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DE1170091B - Verfahren zum Schmelzen und Giessen im Hochvakuum - Google Patents

Verfahren zum Schmelzen und Giessen im Hochvakuum

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Publication number
DE1170091B
DE1170091B DEST17261A DEST017261A DE1170091B DE 1170091 B DE1170091 B DE 1170091B DE ST17261 A DEST17261 A DE ST17261A DE ST017261 A DEST017261 A DE ST017261A DE 1170091 B DE1170091 B DE 1170091B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
melting
cathode
mold
melt
casting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEST17261A
Other languages
English (en)
Inventor
Charles W Hanks
Hugh R Smith Jun
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Stauffer Chemical Co
Original Assignee
Stauffer Chemical Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Stauffer Chemical Co filed Critical Stauffer Chemical Co
Publication of DE1170091B publication Critical patent/DE1170091B/de
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/305Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B9/00General processes of refining or remelting of metals; Apparatus for electroslag or arc remelting of metals
    • C22B9/16Remelting metals
    • C22B9/22Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation
    • C22B9/228Remelting metals with heating by wave energy or particle radiation by particle radiation, e.g. electron beams

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Description

  • Verfahren zum Schmelzen und Gießen im Hochvakuum Die Erfindung bezieht sich auf Elektronenstrahlöfen zum Schmelzen und Gießen von Materialien im Hochvakuum.
  • Hochvakuum-Schmelz- und Gießvorgänge werden vorzugsweise mittels Erhitzung durch Elektronenbeschuß durchgeführt, um erstens das untere Ende einer Verbrauchselektrode aus dem Schmelzgut abzuschmelzen und um zweitens einen Schmelzsumpf des Materials innerhalb des oberen Teils einer Gußform aufrechtzuerhalten.
  • Zu diesem Zweck sind Elektronenstrahlöfen mit einer Elektronenemissionsvorrichtung (Strahlerzeuger) bekannt, bei denen das untere Ende der Verbrauchselektrode nahe oberhalb des offenen Oberteils der Schmelzform angebracht ist. Der aus einer ringförmigen Kathode und einer Fokussierungseinrichtung bestehende Strahlerzeuger liefert dabei die Elektronen zur Beschießung sowohl der Verbrauchselektrode als auch des Schmelzsumpfes in der Gußform.
  • Ferner sind Elektronenstrahlöfen mit zwei Elektronenemissionsvorrichtungen bzw. Strahlerzeugern bekannt, bei denen ein größerer Zwischenraum zwischen der Verbrauchselektrode und der Gußform vorgesehen ist und bei denen der eine Strahlerzeuger zur Beschießung und Abschmelzung der Verbrauchselektrode und der zweite Strahlerzeuger zur Beschießung und Aufrechterhaltung des Schmelzsumpfes im oberen Teil der Gußform dient.
  • Bei einer bekannten Ausführungsform dieser Bauart findet zur Konzentrierung des Elektronenstrahls auf die geschmolzene Oberfläche des Schmelzgutes ein Strahlerzeuger mit einer scheibenförmigen, indirekt geheizten Kathode Verwendung, die von einem rohrförmigen Abschirmmantel mit am Boden einwärts gerichtetem Ringflansch umgeben ist, der als Fokussierungselektrode wirkt.
  • Die Elektronenstrahlofenbauart mit einem Strahlerzeuger hat sich gegenüber der Bauart mit zwei Strahlerzeugern als günstiger erwiesen, da bei letzterer durch den größeren Zwischenraum zwischen den beiden erhitzten Körpern Wärmeverluste auftreten, die zum Schmelzen und Gießen der gleichen Materialmenge bis zu 25% an elektrischer Mehrenergie erfordern. Der wesentlich geringere Abstand zwischen der Verbaruchselektrode und dem Schmelzsumpf bei der Bauart mit einem Strahlerzeuger vermindert jedoch nicht nur die Wärmeverluste, sondern setzt auch das durch Eintropfen von geschmolzenem Material in dem Schmelzsumpf verursachte Verspritzen beträchtlich herab. Bei dieser Bauart treten jedoch Schwierigkeiten auf, wenn die Abmessungen und die Schmelzgeschwindigkeiten erhöht werden und insbesondere dann, wenn als Schmelzgut unreines, beim Schmelzen große Mengen an gasförmigen Stoffen entwickelndes Material verwendet wird. Die entwickelten Gase werden ionisiert und die Gasfokussierung des Elektronenstrahls verursacht eine bevorzugte Beschießung der heißesten Anodenzone, welche die größte Gasmenge entwickelt. Dies kann zu einer Überhitzung und einer übermäßigen Beschießung des Schmelzgutes gegenüber dem Schmelzsumpf führen; der Strahl kann in das Schmelzgut Kanäle einschneiden oder an den Seiten der Verbrauchselektrode aufsteigen. In extremen Fällen kann die Ablenkung des Strahls vom Schmelzsumpf in der Gußform ein Erstarren des Sumpfes verursachen. Diese Schwierigkeiten machten es bislang im allgemeinen erforderlich, zum erstmaligen Schmelzen von stark verunreinigten Materialien die Anordnung mit zwei Strahlerzeugern anzuwenden, und beschränkten bis zu einem gewissen Grad die maximalen praktischen Schmelzgeschwindigkeiten und die Durchmesser der Verbrauchselektrode und des Gußblocks.
  • Die Erfindung schafft hier Abhilfe und zeichnet sich dadurch aus, daß die von der ringförmigen Kathode emittierten Elektronen durch einen koaxial zur Kathode zwischen dieser und dem Schmelzgut angeordneten Teil der Fokussierungselektrode daran gehindert werden, sich von der Kathode geradlinig, radial nach innen auf das in Stabform vorliegende Schmelzgut zu bewegen, und daß das untere abschmelzende Ende des Schmelzgutes in einem solch kleinen Abstand vom Schmelzsumpf gehalten wird, daß es durch Wärmeübergang vom Schmelzsumpf und durch Elektronenbeschuß kontinuierlich abschmilzt.
  • Hierdurch wird ein direkter, geradliniger Elektronenstrom von der Kathode zum zugeführten Schmelzgut vermieden. Der Elektronenstrom kann lediglich durch Regeln der Stellung des zugeführten Schmelzgutes relativ zur Kathode kontrolliert bzw. geregelt werden.
  • Weitere Merkmale und Vorteile ergeben sich aus den Ansprüchen und der Beschreibung in Verbindung mit der Zeichnung. Es zeigt F i g. 1 einen etwas schematischen vertikalen Schnitt eines verbesserten Ofens mit einem Strahlerzeuger, F i g. 2 einen detaillierten horizontalen Querschnitt entlang der Linie 2-2 von F i g. 1, F i g. 3 einen Teil des gleichen Ofens wie in F i g. 1, dargestellt in einem etwas größeren Maßstab und eine typische Anordnung der verwendeten Teile zueinander gemäß einem bevorzugten Startverfahren, worin die Elektronenwege durch Pfeile und die elektrischen Äquipotentialflächen durch gestrichelte Linien dargestellt sind, F i g. 4 eine typische Anordnung der Teile zueinander während des Betriebes und worin der Mantel aus positiven Ionen an der Begrenzung des Plasmas, welches sich oberhalb des Schmelzsumpfes bildet, durch -- Zeichen angedeutet ist.
  • In F i g. 1 ist ein evakuierbares, geschlossenes Gehäuse 1 mit einem weiten Auslaßkanal 2 versehen, welcher zum Vakuumpumpen entsprechender Leistungsfähigkeit zur Aufrechterhaltung eines Hochvakuums, (vorzugsweise weniger als 1 Mikron Hg absoluten Drucks) innerhalb des Gehäuses 1 während der gesamten Betriebszeit des Ofens führt. In dem Vakuumgehäuse ist eine an den Enden offene ringförmige, wassergekühlte Kupferschmelzform 3 mit ihrer Achse in vertikaler Stellung (wie gezeigt) angeordnet. Durch die Zuleitungsrohre 4 und 5 und den Wassermantel der Form 3 wird kontinuierlich Kühlwasser geleitet. Wie nachfolgend erklärt wird, wird geschmolzenes Material kontinuierlich in das offene obere Ende der Form 3 eingebracht, und in dem Maß, wie die Schmelze erstarrt, der Gußblock 6 kontinuierlich durch -den offenen Boden der Form herausgezogen. Eine übliche Vakuumdichtung 7 kann vorgesehen werden, und vorzugsweise wird der Block 6 in eine Vakuumschleuse, welche gleichfalls auf Hochvakuum gehalten werden kann, herausgezogen. Ein Teil der Vakuumschleuse ist bei 8 gezeigt: da sie von üblicher Form ist, erscheint eine weitere Darstellung oder Beschreibung hiervon nicht erforderlich.
  • Die Herstellung dichter lunkerfreier Güsse erfordert, daß ein geeigneter Schmelzsumpf des Gußmaterials an der Spitze des Gußblockes 6 aufrechterhalten wird. Dieser Sumpf wird durch kontinuierlichen Elektronenbeschuß, wie nachfolgend beschrieben, im Schmelzzustand erhalten; er wird in einer Pfanne, die sich an der Spitze des Gußblockes bildet, gehalten. Die Begrenzung zwischen dem flüssigen Sumpf und dem erstarrten Gußmaterial ist in der Zeichnung durch die gestrichelte Linie 9 dargestellt. Durch Abschmelzen des unteren Endes einer Verbrauchselektrode 10 aus Schmelzgut wird geschmolzenes Material kontinuierlich in das offene obere Ende der Schmelzform zugeführt. In diesem speziellen Fall ist das Schmelzgut eine Stange von ungefähr dem gleichen Durchmesser wie der Gußbiock - sie kann nach einem ähnlichen vorangegangenen Gießprozeß gebildet worden sein und wird nun aus Gründen einer weiteren Reinigung oder um in anderer Weise die Qualität des Barrens zu verbessern, umgeschmolzen und neuerlich gegossen. Die Verbrauchselektrode 10 hat ihr freistehendes abzuschmelzendes unteres Ende in vertikaler Fluchtlinie mit dem offenen oberen Ende der Gußform 3, so daß das geschmolzene Material beim Abschmelzen der Verbrauchselektrode in die Gußform tropft. Die Elektrode 10 wird vorzugsweise über eine übliche Luftschleuse 11 eingeführt und, wenn gewünscht, kann auch eine übliche Vakuumdichtung 12 vorgesehen werden. Die Verbrauchselektrode wird in der mit der Schmelzform vertikal fluchtenden Lage mittels eines ringförmigen Führungsringes 13 gehalten, welches vorteilhafterweise durch kontinuierliches Zirkulieren von Kühlwasser über die Leitungen 14 und 15 und durch den Wassermantel des Führungsringes wassergekühlt sein kann.
  • Der Strahlerzeuger besteht in der Hauptsache aus einer ringförmigen Kathode 16 und einer diese im wesentlichen umgebenden Fokussierungskonstruktion. Wie es am besten in F i g. 2 gezeigt wird, ist die Kathode 16 vorzugsweise eine kreisförmige Drahtschleife, gewöhnlich aus Wolfram, verbunden mit den beiden Leitungen 17 und 18 zur Zuleitung der Heiz- und Emissionsströme. Die Kathode wird mittels Wechselstromes auf die Emissionstemperatur erhitzt, z. B. mittels eines zwischen den Leitungen 17 und 18 mit einer Sekundärwindung 19 angeschlossenen Transformators, welcher eine Primärwindung 20 hat, die an jede geeignete Wechselstromquelle angeschlossen ist. Die Gußform 3 und die Verbrauchselektrode 10 werden vorzugsweise durch Verbinden mit dem geerdeten Vakuumgehäuse auf Erdpotential gehalten und die Kathode mittels des Gleichstromversorgungsteiles 21 auf einem Potential von mehreren 1000 V negativ gegen Erde gehalten.
  • Die Fokussierungskonstruktion kann am leichtesten durch gesondertes Betrachten ihrer einzelnen Teile verstanden werden, auch wenn in der Praxis diese Teile verschweißt oder anderweitig dauernd verbunden sind oder aus einem einzigen Metallstück hergestellt werden können. Der am meisten kennzeichnende Teil der Fokussierungskonstruktion im Hinblick auf die vorliegenden Erfindung ist der Fokussierungszylinder 22, welcher, wie gezeigt, von etwas geringerem Durchmesser als die ringförmige Kathode 16 ist. Der Zylinder 22 ist koaxial mit der Kathode 16 und das untere Ende des Fokussierungszylinders liegt angenähert in gleicher Ebene mit der Kathode. Die genaue Lage vom unteren Ende des Fokussierungszylinders und der Kathodenfläche zueinander hängt bis zu einem gewissen Ausmaß von der zu schmelzenden Materialsorte ab: Bei Materialien, welche verhältnismäßig wenig gasförmige Stoffe entwickeln, ist es vorzuziehen, daß das Ende des Fokussierungszylinders etwas über der Kathodenfläche liegt, so daß sich die Kathode in einer etwas freieren Stellung befindet, wodurch das elektrische Feld leichter Elektronen aus der Kathodenoberfläche absaugen kann. Mit Materialien, welche große Mengen an gasförmigen Stoffen entwickeln, kann das Ende des Fokussierungszylinders etwas unterhalb die Kathodenfläche gebracht werden; dies schirmt die Kathode in einem beträchtlichen Ausmaß gegen Dämpfe, verspritztes und zerstäubtes Material ab und erhöht außerordentlich die Lebensdauer der Kathode. Das verhältnismäßig ausgedehnte Plasma und die reichliche Ionisation, welche eine heftige Gasentwicklung begleiten, modifizieren die elektrischen Felder derart, daß von der abgeschirmten Kathode starke Ströme erhalten werden. Im allgemeinen werden vom unteren Ende des Fokussierungszylinders zur Kathode gezogene Linien die Kathodenfläche unter einem Winkel von nicht über 45° schneiden. Zum besseren Verständnis werden zunächst das untere Ende des Fokussierungszylinders und die Kathode als innerhalb dieses Bereiches ungefähr in gleicher Ebene liegend betrachtet.
  • Das untere Ende der Verbrauchselektrode 10 und der Schmelzsumpf im oberen Teil der Gußform 3 sind beide auf einem mäßig hohen positiven Potential gegenüber der Kathode 16, so daß die von der Kathode emittierten Elektronen in Richtung des unteren Endes der Elektrode 10 und des Schmelzsumpfes zur Beschießung und Erhitzung derselben angezogen werden. Der Fokussierungszylinder 22 verhindert eine übermäßige Ablenkung des Elektronenstrahls zur Verbrauchselektrode hin und gewährleistet, daß zumindest der Großteil des Strahls den Schmelzsumpf in der Gußform beschießt und erhitzt.
  • In der dargestellten Ausführungsform befindet sich auch das evakuierbare Gehäuse 1 auf einem gegenüber der Kathode hohen positiven Potential; es ist deshalb wünschenswert, daß Mittel vorgesehen werden, um eine nutzlose und unökonomische Beschießung der Ofenwände durch emittierte Elektronen auf ein Mindestmaß herabzusetzen. Zu diesem Zweck hat die Fokussierungseinrichtung andere Teile, welche sich vom oberen Ende des Fokussierungszylinders 22 über, rundherum und unter die Kathode 16 (wie' gezeigt) erstrecken und einen Ring von innen offenem kanalartigem Querschnitt bilden. Diese anderen Teile können zweckmäßigerweise eine horizontale obere Fokussierungsplätte 23, eine untere horizontale Fokussierungsplatte 24 und einen mit der Kathode koaxialen und sie umgebenden äußeren Zylinder 25 umfassen. Alle diese Teile 22, 23, 24 und 25 der Fokussierungseinrichtung sind elektrisch leitend und miteinander verbunden - tatsächlich können sie aus einem einzigen Metallstück oder aus mehreren miteinander verschweißten Stücken hergestellt sein -und befinden sich deshalb auf gleichem elektrischem Potential. Eine Metallstange oder ein Bügel 26 dient zweierlei Zwecken: Zur Unterstützung der Kathodenhalterung und zur Herstellung einer elektrischen Verbindung zwischen der Kathode und der Fokussierungseinrichtung, so daß die Fokussierungseinrichtung auf Kathodenpotential gehalten wird. Weitere Träger (nicht gezeigt) können in Abständen rund um die ringförmige Kathode angeordnet sein, um ein übermäßiges Durchhängen derselben in heißem Zustand zu verhindern. Diese weiteren Stützen müssen jedoch von der Fokussierungseinrichtung isoliert sein, um ein Kurzschließen des Kathodenheizstroms zu vermeiden.
  • Zusätzlich mag es wünschenswert sein, die Fokussierungseinrichtung zu kühlen, da ein elektrisches Durchschlagen leichter erfolgt, wenn heiße Bereiche vorliegen. Zu diesem Zweck ist eine Kühlleitung 27 vorgesehen und an der Fokussierungseinrichtung hartgelötet oder angeschweißt, um eine gute thermische Leitung mit derselben herzustellen. Da die Metalleitung 27 auf einem mittelmäßig hohen negativen Potential gegen Erde steht, ist sie mit einer Kühlwasserquelle über die Leitungen 28 und 29 aus Isoliermaterial verbunden, und durch diese Leitungen wird ein Kühlwasser geringer elektrischer Leitfähigkeit geleitet.
  • Strahlerzeuger der hier beschriebenen Konstruktion sind ziemlich langlebig; nichtsdestoweniger ist es gelegentlich erforderlich, die Strahlerzeuger auszuwechseln, entweder wegen einer übermäßigen Ansammlung von darauf abgelagerten Stoffen oder um auf einen Strahlerzeuger anderer Konstruktion überzugehen, wenn eine andere Art von Material zu schmelzen und gießen ist. Zur Erleichterung des Auswechselns des Strahlerzeugers ist dieser und die dazu führenden Verbindungen in das Vakuumgehäuse über eine Luftschleuse 30 eingebracht, welche (mit einer Dichtung 31 versehen, die die Aufrechterhaltung des Vakuums im evakuierten Gehäuse unterstützt) schematisch dargestellt ist.
  • Man kann bemerken, daß die Fokussierungseinrichtung mit Ausnahme eines ringförmigen Spaltes zwischen dem unteren Ende des Fokussierungszylinders 22 und dem inneren Ende der Fokussierungsplatte 24 die ringförmige Kathode vollständig umgibt. Dies schafft einen konischen Elektronenstrahl, welcher einwärts und abwärts gegen das offene Ende der Gußform gerichtet ist. Nicht nur, daß der Strahl gut fokussiert ist, ist auch die Kathode weitgehend vor den während des Schmelzprozesses entstehenden Dämpfen und verspritztem Material geschützt.
  • Gleichfalls ist die Kathode in beträchtlichem Maß gegen das zwischen Anode und Fokussierungseinrichtung bestehende elektrische Feld abgeschirmt; der Anfangsstrom hat daher die Neigung, infolge der elektronischen Raumladung auf geringe Werte beschränkt zu werden, und man kann eine gewisse Schwierigkeit bei der Einführung eines genügend großen Stromflusses zur Ingangsetzung der Schmelzoperation und zur Bildung des Ionenplasmas, welches die Raumladungsbehinderung während des Vollastarbeitens überwindet, erwarten.
  • Das Startproblem kann durch die in F i g. 3 dargestellte Anlaßmethode gelöst werden. Ein Stutzen oder Gußblock 6 von festem Material wird in die Gußform mit seinem oberen Ende ungefähr bis zum oberen Ende der Form eingeführt. Die Verbrauchselektrode 10 wird gesenkt, bis ihr freistehendes unteres Ende sich im wesentlichen unter dem unteren Ende des Fokussierungszylinders 22 erstreckt. Das untere Ende der Elektrode 10 wirkt dann als Hilfsanode, die das elektrische Feld in der Nähe der Kathode 16 intensiviert und einem wesentlich stärkeren Strom von der Kathode wegzufließen gestattet. Die tatsächliche Form des Feldes indessen ist derart, daß wenige der Primärelektronen wirklich die Elektrode 10 treffen - die meisten davon beschießen das obere Ende des Blockes 6, und die Hitze genügt, um einen Schmelzsumpf im Oberteil der Gußform zu bilden. Dies ist durch Betrachtung der gestrichelten Linien 32, 33 und 34, die die Äquipotentialflächen im elektrischen Hochspannungsfeld darstellen, leichter verständlich. Man wird feststellen, daß das Senken der Elektrode 10 diese Äquipotentialfiächen nach auswärts gegen die Kathode 16 drückt und dadurch den Spannungsgradienten an der Kathode verstärkt und die Voraussetzung für den Fluß eines größeren Emissionsstromes trotz der bestehenden Raurnladungsbegrenzung schafft. Andererseits ist das Feld in der Nähe der Kathode, wie gezeigt, stark gekrümmt und dies bündelt die Elektronenwege, dargestellt durch die Pfeile 35, 36 und 37, auf das obere Ende des Blockstutzens 6.
  • Wenn einmal ein Schmelzsumpf am oberen Ende des Blockes 6 sich gebildet hat, findet ein beträchtlicher Wärmeübergang auf das untere Ende der Verbrauchselektrode 10 statt. Dieser Wärmeübergang kann infolge der Wirkung verschiedener Vorgänge stattfinden - Strahlung, Sekundärelektronenbeschuß, Gaskonvektion und Konduktion, Ablenkung des Primärstrahles durch Gasfokussierung u. a. In jedem Fall wird das untere Ende der Verbrauchselektrode 10 bald zum Schmelzen erhitzt, und wenn das Metall schmilzt, tropft es in den im oberen Teil der Gußform befindlichen Schmelzsumpf. Darüber hinaus werden nun in beträchtlichem Maß gasförmige Stoffe entwickelt, welche ionisieren und über dem Schmelzsumpf ein Plasma bilden.
  • Wenn die Vorgänge wie oben beschrieben in Gang gesetzt worden sind, kann der Block 6 etwas zurückgezogen werden und der Spiegel des Schmelzsumpfes, wenn gewünscht, bis zu etwa 15 mm unter den oberen Rand der Gußform gesenkt werden. Während des tatsächlichen Betriebes ist es in Wirklichkeit erwünscht, den Block 6 geringfügig in Intervallen auf und ab schwingen zu lassen und so den Schmelzsumpf auf und ab zu bewegen. Dies bringt jedes verspritzte Material, welches sich an den Wandungen der Form angesammelt haben mag, in den Sumpf und erleichtert die Bildung von Blöcken mit glatterer Oberfläche. Die Verbrauchselektrode 10 kann nun gehoben werden, so daß ihr unteres Ende über dem unteren Ende des Fokussierungszylinders ist und gänzlich oberhalb des scheinbaren oberen Randes des Primärelektronenstrahls. Das Ionenplasma kann den Raum zwischen dem Schmelzsumpf und dem unteren Ende der Verbrauchselektrode ausfüllen. Dieses Plasma wird umgeben von einem positiven Ionenschirm, dargestellt durch die +-Zeichen 38, und indem es ein guter Leiter ist, ist das gesamte Plasma angenähert auf Anodenpotential. Hiervon werden die Äquipotentialflächen des elektrischen Hochspannungsfeldes durch das Plasma in Richtung der Kathode nach auswärts gedrückt; zusätzlich wandern positive Ionen vom lonenschirm gegen die Kathode und Fokussierungseinheit, und diese Ionen neutralisieren zumindest teilweise die elektronische Raumladung. Als Folge davon dauert ein kräftiger Stromfiuß zwischen der Kathode und dem Schmelzsumpf an. Das untere Ende der Verbrauchselektrode schmilzt weiter ab, offensichtlich mehr infolge seiner Nähe zum Schmelzsumpf als infolge direkten Elektronenbeschusses. Die Schmelzgeschwindigkeit kann durch Heben und Senken der Elektrode 10 von Zeit zu Zeit wie erforderlich reguliert werden.

Claims (3)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zum Schmelzen und Gießen im Hochvakuum von in Stabform vorliegendem Schmelzgut, welches beim Schmelzen gasförmige Stoffe abgibt, wobei das Schmelzgut in einer Hochvakuumkammer oberhalb einer Gußform angeordnet und während des Schmelzprozesses in Richtung auf die Gußform und auf die Öffnung einer oberhalb der Gußform angeordneten ringförmigen Fokussierungselektrode bewegt wird und wobei das Schmelzgut beim Schmelzen in die Gußform tropft, darin gesammelt und ein Schmelzsumpf durch Beschuß mit Elektronen aufrechterhalten wird, die von einer ringförmigen Kathode emittiert und schräg abwärts in das offene obere Ende der Gußform gerichtet sind, dadurch gekennzeichnet, daß die von der ringförmigen Kathode emittierten Elektronen durch einen koaxial zur Kathode zwischen dieser und dem Schmelzgut angeordneten Teil der Fokussierungselektrode daran gehindert werden, sich von der Kathode geradlinig, radial nach innen auf das in Stabform vorliegende Schmelzgut zu bewegen, und daß das untere abschmelzende Ende des Schmelzgutes in einem solch kleinen Abstand vom Schmelzsumpf gehalten wird, daß es durch Wärmeübergang vom Schmelzsumpf und durch Elektronenbeschuß kontinuierlich abschmilzt.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die von der Kathode emittierten Elektronen zum Großteil zu einem nach abwärts zum oberen Ende der Gußform konvergierenden, konischen Strahl fokussiert werden, während der Körper aus Schmelzgut ungefähr innerhalb eines solchen konischen Strahls angeordnet ist, und daß der Restteil der emittierten Elektronen auf das untere abschmelzende Ende des Schmelzgutes gelenkt wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Körper aus Schmelzgut zu Beginn in den Elektronenstrahl herabgesenkt wird, um einen kräftigen Elektronenstrom zum Schmelzgut und zu dem in der Gußform befindlichen Material einzuleiten und daß danach das Schmelzgut über den Elektronenstrahl gehoben wird, sobald die vom schmelzenden Material entwickelten gasförmigen Stoffe ein lonenplasma zwischen Schmelzsumpf und Schmelzgut bilden. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsches Gebrauchsmuster Nr. 1824 388; belgische Patentschrift Nr. 568 332; USA.-Patentschrift Nr. 2 880 483; österreichische Patentschrift Nr. 203 731.
DEST17261A 1959-12-28 1960-12-21 Verfahren zum Schmelzen und Giessen im Hochvakuum Pending DE1170091B (de)

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