DE1163370B

DE1163370B - Cathode ray tubes for reproducing colorful pictures

Info

Publication number: DE1163370B
Application number: DER34025A
Authority: DE
Inventors: John Jerome Thomas
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Corp
Priority date: 1961-12-07
Filing date: 1962-12-07
Publication date: 1964-02-20
Also published as: GB1003165A; BE625862A; US3188508A; CH428950A; NL286375A; NO116976B; AT240436B

Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLANDFEDERAL REPUBLIC OF GERMANY

DEUTSCHESGERMAN

PATENTAMTPATENT OFFICE

AUSLEGESCHRIFTEDITORIAL

Internat. Kl.: H04n;Boarding school Kl .: H04n;

HOIj
Deutsche Kl.: 21 al - 32/54HOIj
German class: 21 al - 32/54

Nummer: 1163 370Number: 1163 370

Aktenzeichen: R 34025 VIII a / 21 alFile number: R 34025 VIII a / 21 al

Anmeldetag: 7. Dezember 1962Filing date: December 7, 1962

Auslegetag: 20. Februar 1964Opened on: February 20, 1964

Die Erfindung betrifft Kathodenstrahlröhren zur Wiedergabe bunter Bilder, die mit mehreren Elektronenstrahlen verschiedener Geschwindigkeit arbeiten, welche verschieden tief in einen Lumineszenzschirm eindringen.The invention relates to cathode ray tubes for reproducing colored images using multiple electron beams different speeds work, which different depths in a luminescent screen penetration.

Ein bestimmter Typ von Kathodenstrahlröhren weist einen Lumineszenzschirm auf, der drei verschiedene Phosphore enthält, die in aufeinanderliegenden Schichten angeordnet sind und bei Anregung jeweils eine von drei Grundfarben, nämlich Rot, Grün und Blau, emittieren. Die Röhre enthält drei Strahlerzeugungssysteme, die Elektronenstrahlen verschiedener Geschwindigkeit erzeugen, die durch ein gemeinsames Ablenkfeld zum Leuchtschirm laufen. Die Elektronen des Strahls mit der niedrigsten Geschwindigkeit regen die erste Schicht zur Emission einer ersten Farbe an; die Elektronen des Strahles mit der mittleren Geschwindigkeit durchdringen die erste Schicht und regen hauptsächlich die zweite Schicht zur Emission von Licht einer zweiten Farbe an, und Elektronen des Strahles mit der höchsten Geschwindigkeit durchdringen sowohl die erste als auch die zweite Schicht und regen hauptsächlich die dritte Schicht zur Emission einer dritten Farbe an. Durch Modulation der Strahlstärke der drei verschiedenen Strahlen kann jede gewünschte Mischung dieser drei Farben erzeugt werden. One type of cathode ray tube has a luminescent screen that is of three different types Contains phosphors that are arranged in superimposed layers and when excited each emit one of three basic colors, namely red, green and blue. The tube contains three beam generating systems that generate electron beams of various speeds that pass through run a common deflection field to the fluorescent screen. The electrons of the beam with the lowest Speed stimulate the first layer to emit a first color; the electrons of the Medium-speed jets penetrate the first layer and mainly rain the second layer to emit light of a second color, and electrons of the beam with the highest speed penetrate both the first and second layers and rain mainly the third layer to emit a third color. By modulating the radiation intensity of the three different beams any desired mixture of these three colors can be produced.

Wegen der verschiedenen Geschwindigkeit der Strahlen würden sie durch ein gemeinsames Ablenkfeld um verschiedene Winkel abgelenkt werden, so daß Raster verschiedener Größe geschrieben würden, wenn nicht Korrekturmaßnahmen getroffen werden.Because of the different speeds of the rays, they would pass through a common deflection field be deflected at different angles so that grids of different sizes would be written, if corrective action is not taken.

Man erhält gemäß einem früheren Vorschlag zusammenfallende rote, grüne und blaue Raster praktisch gleicher Größe, wenn man die Strahlen gegen Teile des gemeinsamen Ablenkfeldes verschieden abschirmt. Um die zwei langsameren Strahlen werden jeweils eigene rohrförmige magnetische Abschirmungen angeordnet, die verschieden weit in das gemeinsame Ablenkfeld hineinreichen. Die beiden langsameren Strahlen, die ohne die magnetischen Abschirmungen durch das gemeinsame Ablenkfeld stärker abgelenkt würden, werden also nur bestimmten unterschiedlichen Teilen des gemeinsamen Ablenkfeldes ausgesetzt, so daß sie praktisch um denselben Betrag abgelenkt werden wie der schnellste, unabgeschirmte Strahl.In a previous proposal, coincident red, green and blue grids are practically obtained of the same size if the rays are different against parts of the common deflection field shields. Each of the two slower beams has its own tubular magnetic shields arranged, which extend differently far into the common deflection field. The two slower rays that without the magnetic shields due to the common deflection field would be more strongly deflected, so only certain different parts of the common deflection field suspended so that they are distracted by practically the same amount as the fastest, unshielded beam.

Die Erfindung betrifft eine Kathodenstrahlröhre mit drei in einem Dreieck angeordneten Strahlerzeugungssystemen. Die Röhre ist mit einer Ablenkanordnung versehen, welche zwei Ablenkfelder Kathodenstrahlröhre zur Wiedergabe
bunter BilderThe invention relates to a cathode ray tube with three beam generating systems arranged in a triangle. The tube is provided with a deflection arrangement which has two deflection fields cathode ray tube for display
colorful pictures

Anmelder:Applicant:

Radio Corporation of America, New York, N. Y.Radio Corporation of America, New York, N.Y.

(V. St. A.)(V. St. A.)

Vertreter:Representative:

Dr.-Ing. E. Sommerfeld, Patentanwalt,Dr.-Ing. E. Sommerfeld, patent attorney,

München 23, Dunantstr. 6Munich 23, Dunantstr. 6th

Als Erfinder benannt:Named as inventor:

John Jerome Thomas, Levittown, Pa. (V. St. A.)John Jerome Thomas, Levittown, Pa. (V. St. A.)

Beanspruchte Priorität:Claimed priority:

V. St. v. Amerika vom 7. Dezember 1961V. St. v. America 7 December 1961

(Nr. 157 644)(No. 157 644)

erzeugt, durch die die Elektronenstrahlen in zwei quer zueinander verlaufenden Richtungen mit verschiedenen Frequenzen abgelenkt werden. Gemäß der Erfindung liegt ein Elektronenstrahl mit der höchsten Geschwindigkeit an der Spitze der Dreieckanordnung, die sich wenigstens annähernd in einer zur Richtung der höherirequenten Ablenkung senkrechten Mittelebene befindet.generated by which the electron beams in two mutually transverse directions with different Frequencies are deflected. According to the invention, an electron beam lies with the highest speed at the top of the triangular arrangement, which is at least approximately in a to the direction of the higher-frequency deflection is the vertical center plane.

Die Erfindung soll nun an Hand der Zeichnungen näher erläutert werden; dabei bedeutetThe invention will now be explained in more detail with reference to the drawings; thereby means

Fig. 1 eine teilweise geschnittene Seitenansicht einer Kathodenstrahlröhre gemäß der Erfindung, wobei zur Vereinfachung Teile der Röhre weggebrochen sind,Fig. 1 is a partially sectioned side view of a cathode ray tube according to the invention, wherein parts of the tube have broken away to simplify matters,

Fig. 2 eine Stirnansicht der Röhre der Fig. 1,Fig. 2 is an end view of the tube of Fig. 1,

F i g. 3, 4 und 5 Querschnittsansichten in Ebenen 3-3, 4-4, 5-5 der Fig. 1,F i g. 3, 4 and 5 cross-sectional views in planes 3-3, 4-4, 5-5 of Fig. 1,

F i g. 6 eine perspektivische Ansicht eines Teiles der in F i g. 1 dargestellten Kathodenstrahlröhre,F i g. 6 is a perspective view of part of the FIG. 1 shown cathode ray tube,

Fig. 7 und 8 schematische Darstellungen verschiedener Ausführungsformen von magnetischen Strahlabschirmungen gemäß der Erfindung, die zur Erläuterung des Aufbaues des in F i g. 1 dargestellten Systems dienen,7 and 8 are schematic representations of various Embodiments of magnetic beam shields according to the invention, which for Explanation of the structure of the in F i g. 1 are used,

Fig. 9 ein Diagramm eines typischen Ablenkfeldes, das zur Erläuterung der F i g. 7 und 8 verwendet wird,9 is a diagram of a typical deflection field; that to explain the F i g. 7 and 8 is used,

409 509/172409 509/172

Fig. 10 und 11 schematische Darstellungen von Verzerrungen des Ablenkfeldes, die durch die Abschirmungen der F i g. 7 bzw. 8 verursacht werden,FIGS. 10 and 11 are schematic representations of FIG Distortions of the deflection field caused by the shields of the F i g. 7 or 8 are caused,

Fig. 12a eine schematische Darstellung eines Rasterdeckungsfehlers, der seine Ursache in einer falschen Orientierung der Strahlerzeugungssysteme hat,Fig. 12a is a schematic representation of a grid misregistration, which is its cause in a has incorrect orientation of the beam generation systems,

Fig. 12b und 12c schematische Darstellungen von Ablenkfeldern, die den in Fi g. 12 a dargestellten Rasterdeckungsfehler verursachen,FIGS. 12b and 12c are schematic representations of deflection fields which correspond to the one shown in FIG. 12 a shown Cause grid misregistration,

Fig. 13a eine Darstellung der Rasterdeckung, die mit der Strahlerzeugungssystemanordnung der F i g. 1 bis 6 erhalten wird,Fig. 13a is a representation of the grid coverage, the with the beam generating system arrangement of FIG. 1 to 6 is obtained,

Fig. 13b und 13c schematische Darstellungen von Ablenkfeldverzerrungen, die durch die Systemorientierung der Fig.l bis 6 verursacht werden, und13b and 13c are schematic representations of deflection field distortions caused by the system orientation the Fig.l to 6 are caused, and

F i g. 14 und 15 schematische Darstellungen der Einflüsse von Elementen der Strahlerzeugungssystemanordnung der F i g. 1 auf das Vertikal- bzw. Horizontalablenkfeld.F i g. 14 and 15 are schematic representations of the influences of elements of the beam generating system arrangement the F i g. 1 on the vertical or horizontal deflection field.

Die F i g. 1 bis 6 zeigen eine Kathodenstrahlröhre 8 mit einem evakuierten Kolben, der einen Hals 10, eine Frontscheibe 12 und einen Konus 14 umfaßt. Innerhalb des Halses 10 befindet sich eine Strahlerzeugungsanordnung 15, die bei dem dargestellten Beispiel drei Systeme 16, 17, 18 umfaßt, welche nebeneinander in einer Delta- oder Dreieckanordnung symmetrisch zur Längsachse der Strahlerzeugungsanordnung 15 angeordnet sind. In Fig. 1 wird das System 17 durch das System 16 verdeckt. Die Systeme 16, 17 und 18 liefern einen Strahl niedriger, mittlerer bzw. hoher Geschwindigkeit, die Strahlen kufen durch einen gemeinsamen Ablenkbereich 19 in Richtung auf die Frontscheibe. Der Einfachheit halber wird im folgenden vom (langsamsten) L-Strahl, (mittelschnellen) M-Strahl und vom Η-Strahl (höchste Geschwindigkeit) gesprochen werden. Der L-Strahl wird vom System 16, der M-Strahl vom System 17 und der Η-Strahl vom System 18 geliefert.The F i g. 1 to 6 show a cathode ray tube 8 with an evacuated piston which has a neck 10, a front pane 12 and a cone 14 comprises. A beam generating arrangement is located within the neck 10 15, which in the example shown comprises three systems 16, 17, 18, which are arranged side by side in a delta or triangle arrangement are arranged symmetrically to the longitudinal axis of the beam generating arrangement 15. In Fig. 1, the system 17 is hidden by the system 16. Systems 16, 17 and 18 deliver one beam lower, medium or high speed, the beams skid through a common deflection area 19 in Towards the windshield. For the sake of simplicity is in the following from the (slowest) L-ray, (medium-fast) M-ray and from the Η-ray (highest Speed) can be spoken. The L-beam is from system 16, the M-beam from system 17 and the Η-ray provided by system 18.

Auf der Innenseite der Frontscheibe 12 befindet sich ein Leuchtschirm 20, der drei Schichten 22, 24 26 aus verschiedenen Phosphoren enthält, die bei Anregung durch Elektronen in den Grundfarben Rot, Grün bzw. Blau lumineszieren. Die Röhre 8 wird so betrieben, daß der L-Strahl die erste Phosphorschicht 26 anregt und Licht einer ersten Primärfarbe erzeugt, während der M-Strahl die erste Phosphorschicht 26 durchdringt und in erster Linie die zweite Phosphorschicht 24 zur Lumineszenz einer zweiten Primärfarbe anregt und der Η-Strahl sowohl die erste als auch die zweite Schicht 26, 24 durchdringt und hauptsächlich die dritte Phosphorschicht 22 zur Emission von Licht der dritten Primärfarbe anregt. Auf der Phosphorschicht 26 befindet sich noch in üblicher Weise eine dünne Metallschicht, z. B. aus Aluminium. Gewünschtenfalls kann der Schirm 20 zwischen den Phosphorschichten noch nicht lumineszierende Trennschichten enthalten, um die Betriebseigenschaften des Schirms zu verbessern.On the inside of the front pane 12 there is a luminescent screen 20, the three layers 22, 24 26 contains from different phosphors, which when excited by electrons in the primary colors Luminesce red, green or blue. The tube 8 is operated so that the L-beam is the first phosphor layer 26 excites and generates light of a first primary color, while the M-beam the first phosphor layer 26 penetrates and primarily the second phosphor layer 24 for the luminescence of a second primary color and the Η-ray both the first and the second layer 26, 24 penetrates and mainly the third phosphor layer 22 for emitting light of the third primary color stimulates. On the phosphor layer 26 there is still a thin metal layer in the usual way, z. B. made of aluminum. If desired, the screen 20 can still be positioned between the phosphor layers contain non-luminescent separating layers to improve the performance of the screen.

Der Röhre 8 ist eine Ablenkspulenanordnung 28 zur magnetischen Strahlablenkung zugeordnet, die eng am Kolben der Röhre anliegt. Die Ablenkspulen 28 erzeugen bei geeigneter Speisung zwei Ablenkfelder, die die Elektronenstrahlen zusammen in zwei zueinander senkrechten Richtungen mit verschiedenen Frequenzen über den Leuchtschirm 20 ablenken. Vorzugsweise werden im Ablenkbereich 19 horizontale und vertikale Ablenkfelder erzeugt, die eine Ablenkung der drei getrennten Strahlen von den Systemen 16, 17, 18 in Form eines rechteckigen Rasters bewirken.The tube 8 is assigned a deflection coil arrangement 28 for magnetic beam deflection, which fits snugly against the piston of the tube. The deflection coils 28 generate two deflection fields with a suitable supply, which the electron beams together in two mutually perpendicular directions with different Deflect frequencies via the luminescent screen 20. Preferably, in the deflection area 19 are horizontal and creates vertical deflection fields which deflect the three separate beams from the systems 16, 17, 18 in the form of a rectangular grid.

Wie Fig. 2 zeigt, bilden die Frontscheibe 12 und der Leuchtschirm 20 einen rechteckigen Bildbereich 29, sie können selber entweder kreisförmig oder näherungsweise rechteckig sein und weisen zusammen mit dem Bildbereich vorzugsweise eine Hauptachse X-X und eine zu dieser senkrechte Nebenachse Y-Y auf. Normalerweise liegt die Achse X-X waagerecht und die Achse Y-Y senkrecht. In den F i g. 3, 4 und 5 wurden die Achsen X-X und Y-Y in axialer Richtung längs der Röhre 8 nach hinten in die Ebenen der jeweiligen Figuren projiziert. Die Ablenkspulenanordnung 28 ist winkelmäßig bezüglich der Röhre 8 so orientiert und ausgebildet, daß bei entsprechender Steuerung der Ablenkströme die Elektronenstrahlen auf dem Leuchtschirm 20 einen recht-As FIG. 2 shows, the front panel 12 and the luminescent screen 20 form a rectangular image area 29; they can themselves either be circular or approximately rectangular and, together with the image area, preferably have a main axis XX and a secondary axis YY perpendicular to this. Usually the XX axis is horizontal and the YY axis is vertical. In the F i g. 3, 4 and 5, the axes XX and YY were projected in the axial direction along the tube 8 to the rear in the planes of the respective figures. The deflection coil arrangement 28 is angularly oriented and designed with respect to the tube 8 in such a way that, with appropriate control of the deflection currents, the electron beams on the luminescent screen 20 have a right-

ao eckigen Raster schreiben, dessen aufeinander senkrecht stehende Haupt- und Nebenachsen mit den Achsen X-X und Y-Y zusammenfallen.ao write an angular grid whose perpendicular main and minor axes coincide with the axes XX and YY .

Die Strahlerzeugungssysteme 16, 17, 18 umfassen jeweils eine Anzahl von koaxialen, rohrförmigen Elektroden. Die Systeme enthalten jeweils eine rohrförmige Kathode 30 mit einer Stirnwand, die mit einem geeigneten emissionsfähigen Material überzogen ist. Die Kathoden 30 sind jeweils isoliert innerhalb eines mit einer Mittelöffnung versehenen topfförmigen Steuergitters 32 montiert. Auf die jeweiligen Steuergitter 32 folgen in der angegebenen Reihenfolge in koaxialer Anordnung jeweils ein mit einer Mittelöffnung versehenes topfförmiges Schirmgitter 34, eine rohrförmige Fokussierelektrode 36 und eine rohrförmige Anode 38.The beam generating systems 16, 17, 18 each comprise a number of coaxial, tubular Electrodes. The systems each contain a tubular cathode 30 with an end wall that with is coated with a suitable emissive material. The cathodes 30 are each isolated within a cup-shaped control grid 32 provided with a central opening. On the respective Control grids 32 follow in the order given in a coaxial arrangement, a cup-shaped screen grille provided with a central opening 34, a tubular focusing electrode 36 and a tubular anode 38.

Die Anoden sind an einem zylindrischen Konvergenzkäfig 40 befestigt, der elektrisch allen drei Systemen gemeinsam ist. Der Konvergenzkäfig 40 umfaßt ein topfförmiges Bauteil mit einer Stirnwand 42, dessen offenes Ende durch eine Endplatte 43 verschlossen wird. Die Endwand 42 und die Endplatte 43 weisen öffnungen 44, 45, 46 auf, die koaxial zu den zugehörigen Systemen 16, 17 bzw. 18 liegen.
Die Kathoden 30, Steuergitter 32, Schirmgitter 34 und Fokussierelektroden 36 der drei Systeme sind mit getrennten Anschlußleitern versehen, die vakuumdicht durch das sockelseitige Ende des Kolbens durchgeführt und mit Anschlußstiften 50 eines Röhrenfußes 52 verbunden sind oder diese bilden.The anodes are attached to a cylindrical convergence cage 40 that is electrically common to all three systems. The convergence cage 40 comprises a pot-shaped component with an end wall 42, the open end of which is closed by an end plate 43. The end wall 42 and the end plate 43 have openings 44, 45, 46 which are coaxial with the associated systems 16, 17 and 18, respectively.
The cathodes 30, control grid 32, screen grid 34 and focusing electrodes 36 of the three systems are provided with separate connection conductors, which pass through the base end of the bulb in a vacuum-tight manner and are connected to connection pins 50 of a tube foot 52 or form these.

Diese Elektroden können also getrennt angeschlossen werden, und die Systeme können Strahlen verschiedener Beschleunigungsspannungen liefern, die unabhängig voneinander auf den Leuchtschirm 20 fokussiert werden können.So these electrodes can be connected separately, and the systems can have different beams Deliver acceleration voltages that are focused on the luminescent screen 20 independently of one another can be.

Der Konvergenzkäfig 40 ist mit einer Anzahl von Federfingern 54 versehen, die an der Innenwand des Kolbenhalses 10 anliegen. Eine elektrisch leitende Schicht 56 bedeckt die Innenfläche des Röhrenkonus 14 und reicht so weit in den Hals 10, daß sie Kontakt mit den Federfingern 54 macht. Die Schicht 56 ist außerdem elektrisch mit der Metallschicht 27 des Leuchtschirms 20 verbunden. Die Schicht 56, die Anoden 38 und der Leuchtschirm 20 können über einen nur schematisch durch einen Pfeil 58 angedeutete Einführung an eine geeignete Spannung gelegt werden.The convergence cage 40 is provided with a number of spring fingers 54 which are attached to the inner wall of the The flask neck 10. An electrically conductive layer 56 covers the inner surface of the tube cone 14 and extends so far into the neck 10 that it makes contact with the spring fingers 54. Layer 56 is also electrically connected to the metal layer 27 of the luminescent screen 20. The layer 56 that Anodes 38 and the luminescent screen 20 can be shown only schematically by an arrow 58 Introduction must be placed at a suitable voltage.

Die Elektroden der Systeme sind in geeigneten Abständen koaxial zueinander durch geeignete Hai-The electrodes of the systems are coaxial with one another at suitable intervals by means of suitable shafts.

terungen festgelegt, ζ. B. durch drei Glasstäbe 59, die längs der Systeme verlaufen. Die Elektroden 32, 34, 36,38 der einzelnen Systeme können so an den Glasstäben befestigt sein, wie es in Fig. 3 für die Fokussierelektroden 36 dargestellt ist. Wie Fig. 3 zeigt, ist die Elektrode 36 des Systems 18 an einem gebogenen Mittelteil eines Streifens 60 befestigt, dessen Enden in zwei der Glasstäbe 59 eingebettet sind. Die Elektroden 36 der Systeme 16 und 17 sind in entspreschender Weise durch Streifen 61 bzw. 62 an jeweils zwei anderen Glasstäben 59 montiert. Der Streifen 60 an der Elektrode 36 des H-Systems 18 kann aus einem noch zu erläuternden Grunde aus einem magnetischen Werkstoff bestehen.fixed, ζ. B. by three glass rods 59, the run along the systems. The electrodes 32, 34, 36, 38 of the individual systems can thus be attached to the glass rods be attached, as shown in FIG. 3 for the focusing electrodes 36. As Fig. 3 shows, is the electrode 36 of the system 18 is attached to a curved central portion of a strip 60, the ends of which are embedded in two of the glass rods 59. The electrodes 36 of the systems 16 and 17 are in the corresponding direction Way by means of strips 61 and 62, respectively, mounted on two other glass rods 59. The stripe 60 on the electrode 36 of the H-system 18 can for a reason to be explained from a magnetic material.

Da die drei Systeme 16, 17, 18 nicht koaxial zur Röhre 8 liegen, sondern etwas gegenüber der Längsachse der Röhre versetzt sind, sind zur Kompensation dieser exzentrischen Anordnung sowohl statische als auch dynamische Konvergenzmaßnahmen für die drei Strahlen vorgesehen.Since the three systems 16, 17, 18 are not coaxial with the tube 8, but somewhat opposite the longitudinal axis of the tube are both static to compensate for this eccentric arrangement as well as dynamic convergence measures for the three beams.

Eine ungefähre Konvergenz kann dadurch erreicht werden, daß man die einzelnen Systeme in einem kleinen Winkel bezüglich der Längsachse der Röhre 8 montiert, so daß die drei Elektronenstrahlen im unabgelenkten Zustand wenigstens annähernd auf einem gemeinsamen Punkt in der Nähe der Mitte des Leuchtschirms 20 zusammentreffen. Der Winkel, den die einzelnen Systeme mit der Röhrenachse bilden müssen, wird durch die Abmessungen der Röhre bestimmt. Bei Kathodenstrahlröhren der beschriebenen Art und Längen von etwa 48 bis 64 cm liegt dieser Winkel in der Größenordnung von 1° Γ.Approximate convergence can be achieved by combining the individual systems into one mounted small angle with respect to the longitudinal axis of the tube 8, so that the three electron beams in the undeflected State at least approximately meet on a common point in the vicinity of the center of the luminescent screen 20. The angle, which the individual systems must form with the tube axis is determined by the dimensions of the tube certainly. With cathode ray tubes of the type described and lengths of about 48 to 64 cm this angle of the order of 1 ° Γ.

Für die dynamische Konvergenz kann eine Anordnung Verwendung finden, wie sie in Fig. 4 dargestellt ist. Auf gegenüberliegenden Seiten der einzelnen Strahlen sind innerhalb des Konvergenzkäfigs 40 jeweils zwei getrennte Polschuhe 64 angeordnet. Diesen Polschuhpaaren 64 sind getrennte Elektromagnete 66 zugeordnet, die außerhalb des Röhrenkolbens in Verlängerung der Enden der Polschuhe angeordnet sind. Die Strahlen sind gegen fremde Konvergenzfelder durch eine F-förmige magnetische Abschirmung 68 abgeschirmt.An arrangement as shown in FIG. 4 can be used for dynamic convergence. Two separate pole shoes 64 are arranged within the convergence cage 40 on opposite sides of the individual beams. These pole shoe pairs 64 are assigned separate electromagnets 66 , which are arranged outside the tubular piston as an extension of the ends of the pole shoes. The beams are shielded from foreign convergence fields by an F-shaped magnetic shield 68.

Bei Erregung der Spulen der Elektromagnete 66 werden die Elektronenstrahlen etwas in Richtung auf die Längsachse der Röhre 8 oder von dieser weg abgelenkt. Die gewünschte dynamische Konvergenz der drei Strahlen wird dadurch erreicht, daß den einzelnen Elektromagneten 66 Ströme zugeführt werden, die sich entsprechend der Rasterablenkung der drei Strahlen ändern und mit dieser synchronisiert sind.When the coils of the electromagnets 66 are energized, the electron beams are slightly in the direction of the longitudinal axis of the tube 8 or deflected away from it. The desired dynamic convergence of the three beams is achieved by supplying 66 currents to the individual electromagnets, which change according to the raster deflection of the three beams and are synchronized with it.

Um auch im statischen Falle ein genaues Zusammentreffen der drei Strahlen in der Mitte des Leuchtschirms 20 zu gewährleisten, ist die seitliche Lage eines der Strahlen einjustierbar. Dies wird durch ein Magnetfeld im Weg des Η-Strahles bewirkt, das durch eine Permanentmagnetanordnung 69 erzeugt wird. Um die Formung des Feldes der Magnetanordnung 69 im Weg des Η-Strahles zu unterstützen, kann der Montagestreifen 60 gegebenenfalls aus einem magnetischen Werkstoff bestehen. Das durch die Magnetanordnung 69 erzeugte Feld verläuft quer zur Richtung des Magnetfeldes, das zwischen den Polschuhen 64 des Η-Strahles herrscht. Dies ermöglicht eine seitliche Einjustierung der Lage eines der drei Strahlen (bei dem dargestellten Ausführungsbeispiel des vom System 18 erzeugten Strahles) in einer Richtung, die senkrecht auf der Radialrichtung steht, in welcher der betreffende Strahl mittels der Konvergenzpolschuhe 64 justiert wird.In order to ensure that the three rays meet exactly in the center of the To ensure fluorescent screen 20, the lateral position of one of the beams can be adjusted. this will caused by a magnetic field in the path of the Η-ray, which is caused by a permanent magnet arrangement 69 is produced. In order to support the formation of the field of the magnet arrangement 69 in the path of the Η-ray, the mounting strip 60 may optionally consist of a magnetic material. That The field generated by the magnet assembly 69 is transverse to the direction of the magnetic field between the pole pieces 64 of the Η-ray prevails. This enables lateral adjustment of the Position of one of the three beams (in the illustrated embodiment, that generated by system 18 Ray) in a direction which is perpendicular to the radial direction in which the relevant Beam is adjusted by means of the convergence pole shoes 64.

Gewünschtenfalls können die Pole der Magnetanordnung 69 dynamisch erregt werden, so daß eine zusätzliche Möglichkeit zur Formung des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters besteht, um diesen mit den Rastern des L- und M-Strahles zur Deckung zu bringen.If desired, the poles of the magnet arrangement 69 are dynamically excited, so that an additional possibility for shaping the vom There is a grid written in the Η-ray in order to make it coincide with the grids of the L- and M-ray bring to.

Das den L-Strahl liefernde System 16 und das den M-Strahl liefernde System 17 sind mit rohrförmigen Magnetabschirmungen (magnetischen shunts) 76 bzw. 78 versehen, die in axialer Richtung verschiedene Längen besitzen und koaxial zu den zugehörigen Systemen angeordnet sind. Sie können an der Endplatte 43 montiert sein. Die rohrförmigen Abschirmungen 76, 78 erstrecken sich so von den Strahlerzeugungssystemen weg und sind so angeordnet, daß sie innerhalb des Ablenkbereiches 19 liegen.The L-beam supplying system 16 and the M-beam supplying system 17 are tubular Magnetic shields (magnetic shunts) 76 and 78, respectively, which are different in the axial direction Have lengths and are arranged coaxially to the associated systems. You can at the end plate 43 be mounted. The tubular shields 76, 78 thus extend from the beam generating systems away and are arranged so that they are within the deflection region 19.

Die Abschirmung 78 des M-Strahles hat eine kleinere Länge und vorzugsweise einen größeren Durchmesser als die Abschirmung 76 des L-Strahles. Die Abschirmung 78 des M-Strahles verläuft längs der Abschirmung 76 des L-Strahles und ist in axialer Richtung im Abstand zwischen den beiden Ebenen angeordnet, die senkrecht durch die Enden der Abschirmung des L-Strahles verlaufen. Der Kürze halber soll im folgenden einfach davon gesprochen werden, daß die M-Strahlabschirmung zwischen den Enden der L-Strahlabschirmung liegt. Die L-Strahlabschirmung 76 ist direkt an der Endplatte 43 befestigt. Die M-Strahlabschirmung 78 ist von der Endplatte 43 beabstandet, da sie am Ende eines ersten rohrförmigen, unmagnetischen Halterungsteiles 80 angebracht ist, das seinerseits an einer rohrförmigen Halterung 81 kleineren Durchmessers angebracht ist, die an der Endplatte 43 befestigt ist. Die unmagnetische Halterung 80 kann beispielsweise am Ende des kleineren Teiles 81 durch eine Anzahl von Verbindungsstreifen 82 (F i g. 5 und 6) angebracht sein. Der Grund und die Vorteile dieser speziellen Größenverhältnisse und Anordnung der L-Strahlabschirmung 76 und der M-Strahlabschirmung 78 werden weiter unten in Verbindung mit den F i g. 7 bis 11 erläutert werden.The M-beam shield 78 is of a shorter length, and preferably a longer one Diameter as the shield 76 of the L-beam. The M-beam shield 78 is longitudinal the shield 76 of the L-beam and is in the axial direction at a distance between the two planes arranged perpendicularly through the ends of the shield of the L-beam. The brevity For the sake of the following it should simply be said that the M-ray shielding between the Ends of the L-beam shield. The L-beam shield 76 is attached directly to the end plate 43. The M-beam shield 78 is from the End plate 43 spaced apart because they are at the end of a first tubular, non-magnetic mounting part 80 is attached, which in turn is attached to a tubular holder 81 of smaller diameter which is attached to the end plate 43. The non-magnetic holder 80 can, for example, on The end of the smaller part 81 is attached by a number of connecting strips 82 (Figs. 5 and 6) be. The reason and the advantages of these special proportions and arrangement of the L-beam shielding 76 and M-beam shield 78 are discussed below in connection with FIGS. 7th to 11 will be explained.

Die Strahlerzeugungsanordnung 15 hat bezüglich der Längsachse der Röhre 8, dem Leuchtschirm 20 und den Ablenkspulen 28 eine solche Winkellage, daß das den unabgeschirmten Η-Strahl liefernde . System 18 in einer Mittelebene liegt, die senkrecht zu der Abtastrichtung verläuft, welche durch das Höherfrequente der beiden orthogonalen Ablenkfelder erzeugt wird. Gemäß den derzeitigen Praktiken bei Heimfernsehempfängern verläuft der unabgeschirmte Η-Strahl dann in der senkrechten Mittelebene der Röhre 8, d. h. in der Ebene, die die Achse Y-Y des Schirms enthält und senkrecht auf der Achse X-X steht. Die Strahlerzeugungsanordnung ist so orientiert, daß das H-Strahlsystem 18 vorzugsweise oberhalb der anderen beiden Systeme 16, 17 liegt, wie in den Fig. 1 bis 6 dargestellt ist. Der Zweck und die Vorteile einer solchen Orientierung der Strahlerzeugungsanordnung werden weiter unten in Verbindung mit den Fig. 12a, 12b, 12c, 13a, 13 b und 13 c erläutert werden.The beam generating arrangement 15 has such an angular position with respect to the longitudinal axis of the tube 8, the fluorescent screen 20 and the deflection coils 28 that it delivers the unshielded Η-beam. System 18 lies in a central plane which is perpendicular to the scanning direction which is generated by the higher frequency of the two orthogonal deflection fields. According to current practice in home television receivers, the unshielded Η-ray then runs in the vertical median plane of the tube 8, ie in the plane which contains the axis YY of the screen and is perpendicular to the axis XX . The beam generating arrangement is oriented so that the H-beam system 18 is preferably above the other two systems 16, 17, as shown in FIGS. 1 to 6. The purpose and advantages of such an orientation of the beam generating arrangement will be explained further below in connection with FIGS. 12a, 12b, 12c, 13a, 13b and 13c.

Auf gegenüberliegenden Seiten der Wege des Η-Strahles und des M-Strahles sind Ablenkfeldverstärkerelemente 84, 85 bzw. 86, 87 aus magneti-On opposite sides of the paths of the Η-ray and the M-ray are deflection field amplifier elements 84, 85 or 86, 87 made of magnetic

7 87 8

schem Werkstoff angeordnet. Die Verstärkerelemente standet ist, wird der M-Strahl schon abgelenkt, bevor 84 bis 87 sind an der Endplatte 43 befestigt und er- er die M-Strahlabschirmung erreicht, und er verläuft strecken sich längs der Wege des H- bzw. M-Strahles dann in dieser abgelenkten Richtung geradlinig durch in den Ablenkbereich 19. Die Verstärkerelemente die M-Strahlabschirmung. Bei nicht ausreichendem sind vorzugsweise, wie dargestellt, rohrförmige Bau- 5 Innendurchmesser der Abschirmung kann der Strahl elemente mit rechteckigem Querschnitt, deren Seiten dann unter Umständen auf die Innenwand der Abparallel zu den Achsen X-X und Y-Y verlaufen, da- schirmung auftreffen, bevor er austritt. Wenn die bei stehen sich jeweils zwei Seiten eines Verstärker- M-Strahlabschirmung also im Abstand von der Endelementpaares gegenüber. Gewünschtenfalls können platte 43 angeordnet ist, muß sie daher einen ausjedoch auch Verstärkerelemente mit anderen Quer- ίο reichenden Durchmesser aufweisen, damit sie den schnittsformen verwendet werden, beispielsweise Strahl nicht stört. Die M-Strahlabschirmung 78 hat U-förmige, rechteckige und kanalartige Elemente. daher bei der Strahlerzeugungsanordnung 15 in Zweck und Vorteile der Feldverstärker 84 bis 87 F i g. 1 einen größeren Durchmesser als die L-Strahlwerden in Verbindung mit den F i g. 14 und 15 noch abschirmung 76.Shem material arranged. The amplifier element is up, the M-beam is already deflected before 84 to 87 are attached to the end plate 43 and it reaches the M-beam shield, and it then extends along the paths of the H- or M-beam in this deflected direction straight through into the deflection area 19. The amplifier elements, the M-beam shield. If the shielding is not sufficiently tubular, as shown, the beam elements with a rectangular cross-section, the sides of which may then run onto the inner wall of the shield parallel to the axes XX and YY , can hit the shield before it emerges . If the two sides of an amplifier M-beam shield are opposite each other, they are at a distance from the pair of end elements. If desired, plate 43 can be arranged, so it must have amplifying elements with other cross-sectional diameters so that it does not interfere with the sectional shapes, for example the beam. The M-beam shield 78 has U-shaped, rectangular, and channel-like elements. therefore, in the case of the beam generating arrangement 15, the purpose and advantages of the field amplifiers 84 to 87 FIG. 1 a larger diameter than the L-beam will be used in conjunction with the F i g. 14 and 15 still shielding 76.

näher beschrieben werden. 15 Folgende Überlegungen spielen bei der Anord-are described in more detail. 15 The following considerations play a role in the

Wegen der verschiedenen Länge der Abschirmun- nung der Abschirmungen eine Rolle: F i g. 10 zeigt gen 76, 78 und ihrer Lage im Ablenkbereich 19 wer- die Verzerrungen der Feldlinien 90 des Ablenkfeldes den der L-Strahl und der M-Strahl auf verschieden in einer Ebene, die sowohl die L-Strahlabschirmung langen Strecken längs ihres Weges durch den Ab- als auch die M-Strahlabschirmung schneidet, beilenkbereich gegen die Ablenkfelder abgeschirmt. Der 20 spielsweise in der Ebene B-B der F i g. 7 oder der L-Strahl und der M-Strahl sind also den Ablenk- Ebene C-C der F i g. 8. Dieser Typ von Verzerrunfeldern eine kürzere Zeitdauer ausgesetzt, als es ohne gen kann bewirken, daß die rechte vertikale Seite die Abschirmungen 76, 78 der Fall wäre. Durch ge- des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters länger ist eignete Bemessung der Längen der Abschirmungen als die linke Seite. Fig. 11 zeigt Verzerrungen der 76, 78 hinsichtlich der relativen Strahlgeschwindig- 25 Feldlinien 92 des Ablenkfeldes in einer Ebene, die keiten und der Form und Länge des magnetischen nur die L-Strahlabschirmung schneidet, beispiels-Ablenkfeldes werden der L-Strahl und der M-Strahl weise in der Ebene A-A der F i g. 7 oder der Ebene dem Ablenkfeld bestimmte Zeitspannen ausgesetzt, D-D der F i g. 8. Durch diesen Typ von Verzerrunso daß sie um praktisch den gleichen Betrag abge- gen kann die linke vertikale Abmessung des vom lenkt werden wie der unabgeschirmte Η-Strahl. In 30 Η-Strahl geschriebenen Rasters 93 größer werden den Fig. 7 bis 11 sind die Faktoren veranschaulicht, als die rechte Seite. Bezüglich der Darstellungen der die bei einer Bemessung der Abmessungsverhältnisse Feldverzerrungen in Fig. 10 und 11 soll bemerkt und der Anordnung der Abschirmungen berücksich- werden, daß nur die Form des Feldes, jedoch nicht tigt werden müssen. seine Stärke wiedergegeben werden soll. Die FeId-Because of the different lengths of the shielding the shields play a role: F i g. 10 shows gen 76, 78 and their position in the deflection area 19, the distortions of the field lines 90 of the deflection field of the L-beam and the M-beam on different in one plane, which both the L-beam shielding long stretches along its path through the As well as the M-beam shielding, the bypass area is shielded from the deflection fields. The 20, for example, in the plane BB in FIG. 7 or the L-beam and the M-beam are therefore the deflection plane CC of FIG. 8. This type of distortion field exposed for a shorter period of time than it would without gene can cause the right vertical side shields 76, 78 to be the case. Because the grid written by the Η-ray is longer, suitable dimensioning of the lengths of the shields than the left side. Fig. 11 shows distortions of the 76, 78 with regard to the relative beam velocity 25 field lines 92 of the deflection field in a plane which speeds and the shape and length of the magnetic only intersects the L-beam shielding, example deflection fields are the L-beam and the M -Beam wise in the plane AA of FIG. 7 or the plane exposed to the deflection field for certain periods of time, DD of FIG. 8. With this type of distortion, so that it is reduced by practically the same amount, the left vertical dimension of the vom can be deflected as the unshielded Η-beam. 7 to 11, the factors are illustrated than the right-hand side. With regard to the representations of the field distortions when dimensioning the dimensional relationships in FIGS. 10 and 11, it should be noted and the arrangement of the shields that only the shape of the field must be taken into account, but not. its strength should be reproduced. The field

F i g. 7 zeigt einen Teil einer Strahlerzeugungs- 35 stärke wird durch F i g. 9 angegeben, anordnung, die Fig. 1 ähnelt, mit der Ausnahme, Wenn eine magnetische Abschirmung in ein Ma-F i g. FIG. 7 shows part of a beam generating strength is given by FIG. 9 specified, arrangement, which is similar to Fig. 1, with the exception, When a magnetic shield in a Ma-

daß sie eine kürzere M-Strahlabschirmung 78' auf- gnetfeld eingebracht wird, werden die Flußlinien in weist, die längs der L-Strahlabschirmung 76 an deren Richtung auf die Abschirmung verzerrt und in der vorderem Ende angeordnet ist. Fig. 8 zeigt einen Nähe der Abschirmung konzentriert, da sie dem Teil einer Strahlerzeugungsanordnung, die ebenfalls 40 Weg des geringsten magnetischen Widerstandes fol-Fig. 1 ähnelt, mit der Ausnahme, daß sie eine gen. Bei den Feldverzerrungen in einer Ebene, die längere M-Strahlabschirmung78" enthält, die längs beide Abschirmungen schneidet (Fig. 10), verurder L-Strahlabschirmung 76 verläuft und an deren sacht die M-Strahlabschirmung infolge ihres größeren hinterem Ende angeordnet ist. Durchmessers auch die stärkeren Verzerrungen oderthat a shorter M-beam shield 78 'is applied, the lines of flux in which distorts along the L-beam shield 76 in its direction towards the shield and in the is arranged at the front end. Fig. 8 shows a proximity of the shield concentrated because it is the Part of a beam generating arrangement, which is also 40 path of the lowest magnetic resistance fol-Fig. 1 is similar, with the exception that it is a gene. For the field distortions in a plane, the contains longer M-beam shield 78 "which intersects along both shields (Fig. 10) L-beam shield 76 runs and the M-beam shield is gentle due to its larger size rear end is arranged. Diameter also the stronger distortions or

In Fig. 9 ist längs der Ordinate die Stärke des 45 Flußkonzentrationen. In einer nur die L-Strahldurch die Ablenkspulen 28 erzeugten Ablenkfeldes abschirmung schneidenden Ebene (Fig. 11) sind und längs der Abszisse der Abstand längs der nur die durch die L-Abschirmungen verursachten Röhrenachse, gerechnet vom System in Richtung auf Verzerrungen vorhanden, da die M-Strahlabschirden Bildschirm, aufgetragen. Die Feldstärke steigt mung fehlt. Im Anfangsbereich des H-Strahlrasters von einem Anfangswert in der Ebene der Endplatte 50 sind also im einen Falle (Fig. 10) mehr Flußlinien auf ein Maximum an und fällt dann wieder ab, nach links gebogen oder verzerrt und im anderen die Intensitätsverteilung entspricht etwa einer Falle (Fig. 11) mehr Flußlinien nach rechts. Da Glockenkurve. Da die Stärke des Ablenkfeldes mit die Form der unteren Begrenzung des Rasters des wachsendem Abstand von der Endplatte 43 zuerst Η-Strahles senkrecht zu den Flußlinien verläuft, ist ansteigt, steigt auch deren Prozentsatz des Gesamt- 55 die vertikale Abmessung des Rasters im einen Fall feldes an, der durch eine M-Strahlabschirmung ge- (Fig. 10) auf der rechten Seite und im anderen Fall gebener Länge vom M-Strahl abgeschirmt wird, (Fig. 11) auf der linken Seite größer. Die in Fig. 10 wenn die Abschirmung von der Endplatte 43 weg- und 11 dargestellten Feldverzerrungen haben also bewegt wird. Für einen bestimmten Betrag der Ab- den entgegengesetzten Einfluß auf den entstehenden schirmung muß die M-Strahlabschirmung also um 60 H-Strahlraster.In Fig. 9, along the ordinate is the magnitude of the 45 flux concentrations. In one only the L-beam passes through the deflection coils 28 generated deflection field shield intersecting plane (Fig. 11) and along the abscissa the distance along the only caused by the L-shields Tube axis, calculated by the system in the direction of distortions, is present because the M-beam shields Screen, applied. The field strength increases mung is absent. In the starting area of the H-beam grid from an initial value in the plane of the end plate 50 there are therefore more lines of flux in one case (FIG. 10) to a maximum and then drops again, bent to the left or distorted and in the other the intensity distribution corresponds approximately to a trap (FIG. 11) more flow lines to the right. There Bell curve. Since the strength of the deflection field corresponds to the shape of the lower limit of the grid of the increasing distance from the end plate 43 first Η-ray perpendicular to the lines of flow is increases, their percentage of the total also increases. The vertical dimension of the grid in one case also increases field, which is protected by an M-ray shield (Fig. 10) on the right-hand side and in the other case given length is shielded from the M-beam, (Fig. 11) larger on the left. The in Fig. 10 if the shielding away from the end plate 43 and 11 have field distortions as shown is moved. For a certain amount the donations have the opposite effect on the arising shielding, the M-ray shielding must be by 60 H-ray grids.

so kürzer gemacht werden, je weiter sie von der Obwohl die in Fi g. 10 dargestellten Feldverzer-the farther they are made from the. Although the in Fi g. 10 field distortion

Endplatte 43 wegbewegt wird. Dies ist darin ersieht- rangen in der Ebene B-B und der Ebene C-C gleich lieh, daß die M-Strahlabschirmung 78' der F i g. 7 sind, haben die Verzerrungen in der Ebene B-B einen kürzer ist als die M-Strahlabschirmung 78" der größeren Einfluß, da die Feldstärke in dieser Ebene F i g. 8. 65 wesentlich größer ist. Die resultierende VerzerrungEnd plate 43 is moved away. This can be seen in plane BB and plane CC borrowed the same, that the M-ray shield 78 'of FIG. 7, the distortions in the plane BB have a shorter effect than the M-ray shielding 78 ″ which has a greater influence, since the field strength in this plane FIG. 8. 65 is considerably greater. The resulting distortion

Hinsichtlich der Bemessung des Durchmessers der des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters kann da-Abschirmungen ist folgendes festzustellen: Wenn die durch symmetrisch und weniger störend gemacht M-Strahlabschirmung von der Endplatte 43 beab- werden, daß man die M-Strahlabschirmung so langeWith regard to the dimensioning of the diameter of the grid written by the Η-ray, there can be shields the following is to be noted: If the made by symmetrical and less disruptive M-beam shielding from the end plate 43, so that the M-beam shield is so long

ίοίο

axial verschiebt, bis die Verzerrung des in Fig. 10 dargestellten Typs gerade von der Verzerrung des in Fig. 11 dargestellten Typs kompensiert wird. Man ordnet hierfür die M-Strahlabschirmung in axialer Richtung zwischen den Enden der L-Strahlabschirmung an, wie in Fig. 1 und 6 dargestellt ist. Für eine gegebene Stärke und Konfiguration des Feldes, die von der verwendeten Ablenkspulenanordnung abhängen, und für jedes Durchmesserverhältnis der bei-axially until the distortion of the type shown in Fig. 10 just differs from the distortion of the in 11 is compensated for. Man for this purpose arranges the M-beam shield in the axial direction between the ends of the L-beam shield as shown in Figs. For a given strength and configuration of the field that depend on the deflection coil arrangement used, and for each diameter ratio of the two

die Asymmetrien des Ablenkfeldes, die durch die Abschirmungen 76, 78 des L-Strahles bzw. M-Strahles in einer beide Abschirmungen schneidenden Ebene vorhanden sind, wenn die Systeme so orientiert sind, 5 daß sich das System 16, das den durch die Abschirmung 76 verlaufenden L-Strahl liefert, in der vertikalen Mittelebene der Röhre befindet. Eine solche Orientierung führt zu einem Deckungsfehler mit Überkreuzungen, wie er in F i g. 12 a dargestellt ist.the asymmetries of the deflection field, which are present by the shields 76, 78 of the L-beam and M-beam in a plane intersecting both shields, if the systems are oriented in such a way that the system 16, which is the through the shield 76 passing L-beam, located in the vertical median plane of the tube. Such an orientation leads to a misregistration with crossovers, as shown in FIG. 12 a is shown.

den Abschirmungen existiert nur eine axiale Stellung io Fig. 12b zeigt die Verzerrungen der Flußlinien 108 der kürzeren M-Strahlabschirmung zwischen den des horizontalen Ablenkfeldes und Fig. 12c die Endebenen der längeren L-Strahlabschirmung, bei Verzerrungen der Flußlinien 110 des vertikalen Abder die Asymmetrie des vom unabgeschirmten lenkfeldes.the shields there is only one axial position io Fig. 12b, the distortion shows the flux lines 108 of the shorter M-ray shielding between the horizontal deflection field, and FIG. 12c, the end planes of the longer L-ray shield, wherein distortion of the flux lines 110 of the vertical Abder the asymmetry of from the unshielded steering field.

Η-Strahl geschriebenen Rasters am kleinsten ist. Bei Fig. 13 a zeigt das einwandfreie Ergebnis, das manΗ-ray written grid is smallest. In Fig. 13 a shows the perfect result that one

einem praktischen Ausführungsbeispiel, bei dem die 15 erhält, wenn die Systeme so orientiert sind, wie es in Röhre8 der Fig. 1 mit einer gewöhnlichen Ablenk- Verbindung mit den Fig. 1 bis 6 erläutert wurde, spulenanordnung28 betrieben wurde und die Be- Fig. 13a zeigt die Begrenzungen dreier Raster 112, schleunigungsspannungen des L-Strahles 10 kV, des 114, 116, die vom Η-Strahl, M-Strahl bzw. L-Strahl M-Strahles 16 kV und des H-Strahles 22 kV be- geschrieben werden. Diese Raster sind ineinander trugen, hatte die Abschirmung 76 für den L-Strahl 20 verschachtelt und decken sich entweder miteinander, einen Durchmesser von 6,35 mm und eine Länge oder ihre Begrenzungen verlaufen weitgehend parallel, von 34,925mm, und die Abschirmung78 für den In Fig. 13a sind die Abstände zwischen den Raster-M-Strahl hatte einen Durchmesser von 9,525 mm grenzen stark übertrieben dargestellt, um die drei und eine Länge von 9,525 mm; ihr axialer Abstand Raster und ihre Verschachtelung ineinander deutvom bildschirmseitigen Ende der Abschirmung 76 25 licher darstellen zu können. Die Raster haben prakdes L-Strahles betrug 6,35 mm, d. h., die Abschir- tisch die gleiche Form und unterscheiden sich vonmung 76 des L-Strahles reicht 6,35 mm näher an den einander höchstens etwas in ihrer Größe. Leuchtschirm20 heran als die Abschirmung78 des Fig. 13b und 13c zeigen die symmetrierten Ver-a practical embodiment, in which the gains 15, if the systems are oriented such as discussed in Röhre8 of FIG. 1 with an ordinary deflection connection with Figs. 1 to 6, coil arrangement was operated 28 and the loading Fig 13a shows the boundaries of three grids 112, acceleration voltages of the L-beam 10 kV, the 114, 116, the Η-beam, M-beam and L-beam M-beam 16 kV and the H-beam 22 kV. to be written. These grids are carried one inside the other, the shield 76 for the L-beam 20 nested and either coincide with one another, a diameter of 6.35 mm and a length or their boundaries are largely parallel, of 34.925 mm, and the shield 78 for the In Fig. 13a shows the distances between the raster M-beam had a diameter of 9.525 mm and is greatly exaggerated to the three and a length of 9.525 mm; to be able to represent their axial spacing grid and their nesting in one another deutvom the screen-side end of the shield 76 25 licher. The grids have practically an L-beam measuring 6.35 mm, ie the shielding tables have the same shape and differ from one another. The L-beam is 6.35 mm closer to each other, at most in size. The luminescent screen 20 as the screen 78 of FIGS. 13b and 13c show the symmetrical

M-Strahles. Zerrungen des Horizontal- bzw. VertikalablenkfeldesM-beam. Distortions of the horizontal or vertical deflection field

Um die optimalen Verhältnisse von Durchmesser, 30 in einer beide Abschirmungen schneidenden Ebene, Länge und axialer Lage der beiden Abschirmungen welche erhalten werden, wenn das den Η-Strahl liefestzulegen, wird die Abschirmung für den M-Strahl fernde System 18 in der vertikalen Mittelebene der zwischen den Enden der Abschirmung des L-Strahles Röhre angeordnet wird. In Fig. 13b sind die Flußangeordnet, und die verschiedenen Parameter werden linien 118 des Horizontalablenkfeldes und in Fig. dann so einjustiert, daß die Asymmetrie des vom 35 13 c die Flußlinien 120 des Vertikalablenkfeldes dar-H-Strahl geschriebenen Rasters möglichst klein ist. gestellt.In order to determine the optimal proportions of diameter, 30 in a plane intersecting both shields, length and axial position of the two shields which are obtained when the Η-ray is provided, the shielding for the M-ray remote system 18 is in the vertical center plane of the placed between the ends of the shielding of the L-beam tube. In Fig. 13b, the fluxes are arranged, and the various parameters are lines 118 of the horizontal deflection field and then adjusted in Fig. So that the asymmetry of the grid written by 35 13 c the flow lines 120 of the vertical deflection field of the H-ray is as small as possible. posed.

Die Länge der Abschirmung für den M-Strahl wird Ein Vergleich der Fig. 12b mit 13b und 12c mitThe length of the shield for the M-beam becomes a comparison of Fig. 12b with 13b and 12c with

so bemessen, daß sich die richtige Gesamtgröße des 13 c macht die verbesserte Symmetrie bezüglich der vom M-Strahl geschriebenen Rasters ergibt; dann vertikalen Mittelebene der Röhre offensichtlich, die wird der Durchmesser der M-Strahlabschirmung so 40 aus der Anordnung des den Η-Strahl liefernden gewählt, daß der M-Strahl bei voller Ablenkung ge- Systems 18 in dieser Ebene resultiert. An Hand der rade noch nicht auf die Abschirmung auftrifft, und Fig. 12a, 12b und 12c wurde nur eine ungünstige anschließend wird die axiale Lage der Abschirmung Orientierung der Systeme besprochen, andere Ortendes M-Strahles so gewählt, daß die Asymmetrie des tierungen, bei denen die Achse des den H-Strahl vom Η-Strahl geschriebenen Rasters möglichst gering 45 liefernden Systems nicht in der vertikalen Mittelwird. Eine Änderung eines dieser Parameter kann ebene der Röhre liegt, führen jedoch zu ähnlichendimensioned so that the correct overall size of the 13c makes the improved symmetry with respect to the grid written by the M-ray results; Then the vertical center plane of the tube is obvious, the diameter of the M-ray shielding is chosen so 40 from the arrangement of the Η-ray delivering that the M-ray with full deflection ge system 18 results in this plane. On the basis of the rade not yet impinging on the shielding, and Fig. 12a, 12b and 12c only an unfavorable one was then discussed the axial position of the shielding orientation of the systems, other locations of the M-beam are chosen so that the asymmetry of the animals in which the axis of the raster written by the H-ray from the Η-ray does not become as low as possible 45 in the vertical mean. A change in one of these parameters can be level with the tube, but lead to similar ones

Verzerrungen, wie sie in Fig. 12b und 12c dargestellt sind.Distortions as shown in Figures 12b and 12c are.

Im folgenden soll nun auf die magnetischen Ab-50 lenkungserhöher näher eingegangen werden. F i g. 14 und 15 zeigen die Einflüsse der magnetischen Ablenkerhöher, wie der Ablenkerhöher 84, 85, auf das Vertikalablenkfeld bzw. Horizontalablenkfeld für den Η-Strahl. Wenn ein Paar solcher Ablenkerhöher-In the following, the magnetic deflection increases will now be discussed in more detail. F i g. 14 and 15 show the influences of the magnetic deflectors, such as deflector 84, 85, on the vertical deflection field and horizontal deflection field for the Η-ray, respectively. When a pair of such distractors

Fig. 12a sind ein vom Η-Strahl geschriebener 55 elemente sowohl im Horizontalablenkfeld als auch Raster 100, ein vom M-Strahl geschriebener Raster im Vertikalablenkfeld liegt, wird im Raum zwischenFig. 12a are a written by the Η-beam 55 elements both in the horizontal deflection field and grid 100, a grid written by the M-beam is in the vertical deflection field, is in the space between

101 und ein vom L-Strahl geschriebener Raster 102 den Erhöhend, in dem der zugeordnete Elektronendargestellt. Der Deckungsfehler der Raster 100, 101, strahl verläuft, die Stärke des Ablenkfeldes in einer 101 and a grid 102 written by the L-beam shows the elevation in which the associated electron is shown. The misregistration of the grid 100, 101, ray runs, the strength of the deflection field in one

102 ist dadurch gekennzeichnet, daß sich die unteren Richtung, hier der horizontalen, erhöht, während die Grenzen der Raster 100 und 101 des Η-Strahles bzw. 60 Stärke des hierzu senkrechten Ablenkfeldes, hier des 102 is characterized in that the lower direction, here the horizontal, increases, while the borders of the grids 100 and 101 of the Η-ray or 60 strength of the deflection field perpendicular thereto, here the

eine geringfügige Nachjustierung der anderen erforderlich machen, um die optimalen Verhältnisse zu erreichen, die die kleinste Asymmetrie des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters ergeben.make a slight readjustment of the other necessary in order to achieve the optimal proportions which result in the smallest asymmetry of the grid written by the Η-ray.

F i g. 12 a zeigt schematisch eine Rasterverzerrung und einen Deckungsfehler, die entstehen, wenn das den unabgeschirmten Η-Strahl liefernde System nicht in der vertikalen Mittelebene der Röhre liegt. InF i g. 12 a shows schematically a raster distortion and a misregistration that arise when the The system delivering the unshielded Η-ray does not lie in the vertical center plane of the tube. In

M-Strahles im Punkt 103 schneiden. Eine solche Überschneidung tritt bei extremer Asymmetrie der durch die Abschirmungen des L-Strahles und M-Strahles verursachten Verzerrungen ein, wenn dieCut the M-beam at point 103. Such an overlap occurs with extreme asymmetry of the distortions caused by the shielding of the L-beam and M-beam, if the

vertikalen, verringert wird. Wenn das Horizontalablenkfeld und Vertikalablenkfeld nicht räumlich zusammenfallen und die Ablenkerhöher nur in einem der Felder liegen, beeinflussen sie natürlich nur diesesvertical, is decreased. If the horizontal deflection field and vertical deflection field do not coincide spatially and the diverters are only in one of the fields, of course they only affect this

Orientierung der Strahlerzeugungssysteme anders ist, 65 Feld,
als in den Fig. 1 mit 6 dargestellt wurde. Da sich die Ablenkerhöher neben dem Weg einesOrientation of the beam generating systems is different, 65 field,
than was shown in FIG. 1 with 6. Since the distractor stands next to the path of a

Bezüglich der relativen Lage der Strahlen ist fol- bestimmten Strahles befinden und in erster Linie diegendes von Wichtigkeit: Die Fig. 12b und 12c zeigen sem Strahl zugeordnet sind (also z. B. die ErhöherWith regard to the relative position of the rays, there is a definite ray, and primarily this Of importance: FIGS. 12b and 12c show that are assigned to this beam (e.g. the enhancers

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84, 85 dem H-StraM), beeinflussen sie in erster Linie nur das Ablenkfeld desjenigen Strahles lokal, dem sie im speziellen zugeordnet sind. Die Erhöher wirken wie magnetische Leiter, die in den Luftspalt zwischen einem Ablenkspulenpaar gebracht sind, und veringern dadurch den magnetischen Widerstand im Flußweg des Ablenkfeldes in dem von den Erhöherelementen eingenommenen örtlichen Bereich.84, 85 of the H-StraM), influence them primarily only the deflection field of that beam locally to which they are specifically assigned. The enhancers work such as magnetic conductors placed in the air gap between a pair of deflection coils, and thereby reduce the magnetic resistance in the flux path of the deflection field in that of the enhancer elements occupied local area.

Die zwei Ablenkerhöher 84, 85 des Η-Strahles sind in einer horizontalen Ebene angeordnet und leiten daher die horizontal gerichteten Flußlinien, die die Vertikalablenkung des Η-Strahles verursachen, so daß die Vertikalablenkung des Η-Strahles und damit die Vertikalabmessung des von diesem Strahl geschriebenen Rasters vergrößert werden.The two deflectors 84, 85 of the Η-ray are arranged in a horizontal plane and guide hence the horizontally directed flux lines which cause the vertical deflection of the Η-ray, see above that the vertical deflection of the Η-ray and thus the vertical dimension of that written by this ray Grid can be enlarged.

F i g. 14 zeigt den Einfluß der Ablenkerhöherelemente 84, 85 auf die Flußlinien 122 des auf den Η-Strahl wirkenden Ablenkfeldes. Die Flußlinien 122 folgen dem Weg des geringsten magnetischen Widerstandes und sind daher zu den Ablenkerhöherelementen 84, 85 hin gekrümmt und durchsetzen diese. Die Erhöherelemente ziehen also sozusagen die Flußlinien in der Umgebung an und konzentrieren diese. Da die Erhöherelemente in Richtung der Flußlinien hintereinanderliegen, wird der Fluß im Bereich zwischen den Erhöherelementen 84, 85 konzentriert, so daß für den Η-Strahl ein stärkeres Vertikalablenkfeld zur Verfügung steht, als sonst ohne diese Erhöherelemente vorhanden wäre. Hierdurch wird die Höhe des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters vergrößert. Wie Fig. 15 zeigt, werden gleichzeitig jedoch auch die Flußlinien 124 des auf den H-Strahl wirkenden Horizontalablenkfeldes von den Erhöherelementen 84, 85 angezogen. Da die Erhöherelemente im Horizontalablenkfeld parallel zu den Flußlinien angeordnet sind, ziehen sie Flußlinien an, die sonst zwischen den Erhöherelementen durchlaufen wurden, so daß die Flußdichte des Horizontalablenkfeldes im Bereich zwischen den Erhöherelementen herabgesetzt wird und das Horizontalablenkfeld für den Η-Strahl geschwächt wird. Dies resultiert in einer horizontalen Kontraktion des vom H-Strahl geschriebenen Rasters. Die Expansion in der Vertikalrichtung und die Kontraktion in der Horizontalrichtung des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters addieren sich hinsichtlich einer Änderung des Seitenverhältnisses des Rasters.F i g. 14 shows the influence of the diverter enhancer elements 84, 85 on the lines of flux 122 of the Η-ray acting deflection field. The flux lines 122 follow the path of least reluctance and are therefore curved towards the diverter elevation elements 84, 85 and penetrate these. The enhancer elements, so to speak, attract and concentrate the flow lines in the area these. Since the enhancer elements lie one behind the other in the direction of the flow lines, the flow in the Area between the enhancer elements 84, 85 concentrated, so that a stronger vertical deflection field for the Η-ray is available than would otherwise be available without these enhancer elements. Through this the height of the grid written by the Η-ray is increased. As Fig. 15 shows, are simultaneously however, also the lines of flux 124 of the horizontal deflection field acting on the H-beam from the Increasing elements 84, 85 tightened. Since the increase elements in the horizontal deflection field parallel to the Lines of flux are arranged, they attract lines of flux which otherwise pass between the enhancer elements so that the flux density of the horizontal deflection field in the area between the enhancer elements is reduced and the horizontal deflection field for the Η-ray is weakened. This results in a horizontal contraction of the raster written by the H-ray. The expansion in the vertical direction and add the contraction in the horizontal direction of the raster written by the Η-ray regarding a change in the aspect ratio of the grid.

Bei der drei im Dreieck angeordneten Systeme enthaltenden Anordnung der F i g. 1 bis 6 sind Ablenkerhöherelemente nicht nur zur vertikalen Expansion des vom Η-Strahl geschriebenen Rasters, sondern auch zur horizontalen Expansion des vom M-Strahl geschriebenen Rasters vorgesehen. Hierfür können für die beiden Strahlen zwei getrennte Paare von Ablenkerhöherelementen vorgesehen werden, dabei wird ein Paar horizontal und das andere vertikal ausgerichtet. Bei dem dargestellten speziellen Ausführungsbeispiel verlaufen der Η-Strahl und der M-Strahl jedoch so nahe nebeneinander, daß nicht genügend Platz für getrennte Ablenkerhöherelementpaare für jeden der Strahlen zur Verfügung steht, da die Erhöherelemente des einen Strahles die des anderen Strahles beeinflussen würden. Diese Schwierigkeit wird dadurch überwunden, daß man ein Erhöherelement 85 vorsieht, das beiden Strahlen zugeordnet ist, es gehört also zu einem ersten Paar 85, 84 von Ablenkerhöherelementen für den Η-Strahl und zu einem zweiten Paar 85, 87 Ablenkerhöherelementen für den M-Strahl. Die Querschnittsabmessungen des Elements 85 werden daher sowohl in der Horizontalais auch in der Vertikalrichtung so groß bemessen, daß sich die gewünschten Feldkonzentrationen ergeben. Das Element 85 wirkt zwar primär mit dem Element 87 bei der Erhöhung der Feldstärke des auf den M-Strahl wirkenden Horizontalablenkfeldes zusammen, da im Hals 10 der Röhre 8 jedoch nur ein sehr beschränkter Raum zur Verfügung steht, kannIn the case of the arrangement of FIGS. 1 through 6 are diverter elevation elements not only for the vertical expansion of the grid written by the Η-ray, but also intended for the horizontal expansion of the raster written by the M-ray. For this you can two separate pairs of deflector-raising elements are provided for the two beams, in this case aligns one pair horizontally and the other vertically. In the particular embodiment shown however, the Η-ray and the M-ray run so close to each other that not enough Space is available for separate pairs of deflector enhancer elements for each of the beams as the enhancer elements one ray would affect the other ray. This difficulty is overcome by providing an enhancer element 85 associated with both beams is, so it belongs to a first pair 85, 84 of deflector enhancer elements for the Η-ray and to a second pair 85, 87 of the M-beam deflector enhancer elements. The cross-sectional dimensions of the Elements 85 are therefore dimensioned so large in both the horizontal as well as in the vertical direction that the desired field concentrations result. The element 85 acts primarily with the element 87 in increasing the field strength of the horizontal deflection field acting on the M-beam, however, since only a very limited space is available in the neck 10 of the tube 8

ίο das Element 85 nicht über dem M-Strahl zentriert werden. Es wird daher ein viertes Erhöherelement 86 zwischen dem Erhöherelement 85 und dem M-Strahl vorgesehen, das in der Mitte über dem unabgelenkten M-Strahl liegt und das Horizontalablenkfeld im Bereich des M-Strahles so formt, daß die Flußlinien weitgehend senkrecht verlaufen. Die Erhöherelemente 85, 86 können zu einem einzigen Bauteil vereint werden, sie können aus zwei miteinander verbundenen getrennten Bauteilen bestehen oder, wie dargestellt, zwei getrennte Teile sein, die in einem kleinen Abstand voneinander angeordnet sind. Die Ablenkerhöherelemente 85, 86, 87 wirken auf den M-Strahl ähnlich wie in Verbindung mit Fig. 14 und 15 bezüglich der Elemente 84, 85 bezüglich des H-Strahles erläutert wurde.ίο the element 85 is not centered over the M-beam will. It therefore becomes a fourth enhancer element 86 between the enhancer element 85 and the M-beam provided, which lies in the middle above the undeflected M-beam and the horizontal deflection field in the area of the M-beam in such a way that the lines of flux are largely perpendicular. The enhancer elements 85, 86 can be combined into a single component, they can be made up of two interconnected separate components or, as shown, two separate parts that are at a small distance are arranged from each other. The deflector enhancer elements 85, 86, 87 act on the M-beam similar to that in connection with FIGS. 14 and 15 with respect to elements 84, 85 with respect to the H-beam was explained.

Da die Ablenkerhöherelemente eine selektive Beeinflussung eines bestimmten Rasters und insbesondere eine selektive Expansion und Kontraktion unter Änderung des Seitenverhältnisses erlauben, stellen sie ein Mittel zur Rasterformung dar.Since the deflector elements have a selective influence on a certain grid and in particular they allow a selective expansion and contraction while changing the aspect ratio a means of forming a grid.

Der relative Prozentsatz einer Expansion und Kontraktion eines Rasters zur Beeinflussung seines Seitenverhältnisses hängt von den horizontalen und vertikalen Querschnittsabmessungen der Ablenkerhöherelemente und vom Abstand zwischen diesen Elementen ab. Eine Vergrößerung der horizontalen Querschnittsabmessung der Elemente 84, 85 hat eine weitere Erhöhung der Feldkonzentration entsprechend Fig. 14 zur Folge, so daß der vom Η-Strahl geschriebene Raster in Vertikalrichtung weiter gedehnt wird. Eine Erhöhung der vertikalen. Querschnittsabmessungen der Elemente 84 verringert außerdem die Intensität des in Fig. 15 dargestellten Horizontalablenkfeldes entsprechend, so daß der vom H-Strahl geschriebene Raster in Zeilenrichtung entsprechend mehr zusammengedrückt wird. Im allgemeinen ist der Einfluß zweier Erhöherelemente um so größer, je kleiner ihr Abstand ist. Wenn die Elemente 84, 85 näher aneinander angenähert werden, verringert sich die Auswölbung der Flußlinie des auf den H-Strahl wirkenden Ablenkfeldes (F i g. 14) zwischen den Elementen, und die Feldstärke steigt dementsprechend. Der resultierende Raster des Η-Strahles wird dadurch in Vertikalrichtung weiter gestreckt. Gleichzeitig wird das auf den H-Strahl wirkende Horizontalablenkfeld (Fig. 15) zwischen den Erhöherelementen geschwächt und der resultierende Raster des H-Strahles in Zeilenrichtung weiter zusammengedrückt.
Die Rastergröße ist eine Funktion der Länge der Erhöherelemente längs des Strahlweges. Eine Vergrößerung der Länge der Erhöherelemente erhöht die Rastergröße, ohne das Seitenverhältnis nennenswert zu beeinflussen.
Es kann wünschenswert sein, einem Elektronenstrahl sowohl ein Abschirmröhrchen als auch Ablenkerhöherelemente zuzuordnen, wie z. B. dem M-Strahl der Röhre 8, für den sowohl eine Abschirmung 78 als auch Ablenkerhöherelemente 85, 86, 87The relative percentage of expansion and contraction of a grid to affect its aspect ratio depends on the horizontal and vertical cross-sectional dimensions of the diverter enhancer elements and the spacing between these elements. An increase in the horizontal cross-sectional dimension of the elements 84, 85 results in a further increase in the field concentration as shown in FIG. 14, so that the raster written by the Η-ray is further expanded in the vertical direction. An increase in the vertical. The cross-sectional dimensions of the elements 84 also reduce the intensity of the horizontal deflection field shown in FIG. 15 accordingly, so that the raster written by the H-beam is correspondingly more compressed in the line direction. In general, the influence of two enhancer elements is greater, the smaller the distance between them. As the elements 84, 85 are brought closer together, the curvature of the line of flux of the deflection field (Fig. 14) acting on the H-beam between the elements decreases and the field strength increases accordingly. The resulting grid of the Η-ray is thereby stretched further in the vertical direction. At the same time, the horizontal deflection field (FIG. 15) acting on the H-ray is weakened between the enhancer elements and the resulting raster of the H-ray is further compressed in the line direction.
The grid size is a function of the length of the enhancer elements along the beam path. Increasing the length of the enhancer elements increases the grid size without significantly affecting the aspect ratio.
It may be desirable to associate both a shield tube and deflector enhancer elements with an electron beam, e.g. B. the M-beam of tube 8, for which both a shield 78 and deflector riser elements 85, 86, 87

zugeordnet sind. In einem solchen Falle wird das Abschirmröhrchen in axialer Richtung gegenüber den Erhöherelementen versetzt und in einem entsprechenden Abstand von diesen angeordnet, wie in F i g. 6 dargestellt. Hierdurch wird gewährleistet, daß die Abschirmerhöherelemente und die Abschirmung getrennt auf verschiedene Teile des Ablenkfeldes einwirken, ohne sich gegenseitig zu stören. Wenn das Abschirmröhrchen 78 zu nahe bei den Ablenkerhöherelementen 85, 86, 87 angeordnet ist oder sie sogar berührt, wurden die Flußlinien zwischen den Ablenkerhöherelementen durch die Abschirmung kurzgeschlossen, und die Wirkung der Ablenkerhöherelemente würde entsprechend herabgesetzt.assigned. In such a case, the shielding tube is in the axial direction opposite the Staggered riser elements and arranged at a corresponding distance therefrom, as in FIG. 6th shown. This ensures that the shield riser elements and the shield are separated act on different parts of the deflection field without interfering with each other. If that Shielding tube 78 is too close to the deflector elevation elements 85, 86, 87 or they even touched the lines of flux between the diverter enhancer elements were through the shield short-circuited, and the effect of the deflector-raising elements would be reduced accordingly.

Der unmagnetische Träger 81 wird vorzugsweise so ausgebildet, daß die Ablenkerhöherelemente 86, 87 nahe beieinander und damit nahe am Strahlweg angeordnet werden können. Wenn der Träger 81 beispielsweise rohrförmig ist, kann er einen kleineren Durchmesser aufweisen als das Abschirmröhrchen 78. Die Trägerelemente 81, 80 können auch beispielsweise aus einem oder mehreren unmagnetischen Stützdrähten, Bändern od. dgl. bestehen. Das Trägerteil 81 kann sogar ganz entfallen, und das unmagnetische Trägerteil 80 kann direkt an den Enden der Ablenkerhöherelemente 86, 87 befestigt werden.The non-magnetic carrier 81 is preferably formed in such a way that the deflector elevation elements 86, 87 can be arranged close to each other and thus close to the beam path. For example, if the carrier 81 is tubular, it may have a smaller diameter than the shield tube 78. The carrier elements 81, 80 can also consist of one or more non-magnetic ones, for example Support wires, bands or the like. Exist. The carrier part 81 can even be omitted entirely, and that Non-magnetic support member 80 can be attached directly to the ends of the deflector riser elements 86, 87 will.

Claims

Patent claims:

1. Cathode ray tube for displaying colorful pictures with three arranged side by side in a triangle Beam generating systems, the three electron beams of different speeds supply, which on the way to a fluorescent screen have a common deflection zone in which they run in two mutually perpendicular directions with different frequencies deflected, two of the systems provided with magnetic shields which extend into the deflection zone and the associated beams partially against the in shield the deflection zone prevailing deflection fields so that they coincide on the luminescent screen Write raster, characterized in that the third system lies in a median plane which is perpendicular to the direction of the higher frequency distraction.

2. Cathode ray tube according to claim 1 with a system that an electron beam higher Speed than the other two systems, characterized in that the Higher speed delivery system in operation above the other two systems lies in a plane vertically intersecting the fluorescent screen.

1 sheet of drawings

409 509/172 2.64 @ Bundesdruckerei Berlin