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DE10315190A1 - Gassensor - Google Patents

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Publication number
DE10315190A1
DE10315190A1 DE2003115190 DE10315190A DE10315190A1 DE 10315190 A1 DE10315190 A1 DE 10315190A1 DE 2003115190 DE2003115190 DE 2003115190 DE 10315190 A DE10315190 A DE 10315190A DE 10315190 A1 DE10315190 A1 DE 10315190A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
membrane
gas sensor
sensitive layer
evaluation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE2003115190
Other languages
English (en)
Inventor
Michael Bauer
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Paragon AG
Original Assignee
Robert Bosch GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Robert Bosch GmbH filed Critical Robert Bosch GmbH
Priority to DE2003115190 priority Critical patent/DE10315190A1/de
Publication of DE10315190A1 publication Critical patent/DE10315190A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
    • G01N27/128Microapparatus

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  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Abstract

Es wird ein Gassensor mit einer Membran (10) vorgeschlagen, bei dem eine erste und zweite Auswertestruktur (14, 16) vorgesehen ist, wobei eine sensitive Schicht (10) unterhalb einer funktionalen Schicht (30) vorgesehen ist.

Description

  • Die Erfindung geht aus von einem Gassensor nach der Gattung des Hauptanspruchs. Beispielsweise aus der deutschen Patentanmeldung DE 10119405 ist ein Gassensor bekannt, bei dem auf einer Membran eine Heizstruktur, eine Auswertestruktur und eine sensitive Schicht vorgesehen ist. Weiterhin sind allgemein kommerziell erhältliche Halbleitergassensoren bekannt, die in Dickschichttechnik realisiert sind. Hierbei ist üblicherweise eine gasempfindliche Sensorschicht auf einem keramischen Trägerplättchen aufgebracht. Die Sensorschicht besteht aus einem halbleitenden Material, welches seinen Widerstand abhängig von der umgebenden Gaszusammensetzung verändert. Das keramische Trägerplättchen besitzt Metallelektroden, mit denen der Widerstand der Sensorschicht gemessen werden kann. Desweiteren besitzt ein herkömmlicher Halbleitergassensor auch eine Heizerstruktur, mit deren Hilfe das Trägerplättchen und damit die Sensorschicht auf die notwendige Betriebstemperatur von ca. 200°C bis 400°C gebracht werden kann. Sowohl die Elektrodenstrukturen als auch die Heizerstrukturen und die Sensorschicht werden üblicherweise im Siebdruckverfahren hergestellt. Neuere Ansätze verwenden anstelle des keramischen Trägerplättchens eine mikrostrukturierte Membran. Diese Membran wird mit Techniken der Mikrosystemtechnik bzw. der Mikromechaniktechnologie hergestellt. Sie besitzt analog zum keramischen Trägerplättchen metallische Dünnfilmstrukturen zur Darstellung von Elektroden und Heizer. Das Aufbringen der Sensorschicht kann durch das Aufbringen eines Pastentropfens bzw. allgemein eines Tropfens erfolgen. Die sich ausbildende Sensorschicht ist damit im Wesentlichen kreisförmig.
  • Der erfindungsgemäße Gassensor mit den Merkmalen des Hauptanspruchs hat dem gegenüber den Vorteil, dass eine Verbesserung der Sensitivität und der Selektivität des erfindungsgemäßen Gassensors gegenüber Gassensoren, die aus dem Stand der Technik bekannt sind, erreicht wird.
  • Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des im Hauptanspruch angegebenen Gassensors möglich. Besonders vorteilhaft ist, dass die sensitive Schicht einen ersten Bereich aufweist, in dem die sensitive Schicht direkt an das zu sensierende Gas angrenzt und dass die sensitive Schicht einen zweiten Bereich aufweist, in dem nur die funktionale Schicht direkt an das zu sensierende Gas angrenzt. Dadurch können einzelne Bestandteile der umgebenden Gasatmosphäre die eigentliche Sensorschicht nicht erreichen. Die Selektivität und/oder die Sensitivität der Sensoren wird so weiter erhöht. Weiterhin ist von Vorteil, dass die zweite Auswertestruktur im ersten Bereich der sensitiven Schicht vorgesehen ist und dass die erste Auswertestruktur im zweiten Bereich der sensitiven Schicht vorgesehen ist. Damit kann auch messtechnisch eine klare Trennung zwischen dem ersten Bereich der sensitiven Schicht und dem zweiten Bereich durchgeführt werden. Dies erhöht weiterhin die Selektivität und/oder die Sensitivität des erfindungsgemäßen Gassensors. Weiterhin ist von Vorteil, dass die funktionale Schicht auf der sensitiven Schicht vorgesehen ist. Hierdurch ist es möglich, dass die obere funktionale Schicht aus einem anderen Material besteht, als die eigentliche Sensorschicht bzw. die eigentliche sensitive Schicht und dass daher eine Konversions- bzw. Filterfunktion durch die funktionale Schicht übernommen wird. Dies verbessert weiterhin die Selektivität und/oder die Sensitivität des erfindungsgemäßen Gassensors. Weiterhin ist von Vorteil, dass die sensitive Schicht und die funktionale Schicht jeweils eine im Wesentlichen kreisförmige Begrenzung aufweisen, die insbesondere konzentrisch vorgesehen sind. Dadurch ist es möglich, dass eine spezielle Elektroden- und Heizergeometrie für mikrostrukturierte Sensorelemente erfindungsgemäß möglich ist. Die spezielle Geometrie ist dabei so ausgelegt, dass mehrere Funktionsschichten, welche als Tropfen aufgebracht werden und damit kreisförmige Schichten bilden, miteinander kombiniert werden können. Durch die spezielle Elektrodengeometrie und die spezielle Heizergeometrie ist es möglich, eine optimale Flächennutzung zu erreichen. Weiterhin ist von Vorteil, dass der Gassensor als mikrostrukturierter Gassensor vorgesehen ist. Dadurch ist es möglich, einen solchen Sensor besonders klein vorzusehen, wodurch Baukosten und Platzbedarf gesenkt werden.
  • Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 eine Anordnung der Heizerstruktur und der ersten und zweiten Auswertestruktur des erfindungsgemäßen Gassensors,
  • 2 ein Beispiel für den prinzipiellen Aufbau eines erfindungsgemäßen Gassensors und
  • 3 ein erfindungsgemäßer Gassensors in Draufsicht und in einer Querschnittsdarstellung.
  • Beschreibung der Ausführungsbeispiele
  • In 1 ist eine spezielle Elektrodenanordnung für einen erfindungsgemäßen Gassensor dargestellt. Mit dem Bezugszeichen 12 ist eine Heizerstruktur bezeichnet, welche als Leiterbahn mit einem vergleichsweise großen Querschnitt dargestellt ist. Mit dem Bezugszeichen 14 ist eine erste Auswertestruktur dargestellt, welche insbesondere im Wesentlichen kreisförmig vorgesehen ist und im Inneren der Heizerstruktur 12 vorgesehen ist. Mit dem Bezugszeichen 16 ist eine zweite Auswertestruktur bezeichnet, die ebenfalls im Wesentlichen kreisförmig vorgesehen ist, jedoch außerhalb der Heizerstruktur 12 vorgesehen ist.
  • In 2 ist ein Beispiel für den prinzipiellen Aufbau eines erfindungsgemäßen Gassensors dargestellt. Auf einen Substrat 1 ist eine Membran 10 vorgesehen, auf welcher sich eine sensitive Schicht 20 und eine funktionale Schicht 30 befindet.
  • Zumindest einseitig ist die Membran 10 und die auf ihr aufgebrachten Schichten 20, 30 von einer Gasatmosphäre 40 umgeben, deren Zusammensetzung zumindest in Teilen durch den Gassensor bestimmt werden soll. Die Gasatmosphäre 40 wird im Folgenden auch als Gas 40 bezeichnet. In 2 ist ein Querschnitt durch den prinzipiellen Aufbau eines erfindungsgemäßen Gassensors dargestellt, wobei in der Querschnittsdarstellung die sensitive Schicht 20, die direkt auf der Membran 10 vorgesehen ist, eine größere Breite aufweist als die funktionale Schicht 30, die oberhalb der sensitiven Schicht 20 vorgesehen ist. Hierdurch ergibt sich ein, mit dem Bezugszeichen 41 versehener, erster Bereich der sensitiven Schicht 20, welcher nicht durch die funktionale Schicht 30 abgedeckt ist und welcher somit dem Gas 40 direkt ausgesetzt ist. Weiterhin ergibt sich ein zweiter Bereich der sensitiven Schicht 20, welcher von der funktionalen Schicht 30 bedeckt ist und in dem somit das Gas 40 keinen direkten Zutritt zur sensitiven Schicht 20 aufweist. Unterhalb der Membran 10 ist erfindungsgemäß insbesondere eine Ausnehmung 9 vorgesehen, die der Isolierung der Komponenten des Gassensors auf der Membran 10 dient. Durch die geringe Dicke der Membran 10 ist der mittlere Bereich der Membran 10 und somit die Komponenten des endungsgemäßen Gassensors thermisch gut gegenüber ihrer Umgebung isoliert. Ein für den Betrieb des Gassensors vorgesehenes Aufheizen der Mitte der Membran 10 ist somit ohne einen großen Wärmeverlust möglich. Als Substrat 1 kommt insbesondere Siliziumsubstrat in Frage, es können jedoch auch andere Substrate vorgesehen sein. Zur Ausbildung der Ausnehmung 9 ist es beispielsweise vorgesehen, dass mittels einer Bulk-Mikromechaniktechnologie das Substrat 1 von seiner Rückseite her derart geätzt wird, dass lediglich die Membran 10 stehen bleibt. Alternativ dazu ist es möglich, eine oberflächenmikromechanische Herstellungsmethode anzuwenden und eine Ausnehmung 9 bzw. einen Hohlraum 9 von der Vorderseite her vorzusehen. Dies ist jedoch in 2 nicht dargestellt, sondern lediglich ein Beispiel für einen schematischen Aufbau des erfindungsgemäßen Gassensors.
  • In 3 ist in einer Draufsicht und in einer Schnittdarstellung der mittlere Teil der Membran 10 dargestellt. In diesem mittleren Teil der Membran 10 ist auf der Membran 10 die Heizstruktur 12, die erste Auswertestruktur 14 und die zweite Auswertestruktur 16 dargestellt. Hierauf ist in 3 die sensitive Schicht 20 aufgebracht. Auf der sensitiven Schicht 20 ist die funktionale Schicht 30 aufgebracht, wobei hierbei der erste Bereich 41 der sensierenden Schicht 20 vorgesehen ist, welcher von der funktionalen Schicht 30 nicht abgedeckt wird und der somit an das zu sensierende Gas 40, was jedoch in 3 nicht dargestellt ist, angrenzt. Weiterhin weist die sensierende Schicht 20 den zweiten Bereich 42 auf, welcher durch die funktionale Schicht 30 abgedeckt ist. Im zweiten Bereich 42 grenzt die sensitive Schicht 20 nicht direkt an das Gas 40 an, sondern es ist allein die funktionale Schicht 30, die direkt an das zu sensierende Gas 40 angrenzt. Im oberen Teil der 3 ist eine Schnittlinie AA dargestellt, die die Stelle des Schnittes angibt, der im unteren Teil der 3 dargestellt ist. Die Darstellung der Heizerstruktur 12, der ersten Auswertestruktur 14 und der zweiten Auswertestruktur 16 sind im oberen und unteren Teil der 3 nicht unbedingt maßstäblich und völlig übereinstimmend dargestellt. Im unteren Teil der 3 ist lediglich angedeutet, in welchem Bereich die entsprechenden Strukturen 12, 14, 15 ungefähr vorgesehen sein können.
  • Die 3 zeigt lediglich ein Ausführungsbeispiel für ein Doppelschicht-Sensorelement, welches als Gassensor verwendbar ist. Die erste Auswertestruktur 14 wird auch als innere Elektroden 14 bezeichnet. Diese sind in dem dargestellten Ausführungsbeispiel in Form einer interdigitalen Struktur ausgeformt. Dies ist nicht zwingend. Die Elektroden der ersten Auswertestruktur 14 könnten auch in einer anderen Anordnung, beispielsweise in Form von konzentrischen, ineinander greifenden Teilkreisen, vorgesehen sein. Wichtig ist lediglich, dass die äußere Elektrodenbegrenzung der ersten Auswertestruktur 14 kreisförmig oder doch weitgehend kreisförmig ausgeführt ist. Die Heizstruktur 12, welche im Folgenden auch als Heizer 12 bezeichnet wird, ist in diesem Beispiel in Form einer Heizerbahn, d.h. einer Leiterbahn, zwischen den inneren und den äußeren Elektroden ausgeführt. Die zweite Auswertestruktur 16 wird im Folgenden auch als äußere Elektroden 16 bezeichnet. Die Ausgestaltung des Heizers 12 als Heizerbahn bzw. als Leiterbahn ist ebenfalls erfindungsgemäß nicht zwingend vorgesehen. Der Heizer 12 könnte durchaus auch an anderer Stelle, beispielsweise außerhalb der äußeren Elektroden, 16, dargestellt werden. Er könnte auch in einer andere Schichtebene der Membran 10, welche auch als Trägermembran 10 bezeichnet wird, vorgesehen sein. Die auch als äußere Elektroden 16 bezeichnete zweite Auswertestruktur 16 ist im in 3 dargestellten Beispiel in Form ineinandergreifender Teilkreise geformt. Dies ist ebenfalls nicht zwingend. Die Elektroden der zweiten Auswertestruktur 16 könnten auch in einer anderen Anordnung dargestellt werden. Für die Ausgestaltung der sensitiven Schicht 20 und der funktionalen Schicht 30 in Form von kreisförmigen Schichten ist es jedoch für die zweite Auswertestruktur 16 wichtig, dass die äußere Elektrodenbegrenzung kreisförmig ausgeführt ist und dass die inneren Elektroden 14 umfasst werden. Statt der konzentrisch ineinander greifenden Teilkreise der zweiten Auswertestruktur 16 im dargestellten Ausführungsbeispiel ist es erfindungsgemäß auch möglich, dass die zweite Auswertestruktur 16 in Form einer Interdigitalstruktur vorgesehen ist.
  • Hinsichtlich des Aufbaus der sensitiven Schicht 20 bzw. der funktionalen Schicht 30 ist es erfindungsgemäß vorgesehen, dass auf der Membran 10 eine Doppelschicht angeordnet ist, die die sensitive Schicht 20 und die funktionale Schicht 30 umfasst. Hierbei ist es erfindungsgemäß insbesondere vorgesehen, dass die sensierende Schicht 20 sowohl die inneren Elektroden 14 als auch den Heizer 12 als auch die äußeren Elektroden 16 überdeckt. Die äußeren Elektroden 16 sind durch ihre kreisförmige Begrenzung optimal auf die Schichtaufbringung der sensitiven Schicht 20 als Tropfen angepasst. Die funktionale Schicht, welche im Folgenden auch als zweite Sensorschicht bezeichnet wird, überdeckt lediglich die inneren Elektroden 14 und im dargestellten Ausführungsbeispiel auch den Heizer 12. Jedenfalls überdeckt die zweite Sensorschicht 30 nicht die äußeren Elektroden 16. Hierdurch entsteht der erste Bereich 41 der sensierenden Schicht 20, welcher einem direkten Kontakt der sensierenden Schicht mit dem Gas 40 zulässt und es entsteht der zweite Bereich 42 der sensierenden Schicht 20, welcher keine direkte Verbindung zum umgebenden Gas 40 vorsieht, sondern der eine Abdeckung durch die funktionale Schicht 30 vorsieht und wobei die funktionale Schicht 30 einen direkten Zugang zum umgebenden Gas 40 aufweist. Sowohl die äußeren Elektroden 16 als auch die inneren Elektroden 14 sind durch ihre kreisförmige Begrenzung optimal auf die Schichtaufbringung der sensierenden Schicht 20 bzw. der funktionalen Schicht 30 in Form von Tropfen angepasst. Hierdurch ergibt sich eine kreisförmige Begrenzung der sensierenden Schicht 20 und der funktionalen Schicht 30.
  • Als Ausführungsbeispiel für die Funktionsweise des erfindungsgemäßen Gassensors sei hier beispielsweise angenommen, dass die sensierende Sensorschicht 20 bzw. die sensierende Schicht 20 wie eine gassensitive Schicht wirkt und dass die funktionale Schicht 30 wie eine Filterschicht wirkt. Es ergibt sich dann das folgende Detektionsverhalten eines solchermaßen vorgesehen, erfindungsgemäßen Gassensors: Im ersten Bereich 41, d.h. in dem Bereich, in dem sich die äußeren Elektroden 16 befinden, zeigt die erste Sensorschicht bzw. sensierende Schicht 20, ihr intrinsisches Detektionsverhalten. Dieses kann beispielsweise durch störende Beimengungen von Gasen in dem zu detektierenden bzw. zu messenden Gas 40 dadurch gestört werden, dass das erfindungsgemäße Gassensorelement ebenfalls auf solche beigemengten Gase empfindlich reagiert. Im zweiten Bereich, d.h. im Bereich der inneren Elektroden 14 wirkt die funktionale Schicht 30 als vorgeschaltete Filterschicht über der sensierenden Schicht 20. Das Detektionsverhalten im Bereich der inneren Elektroden 14 ist damit aus der Kombination der beiden Schichten 20, 30 gegeben. Beispielhaft seien hier Materialien angegeben, die zur Bildung der sensierenden Schicht 20 dienen können: Zinkoxid zur Detektion von NOx, Zinnoxid, Titanoxid, Wolframoxid oder andere halbleitende Materialien.
  • Als Beispiel für die Bildung einer Funktionsschicht 30 dient beispielsweise das folgende Material: Metalloxidmischungen zum Beispiel Zinnoxid, die dotiert sein können (zum Beispiel mit Tantal) und/oder zum Beispiel mit katalytisch wirkenden Metallen, wie Platin oder Rhodium versetzt sind.
  • Erfindungsgemäß ist es selbstverständlich möglich, dass die dargestellte Struktur noch weitere, insbesondere kreisförmig begrenzte, Elektrodenbereiche und Sensorschichten umfasst. Dadurch entsteht ein Gassensorelement, welches mehrere Schichten bzw. mehrere Lagen von detektierenden bzw. filternden Schichten aufweist. Die funktionale Schicht 30 wird insbesondere auch als Filterschicht 30 bezeichnet, weil sie eine Filterfunktion aufweist.
  • Die erste und zweite Auswertestruktur 14, 16 werten eine elektrisch messbare Eigenschaft der Sensorschicht 20 aus, beispielsweise deren Kapazität oder deren Widerstand. Die erste und zweite Auswerteschicht 14, 16 sind in ihrer Struktur, beispielsweise eine Interdigitalstruktur, an diese Messung angepasst. Die erste und zweite Auswertestruktur 14, 16 werden dafür über nicht eigens bezeichnete Kontaktierungselemente mit einer nicht eigens bezeichneten Ansteuerungs- und Auswerteschaltung verbunden.

Claims (6)

  1. Gassensor mit einer Membran (10) mit einer auf der Membran (10) angeordneten Heizstruktur (12) mit einer auf der Membran (10) angeordneten ersten Auswertestruktur (14 ) und einer auf der Membran (10) angeordneten sensitiven Schicht (20), dadurch gekennzeichnet, dass eine auf der Membran (10) angeordnete zweite Auswertestruktur 16 vorgesehen ist und dass eine funktionale Schicht (30) vorgesehen ist.
  2. Gassensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die sensitive Schicht (20) einen ersten Bereich (41) aufweist, in dem die sensitive Schicht (20) direkt an das zu sensierende Gas (40) angrenzt und dass die sensitive Schicht (20) einen zweiten Bereich (42) aufweist, in dem nur die funktionale Schicht (30) direkt an das zu sensierende Gas (40) angrenzt.
  3. Gassensor nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die zweite Auswertestruktur (16) im ersten Bereich (41) der sensitiven Schicht (20) vorgesehen ist und dass die erste Auswertestruktur (14) im zweiten Bereich (42) der sensitiven Schicht (20) vorgesehen ist.
  4. Gassensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die funktionale Schicht (30) auf der sensitiven Schicht (20) vorgesehen ist.
  5. Gassensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die sensitive Schicht (20) und die funktionale Schicht (30) jeweils eine im Wesentlichen kreisförmige Begrenzung aufweisen, die insbesondere konzentrisch vorgesehen sind.
  6. Gassensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gassensor als mikrostrukturierter Gassensor vorgesehen ist.
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