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DE10325768A1 - Beschichtungssystem für Glasoberflächen, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Anwendung - Google Patents

Beschichtungssystem für Glasoberflächen, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Anwendung Download PDF

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DE10325768A1
DE10325768A1 DE2003125768 DE10325768A DE10325768A1 DE 10325768 A1 DE10325768 A1 DE 10325768A1 DE 2003125768 DE2003125768 DE 2003125768 DE 10325768 A DE10325768 A DE 10325768A DE 10325768 A1 DE10325768 A1 DE 10325768A1
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DE
Germany
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tio
coating
coating system
silane
layer
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DE2003125768
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English (en)
Inventor
Martina Dr. Hüber
Bernd Dr. Proft
Martin Dehnen
Petra Grünberg
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Chemetall GmbH
Venator Germany GmbH
Original Assignee
Sachtleben Chemie GmbH
Chemetall GmbH
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Publication date
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Abstract

Beschrieben wird ein Beschichtungssystem, enthaltend TiO2 und eine auf Silanen und/oder Siloxanen basierende Beschichtung. Die Herstellung des Beschichtungssystems erfolgt dadurch, dass auf ein Substrat eine TiO2-Beschichtung und anschließend eine Silanbeschichtung aufgebracht wird. Verwendung findet das Beschichtungssystem bei der Herstellung "selbstreinigender" bzw. pflegeleichter Oberflächen (z. B. Glasoberflächen) und der Erzeugung von Oberflächen mit schaltbaren hydrophoben und hydrophilen Eigenschaften, z. B. bei der Herstellung von Druckplatten oder Trommeln, die mit UV-Strahlung beschrieben werden.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Beschichtungssystem für Glasoberflächen, ein Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Anwendung.
  • Zur Veredelung von Glasoberflächen (z.B. von Floatglas, von vorgespanntem, teilvorgespanntem, gehärtetem oder gebogenem Glas) werden auf Silanen und/oder Siloxanen basierende Lösungen eingesetzt, mit denen die Glasoberfläche beschichtet wird. In der Patentschrift EP 0783464 B1 ist eine solche Mischung zum Behandeln von siliciumhaltigen Substraten beschrieben. Diese Mischung wird auch unter dem Namen Crystal Guard® vertrieben. Durch das Aufbringen von Crystal Guard® auf eine Glasoberfläche verändert sich deren Oberflächeneigenschaften: Die Glasoberfläche wird wasserabweisend (hydrophob). Dies äußert sich darin, dass sich auf der Glasoberfläche befindliches Wasser zu Tropfen zusammenzieht, so dass es leichter abperlen kann. Beim Abperlen nimmt das Wasser Schmutzpartikel auf und trägt diese ab. Die Anschmutzung der Glasoberfläche wird dadurch reduziert. Aufgrund der veränderten Oberflächeneigenschaften lässt sich das Glas ferner leichter reinigen ("easy-to-clean"-Effekt). Weiterhin wird die Glasoberfläche durch die in der EP 0783464 B1 beschriebene Mischung vorteilhafter Weise dauerhaft vor Glaskorrosion geschützt.
  • Von Nachteil bei dieser Art der Beschichtung ist, dass kleinere Wassertropfen auf der Glasoberfläche haften bleiben und nach dem Eintrocknen Flecken hinterlassen.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, die Nachteile des Standes der Technik zu überwinden, das bekannte Beschichtungssystem zu verbessern und insbesondere ein Beschichtungssystem zu entwickeln, das über "selbstreinigende" Eigenschaften verfügt und das sich in einfacher Weise auf eine Glasoberfläche aufbringen lässt.
  • Gelöst wird die Aufgabe durch ein Beschichtungssystem, welches TiO2 (bevorzugt in der Anatasform) und eine auf Silanen und/oder Siloxanen basierende Beschichtung enthält.
  • Überraschend wurde gefunden, dass das Auftragen einer auf Silanen und/oder Siloxanen basierenden Beschichtung, wie z.B. Crystal Guard®, auf einen fotokatalytisch aktivierbare Titandioxid-Beschichtung unerwartete Eigenschaften der Beschichtungskombination hervorruft.
  • Fotokatalytisch aktive Titandioxid-Beschichtungen sind bekannt dafür, dass sie die fotokatalytische Aktivität nach Aktivierung durch UV-Licht entfalten und hydrophile Eigenschaften aufweisen. Aufgrund der fotokatalytischen Aktivität werden organische Verbindungen, wie z.B. Schmutz, abgebaut. Fotokatalytisch aktive TiO2-Beschichtungen haben demnach "selbstreinigende" Eigenschaften. Erfolgt keine weitere Aktivierung der TiO2-Beschichtung durch UV-Licht, gehen die fotokatalytische Aktivität und somit sowohl die Schmutz abbauenden Eigenschaften als auch die hydrophilen Eigenschaften verloren. Die Beschichtung zeigt dann keine Wirkung mehr.
  • In der Kombination von TiO2 und einer auf Silanen und/oder Siloxanen basierenden Beschichtung, wie sie das erfindungsgemäße Beschichtungssystem darstellt, führt eine Aktivierung der fotokatalytischen Eigenschaften der TiO2-Beschichtung durch UV-Licht entgegen den Erwartungen eben nicht zum fotokatalytischen Abbau der Silan- oder Siloxan-Schicht. Vielmehr ändern sich bei Bestrahlung mit UV-Licht die Eigenschaften des ursprünglich hydrophoben "easy-to-clean"-Beschichtungssystems: Der im nicht aktivierten Zustand vorhandene hydrophobe Charakter geht verloren und die hydrophilen Eigenschaften der TiO2-Beschichtung dominieren. Weiterhin ist das Beschichtungssystem insgesamt nach Aktivierung durch UV-Licht fotokatalytisch aktiv, so dass die Schmutz abbauende Eigenschaften dieses Systems hervortreten.
  • Überraschend wurde weiter gefunden, dass sich das Beschichtungssystem reversibel verhält, wenn keine weitere Aktivierung durch UV-Licht erfolgt: Das Beschichtungssystem verliert die hydrophilen Eigenschaften, wird hydrophob und ist auch nicht mehr fotokatalytisch Schmutz abbauend. Es treten wieder die "easy-to-clean"-Eigenschaften auf. Erneute Bestrahlung durch UV-Licht führt wiederum zu einer hydrophilen und fotokatalytisch aktiven Beschichtung, und so fort.
  • Der Vorteil des erfindungsgemäßen Beschichtungssystems besteht darin, dass sowohl die Eigenschaften der TiO2-Beschichtung als auch die Eigenschaften der auf Silanen und/oder Siloxanen basierenden Beschichtung gezielt eingestellt werden können, oder anders ausgedrückt, durch UV-Licht gezielt "geschaltet" werden können.
  • Das erfindungsgemäße Beschichtungssystem enthält bevorzugt TiO2 mit einer mittleren Korngröße (Partikelgröße) d50 von 1 bis 100 nm, besonders bevorzugt von 5 bis 20 nm, wobei die Schichtdicke der TiO2-Schicht bevorzugt 1 bis 1000 nm, bevorzugt 5 bis 100 nm und ganz besonders bevorzugt 10 bis 50 nm beträgt.
  • Die auf Silanen und/oder Siloxanen basierenden Beschichtung enthält über Si-O-Si Bindungen verknüpfte Silane, bzw. Siloxane, die ein zwei- oder dreidimensionales Netzwerk bilden. Bevorzugt enthält die Silanschicht ein oder mehrere Fluorosilane. Beispiele für Fluorosilane sind Tridecafluorotetrahydrooctyltrihydroxysilan CF3-(CF2)5-(CH2)2-Si(OH)3 und Perfluorodecyltrihydroxysilan CF3-(CF2)7-(CH2)2-Si(OH)3.
  • Beim erfindungsgemäßen Beschichtungssystem sind die TiO2-Beschichtung und die Silanbeschichtung über Si-O-Ti Bindungen miteinander vernetzt. Ist das Substrat Si-haltig (z.B. Glas, Keramik oder Email), ist das Beschichtungssystem mit dem Substrat ebenfalls über Si-O-Si oder Si-O-Ti Bindungen verknüpft. Ist das Substrat nicht Si-haltig, kann das Beschichtungssystem z.B. durch physikalische Wechselwirkung an das Substrat gebunden sein.
  • Ein Verfahren zur Herstellung des erfindungsgemäßen Beschichtungssystems kann wie folgt durchgeführt werden: Auf die zu beschichtende Oberfläche wird Titandioxid in Sol-Form gegeben. TiO2-Sol besteht aus TiO2-Kristallen, die kleiner als 1 μm sind und entweder ladungs- oder sterisch stabilisiert sind. Die Sole können in organischen oder anorganischen Medien hergestellt werden. Z. B. wird ein wässriges TiO2-Sol mit einer mittleren Partikelgröße von d50 von 5 bis 100 nm, bevorzugt d50 von 10 bis 50 nm und besonders bevorzugt d50 von 15 bis 30 nm (gemessen mit Photonenkorrelationsspektroskopie, PCS) in HNO3 mit einem pH von 0,5 bis 2, bevorzugt von 0,8 bis 1,7 und besonders bevorzugt von 1 bis 1,2 und einer Feststoffkonzentration von 1 bis 30 Gew.-%, bevorzugt von 2 bis 20 Gew.-% und besonders bevorzugt von 4 bis 15 Gew.-% auf die Glasoberfläche gegeben. Die Herstellung des wässrigen TiO2-Sols erfolgt in bekannter Weise und ist z.B. beschrieben in Gmelins Handbuch der anorganischen Chemie, Verlag Chemie, Weinheim, 8. Auflage, Band Titan (41, 1951, S. 100).
  • Alternativ kann das saure TiO2-Sol mit einer organischen Säure (z.B. Zitronensäure) versetzt werden (z.B. 1 Gewichtsteil Säure auf 3 Gewichtsteile TiO2). Die Mischung wird dann unter Rühren mit wässriger Ammoniaklösung (z.B. ca. 25 %) auf einen bevorzugten pH-Wert von 5 bis 8, besonders bevorzugt von 6 bis 8, eingestellt.
  • Das Aufbringen des TiO2-Sols auf die zu beschichtende Oberfläche kann z.B. durch Sprühen, Tauchen oder Aufwalzen erfolgen. Die TiO2-Beschichtung härtet bei Raumtemperatur. Bevorzugt wird die TiO2-Schicht nach dem Auftrag bei 100 bis 800 °C, besonders bevorzugt bei 250 bis 500 °C und ganz besonders bevorzugt bei 275 bis 325 °C getempert, wobei die Temperaturen bevorzugt zwischen einer Minute und zwei Stunden, besonders bevorzugt zwischen 15 und 60 Minuten und ganz besonders bevorzugt zwischen 30 und 45 Minuten gehalten werden. Dies erhöht die Abriebfestigkeit der TiO2-Schicht.
  • Alternativ kann die TiO2-Schicht durch Magnetron-Sputtern erzeugt werden. Dabei wird ein Niedertemperaturplasma in einem Edelgas (meist Argon) benutzt, um ein Targetmaterial (hier Titan) abzutragen und auf einem gegenüberliegenden Substrat in Gegenwart von Sauerstoff (dieser wird dem Sputtergas Argon zugemischt) abzuscheiden, wobei sich eine Schicht aus TiO2 bildet. Die TiO2-Schicht kann auch aus organischen Solen oder aus Precursor-Verbindungen (z.B. Ti-Alkoholaten) abgeschieden werden.
  • Auf der so erzeugten transparenten Schicht aus TiO2 wird in bekannter Weise eine weitere Schicht, welche auf Silanen und/oder Siloxanen basiert, aufgebracht.
  • Dazu kann z.B. eine Mischung, welche drei Komponenten A, B und C und ein gegenüber diesen Komponenten inertes Lösungsmittel enthält, auf die mit TiO2 beschichtete Oberfläche aufgebracht werden.
  • Dabei enthält die Komponente A mindestens ein Polysiloxan, welches Si-H-Bindungen enthält und durch die allgemeinen Formeln
    Figure 00050001
    widergegeben wird, wobei R ein Alkylrest mit 1 bis 12 C-Atomen und/oder ein nicht substituierter oder substituierter Phenylrest ist, wobei die Reste R teilweise durch Wasserstoff ersetzt sind und wobei n in der Formel I eine Zahl von 2 bis 50 und in der Formel II eine Zahl von 4 bis 50 ist. Bevorzugt wird ein lineares Polysiloxan mit einer Molmasse von 350 bis 15000 eingesetzt.
  • Die Komponente B enthält mindestens ein bi-, tri- oder tetrafunktionelles Silan mit der allgemeinen Formel R'zSiR''4_z IIIwobei R' ein nicht substituierter oder substituierter Alkylrest mit 1 bis 12 C-Atomen, ein Cycloalkylrest mit 5 bis 6 C-Atomen, ein nicht substituierter oder substituierter Phenylrest und/oder ein Vinylrest ist, wobei R'' ein Alkoxy- oder ein CH3COO- oder ein Isocyanid-Rest oder ein Halogenid ist sowie als funktioneller Rest wirkt, wobei der Alkylteil des Alkoxyrestes 1 bis 12 C-Atome hat und wobei z eine Zahl von 0 bis 2 ist. Als bifunktionelles Silan kann z.B. ein Dialkyldialkoxysilan, ein Dicycloalkyldialkoxysilan, ein Diphyenyldialkoxysilan, ein Dialkyldiacetoxysilan, ein Diphenyldiacetoxysilan, ein Vinylmethyldialkoxysilan, ein Vinylmethyldiacetoxysilan oder ein Fluoralkylbialkoxysilan eingesetzt werden. Als trifunktionelles Silan kann z.B. ein Monoalkyltrialkoxysilan, ein Monocycloalkyltrialkoxysilan, ein Monophenyltrialkoxysolan, ein Monoalkyltriacetoxysilan, ein Monocycloalkyltriacetoxylilan, ein Monophenylacetoxysilan, ein Vinyltrialkoxysilan, ein Vinyltriacetoxysilan oder ein Fluoralkyltrialkoxysilan eingesetzt werden. Die Komponente B kann zusätzlich ein Disiloxan und/oder ein monofunktionelles Silan (z.B. Fluoralkylmonoalkoxysilan) enthalten.
  • Die Komponente C enthält mindestens eine (bevorzugt wasserfreie) organische (auch chlorierte) oder anorganische Säure (wie z.B. Chlorsulfonsäure, Benzolsulfonsäure, p-Toluolsulfonsäure, Essigsäure, Chloressigsäure, Dichloressigsäure, Trichloressigsäure, Ameisensäure, Chlorameisensäure, Glutarsäure, Maleinsäure) oder anstelle der Säure einen Katalysator, z.B. Amine, Metallsalze von organischen Säuren (wie Dibutylzinndilaureat (DBTL) oder Dibutylzinndiacetat (DBTA)), Organozinnverbindungen, Titansäureester und quarternäre Ammoniumsalze,
  • Als inerte Lösungsmittel werden bevorzugt eingesetzt Kohlenwasserstoffe mit 5 bis 12 C-Atomen, Ketone oder bei Normalbedingung flüssige Carbonsäureester. Beispiele sind: Methyl,- Ethyl- oder Butylacetat, n-Hexan, n-Heptan, Isooctan, Cyclohexan, Pentan, Toluol, Xylol, Aceton oder Methylethylketon, oder Mischungen dieser Stoffe.
  • Bei manchen Silanen können auch Alkohole als inerte Lösungsmittel eingesetzt werden. Dies ist gegebenenfalls in Vorversuchen zu ermitteln. Bevorzugt werden als alkoholische Lösungsmittel Methanol, Ethanol oder Propanol (alle Isomeren) eingesetzt.
  • Einige der hier beschriebenen Silan/Siloxan-haltigen Mischungen sind ebenfalls in der EP 0783464 B1 beschrieben, und auf diese Veröffentlichung wird hier ausdrücklich Bezug genommen.
  • Die Schicht, welche auf Silanen und/oder Siloxanen basiert, kann auch folgendermaßen erzeugt werden: Eine Mischung, welche die oben beschriebenen Komponenten B und C und ein gegenüber diesen Komponenten inertes Lösungsmittel enthält, wird auf die mit TiO2 beschichtete Oberfläche aufgebracht.
  • Bevorzugt wird die Silan- und/oder Siloxan-haltige Mischung in einer Menge von mindestens 15 g/m2 auf die Oberfläche aufgetragen, besonders bevorzugt in einer Menge von 25 bis 35 g/m2. Die bevorzugte Konzentration der Summe der oben beschriebenen Komponenten A, B und C beträgt 0,01 bis 15 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,5 bis 10 Gew.-%., und ganz besonders bevorzugt 1 bis 8 Gew.-%; der Rest ist in der Regel Lösungsmittel.
  • Nach dem Auftragen auf das Substrat bildet sich eine Schicht durch eine fortschreitende Polymerisation und/oder Vernetzung der Komponenten A und B, bzw. der Komponente B, wobei Si-O-Si Bindungen ausgebildet werden. Zur TiO2-Schicht werden Si-O-Ti Bindungen ausgebildet. Zusätzlich wird die sich bildende Schicht bei einer Glasoberfläche über Si-O-Si-Bindungen, bzw. über Si-O-Ti Bindungen mit dem Substrat verankert. Nach einer Reaktionszeit von 15 bis 60 Minuten (bei Raumtemperatur) kann nicht reagierte Silan/Siloxanmischung mit Hilfe eines Lösungsmittels und gegebenenfalls eines Tuches wieder von der Oberfläche abgetragen werden, falls eine klar durchsichtige Oberfläche gewünscht ist. Wird die Vernetzung bei höheren Temperaturen (z.B. 50 bis 80 °C) durchgeführt, kann nicht reagierte Silan/Siloxanmischung bereits nach 1 bis 10 Minuten entfernt werden. Die Silan/Siloxanmischung kann nach dem Auftrag auf das mit TiO2 beschichtete Substrat auch einpoliert werden. Ein Abtragen nicht reagierter Mischung ist dann zur Erzielung einer klar durchsichtigen Oberfläche nicht notwendig. Bevorzugt wird die fertig beschichtete Oberfläche für 1 bis 5 Stunden bei 50 bis 150 °C nachbehandelt. So wird die Nachvernetzung beschleunigt.
  • Das Beschichtungssystem kann auch dadurch hergestellt werden, dass ein TiO2-Sol mit einer Mischung aus den Komponenten A, B und C oder mit einer Mischung aus den Komponenten B und C gemischt wird und dieses Gemisch anschließend auf das Substrat aufgebracht wird. Bevorzugt erfolgt das Aufbringen der Gesamtmischung auf das Substrat innerhalb von 24 Stunden, besonders bevorzugt innerhalb von 12 Stunden nach dem Mischen.
  • Das Beschichtungssystem kann diskrete TiO2- und Silanschichten enthalten, oder das Beschichtungssystem kann eine Schicht enthalten, bei der TiO2 und Silan in einer Schicht gemischt sind.
  • 1 zeigt beispielhaft und schematisch ein Beschichtungssystem auf einer Glasoberfläche mit einer diskreten TiO2-Schicht, auf der eine vernetzte Silanschicht aufgebracht ist. Die Silanschicht enthält hier wasserabstoßende Gruppen, z.B. perfluorierte Alkane, geradkettige und verzweigte substituierte und nicht substituierte Alkane. Der Rest R in 1 ist bevorzugt der Methyl- oder der Etylrest. 2 zeigt beispielhaft und schematisch ein Beschichtungssystem auf einem Substrat (welches nicht zwangsläufig ein Si-haltiges Substrat sein muss) mit einer diskreten TiO2-Schicht, auf der ebenfalls eine Silanschicht aufgebracht ist.
  • Verwendung findet das erfindungsgemäße Beschichtungssystem bei der Herstellung "selbstreinigender", bzw. pflegeleichter Oberflächen, z.B. "selbstreinigender" Glas-, Email- und Keramikoberflächen, insbesondere Floatglasoberflächen und temperaturbehandelte Glasflächen. Das Beschichtungssystem ist im Innen- wie im Außenbereich einsetzbar. Bevorzugte Anwendungen sind im Fassadenbereich, Sanitärbereich, Küchenbereich, auf Fliesen, auf Gewächshäusern und bei der Fahrzeugverglasung. Als weitere Materialien, deren Oberflächen mit dem erfindungsgemäßen Beschichtungssystem versehen werden können, sind zu nennen: Architekturmaterialien (z.B. Stein, Beton, Glas, Baukeramik: Fliesen) Duschkabinen, Küchenspülen, Kunststoffe (z.B. Polycarbonat, Polymethylmetacrylat, Polypropylen, Kühlschrankinnenverkleidungen), sogenannte weiße Ware (Außenseite), Holz und Gewebe (z.B. Duschvorhänge), Gartenmöbel und Markisen. Hervorzuheben sind weiterhin die antibakteriellen Eigenschaften der erfindungsgemäßen Beschichtung. Verwendung findet die Beschichtung daher auch auf Oberflächen, bei denen es auf Keimfreiheit oder Keimarmut ankommt.
  • Weiterhin findet das erfindungsgemäße Beschichtungssystem Verwendung bei der Erzeugung von Oberflächen mit schaltbaren hydrophoben und hydrophilen Eigenschaften. Diese Oberflächen können z.B. in der Druckindustrie eingesetzt werden zur Herstellung von Druckplatten oder Trommeln, die mit UV-Strahlung beschrieben werden und ihren polaren Zustand an den belichteten Stellen ändern, um dann die Druckfarbe nur dort aufzunehmen. Gelöscht wird die Information auf den Platten oder Trommeln durch eine Dunkellagerung. Danach sind die Platten oder Trommeln wieder verwendbar.
  • Der Vorteil der mit dem erfindungsgemäßem Beschichtungssystem versehenen Oberflächen liegt in einer erleichterten Reinigung und Pflege dieser Oberflächen. Anschmutzungen der Oberfläche werden verringert, zurückgedrängt und zum Teil ganz verhindert. Die Gebrauchsmenge von herkömmlichen Reinigungsmitteln wird dadurch verringert. Das Beschichtungssystem schützt auch dauerhaft allgemein vor Korrosion und speziell vor Glaskorrosion.
  • Die Erfindung wird im folgenden anhand von Beispielen näher erläutert.
  • Beispiel 1: Herstellung eines Beschichtungssystems auf einer Glasoberfläche (ohne Wärmebehandlung der fertigen Beschichtung)
  • Eine Fensterglasscheibe aus Floatglas wurde mit einem wässrigen Titandioxid-Sol (salpetersauer, pH = 1,2) mit einer Konzentration von 6 Gew.-% TiO2 benetzt und mit einem Rakel abgestreift. Die Nasschichtdicke betrug 15 μm. Die Scheibe wurde 30 Minuten bei 300 °C getempert.
  • Die Silan-Siloxan-haltige Mischung wurde folgendermaßen hergestellt: 200 g Wasserstoff-Methylpolysiloxan mit einer Molmasse von ca. 2000, 100 g Phenyltrimethoxysilan, 5 g Dimethlydiethoxysilan, 45 g Isobutyltrimethoxysilan und 280 g Octyltriethoxysilan wurden mit 62 g Trichloressigsäure vermischt. Die Mischung wurde unter ständigem Rühren auf 60 bis 65 °C erhitzt und ca. 15 Minuten bei dieser Temperatur gehalten. Nach Abkühlung der Mischung auf ca. 30 °C wurden nacheinander 50 ml Isopropanol und 500 ml Heptan zugesetzt. Die Lösung wurde danach mit Heptan verdünnt, bis sie eine Trockensubstanz-Konzentration von 4 bis 8 Gew.-% hatte.
  • Anschließend wurde diese Mischung gleichmäßig auf die mit TiO2 beschichtete Fensterglasscheibe aufgesprüht und mit einem Tuch gleichmäßig verteilt. Nach Abdampfen des Lösungsmittels (ca. 30 Minuten) befand sich auf der TiO2-Schicht ein festhaftender, dünner, ausgehärteter Harzfilm mit hydrophoben Eigenschaften. Die überschüssige Silan/Siloxanmischung wurde anschließend mit Isopropanol und einem Tuch abgetragen.
  • Beispiel 2: Herstellung eines Beschichtungssystems auf einer Glasoberfläche (mit Wärmebehandlung der fertigen Beschichtung)
  • Eine Glasscheibe wurde analog Beispiel 1 beschichtet. Die so mit TiO2 und Silan/Siloxan beschichtete Glasscheibe wurde anschließend für 2 Stunden im Trockenschrank bei 90 °C nachbehandelt, um die Vernetzung zu vervollständigen.

Claims (14)

  1. Beschichtungssystem, enthaltend TiO2 und eine auf Silanen und/oder Siloxanen basierenden Beschichtung.
  2. Beschichtungssystem nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die TiO2-Partikel in der Beschichtung eine mittlere Korngröße d50 von 1 bis 100 nm haben.
  3. Beschichtungssystem nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die TiO2-Partikel in der Beschichtung eine mittlere Korngröße d50 von 5 bis 20 nm haben.
  4. Beschichtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke der TiO2-Schicht 1 bis 1000 nm beträgt.
  5. Beschichtungssystem nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichtdicke der TiO2-Schicht 5 bis 100 nm beträgt.
  6. Beschichtungssystem nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die TiO2-Beschichtung und die Silanbeschichtung über Si-O-Ti Bindungen miteinander vernetzt sind.
  7. Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungssystems, dadurch gekennzeichnet, dass auf ein Substrat eine TiO2-Beschichtung und anschließend eine Silanbeschichtung aufgebracht wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die TiO2-Beschichtung durch Aufbringen eines TiO2-Sols und anschließender Trocknung erfolgt.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass das aufgebrachte TiO2-Sol bei erhöhten Temperaturen getrocknet (getempert) wird.
  10. Verfahren zur Herstellung eines Beschichtungssystems, dadurch gekennzeichnet, dass ein TiO2-Sol mit einer Mischung aus einem Silan und einem Katalysator und gegebenenfalls einem Siloxan gemischt wird und dieses Gemisch auf das Substrat aufgebracht und getrocknet wird.
  11. Verwendung des Beschichtungssystems nach einem der Ansprüche 1 bis 6 für die Herstellung "selbstreinigender", bzw. pflegeleichter Oberflächen.
  12. Verwendung des Beschichtungssystems nach einem der Ansprüche 1 bis 6 für die Herstellung korrosionsgeschützer Oberflächen.
  13. Verwendung des Beschichtungssystems nach einem der Ansprüche 1 bis 6 für die Erzeugung von Oberflächen mit schaltbaren hydrophoben und hydrophilen Eigenschaften.
  14. Verwendung des Beschichtungssystems nach einem der Ansprüche 1 bis 6 für die Herstellung von Druckplatten oder Trommeln, die mit UV-Strahlung beschrieben werden und ihren polaren Zustand an den belichteten Stellen ändern.
DE2003125768 2003-06-05 2003-06-05 Beschichtungssystem für Glasoberflächen, Verfahren zu dessen Herstellung und dessen Anwendung Ceased DE10325768A1 (de)

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