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DE10295694T1 - Maske, Verfahren zum Herstellen dieser Maske und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements - Google Patents

Maske, Verfahren zum Herstellen dieser Maske und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements

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Publication number
DE10295694T1
DE10295694T1 DE10295694T DE10295694T DE10295694T1 DE 10295694 T1 DE10295694 T1 DE 10295694T1 DE 10295694 T DE10295694 T DE 10295694T DE 10295694 T DE10295694 T DE 10295694T DE 10295694 T1 DE10295694 T1 DE 10295694T1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mask
producing
semiconductor component
semiconductor
component
Prior art date
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Withdrawn
Application number
DE10295694T
Other languages
English (en)
Inventor
Masaki Yoshizawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Withdrawn legal-status Critical Current

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DE10295694T 2001-11-16 2002-11-15 Maske, Verfahren zum Herstellen dieser Maske und Verfahren zum Herstellen eines Halbleiterbauelements Withdrawn DE10295694T1 (de)

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