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DE10326324B4 - Lithographic printing plate precursor with coating containing 1,4-dihydropyridine sensitizer, process for imaging and imaged lithographic printing plate - Google Patents

Lithographic printing plate precursor with coating containing 1,4-dihydropyridine sensitizer, process for imaging and imaged lithographic printing plate Download PDF

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DE10326324B4
DE10326324B4 DE2003126324 DE10326324A DE10326324B4 DE 10326324 B4 DE10326324 B4 DE 10326324B4 DE 2003126324 DE2003126324 DE 2003126324 DE 10326324 A DE10326324 A DE 10326324A DE 10326324 B4 DE10326324 B4 DE 10326324B4
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Germany
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optionally substituted
radicals
radical
alkyl
optionally
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Hans-Joachim Dr. Timpe
Harald Dr. Baumann
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Kodak Graphic Communications GmbH
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Kodak Polychrome Graphics GmbH
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    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract

Negativ arbeitender Vorläufer einer Lithographiedruckplatte, umfassend
(a) einen gegebenenfalls vorbehandelten Träger und
(b) eine auf den Träger aufgebrachte strahlungsempfindliche Beschichtung aus einer Zusammensetzung, umfassend
(i) ein oder mehrere Arten Monomere und/oder Oligomere und/oder Polymere mit jeweils mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe, die einer radikalischen Polymerisation zugänglich ist,
(ii) mindestens einen Sensibilisator,
(iii) mindestens einen Co-Initiator, der zusammen mit dem Sensibilisator (ii) Radikale bilden kann und ausgewählt wird aus Hexaarylbiimidazolen; und
(iv) gegebenenfalls ein oder mehrere Komponenten ausgewählt aus alkalilöslichen Bindemitteln, Farbmitteln, Belichtungsindikatoren, Weichmachern, Kettenübertragungsmitteln, Leucofarbstoffen, oberflächenaktiven Mitteln, anorganischen Füllstoffen und Thermopolymerisationsinhibitoren,
dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem mindestens einen Sensibilisator um ein 1,4-Dihydropyridin-Derivat der Formel (I) handelt

Figure 00000001
wobei
R1 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, -C(O)OR7, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest,
R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls...A negative-working precursor of a lithographic printing plate comprising
(a) an optionally pretreated support and
(b) a radiation-sensitive coating of a composition applied to the support
(i) one or more types of monomers and / or oligomers and / or polymers each having at least one ethylenically unsaturated group which is amenable to free-radical polymerization,
(ii) at least one sensitizer,
(iii) at least one co-initiator capable of forming radicals together with the sensitizer (ii) selected from hexaarylbiimidazoles; and
(iv) optionally one or more components selected from alkali-soluble binders, colorants, exposure indicators, plasticizers, chain transfer agents, leuco dyes, surface active agents, inorganic fillers and thermopolymerization inhibitors,
characterized in that the at least one sensitizer is a 1,4-dihydropyridine derivative of the formula (I)
Figure 00000001
in which
R 1 is selected from a hydrogen atom, -C (O) OR 7 , an optionally substituted alkyl radical, an optionally substituted aryl radical and an optionally substituted aralkyl radical,
R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl radicals, optionally ...

Description

Die Erfindung betrifft negativ arbeitende Lithographiedruckplatten-Vorläufer, insbesondere solche, die 1,4-Dihydropyridin-Derivate als Sensibilisator in der strahlungsempfindlichen Beschichtung enthalten. Die Erfindung Betrifft außerdem ein Verfahren zur Bebilderung solcher Vorläufer und bebilderte lithographische Druckformen.The The invention relates to negative-working lithographic printing plate precursors, in particular those which use 1,4-dihydropyridine derivatives as sensitizers in the radiation-sensitive coating included. The invention concerns Furthermore a method for imaging such precursors and imaged lithographic printing plates.

Das Fachgebiet des lithographischen Drucks basiert auf der Nichtmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei das ölige Material oder die Druckfarbe bevorzugt von dem Bildbereich und das Wasser oder Feuchtmittel bevorzugt von dem Nichtbildbereich angenommen wird. Wird eine angemessen herstellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und dann eine Druckfarbe aufgetragen, nimmt der Hintergrund oder der Nichtbildbereich das Wasser an und weist die Druckfarbe ab, während der Bildbereich die Druckfarbe annimmt und das Wasser abweist. Die Druckfarbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials, wie Papier, Gewebe und ähnliches, übertragen, auf welchem das Bild erzeugt werden soll. Im allgemeinen wird die Druckfarbe aber zuerst auf ein Zwischenmaterial, Drucktuch genannt, übertragen, welches dann die Druckfarbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf welchem das Bild erzeugt werden soll; man spricht hier von Offset-Lithographie.The The field of lithographic printing is based on immiscibility of oil and water, being the oily one Material or ink preferably from the image area and the Water or dampening agent preferably adopted from the non-image area becomes. If a properly prepared surface is moistened with water and then applied a printing ink, the background or the takes Non-image area the water and rejects the ink while the Image area takes the ink and repels the water. The printing ink on the image area is then applied to the surface of a material, such as paper, Tissue and the like, transferred, on which the picture should be created. In general, the But first transfer ink to an intermediate material called a blanket which then transfers the ink to the surface of the material which the image should be created; This is called offset lithography.

Eine häufig verwendete Art eines Lithographie-Druckplattenvorläufers weist eine auf einen Träger auf Aluminiumbasis aufgetragene, lichtempfindliche Beschichtung auf. Die Beschichtung kann auf Strahlung reagieren, indem der belichtete Teil so löslich wird, dass er beim Entwicklungsverfahren entfernt wird. Solch eine Platte wird als positiv arbeitend bezeichnet. Umgekehrt wird eine Platte als negativ arbeitend bezeichnet, wenn der belichtete Teil der Beschichtung durch die Strahlung gehärtet wird. In beiden Fällen nimmt der verbleibende Bildbereich Druckfarbe auf oder ist oleophil und nimmt der Nichtbildbereich (Hintergrund) Wasser auf oder ist hydrophil. Die Differenzierung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen erfolgt beim Belichten, wobei ein Film auf den Plattenvorläufer – zur Sicherstellung eines guten Kontakts mit Vakuum – aufgebracht wird. Die Platte wird dann mit einer Strahlungsquelle belichtet. Alternativ kann die Platte auch ohne Film digital, z.B. mit einem UV-Laser, belichtet werden. Falls eine positive Platte verwendet wird, ist der dem Bild auf der Platte entsprechende Bereich auf dem Film so lichtundurchlässig, dass Licht die Platte nicht erreicht, während der dem Nichtbildbereich entsprechende Bereich auf dem Film klar ist und die Lichtdurchlässigkeit auf die Beschichtung, die dann löslicher wird, gestattet. Im Falle einer negativen Platte trifft das Umgekehrte zu: Der dem Bildbereich entsprechende Bereich auf dem Film ist klar, während der Nichtbildbereich lichtundurchlässig ist. Die Beschichtung unter dem klaren Filmbereich wird durch die Lichteinwirkung gehärtet, während der vom Licht nicht erreichte Bereich beim Entwickeln entfernt wird. Die lichtgehärtete Oberfläche einer negativen Platte ist deshalb oleophil und nimmt Druckfarbe auf, während der Nichtbildbereich, welcher die durch die Einwirkung eines Entwicklers entfernte Beschichtung aufwies, desensibilisiert wird und deshalb hydrophil ist.A often used type of lithographic printing plate precursor has one on a carrier aluminum-based, photosensitive coating on. The coating can react to radiation by exposing the exposed one Part so soluble will be removed in the development process. Such a plate is called positive working. Conversely, a plate referred to as negative working when the exposed part of the coating cured by the radiation becomes. In both cases The remaining image area absorbs ink or is oleophilic and the non-image area (background) absorbs water or is hydrophilic. The differentiation between image and non-image areas takes place when exposing, with a film on the plate precursor - to ensure a good contact with vacuum - is applied. The plate is then exposed to a radiation source. Alternatively, you can the plate also digitally without film, e.g. with a UV laser, exposed become. If a positive plate is used, that is the image on the plate corresponding area on the film so opaque that Light does not reach the plate while the non-image area appropriate area on the film is clear and the light transmission on the coating, which is then more soluble is allowed. In the case of a negative plate, the reverse is true to: The area corresponding to the image area on the film is clear while the non-image area is opaque. The coating under the clear film area is hardened by the action of light, while the The area not reached by the light is removed during development. The photohardened surface a negative plate is therefore oleophilic and takes printing ink on, while the non-image area which is affected by the action of a developer removed coating, desensitized and therefore is hydrophilic.

Lichtempfindliche Gemische werden seit Jahren in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen zur Herstellung von lichtempfindlichen Materialien, wie z.B. Druckplattenvorläufern, verwendet. Speziell für neuere Anwendungen (z.B. bei Belichtung mit Lasern) wird jedoch eine verbesserte Empfindlichkeit, besonders im nahen UV- und sichtbaren Spektralbereich benötigt, so dass die Belichtungszeit verkürzt werden kann. Vom wirtschaftlichen Standpunkt aus ist es ebenfalls wichtig, dass Strahlungsquellen niedriger Intensität verwendet werden können, die kostengünstiger und zuverlässiger sind als Strahlungsquellen hoher Intensität. Es wird daher seit einiger Zeit versucht, die Empfindlichkeit von lichtempfindlichen Gemischen, die in photopolymerisierbaren Zusammensetzungen eingesetzt werden sollen, zu erhöhen.Photosensitive Mixtures have been used for years in photopolymerizable compositions for the preparation of photosensitive materials, e.g. Printing plate precursors used. Specially for however, newer applications (e.g., laser exposure) are becoming an improved sensitivity, especially in the near UV and visible spectral range needed so that the shutter speed is shortened can be. It is also from the economic point of view important that low intensity radiation sources are used can, the cheaper and more reliable are as radiation sources of high intensity. It is therefore for some Time tries to increase the sensitivity of light-sensitive mixtures, which are used in photopolymerizable compositions are supposed to increase.

DE-A-3021599 offenbart strahlungsempfindliche Zusammensetzungen, die ethylenisch ungesättigte Monomere enthalten sowie ein 2-(Halogenmethyl-phenyl)-4-halogen-oxazol-Derivat als Photoinitiator. Die Effizienz des Photoinitiators ist jedoch ungenügend.DE-A-3021599 discloses radiation sensitive compositions which are ethylenic unsaturated monomers and a 2- (halomethyl-phenyl) -4-halo-oxazole derivative as a photoinitiator. However, the efficiency of the photoinitiator is insufficient.

EP-A-0741333 beschreibt photopolymerisierbare Zusammensetzungen, die neben ethylenisch ungesättigten Monomeren und organischen Bindemitteln eine Kombination aus einem optischen Aufheller und einem Photoinitiator, ausgewählt aus Acyl- und Diacylphosphinoxiden, enthalten. Als optische Aufheller sind solche genannt, die eine Stilben-, Triazin-, Thiazol-, Benzoxazol-, Coumarin-, Xanthen-, Triazol-, Oxazol-, Thiophen- oder Pyrazolineinheit enthalten. Diese photopolymerisierbaren Zusammensetzungen zeigen jedoch nach heutigen Maßstäben keine ausreichende Empfindlichkeit.EP-A-0741333 describes photopolymerizable compositions which in addition to ethylenic unsaturated Monomers and organic binders a combination of a optical brightener and a photoinitiator selected from Acyl and diacylphosphine oxides, contain. As optical brighteners are called those which have a Stilbene, triazine, thiazole, benzoxazole, coumarin, xanthene, Triazole, oxazole, thiophene or pyrazoline unit. These However, photopolymerizable compositions show today's No scales sufficient sensitivity.

In US-A-4,181,531 und US-A-4,271,260 werden positiv arbeitende Systeme beschrieben, die 1,4-Dihydropyridin-Derivate enthalten und UV-empfindlich sind.In US-A-4,181,531 and US-A-4,271,260 are positive working systems described containing 1,4-dihydropyridine derivatives and UV sensitive are.

Die Verwendung von 1,4-Dihydropyridin in strahlungsempfindlichen Systemen ist auch aus US-A-6,143,471 bekannt. Dorf werden 1,4-Dihydropyridine als Lösungsinhibitor für Polymere in positiv arbeitenden IR-empfindlichen Zusammensetzungen verwendet.The Use of 1,4-dihydropyridine in radiation-sensitive systems is also known from US-A-6,143,471. Village become 1,4-dihydropyridines as a solution inhibitor for polymers used in positive-working IR-sensitive compositions.

In US-B-6,291,143 werden 1,4-Dihydropyridine als Photoreduktionsmittel für Farbstoffe (wie IR-Farbstoffe) in Laser-Thermo-Transfersystemen verwendet. Die entstehenden Pyridiniumsalze fungieren bei diesem System außerdem als Vernetzungsmittel für Hydroxy-funktionalisierte Harze.In US-B-6,291,143 discloses 1,4-dihydropyridines as photoreductants for dyes (such as IR dyes) used in laser thermal transfer systems. The resulting pyridinium salts also function in this system as Crosslinking agent for Hydroxy-functionalized resins.

Da negativ arbeitende Systeme, d.h. vernetzte Platten, resistenter gegenüber Druckraumchemikalien sind als positiv arbeitende Systeme, werden negativ arbeitende Systeme bevorzugt, wenn auf besondere Chemikalienbeständigkeit Wert gelegt wird.There negative-working systems, i. cross-linked plates, more resistant across from Pressurized chemicals are considered to be positive-acting systems negative-working systems are preferred, if for particular chemical resistance Value is placed.

Negativ arbeitende Systeme, die 1,4-Dihydropyridine enthalten, sind in DD-A-287 796 beschrieben. Die dort offenbarten photopolymerisierbaren Zusammensetzungen enthalten als Coinitiator eine Oniumverbindung. Die mit diesen Systemen erreichte Empfindlichkeit genügt in keinster Weise den heutigen Anforderungen.negative operating systems containing 1,4-dihydropyridines are described in DD-A-287 796 described. The photopolymerizable compositions disclosed therein contain as co-initiator an onium compound. The with these systems achieved sensitivity is sufficient in no way meet today's requirements.

In DE 42 28 141 C1 , DE 35 40 804 C1 , DE 35 40 796 C1 , DE 30 48 490 A1 , DE 29 45 564 A1 , US 4,292,394 , DE 27 58 209 A1 und DE 42 28 790 C1 werden Farbprüfsysteme, die z.B. Dihydropyridinverbindungen und Hexaarylbiimidazole enthalten, beschrieben.In DE 42 28 141 C1 . DE 35 40 804 C1 . DE 35 40 796 C1 . DE 30 48 490 A1 . DE 29 45 564 A1 . US 4,292,394 . DE 27 58 209 A1 and DE 42 28 790 C1 Color proofing systems containing, for example, dihydropyridine compounds and hexaarylbiimidazoles are described.

DE 27 58 210 A1 offenbart Aufzeichnungsmaterial umfassend ein Bindemittel, eine Dihydropyridinverbindung und ein Hexaarylbisimidazol. DE 27 10 417 A1 beschreibt photopolymerisierbare Massen enthaltend eine nitroaromatische Verbindung. DE 27 58 210 A1 discloses a recording material comprising a binder, a dihydropyridine compound and a hexaarylbisimidazole. DE 27 10 417 A1 describes photopolymerizable compositions containing a nitroaromatic compound.

Es ist die Aufgabe der Erfindung, negativ arbeitende Vorläufer von Lithographiedruckplatten mit hoher Lichtempfindlichkeit bei gleichzeitig guter Lagerbeständigkeit und hoher Auflagenleistung auf der Druckmaschine bereitzustellen.It It is the object of the invention to have negative-working precursors of Lithographic printing plates with high light sensitivity at the same time good storage stability and provide high print run on the press.

Die Aufgabe der Erfindung wird gelöst durch einen negativ arbeitenden Vorläufer einer Lithographiedruckplatte, umfassend

  • (a) einen gegebenenfalls vorbehandelten Träger und
  • (b) eine auf den Träger aufgebrachte strahlungsempfindliche Beschichtung aus einer Zusammensetzung, umfassend
  • (i) ein oder mehrere Arten Monomere und/oder Oligomere und/oder Polymere mit jeweils mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe, die einer radikalischen Polymerisation zugänglich ist,
  • (ii) mindestens einen Sensibilisator,
  • (iii) mindestens einen Co-Initiator, der zusammen mit dem Sensibilisator (ii) Radikale bilden kann und ausgewählt wird aus Hexaarylbiimidazolen; und
  • (iv) gegebenenfalls ein oder mehrere Komponenten ausgewählt aus alkalilöslichen Bindemitteln, Farbmitteln, Belichtungsindikatoren, Weichmachern, Kettenübertragungsmitteln, Leucofarbstoffen, oberflächenaktiven Mitteln, anorganischen Füllstoffen und Thermopolymerisationsinhibitoren,
dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem mindestens einen Sensibilisator um ein 1,4-Dihydropyridin-Derivat der Formel (I) handelt
Figure 00050001
wobei
R1 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, -C(O)OR7, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest,
R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls substituierten Arylresten, CN und einem Wasserstoffatom,
R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus -C(O)OR7, -C(O)R7, -C(O)NR8R9 und CN,
oder R2 und R4 zusammen einen gegebenenfalls substituierten Phenylring oder einen 5-7-gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bilden, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 des 1,4-Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00050002
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist,
oder sowohl R2 mit R4 als auch R3 mit R5 beide entweder gegebenenfalls substituierte Phenylringe oder beide 5-7-gliedrige carbocyclische oder heterocyclische Ringe bilden, wobei in den carbocyclischen oder heterocyclischen Ringen, benachbart zu Position 3 und 5 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00050003
vorliegt und die carbocyclischen oder heterocyclischen Ringe gegebenenfalls weitere Substituenten aufweisen,
oder eines der Paare R2/R4 und R3/R5 einen 5-7gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bildet, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 bzw. 3 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00060001
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist, und das andere Paar einen gegebenenfalls substituierten Phenylring bildet,
oder R2 mit R1 oder R3 mit R1 einen 5- bis 7-gliedrigen heterocyclischen Ring bildet, der gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten aufweisen kann und der gegebenenfalls neben dem Stickstoffatom, das er mit dem 1,4-Dihydropyridinring gemeinsam hat, weitere Stickstoffatome, -NR13-Gruppen, -S- oder -O- aufweist,
R13 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem Alkylrest, Arylrest und Aralkylrest,
R6 ausgewählt wird aus einem gegebenenfalls mit einem Halogenatom oder einer -C(O)-Gruppe substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest, einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, einem gegebenenfalls substituierten heterocyclischen Rest und dem Rest
Figure 00060002
Y ein Alkandiyl oder Arylenrest ist,
R7 ein Wasserstoffatom, Arylrest, ein Aralkylrest oder ein Alkylrest ist, wobei der Alkylrest und die Alkyleinheit des Aralkylrests gegebenenfalls ein oder mehrere C-C-Doppel- und/oder C-C-Dreifachbindungen enthalten,
und R8 und R9 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, mit der Maßgabe, daß der Sensibilisator der Formel (I) keine nitroaromatische Verbindung ist.The object of the invention is achieved by a negative-working precursor of a lithographic printing plate comprising
  • (a) an optionally pretreated support and
  • (b) a radiation-sensitive coating of a composition applied to the support
  • (i) one or more types of monomers and / or oligomers and / or polymers each having at least one ethylenically unsaturated group which is amenable to free-radical polymerization,
  • (ii) at least one sensitizer,
  • (iii) at least one co-initiator capable of forming radicals together with the sensitizer (ii) selected from hexaarylbiimidazoles; and
  • (iv) optionally one or more components selected from alkali-soluble binders, colorants, exposure indicators, plasticizers, chain transfer agents, leuco dyes, surface active agents, inorganic fillers and thermopolymerization inhibitors,
characterized in that the at least one sensitizer is a 1,4-dihydropyridine derivative of the formula (I)
Figure 00050001
in which
R 1 is selected from a hydrogen atom, -C (O) OR 7 , an optionally substituted alkyl radical, an optionally substituted aryl radical and an optionally substituted aralkyl radical,
R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl radicals, optionally substituted aryl radicals, CN and a hydrogen atom,
R 4 and R 5 are independently selected from -C (O) OR 7 , -C (O) R 7 , -C (O) NR 8 R 9 and CN,
or R 2 and R 4 together form an optionally substituted phenyl ring or a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring, wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring, adjacent to position 5 of the 1,4-dihydropyridine ring, the moiety
Figure 00050002
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally has further substituents,
both form either optionally substituted phenyl rings or 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic rings or both R 2 with R 4 as well as R 3 with R 5, wherein, in the carbocyclic or heterocyclic rings adjacent to positions 3 and 5 of the dihydropyridine ring , the unit
Figure 00050003
is present and the carbocyclic or heterocyclic rings optionally have further substituents,
or one of the pairs R 2 / R 4 and R 3 / R 5 forms a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring adjacent to positions 5 and 3 of the dihydropyridine ring, respectively
Figure 00060001
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally further substituents, and the other pair forms an optionally substituted phenyl ring,
or R 2 with R 1 or R 3 with R 1 forms a 5- to 7-membered heterocyclic ring which may optionally have one or more substituents and which optionally has, in addition to the nitrogen atom which it shares with the 1,4-dihydropyridine ring, has further nitrogen atoms, -NR 13 groups, -S- or -O-,
R 13 is selected from a hydrogen atom, an alkyl radical, aryl radical and aralkyl radical,
R 6 is selected from an alkyl radical optionally substituted by a halogen atom or a C (O) group, an optionally substituted aryl radical, an optionally substituted aralkyl radical, an optionally substituted heterocyclic radical and the radical
Figure 00060002
Y is an alkanediyl or arylene radical,
R 7 is a hydrogen atom, aryl radical, an aralkyl radical or an alkyl radical, where the alkyl radical and the alkyl moiety of the aralkyl radical optionally contain one or more CC double and / or C-C triple bonds,
and R 8 and R 9 are independently selected from hydrogen, optionally substituted alkyl, optionally substituted aryl and optionally substituted aralkyl, provided that the sensitizer of formula (I) is not nitroaromatic.

Soweit nicht anders definiert, wird im Rahmen dieser Erfindung unter einem Alkylrest ein geradkettiger, verzweigter oder cyclischer gesättigter Kohlenwasserstoffrest verstanden, der vorzugsweise 1 bis 18 Kohlenstoffatome aufweist, besonders bevorzugt 1 bis 10 Kohlenstoffatome, und insbesondere bevorzugt 1 bis 6 Kohlenstoffatome. Der Alkylrest kann gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten (vorzugsweise 0 oder 1 Substituent), zum Beispiel ausgewählt aus Halogenatomen (Fluor, Chlor, Brom, Iod), CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13, aufweisen (R13 bedeutet unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, Arylrest oder Aralkylrest). Die vorstehende Definition gilt auch für die Alkyleinheit eines Aralkylrestes und einen Alkandiylrest.Unless defined otherwise, in the context of this invention an alkyl radical is understood to mean a straight-chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon radical which preferably has 1 to 18 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. The alkyl group may optionally have one or more substituents (preferably 0 or 1 substituent), for example, selected from halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, iodine), CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 (R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl group, aryl group or aralkyl group). The above definition also applies to the alkyl moiety of an aralkyl radical and an alkanediyl radical.

Im Rahmen dieser Erfindung wird – soweit nicht anders definiert – unter einem Arylrest ein aromatischer carbocyclischer Rest mit einem oder mehreren kondensierten Ringen verstanden, der vorzugsweise 6 bis 14 Kohlenstoffatome aufweist. Der Arylrest kann gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten (vorzugsweise 0 bis 3), zum Beispiel ausgewählt aus Halogenatomen, Alkylresten, Alkoxyresten, CN, NR13 2, SO3H, COOR13 und OR13, aufweisen (wobei jedes R13 unabhängig aus Wasserstoff, Alkyl, Aryl und Aralkyl ausgewählt wird). Die vorstehende Definition gilt auch für die Aryleinheit eines Aralkylrestes und einen Arylenrest. Bevorzugte Beispiele sind ein Phenylrest und ein Naphthylrest, welche gegebenenfalls substituiert sein können.Unless defined otherwise, an aryl radical in the context of this invention is understood as meaning an aromatic carbocyclic radical having one or more fused rings, which preferably has 6 to 14 carbon atoms. The aryl radical may optionally have one or more substituents (preferably 0 to 3), for example selected from halogen atoms, alkyl radicals, alkoxy radicals, CN, NR 13 2 , SO 3 H, COOR 13 and OR 13 (wherein each R 13 is independently hydrogen , Alkyl, aryl and aralkyl is selected). The above definition also applies to the aryl unit of an aralkyl group and an arylene group. Preferred examples are a phenyl group and a naphthyl group, which may be optionally substituted.

Im Rahmen dieser Erfindung wird unter einem ankondensierten Ring oder Ringsystem ein Ring verstanden, der mit dem Ring, an den er kondensiert ist, zwei Kohlenstoffatome gemeinsam hat.in the This invention is under a fused ring or Ring system understood a ring connected to the ring to which it condenses is, has two carbon atoms in common.

Soweit nicht anders definiert, wird im Rahmen dieser Erfindung unter einem heterocyclischen Rest ein 5- bis 7-gliedriger (vorzugsweise 5- oder 6-gliedriger) gesättigter, ungesättigter (nicht-aromatischer) oder aromatischer Ring verstanden, bei dem ein oder mehrere Ringkohlenstoffatome durch Heteroatome, ausgewählt aus N, NR13, S und O, ersetzt sind (vorzugsweise N oder NR13). Der heterocyclische Ring kann gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten, zum Beispiel ausgewählt aus Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen, -OR13, -NR13 2, -C(O)OR13, C(O)NR13 2 und CN (wobei jedes R13 unabhängig aus Wasserstoff, Alkyl, Aryl und Aralkyl ausgewählt wird), aufweisen. Es versteht sich von selbst, dass durch die vorgegebenen Grundstrukturen (I) und (Ia) bis (Ig) nicht jeder heterocyclische Ring gesättigt bzw. ungesättigt bzw. aromatisch sein kann.Unless otherwise defined, in the context of this invention a heterocyclic radical is understood to mean a 5- to 7-membered (preferably 5- or 6-membered) saturated, unsaturated (non-aromatic) or aromatic ring in which one or more ring carbon atoms is interrupted Heteroatoms selected from N, NR 13 , S and O are replaced (preferably N or NR 13 ). The heterocyclic ring may optionally have one or more substituents, for example, selected from alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms, -OR 13 , -NR 13 2 , -C (O) OR 13 , C (O) NR 13 2 and CN (wherein each R 13 is independently selected from hydrogen, alkyl, aryl and aralkyl). It goes without saying that due to the given basic structures (I) and (Ia) to (Ig) not every heterocyclic ring can be saturated or unsaturated or aromatic.

Im Rahmen dieser Erfindung wird unter einem carbocyclischen Ring ein 5- bis 7-gliedriger (vorzugsweise 5- oder 6-gliedriger) gesättigter oder ungesättigter Ring verstanden. Der carbocyclische Ring kann gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten, zum Beispiel ausgewählt aus Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen, CN, -NR13 2, -C(O)OR13, -C(O)NR13 2 und -OR13 (wobei R13 wie vorstehend definiert ist), aufweisen. Es versteht sich von selbst, dass durch die vorgegebenen Grundstrukturen (I) und (Ia) bis (Ig) nicht jeder carbocyclische Ring ungesättigt oder gesättigt sein kann.In the context of this invention, a carbocyclic ring is understood to mean a 5- to 7-membered (preferably 5- or 6-membered) saturated or unsaturated ring. The carbocyclic ring may optionally have one or more substituents, for example, selected from alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms, CN, -NR 13 2 , -C (O) OR 13 , -C (O) NR 13 2 and -OR 13 ( wherein R 13 is as defined above). It goes without saying that due to the given basic structures (I) and (Ia) to (Ig) not every carbocyclic ring can be unsaturated or saturated.

Als ethylenisch ungesättigte Monomere, Oligomere und Polymere können alle Monomere, Oligomere und Polymere verwendet werden, die radikalisch polymerisierbar sind und die mindestens eine C-C-Doppelbindung besitzen. Es können auch Monomere/Oligomere/Polymere mit C-C-Dreifachbindungen verwendet werden, sie sind aber nicht bevorzugt. Geeignete Verbindungen sind dem Fachmann gut bekannt und können ohne spezielle Limitierungen in der vorliegenden Erfindung genutzt werden. Bevorzugt sind Ester der Acryl- oder Methacrylsäure, der Itaconsäure, der Croton- und Isocrotonsäure, der Maleinsäure und der Fumarsäure mit einer oder mehreren ungesättigten Gruppen in Form von Monomeren, Oligomeren oder Prepolymeren. Sie können in fester oder flüssiger Form vorliegen, wobei feste und zähflüssige Formen bevorzugt sind. Zu den Verbindungen, die als Monomere geeignet sind, zählen beispielsweise Trimethylolpropantriacrylat und -methacrylat, Pentaerythritoltriacrylat und -methacrylat, Dipentaerythritolmonohydroxypentaacrylat und -methacrylat, Dipentaerythritolhexaacrylat und -methacrylat, Pentaerythritoltetraacrylat und -methacrylat, Di(trimethylolpropan)tetraacrylat und -methacrylat, Diethylenglykoldiacrylat und -methacrylat, Triethylenglykoldiacrylat und -methacrylat oder Tetraethylenglykoldiacrylat und -methacrylat. Geeignete Oligomere bzw. Prepolymere sind beispielsweise Urethanacrylate und -methacrylate, Epoxidacrylate und -methacrylate, Polyesteracrylate und -methacrylate, Polyetheracrylate und -methacrylate oder ungesättigte Polyesterharze.When ethylenically unsaturated Monomers, oligomers and polymers can all monomers, oligomers and polymers Polymers can be used which are radically polymerizable and having at least one C-C double bond. It can too Monomers / oligomers / polymers with C-C triple bonds are used, but they are not preferred. Suitable compounds are those skilled in the art well known and can without special limitations are used in the present invention. Preferred are esters of acrylic or methacrylic acid, itaconic acid, the Crotonic and isocrotonic acid, the maleic and the fumaric acid with one or more unsaturated Groups in the form of monomers, oligomers or prepolymers. You can in solid or liquid Form are present, with solid and viscous forms are preferred. Examples of compounds which are useful as monomers include Trimethylolpropane triacrylate and methacrylate, pentaerythritol triacrylate and methacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate and methacrylate, Dipentaerythritol hexaacrylate and methacrylate, pentaerythritol tetraacrylate and methacrylate, di (trimethylolpropane) tetraacrylate and methacrylate, Diethylene glycol diacrylate and methacrylate, triethylene glycol diacrylate and methacrylate or tetraethylene glycol diacrylate and methacrylate. Suitable oligomers or prepolymers are, for example, urethane acrylates and methacrylates, epoxy acrylates and methacrylates, polyester acrylates and methacrylates, polyether acrylates and methacrylates or unsaturated polyester resins.

Neben Monomeren und/oder Oligomeren können auch Polymere verwendet werden, die radikalisch polymerisierbare C-C-Doppelbindungen in der Haupt- oder Seitenkette enthalten. Beispiele hierfür sind Reaktionsprodukte von Maleinsäureanhydrid-Olefin-Copolymeren mit Hydroxyalkyl(meth)acrylaten (siehe z.B. DE-A-4311738); (Meth)acrylsäurepolymere, teilweise oder vollständig verestert mit Allylalkohol (siehe z.B. DE-A-3332640); Reaktionsprodukte von polymeren Polyalkoholen mit Isocyanato(meth)acrylaten; ungesättigte Polyester; (meth)acrylat terminierte Polystyrole; Poly(meth)acrylsäureester; Poly(meth)acrylsäuren; Poly(meth)acrylamide; (Meth)acrylsäurepolymere, teilweise oder vollständig verestert mit Epoxiden, die radikalisch polymerisierbare Gruppen enthalten; und Polyether. Das Präfix „(meth)" indiziert in diesem Zusammenhang, dass sowohl Derivate der Acrylsäure als auch der Methacrylsäure benutzt werden können.Next Monomers and / or oligomers can also polymers can be used which radically polymerizable C-C double bonds in the main or side chain included. Examples therefor are reaction products of maleic anhydride-olefin copolymers with hydroxyalkyl (meth) acrylates (see, e.g., DE-A-4311738); (Meth) acrylic acid polymers, partially or completely esterified with allyl alcohol (see, for example, DE-A-3332640); reaction products of polymeric polyalcohols with isocyanato (meth) acrylates; unsaturated polyesters; (meth) acrylate-terminated polystyrenes; Poly (meth) acrylate; acrylic acids, poly (meth) acrylates; Poly (meth) acrylamides; (Meth) acrylic acid polymers, partially or Completely esterified with epoxides, the radically polymerizable groups contain; and polyethers. The prefix "(meth)" indicates in this Connection that uses both derivatives of acrylic acid and methacrylic acid can be.

Weitere geeignete C-C-ungesättigte radikalisch polymerisierbare Verbindungen sind z.B. in EP-A-1 176 007 beschrieben.Further suitable C-C-unsaturated radically polymerizable compounds are e.g. in EP-A-1 176 007 described.

Es ist natürlich möglich, verschiedene Arten von Monomeren oder Oligomeren oder Polymeren im Gemisch einzusetzen, ebenso sind auch Gemische von Monomeren und Oligomeren und/oder Polymeren erfindungsgemäß einsetzbar, sowie Gemische von Oligomeren und Polymeren. Der Gewichtsanteil der radikalisch polymerisierbaren Monomere/Oligomere/Polymere beträgt vorzugsweise 5 bis 95 Gew.%, bei Verwendung von Monomeren/Oligomeren besonders bevorzugt 20 bis 85 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht der strahlungsempfindlichen Beschichtung. Der Ausdruck „Trockenschichtgewicht der strahlungsempfindlichen Beschichtung" ist im Rahmen dieser Erfindung gleichbedeutend mit „Feststoffe der strahlungsempfindlichen Zusammensetzung".It is of course possible to use various types of monomers or oligomers or polymers in a mixture, as are mixtures of monomers and oligomers and / or polymers used in the invention, and mixtures of oligomers and polymers. The weight fraction of the radical polymerizable monomers / oligomers / polymers is preferably 5 to 95 wt.%, When using monomers / oligomers particularly preferably 20 to 85 wt.%, Based on the dry layer weight of the radiation-sensitive coating. The term "dry layer weight of the radiation-sensitive coating" in the context of this invention is synonymous with "solids of the radiation-sensitive composition".

Im Rahmen dieser Erfindung wird unter einem Sensibilisator eine Verbindung verstanden, die bei der Belichtung Strahlung absorbieren kann, aber allein, d.h. ohne Zusatz von Coinitiatoren, keine Radikale bilden kann.in the A compound of this invention is a sensitizer understood, which can absorb radiation during exposure, but alone, i. without the addition of coinitiators, can not form radicals.

In der vorliegenden Erfindung kann ein Sensibilisator oder ein Gemisch aus zwei oder mehr eingesetzt werden.In The present invention may be a sensitizer or a mixture be used from two or more.

Erfindungsgemäß wird als Sensibilisator eine 1,4-Dihydropyridin-Verbindung der Formel (I) eingesetzt

Figure 00100001
wobei
R1 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, -C(O)OR7, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest,
R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls substituierten Arylresten, CN und einem Wasserstoffatom,
R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus -C(O)OR7, -C(O)R7, -C(O)NR8R9 und CN,
oder R2 und R4 zusammen einen gegebenenfalls substituierten Phenylring oder einen 5-7-gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bilden, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00100002
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist,
oder sowohl R2 mit R4 als auch R3 mit R5 beide entweder gegebenenfalls substituierte Phenylringe oder beide 5-7-gliedrige carbocyclische oder heterocyclische Ringe bilden, wobei in den carbocyclischen oder heterocyclischen Ringen, benachbart zu Position 3 und 5 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00110001
vorliegt und die carbocyclischen oder heterocyclischen Ringe gegebenenfalls weitere Substituenten aufweisen,
oder eines der Paare R2/R4 und R3/R5 einen 5-7gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bildet, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 bzw. 3 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00110002
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist, und das andere Paar einen gegebenenfalls substituierten Phenylring bildet,
oder R2 mit R1 oder R3 mit R1 einen 5- bis 7-gliedrigen heterocyclischen Ring bildet, der gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten aufweisen kann und der gegebenenfalls neben dem Stickstoffatom, das er mit dem 1,4-Dihydropyridinring gemeinsam hat, weitere Stickstoffatome, -NR13-Gruppen, -S- oder -O- aufweist,
R13 aus einem Wasserstoffatom, einem Alkylrest, Arylrest und einem Aralkylrest ausgewählt wird,
R6 ausgewählt wird aus einem gegebenenfalls mit einem Halogenatom oder einer -C(O)-Gruppe substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest, einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, einem gegebenenfalls substituierten heterocyclischen Rest und dem Rest
Figure 00120001
Y ein Alkandiyl oder Arylenrest ist,
R7 ein Wasserstoffatom, Arylrest, ein Aralkylrest oder ein Alkylrest ist, wobei der Alkylrest und die Alkyleinheit des Aralkylrests gegebenenfalls ein oder mehrere C-C-Doppel- und/oder C-C-Dreifachbindungen enthalten,
und R8 und R9 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, mit der Maßgabe, daß es sich bei der Verbindung der Formel (I) nicht um eine nitroaromatische Verbindung handelt.According to the invention, the sensitizer used is a 1,4-dihydropyridine compound of the formula (I)
Figure 00100001
in which
R 1 is selected from a hydrogen atom, -C (O) OR 7 , an optionally substituted alkyl radical, an optionally substituted aryl radical and an optionally substituted aralkyl radical,
R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl radicals, optionally substituted aryl radicals, CN and a hydrogen atom,
R 4 and R 5 are independently selected from -C (O) OR 7 , -C (O) R 7 , -C (O) NR 8 R 9 and CN,
or R 2 and R 4 together form an optionally substituted phenyl ring or a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring adjacent to position 5 of the dihydropyridine ring, the moiety
Figure 00100002
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally has further substituents,
both form either optionally substituted phenyl rings or 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic rings or both R 2 with R 4 as well as R 3 with R 5, wherein, in the carbocyclic or heterocyclic rings adjacent to positions 3 and 5 of the dihydropyridine ring , the unit
Figure 00110001
is present and the carbocyclic or heterocyclic rings optionally have further substituents,
or one of the pairs R 2 / R 4 and R 3 / R 5 forms a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring adjacent to positions 5 and 3 of the dihydropyridine ring, respectively
Figure 00110002
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally further substituents, and the other pair forms an optionally substituted phenyl ring,
or R 2 with R 1 or R 3 with R 1 forms a 5- to 7-membered heterocyclic ring which may optionally have one or more substituents, and which may optionally contain, in addition to the nitrogen atom, with it the 1,4-dihydropyridine has in common, further nitrogen atoms, -NR 13 groups, -S- or -O-,
R 13 is selected from a hydrogen atom, an alkyl radical, aryl radical and an aralkyl radical,
R 6 is selected from an alkyl radical optionally substituted by a halogen atom or a C (O) group, an optionally substituted aryl radical, an optionally substituted aralkyl radical, an optionally substituted heterocyclic radical and the radical
Figure 00120001
Y is an alkanediyl or arylene radical,
R 7 is a hydrogen atom, aryl radical, an aralkyl radical or an alkyl radical, where the alkyl radical and the alkyl moiety of the aralkyl radical optionally contain one or more CC double and / or C-C triple bonds,
and R 8 and R 9 are independently selected from hydrogen, optionally substituted alkyl, optionally substituted aryl and optionally substituted aralkyl, provided that the compound of formula (I) is not a nitroaromatic compound ,

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform ist R1 ein Wasserstoffatom.In a preferred embodiment, R 1 is a hydrogen atom.

Wenn R2 und R3 mit benachbarten Substituenten keine Ringe bilden, werden sie unabhängig voneinander vorzugsweise aus C1-C5-Alkylresten oder Arylresten ausgewählt.When R 2 and R 3 do not form rings with adjacent substituents, they are preferably independently selected from C 1 -C 5 alkyl radicals or aryl radicals.

Wenn R4 und R5 mit benachbarten Substituenten keine Ringe bilden, werden sie unabhängig voneinander vorzugsweise aus -C(O)OR7 ausgewählt.When R 4 and R 5 do not form rings with adjacent substituents, they are preferably independently selected from -C (O) OR 7 .

R6 wird vorzugsweise ausgewählt aus C1-C5-Alkylresten oder Arylresten.R 6 is preferably selected from C 1 -C 5 -alkyl radicals or aryl radicals.

R7 wird vorzugsweise aus C1-C5 Alkylresten ausgewählt und ist besonders bevorzugt eine Methylgruppe.R 7 is preferably selected from C 1 -C 5 alkyl radicals and is more preferably a methyl group.

Gemäß einer Ausführungsform ist die Substitution des 1,4-Dihydropyridinrings mit R2/R4 und R3/R5 symmetrisch, d.h. es gilt R2 = R3 und R4 = R5.According to one embodiment, the substitution of the 1,4-dihydropyridine ring with R 2 / R 4 and R 3 / R 5 is symmetrical, ie R 2 = R 3 and R 4 = R 5 .

Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform werden R2 und R3 unabhängig voneinander aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls substituierten Arylresten, CN und einem Wasserstoffatom ausgewählt, und R4 und R5 werden unabhängig aus -C(O)OR7, -C(O)R7, -C(O)NR8R9 und CN ausgewählt.In a preferred embodiment, R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl radicals, optionally substituted aryl radicals, CN and a hydrogen atom, and R 4 and R 5 are independently selected from -C (O) OR 7 , -C (O) R 7 , -C (O) NR 8 R 9 and CN selected.

Als Sensibilisatoren geeignet sind weiterhin 1,4-Dihydropyridin-Derivate der Formel (Ia)

Figure 00130001
wobei R1 und R6 wie vorstehend definiert sind,
die Reste R8a bis R8d und R9a bis R9d unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten und Arylresten ausgewählt werden, wobei 2 Reste R9 bzw. R8 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen gesättigten oder ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können,
jedes Z unabhängig aus CR13 2, O, S und NR13 ausgewählt wird und
jedes R13 unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Alkyl-, Aralkyl- oder Arylrest ist,
der Formel (Ib)
Figure 00130002
wobei R1 und R6 wie vorstehend definiert sind, und
R10a bis R10d und R11a bis R11d unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen (Fluor, Chlor, Brom, Iod), CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13, (jedes R13 bedeutet unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, Arylrest oder Aralkylrest) ausgewählt wird, wobei zwei Reste R11 bzw. R10 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können,
der Formel (Ic)
Figure 00140001
wobei R1, R3, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R9a bis R9f unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen (Fluor, Chlor, Brom, Iod), CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13, (R13 bedeutet unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, Arylrest oder Aralkylrest) ausgewählt wird, wobei 2 Reste R9 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen gesättigten oder ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können,
der Formel (Id)
Figure 00150001
wobei jedes R1, R2, R3, R4 und R5 unabhängig wie vorstehend definiert ist und Y ausgewählt wird aus Alkandiyl und Arylen,
der Formel (Ie)
Figure 00150002
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R9a bis R9f wie vorstehend die Reste R9a bis R9d von Formel (Ia) definiert sind,
der Formel (If)
Figure 00160001
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R9a bis R9h wie vorstehend die Reste R9a bis R9d von Formel (Ia) definiert sind
und der Formel (Ig)
Figure 00160002
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R11a bis R11d unabhängig aus Wasserstoff, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen (Fluor, Chlor, Brom, Iod), CN, NR13 2, COOR13 und OR13 (R13 bedeutet unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, einen Arylrest und einen Aralkylrest) ausgewählt werden, wobei 2 benachbarte Reste R11 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen zusammen auch einen ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können.Also suitable as sensitizers are 1,4-dihydropyridine derivatives of the formula (Ia)
Figure 00130001
wherein R 1 and R 6 are as defined above,
the radicals R 8a to R 8d and R 9a to R 9d are independently selected from a hydrogen atom, alkyl radicals and aryl radicals, wherein 2 radicals R 9 and R 8 of adjacent ring carbon atoms also together contain a saturated or unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring can form
each Z is independently selected from CR 13 2 , O, S and NR 13 , and
each R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl, aralkyl or aryl radical,
of the formula (Ib)
Figure 00130002
wherein R 1 and R 6 are as defined above, and
R 10a to R 10d and R 11a to R 11d independently of a hydrogen atom, alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, iodine), CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 , ( each R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl radical, aryl radical or aralkyl radical) is selected, wherein two radicals R 11 and R 10 of adjacent ring carbon atoms also with each other can form an unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring,
of the formula (Ic)
Figure 00140001
wherein R 1 , R 3 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 9a to R 9f are independently selected from hydrogen, alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, iodine), CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 , (R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl group, aryl group or aralkyl group) wherein 2 R 9 of adjacent ring carbon atoms also together or a fused or unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused can form aromatic ring,
the formula (Id)
Figure 00150001
wherein each of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 is independently defined as above and Y is selected from alkanediyl and arylene,
of the formula (Ie)
Figure 00150002
where R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 9a to R 9f are as defined above the radicals R 9a to R 9d of formula (Ia),
the formula (If)
Figure 00160001
wherein R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 9a to R 9h as above the radicals R 9a to R 9d of formula (Ia) are defined
and the formula (Ig)
Figure 00160002
wherein R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 11a to R 11d are independently selected from hydrogen, alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, iodine), CN, NR 13 2 , COOR 13 and OR 13 (R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group), where 2 adjacent groups R 11 of adjacent ring carbon atoms together can also form an unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring.

Es versteht sich von selbst, dass sich die Anzahl der Reste R8 bzw. R9 in den Formeln (Ia), (Ic), (Ie) und (If) verringert, wenn 2 Reste R8 bzw. R9 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen zusammen einen ankondensierten aromatischen Ring bilden.It goes without saying that the number of radicals R 8 or R 9 in the formulas (Ia), (Ic), (Ie) and (If) decreases if 2 radicals R 8 or R 9 of adjacent ring carbon atoms together form a fused aromatic ring.

Bei den 1,4-Dihydropyridin-Derivaten der Formel (Ia) ist R1 vorzugsweise ein Wasserstoffatom, R6 eine Methyl- oder Phenylgruppe und Z vorzugsweise O oder CH2; die Substituenten R8a bis R8d und R9a bis R9d werden unabhängig vorzugsweise aus Wasserstoffatomen und Methylgruppen ausgewählt. Von den Derivaten der Formel (Ia) sind solche mit symmetrischer Substitution am Dihydropyridin-Ring besonders bevorzugt.In the 1,4-dihydropyridine derivatives of the formula (Ia), R 1 is preferably a hydrogen atom, R 6 is a methyl or phenyl group and Z is preferably O or CH 2 ; the substituents R 8a to R 8d and R 9a to R 9d are independently preferably selected from hydrogen atoms and methyl groups. Of the derivatives of the formula (Ia), those with symmetrical substitution on the dihydropyridine ring are particularly preferred.

Bei den Derivaten der Formel (Ib) ist R1 vorzugsweise ein Wasserstoffatom und R6 vorzugsweise eine Methyl- oder Phenylgruppe. Die Substituenten R10a bis R10d und R11a bis R11d werden unabhängig vorzugsweise aus C1-C5 Alkylgruppen, OR13 und Halogenatomen ausgewählt; eine symmetrische Substitution der beiden Benzolringe ist besonders bevorzugt.In the derivatives of the formula (Ib), R 1 is preferably a hydrogen atom and R 6 is preferably a methyl or phenyl group. The substituents R 10a to R 10d and R 11a to R 11d are independently preferably selected from C 1 -C 5 alkyl groups, OR 13 and halogen atoms; a symmetrical substitution of the two benzene rings is particularly preferred.

Bei den 1,4-Dihydropyridin-Derivaten der Formel (Ic) ist R1 vorzugsweise ein Wasserstoffatom, R6 vorzugsweise eine Methyl- oder Phenylgruppe, R3 vorzugsweise eine Methylgruppe und R5 vorzugsweise C(O)OR7 (wobei R7 wie vorstehend definiert ist). Die Substituenten R9a bis R9f werden unabhängig vorzugsweise aus C1-C5 Alkylgruppen ausgewählt. Besonders bevorzugt ist eine Methylgruppe.In the 1,4-dihydropyridine derivatives of the formula (Ic), R 1 is preferably a hydrogen atom, R 6 is preferably a methyl or phenyl group, R 3 is preferably a methyl group and R 5 is preferably C (O) OR 7 (where R 7 is as shown in FIG is defined above). The substituents R 9a to R 9f are independently preferably selected from C 1 -C 5 alkyl groups. Particularly preferred is a methyl group.

Bei den Derivaten der Formel (Id) ist Y vorzugsweise eine 1,4-Phenylen- oder 1,2-Ethylengruppe. Außerdem ist bevorzugt, dass beide Reste R1 gleich sind, beide Reste R2 gleich sind, beide Reste R3 gleich sind, beide Reste R4 gleich sind und beide Reste R5 gleich sind; für alle Reste R1 bis R5 gelten die für Formel (I) angegebenen bevorzugten Definitionen.In the derivatives of the formula (Id), Y is preferably a 1,4-phenylene or 1,2-ethylene group. In addition, it is preferred that both R 1 are the same, both R 2 are the same, both R 3 are the same, both R 4 are the same and both R 5 are the same; for all radicals R 1 to R 5 , the preferred definitions given for formula (I) apply.

Bei den Derivaten der Formel (Ie) ist R2 vorzugsweise C1-C5 Alkyl, R4 vorzugsweise -C(O)OR7, R5 vorzugsweise C(O)OR7 und R6 vorzugsweise C1-C5 Alkyl- oder Phe nylreste (R7 ist wie vorstehend definiert). Die Substituenten R9a bis R9f werden vorzugsweise unabhängig voneinander ausgewählt aus C1-C5 Alkylresten.In the derivatives of the formula (Ie), R 2 is preferably C 1 -C 5 alkyl, R 4 is preferably -C (O) OR 7 , R 5 is preferably C (O) OR 7 and R 6 is preferably C 1 -C 5 alkyl or phenyl radicals (R 7 is as defined above). The substituents R 9a to R 9f are preferably independently selected from C 1 -C 5 alkyl radicals.

Bei den Derivaten der Formel (If) ist R2 vorzugsweise C1-C5 Alkyl, R4 vorzugsweise C(O)OR7, R5 vorzugsweise C(O)OR7 und R6 vorzugsweise ein C1-C5 Alkyl- oder ein Phenylrest (wobei R7 ist wie vorstehend definiert ist). Die Substituenten R9a bis R9h werden vorzugsweise unabhängig voneinander ausgewählt aus C1-C5 Alkylresten.In the derivatives of the formula (If) R 2 is preferably C 1 -C 5 alkyl, R 4 is preferably C (O) OR 7 , R 5 is preferably C (O) OR 7 and R 6 is preferably a C 1 -C 5 alkyl or a phenyl radical (wherein R 7 is as defined above). The substituents R 9a to R 9h are preferably independently selected from C 1 -C 5 alkyl radicals.

Bei den Derivaten der Formel (Ig) ist R2 vorzugsweise C1-C5 Alkyl, R4 vorzugsweise aus C(O)OR7, R5 vorzugsweise C(O)OR7 und R6 vorzugsweise ein C1-C5 Alkyl- oder ein Phenylrest. Die Substituenten R11 werden vorzugsweise unabhängig voneinander ausgewählt aus C1-C5 Alkylgruppen.In the derivatives of formula (Ig), R 2 is preferably C 1 -C 5 alkyl, R 4 is preferably C (O) OR 7 , R 5 is preferably C (O) OR 7 and R 6 is preferably C 1 -C 5 alkyl - or a phenyl radical. The substituents R 11 are preferably independently selected from C 1 -C 5 alkyl groups.

Von den 1,4-Dihydropyridin-Derivaten der Formeln (Ia) bis (Ig) sind diejenigen der Formeln (Ia) und (Id) besonders bevorzugt.From the 1,4-dihydropyridine derivatives of the formulas (Ia) to (Ig) those of formulas (Ia) and (Id) are particularly preferred.

Die erfindungsgemäß verwendeten 1,4-Dihydropyridin-Derivate können nach dem Fachmann wohl bekannten Verfahren, wie die Hantzsch-Synthese, hergestellt werden. Beispielsweise sei hier auf J. Org. Chem. 30 (1965), S.1914 ff., und Angewandte Chemie (Intern.), 20 (1981), S.762 ff., verwiesen; die darin aufgezeigten Verfahren lassen sich durch entsprechende Variation der verwendeten Ausgangsprodukte auch für die Synthese dort nicht explizit beschriebener 1,4-Dihydropyridine einsetzen.The used according to the invention 1,4-dihydropyridine derivatives can methods well known to those skilled in the art, such as the Hantzsch synthesis, getting produced. For example, see J. Org. Chem. 30 (1965), p.1914 et seq., And Angewandte Chemie (Intern.), 20 (1981), Pp. 762 ff., Referenced; the procedures outlined in it can be by appropriate variation of the starting materials used also for the Synthesis use there not explicitly described 1,4-dihydropyridines.

Die Menge des/r Sensibilisators(en) ist nicht besonders beschränkt, liegt aber vorzugsweise im Bereich von 0,2 bis 25 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht der Beschichtung, besonders bevorzugt bei 0,5 bis 15 Gew.%.The Amount of sensitiser (s) is not particularly limited but preferably in the range of 0.2 to 25% by weight, based on the Dry layer weight of the coating, more preferably at 0.5 to 15% by weight.

Im Rahmen dieser Erfindung wird unter einem Coinitiator eine Verbindung verstanden, die gemeinsam mit den erfindungsgemäß verwendeten Sensibilisatoren Radikale bildet. Erfindungsgemäß werden die Coinitiatoren ausgewählt aus 2,2', 4,4', 5,5'-Hexaarylbiimidazolen (im Folgenden kurz Hexaarylbiimidazole).in the A compound of this invention is a coinitiator understood that together with the sensitizers used in the invention Radical forms. According to the invention the coinitiators selected from 2,2 ', 4,4', 5,5'-hexaarylbiimidazoles (hereinafter abbreviated Hexaarylbiimidazoles).

Geeignete Hexaarylbiimidazole können zum Beispiel durch die folgende Formel (II) wiedergegeben werden:

Figure 00190001
wobei A1-A6 substituierte oder unsubstituierte C5-C20 Arylreste sind, die gleich oder verschieden sind und bei denen im Ring ein oder mehrere C-Atome gegebenenfalls durch Heteroatome, ausgewählt aus O, N und S, ersetzt sein können. Als Substituenten der Arylreste sind solche möglich, die die lichtinduzierte Dissoziation zu Triarylimidazolyl-Radikalen nicht behindern, z.B. Halogenatome (Fluor, Chlor, Brom, Jod), -CN, C1-C6 Alkylreste (gegebenenfalls mit ein oder mehreren Substituenten, ausgewählt aus Halogenatomen, -CN und -OH), C1-C6 Alkoxy, C1-C6 Alkylthio, (C1-C6 Alkyl) sulfonyl.Suitable hexaarylbiimidazoles can be represented, for example, by the following formula (II):
Figure 00190001
where A 1 -A 6 are substituted or unsubstituted C 5 -C 20 aryl radicals which are identical or different and in which one or more C atoms in the ring may optionally be replaced by heteroatoms selected from O, N and S. As substituents of the aryl radicals, those are possible which do not hinder the light-induced dissociation to triarylimidazolyl radicals, eg halogen atoms (fluorine, chlorine, bromine, iodine), -CN, C 1 -C 6 alkyl radicals (optionally with one or more substituents selected from Halogen atoms, -CN and -OH), C 1 -C 6 alkoxy, C 1 -C 6 alkylthio, (C 1 -C 6 alkyl) sulfonyl.

Bevorzugte Arylreste sind substituierte und unsubstituierte Phenyl-, Biphenyl-, Naphthyl-, Pyridyl-, Furyl- und Thienylreste. Besonders bevorzugt sind substituierte und unsubstituierte Phenylreste; insbesondere bevorzugt sind halogensubstituierte Phenylreste.preferred Aryl radicals are substituted and unsubstituted phenyl, biphenyl, Naphthyl, pyridyl, furyl and thienyl radicals. Especially preferred are substituted and unsubstituted phenyl radicals; especially preferred are halogen-substituted phenyl radicals.

Beispiele sind:
2,2'-Bis(bromphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(p-carboxyphenyl)-4,4',5,5''-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Bis(p-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Bis(p-cyanophenyl)-4,4'5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Bis(2,4-dichlorophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(2,4-dimethoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-ethoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(m-fluorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-fluorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(p-fluorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-hexoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-hexylphenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Bis(3,4-methylenedioxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(m-methoxyphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetrakis[m-(betaphenoxy-ethoxyphenyl)]biimidazol,
2,2'-Bis(2,6-dichlorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-methoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(p-methoxyphenyl)-4,4'-bis(o-methoxyphenyl)-5,5'-diphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-nitrophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(p-phenylsulfonylphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenyl-biimidazol,
2,2'-Bis(p-sulfamoylphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(2,4,5-trimethylphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Di-4-biphenylyl-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Di-1-naphthyl-4,4',5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Di-9-phenanthryl-4,4',5,5'-tetrakis(p-methoxyphenyl)-biimidazol,
2,2'-Diphenyl-4,4',5,5'-tetra-4-biphenylylbiimidazol,
2,2'-Diphenyl-4,4',5,5'-tetra-2,4-xylylbiimidazol,
2,2'-Di-3-pyridyl-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Di-3-thienyl-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Di-o-tolyl-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Di-p-tolyl-4,4'-di-o-tolyl-5,5'-diphenylbiimidazol,
2,2'-Di-2,4-xylyl-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2',4,4',5,5'-Hexakis(p-benylthiophenyl)biimidazol,
2,2',4,4',5,5'-Hexa-1-naphthylbiimidazol,
2,2',4,4',5,5'-Hexaphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(2-nitro-5-methoxyphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-nitrophenyl)-4,4',5,5'-tetrakis(m-methoxyphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(2-chlor-5-sulfophenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2',5-Tris(2-chlorphenyl)-4-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,5'diphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetraphenylbiimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-fluorphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-bromphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-iodphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlornaphthyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlorphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-bromphenyl)-4,4',5,5'-tetra(p-chlor-p-methoxyphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dibromphenyl)biimidazol,
2,2'-Bis(o-bromphenyl)-4,4',5,5'-tetra(o,p-dichlorphenyl)biimidazol oder
2,2'-Bis(o,p-dichlorphenyl)-4,4',5,5',-tetra(o,p-dichlorphenyl)biimidazol;
die Erfindung ist aber nicht darauf beschränkt.
Examples are:
2,2'-Bis (bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (p-carboxyphenyl) -4,4 ', 5,5''- tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (p-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (p-cyanophenyl) -4,4'5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (2,4-dimethoxyphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-ethoxyphenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, -4.4
2,2'-bis (m-fluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-fluorophenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, -4.4
2,2'-bis (p-fluorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-hexoxyphenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, -4.4
2,2'-bis (o-hexylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (3,4-methylenedioxyphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (m-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis [m- (betaphenoxy-ethoxyphenyl)] biimidazole,
2,2'-bis (2,6-dichloro-phenyl) ', 5,5'-tetraphenyl, -4.4
2,2'-bis (o-methoxyphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (p-methoxyphenyl) -4,4'-bis (o-methoxyphenyl) -5,5'-diphenylbiimidazol,
2,2'-bis (o-nitrophenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, -4.4
2,2'-bis (p-phenylsulfonylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-biimidazole,
2,2'-bis (p-sulfamoylphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (2,4,5-trimethylphenyl) ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole, -4.4
2,2'-di-4-biphenylyl-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-di-1-naphthyl-4,4 ', 5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-di-9-phenanthryl-4,4 ', 5,5'-tetrakis (p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-diphenyl-4,4 ', 5,5'-tetra-4-biphenylylbiimidazol,
2,2'-diphenyl-4,4 ', 5,5'-tetra-2,4-xylylbiimidazol,
2,2'-di-3-pyridyl-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-di-3-thienyl-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-di-o-tolyl-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-di-p-tolyl-4,4'-di-o-tolyl-5,5'-diphenylbiimidazol,
2,2'-di-2,4-xylyl-4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2 ', 4,4', 5,5'-hexakis (p-benylthiophenyl) biimidazole,
2,2 ', 4,4', 5,5'-hexa-1-naphthylbiimidazol,
2,2 ', 4,4', 5,5'-Hexaphenylbiimidazol,
2,2'-bis (2-nitro-5-methoxyphenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-nitrophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetrakis (m-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (2-chloro-5-sulfophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2 ', 5-tris (2-chlorophenyl) -4- (3,4-dimethoxyphenyl) -4,5'diphenylbiimidazol,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenylbiimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-fluorophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-iodophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chloronaphthyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chlorophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (p-chloro-p-methoxyphenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dibromophenyl) biimidazole,
2,2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole or
2,2'-bis -4,4 ', 5,5', (o, p-dichlorophenyl) - tetra (o, p-dichlorophenyl) biimidazole;
but the invention is not limited thereto.

Geeignete Hexaarylbiimidazole sind z. B. in US-A-4,565,769 und US-A-3,445,232 beschrieben und können nach bekannten Verfahren hergestellt werden, wie z.B. die oxidative Dimerisierung von Triarylimidazolen.suitable Hexaarylbiimidazoles are z. In US-A-4,565,769 and US-A-3,445,232 described and can prepared by known methods, e.g. the oxidative Dimerization of triarylimidazoles.

In der vorliegenden Erfindung kann ein Hexaarylbiimidazol oder ein Gemisch von mehreren als Coinitiator eingesetzt werden.In of the present invention may be a hexaarylbiimidazole or a Mixture of several be used as a coinitiator.

Die Menge des/r Coinitiators(en) ist nicht besonders beschränkt, liegt aber vorzugsweise bei 0,2 bis 25 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt bei 0,5 bis 15 Gew.%.The Amount of the coinitiator (s) is not particularly limited but preferably at 0.2 to 25% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably at 0.5 to 15 wt.%.

Gegebenenfalls kann die strahlungsempfindliche Beschichtung außerdem ein alkalilösliches Bindemittel oder Bindemittelgemisch enthalten. Das Bindemittel wird vorzugsweise ausgewählt aus Polyvinylacetalen, Acrylpolymeren, Polyurethanen und deren Copolymeren. Es ist bevorzugt, dass das Bindemittel Säuregruppen enthält, besonders bevorzugt Carboxylgruppen. Am meisten bevorzugt sind Acrylpolymere. Bindemittel mit Säuregruppen weisen vorzugsweise eine Säurezahl im Bereich von 20 bis 180 mg KOH/g Polymer auf. Gegebenenfalls kann das Bindemittel Gruppierungen enthalten, die in der Lage sind, eine Cycloaddition (z.B. Photocycloaddition) zu durchlaufen. Die Menge des Bindemittels ist nicht besonders beschränkt und liegt vorzugsweise im Bereich von 0 bis 90 Gew.%, besonders bevorzugt 5 bis 60 Gew.%.Possibly For example, the radiation-sensitive coating may also be an alkali-soluble one Contain binder or binder mixture. The binder will preferably selected from polyvinyl acetals, acrylic polymers, polyurethanes and their copolymers. It is preferred that the binder contains acid groups, especially preferably carboxyl groups. Most preferred are acrylic polymers. Binders with acid groups preferably have an acid number in the range of 20 to 180 mg KOH / g polymer. If necessary, can the binder contain groupings that are capable of one Cycloaddition (e.g., photocycloaddition). The amount The binder is not particularly limited and is preferably in the range of 0 to 90 wt.%, Particularly preferably 5 to 60 wt.%.

Die strahlungsempfindliche Beschichtung kann außerdem kleine Mengen eines Thermopolymerisationsinhibitors enthalten. Geeignete Beispiele für Inhibitoren der unerwünschten Thermopolymerisation sind z.B. Hydrochinon, p-Methoxyphenol, Di-t-butyl-p-cresol, Pyrrogalol, t-Butylcatechol, Benzochinon, 4,4'-Thio-bis-(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-Methylen-bis-(4-methyl-6-t-butylphenol) und N-Nitrosophenylhydroxylaminsalze. Die Menge des nicht absorbierbaren Polymerisationsinhibitors in der strahlungsempfindlichen Beschichtung beträgt vorzugsweise 0 Gew.% bis 5 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,01 bis 2 Gew.%. Vielfach gelangen solche Inhibitoren über kommerzielle Monomere oder Oligomere in die strahlungsempfindliche Beschichtung und werden daher nicht ausdrücklich ausgewiesen.The radiation-sensitive coating may also contain small amounts of Thermopolymerization inhibitors included. Suitable examples of inhibitors the unwanted Thermopolymerization are e.g. Hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrrogalol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thio-bis (3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and N-nitrosophenylhydroxylamine salts. The amount of non-absorbable Polymerization inhibitors in the radiation-sensitive coating is preferably 0% by weight to 5% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably 0.01 to 2 wt.%. In many cases, such inhibitors reach commercial Monomers or oligomers in the radiation-sensitive coating and therefore are not explicit expelled.

Außerdem kann die strahlungsempfindliche Beschichtung Farbstoffe oder Pigmente zum Anfärben der Schicht enthalten. Es versteht sich von selbst, dass das Farbmittel so ausgewählt werden muss, dass das Hexaarylbiimidazol nicht sensibilisiert zersetzt wird; geeignete Farbmittel können vom Fachmann durch einfache Versuche ermittelt werden oder durch Berechnungen auf Basis von Redoxdaten. Beispiele des Farbmittels sind z.B. Phthalocyaninpigmente, Azopigmente, Ruß, Titandioxid, Azofarbstoffe, Triarylmethanfarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe. Der Einsatz von Pigmenten ist vorzuziehen, da durch die Phasentrennung die Sensibilisierung des Hexaarylbiimidazols unterdrückt werden kann. Die Menge des Farbmittels beträgt vorzugsweise 0 bis 20 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,5 bis 10 Gew.%.In addition, the radiation-sensitive coating may contain dyes or pigments for coloring the layer. It goes without saying that the colorant must be selected so that the he xaarylbiimidazole does not decompose sensitized; suitable colorants can be determined by the skilled person by simple experiments or by calculations based on redox data. Examples of the colorant are, for example, phthalocyanine pigments, azo pigments, carbon black, titanium dioxide, azo dyes, triarylmethane dyes, anthraquinone dyes and cyanine dyes. The use of pigments is preferable because the phase separation can suppress the sensitization of hexaarylbiimidazole. The amount of the colorant is preferably 0 to 20% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight.

Zur Verbesserung der physikalischen Eigenschaften der gehärteten Schicht kann die strahlungsempfindliche Beschichtung außerdem weitere Additive wie Weichmacher enthalten. Geeignete Weichmacher umfassen z.B. Dibutylphthalat, Dioctylphthalat, Didodecylphthalat, Dioctyladipat, Dibutylsebakat, Triacetylglycerin und Tricresylphosphat. Die Menge an Weichmacher ist nicht besonders beschränkt, beträgt jedoch vorzugsweise 0 bis 10 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,25 bis 5 Gew.%.to Improvement of the physical properties of the cured layer For example, the radiation-sensitive coating may also contain other additives such as Contain softener. Suitable plasticizers include e.g. dibutyl phthalate, Dioctyl phthalate, didodecyl phthalate, dioctyl adipate, dibutyl sebacate, Triacetylglycerol and tricresylphosphate. The amount of plasticizer is not particularly limited is but preferably 0 to 10% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably 0.25 to 5 wt.%.

Die strahlungsempfindliche Beschichtung kann außerdem bekannte Kettenübertragungsmittel wie z. B. Mercaptobenzimidazol, 2-Mercaptobenzthiazol, 2-Mercaptobenzoxazol und 3-Mercaptotriazol enthalten. Sie werden vorzugsweise in einer Menge von 0 bis 15 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, verwendet, besonders bevorzugt 0,5 bis 5 Gew.%.The radiation sensitive coating may also include known chain transfer agents such as B. mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole and 3-mercaptotriazole. They are preferably in one Amount from 0 to 15% by weight, based on the dry layer weight, used, more preferably 0.5 to 5 wt.%.

Außerdem kann die strahlungsempfindliche Beschichtung Leucofarbstoffe enthalten, wie z.B. Leucokristallviolett und Leucomalachitgrün. Ihre Menge beträgt vorzugsweise 0 bis 10 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,5 bis 5 Gew.%.In addition, can contain the radiation-sensitive coating leuco dyes, such as. Leuco Crystal Violet and Leucomalachite Green. Your Amount is preferably 0 to 10% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably 0.5 to 5 wt.%.

Des weiteren kann die strahlungsempfindliche Beschichtung oberflächenaktive Mittel enthalten. Geeignete Beispiele sind siloxanhaltige Polymere, fluorhaltige Polymere und Polymere mit Ethylenoxid- und/oder Propylenoxidgruppen. Ihre Menge beträgt vorzugsweise 0 bis 10 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, besonders bevorzugt 0,2 bis 5 Gew.%.Of Furthermore, the radiation-sensitive coating can be surface-active Contain funds. Suitable examples are siloxane-containing polymers, fluorine-containing polymers and polymers having ethylene oxide and / or propylene oxide groups. Your amount is preferably 0 to 10% by weight, based on the dry layer weight, particularly preferably 0.2 to 5 wt.%.

Weitere optionale Bestandteile der strahlungsempfindlichen Beschichtung sind z.B. anorganische Füllstoffe, wie z.B. Al2O3 und SiO2. Sie liegen vorzugsweise in einer Menge von 0 bis 20 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht, vor, besonders bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.%.Further optional constituents of the radiation-sensitive coating are, for example, inorganic fillers, such as, for example, Al 2 O 3 and SiO 2 . They are preferably present in an amount of 0 to 20 wt.%, Based on the dry layer weight, before, particularly preferably 0.1 to 5 wt.%.

Belichtungsindikatoren, wie z.B. 4-Phenylazodiphenylamin, können ebenfalls als optionale Bestandteile der strahlungsempfindlichen Beschichtung vorhanden sein; ihre Menge beträgt vorzugsweise 0 bis 5 Gew.%, besonders bevorzugt 0 bis 2 Gew.%, bezogen auf das Trockenschichtgewicht.Exposure indicators, such as. 4-phenylazodiphenylamine, may also be optional Components of the radiation-sensitive coating available be; their amount is preferably 0 to 5 wt.%, Particularly preferably 0 to 2 wt.%, Based on the dry layer weight.

Bei der Herstellung von Druckformvorläufern wird als Träger vorzugsweise ein dimensionsbeständiges platten- bzw. folienförmiges Material verwendet. Als ein solches dimensionsbeständiges Platten- bzw. Folienmaterial wird vorzugsweise eines verwendet, das bereits bisher als Träger für Drucksachen verwendet worden ist. Zu Beispielen für einen solchen Träger gehören Papier, Papier, das mit Kunststoffen (wie Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol) beschichtet ist, eine Metallplatte oder -folie, wie z.B. Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten, Kunststofffilme aus beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat, und ein Laminat aus Papier oder einem Kunststofffilm und einem der obengenannten Metalle oder ein Papier/Kunststofffilm, der durch Aufdampfen metallisiert worden ist.at the preparation of printing form precursors is preferred as the carrier a dimensionally stable plate or foil-shaped Material used. As such a dimensionally stable plate or film material is preferably used that already previously as a carrier for printed matter has been used. Examples of such a carrier include paper, Paper made with plastics (such as polyethylene, polypropylene or Polystyrene), a metal plate or foil, such as e.g. Aluminum (including Aluminum alloys), zinc and copper plates, plastic films from, for example, cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, Cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, Polystyrene, polypropylene, polycarbonate and polyvinyl acetate, and a laminate of paper or a plastic film and one of the above Metals or a paper / plastic film that metallizes by vapor deposition has been.

Unter diesen Trägern ist eine Aluminiumplatte oder -folie besonders bevorzugt, da sie bemerkenswert dimensionsbeständig und billig ist und außerdem eine ausgezeichnete Haftung der Beschichtung zeigt. Außerdem kann eine Verbundfolie verwendet werden, bei der eine Aluminiumfolie auf einen Polyethylenterephthalatfilm auflaminiert ist.Under these carriers For example, an aluminum plate or foil is particularly preferred since it remarkably dimensionally stable and is cheap and besides shows excellent adhesion of the coating. In addition, can a composite foil used in which an aluminum foil is laminated to a polyethylene terephthalate film.

Ein Metallträger, insbesondere ein Aluminiumträger, wird vorzugsweise mindestens einer Behandlung ausgewählt aus Aufrauung (z.B. durch Bürsten im trockenen Zustand, oder Bürsten mit Schleifmittel-Suspensionen oder auf elektrochemischem Wege, z.B. mit einem Salzsäureelektrolyten), Anodisierung (z.B. in Schwefelsäure oder Phosphorsäure) und Hydrophilisierung unterworfen.One Metal support, in particular an aluminum support, is preferably selected from at least one treatment Roughening (e.g., by brushing in the dry state, or brushes with abrasive suspensions or by electrochemical means, e.g. with a hydrochloric acid electrolyte), Anodization (e.g., in sulfuric acid or phosphoric acid) and subjected to hydrophilization.

Zur Verbesserung der hydrophilen Eigenschaften der Oberfläche des aufgerauten und gegebenenfalls anodisch in Schwefel- oder Phosphorsäure oxydierten Metallträgers kann dieser einer Nachbehandlung mit einer wässrigen Lösung von Natriumsilicat, Calciumzirkoniumfluorid, Polyvinylphosphonsäure oder Phosphorsäure unterworfen werden. Im Rahmen dieser Erfindung umfasst der Ausdruck "Träger" auch einen gegebenenfalls vorbehandelten Träger, der z.B. eine hydrophilisierende Schicht auf der Oberfläche aufweist.To improve the hydrophilic properties of the surface of the roughened and optionally anodized in sulfuric or phosphoric acid oxidized metal support this can be a post-treatment with an aqueous solution of sodium silicate, calcium zirconium fluoride, polyvinylphosphonic acid or phosphorus be subjected to acid. In the context of this invention, the term "carrier" also includes an optionally pretreated carrier which has, for example, a hydrophilizing layer on the surface.

Die Details der o.g. Substratvorbehandlung sind dem Fachmann hinlänglich bekannt.The Details of the o.g. Substrate pretreatment are well known to those skilled in the art.

Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung wird zur Herstellung eines strahlungsempfindlichen Vorläufers gemäß der vorliegenden Erfindung mit üblichen Beschichtungsverfahren (z.B. Schleuderbeschichtung, Tauchbeschichtung, Beschichtung mittels Rakel) auf die Oberfläche des Trägers aufgebracht. Es ist auch möglich, die strahlungsempfindliche Zusammensetzung auf beide Seiten des Trägers aufzubringen; es ist jedoch bevorzugt, dass bei den erfindungsgemäßen Vorläufern nur auf einer Seite des Trägers eine strahlungsempfindliche Beschichtung aufgebracht wird.The radiation-sensitive composition is used to prepare a radiation-sensitive precursor according to the present Invention with conventional Coating process (e.g., spin coating, dip coating, Coating by doctor) applied to the surface of the carrier. It is also possible that apply radiation-sensitive composition on both sides of the support; however, it is preferred that in the precursors of the invention only on one side of the carrier a radiation-sensitive coating is applied.

Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung enthält dafür ein oder mehrere organische Lösungsmittel.The radiation-sensitive composition contains one or more organic Solvent.

Als Lösungsmittel sind niedere Alkohole (z.B. Methanol, Ethanol, Propanol und Butanol), Glykoletherderivate (z.B. Ethylenglykolmonomethylether, Ethylenglykoldimethylether, Propylenglykolmonomethylether, Ethylenglykolmonomethyletheracetat, Ethylenglykolmonoethyletheracetat, Propylenglykolmonomethyletheracetat, Propylenglykolmonoethyletheracetat, Ethylenglykolmonoisopropyletheracetat, Ethylenglykolmonobutyletheracetat, Diethylenglykolmonomethylether, Diethylenglykolmonoethylether), Ketone (z.B. Diacetonalkohol, Acetylaceton, Aceton, Methylethylketon, Cyclohexanon, Methyl-iso-butylketon), Ester (z.B. Methyllactat, Ethyllactat, Essigsäureethylester, 3-Methoxypropylacetat und Essigsäurebutylester), Aromate (z.B. Toluol und Xylol), Cyclohexan, Methoxymethoxyethanol, γ-Butyrolacton und dipolar aprotische Lösungsmittel (z.B. THF, Dimethylsulfoxid, Dimethylformamid und N-Methylpyrrolidon) geeignet. Der Feststoffgehalt des aufzubringenden strahlungsempfindlichen Gemisches hängt vom verwendeten Beschichtungsverfahren ab und beträgt vorzugsweise 1 bis 50 Gew.%.When solvent are lower alcohols (e.g., methanol, ethanol, propanol and butanol), Glycol ether derivatives (e.g., ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, Propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, Ethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Propylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether acetate, Ethylene glycol monobutyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, Diethylene glycol monoethyl ether), ketones (e.g., diacetone alcohol, acetylacetone, Acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone), Esters (e.g., methyl lactate, ethyl lactate, ethyl acetate, 3-methoxypropyl acetate and butyl acetate), Aromatics (e.g., toluene and xylene), cyclohexane, methoxymethoxyethanol, γ-butyrolactone and dipolar aprotic solvents (e.g., THF, dimethylsulfoxide, dimethylformamide and N-methylpyrrolidone) suitable. The solids content of the applied radiation-sensitive Mix is hanging from the coating method used and is preferably 1 to 50% by weight.

Das zusätzliche Aufbringen einer wasserlöslichen sauerstoff-sperrenden Deckschicht auf die strahlungsempfindliche Schicht kann von Vorteil sein. Zu den für die Deckschicht geeigneten Polymeren gehören u.a. Polyvinylalkohol, Polyvinylalkohol/Polyvinylacetatcopolymere, Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylpyrrolidon/Polyvinylacetatcopolymere, Polyvinylmethylether, ring-geöffnete Copolymere von Maleinsäureanhydrid und einem Comonomer wie Methylvinylether, Polyacrylsäure, Celluloseether, Gelatine etc.; bevorzugt ist Polyvinylalkohol. Vorzugsweise wird die Zusammensetzung für die sauerstoffsperrende Deckschicht in Form einer Lösung in Wasser oder einem mit Wasser mischbaren Lösungsmittel aufgebracht; auf jeden Fall wird das Lösungsmittel so ausgewählt, dass sich die bereits vorhandene strahlungsempfindliche Beschichtung dabei nicht auflöst. Das Schichtgewicht der Deckschicht kann z.B. 0,1 bis 6 g/m2 betragen, und besonders bevorzugt 0,5 bis 4 g/m2. Die erfindungsgemäßen Druckplattenvorläufer haben jedoch auch ohne Deckschicht exzellente Eigenschaften. Die Deckschicht kann auch Mattierungsmittel (d.h. organische oder anorganischen Partikel mit 2 bis 20 μm Teilchengröße) enthalten, die bei Kontaktbe lichtung die Planlage des Films erleichtern. Um die Haftung der Deckschicht auf der strahlungsempfindlichen Schicht zu verbessern, kann die Deckschicht Haftvermittler, wie z.B. Poly(vinylpyrrolidon), Poly(ethylenimin) und Poly(vinylimidazol), enthalten.The additional application of a water-soluble oxygen barrier layer on the radiation-sensitive layer may be advantageous. Suitable polymers for the topcoat include polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol / polyvinyl acetate copolymers, polyvinyl pyrrolidone, polyvinyl pyrrolidone / polyvinyl acetate copolymers, polyvinyl methyl ethers, ring-opened copolymers of maleic anhydride and a comonomer such as methyl vinyl ether, polyacrylic acid, cellulose ether, gelatin, etc .; preferred is polyvinyl alcohol. Preferably, the oxygen barrier topcoat composition is applied in the form of a solution in water or a water miscible solvent; In any case, the solvent is selected so that the already existing radiation-sensitive coating does not dissolve. The coating weight of the covering layer may be, for example, 0.1 to 6 g / m 2 , and particularly preferably 0.5 to 4 g / m 2 . However, the printing plate precursors according to the invention have excellent properties even without a cover layer. The topcoat may also contain matting agents (ie, organic or inorganic particles of 2 to 20 microns in particle size) which, when exposed to contact, facilitate the flatness of the film. In order to improve the adhesion of the cover layer to the radiation-sensitive layer, the cover layer may contain adhesion promoters such as poly (vinylpyrrolidone), poly (ethyleneimine) and poly (vinylimidazole).

Geeignete Deckschichten sind z.B. in WO 99/06890 beschrieben.suitable Cover layers are e.g. in WO 99/06890.

Die so hergestellten strahlungsempfindlichen Druckplattenvorläufer werden in der dem Fachmann bekannten Weise mit UV-Strahlung (vorzugsweise 250-450 nm) bildweise belichtet und anschließend mit einem handelsüblichen wässrigen alkalischen Entwickler entwickelt. Als Strahlungsquelle können z. B. Metallhalogeniddotierte Quecksilberlampen und UV-Licht emittierende Dioden (UV-LED) verwendet werden. Von besonderem Interesse sind als Strahlungsquelle UV-Laserdioden, die UV-Strahlung im Bereich um 405 nm emittieren (z.B. 405 ± 10 nm). Nach dem bildweisen Belichten, d.h. vor dem Entwickeln, kann eine Wärmebehandlung bei 50 bis 180°C, vorzugsweise 90-150°C, vorgenommen werden. Die entwickelten Elemente können auf übliche Weise mit einem Konservierungsmittel ("Gummierung") behandelt werden. Die Konservierungsmittel sind wässrige Lösungen von hydrophilen Polymeren, Netzmitteln und weiteren Zusätzen.The thus prepared radiation-sensitive printing plate precursor in the manner known to those skilled in the art with UV radiation (preferably 250-450 nm) imagewise exposed and then with a commercial aqueous developed alkaline developer. As a radiation source z. B. Metallhalogeniddotierte mercury lamps and UV-emitting light Diodes (UV LED) can be used. Of particular interest are as a radiation source UV laser diodes, the UV radiation in the field around 405 nm (e.g., 405 ± 10 nm). After the picturewise Exposure, i. Before developing, a heat treatment at 50 to 180 ° C, preferably 90-150 ° C, be made. The developed elements can be treated in the usual way with a preservative ("Gumming"). The preservatives are aqueous solutions of hydrophilic polymers, wetting agents and other additives.

Es ist weiterhin günstig, die mechanische Festigkeit der nach der Entwicklung verbliebenen Beschichtungsteile durch eine Wärmebehandlung (sogenanntes „Einbrennen") und/oder Kombination von Einbrennen und Flutbelichtung (z.B. mit UV-Licht) zu erhöhen. Dazu wird vor dieser Behandlung der entwickelte Vorläufer zunächst mit einer Lösung behandelt, die die Nichtbildstellen so schützt, dass die Wärmebehandlung keine Farbannahme dieser Bereiche hervorruft. Eine hierfür geeignete Lösung ist z.B. in US-A-4,355,096 beschrieben. Das Einbrennen wird bei einer Temperatur im Bereich von 150-250°C vorgenommen. Druckplatten, die aus erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen Vorläufern hergestellt wurden, zeigen jedoch auch ohne Wärmebehandlung hervorragende Eigenschaften. Wird sowohl eingebrannt als auch flutbelichtet, können die beiden Behandlungsschritte gleichzeitig oder nacheinander erfolgen.It is furthermore favorable to increase the mechanical strength of the coating parts remaining after the development by a heat treatment (so-called "burn-in") and / or combination of burn-in and flood exposure (eg with UV light) treated with a solution which protects the non-image areas such that the heat treatment does not cause color acceptance of these areas, a suitable solution being described for example in US-A-4 355 096. The baking is carried out at a temperature in the range 150-250 ° C. Printing plates, the have been prepared from radiation-sensitive precursors according to the invention, but show excellent properties even without heat treatment. If both burned and flood-exposed, the two treatment steps can be carried out simultaneously or in succession.

Die strahlungsempfindlichen Druckplattenvorläufer gemäß der vorliegenden Erfindung zeichnen sich durch ausgezeichnete Stabilität bei Gelblichtbedingungen, hohe Lichtempfindlichkeit und ausgezeichnetes Auflösungsvermögen bei gleichzeitig guter Lagerbeständigkeit aus. Die entwickelten Druckplatten zeigen ausgezeichnete Abriebbeständigkeit, wodurch hohe Auflagen möglich sind.The radiation-sensitive printing plate precursor according to the present invention are characterized by excellent stability in yellow light conditions, high photosensitivity and excellent resolving power at the same time good storage stability out. The developed printing plates show excellent abrasion resistance, which makes high circulation possible are.

Die Erfindung wird an Hand der nachfolgenden Beispiele näher erläutert.The The invention will be explained in more detail with reference to the following examples.

BeispieleExamples

Herstellungsbeispiele 1-3Preparation Examples 1-3

0,2 mol Methylacetoacetat (erhältlich von Aldrich), 0,1 mol des Aldehyds, der dem 4-Substituent entspricht, und 0,11 mol Ammoniumacetat wurden in 30 ml Methanol gelöst. Dieses Gemisch wurde 3 Stunden zum Sieden erhitzt. Der nach dem Abkühlen gebildete Niederschlag wurde abfiltriert und in einem Vakuumofen einen Tag bei 40°C getrocknet. Die Produkte wurden dann in Lösungsmitteln oder Lösungsmittelgemischen wie in Tabelle 1 angegeben umkristallisiert. Die 1,4-Dihydropyridinstruktur wurde durch UV-Spektren (Absorptionswellenlänge A und Extinktionskoeffizient ε siehe Tabelle 1), aufgenommen in Methanol, bestätigt.0.2 mol of methyl acetoacetate (available from Aldrich), 0.1 mol of the aldehyde corresponding to the 4-substituent, and 0.11 mol of ammonium acetate were dissolved in 30 ml of methanol. This Mixture was heated to boiling for 3 hours. The formed after cooling Precipitate was filtered off and placed in a vacuum oven one day at 40 ° C dried. The products were then dissolved in solvents or solvent mixtures such as recrystallized in Table 1. The 1,4-dihydropyridine structure was determined by UV spectra (Absorption wavelength A and extinction coefficient ε see Table 1) recorded in methanol.

Tabelle 1

Figure 00270001
Table 1
Figure 00270001

Figure 00280001
Figure 00280001

Herstellungsbeispiel 4Production Example 4

3,3',6,6'-Tetramethyl-9-phenyl-1,2,3,4,5,6,7,8,9,10-decahydroacridin-1,8-dion3,3 ', 6,6'-tetramethyl-9-phenyl-1,2,3,4,5,6,7,8,9,10-decahydroacridin-1,8-dione

5,3 g Benzaldehyd, 14 g 5,5-Dimethyl-1,3-cyclohexandion (erhältlich von Aldrich) und 4,5 g Ammoniumacetat wurden in 35 ml Methanol gelöst. Dieses Gemisch wurde 5 Stunden zum Sieden erhitzt. Der nach dem Abkühlen gebildete Niederschlag wurde abfiltriert, aus Methanol umkristallisiert und im Vakuumofen einen Tag lang bei 40°C getrocknet. Ausbeute: 13,4 g (77 %); Schmelzpunkt: 275-277 °C; λ = 375 nm; ε = 25,4 l/g × cm.5.3 g of benzaldehyde, 14 g of 5,5-dimethyl-1,3-cyclohexanedione (available from Aldrich) and 4.5 g of ammonia Umacetat were dissolved in 35 ml of methanol. This mixture was heated to boiling for 5 hours. The precipitate formed after cooling was filtered off, recrystallized from methanol and dried in a vacuum oven at 40 ° C for one day. Yield: 13.4 g (77%); Melting point: 275-277 ° C; λ = 375 nm; ε = 25.4 l / g × cm.

Beispiele 1 bis 4 und Vergleichsbeispiele 1 bis 6Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6

Belichtung mit einer Ga-dotierten MH-LampeExposure with a Ga-doped MH Lamp

Eine elektrochemisch (in HCl) aufgeraute und anodisierte Aluminiumfolie wurde einer Behandlung mit einer wässrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure (PVPA) unterzogen und nach dem Trocknen mit einer wie in Tabelle 2 beschriebenen Lösung beschichtet und getrocknet.A electrochemically (in HCl) roughened and anodized aluminum foil was treated with an aqueous solution of polyvinylphosphonic acid (PVPA) and dried after drying as described in Table 2 solution coated and dried.

Tabelle 2

Figure 00290001
Table 2
Figure 00290001

Die Lösung wurde filtriert, auf den lithographischen Träger aufgebracht und die Beschichtung 4 Minuten bei 90°C getrocknet. Das Trockenschichtgewicht der Photopolymerschicht betrug etwa 1,6 g/m2.The solution was filtered, applied to the lithographic support and the coating dried at 90 ° C for 4 minutes. The dry layer weight of the photopolymer layer was about 1.6 g / m 2 .

Die erhaltenen Proben wurden durch Beschichten mit einer wässrigen Lösung von Poly(vinylalkohol) (Airvol 203 von Airproducts, mit einem Hydrolysegrad von 88 %) mit einer Deckschicht versehen; die Deckschicht wies nach dem Trocknen bei 90°C für 4 Minuten ein Trockenschichtgewicht von etwa 2 g/m2 auf.The resulting samples were topcoated by coating with an aqueous solution of poly (vinyl alcohol) (Airvol 203 from Airproducts, with a degree of hydrolysis of 88%); the topcoat after drying at 90 ° C for 4 minutes had a dry film weight of about 2 g / m 2 .

Der Druckplattenvorläufer wurde mit einer Ga-dotierten MH-Lampe mit einer Energie von 1,7 mJ/cm2 in einem Vakuumrahmen belichtet, wobei ein Graukeil mit einer Dichte im Bereich von 0,15 bis 1,95 verwendet wurde, dessen Dichteinkremente 0,15 betrugen (UGRA Keil). Unmittelbar nach dem Belichten wurde die Platte für 2 Minuten in einem Ofen bei 90°C erhitzt.The printing plate precursor was coated with a Ga doped MH lamp having an energy of 1.7 mJ / cm 2 in a vacuum frame, using a gray wedge with a density in the range of 0.15 to 1.95, whose density increments were 0.15 (UGRA wedge). Immediately after exposure, the plate was heated in an oven at 90 ° C for 2 minutes.

Anschließend wurde die belichtete Platte 30 Sekunden mit einer Entwicklerlösung behandelt, welche folgende Komponenten enthielt:
3,4 Gewichtsteile Rewopol NLS 28® (erhältlich von REWO)
1,1 Gewichtsteile Diethanolamin
1,0 Gewichtsteile Texapon 842® (erhältlich von Henkel)
0,6 Gewichtsteile Nekal BX Paste® (erhältlich von BASF)
0,2 Gewichtsteile 4-Toluolsulfonsäure und
93,7 Gewichtsteile Wasser
Subsequently, the exposed plate was treated for 30 seconds with a developing solution containing the following components:
3.4 parts by weight Rewopol NLS 28 ® (available from REWO)
1.1 parts by weight of diethanolamine
1.0 parts by weight Texapon 842 ® (available from Henkel)
0.6 parts by weight Nekal BX Paste ® (available from BASF)
0.2 parts by weight of 4-toluenesulfonic acid and
93.7 parts by weight of water

Anschließend wurde die Entwicklerlösung nochmals 30 Sekunden mit einem Tampon auf der Oberfläche verrieben und dann die gesamte Platte mit Wasser abgespült. Nach dieser Behandlung verblieben die belichteten Teile auf der Platte. Zur Beurteilung der Lichtempfindlichkeit wurde die Platte im nassen Zustand mit einer Druckfarbe eingeschwärzt.Subsequently was the developer solution rubbed for another 30 seconds with a tampon on the surface and then rinse the entire plate with water. After this treatment the exposed parts remained on the plate. For evaluation the photosensitivity was the plate in the wet state with a Ink blackened.

Zur Beurteilung der Lagerbeständigkeit der Platten wurden die unbelichteten Druckplattenvorläufer 60 Minuten bei 90°C in einem Ofen gelagert, dann belichtet und wie vorstehend beschrieben entwickelt (Lagerbeständigkeitstest).to Assessment of storage stability The plates became the unexposed printing plate precursors for 60 minutes at 90 ° C stored in an oven, then exposed and as described above developed (storage life test).

Zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte wurde eine bildgebende Schicht auf eine Aluminiumfolie wie vorstehend beschrieben aufgebracht, belichtet, erhitzt, entwickelt und nach dem Spülen mit Wasser die entwickelte Platte abgerieben und mit einer wässrigen Lösung von 0,5 % Phosphorsäure und 6 % Gummiarabikum gummiert. Die so hergestellte Platte wurde in eine Bogenoffsetdruckmaschine eingespannt und eine abrasive Druckfarbe (Offset S 7184 erhältlich von Sun Chemical, enthaltend 10% Kaliumcarbonat) verwendet.to Preparation of a lithographic printing plate was an imaging Layer applied to an aluminum foil as described above, exposed, heated, developed and developed after rinsing with water Abraded plate and with an aqueous solution of 0.5% phosphoric acid and Rubberized 6% gum arabic. The plate thus produced was in a sheetfed offset press clamped and an abrasive ink (Offset S 7184 available from Sun Chemical containing 10% potassium carbonate).

Die Ergebnisse sind in Tabelle 3 zusammengefasst.The Results are summarized in Table 3.

Figure 00310001
Figure 00310001

Beispiel 5 und Vergleichsbeispiel 7Example 5 and Comparative Example 7

Belichtung mit einer 405 nm LaserdiodeExposure with a 405 nm laser diode

Für Beispiel 5 wurde die gleiche Beschichtungszusammensetzung verwendet wie in Beispiel 4. Für Vergleichsbeispiel 7 wurde die gleiche Beschichtungszusammensetzung verwendet wie in Vergleichsbeispiel 1. Beide Platten wurden unter Verwendung des UGRA-Graukeils mit einer bei 405 nm emittierenden Laserdiode mit einer Energie von 300 μJ/cm2 belichtet. Die Platten wurden dann wie bei Beispiel 1 bis 4 und Vergleichsbeispiel 1 bis 6 beschrieben entwickelt.For Example 5, the same coating composition was used as in Example 4. For Comparative Example 7, the same coating composition was used as in Comparative Example 1. Both plates were coated using the UGRA gray wedge with a 405 nm emitting laser diode with an energy of 300 μJ / cm 2 exposed. The plates were then developed as described in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 6.

Es wurden die folgenden Ergebnisse erhalten:
Beispiel 5: Graukeil 3/7; Graukeil 3/7 für die Platte nach der Lagerung bei 90°C für 60 Minuten
Vergleichsbeispiel 7: Es wurde kein Bild erhalten
The following results were obtained:
Example 5: gray wedge 3/7; Gray wedge 3/7 for the plate after storage at 90 ° C for 60 minutes
Comparative Example 7: No image was obtained

Die erfindungsgemäßen Beispiele belegen den synergistischen Effekt der Kombination von 1,4-Dihydropyridinen mit Hexaarylbiimidazolen bei der Initiierung der radikalischen Polymerisation; die strahlungsempfindlichen Beschichtungen zeichnen sich durch eine sehr hohe Empfindlichkeit aus.The inventive examples demonstrate the synergistic effect of the combination of 1,4-dihydropyridines with hexaarylbiimidazoles in the initiation of radical polymerization; The radiation-sensitive coatings are characterized by a very high sensitivity.

Claims (11)

Negativ arbeitender Vorläufer einer Lithographiedruckplatte, umfassend (a) einen gegebenenfalls vorbehandelten Träger und (b) eine auf den Träger aufgebrachte strahlungsempfindliche Beschichtung aus einer Zusammensetzung, umfassend (i) ein oder mehrere Arten Monomere und/oder Oligomere und/oder Polymere mit jeweils mindestens einer ethylenisch ungesättigten Gruppe, die einer radikalischen Polymerisation zugänglich ist, (ii) mindestens einen Sensibilisator, (iii) mindestens einen Co-Initiator, der zusammen mit dem Sensibilisator (ii) Radikale bilden kann und ausgewählt wird aus Hexaarylbiimidazolen; und (iv) gegebenenfalls ein oder mehrere Komponenten ausgewählt aus alkalilöslichen Bindemitteln, Farbmitteln, Belichtungsindikatoren, Weichmachern, Kettenübertragungsmitteln, Leucofarbstoffen, oberflächenaktiven Mitteln, anorganischen Füllstoffen und Thermopolymerisationsinhibitoren, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei dem mindestens einen Sensibilisator um ein 1,4-Dihydropyridin-Derivat der Formel (I) handelt
Figure 00330001
wobei R1 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, -C(O)OR7, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls substituierten Arylresten, CN und einem Wasserstoffatom, R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus -C(O)OR7, -C(O)R7, -C(O)NR8R9 und CN, oder R2 und R4 zusammen einen gegebenenfalls substituierten Phenylring oder einen 5-7-gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bilden, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 des 1,4-Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00340001
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist, oder sowohl R2 mit R4 als auch R3 mit R5 beide entweder gegebenenfalls substituierte Phenylringe oder beide 5-7-gliedrige carbocyclische oder heterocyclische Ringe bilden, wobei in den carbocyclischen oder heterocyclischen Ringen, benachbart zu Position 3 und 5 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00340002
vorliegt und die carbocyclischen oder heterocyclischen Ringe gegebenenfalls weitere Substituenten aufweisen, oder eines der Paare R2/R4 und R3/R5 einen 5-7gliedrigen carbocyclischen oder heterocyclischen Ring bildet, wobei in dem carbocyclischen oder heterocyclischen Ring, benachbart zu Position 5 bzw. 3 des Dihydropyridin-Rings, die Einheit
Figure 00340003
vorliegt und der carbocyclische oder heterocyclische Ring gegebenenfalls weitere Substituenten aufweist, und das andere Paar einen gegebenenfalls substituierten Phenylring bildet, oder R2 mit R1 oder R3 mit R1 einen 5- bis 7-gliedrigen heterocyclischen Ring bildet, der gegebenenfalls ein oder mehrere Substituenten aufweisen kann und der gegebenenfalls neben dem Stickstoffatom, das er mit dem 1,4-Dihydropyridinring gemeinsam hat, weitere Stickstoffatome, -NR13-Gruppen, -S- oder -O- aufweist, R13 ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem Alkylrest, Arylrest und Aralkylrest, R6 ausgewählt wird aus einem gegebenenfalls mit einem Halogenatom oder einer -C(O)-Gruppe substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest, einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, einem gegebenenfalls substituierten heterocyclischen Rest und dem Rest
Figure 00350001
Y ein Alkandiyl oder Arylenrest ist, R7 ein Wasserstoffatom, Arylrest, ein Aralkylrest oder ein Alkylrest ist, wobei der Alkylrest und die Alkyleinheit des Aralkylrests gegebenenfalls ein oder mehrere C-C-Doppel- und/oder C-C-Dreifachbindungen enthalten, und R8 und R9 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem gegebenenfalls substituierten Alkylrest, einem gegebenenfalls substituierten Arylrest und einem gegebenenfalls substituierten Aralkylrest, mit der Maßgabe, daß der Sensibilisator der Formel (I) keine nitroaromatische Verbindung ist.
A negative-working precursor of a lithographic printing plate comprising (a) an optionally pretreated support and (b) a radiation-sensitive coating of a composition applied to the support comprising (i) one or more types of monomers and / or oligomers and / or polymers each having at least one (ii) at least one sensitizer, (iii) at least one co-initiator capable of forming radicals together with the sensitizer (ii) selected from hexaarylbiimidazoles; and (iv) optionally one or more components selected from alkali-soluble binders, colorants, exposure indicators, plasticizers, chain transfer agents, leuco dyes, surfactants, inorganic fillers and thermopolymerization inhibitors, characterized in that the at least one sensitizer is a 1,4-dihydropyridine Derivative of formula (I)
Figure 00330001
wherein R 1 is selected from hydrogen, -C (O) OR 7 , optionally substituted alkyl, optionally substituted aryl, and optionally substituted aralkyl, R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl, optionally substituted aryl, CN and a hydrogen atom, R 4 and R 5 are independently selected from -C (O) OR 7 , -C (O) R 7 , -C (O) NR 8 R 9 and CN, or R 2 and R 4 together form an optionally substituted phenyl ring or a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring, wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring, adjacent to position 5 of the 1,4-dihydropyridine ring, the moiety
Figure 00340001
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally further substituents, or both R 2 with R 4 and R 3 with R 5 are both either optionally substituted phenyl rings or both Form 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic rings, wherein in the carbocyclic or heterocyclic rings adjacent to positions 3 and 5 of the dihydropyridine ring, the moiety
Figure 00340002
is present and the carbocyclic or heterocyclic rings optionally have further substituents, or one of the pairs R 2 / R 4 and R 3 / R 5 forms a 5-7 membered carbocyclic or heterocyclic ring, wherein in the carbocyclic or heterocyclic ring, adjacent to position 5 or 3 of the dihydropyridine ring, the unit
Figure 00340003
is present and the carbocyclic or heterocyclic ring optionally further substituents, and the other pair forms an optionally substituted phenyl ring, or R 2 with R 1 or R 3 with R 1 forms a 5- to 7-membered heterocyclic ring, optionally one or more Substituents may have and which optionally in addition to the nitrogen atom, which it shares with the 1,4-dihydropyridine has further nitrogen atoms, -NR 13 groups, -S- or -O-, R 13 is selected from a hydrogen atom, an alkyl radical , Aryl group and aralkyl group, R 6 is selected from an alkyl group optionally substituted with a halogen atom or a C (O) group, an optionally substituted aryl group, an optionally substituted aralkyl group, an optionally substituted heterocyclic group and the rest
Figure 00350001
Y is an alkanediyl or arylene radical, R 7 is a hydrogen atom, aryl radical, an aralkyl radical or an alkyl radical, wherein the alkyl radical and the alkyl moiety of the aralkyl radical optionally contain one or more CC double and / or C-C triple bonds, and R 8 and R 9 are independently selected from hydrogen, optionally substituted alkyl, optionally substituted aryl and optionally substituted aralkyl, provided that the sensitizer of formula (I) is not a nitroaromatic compound.
Vorläufer gemäß Anspruch 1, wobei als Sensibilisator ein 1,4-Dihydropyridin-Derivat der Formel (I) eingesetzt wird, in der R2 und R3 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus gegebenenfalls substituierten Alkylresten, gegebenenfalls substituierten Arylresten, CN und einem Wasserstoffatom und R4 und R5 unabhängig voneinander ausgewählt werden aus -C(O)OR7, -C(O)R7, -C(O)NR8R9 und CN, wobei R7, R8 und R9 wie in Anspruch 1 definiert sind.A precursor according to claim 1, wherein the sensitiser used is a 1,4-dihydropyridine derivative of the formula (I) in which R 2 and R 3 are independently selected from optionally substituted alkyl radicals, optionally substituted aryl radicals, CN and a hydrogen atom and R 4 and R 5 are independently selected from -C (O) OR 7 , -C (O) R 7 , -C (O) NR 8 R 9 and CN, wherein R 7 , R 8 and R 9 are as in claim 1 are defined. Vorläufer gemäß Anspruch 1, wobei es sich bei dem Sensibilisator um ein 1,4-Dihydropyridin der Formel (Ia)
Figure 00360001
wobei R1 und R6 wie in Anspruch 1 definiert sind, die Reste R8a bis R8d und R9a bis R9d unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten und Arylresten ausgewählt werden, wobei 2 Reste R9 bzw. R8 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen gesättigten oder ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können, jedes Z unabhängig aus CR13 2, O, S und NR13 ausgewählt wird und jedes R13 unabhängig ein Wasserstoffatom, ein Alkyl-, Aralkyl- oder Arylrest ist, der Formel (Ib)
Figure 00370001
wobei R1 und R6 wie vorstehend definiert sind, R10a bis R10d und R11a bis R11d unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen, CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13, ausgewählt wird, wobei zwei Reste R11 bzw. R10 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können, und jedes R13 unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, Arylrest oder Aralkylrest bedeutet, der Formel (Ic)
Figure 00370002
wobei R1, R3, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind, die Reste R9a bis R9f unabhängig aus einem Wasserstoffatom, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen, CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13, ausgewählt wird, wobei 2 Reste R9 von benachbarten Ringkohlenstoffatomen auch miteinander einen gesättigten oder ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können, und R13 unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, Arylrest oder Aralkylrest bedeutet, der Formel (Id)
Figure 00380001
wobei jedes R1, R2, R3, R4 und R5 unabhängig wie in Anspruch 1 definiert ist und Y ausgewählt wird aus Alkandiyl und Arylen, der Formel (Ie)
Figure 00380002
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R9a bis R9f wie vorstehend die Reste R9a bis R9d Von Formel (Ia) definiert sind, der Formel (If)
Figure 00390001
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind und die Reste R9a bis R9h wie vorstehend die Reste R9a bis R9d von Formel (Ia) definiert sind und der Formel (Ig)
Figure 00390002
wobei R2, R4, R5 und R6 wie vorstehend definiert sind, die Reste R11 bis R11d unabhängig aus Wasserstoff, Alkylresten, Arylresten, Aralkylresten, Halogenatomen, CN, NR13 2, C(O)OR13 und OR13 ausgewählt werden, wobei 2 benachbarte Reste R11 zusammen auch einen ungesättigten carbocyclischen oder heterocyclischen Ring oder ankondensierten aromatischen Ring bilden können, und R13 unabhängig ein Wasserstoffatom, einen Alkylrest, einen Arylrest oder einen Aralkylrest bedeutet.
A precursor according to claim 1, wherein the sensitizer is a 1,4-dihydropyridine of the formula (Ia)
Figure 00360001
wherein R 1 and R 6 are as defined in claim 1, the radicals R 8a to R 8d and R 9a to R 9d are independently selected from hydrogen, alkyl radicals and aryl radicals, where 2 radicals R 9 and R 8 of adjacent ring carbon atoms also each Z is independently selected from CR 13 2 , O, S, and NR 13 , and each R 13 is independently a hydrogen atom, an alkyl, aralkyl, or aryl radical; of the formula (Ib)
Figure 00370001
wherein R 1 and R 6 are as defined above, R 10a to R 10d and R 11a to R 11d are independently selected from hydrogen, alkyl, aryl, aralkyl, halogen, CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 in which two radicals R 11 and R 10 of adjacent ring carbon atoms can also together form an unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring, and each R 13 independently represents a hydrogen atom, an alkyl radical, aryl radical or aralkyl radical of the formula ( Ic)
Figure 00370002
wherein R 1 , R 3 , R 5 and R 6 are as defined above, R 9a to R 9f are independently selected from hydrogen, alkyl, aryl, aralkyl, halogen, CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 , wherein 2 R 9 of adjacent ring carbon atoms may also together form a saturated or unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring, and R 13 is independently hydrogen, alkyl, aryl or aralkyl, of the formula (Id )
Figure 00380001
wherein each of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 is independently defined as in claim 1 and Y is selected from alkanediyl and arylene of formula (Ie)
Figure 00380002
where R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 9a to R 9f are as defined above the radicals R 9a to R 9d of formula (Ia) of the formula (If)
Figure 00390001
where R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above and the radicals R 9a to R 9h are as defined above the radicals R 9a to R 9d of formula (Ia) and of the formula (Ig)
Figure 00390002
wherein R 2 , R 4 , R 5 and R 6 are as defined above, the radicals R 11 to R 11d independently of hydrogen, alkyl radicals, aryl radicals, aralkyl radicals, halogen atoms, CN, NR 13 2 , C (O) OR 13 and OR 13 , wherein two adjacent radicals R 11 may together also form an unsaturated carbocyclic or heterocyclic ring or fused aromatic ring, and R 13 independently represents a hydrogen atom, an alkyl radical, an aryl radical or an aralkyl radical.
Vorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Co-Initiator (iii) ausgewählt wird aus 2,2-Bis-(2-chlorphenyl-4,5,4',5'-tetraphenyl-2'H[1,2']biimidazol und 2,2'-Bis-(2-chlorphenyl)-4,4',5,5'-tetra(m-methoxyphenyl)-biimidazol.precursor according to one the claims 1 to 3, wherein the co-initiator (iii) is selected from 2,2-bis (2-chlorophenyl-4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-2'H [1,2'] biimidazole and 2 , 2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) biimidazole. Vorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Zusammensetzung zusätzlich ein oder mehrere Kettenübertragungsmittel enthält.precursor according to one the claims 1 to 4, wherein the composition additionally comprises one or more chain transfer agents contains. Vorläufer gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei es sich bei dem Träger um eine Aluminiumfolie oder -platte handelt.precursor according to one the claims 1 to 5, wherein the carrier is an aluminum foil or plate acts. Vorläufer gemäß Anspruch 6, wobei die Aluminiumplatte oder -folie vor der Beschichtung mindestens einer Behandlung, ausgewählt aus Aufrauen, Anodisieren und Hydrophilisieren, unterzogen wurde.precursor according to claim 6, wherein the aluminum plate or foil prior to coating at least one Treatment, selected from roughening, anodizing and hydrophilizing. Vorläufer nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei der Vorläufer außerdem eine sauerstoffsperrende Deckschicht aufweist.precursor according to one of the claims 1 to 7, wherein the precursor Furthermore having an oxygen barrier cover layer. Verfahren zum Bebildern eines negativ arbeitenden Vorläufers einer Lithographiedruckplatte, umfassend (a) Bereitstellen eines wie in einem der Ansprüche 1 bis 8 definierten negativ arbeitenden Vorläufers einer Lithographiedruckplatte; (b) bildweises Bestrahlen des Vorläufers mit UV-Strahlung; (c) gegebenenfalls Erwärmen des bildweise bestrahlten Vorläufers; (d) Entfernen der nichtbestrahlten Bereiche der Beschichtung mit einem wäßrigen alkalischen Entwickler; (e) gegebenenfalls Erwärmen und/oder Flutbelichten des entwickelten Vorläufers.Process for imaging a negative working precursor a lithographic printing plate comprising (a) Provide one as in any of the claims 1 to 8 defined negative-working precursor of a lithographic printing plate; (B) imagewise irradiation of the precursor with UV radiation; (c) optionally heating the imagewise irradiated precursor; (D) Remove the non-irradiated areas of the coating with a aqueous alkaline Developer; (e) optionally heating and / or flood exposure of the developed precursor. Verfahren gemäß Anspruch 9, wobei die bildweise Bestrahlung mit UV-Strahlung einer Wellenlänge aus dem Bereich von 250-450 nm vorgenommen wird.Method according to claim 9, wherein the imagewise exposure to UV radiation of a wavelength in the range of 250-450 nm. Bebilderte Lithographiedruckplatte, erhältlich nach dem Verfahren von Anspruch 9 oder 10.Illustrated lithographic printing plate available after the method of claim 9 or 10.
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