[go: up one dir, main page]

DE10255981A1 - Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode - Google Patents

Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode Download PDF

Info

Publication number
DE10255981A1
DE10255981A1 DE2002155981 DE10255981A DE10255981A1 DE 10255981 A1 DE10255981 A1 DE 10255981A1 DE 2002155981 DE2002155981 DE 2002155981 DE 10255981 A DE10255981 A DE 10255981A DE 10255981 A1 DE10255981 A1 DE 10255981A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
crystal
seed crystal
raw material
shaped body
seed
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE2002155981
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Prof. Dipl.-Ing. Dr.sc.nat. Rudolph
Michael Dr.rer.nat. Neubert
Christiane Dipl.-Krist. Frank-Rotsch
Uwe Kupfer
Matthias Dipl.-Ing. Czupalla
Mike Dipl.-Ing. Pietsch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Forschungsverbund Berlin FVB eV
Original Assignee
Forschungsverbund Berlin FVB eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Forschungsverbund Berlin FVB eV filed Critical Forschungsverbund Berlin FVB eV
Priority to DE2002155981 priority Critical patent/DE10255981A1/de
Publication of DE10255981A1 publication Critical patent/DE10255981A1/de
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/36Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method characterised by the seed, e.g. its crystallographic orientation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/14Heating of the melt or the crystallised materials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Abstract

Es soll eine Vorrichtung angegeben werden, die sowohl eine Erhöhung der einkristallinen Ausbeute garantiert als auch eine gezielte Einstellung des axialen Wärmeflusses durch den wachsenden Kristall ermöglicht. Diese Aufgabe wird durch eine Vorrichtung, mindestens aufweisend einen Tiegel, der geschmolzenes Rohmaterial enthält, einen Keimkristall mit vorgegebener kristallographischer Orientierung und Mittel zur Halterung des Keimkristalls, erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass der Keimkristall (3) einen Durchmesser bzw. einen Querschnitt mit annähernd der gleichen Größe aufweist, wie ihn der zu ziehende Kristall aufweisen soll, und Mittel vorhanden sind, dass der Keimkristall (3) zu Beginn des Ziehvorganges so tief und so lange in das geschmolzene Rohmaterial eintaucht, dass ein partielles Rückschmelzen erfolgt. Außerdem ist vorgesehen, dass auf dem Keimkristall (3) ein Formkörper (4) bestimmter Wärmeleitfähigkeit mit der Kontaktfläche angeordnet ist, die der Fläche des Keimkristalls (3) entspricht und mit diesem schlüssig verbunden ist. Mit der vorgeschlagenen Lösung wird die konische Verbreiterung des Kristalls zu Beginn der Züchtung - und damit die Gefahr der Zwillingsbildung - umgangen.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode aus Schmelzen und Schmelzlösungen, mindestens aufweisend einen Tiegel, der geschmolzenes Rohmaterial enthält, einen Keimkristall mit vorgegebener kristallographischer Orientierung und ein Mittel zur Halterung des Keimkristalls.
  • Dem Stand der Technik nach ist bekannt, das der Ziehvorgang aus der Schmelze oder Schmelzlösung mit dem Eintauchen eines dünnen Keimkristalls mit Durchmessern von wenigen Millimetern beginnt, der dann im so genannten Schulter- oder Kopfteil zu einem Zylinder mit gewünschtem Durchmesser auswächst (s. beispielsweise K. T. Wilke, J. Bohm, Krsitallzüchtung, Deutscher Verlag der Wissenschaften, Berlin 1988, S. 679 ff.).
  • Eine derartige Verbreiterung erfolgt meist konisch. Die Erfahrung zeigt, dass Kristallbaufehler wie Zwillinge meist in diesem konischen Teil des Kristalls entstehen und später im zylindrischen Teil der gezogenen Kristalle meist nicht mehr auftreten. Neben anderen Ursachen hängt diese Verhalten z.B. bei Material mit Zinkblendestruktur und geringer Stapelfehlerenergie mit der Ausbildung kristallographisch ausgezeichneter Flächen (Facetten) zusammen. Auf solchen Facetten können sich Flächenkeime falsch anlagern und damit verzwillingtes Wachstum induzieren, was beispielsweise in J. Crystal Growth 147 (1995) 239 und in J. Crystal Growth 187 (1998) 9 beschrieben wird.
  • Allgemein bekannt ist, dass das Animpfen mit einem Keim geringen Durchmessers bei allen Ziehprozessen aus thermischer Sicht ein problematischer Schritt ist, da es zu einem Stau des Wärmeabflusses insbesondere bei der Verbreiterung des wachsenden Kristallkörpers kommt. Das führt insbesondere bei Ziehprozessen mit geringen Temperaturgradienten zu erheblichen Wachstumsproblemen und Zeitverlusten, die für die Ausbildung allein der Schulter nötig sind.
  • Aufgabe der Erfindung ist es nun, eine Vorrichtung zur Züchtung nach der Czochralski-Methode anzugeben, die sowohl eine Erhöhung der einkristallinen Ausbeute garantiert als auch eine gezielte Einstellung des axialen Wärmeflusses durch den wachsenden Kristall ermöglicht.
  • Die Aufgabe wird durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass der Keimkristall einen Durchmesser bzw. einen Querschnitt mit annähernd der gleichen Größe aufweist, wie ihn der zu ziehende Kristall aufweisen soll, und Mittel vorhanden sind, dass der Keimkristall zu Beginn des Ziehvorganges so tief und so lange in das geschmolzene Rohmaterial eintaucht, dass ein partielles Rückschmelzen erfolgt.
  • Mit der erfindungsgemäßen Lösung wird die konische Verbreiterung des Kristalls zum Beginn der Züchtung – und damit die Gefahr der Zwillingsbildung – umgangen.
  • Um den Wärmefluss durch den Keimkristall und somit die Form der Anschmelz-Phasengrenze nach züchterischen Gesichtspunkten zu gestalten, wird die Halterung des Kristalls aus verschiedenen Materialien mit jeweils gewünschten Wärmeleitfähigkeiten ausgeführt sowie mit verschiedener Form versehen, um den Wärmeaustrag in die Umgebung gezielt zu beeinflussen.
  • So ist in Ausführungsformen der Erfindung vorgesehen, dass auf dem Keimkristall ein Formkörper bestimmter Wärmeleitfähigkeit mit einer Kontaktfläche angeordnet ist, die der Fläche des Keimkristalls entspricht, und mit diesem schlüssig verbunden ist, wodurch eine gute Wärmeleitfähigkeit zwischen Keimscheibe und Formkörper garantiert ist.
  • Außerdem kann der Formkörper gleichzeitig auch als Halterungsvorrichtung ausgebildet sein.
  • Zur Ausbildung und stationären Aufrechterhaltung einer bestimmten Lage und Form der anschmelzenden Phasengrenze ist die Größe und Richtung der Wärmeflüsse über das Material und die Geometrie des Formkörpers einstellbar. So kann das Material des Formkörpers Graphit oder das Material des zu ziehenden Kristalls sein und der Konuswinkel des als Halterungsvorrichtung ausgebildeten Formkörpers Werte zwischen Null und 90° annehmen.
  • Der Keimkristall kann aber auch aus dem abgetrennten Schultergebiet eines konventionell gezogenen Kristalls gebildet sein, was besonders effektiv ist, da sich dieses nicht zu einer Weiterbearbeitung eignet.
  • Es wurde bereits erwähnt, dass der Keimkristall zu Beginn des Ziehvorganges so tief und so lange in das geschmolzene Rohmaterial eintaucht, bis ein partielles Rückschmelzen erfolgt. Bei diesem Rückschmelzen ist es wichtig, dass sich eine möglichst wenig durchgebogene bis nahezu ebene Phasengrenze festflüssig ausbilden kann, damit immer ein hinreichend langes Segment des Keimkristalls für die Halterung zur Verfügung steht. Außerdem ist eine nahezu ebene Phasengrenze aus Sicht der strukturellen Perfektion des späteren Kristalls ebenso wünschenswert. Dies wird z.B. durch einen kleinen Konuswinkel des Keimkristallhalters erreicht.
  • Mit der erfindungsgemäßen Lösung, die keine konische Verbreiterung des Kristalls zu Beginn der Züchtung nach sich zieht und einen definierten Wärmefluss durch den Keimkristall realisiert, wird außerdem auch die zylindrische Sektion des Kristalls, also der industriell verwertbare Teil, um die Höhe des Schultergebietes verlängert.
  • Das Problem der Zwillingsbildung im Konusbereich der Kristalle ist auch bei der vertikalen Bridgmanzüchtung, einem Normalerstarrungsverfahren, bekannt. Hier wird das Prinzip des Keimes gleichen Durchmessers bereits zur Vermeidung der Zwillingsbildung angewandt (beispielsweise beschrieben in DD 301 112; J. Cryst. Growth 35 (1976) 49 und J. Cryst. Growth 132 (1993) 348).
  • Bisher war es in der Fachwelt üblich, bei der Züchtung mittels der Czochralski-Technik dünne Kristallkeime zu verwenden und diese zu Beginn des Wachstums sogar noch zu verjüngen, um Vesetzungen auswachsen zu können. Bei der Silicium-Kristallzüchtung führt dieses Herangehen zu versetzungsfreien Kristallen. Das sich anschließende schulterförmige Gebiet zum Übergang auf den gewünschten Zylinderdurchmesser des Kristalls kann dann aber wieder die bereits erwähnte Zwillingsbildung hervorrufen. Da die Czochralski-Züchtungsmethode viel komplexer in ihrem Ablauf ist als die erwähnte Bridgman-Methode, ist es um so überraschender, dass die erfindungsgemäße Lösung die gewünschten Wirkungen erzielt.
  • Die Erfindung wird im folgenden Ausführungsbeispiel anhand von Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen:
  • 1 schematisch eine erste Ausführungsform der Erfindung;
  • 2 schematisch eine Ausführungsform mit großem Konuswinkel;
  • 3 schematisch eine Ausführungsform mit kleinem Konuswinkel.
  • Die 1 zeigt schematisch einen Tiegel 1 mit in einem Halter 5 angeordnetem Keimkristall 3 und Formkörper 4. Der Keimkristall 3, die Kristallisationshilfe, wird vor Beginn des Ziehvorganges mittels eines routinemäßigen Trennvorganges aus einem Einkristall abgetrennt und materialspezifisch gereinigt (z.B. ausgeheizt oder chemisch geätzt und gespült). Der Keimkristall 3 ist hinreichend lang und hat in diesem Ausführungsbeispiel die Gestalt einer Scheibe. Der Durchmesser der Scheibe ist annähernd der gleiche wie der des zu ziehenden Kristalls. Zu Beginn des Ziehvorgangs wird der Keimkristall 3 nur soweit in die Schmelze 2 getaucht, dass sich eine stabile Position der Phasengrenze festflüssig ausbildet und darüber ein hinreichend langes Zylindersegment für die Befestigung verbleibt. Erfahrungsgemäß sollte die scheibenförmige Kristallisationshilfe 3 eine Höhe von 1 cm bis 3 cm aufweisen. Auf dem Keimkristall 3 ist ein Formkörper 4 mit guter Wärmeleitfähgkeit angeordnet, der Keimkristall 3 ist an einem Halter 5 befestigt. Für einen axialen Abfluss der latenten Kristallisationswärme von Beginn an hat die untere Fläche des Formkörpers 4 einen schlüssigen Kontakt zum Keimkristall 3.
  • In 2 weist der Formkörper 4 einen großen Konuswinkel Θ auf. Diese Ausbildung betrifft den Fall einer stärker durchgebogenen Phasengrenze PG, wo die Gefahr des Herausschmelzens aus der Halterung 5 besteht. Dieser Gefahr kann nur dadurch begegnet werden, indem die Keimscheibe 3 immer mehr verlängert wird, was schnell unökonomisch wird.
  • In 3 ist ein Formkörper 4 dargestellt, der einen kleinen Konuswinkel Θ aufweist. Dadurch ist garantiert, dass immer ein hinreichend langes Segment des Keimkristalls für die Halterung zur Verfügung steht, außerdem wird hierbei eine fast ebene Phasengrenze PG eingestellt, was sich positiv auf die strukturelle Perfektion des gezogenen Kristalls auswirkt.

Claims (8)

  1. Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode aus Schmelzen und Schmelzlösungen, mindestens aufweisend einen Tiegel, der geschmolzenes Rohmaterial enthält, einen Keimkristall mit vorgegebener kristallographischer Orientierung und Mittel zur Halterung des Keimkristalls, dadurch gekennzeichnet, dass der Keimkristall (3) einen Durchmesser bzw. einen Querschnitt mit annähernd der gleichen Größe aufweist, wie ihn der zu ziehende Kristall aufweisen soll, und Mittel vorhanden sind, dass der Keimkristall (3) zu Beginn des Ziehvorganges so tief und so lange in das Rohmaterial (2) eintaucht, dass ein partielles Rückschmelzen erfolgt.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass auf dem Keimkristall (3) ein Formkörper (4) bestimmter Wärmeleitfähigkeit mit einer Kontaktfläche angeordnet ist, die der Fläche des Keimkristalls (3) entspricht, und mit diesem schlüssig verbunden ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Formkörper (4) gleichzeitig auch als Halterungsvorrichtung ausgebildet ist.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ausbildung und stationären Aufrechterhaltung der Position und Form einer anschmelzenden Phasengrenze die Größe und Richtung der Wärmeflüsse über das Material und die Geometrie des Formkörpers einstellbar ist.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Material des Formkörpers (4) Graphit ist.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Material des Formkörpers (4) das Material des zu ziehenden Kritsalls ist.
  7. Vorrichtung nach Anspruch 2 und 4, dadurch gekennzeichnet, dass der Konuswinkel (Θ) des als Halterungsvorrichtung ausgebildeten Formkörpers (4) Werte zwischen Null und 90° annimmt.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass als Keimkristall (3) das abgetrennte Schultergebiet eines konventionell gezogenen Kristalls dient.
DE2002155981 2002-11-26 2002-11-26 Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode Ceased DE10255981A1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2002155981 DE10255981A1 (de) 2002-11-26 2002-11-26 Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2002155981 DE10255981A1 (de) 2002-11-26 2002-11-26 Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10255981A1 true DE10255981A1 (de) 2004-06-17

Family

ID=32318845

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2002155981 Ceased DE10255981A1 (de) 2002-11-26 2002-11-26 Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE10255981A1 (de)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1188040B (de) * 1959-01-20 1965-03-04 Intermetall Vorrichtung zum Ziehen von Halbleitereinkristallen aus einer Schmelze konstanten Volumens
JPS60180993A (ja) * 1984-02-24 1985-09-14 Sumitomo Electric Ind Ltd GaAs単結晶の引上方法
JPH061700A (ja) * 1992-06-19 1994-01-11 Toshiba Corp インジウムアンチモン単結晶の製造方法
US6428618B2 (en) * 1999-06-18 2002-08-06 Virginia Semiconductor, Inc. Method for forming a solid solution alloy crystal

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1188040B (de) * 1959-01-20 1965-03-04 Intermetall Vorrichtung zum Ziehen von Halbleitereinkristallen aus einer Schmelze konstanten Volumens
JPS60180993A (ja) * 1984-02-24 1985-09-14 Sumitomo Electric Ind Ltd GaAs単結晶の引上方法
JPH061700A (ja) * 1992-06-19 1994-01-11 Toshiba Corp インジウムアンチモン単結晶の製造方法
US6428618B2 (en) * 1999-06-18 2002-08-06 Virginia Semiconductor, Inc. Method for forming a solid solution alloy crystal

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2028292A2 (de) Verfahren zur Herstellung von monokristallinen Metall- oder Halbmetallkörpern
DE112013001066T5 (de) Verfahren zum Berechnen einer Höhenposition einer Oberfläche einer Siliziumschmelze, Verfahren zum Ziehen eines Silizium-Einkristalls, und Silizium-Einkristall-Ziehvorrichtung
DE112017004790T5 (de) Einkristallziehvorrichtung
EP2242874B1 (de) Vorrichtung und verfahren zur herstellung von kristallinen körpern durch gerichtete erstarrung
EP1866466B1 (de) Verfahren zur herstellung einer einkristallinen si-scheibe mit annähernd polygonalem querschnitt
DE2254615C3 (de) Herstellung mehrphasiger Eutektikumskörper
WO1990004054A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur züchtung von kristallen nach der czochralski-methode
DE10255981A1 (de) Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen nach der Czochralski-Methode
DE102011087759B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Silizium-Ingots und Silizium-Ingot
DE60017324T2 (de) Verfahren zur Kristallzüchtung
DE2114645B2 (de) Verfahren zum epitaktischen Aufwachsen einer Halbleiterverbindung
DE3785638T2 (de) Verfahren zur Züchtung von Kristallen aus Halbleiterverbindungen.
DE69711565T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Kristallzüchtung
DE102006052961B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterkristalls
DE1209997B (de) Verfahren zur Herstellung von Einkristallen aus schmelzbarem Material
DE102009015113A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Züchtung von Kristallen
DE102005040229B4 (de) Unterstützungsvorrichtung zur Unterstützung eines wachsenden Einkristalls aus Halbleitermaterial und Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls
DE3031747C2 (de) Vorrichtung zur Gruppenzüchtung von Einkristallen
AT526636B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Saphir-Einkristalls mit verbesserter Ablösung von einem Schmelztiegel
DE19615991A1 (de) Verfahren und Züchtungskammer zum Ziehen von Mischkristallen nach der Czochralski-Methode
DE29624403U1 (de) Vorrichtung zum Ziehen von Mischkristallen nach der Czochralski-Methode
EP0843748B1 (de) Verfahren zur herstellung von kristallinen schichten
DE3627764A1 (de) Verfahren zur herstellung von erstarrten legierungskoerpern
DE102008030311A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Einkristalls, insbesondere eines Silizium-Einkristalls, und Schmelzstab hierfür
DE1175445B (de) Verfahren zur Bildung von vorzugsweise schmalen Orientierungsfacetten an einem Halbleiter-Einkristallstab

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection