ist, und Verdrahtungsstrukturen 52, 53 und 54 sind
auf einer Vorder- und einer Rückoberfläche des
Substrats und einer Innenseite desselben gebildet. Unter den Verdrahtungsstrukturen
umfasst die Verdrahtungsstruktur 52 auf der vorderen Oberfläche
Befestigungsanschlussbereiche 52a zum Befestigen einer
Schaltungskomponente, und Durchgangslochanschlussbereiche 52b.
Die Verdrahtungsstruktur 53 auf der Rückoberfläche
ist eine Struktur für Anschlusselektroden. Zwischen der
Verdrahtungsstruktur 52 auf der vorderen Oberfläche
und der inneren Verdrahtungsstruktur 54 und zwischen der inneren
Verdrahtungsstruktur 54 und der Verdrahtungsstruktur 53 auf
der Rückoberfläche sind Durchgangslochleiter 55 gebildet,
und die Verdrahtungsstrukturen 52, 53 und 54 sind
elektrisch miteinander verbunden. Wie bekannt ist, kann der Durchgangslochleiter 55 durch
Füllen einer leitfähigen Paste in ein Durchgangsloch,
gefolgt von einem Aushärten gebildet werden. Eine Schaltungskomponente 57 wird
durch Löten 58 an den Befestigungsanschlussbereichen 52a befestigt,
die an dem Kernsubstrat 50 vorgesehen sind. Zusätzlich
dazu kann ein Lötmittelresist (nicht gezeigt) entsprechend
um den Befestigungsanschlussbereich 52a gebildet sein.
In 1 kann, obwohl eine Zwei-Anschluss-Chipkomponente als
die Schaltungskomponente 57 beispielhaft gezeigt ist, auch
eine elektronische Mehranschlusskomponente (wie z. B. eine integrierte
Schaltung) ebenfalls verwendet werden. Abgesehen von Löten kann
ein bekanntes, beliebiges Verfahren als das Befestigungsverfahren
verwendet werden.
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Die
Schaltungskomponente 57 ist in eine Harzschicht (erste
Harzschicht) 60 eingebettet, die als eine Zwischenschicht
funktioniert. Die Harzschicht 60 besteht aus einem Substrat,
das aus einem wärmehärtbaren Harz gebildet ist,
wie z. B. einem Epoxydharz oder einem Phenolharz, einer Mischung,
in der ein anorganischer Füllstoff mit einem wärmehärtbaren
Harz gemischt ist, oder einem Verbundmaterial, in dem Glasfasern
oder Kohlenstofffasern mit einem wärmehärtbaren
Harz imprägniert sind. Durchgangslöcher 61 werden
in der Harzschicht 60 in der Dickerichtung an Positionen
gebildet, die den Durchgangslochanschlussbereichen 52b entsprechen,
die an dem Kernsubstrat 50 vorgesehen sind, und eine leitfähige
Paste 62 wird in die Durchgangslöcher 61 gefüllt
und wird dann ausgehärtet. Die Durchgangslöcher 61 werden
jeweils durch Laserverarbeitung gebildet.
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Die
oberste Schicht ist eine Haftmittelschicht (zweite Harzschicht) 70 mit
einer geringen Dicke. Als ein Material für die Haftschicht 70 wird
vorzugsweise derselbe Materialtyp verwendet, wie für die
Harzschicht 60. Durchgangslöcher 71 werden
in der Haftschicht 70 an Positionen gebildet, die den Durchgangslöchern 61 in
der Harzschicht 60 entsprechen, um mit den Durchgangslöchern 61 zu
kommunizieren, und die leitfähige Paste 62 wird
ebenfalls in diese Durchgangslöcher 71 gefüllt,
durchgehend von den Durchgangslöchern 61, und
wird dann ausgehärtet. Auf einer oberen Oberfläche
der Haftschicht 70 ist eine Verdrahtungsstruktur 81 gebildet,
um in Kontakt mit der leitfähigen Paste 62 zu
sein. Folglich sind die Verdrahtungsstruktur 81 auf der
Haftschicht 70 und die Durchgangslochanschlussbereiche 52b auf der
Oberfläche des Kernsubstrats 50 elektrisch miteinander
verbunden, wobei die Durchgangslochleiter in der Harzschicht 60 gebildet
sind.
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Bei
dem Mehrschichtverdrahtungssubstrat A, das in 1 gezeigt
ist, wird als das Kernsubstrat 50 ein LTCC-Substrat mit
einer Mehrschichtstruktur verwendet; das Kernsubstrat 50 ist
jedoch nicht darauf beschränkt und z. B. kann eine Schaltungsplatine,
wie z. B. eine gedruckte Schaltungsplatine, ebenfalls verwendet
werden. In dem oben beschriebenen Fall wird ein Substrat bevorzugt,
bei dem Elektroden auf einer oberen und einer unteren Oberfläche
desselben vorgesehen sind und elektrisch miteinander durch Durchgangslochleiter
verbunden sind, die innerhalb vorgesehen sind.
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Als
Nächstes wird ein Beispiel eines Herstellungsverfahrens
des Mehrschichtverdrahtungssubstrats A mit der oben beschriebenen
Struktur Bezug nehmend auf 2A und 2B beschrieben. 2A zeigt
eine erste Hälfte eines Herstellungsprozesses und 2B zeigt
eine zweite Hälfte des Herstellungsprozesses. Bei diesem
Beispiel wird ein Verfahren zum Herstellen des Mehrschichtverdrahtungssubstrats
A in der Form eines Tochtersubstrats beschrieben; Mehrschichtverdrahtungssubstrate
werden jedoch tatsächlich in der Form eines kollektiven Substrats
hergestellt und werden dann in Tochtersubstrate unterteilt.
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Wie
in 2A-(a) gezeigt ist, wird das Kernsubstrat 50 vorbereitet,
und die Schaltungskomponente 57 wird an den Befestigungsanschlussflächen 52a befestigt.
Zusätzlich dazu wird abgesehen von dem Kernsubstrat 50 die
Harzschicht 60 in einem ungehärteten Zustand vorbereitet.
Der ungehärtete Zustand zeigt einen halbgehärteten
Zustand an (wie z. B. eine B-Stufe) oder einen Zustand, der weicher
ist als der oben genannte Zustand.
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Als
Nächstes, wie in 2A-(b) gezeigt
ist, ist die Harzschicht 60 mit einer Dicke größer
als die Höhe der Schaltungskomponente 57 auf dem
Kernsubstrat 50 überlappend und wird dann mit
demselben druckverbunden. Wenn die Harzschicht 60 druckverbunden
wird, tritt ein erweichtes Harz in den Zwischenraum zwischen der
Schaltungskomponente 57 und dem Kernsubstrat 50 ein,
so dass die Schaltungskomponente 57 in die Harzschicht 60 eingebettet
wird. Zusätzlich dazu wird durch Ausführen eines Vakuumpressens
bei der Druckverbindung verhindert, dass Luftblasen und Leerräume
in der Harzschicht 60 gebildet werden, und das Harz kann
einfacher gefüllt werden. Wenn ein Erwärmen gleichzeitig mit
dem Druckverbinden der Harzschicht 60 ausgeführt
wird oder nach dem Druckverbinden derselben, wird die Harzschicht 60 so
ausgehärtet, dass das Kernsubstrat 50 und die
Harzschicht 60 vereinigt werden. Bei diesem Schritt ist
die Temperatur vorzugsweise z. B. in dem Bereich von ungefähr
180°C bis 200°C und der Druck ist vorzugsweise
z. B. in dem Bereich von ungefähr 0,5 bis 5,0 MPa. Durch
die Harzschicht 60, die mit den Befestigungsanschlussflächen 52a und
den Durchgangslochanschlussflächen 52b an der
Bodenoberfläche versehen ist, wird die erste Harzschicht
gebildet.
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Als
Nächstes, wie in 2A-(c) gezeigt
ist, wird das Laserlicht von über der gehärteten
Harzschicht 60 abgestrahlt, so dass das Durchgangsloch 61,
das einen Boden aufweist, der aus dem Durchgangslochanschlussbereich 52b hergestellt
ist, verarbeitet wird. Während der Laserverarbeitung, da
Energie des Laserlichts hin zu dem Boden des Durchgangslochs 61 gedämpft
wird, weist das Durchgangsloch eine verjüngte Form auf,
bei der sich der Durchmesser desselben hin zu dem Boden verringert.
Genauer gesagt, wenn die Dicke der Harzschicht 60 zunimmt,
da die Schaltungskomponente 57 darin eingebettet ist, neigt
der Durchmesser eines Öffnungsabschnitts des Durchgangslochs 61 dazu, zuzunehmen.
Nach der Laserverarbeitung wird eine Desmear-Behandlung ausgeführt,
um den Durchgangslochboden zu waschen. Genauer gesagt, wenn eine
Komponente eingebettet ist, können in einigen Fällen
Schmierstoffe nicht effektiv durch eine Trockenplasmabehandlung
oder ähnliches beseitigt werden, da die Durchgangslochtiefe
erhöht ist. In dem oben beschriebenen Fall ist eine Nass-Desmear-Behandlung
wirksam.
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Als
Nächstes, wie in 2A-(d) gezeigt
ist, ist die Haftschicht 70 in einem ungehärteten
Zustand, ausgekleidet durch einen Schutzfilm 72, wie z.
B. einen PET-Film, auf einer oberen Oberfläche der Harzschicht 60 angeordnet,
in der die Durchgangslöcher 61 gebildet sind,
und wird dann druckverbunden durch Ausüben von Wärme
und Druck. Bei diesem Schritt ist die Temperatur z. B. auf ungefähr
50°C bis 120°C eingestellt, wobei die Haftschicht 70 nicht
ausgehärtet wird, und der Druck ist vorzugsweise auf ungefähr
0,5 bis 5,0 MPa eingestellt. Als die Haftschicht 70 kann
eine halbgehärtete Harzschicht mit einer geringen Dicke
von 10 bis 50 μm verwendet werden. Die Durchgangslöcher 71 und
Durchgangslöcher 73 werden im Vorhinein in der
Haftschicht 70 bzw. dem Schutzfilm 72 gebildet,
um dieselben in der Dickenrichtung zu durchdringen, und wenn die
Haftschicht 70 und der Schutzfilm 72 druckverbunden
sind, wird eine Ausrichtung unter Verwendung eines bekannten Verfahrens
ausgeführt, wie z. B. einer Anschlusseinrichtungslaminierung,
so dass die Durchgangslöcher 72 und 73 genau
den Durchgangslöchern 61 und den Durchgangslochanschlussbereichen 52b entsprechen.
Die Durchgangslöcher 71 und 73 können
durch ein bekanntes Verfahren verarbeitet werden, wie z. B. Stanz-
oder Bohrverarbeitung, sowie durch Laserverarbeitung. Obwohl die
Durchmesser der Durchgangslöcher 71 und 73 dieselben
sein können wie die des Öffnungsabschnitts des
Durchgangslochs 61, kann ein Loch mit einem kleineren Durchmesser
als dem Durchmesser an dem Öffnungsabschnitt des Durchgangslochs 61 gebildet
werden. Somit können die Durchgangslöcher 71 und 73 mit
einem schmalen Abstand gemäß dem Durchgangslochanschlussbereich 52b gebildet
werden, der auf dem Kernsubstrat 50 vorgesehen ist. Da
sie aus einem ungehärteten, wärmehärtbaren
Harz gebildet ist, kann, wenn die Haftschicht 70 mit der
gehärteten Harzschicht 60 druckverbunden wird,
eine sehr enge Haftung zwischen denselben erreicht werden.
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2B-(a) zeigt den Zustand, in dem die leitfähige
Paste 62 kollektiv in die Durchgangslöcher 61 und
die Durchgangslöcher 71 und 73 durch
Vakuumdrucken gefüllt wird, während die Haftschicht 70 und der
Schutzfilm 72 an die obere Oberfläche der Harzschicht 60 gehaftet
werden. Bei diesem Schritt wird, da ein Abstreifer 74 entlang
der Rückoberfläche des Schutzfilms 72 geschoben
wird, die Haftschicht 70 nicht beschädigt.
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2B-(b) zeigt den Zustand, in dem, nachdem
die leitfähige Paste 62 in die Durchgangslöcher 61, 71 und 73 gefüllt
wird, der Schutzfilm 72 abgelöst wird. In dem
oben beschriebenen Zustand steht die leitfähige Paste 62 teilweise über
die Haftschicht 70 um eine Länge hervor, die der
Dicke des Schutzfilms 72 entspricht.
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2B-(c) zeigt den Zustand, in dem eine Metallfolie 80,
wie z. B. eine Kupferfolie, mit der oberen Oberfläche der
Haftschicht 70 druckverbunden wird, die in 2B-(b) gebildet
wird. Bei diesem Schritt ist, da die Metallfolie 80 mit
der gesamten Oberfläche der Haftschicht 70 druckverbunden
wird, eine genaue Ausrichtung nicht erforderlich. Da die Haftschicht 70 in
einem ungehärteten Zustand ist und die leitfähige
Paste 62 ebenfalls in einem ungehärteten Zustand
ist, kann, wenn die Metallfolie 80 druckverbunden wird,
die Metallfolie 80 eng an die Haftschicht 70 und
die leitfähige Paste 62 gehaftet werden, ohne jegliche
Zwischenräume zwischen denselben zu bilden. Während
der Druckverbindung werden die Haftschicht 70 und leitfähige
Paste 62 vorzugsweise gleichzeitig ausgehärtet,
während eine Temperatur von ungefähr 180°C
bis 200°C und ein Druck von ungefähr 0,5 bis 5,0
MPa ausgeübt werden.
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Nachdem
die Haftschicht 70 und die leitfähige Paste 72 ausgehärtet
sind, wird die Metallfolie 80 strukturiert, wie in 2B-(d) gezeigt ist, so dass die Verdrahtungsstruktur 81,
die elektrisch mit der gehärteten, leitfähigen
Paste 62 verbunden ist, gebildet werden kann. Ein bekanntes
Verfahren kann für die Strukturbildung der Metallfolie 80 verwendet
werden. Wie oben beschrieben ist, wird das Mehrschichtverdrahtungssubstrat
A, das in 1 gezeigt ist, fertiggestellt.
Da die leitfähige Paste 62 kollektiv in die Durchgangslöcher 61 und 71 gefüllt
wird, kann ein leitfähiges Material einheitlich von dem
Durchgangslöchern 61 bis 71 dispergiert
werden und somit kann der Widerstandswert verringert werden.
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3 zeigt
ein modifiziertes Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats
A des ersten Beispiels. Bei diesem Verdrahtungssubstrat B ist, abgesehen
von der Schaltungskomponente 57, die an einer oberen Oberflächenseite
des Kernsubstrats 50 befestigt ist, auch eine Schaltungskomponente 57a an
der unteren Oberflächenseite derselben befestigt, und eine
Harzschicht 60a ist an der unteren Oberflächenseite
des Kernsubstrats 50 so gebildet, dass diese Schaltungskomponente 57a in
die Harzschicht 60a eingebettet ist. Ferner ist eine Haftschicht 70a auf
einer unteren Oberfläche der Harzschicht 60a gebildet,
die auf der unteren Oberflächenseite angeordnet ist, und
eine Verdrahtungsstruktur 81a ist auf einer Oberfläche
der Haftschicht 70a gebildet. Die Verdrahtungsstruktur 81a ist
elektrisch mit den Elektroden 53 auf einer unteren Oberfläche
des Kernsubstrats 50 durch eine leitfähige Paste 62a verbunden, die
in Durchgangslöcher gefüllt und ausgehärtet
ist. In dem oben beschriebenen Fall, da die Schaltungskomponenten 57 und 57a auf
den zwei Seiten des Kernsubstrats 50 befestigt sein können,
kann ein Modul mit einer höheren Leistung erhalten werden.
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Beispiel 2
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4 zeigt
ein zweites Beispiel eines Herstellungsverfahrens eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats.
Elemente, die jenen bei dem ersten Beispiel entsprechen, sind durch
dieselben Bezugszeichen bezeichnet, und eine doppelte Beschreibung derselben
wird weggelassen. 4 zeigt Schritte, die den Schritt
(d) aus 2A ersetzen. In 2A-(d) sind
die Haftschicht 70 und der Schutzfilm 72, in denen
die Durchgangslöcher 71 und 73 im Vorhinein gebildet
werden, an die Harzschicht 60 gehaftet; in 4-(a) jedoch werden die Haftschicht 70 und
der Schutzfilm 72, in denen keine Durchgangslöcher
gebildet sind, gehaftet. Somit ist die Ausrichtung der Haftschicht 70 und
des Schutzfilms 72 mit der Harzschicht 60 nicht
erforderlich.
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In 4-(b) werden die Positionen, die den Durchgangslöchern 61 und
den Durchgangslochanschlussflächen 52b entsprechen,
mit einem Laser bestrahlt, so dass die Durchgangslöcher 71 und 73 in der
Haftschicht 70 bzw. dem Schutzfilm 72 gebildet werden.
Durch die Bildung der Durchgangslöcher 71 und 73,
obwohl Schmierstoffe an einer Innenwand der Durchgangslöcher 71 haften
können, da die Haftschicht 70 sehr dünn
ist, ist der Betrag der Schmierstoffe sehr gering. Zusätzlich
dazu werden Schmierstoffe, die erzeugt werden, wenn die Durchgangslöcher 61 in
der Harzschicht 60 gebildet werden, entfernt, bevor die
Haftschicht 70 daran laminiert wird. Somit ist der Einfluss
von Schmierstoffen auf die Verschlechterung der Zuverlässigkeit
sehr gering. Die Durchgangslöcher 71 und 73 können
an Positionen nicht gebildet werden, die den Durchgangslöchern 61 entsprechen,
sondern können gemäß dem Abstand der
Durchgangslochanschlussflächen 52b gebildet werden,
die auf dem Kernsubstrat 50 vorgesehen sind, und die Durchmesser
der Durchgangslöcher 71 und 73 können
jeweils kleiner sein als der Durchmesser an dem Öffnungsabschnitt
des Durchgangslochs 61. Nach dem oben beschriebenen Schritt
sind die auszuführenden Schritte ähnlich zu jenen,
die in 2B gezeigt sind, und eine Endstruktur
des Mehrschichtverdrahtungssubstrats ist ebenfalls ähnlich
zu der des ersten Beispiels.
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Beispiel 3
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5 ist
eine Querschnittsansicht eines dritten Beispiels des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der
vorliegenden Erfindung. Ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat C dieses
Beispiels ist als ein Komponenten einlagerndes Modul gebildet, in
das eine Schaltungskomponente eingebettet ist.
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Das
Mehrschichtverdrahtungssubstrat C ist ein Laminat aus fünf
Harzschichten. Eine oberste Schicht, eine dritte Schicht und eine
unterste Schicht sind jeweils ein Kernsubstrat 1 (wie z.
B. eine gedruckte Schaltungsplatine), die mit einer Verdrahtungsstruktur
versehen ist, und Verdrahtungsstrukturen 2 bis 4 sind
in einem vorbestimmten Abstand an einer vorderen und einer hinteren
Oberfläche des Substrats gebildet. Von den Verdrahtungsstrukturen sind
Befestigungsanschlussflächen 2, die eine Schaltungskomponente
befestigen, und Durchgangslochanschlussflächen 3 auf
der vorderen Oberfläche gebildet, und Durchgangslochanschlussflächen 4 sind auf
der hinteren Oberfläche an Positionen gebildet, die den
Durchgangslochanschlussflächen 3 entsprechen.
Durchgangslöcher 5 sind zwischen den Durchgangslochanschlussflächen 3 und 4 gebildet,
die an der vorderen bzw. hinteren Oberfläche vorgesehen sind,
und wenn eine leitfähige Paste 6 in die Durchgangslöcher 5 gefüllt
wird und dann ausgehärtet wird, werden die Durchgangslochanschlussflächen 3 und 4 elektrisch
miteinander verbunden. Schaltungskomponenten 7 werden durch
Lötmittel 8 an den Befestigungsanschlussflächen 2 befestigt,
die auf den Dritte-Schicht-Kernsubstraten 1 und auf den
Befestigungsanschlussflächen 2 vorgesehen sind,
die auf den Unterste-Schicht-Kernsubstraten 1 vorgesehen sind.
In diesem Fall kann ein Lötmittelresist (nicht gezeigt)
geeignet um den Befestigungsanschlussbereich 2 gebildet
werden. Eine Schaltungskomponente 7 kann ebenfalls an den
Befestigungsanschlussbereichen 2 befestigt werden, die
auf dem Oberste-Schicht-Kernsubstrat 1 vorgesehen sind.
In 5, obwohl eine Zwei-Anschluss-Chip-Komponente
beispielhaft als die Schaltungskomponente 7 gezeigt ist, kann
ebenfalls eine elektronische Mehranschlusskomponente (wie z. B.
eine integrierte Schaltung) verwendet werden.
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Die
Schaltungskomponenten 7 sind in eine Zweite-Schicht- und
eine Vierte-Schicht-Harzschicht (erste Harzschicht) 10 eingebettet.
Diese Harzschicht 10 besteht aus einem Substrat, das aus
einem wärmehärtbaren Harz gebildet ist, wie z.
B. einem Epoxydharz oder einem Phenolharz, einer Mischung, in der
ein anorganischer Füllstoff mit einem wärmehärtbaren
Harz gemischt ist, oder einem Verbundmaterial, in dem Glasfasern
oder Kohlenstofffasern mit einem wärmehärtbaren
Harz imprägniert sind. Durchgangslöcher 11 sind
in der Harzschicht 10 in der Dickenrichtung an Positionen
gebildet, die den Durchgangslochanschlussflächen 3 und 4 entsprechen,
die auf dem Kernsubstrat 1 vorgesehen sind, und eine leitfähige
Paste 12 ist in die Durchgangslöcher 11 gefüllt
und wird dann ausgehärtet. Diese Durchgangslöcher 11 sind
durch Laserverarbeitung gebildet.
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Das
Oberste-Schicht-Kernsubstrat 1 und die Zweite-Schicht-Harzschicht 10 werden
laminiert und aneinander befestigt, mit einer Haftschicht (zweite Harzschicht) 20,
die zwischen denselben positioniert ist, und das Dritte-Schicht-Kernsubstrat 1 und
die Vierte-Schicht-Harzschicht 10 werden miteinander laminiert
und befestigt, mit einer Haftschicht (zweite Harzschicht) 20,
die zwischen denselben positioniert ist. Die Haftschicht 20 und
die Harzschicht 10 sind vorzugsweise aus demselben Typ
eines wärmehärtbaren Harzes gebildet. Durchgangslöcher 21 werden in
der Haftschicht 20 an Positionen gebildet, die den Durchgangslöchern 11 entsprechen,
die in der Harzschicht 10 gebildet sind, um mit derselben
zu kommunizieren, und werden ferner kontinuierlich mit der leitfähigen
Paste 12 gefüllt. Als Ergebnis werden die Durchgangslochanschlussbereiche 3 und 4 der
Kernsubstrate 1, die an einer Oberseite und einer Unterseite
angeordnet sind, elektrisch miteinander verbunden, wobei die Kernsubstrate 1 sandwichartig
durch die Harzschicht 10 und die Haftschicht 20 (zweite Harzschicht)
eingenommen werden, die zwischen denselben vorgesehen sind.
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Bei
dem Mehrschichtverdrahtungssubstrat C, das in 5 gezeigt
ist, werden als die Oberste-Schicht-, die Dritte-Schicht- und die
Unterste-Schicht-Substrate 1 die Kernsubstrate mit derselben
Form verwendet; die Kernsubstrate sind jedoch nicht darauf beschränkt
und Kernsubstrate mit unterschiedlichen Strukturen können
ebenfalls verwendet werden. In diesem Fall werden Durchgangslöcher 5 vorzugsweise
gebildet, um Elektroden elektrisch zu verbinden, die an einer Vorder-
und Rückoberfläche angeordnet sind. Auf eine Weise ähnlich
zu der, die oben beschrieben ist, obwohl die Zweite-Schicht- und
die Vierte-Schicht-Harzschichten 10 ebenfalls entworfen
sind, um dieselbe Struktur aufzuweisen, können sie unterschiedliche
Strukturen zueinander aufweisen. Die Durchgangslöcher 11 und 21 sind nicht
auf jene beschränkt, die in dem Umfangsabschnitt des Mehrschichtverdrahtungssubstrats
C vorgesehen sind, und können in dem Mittelabschnitt desselben
vorgesehen sein.
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Als
Nächstes wird ein Beispiel eines Herstellungsverfahrens
des Mehrschichtverdrahtungssubstrats C beschrieben, das die oben
beschriebene Struktur aufweist, Bezug nehmend auf 6A und 6B. 6A zeigt
eine erste Hälfte eines Herstellungsprozesses und 6B zeigt
eine zweite Hälfte des Herstellungsprozesses. Bei diesem
Beispiel wird ein Verfahren zum Herstellen des Mehrschichtverdrahtungssubstrats
C in der Form eines Tochtersubstrats beschrieben; Mehrschichtverdrahtungssubstrate
sind jedoch eigentlich in der Form eines kollektiven Substrats hergestellt
und werden dann in Tochtersubstrate unterteilt.
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Wie
in 6A-(a) gezeigt ist, wird das Kernsubstrat 1 vorbereitet,
und die Schaltungskomponente 7 wird auf den Befestigungsanschlussflächen 2 befestigt.
Das Kernsubstrat 1 wird durch eine bekannte Druckverdrahtungstechnik
gebildet. Zusätzlich dazu wird abgesehen von diesem Kernsubstrat 1 die
Harzschicht 10 in einem ungehärteten Zustand ebenfalls vorbereitet.
Der ungehärtete Zustand zeigt einen halbgehärteten
Zustand (wie z. B. eine B-Stufe) oder einen Zustand an, der weicher
ist als der obige Zustand.
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Als
Nächstes, wie in 6A-(b) gezeigt
ist, wird die Harzschicht 10 mit einer größeren
Dicke als der Höhe der Komponente auf das Kernsubstrat 1 überlappt
und wird dann mit demselben druckverbunden. Wenn die Harzschicht 10 druckverbunden
wird, tritt ein erweichtes Harz in den Zwischenraum zwischen der
Schaltungskomponente 7 und dem Kernsubstrat 1 ein,
so dass die Schaltungskomponente 7 in die Harzschicht 10 eingebettet
wird. Wenn ein Erwärmen gleichzeitig zu dem Druckverbinden
der Harzschicht 10 ausgeführt wird oder nach dem Druckverbinden
derselben, wird die Harzschicht 10 ausgehärtet
und das Kernsubstrat 1 und die Harzschicht 10 werden
vereinigt. Durch die Harzschicht 10, die mit den Befestigungsanschlussbereichen 2 und
den Durchgangslochan schlussbereichen 3 an der unteren Oberfläche
versehen ist, wird die erste Harzschicht gebildet.
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Als
Nächstes, wie in 6A-(c) gezeigt
ist, wird Laserlicht von über der gehärteten Harzschicht 10 abgestrahlt,
so dass die Durchgangslöcher 11, die jeweils einen
Boden aufweisen, der aus der Durchgangslochanschlussfläche 3 hergestellt
ist, verarbeitet werden. Während der Laserverarbeitung,
da Energie des Laserlichts hin zu dem Boden des Durchgangslochs 11 gedämpft
wird, weist das Durchgangsloch 11 eine verjüngte
Form auf, bei der sich der Durchmesser desselben hin zu der Bodenseite verringert.
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Als
Nächstes, wie in 6A-(d) gezeigt
ist, wird die Haftschicht 20, die durch einen Schutzfilm 22 ausgekleidet
ist, auf einer oberen Oberfläche der Harzschicht 10 angeordnet,
die mit den Durchgangslöchern 11 versehen ist,
die darin gebildet sind, und wird dann durch Ausüben von
Wärme und Druck druckverbunden. Die Durchgangslöcher 21 und Durchgangslöcher 23 werden
im Voraus in der Haftschicht 20 bzw. dem Schutzfilm 22 gebildet,
um diese in der Dickenrichtung zu durchdringen, und wenn die Haftschicht 20 und
der Schutzfilm 22 druckverbunden sind, wird eine Ausrichtung
unter Verwendung eines bekannten Verfahrens ausgeführt,
wie z. B. einer Stiftlaminierung, so dass die Durchgangslöcher 21 und 23 genau
den Durchgangslöchern 11 und den Durchgangslochanschlussbereichen 3 entsprechen. Da
die Durchgangslöcher 21 und 23 einen
kleineren Durchmesser aufweisen können als den an einem Öffnungsabschnitt
des Durchgangslochs 11, können die Durchgangslöcher 21 und 23 mit
einem schmalen Abstand gebildet sein, um den Durchgangslochanschlussbereichen 3 zu
entsprechen, die an dem Kernsubstrat 1 vorgesehen sind.
Da die Haftschicht 20 aus einem ungehärteten,
wärmehärtbaren Harz gebildet ist, kann, wenn die
Haftschicht 20 mit der gehärteten Harzschicht 10 druckverbunden
wird, eine sehr enge Haftung zwischen denselben erreicht werden.
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6B-(a) zeigt den Zustand, in dem die leitfähige
Paste 12 kollektiv in die Durchgangslöcher 11 und
die Durchgangslöcher 21 und 23 unter
Verwendung eines Abstreifers 24 gefüllt wird,
während die Haftschicht 20 und der Schutzfilm 22 an
die obere Oberfläche der Harzschicht 10 gehaftet
werden. Bei diesem Schritt, da der Abstreifer 24 entlang
einer hinteren Oberfläche des Schutzfilms 22 geschoben wird,
wird die Haftschicht 20 nicht beschädigt.
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6B-(b) zeigt den Zustand, in dem, nachdem
die leitfähige Paste 12 in die Durchgangslöcher 11, 21 und 23 gefüllt
ist, der Schutzfilm 22 abgelöst wird. In dem oben
beschriebenen Zustand steht die leitfähige Paste 12 teilweise über
die Haftschicht 20 um eine Länge vor, die der
Dicke des Schutzfilms 22 entspricht.
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6B-(c) zeigt einen Schritt, bei dem, nachdem
die Laminate, die bei dem Schritt gebildet wurden, der in 6B-(b) gezeigt ist, an einer ersten Ebene
und einer zweiten Ebene angeordnet sind, das Kernsubstrat 1 an
der obersten Ebene angeordnet wird und die somit angeordneten Schichten
miteinander druckverbunden werden, während eine Ausrichtung
zwischen denselben unter Verwendung einer Stiftlaminierung bzw.
einem verstifteten Verpressen ausgeführt wird. Die ungehärteten
Haftschichten 20 werden auf oberen Oberflächen
der Laminate bereitgestellt, die auf der ersten Ebene und der zweiten
Ebene angeordnet sind, und die ungehärteten, leitfähigen
Pasten 12 werden freigelegt. Somit werden die oben beschriebenen
drei Schichten miteinander druckverbunden, die Haftschicht 20 wird an
eine untere Oberfläche des Kernsubstrats 1 gehaftet
und gleichzeitig wird die leitfähige Paste 12 an die
Durchgangslochanschlussbereiche 4 gehaftet. Genauer gesagt,
da die leitfähige Paste 12 teilweise von einer
oberen Oberfläche der Haftschicht 20 vorsteht,
wird die Haftung mit dem Durchgangslochanschlussbereich 4 verbessert.
Wenn die Haftschicht 20 und die leitfähige Paste 12 gleichzeitig
ausgehärtet werden, ist das Mehrschichtverdrahtungssubstrat C
fertiggestellt, das in 5 gezeigt ist. Da die leitfähige
Paste 12 kollektiv in die Durchgangslöcher 11 und 21 gefüllt
wird, kann ein leitfähiges Material einheitlich von dem
Durchgangsloch 11 zu dem Durchgangsloch 21 dispergiert
werden und somit wird der Widerstandswert nicht erhöht.
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Zusätzlich
dazu, als ein Verfahren, das anstelle des Schrittes (d) aus 6A verwendet
werden soll, auf eine Weise ähnlich zu der, die in 4 gezeigt
ist, können die Haftschicht 20 und der Schutzfilm 22,
in denen keine Durchgangslöcher gebildet sind, angehaftet
werden und dann mit einem Laser an Positionen bestrahlt werden,
die den Durchgangslöchern 11 und den Durchgangslochanschlussbereichen 3 entsprechen,
um die Durchgangslöcher 21 und 23 in
der Haftschicht 20 bzw. dem Schutzfilm 22 zu bilden.
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Beispiel 4
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7 zeigt
ein viertes Beispiel des Herstellungsverfahrens eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats.
Elemente, die jenen in dem dritten Beispiel entsprechen, sind durch
dieselben Bezugszeichen gekennzeichnet und eine doppelte Beschreibung derselben
wird weggelassen. Bei diesem Beispiel, wie in 7-(a) gezeigt ist, sind Befestigungsanschlussbereiche 31 und
Durchgangslochanschlussbereiche 32, die Verdrahtungsstrukturen
sind, auf einem Träger 30 gebildet, der aus einer
Metallplatte, einem Harzfilm oder ähnlichem hergestellt
ist, und die Schaltungskomponente 7 ist an den Befestigungsanschlussbereichen 31 befestigt.
In diesem Fall können die Verdrahtungsstrukturen 31 und 32 z.
B. auf solche Weise gebildet sein, dass eine Metallfolie, wie z. B.
eine Kupferfolie, an dem Träger 30 haftet und
dann durch ein bekanntes Verfahren strukturiert wird, oder die Verdrahtungsstrukturen 31 und 32 können
durch Plattieren auf dem Träger 30 gebildet werden.
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Als
Nächstes, wie in 7-(b) gezeigt
ist, nachdem die ungehärtete Harzschicht 10 den
Träger 30 überlappt und mit demselben
druckverbunden ist, wird ein Härten ausgeführt,
so dass die Schaltungskomponente 7 in die Harzschicht 10 eingebettet
wird. Nachfolgend, wie in 7-(c) gezeigt
ist, wird Laserlicht von über der gehärteten Harzschicht 10 abgestrahlt,
so dass die Durchgangslöcher 11, die jeweils einen
Boden, hergestellt aus dem Durchgangslochanschlussbereich 32 aufweisen,
verarbeitet werden. Als Nächstes, wie in 7A-(d) gezeigt
ist, wird die Haftschicht 20, die mit dem Schutzfilm 22 ausgekleidet
ist, mit der oberen Oberfläche der Harzschicht 10 druckverbunden,
die mit Durchgangslöchern 11 versehen ist, die
darin gebildet sind, und die leitfähige Paste 12 wird
kollektiv in das Durchgangsloch 11, das in der Harzschicht 10 vorgesehen
ist, und in die Durchgangslöcher 21 und 23,
die in der Haftschicht 20 und dem Schutzfilm 22 vorgesehen
sind, gefüllt. Die Durchgangslöcher 21 und 23 können
in der Haftschicht 20 bzw. dem Schutzfilm 22 entweder
bevor oder nachdem die Haftschicht 20 und der Schutzfilm 22 mit
der Harzschicht 10 druckverbunden werden, gebildet werden.
Nachfolgend, wie in 7-(e) gezeigt
ist, wird der Schutzfilm 22 von der Haftschicht 20 abgelöst
und der Träger 30 wird ebenfalls von der Harzschicht 10 abgelöst.
Zusätzlich dazu wird das Ablösen des Trägers 30 nicht
notwendigerweise auf der Stufe (e) ausgeführt und kann
jederzeit ausgeführt werden, nachdem die Harzschicht 10 ausgehärtet
ist, auf der Stufe (b). Durch Ablösen des Trägers 30 werden
die Verdrahtungsstrukturen 31 und 32 auf einer
unteren Oberfläche der Harzschicht 10 freigelegt.
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Nachfolgend,
nachdem die zwei Laminate, die in 7-(e) gebildet
werden, aneinander laminiert sind, und das Kernsubstrat 1 auf
der Oberseite der zwei Laminate angeordnet ist, werden diese kollektiv
erwärmt, während sie unter Druck gesetzt werden
(siehe 7-(f)). Folglich werden die
Haftschichten 20 und die leitfähigen Pasten 12 geleichzeitig ausgehärtet,
so dass ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat D, wie in 7-(g) gezeigt ist, fertiggestellt wird. In dem
Fall dieses Mehrschichtverdrahtungssubstrats D, da das Kernsubstrat 1 nicht
zwischen den Harzschichten 10 vorgesehen ist, weist das Mehrschichtverdrahtungssubstrat
D eine dünne Struktur im Vergleich zu der des Mehrschichtverdrahtungssubstrats
C des dritten Beispiels auf.
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Beispiel 5
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8 zeigt
ein fünftes Beispiel des Herstellungsverfahrens eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats.
Elemente, die jenen in dem dritten Beispiel entsprechen, sind durch
dieselben Bezugszeichen gekennzeichnet, und eine doppelte Beschreibung derselben
wird weggelassen. Bei diesem Beispiel, wie in 8-(a) gezeigt ist, wird ein Laminat (siehe 6B-(b)) in dem Zustand, in dem die Harzschicht 10 auf
dem Kernsubstrat 1 gebildet ist, die Haftschicht 20 auf
der Harzschicht 10 gebildet ist und die Durchgangslöcher 11 und 21 mit
der leitfähigen Paste 12 gefüllt sind,
vorbereitet, und ein Träger 40, der mit einer
Verdrahtungsstruktur 41, die den Durchgangslöchern 11 und 21 entspricht,
und einer Befestigungsverdrahtungsstruktur 42, die auf
der Oberfläche derselben gebildet ist, versehen ist, wird
ebenfalls vorbereitet. Die leitfähige Paste 12 steht
um eine Länge hervor, die der Dicke eines Schutzfilms entspricht,
der eine Rückoberfläche der Haftschicht 20 stützt.
Zusätzlich dazu können die Oberflächen
der Verdrahtungsstrukturen 41 und 42 aufgeraut
werden. Als der Träger 40, obwohl ein Harzfilm
oder eine dünne Metallplatte verwendet werden können,
wird ein Material mit Flexibilität bevorzugt.
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Als
Nächstes, wie in 8-(b) gezeigt
ist, wird der Träger mit der Haftschicht 20 druckverbunden.
Bei diesem Schritt, da die Verdrahtungsstrukturen 41 und 42 leicht
von dem Träger 40 hervorstehen und die leitfähige
Paste 12 ebenfalls von der Haftschicht 20 hervorsteht,
werden die Verdrahtungsstruktur 41 und die leitfähige
Paste 12 stark miteinander druckverbunden. Zusätzlich
dazu werden Verdrahtungsstrukturen 41 und 42 ebenfalls
mit der Haftschicht 20 druckverbunden, ohne Zwischenräume zwischen
denselben zu bilden. Während dieser Druckausübungszustand
beibehalten wird, werden die Haftschicht 20 und die leitfähige
Paste 12 mit Wärme ausgehärtet. Nachfolgend
wird der Träger 40 abgelöst, so dass
ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat E, das in 8-(c) gezeigt ist, erhalten werden kann. Bei dem
Ablösen, kann wenn die Oberflächen der Verdrahtungsstrukturen 41 und 42 aufgeraut sind,
eine Strukturverschiebung unterdrückt werden, wenn der
Träger 40 mit der Haftschicht 20 druckverbunden
wird, und da die Verbindungskraft zu der ausgehärteten
Haftschicht 20 groß ist, ist es, wenn der Träger 40 abgelöst
wird, nicht wahrscheinlich, dass die Verdrahtungsstrukturen 41 und 42 zusammen
mit demselben abgelöst werden.
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Beispiel 6
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9 zeigt
ein sechstes Beispiel des Herstellungsverfahrens eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats.
Dieses Beispiel ist eine Modifikation des fünften Beispiels
und ein konvexer Abschnitt 43, der in die Durchgangslöcher 11 und 21 einfügbar
ist, wird auf der Verdrahtungsstruktur 41 gebildet. Als
ein Verfahren zum Herstellen des konvexen Abschnitts 43 kann
z. B. ein Verfahren verwendet werden, bei dem, nachdem eine Kupferfolie
an die Oberfläche des Trägers 40 angehaftet
ist, und ein Plattierungsresist auf der Oberfläche dieser
Kupferfolie gebildet ist, ein Öffnungsabschnitt in dem
Plattierungsresist durch eine photolithographische Technik gebildet
wird und ein Metallplattierungsfilm auf dem Öffnungsabschnitt durch
Elektrolytplattieren gebildet wird, um den konvexen Abschnitt 43 zu
bilden. Alternativ kann der konvexe Abschnitt 43 z. B.
auf solche Weise gebildet werden, dass, nachdem eine Kupferfolie
an die Oberfläche des Trägers 40 angehaftet
ist und ein Ätzresist auf der Oberfläche der Kupferfolie
gebildet ist, Teile der Kupferfolie, auf der das Ätzresist
nicht gebildet ist, durch eine Ätzlösung entfernt
werden, um den konvexen Abschnitt 43 zu bilden. Die Höhe
des konvexen Abschnitts 43 ist vorzugsweise ungefähr 10–50 μm.
Die Höhe des konvexen Abschnitts 43 ist wiederum
vorzugsweise größer als die Dicke der Haftschicht 20.
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In
diesem Fall, wie in 9-(b) gezeigt
ist, da der konvexe Abschnitt 43 in die Durchgangslöcher 11 und 21 eingefügt
ist und die Durchgangslöcher 11 als eine Führung
funktionieren, kann eine Selbstausrichtungsfunktion auf jede Verdrahtungsstruktureinheit
durch einen Ankereffekt ausgeübt werden, so dass eine Verdrahtungsbildung
mit einer höheren Übertragungs- bzw. Transfergenauigkeit
erreicht werden kann. Durch die somit ausgeübte Selbstausrichtungsfunktion,
wenn die Verdrahtungsstruktur zu einem gewissen Ausmaß eine
Genauigkeit aufweist, wird die Position derselben auf eine gewünschte
Position korrigiert; somit kann ein Material mit einer niedrigen
Steifigkeit, das dazu neigt, eine Verschiebung zu verursachen, für
den Träger 40 verwendet werden. Dementsprechend,
wenn ein Druckverbinden mit einer dünnen Harzschicht oder ähnlichem ausgeführt
wird, werden Folgecharakteristika für ein Basisbauglied
verbessert und somit kann eine einheitliche Druckverbindung ausgeführt
werden. Abgesehen von der Verhinderung einer lateralen Verschiebung
des Trägers 40 und der Harzschicht 10 durch eine
Ankerwirkung wird, da der konvexe Abschnitt 43 in die leitfähige
Paste 12 eingefügt ist, der Kontaktbereich zwischen
denselben vergrößert, und die Dichte der Paste 12 wird
ebenfalls erhöht, aufgrund einer Zunahme eines Innendrucks
derselben, so dass der Widerstandswert verringert werden kann. Nachdem die
Haftschicht 20 und die leitfähige Paste 12 ausgehärtet
sind, wird der Träger 40 abgelöst, so
dass ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat F erhalten wird. Bei diesem
Schritt wird, da der konvexe Abschnitt 43 in der leitfähigen Paste 12 vergraben
ist, die Verbindungskraft zwischen der Verdrahtungsstruktur 41 und
der leitfähigen Paste 12 erhöht und somit
wird verhindert, dass die Verdrahtungsstruktur 41 zusammen
mit dem Träger 40 abgelöst wird.
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Beispiel 7
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10 zeigt
ein siebtes Beispiel des Herstellungsverfahrens eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats.
Dies ist ein teilweise modifiziertes Beispiel des sechsten Beispiels.
Zuerst, wie in 10-(a) gezeigt ist, wird ein
konkaver Abschnitt 13 in einer oberen Oberfläche
der gehärteten Harzschicht 10 gebildet und die
Haftschicht 20 wird darauf angeordnet. In dem Zustand,
in dem die Haftschicht 20 wie oben beschrieben angeordnet
ist, kann der konkave Abschnitt 13 ein Hohlraum sein oder
kann mit der Haftschicht 20 gefüllt sein. Ein
konvexer Abschnitt 44, der mit dem konkaven Abschnitt 13 in
Eingriff gebracht werden kann, ist auf der Verdrahtungsstruktur 42 gebildet,
die auf dem Träger 40 vorgesehen ist. Die Gesamtdicke
der Verdrahtungsstruktur 42 und des konvexen Abschnitts 44 ist
vorzugsweise größer eingestellt als die Dicke
der Haftschicht 20 und ist vorzugsweise kleiner eingestellt
als die Tiefe des konkaven Abschnitts 13. Dieser konvexe
Abschnitt 44 kann auch auf eine ähnliche Weise
zu der für den konvexen Abschnitt 43 des sechsten
Beispiels gebildet werden.
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10-(b) zeigt den Zustand, in dem der Träger 40 mit
der Haftschicht 20 druckverbunden ist. Wenn der Träger 40 mit
der Haftschicht 20 druckverbunden ist, wird, da der konvexe
Abschnitt 44 durch den konkaven Abschnitt 13 geleitet
wird und mit demselben in Eingriff ist, durch dessen Selbstausrichtungsfunktion
verhindert, dass die Verdrahtungsstruktur 42 verschoben
wird. Zusätzlich dazu, da ein Teil der Haftschicht 20 durch
den konvexen Abschnitt 44 unter Druck gebracht wird und
in den konkaven Abschnitt 13 gefüllt wird, wird
der konkave Abschnitt 13 mit der Haftschicht 20 gefüllt,
ohne jegliche Zwischenräume zwischen denselben zu bilden.
-
Die
vorliegende Erfindung ist nicht auf die oben beschriebenen Beispiele
beschränkt. Zum Beispiel kann durch Kombination der Herstellungsverfahren
gemäß dem ersten bis siebten Beispiel ebenfalls
ein Mehrschichtverdrahtungssubstrat mit einer unterschiedlichen
Struktur gebildet werden. Zusätzlich dazu, bei dem Beispiel,
das in 9 gezeigt ist, obwohl der konvexe Abschnitt auf
der freiliegenden Oberfläche der Verdrahtungsstruktur gebildet
ist, die an dem Träger gehaftet ist, kann z. B. wenn Laminate aufeinander
gestapelt sind, wie in 6B-(c) gezeigt ist,
ein konvexer Abschnitt auf einem Durchgangslochanschlussbereich
gebildet werden, der auf einer unteren Oberfläche eines Substrats
vorgesehen ist, die einer leitfähigen Paste zugewandt ist,
so dass der konvexe Abschnitt in der leitfähigen Paste
vergraben ist.
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Kurze Beschreibung der Zeichnungen
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1 ist
eine Querschnittsansicht eines ersten Beispiels eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
der vorliegenden Erfindung.
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2A ist
eine Ansicht, die eine erste Hälfte eines Herstellungsprozesses
für das Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt, das in 1 gezeigt
ist.
-
2B ist
eine Ansicht, die eine zweite Hälfte des Herstellungsprozesses
für das Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt, das in 1 gezeigt
ist.
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3 ist
eine Querschnittsansicht eines modifizierten Beispiels des Mehrschichtverdrahtungssubstrats,
das in 1 gezeigt ist.
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4 ist
eine Ansicht, die teilweise einen Herstellungsprozess gemäß einem
zweiten Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der vorliegenden
Erfindung zeigt.
-
5 ist
eine Ansicht, die einen Herstellungsprozess gemäß einem
dritten Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der vorliegenden Erfindung
zeigt.
-
6A ist
eine Ansicht, die eine erste Hälfte eines Herstellungsprozesses
für das Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt, das in 5 gezeigt
ist.
-
6B ist
eine Ansicht, die eine zweite Hälfte des Herstellungsprozesses
für das Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt, das in 5 gezeigt
ist.
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7 ist
eine Ansicht, die einen Herstellungsprozess gemäß einem
vierten Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der vorliegenden Erfindung
zeigt.
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8 ist
eine Ansicht, die einen Herstellungsprozess gemäß einem
fünften Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der
vorliegenden Erfindung zeigt.
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9 ist
eine Ansicht, die einen Herstellungsprozess gemäß einem
sechsten Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der vorliegenden Erfindung
zeigt.
-
10 ist
eine Ansicht, die teilweise einen Herstellungsprozess gemäß einem
siebten Beispiel des Mehrschichtverdrahtungssubstrats der vorliegenden
Erfindung zeigt.
-
11A ist eine Ansicht, die eine erste Hälfte
eines Herstellungsprozesses für ein herkömmliches
Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt.
-
11B ist eine Ansicht, die eine zweite Hälfte
des Herstellungsprozesses für das herkömmliche
Mehrschichtverdrahtungssubstrat zeigt.
-
12 ist
eine Querschnittsansicht, die die Struktur des herkömmlichen
Mehrschichtverdrahtungssubstrats zeigt.
-
- A
~ F
- Mehrschichtverdrahtungssubstrat
- 1
- Kernsubstrat
- 2
- Befestigungsanschlussbereich
- 3,
4
- Durchgangslochanschlussbereich
- 5
- Durchgangsloch
- 6
- leitfähige
Paste
- 7
- Schaltungskomponente
- 10
- Harzschicht
(erste Harzschicht)
- 11
- Durchgangsloch
- 12
- leitfähige
Paste
- 20
- Haftschicht
(zweite Harzschicht)
- 21
- Durchgangsloch
- 22
- Schutzfilm
- 23
- durchdringendes
Loch
- 40
- Träger
- 41
- Durchgangslochanschlussbereich
- 42
- Befestigungsanschlussbereich
- 43
- konvexer
Abschnitt
- 50
- Kernsubstrat
- 52a
- Befestigungsanschlussbereich
- 52b
- Durchgangslochanschlussbereich
- 57
- Schaltungskomponente
- 60
- Harzschicht
(erste Harzschicht)
- 61
- Durchgangsloch
- 62
- leitfähige
Paste
- 70
- Haftschicht
(zweite Harzschicht)
- 71
- Durchgangsloch
- 72
- Schutzfilm
- 73
- durchdringendes
Loch
- 80
- Metallfolie
- 81
- Verdrahtungsstruktur
-
Zusammenfassung
-
Aufgabe
-
Ein
Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtverdrahtungssubstrats
wird geschaffen, das ein Durchgangsloch verarbeiten kann, ohne den Durchmesser
desselben unnötig zu vergrößern, und das
ohne weiteres die Bildung einer Feinverdrahtung erreichen kann.
-
Lösung
-
Eine
erste Harzschicht 60 in einem gehärteten Zustand
wird vorbereitet, bei der zumindest ein erstes Durchgangsloch 61 mit
einem Boden, der aus einer leitfähigen Struktur 52a gemacht
ist, durch Laserverarbeitung gebildet wird, eine zweite Harzschicht 70 in
einem ungehärteten Zustand wird vorbereitet, bei der zumindest
ein zweites Durchgangsloch 71 gebildet wird, um diese an
einer Position zu durchdringen, die dem ersten Durchgangsloch entspricht,
und die erste Harzschicht und die zweite Harzschicht werden aneinander
so laminiert, dass das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch
miteinander kommunizieren. Nachdem eine leitfähige Paste
gleichzeitig in das erste Durchgangsloch und das zweite Durchgangsloch
gefüllt wird, wird eine Metallfolie 80 mit der
zweiten Harzschicht 70 druckverbunden und die zweite Harzschicht
und die leitfähige Paste werden gleichzeitig ausgehärtet.
Nachfolgend wird die Metallfolie 80 strukturiert.
-
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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