DE10233424A1

DE10233424A1 - Membranvorrichtung

Info

Publication number: DE10233424A1
Application number: DE10233424A
Authority: DE
Inventors: Kaname Okada; Shinya Kikugawa
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2001-07-30
Filing date: 2002-07-23
Publication date: 2003-02-13
Also published as: TW538302B; US20030035222A1; US6744562B2; JP2003043670A; CN1400627A; KR20030011633A; KR100878723B1

Abstract

Membranvorrichtung, umfassend einen kastenförmigen Membranrahmen mit oberen und unteren Öffnungen und ein Membranblatt, welches an dem Membranrahmen befestigt ist, um eine der Öffnungen des Membranrahmens abzudecken, wobei der Membranrahmen aus Quarzglas hergestellt ist, eine Vielzahl von Gaslöchern, verteilt an gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens, ausgebildet ist und die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens maximal 3/5 der Höhe des Membranrahmens ist.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Membranvorrichtung (Pellicle). Insbesondere betrifft sie eine Membranvorrichtung, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie LSI, Ultra-LSI und so weiter, oder für Flüssigkristallanzeigevorrichtungen zu verwenden ist, die insbesondere zur Photolithographie unter Anwenden eines Lichts mit einer Wellenlänge von maximal 220 nm (insbesondere einer Wellenlänge von maximal 180 nm) geeignet ist.

In den letzten Jahren gab es im Zuge der starken Integration von Halbleiterbauelementen Fortschritte beim Verringern der Wellenlänge des zur Belichtung im photolithographischen Herstellungsvorgang zu verwendenden Lichts. Um ein Muster eines integrierten Schaltkreises auf einer Wafer abzubilden, ist nämlich eine Technik erforderlich, bei der ein feines Schaltkreismuster mit einer engeren Linienbreite gezeichnet werden kann. Um einem solchen Erfordernis zu genügen, wird nun ein Licht mit einer kürzeren Wellenlänge als die übliche g-Linie (Wellenlänge: 436 nm) oder i-Linie (Wellenlänge: 365 nm), wie ein KrF-Excimer- Laser (Wellenlänge: 248 nm), ein ArF-Excimer-Laser (Wellenlänge: 193 nm) oder ein F₂-Laser (Wellenlänge: 157 nm), als Licht zur Belichtung für einen Stepper zur Photolithographie eingesetzt.

In der Photolithographie wird ein Verfahren zum Anbringen einer Membranvorrichtung an einer Seite oder an jeder Seite einer Photomaske als ein Staubschutz für die Oberfläche der Photomaske eingesetzt. Wenn Kratzer oder Fremdstoffe auf der zur Belichtung verwendeten Photomaske vorliegen, werden solche Kratzer oder Fremdstoffe zusammen mit einem Muster auf eine Wafer gedruckt, wodurch somit ein Kurzschluss oder eine Unterbrechung des Stromkreises und so weiter verursacht wird.

Hierin steht der Begriff Membranvorrichtung für eine solche, die durch Befestigen eines Membranblatts an einen Membranrahmen zu einer Behälterform, um die obere Öffnung des Rahmens abzudecken, ausgebildet ist. Die Membranvorrichtung umfasst ein ebenes Membranblatt (in dieser Beschreibung schließt sie sowohl ein membranförmiges Blatt aus einem organischen Harz als auch eine blattförmige Membran aus beispielsweise synthetischem Quarzglas ein) und einen Membranrahmen mit einer vorbestimmten Dicke, damit das Membranblatt von der Photomaske beabstandet ist und ist eine, die durch Befestigen des Membranblatts an der oberen Fläche des Membranrahmens zu einer Behälterform ausgebildet ist. Für den Membranrahmen wird ein Aluminium, das an der Oberfläche mit Alunit behandelt ist, eingesetzt.

Weiterhin werden gewöhnlich Entlüftungsöffnungen bzw. Gaslöcher an dem Membranrahmen gebildet, sodass die Luftdurchlässigkeit in einem Zustand, wenn die Membranvorrichtung auf eine Photomaske montiert wird, gesichert ist, wodurch der Einfluss der Änderungen in der Temperatur oder im Druck der äusseren Atmosphäre auf das Membranblatt minimiert wird.

Weiterhin ist es bei einer Membranvorrichtung für einen F₂-Laser notwendig, die innere Atmosphäre der Membranvorrichtung gegen eine Inertgasatmosphäre zu ersetzen. Das übliche photolithographische Verfahren wurde in der Atmosphäre ausgeführt. Wenn jedoch ein F₂-Laser zum Belichten verwendet wird, ist es notwendig, das Belichten in einer Inertgasatmosphäre auszuführen, da Sauerstoffmoleküle in der Atmosphäre bei der Belichtungswellenlänge von 157 nm Absorption ausüben.

JP-A-2001-133961 offenbart ein Verfahren zum positiven Ersetzen der inneren Atmosphäre der Membranvorrichtung. Ein Inertgas wird in das Innere der Membranvorrichtung eingeführt, indem eine Inertgasstahlflasche an eine Öffnung angeschlossen wird.

Die übliche Gaslochgröße ist zum Austausch der inneren Atmosphäre durch einfaches Einführen eines Inertgases jedoch nicht ausreichend groß. Übliche Gaslöcher wurden verwendet, um den Druck einzustellen und die Größe war gering verglichen mit der Höhe des Membranrahmens. Beispielsweise war die Größe von Gaslöchern etwa 0,5 mm, während die Höhe des Membranrahmens aus Aluminium etwa 5 mm war.

Wenn andererseits eine Membranvorrichtung an einer Photomaske angebracht wird, ist es wichtig, dass die gesamte Bodenfläche des Membranrahmens in engem Kontakt ohne Zwischenraum an der Photomaske befestigt und versiegelt ist, damit kein Zwischenraum gebildet wird, der z. B. Staub einlässt. Für solches Versiegeln kann ein druckempfindlicher Klebstoff bzw. Haftklebstoff auf die Stirnfläche des Membranrahmens an der Photomaskenseite aufgetragen werden oder der Membranrahmen wird mit Hilfe eines druckempfindlichen Klebebandes bzw. Haftklebebandes an der Photomaske befestigt. Zu dem Zeitpunkt kann zur Erhöhung des Versiegelungsgrades mit Hilfe eines Membranmontiergeräts eine Last von mindestens 30 kg auf den oberen Teil der Membranvorrichtung ausgeübt werden.

Durch eine Untersuchung der Erfinder wurde gefunden, dass das Belichtungsmuster eine Verzerrung aufweisen kann, wenn die Gaslöcher vergrößert werden, um die Membranatmosphäre passiv austauschen zu lassen. Der Rahmen kann durch die Last während des Montierens der Membranvorrichtung auf die Photomaske nämlich eine Verzerrung aufweisen. Weiterhin wird während des Bohrens des Membranrahmens zur Bildung von Gaslöchern in dem Membranrahmen wahrscheinlich eine Restspannung verbleiben, wodurch sich die Ebenheit der oberen und unteren Flächen des Membranrahmens verschlechtern kann. Wenn aus einem solchen Grund eine Photomaske nach Anbringen der Membranvorrichtung eine Verwerfung aufweist, ist das belichtete Muster in der Regel eine Doppelbelichtung oder die Belichtungsposition kann verschoben sein, wodurch ein Fehler verursacht wird. Insbesondere erhöht sich der zum Montieren einer Membranvorrichtung auf einer Photomaske erforderliche Druck, wenn die Photomaske großformatig ist und die Möglichkeit von Fehlern aufgrund einer solchen Verzerrung bzw. Verwerfung erhöht sich.

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung den Austausch der Atmosphäre in der Membranvorrichtung durch einfaches Einleiten eines Inertgases zu erleichtern und eine Membranvorrichtung zu erhalten, die keine Verzerrung des Belichtungsmusters aufweisen wird. Es ist somit eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, durch Optimieren der Struktur der vorstehend erwähnten Gaslöcher die Verschlechterung der Festigkeit der Membranvorrichtung zu vermindern und eine Membranvorrichtung mit einer verbesserten Inertgasaustauschgeschwindigkeit bereitzustellen.

Die vorliegende Erfindung wurde ausgeführt, um die vorstehend erwähnten Probleme zu lösen und sie stellt eine Membranvorrichtung bereit, umfassend einen kastenförmigen Membranrahmen mit oberen und unteren Öffnungen und ein Membranblatt, welches an dem Membranrahmen befestigt ist, um eine der Öffnungen des Membranrahmens abzudecken, wobei der Membranrahmen aus Quarzglas hergestellt ist, eine Vielzahl von Gaslöchern, verteilt an gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens, ausgebildet ist und die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens maximal 3/5 der Höhe des Membranrahmens ist.

Gemäß der vorliegenden Erfindung wird der Membranrahmen aus Quarzglas hergestellt, wobei eine Vielzahl von Gaslöchern auf den gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens verteilt sind und die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens maximal 3/5 der Höhe des Membranrahmens ist, wodurch es möglich ist, die Verzerrung der Membranvorrichtung aufgrund der Belastung während der Montage zu vermindern und eine Verformung des Membranrahmens aufgrund der Restspannung, die beim Verarbeiten zur Bildung von Gaslöchern gebildet wird, zu vermindern. Weiterhin kann der Austausch der Atmosphäre in der Membranvorrichtung durch einfaches Einleiten eines Inertgases erleichtert werden.

In den beigefügten Zeichnungen ist:
Fig. 1 eine perspektivische Ansicht, die eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung zeigt,
Fig. 2 eine schematische Ansicht, die die Definition der Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe eines Membranrahmens erläutert,
Fig. 3 eine schematische Ansicht, die die Definition der Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe eines Membranrahmens erläutert,
Fig. 4 eine Kurve, die die Beziehung zwischen der Größe der Gaslöcher und dem Grad der Ebenheit zeigt.
Fig. 1 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Ausführungsform der erfindungsgemäßen Membranvorrichtung zeigt. An der oberen Fläche von dem Membranrahmen 3 ist ein Membranblatt 4, hergestellt aus ebenem, transparentem Quarzglas befestigt. Der Membranrahmen 3 und das Membranblatt 4 bauen eine Membranvorrichtung auf. Wie in Fig. 1 gezeigt, ist die Membranvorrichtung anzuwenden, wenn sie beispielsweise durch einen Klebstoff an einer Photomaske 5 befestigt ist.
In der vorliegenden Erfindung wird Quarzglas als das Material für den Membranrahmen verwendet. Folglich ist es möglich, die durch Bearbeiten zur Bildung von Gaslöchern verursachte Restspannung zu minimieren und es ist deshalb möglich, eine Verzerrung der Photomaske, nachdem die Membranvorrichtung an der Photomaske montiert ist, zu vermindern. Weiterhin hat Quarzglas eine höhere Steifigkeit, verglichen mit üblichem Aluminium. Folglich kann die Größe der Gaslöcher in den Seitenwänden des Membranrahmens groß hergestellt werden, wodurch der Austausch der inneren Atmosphäre der Membranvorrichtung wirksam ausgeführt werden kann. Wenn für einen F₂-Laser verwendet, wird das Membranblatt vorzugsweise aus einem synthetischen Quarzglas mit einer hohen Haltbarkeit gegen Vakuum-Ultraviolettstrahlen hergestellt.
In der vorliegenden Erfindung wird eine Vielzahl von Gaslöchern 1, verteilt an gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens 3, ausgebildet. Die an den gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens ausgebildeten Gaslöcher sind dergestalt, dass jene, die an der einen Seitenwand gebildet werden, als Gaseinlasslöcher wirken werden und jene an der anderen Seitenwand als Gasauslasslöcher wirken werden. Die Gaslöcher 1 werden an jeder der gegenüberliegenden Seitenwände des Membranrahmens 3 in einer Vielzahl bereitgestellt, wodurch die Austauschwirksamkeit verbessert wird. Durch diese Löcher wird ein Inertgas in die Membranvorrichtung eingeführt und das innere Gas der Membranvorrichtung wird abgelassen, wodurch die Atmosphäre in dem Raum im Inneren der Membranvorrichtung, der durch das Membranblatt 4, Membranrahmen 3 und die Photomaske 5 definiert wird, durch das Inertgas ersetzt werden kann und der Sauerstoffpartialdruck gesenkt werden kann.
Die Form der Gaslöcher ist nicht besonders begrenzt. Um jedoch den Druckverlust des Gases zu minimieren, ist die Form der Gaslöcher vorzugsweise kreisförmig. Wenn die Form kreisförmig ist, kann die Geschwindigkeit zum Austausch der inneren Atmosphäre der Membranvorrichtung durch das Inertgas verbessert werden, wodurch es möglich ist, die Inertgas-Austauschzeit zu verkürzen und die Menge an anzuwendendem Inertgas zu vermindern.
Wenn die Form eines Gaslochs nicht kreisförmig ist, kann die Größe eines solchen Gaslochs in der Richtung der Höhe des erfindungsgemäßen Membranrahmens als L₁, gezeigt in Fig. 2, definiert werden. Weiterhin wird in einem Fall, wenn eine Vielzahl von Gaslöchern in der Richtung der Höhe des Membranrahmens gebildet wird, die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des erfindungsgemäßen Membranrahmens durch die Summe der Größen in der Höhenrichtung (L₂ + L₃ + L4), wie in Fig. 3 gezeigt, definiert.
Die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens ist maximal 3/5 der Höhe des Membranrahmens, vorzugsweise maximal S der Höhe des Membranrahmens.
Andererseits ist die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens vorzugsweise mindestens 1/5 der Höhe des Membranrahmens. Wenn die Größe kleiner als dies ist, wird zum Austausch des Gases in der Regel zu viel Zeit verstreichen.
Es ist bevorzugt, dass die Gaslöcher an solchen Positionen gebildet werden, dass das innere Gas der Membranvorrichtung in einem kurzen Zeitraum ersetzt wird. Es ist somit bevorzugt, dass unter Berücksichtigung des Gasstroms in dem Inneren der Membranvorrichtung während der Einführungszeit des Gases solche Löcher an solchen Positionen gebildet werden, dass das innere Gas der Membranvorrichtung in kurzer Zeit ohne Stagnation des Gasstroms soweit wie möglich ersetzt werden kann.
Es ist insbesondere bevorzugt, dass die Gaslöcher in seitlicher Richtung der Seitenwände symmetrisch bezüglich der Mittellinie verteilt sind. Wenn die Vielzahl der auf der vorstehenden Membranvorrichtung bereitgestellten Gaslöcher symmetrisch bezüglich der Mittellinie in der Seitenrichtung von jeder der Seitenwände des Membranrahmens verteilt ist, wird die durch das Verarbeiten verursachte Restspannung vermindert werden und die Verzerrung des Membranrahmens selbst wird niedrig sein. Die Verzerrung der Photomaske nach Anbringen der Membranvorrichtung auf der Photomaske wird somit klein sein, wodurch es möglich ist, einen Mangel, wie eine Verformung des Musters, während der Belichtung zu verhindern. Weiterhin kann durch symmetrisches Anordnen der Gaslöcher in den Seitenwänden des Membranrahmens die Bildung einer mechanischen Spannung der Membranvorrichtung aufgrund des Gasstroms im Inneren der Membranvorrichtung vermindert werden, was bevorzugt ist.
Weiterhin ist es bevorzugt, einen Staubschutzfilter zum Abdecken der Gaslöcher bereitzustellen. Es ist besonders bevorzugt, einen Filter innerhalb des Membranrahmens bereitzustellen, wodurch es möglich wird, das Eintreten von Staub und so weiter vom Äußeren zu verhindern und Staub und so weiter, der im Inneren der Membranvorrichtung schwebt, zu entfernen.
Die Dicke des Membranrahmens ist vorzugsweise 1 bis 3 mm. Wenn sie dünner als diese ist, wird die Steifheit in der Regel unzureichend. Wenn sie dicker als diese ist, wird der Widerstand während der Einführung des Inertgases wahrscheinlich zu hoch. Weiterhin tendiert der eingeführte Inertgasstrom dazu, turbulent zu sein, wodurch es in der Regel schwierig wird, den Austausch wirksam auszuführen.
Die erfindungsgemäße Membranvorrichtung ist zum Austauschen der inneren Atmosphäre durch einfaches Einleiten eines Inertgases geeignet. Der Austausch der inneren Atmosphäre der Membranvorrichtung kann somit durch Einleiten eines Inertgases von außen von einer der Seitenwände mit den ausgebildeten Gaslöchern erleichtert werden.
Als Inertgas können N₂-Gas oder ein Edelgas, wie Ar oder He, angewendet werden. Insbesondere ist es vom Standpunkt der Verfügbarkeit und niedrigen Kosten bevorzugt, N₂-Gas anzuwenden.
Um die Durchlässigkeit für einen F₂-Laser (Wellenlänge: 157 nm) im Inneren der Membranvorrichtung zu sichern, ist es bevorzugt, O₂ im Inneren der Membranvorrichtung auf maximal 20 ppm einzustellen, wodurch die Durchlässigkeit im Inneren der Membranvorrichtung mindestens 99,9%/cm sein kann. Eine bevorzugtere O₂- Konzentration im Inneren der Membranvorrichtung ist maximal 10 ppm.
Der Membranrahmen in der erfindungsgemäßen Membranvorrichtung kann durch das nachstehende Verfahren hergestellt werden. Um beispielsweise Parallelität in der Höhenrichtung zu sichern, werden die oberen und unteren Stirnflächen eines Plattenmaterials, hergestellt aus synthetischem Quarz, mit Hilfe von Schleifkörnern aus beispielsweise Diamant, Ceroxid, Siliciumdioxid oder Aluminiumoxid spiegelpoliert und anschließend wird das Plattenmaterial mit Hilfe einer Schaftfräse in eine rechtwinklige Form in einer vorbestimmten Membranrahmendicke geschnitten. Der äußere Rand wird mit Harz/Diamant geschliffen. Insbesondere wenn die Seitenwände des Membranrahmens mit Cer spiegelpoliert werden, kann die mögliche Bildung von Staub vermindert werden, was erwünscht ist. Schließlich wird mit Hilfe eines Bohrers eine Vielzahl von Gaslöchern gebildet. Weiterhin ist es im Hinblick auf das Entfernen von Mikrorissen in dem Membranrahmen bevorzugt, den Membranrahmen in einen Ätztank zu tauchen, um den gesamten Membranrahmen Ätzen zu unterziehen.
Nun wird die vorliegende Erfindung mit Bezug auf Beispiele genauer beschrieben. Jedoch sollte verstanden werden, dass die vorliegende Erfindung in keiner Weise durch solche speziellen Beispiele begrenzt wird.

Beispiele 1 bis 5

Aus einer spiegelpolierten, ebenen Platte, hergestellt aus Quarzglas und mit einer Dicke von 4,2 mm, wurde ein rechtwinkliger Rahmenkörper mit einer äußeren Abmessung von 149 mm × 122 mm und einer inneren Abmessung von 145 mm × 118 mm mit Hilfe einer Schaftfräse geschnitten. Jede Ecke wurde mit einem Radius von 5 mm gerundet und weiterhin wurden die Seitenwände mit Diamantschleifkörnern poliert, um einen Membranrahmen mit einer Höhe von 4,0 mm und mit insgesamt spiegelpolierter Oberfläche zu erhalten. An jeder der gegenüberliegenden Seitenwände des Membranrahmens wurden vier Gaslöcher mit einer wie in Tabelle 1 ausgewiesenen Lochgröße gebildet und dann wurde der Grad der Ebenheit der Kontaktfläche mit dem Membranblatt durch eine dreidimensionale Messvorrichtung gemäß dem Bewertungsverfahren 1, das nachstehend beschrieben wird, gemessen. Weiterhin wurde mit Hilfe eines Klebstoffs vom Fluortyp ein Membranblatt, herstellt aus synthetischem Quarzglas mit einer ebenen Form und mit einer Dicke von 0,8 mm und einer Größe entsprechend der äußeren Abmessung des Membranrahmens, montiert und befestigt.

Beispiel 6

Ein rechtwinkliger Rahmenkörper mit einer äußeren Abmessung von 149 mm × 122 mm und einer inneren Abmessung von 145 mm × 118 mm wurde aus einer ebenen Platte, hergestellt aus Aluminium und mit einer Dicke von 4,2 mm, geschnitten, wobei jede Ecke mit einem Radius von 5 mm gerundet wurde und weiterhin wurden die oberen und unteren Stirnflächen mit Hilfe von Diamantschleifkörnern poliert, um einen Membranrahmen mit einer Höhe von 4,0 mm zu erhalten. An jeder der gegenüberliegenden Seitenwände des Membranrahmens wurden vier Gaslöcher mit einer Lochgröße von 2,4 mm gebildet und dann wurde der Grad der Ebenheit der Kontaktfläche mit einem Membranblatt mit einer dreidimensionalen Messvorrichtung gemäß Bewertungsverfahren 1, das nachstehend beschrieben wird, gemessen. Weiterhin wurde mit Hilfe eines Klebstoffs vom Fluortyp ein Membranblatt, hergestellt aus synthetischem Quarzglas mit einer ebenen Form und mit einer Dicke von 0,8 mm und einer Größe entsprechend der äußeren Abmessung des Membranrahmens, montiert und befestigt.
Die wie in Beispielen 1 bis 6 fertiggestellten Membranvorrichtungen wurden mit Hilfe eines Klebstoffs vom Fluortyp an einer Photomaske befestigt und ein Membranvorrichtungsbindungstest wurde gemäß Bewertungsverfahren 2, das nachstehend beschrieben wird, ausgeführt, um Mikrorisse an dem Membranrahmen zu prüfen. Die Ergebnisse werden in Tabelle 1 gezeigt. Tabelle 1

Bewertungsverfahren 1

Mit Hilfe einer dreidimensionalen Messvorrichtung UAP-5 (hergestellt von Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) wurde der Grad der Ebenheit der Stirnfläche des Membranrahmens innerhalb eines Bereichs von 1,5 mm × 120 mm gemessen.

Bewertungsverfahren 2

Mit Hilfe eines Membranmontierers M515k (hergestellt von Matsushita Seiki K. K.) wurde eine Membran an einen Nlembranrahmen unter einer Last von 30 kg (16 197 Pa) befestigt, wonach Risse an der äußeren peripheren Seitenoberfläche des Membranrahmens durch eine Lichtquelle von mindestens 400 000 Lux visuell bestätigt wurden.
Fig. 4 zeigt die Ergebnisse bezüglich des Grades an Ebenheit. In Klammern ( ) an der Abszisse wird das Verhältnis der Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens zu der Höhe des Membranrahmens gezeigt. Es wird deutlich, dass wenn dieses Verhältnis 3/5 übersteigt, der Grad der Ebenheit sich stark verschlechtert.
Wie im Vorangehenden beschrieben, ist es gemäß der vorliegenden Erfindung möglich, eine Verzerrung einer Membranvorrichtung aufgrund der Belastung während des Montierens zu vermindern und eine Verformung des Membranrahmens aufgrund der Restspannung, verursacht durch die Bearbeitung zur Bildung von Gaslöchern, zu minimieren. Weiterhin kann der Austausch der Atmosphäre in dem Rahmen durch einfaches Einleiten von Inertgas erleichtert werden.
In der vorliegenden Erfindung ist es am meisten bevorzugt, Quarzglas als Material für den Membranrahmen anzuwenden. Wenn synthetisches Quarzglas als Membranblatt verwendet wird, ist es möglich, an Stelle von Quarzglas ein Material, wie ein sich wenig ausdehnendes Glas, Keramik oder kristallisiertes Glas mit einem Wärmeausdehnungskoeffizienten von im Wesentlichen gleich dem von Quarzglas (insbesondere mit einem mittleren Wärmeausdehnungskoeffizienten im Bereich von 50 bis 300°C von 1 × 10^-7 bis 40 × 10^-7/°C, insbesondere einem linearen Wärmeausdehnungskoeffizienten innerhalb ± 50% des linearen Wärmeausdehnungskoeffizienten von Quarzglas) zu verwenden.
Die vollständige Offenbarung der japanischen Patentanmeldung Nr. 2001-229527, eingereicht am 30. Juli 2001, einschließlich Beschreibung, Ansprüche, Zeichnungen und Zusammenfassung, ist hierin durch diesen Hinweis in ihrer Gesamtheit einbezogen.

Claims

1. Membranvorrichtung, umfassend einen kastenförmigen Membranrahmen mit oberen und unteren Öffnungen und ein Membranblatt, welches an dem Membranrahmen befestigt ist, um eine der Öffnungen des Membranrahmens abzudecken, wobei der Membranrahmen aus Quarzglas hergestellt ist, eine Vielzahl von Gaslöchern, verteilt an gegenüberliegenden Seitenwänden des Membranrahmens, ausgebildet ist und die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens maximal 3/5 der Höhe des Membranrahmens ist.

2. Membranvorrichtung nach Anspruch 1, wobei die Größe der Gaslöcher in der Richtung der Höhe des Membranrahmens mindestens 1/5 der Höhe des Membranrahmens ist.

3. Membranvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, wobei das Membranblatt aus synthetischem Quarzglas hergestellt ist.

4. Membranvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Gaslöcher kreisförmig sind.

5. Membranvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die Gaslöcher in seitlicher Richtung der Seitenwände symmetrisch bezüglich der Mittellinie verteilt sind.

6. Membranvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Höhe des Membranrahmens 1 bis 3 mm ist.

7. Membranvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, die zum Belichten mit Licht mit einer Wellenlänge von maximal 220 nm verwendet wird.

8. Membranvorrichtung nach Anspruch 7, die zum Belichten mit einem F₂- Laserstrahl verwendet wird.

9. Membranvorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 8, wobei als das Material für den Membranrahmen anstelle des Quarzglases ein Material verwendet wird, welches einen Wärmeausdehnungskoeffizienten besitzt, der im Wesentlichen gleich dem von Quarzglas ist.