DE1175521B - Cyanide electroplating copper bath - Google Patents
Cyanide electroplating copper bathInfo
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Description
Cyanidisches galvanisches Kupferbad Die Erfindung betrifft die galvanische Abscheidung eines Hochglanz-Kupferüberzuges aus wäßrigen alkalischen Cyanidlösungen.Cyanidic electroplating copper bath The invention relates to electroplating Deposition of a high-gloss copper coating from aqueous alkaline cyanide solutions.
Es ist bekannt, daß man Kupfercyanidbädern zur Steigerung des Glanzes verschiedene Acetylenderivate, z. B. Propargylalkohol oder 1,4-Butindiol, beifügen kann. Ferner ist es aus dem deutschen Patent 1 071439 bekannt, daß man gewisse Acetylenderivate von besonderem Charakter dazu verwenden kann, den Glanz von galvanisch abgeschiedenen Nickelüberzügen zu verbessern. Jedoch ist die große Mehrzahl oder in dem Patent und anderen Veröffentlichungen, die sich mit glänzenden Nickelniederschlägen befassen, offenbarten Gemische völlig wirkungslos zur Verbesserung das Glanzes von galvanisch abgeschiedenen Kupferüberzügen aus alkalischen Kupfercyanidbädern.It is known that copper cyanide baths can be used to increase the gloss of various acetylene derivatives, e.g. B. propargyl alcohol or 1,4-butynediol can be added. It is also known from German Patent 1,071,439 that certain acetylene derivatives of particular character can be used to improve the gloss of electrodeposited nickel coatings. However, the great majority or the compositions disclosed in the patent and other publications dealing with shiny nickel deposits are completely ineffective in improving the gloss of electrodeposited copper coatings from alkaline copper cyanide baths.
Es wurde nunmehr festgestellt, daß man hochglänzende duktile Kupferüberzüge aus wäßrigen alkalischen Kupfercyanidbädern abscheiden kann, wenn das Bad erfindungsgemäß 1-Hydroxy-4-(ß-cyanoäthoxy)-butin-2 oder 1,4-Di-(ß-cyano-äthoxy)-butin-2 oder beide enthält.It has now been found that high-gloss ductile copper coatings can be obtained can deposit from aqueous alkaline copper cyanide baths if the bath according to the invention 1-Hydroxy-4- (ß-cyanoethoxy) -butyne-2 or 1,4-di- (ß-cyano-ethoxy) -butyne-2 or both contains.
Die Methylen-bis-(naphthalinsulfonsäuren), die in Galvanisierbädern gemäß der Erfindung Verwendung finden können, sind durch Kondensation von Formaldehyd mit,-%- oder ß-Naphthalinsulfonsäure erhaltene Verbindungen. Als sulfonsaures Salz wird vorzugsweise ein Natrium- oder Kaliumsalz verwendet, und die Säure selbst sollte vorzugsweise Methylen-bis-(a-naphthalinsulfonsäure) sein. Die Wirkung dieser Salze der Sulfonsäuren ist besonders ausgeprägt, wenn die Bäder bei mittleren oder geringen Stromdichten gefahren werden.The methylene bis (naphthalenesulfonic acids) used in electroplating baths can find use according to the invention are by condensation of formaldehyde Compounds obtained with, -% - or ß-naphthalenesulfonic acid. As a sulfonic acid salt a sodium or potassium salt is preferably used, and the acid itself should preferably methylene-bis (a-naphthalenesulfonic acid). The effect of these salts The sulfonic acid is particularly pronounced when the baths are at medium or low levels Current densities are driven.
Durch Verwendung von Propargylalkohol oder Verbindungen, die man durch Anlagerung von Äthylenoxyd an Propargylalkohol erhält, oder Methylbutinol in Verbindung mit den Salzen von Methylenbis-(naphthalinsulfonsäuren) in alkalischen Kupfercyanidbädern läßt sich der Hochglanz nicht verstärken. Gleicherweise sind Acetylendicarbonsäuren und Propiolsäure (in Form ihrer Natrium- oder Kaliumsalze) gänzlich unwirksam zur Verstärkung des Hochglanzes.By using propargyl alcohol or compounds that one goes through Addition of ethylene oxide to propargyl alcohol, or methylbutynol in connection with the salts of methylenebis (naphthalenesulfonic acids) in alkaline copper cyanide baths the high gloss cannot be increased. Likewise are acetylenedicarboxylic acids and propiolic acid (in the form of its sodium or potassium salts) are completely ineffective Reinforcement of the high gloss.
Es wurde weiterhin gefunden, daß die obengenannten glanzerhöhenden Mittel noch verbesserte Wirkung zeigen, wenn zusätzlich Tellur in dem Bad gelöst wird. Das Auflösen von Tellur in dem Bad erfolgt am besten in der Weise, daß zunächst Tellurdioxyd in Natrium- oder Kaliumhydroxydlösung gelöst, oder aber, daß Tellurdioxyd in dem Bad in Lösung gebracht wird. Wenn Tellur in einer Konzentration von etwa 0,0002 bis 0,006 g je Liter, vorzugsweise von etwa 2 mg je Liter zusammen mit 1-Hydroxy-4-(ß-cyano-äthoxy)-butin-2 oder 1,4-Di-(ß-cyano-äthoxy)-butin-2 in einer Konzentration von etwa 0,1 bis 0,3 g je Liter und Methylen-bis-(naphthalinsulfonsäuren) in einer Konzentration von etwa 3 g je Liter vorhanden ist, so wird die Tendenz zur Bildung von wolkigen Niederschlägen an Stellen hoher Stromdichte herabgesetzt, und der -Glanz der Metallniederschläge erscheint gleichmäßig und erheblich gesteigert, und zwar ebenso an Stellen höchster Stromdichte als an Stellen besonders niedriger Stromdichte. Darüber hinaus wird durch 'die Anwesenheit von Tellur die Neigung zur Verfärbung des Niederschlages insbesondere durch Feuchtigkeit und Fingerabdrücke wesentlich vermindert. Tellurhaltige ; Kupfercyanidbäder, denen gleichzeitig Alkalisalze der Methylennaphthalinsulfonsäure zugesetzt sind, sind an sich bekannt.It has also been found that the above gloss-increasing Agents show an even better effect if tellurium is also dissolved in the bath will. The dissolution of tellurium in the bath is best done in such a way that first Tellurium dioxide dissolved in sodium or potassium hydroxide solution, or that tellurium dioxide is brought into solution in the bath. If tellurium in a concentration of about 0.0002 to 0.006 g per liter, preferably from about 2 mg per liter together with 1-hydroxy-4- (β-cyano-ethoxy) -butyne-2 or 1,4-di- (ß-cyano-ethoxy) -butyne-2 in a concentration of about 0.1 to 0.3 g per liter and methylene bis (naphthalenesulfonic acids) in a concentration of If there is about 3 g per liter, there will be a tendency towards the formation of cloudy precipitation reduced in places of high current density, and the gloss of the metal deposits appears evenly and considerably increased, also in places of the highest Current density than in places with particularly low current density. In addition, will because of the presence of tellurium, the tendency to discolour the precipitate in particular significantly reduced by moisture and fingerprints. Tellurium-containing ; Copper cyanide baths, which also contain alkali salts of methylene naphthalenesulfonic acid are added are known per se.
Die Kupfercyanidbäder können aus Kupfercyanid und Alkalicyanid mit
oder ohne Zusatz von Alkalihydroxyd oder -karbonat angesetzt werden und mit oder
ohne Zusatz von Tartraten, Glykolaten, Gluconaten, Zitraten, Malten oder ähnlichen
organischen Säuren oder deren Salzen, beispielsweise den Natrium-, Kalium- oder
Ammoniumsalzen. In der Regel enthalten die Bäder diese organischen Verbindungen
vorzugsweise in Form der Salze. Es ist vorteilhaft, wenn die Bäder beide lonenarten,
also sowohl Natrium als auch Kaliumionen enthalten, jedoch können die Alkalimetallionen
auch ausschließlich als Natrium-oder Kaliumionen vorliegen. Befriedigende Ergebnisse
wurden erhalten, wenn der Gehalt an Kupfercyanid zwischen etwa 22 und etwa 90 g
je Liter, der Gehalt
an Alkalicyanid zwischen etwa 33 und etwa 150
g je Liter und der Gehalt an Alkalihydroxyd zwischen etwa 3,5 und etwa 30 g je Liter
liegen. Die Kupfercyanidbäder werden vorzugsweise warm gefahren, wobei die besten
Resultate bei Temperaturen von etwa 50 bis 95'C erhalten wurden, jedoch können auch
kältere oder wärmere Bäder sehr gute Resultate erbringen. Bevorzugt sollten Badzusammensetzungen
gewählt werden, die denen in den nachstehend angeführten Beispielen ähnlich sind,
und es sollte mit einer so hohen Stromdichte gearbeitet werden, wie sie unter den
gegebenen Umständen von Temperatur und Rührintensität eben möglich ist. Bei technischen
Verfahren unter üblichen Bedingungen wurde bei einer Kathodenstromdichte von etwa
1 bis 7 Ampere je Quadratdezimeter gearbeitet, wobei die übliche Stabkathodenrührung
verwendet oder die Lösung umgerührt wurde. Einfach geformte Werkstücke können bei
Stromdichten von etwa 10 Ampere je Quadratdezimeter behandelt werden, wenn sehr
kräftig gerührt wird. Die drei nachstehenden Beispiele dienen zur Veranschaulichung
von typischen Kupferbädern, die ausreichend glänzende Kupferniederschläge erbringen,
mit denen sich jedoch kein Hochglanz erreichen läßt.
Im allgemeinen sind bei mäßig konzentrierten Bädern Netzmittel und Antischaummittel nicht erforderlich, jedoch können solche Zusätze, falls erwünscht, mitverwendet werden. Wenn man kationenaktive Netzmittel verwendet, so sollten anionenaktive Netzmittel, wie beispielsweise Natriumlaurylsulfat oder Natriumdodecylsulfat, dann nicht beigegeben werden, wenn das kationenaktive Netzmittel nur als schwaches Kation wirkt (relativ kurzkettig ist). Es können selbstverständlich auch nichtionische Netzmittel verwendet werden.In general, in moderately concentrated baths, wetting agents and Antifoam agents not required, but such additives can, if desired, can also be used. If cation-active wetting agents are used, then anion-active Wetting agents such as sodium lauryl sulfate or sodium dodecyl sulfate, then not be added if the cationic wetting agent is only a weak cation acts (is relatively short-chain). Of course, it can also be nonionic Wetting agents can be used.
Periodische Umkehrungen des Stromflusses oder Stromunterbrechungen können mit einigem Erfolg bei den oben beschriebenen Bädern vorgenommen werden; jedoch ist infolge des sehr großen Bereiches, in dem die Hochglanz erzeugenden Galvanisierbäder gemäß den Beispielen V und VI arbeiten, die Anwendung von Stromunterbrechungen oder Wechsel der Mittel zur Bindung von Fremdionen oder Stromrichtung weniger notwendig. Chelate bildende Mittel, wie beispielsweise Äthylendiamintetraazetat oder ähnliche Verbindungen, können in den Kupferbädern gemäß der Erfindung mitverwendet werden, um Verunreinigungen wie beispielsweise 3wertiges Chrom unschädlich zu machen, ohne daß der Hochglanz des Überzuges beeinträchtigt wird.Periodic reversals of current flow or current interruptions can contribute with some success made the baths described above will; however, it is due to the very large area in which the gloss-producing Electroplating baths work according to Examples V and VI, the application of current interruptions or changing the means for binding foreign ions or the direction of the current is less necessary. Chelating agents such as ethylene diamine tetraacetate or the like Compounds can be used in the copper baths according to the invention, to render impurities such as trivalent chromium harmless without that the gloss of the coating is impaired.
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1960
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Patent Citations (3)
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