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Die Erfindung betrifft eine Probenbehandlungsstation,
welche folgendes enthält:
eine
Gerätebasisplatte;
eine
gegenüber
dieser vertikal abgestützten
und in einer Horizontalebene beweglichen Schütteltischplatte;
einem
zwischen diesem beiden Platten angeordneten und mit ihnen gekoppelten
Schüttelantrieb
zur Horizontalbewegung der Schütteltischplatte
im wesentlichen ausschließlich
translatorisch, mit Mitteln zur Stillsetzung der Schütteltischplatte
in einer präzisen
Ruhestellung;
einer auf der Schütteltischplatte vorgesehenen
Mikrotiterplattenhalterung; und
einer in die Halterung entnehmbar
eingesetzten, eine Vielzahl von Probenbehältnissen aufweisenden Mikrotiterplatte,
deren Probenbehältnisse
mittels einer automatisch betätigten
Befüllungs-
und Entnahmeeinrichtung mit Proben befüllbar bzw. entleerbar sind.
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Probenbehandlungsstationen dieser
Art sind aus der deutschen Gebrauchsmusterschrift 200 18 633.7 an
sich bekannt.
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Zum besseren Verständnis der
Erfindung seien folgende allgemeine Betrachtungen vorausgeschickt.
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In der Pharma-Forschung, der chemischen Synthese
von Wirkstoffen, in der Mikrobiologie. der Züchtung von Zellen in Nährlösungen,
bei der Analyse beispielsweise von Blut oder Gewebeproben und dergleichen,
besteht seit Jahren der Trend zu immer geringeren Probemengen und
der Parallelverarbeitung einer größer werdenden Zahl von unterschiedlichen
Einzelproben unter in engen Grenzen gleichen Bedingungen. Die Handhabung
dieser großen
Zahl von Einzelproben wurde durch den Einsatz von Pipettier-Roboter-Stationen,
von Positionierungs-Robotern, von vollautomatischen Analyse-Systemen und der
Entwicklung der zugehörigen
Software ermöglicht.
Die Außenabmessungen
von Probenbehältniseinheiten,
sogenannten Mikrotiterplatten, wurden im Zuge der Vereinheitlichung
von Probenbehandlungsmethoden standardisiert. Die Mikrotiterplatten
haben je nach Bedarf 24 Probenbehältnisse im Milliliter-Bereich
oder 96 Probenbehältnisse
im 100-Mikroliter-Bereich oder 384 Probenbehältnisse im 10-Mikroliter-Bereich
oder gar 1536 Probenbehältnisse
im Mikroliter-Bereich. Bei den Mikrotiterplatten handelt es sich
zum größten Teil
um Kunststoff-Einwegartikel, nachdem ihre Sterilisierung oder vollständige Reinigung
zur Wiederverwendung nur schwer zu erreichen ist.
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Eine der wichtigsten Behandlungsmaßnahmen
stellt die gute Durchmischung der Proben in den einzelnen Behältnissen
dar, welche um so schwieriger wird, je geringer das Probenvolumen
ist.
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Eine weitere sehr wichtige Behandlungsmaßnahme ist
auch die Wärmebehandlung
der Proben in den Probenbehältnissen
jeweils unter weitestgehend gleichen Bedingungen, also das entweder wahlweise
oder in bestimmter Folge durchgeführte Erwärmen, Abkühlen oder Temperieren der Proben, sowie
das Aufkonzentrieren durch Abdampfenlassen einer Suspensionsflüssigkeit
oder eines Lösungsmittels,
was ebenfalls unter weitestgehend gleichen Bedingungen in den einzelnen
Probenbehältnissen
zu geschehen hat.
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Um wäßrige oder andersartige Suspensionsflüssigkeiten
und wäßrige oder
andersartige Lösungsmittel
zu verdampfen und die in Suspension vorliegenden Inhaltsstoffe oder
die gelösten
Inhaltsstoffe zu konzentrieren, hat man bisher im wesentlichen zwei
unterschiedliche Verfahren angewendet, nämlich das Sieden der Proben
unter Zufuhr von Heizleistung und das Anblasen der Proben mit Luft oder
Inertgas zur Beschleunigung der Verdunstung.
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Oft liegen Inhaltsstoffe vor, die
beim Sieden unter Normaldruck (etwa 100°C bei wäßrigen Suspensions- oder Lösungsmitteln)
zerstört
werden, weshalb ein schonendes Aufkonzentrieren etwa durch Anblasen
mit Luft zur Beschleunigung der Verdunstung bevorzugt wird.
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Es ist jedoch auch die Methode bekannt,
die Proben in einer Vakuumkammer sieden zu lassen, derart, daß beispielsweise
wäßrige Suspensions- oder
Lösungsmittel
bei einem Druck von 20 mbar bei etwa 20°C sieden. Hierbei besteht jedoch
das Problem einer Blasenbildung und eines Siedeverzugs, was unausweichlich
zu einem Überkochen
der Proben in den Probenbehältnissen über den
Behältnisrand
hinaus und zu einem Schäumen
der Probe führt. Dieser
Erscheinung versuchte man durch die Probenbe-handlung in einer Zentrifuge zu begegnen,
da bei geeigneten Beschleunigungen aufsteigende Blasen zerplatzen
oder aufgrund des Schwerefeldes die aufsteigenden Blasen in der
Probe klein bleiben.
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Es zeigt sich jedoch, daß die einzelnen
Probenbehandlungsmaßnahmen
an in die Probenbehältnisse
von Mikrotiterplatten eingefüllten
Proben, nämlich
das Durchmischen durch Schütteln,
verschiedene Wärmebehandlungsmaßnahmen,
das Aufkonzentrieren und beispielsweise auch das Separieren von
Inhaltsstoffen durch Magnetperlenbehandlung und dergleichen, bisher
eine Reihe von Probenbehandlungsstationen erforderlich machten,
welche entweder von Hand oder durch eine Mehrzahl von Roboter-Manipulatoren. zu
bedienen waren und demgemäß einen
großen
Platzaufwand und Kostenaufwand bedingten.
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Durch die Erfindung soll die Aufgabe
gelöst werden,
eine Probenbehandlungsstation der eingangs definierten Art so auszugestalten,
daß an
einem Ort und mit einer Ge räteeinheit
die in die Probenbehältnisse
einer Mikrotiterplatte eingefüllten Proben
nicht nur durch Schütteln
intensiv durchmischt, sondern auch einer Vakuumbehandlung unterzogen
werden können,
ohne daß die
Mikrotiterplattenhandhabung und die automatische Probenbefüllung und
Probenentnahme, beispielsweise durch eine Roboter-Pipettiereinrichtung
behindert oder unmöglich
gemacht wird, und ferner, ohne daß die betreffende Mikrotiterplatte
durch mehrere unterschiedliche Behandlungsstationen geführt werden
muß.
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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die
Merkmale des Anspruchs 1 gelöst,
wobei also über
der Mikrotiterplatte eine diese überspannende Evakuierplatteneinheit
abnehmbar angeordnet ist, die so abdichtbar ausgebildet ist, daß sie in
allen Probenbehältnissen
der Mikrotiterplatte ein Vakuum zu erzeugen gestattet, und die über Anschlüsse der
Gerätebasisplatte
steuerbar mit einer Vakuumquelle bzw. einer Belüftungsquelle verbindbar ist.
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Der einer Bahandlungsstation der
hier angegebenen Art zugrunde liegende Konstruktionsgedanke sieht
vor, die Behandlungsstation aus einem über der Gerätebasis und/oder der Schütteltischplatte
aufgebauten Stapel von plattenartigen Geräteeinheiten aufzubauen, die
sämtlich
an ihrem Rand mit Eingriffselementen zur Zusammenwirkung mit dem
Manipulator eines einzigen Roboters versehen sind und in gewünschter
Auswahl aufstapelbar bzw. voneinander trennbar sind, wobei einzelne
plattenartige Geräteeinheiten
mit Dichtungen zur Randabdichtung gegenüber den benachbarten plattenartigen
Geräteeinheiten
sowie auch mit Dichtungen zur Abdichtung von Durchführungskanalanordnungen
versehen sind und diese Dichtungen in erster Linie durch Wirksamwerden
eines Vakuums zwischen den plattenartigen Geräteeinheiten ihre Abdichtwirkung
entfalten und bei Belüftung
der Vakuumräume
ein einfaches Lösen der
zuvor abgedichteten plattenartigen Geräteeinheiten voneinander ermöglichen.
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Vorteilhafte Ausgestaltungen und
Weiterbildungen der Probenbehandlungsstation der hier angegebenen
Art sind in den dem anliegenden Anspruch 1 nachgeordneten Pa tentansprüchen gekennzeichnet,
deren Inhalt hierdurch ausdrücklich zum
Bestandteil der Beschreibung gemacht wird, ohne an dieser Stelle
den Wortlaut zu wiederholen.
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Zwar sind diese Ansprüche, wie
soeben gesagt, dem Anspruch 1 nachgeordnet, doch beinhalten sie
durchaus Merkmale und Merkmalskombinationen, die unabhängig von
den Merkmalen des Anspruches 1 von selbständiger erfinderischer Bedeutung
sind, worauf in der nachfolgenden Beschreibung im Einzelnen eingegangen
wird.
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Nachfolgend wird die Erfindung anhand
einiger Ausführungsformen
unter Bezugnahme auf die Zeichnung beschrieben, in welcher:
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1 eine
schematische perspektivische, ausschnittsweise Darstellung einer
Probenbehandlungsstation der hier betrachteten allgemeinen Art ist, wobei
die Mikrotiterplatte von der Schütteltischplatte abgehoben
dargestellt ist;
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2 eine
perspektivische, schematisch ausschnittsweise Darstellung einer
ersten Ausführungsform
der Erfindung ist;
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3 eine
zweite Ausführungsform
einer Probenbehandlungsstation der hier angegebenen Art in ähnlicher
Darstellungsweise wie in 2 wiedergibt;
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4 eine
dritte Ausführungsform
einer Probenbehandlungsstation der hier angegebenen Art in ähnlicher
Darstellungsweise wie 2 und 3 zeigt;
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5A und 5B schematisierte Vertikalschnittdarstellungen
des linken Teiles bzw. des rechten Teiles einer Weiterbildung einer
Probenbehandlungsstation der grundsätzlichen Konstruktion nach 2 zeigen;
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6 eine
perspektivische schematische, ausschnittsweise Darstellung einer
Einzelheit einer Probenbehandlungsstation der hier angegebenen Art wiedergibt,
wobei diese Einzelheit als Weiterbildung in Probenbehandlungsstationen
nach den 2 bis 5B vorgesehen sein kann;
und
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7 eine
schematische ausschnittsweise Vertikalschnittdarstellung einer Probenbehandlungsstation
der hier angegebenen Art in der grundsätzlichen Ausbildung gemäß 4 mit einer Reihe von Weiterbildungen
und Ergänzungen
zur Durchführung zusätzlicher
Behandlungsmaßnahmen.
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1 zeigt
eine Probenbehandlungsstation mit einer Gerätebasisplatte 1, über welcher
durch eine Schwenkstützenkonstruktion
mit einer Reihe von der Gerätebasisplatte
L aufragenden Schwenkstützen,
von denen in 1 eine
bei 2 schematisch angedeutet ist, eine gegenüber der Gerätebasisplatte 1 vertikal
abgestützte
und in einer Horizontalebene bewegliche Schütteltischplatte 3 angeordnet
ist. Zwischen der Gerätebasisplatte
und der Schütteltischplatte
befindet sich ein elektromagnetischer Schüttelantrieb 4 zur
Horizontalbewegung der Schütteltischplatte 3 im
wesentlichen ausschließlich
translatorisch gegenüber
der Geräteplatte 1.
Der Schüttelantrieb 4, beispielsweise
zur Erzeugung kreisförmiger
translatorischer Bewegungen der Schütteltischplatte 3 gegenüber der
Gerätebasis 1,
kann, wie in der bereits zuvor erwähnten deutschen Gebrauchsmusterschrift 200 18
633.7 beschrieben ist, ausgebildet sein, so daß sich eine ins einzelne gehende
Beschreibung des Schüttelantriebs 4 hier
erübrigt.
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Bedeutsam ist jedoch, daß beispielsweise durch
besondere Ausbildung der Schwenkstützen 2 oder durch
federbelastete Indexstifte, die zwischen der Gerätebasisplatte 1 und
der Schütteltischplatte 3 wirksam
sind, oder auch durch eine in bestimmter Weise gesteuerte Erregung
des elektromagnetischen Schüttelantriebs 4 während eines
Ruhezustandes, dafür
Sorge getragen ist, daß die
Schütteltischplatte
in einer präzisen
Ruhestellung gegenüber der
Gerätebasisplatte
stillgesetzt wird, sobald die Schüttelbe wegungen der Schütteltischplatte
beendet sind. Die Bedeutsamkeit der Mittel zum Stillsetzen der Schütteltischplatte
in einer präzisen
Ruhestellung ergibt sich aus der Notwendigkeit der automatischen Befüllung und
Entleerung einer Vielzahl von Prohenbehältnissen mittels einer roboterbetätigten Pipettiereinrichtung,
deren Pipetten auf die präzise
positionierten Behältnismündungen
treffen müssen.
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Auf der Schütteltischplatte 3 befindet
sich eine Mikrotiterplattenhalterung 5 in Gestalt von am Rand
der Schütteltischplatte 3 angeordneten
Haltewinkeln, die nahe den Ecken der Schütteltischplatte angeordnet
sind und zwischen sich eine Haltefläche definieren, über der
eine Mikrotiterplatte 6 durch Einsetzen zwischen die Haltewinkel
der Mikrotiterplattenhalterung positioniert werden kann. Die Mikrotiterplattenhalterung
kann mit Rastmitteln auf der nach einwärts weisenden Seite der Haltewinkel
oder mit elastisch nachgiebigen Wänden dieser Haltewinkel ausgestattet
sein, um die Mikrotiterplatte 6 gegen einen bestimmten
Reibungswiderstand oder Rastwiderstand auf die Schütteltischplatte
3 aufsetzen zu können
und gegen die genannten Widerstände,
beispielsweise mittels des Manipulators eines Rotors, von der Schütteltischplatte 3 abheben
zu können.
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Die Mikrotiterplatte 6 weist
eine Vielzahl von Probenbehältnissen 7 auf,
deren Innenraum mittels einer automatisch betätigten Befüllungs- und Entnahmeeinrichtung,
beispielsweise einer Pipettiereinrichtung mit einer Vielzahl von
Befüllung-
und Entnahmepipetten, mit Proben befüllbar bzw. nach Behandlung wieder
enleerbar sind. Die roboterbetätigte
und in ihrer Funktion rechnergesteuerte Pipettiereinrichtung ist
in der Zeichnung aus Übersichtlichkeitsgründen nicht
dargestellt, dem Fachmann jedoch auf diesem Gebiete bekannt.
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Die vorliegende Erfindung bezieht
sich auf Probenbehandlungsstation der anhand von Fig. 1 beschriebenen allgemeinen Art.
Es sei hier bemerkt, daß die
in der Zeichnung gewählten
Größenverhältnisse
und Abmessungen keinen Anspruch auf Maßstäblichkeit erheben und daß insbesondere
auch die Lage und Querschnittsdimensionierung von Zuleitungen und
Ableitungen für
Wärmetauschmittel,
Dämpfe oder
Gase in der Zeich nung mitunter aus Darstellungsgründen an
bestimmten Orten, insbesondere mit Bezug auf die Aufsicht, einzelner
plattenartiger Geräteeinheiten
gewählt
ist, praktisch jedoch in einer Aufsicht der betreffenden plattenfömigen Geräteeinheit
auch weit auseinanderliegend gewählt
sei kann.
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2 zeigt
eine erste Ausführungsform
einer Probenbehandlungsstation der hier eingegebenen Art mit dem
grundsätzlichem
Aufbau gemäß 1, wobei wiederum eine Gerätebasisplatte
1, ein mit dieser und einer Schütteltischplatte 3 gekoppelter Schüttelantrieb 4 und
ein auf die Schütteltischplatte 3 abnehmbar
aufgesetzte Mikrotiterplatte 6 vorgesehen sind.
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Über
der Mikrotiterplatte 6 befindet sich eine diese überspannende
Evakuierplatteneinheit 8 in Gestalt einer Haube, die eine
Deckplatte 9 sowie an diese einstöckig anschließende seitliche
Wände 10 aufweist,
deren unterer Rand gegenüber
der gasdicht zur Umgebung hin ausgebildeten Gerätebasisplatte 1 über eine
rundumlaufende Dichtleiste 1.1 dicht abgeschlossen ist,
wenn die Evakuierplatteneinheit 8 über die Schütteltischplatte 3 und
die Mikrotiterplatte 6 gestülpt ist.
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im Bereich des Randes der nach oben
weisenden Fläche
zwischen der gegenüber
den Gerätebasisplatte 1 zurückgesetzten
Schütteltischplatte 3 und
den Innenwänden
der Evakuierplatteneinheit 8 befinden sich eine Mündungsöffnung 12 eines
durch die Gerätebasisplatte 1 geführten Evakuierkanales 13, über den
die Gerätebasisplatte 1 mittels
einer schematisch angedeuteten Anschlusses 14 mit einer Vakuumpumpe
verbindbar ist, sowie ferner eine Mündungsöffnung 15 eines durch
die Gerätebasisplatte 1 geführten Belüftungskanal 16, über den
die Gerätebasisplatte 1 mittels
eines Anschlusses 17 mit einer Belüftungseinrichtung verbindbar
ist. Im Leitungszug zur Vakuumquelle oder Vakuumpumpe und zu der Belüftungsquelle
können
Steuermittel und Meßeinrichtungen
vorgesehen sein, welche in 2 zur
Vereinfachung der Darstellung nicht gezeigt sind.
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An den Seitenrändern der Mikrotiterplatte 6 befinden
sich in 2 schematisch
angedeutete Angriffsorgane zur Zusammenwirkung mit einem Roboter-Manipulator, wobei
diese Angriffsorgane, beispielsweise in Gestalt von Randausnehmungen,
mit 18 bezeichnet sind. In entsprechender Weise sind an den Seitenwänden 10 der
Evakuierplatteneinheit 8 Angriffsorgane 19 vorgesehen.
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ist also beispielsweise durch einen
Roboter-Manipulator die Mikrotiterplatte 6 zwischen die Haltewinkel 5 der
Mikrotiterplattenhalterung eingesetzt worden, was bei von der Gerätebasisplatte 1 abgenommener
Evakuierplatteneinheit 8 geschieht, so kann danach mittels
einer Pipettiereinrichtung ein Befüllen der Probenbehältnisse 7 der
Mikrotiterplatte 6 geschehen, falls dies nicht zuvor bereits
vor Einsetzen der Mikrotiterplatte 6 in die Mikrotiterplattenhalterung
geschehen ist.
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Sodann wird die Evakuierplatteneinheit 8 über die
Schütteltischplatte 3 und
die befüllte
Mikrotiterplatte 6 gestülpt,
so daß die
rundumlaufende Dichtung 11 am unteren Rand der Seitenwände 10 auf
der nach oben weisenden Fläche
der Gerätebasisplatte 1 aufliegt.
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Wird jetzt die Verbindung des Innenraumes der
Evakuierplatteneinheit 8 zu einer Vakuumquelle über den
Anschluß 14,
den Evakuierungskanal 13 und die Mündungsöffnung 12 hergestellt,
so saugt sich bei abgesperrtem Belüftungskanal 16 die
Evakuierplatteneinheit 8 an der Gerätebasisplatteneinheit fest
und es wird ein Vakuum im Innenraum der Evakuierplatteneinheit 8 erzeugt,
das über
sämtlichen Probenbehältnissen 7 wirksam
ist. Dieses Vakuum kann so eingestellt werden, daß selbst
bei Umgebungstemperatur (beispielsweise 20°C) der Inhalt der Probenbehältnisse 7 zum
Sieden kommt, derart, daß Suspensionsträgerflüssigkeit
oder Lösungsflüssigkeit
in den Proben innerhalb der Probenbehältnisse 7 verdampft
und die Proben aufkonzentriert werden.
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Durch gleichzeitiges Einschalten
des Schüttelantriebs 4 wird
erreicht, daß die
Proben an den Innenwänden
der Probenbehältnisse 7 kreisen
und dadurch gegenüber
der evakuierten Umgebung innerhalb der Evakuierplatteneinheit 8 eine
große
Oberfläche
darbieten. Zusätzlich
hat die Schüttelbewegung aufgrund
der auf die Proben wirkenden Zentrifugalkräfte den Effekt, daß eine Blasenbildung
oder Schaumbildung in den Pro ben beim Sieden unter vermindertem
Druck eingeschränkt
und ein Siedeverzug vermieden wird. Hierauf war eingangs schon eingegangen
worden.
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Die Ausführungsform nach 3 unterscheidet sich von
derjenigen nach 2 in
erster Linie dadurch, daß die
Evakuierplatteneinheit 8, welche die Oberseite der Mikrotiterplatte 6 überspannt, hier
mit ihren Seitenwänden 10 nach
abwärts
zu einem außerhalb
des Randes der Mikrotiterplatte gelegenen, rundumlaufenden, nach
oben weisenden Randbereich der Schütteltischplatte 3 reicht
und gegenüber
dieser, welche gegenüber
der Umgebung strömungsmitteldicht
ausgebildet ist, durch eine rundumlaufende Dichtung 11 abgedichtet
werden kann. Im Randbereich der Oberseite der Schütteltischplatte 3 zwischen
den Seitenrändern
der Mikrotiterplatte 6 und der Innenwand der Seitenwände 10 der
Evakuierplatteneinheit 8 befinden sich die Mündungsöffnung 12 eines
Evakuierkanales 13 und die Mündungsöffnung 15 eines Belüftungskanales 16, wobei
aber im Verlauf des Evakuierkanales 13 zwischen der Mündungsöffnung 12 und
dem Anschluß 14 an
der Gerätebasisplatte 1 bei
der Ausführungsform
nach 3 ein elastisch
verformbarer Kanalabschnitt 20 vorgesehen ist, und im Verlauf
des Belüftungskanales 16 zwischen
der Mündungsöffnung 15 und
dem Anschluß 17 der
Gerätebasisplatte 1 ein elastisch
verformbarer Kanalabschnitt 21 vorgesehen ist. Die elastisch
verformbaren Kanalabschnitte 20 und 21, welche
beispielsweise die Gestalt flexibler Schlauchabschnitte haben, dienen
zum Herstellen der Vakuumverbindung bzw. Belüftungsverbindung unter Ausgleich
der horizontalen Schüttelbewegungen
zwischen der Gerätebasisplatte 1 und
der Schütteltischplatte 3 bei
in Betrieb befindlichem Schüttelantrieb 4.
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Im übrigen sind auch bei der Ausführungsform
nach 3 an den Seitenrändern der
Mikrotiterplatte 6 und an den Seitenwänden 10 der Evakuierplatteneinheit 8 Roboter-Manipulator-Angriffsorgane 18 bzw.
19 vorgesehen, deren Funktion im Zusammenhang mit der Beschreibung
der Ausführungsform nach 2 schon erläutert wurde.
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4 zeigt
eine Ausführungsform,
bei der die Evakuierplatteneinheit 8 in Aufsicht im wesentlichen
mit der Mikrotiterplatte 6 fluchtet und gegenüber deren
die Mün dungen
der Probenbehältnisse 7 umgebenden,
nach oben weisenden Rand mittels einer Dichtung 11 am unteren
Rand der Seitenwände 10 abgedichtet
werden kann, sobald der Innenraum der Evakuierplatteneinheit 8 evakuiert
wird.
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In einem nicht von den Mündungen
der Probenbehältnisse 7 eingenommenen
Bereich der Mikrotiterplatte 6 ist diese mit Durchführungskanalabschnitten
versehen, deren obere Enden von den wiederum mit 12 und 15 bezeichneten
Mündungsöffnungen
gebildet sind und die mit entsprechenden Durchführungskanalabschnitten fluchten
und über
Ringdichtungen in der Trennfläche
abgedichtet sind, wobei diese weiteren Durchführungskanalabschnitte nach
abwärts
durch die Schütteltischplatte 3 verlaufen.
Diese durch die Schütteltischplatte 3 verlaufenden
Durchführungskanalabschnitte
gehen dann in die f1exiblen Kanalabschnitte 20 bzw. 21
des Evakuierungskanals 13 bzw. des Belüftungskanals 16 über, um
die Schüttelbewegungen
zwischen der Gerätebasisplatte 1 und
der Schütteltischplatte 3 auszugleichen,
derart, daß wiederum
schließlich
die Mündungsöffnung 12
mit dem Anschluß 14 für die Vakuumquelle
und die Mündungsöffnung 1.5 mit
dem Anschluß 17 für die Belüftungsquelle
in Verbindung gesetzt werden. Im übrigen entsprechen Aufbau und Wirkungsweise
der Ausführungsform
nach 4, auch bezüglich der
Roboter-Manipulator-Angriffsorgane 18 und 19,
im Aufbau bzw. der Wirkungsweise den zuvor beschriebenen Ausführungsformen.
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Es sei hier angemerkt, daß aus Gründen der übersichtlichen
Darstellung die Vertikalabmessungen insbesondere der Evakuierplatteneinheit 8 und
auch der Schütteltischplatte 3 stark übertrieben
dargestellt sind. Praktisch ist jedenfalls darauf Wert gelegt, daß der Schwerpunkt
der durch den Schüttelantrieb 4 translatorisch
bewegten Massen vergleichsweise wenig über den Schüttelantrieb 4 aufragt,
um ein durch Trägheitskräfte bewirktes
Aufkippen des Schütteltisches
und darauf angeordneter plattenförmiger
Bauteile und Massen zu vermeiden.
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Zu den Ausführungsformen nach den 2 bis 4 sowie auch den nachfolgend zu beschreibenden
Ausführungsformen
ist allgemein noch zu sagen, daß selbstverständlich zwischen
den aufeinandersetzbaren bzw. voneinander abhebbaren plattenförmigen Geräteeinheiten
Indexmittel zur präzisen
Ausrichtung vorgesehen sind, etwa Indexstifte und Index-Bohrungen, übergreifende
Flanschteile und dergleichen, wobei aber in den Zeichnungen diesbezügliche Einzelheiten
weitestgehend zur Vereinfachung der Darstellung weggelassen sind.
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In den 5A und 5B ist im Vertikalschnitt, teilweise
schematisch, der rechte Teil bzw. der linke Teil einer Ausführungsform
des grundsätzlichen
Aufbaus nach 2 gezeigt,
wobei jedoch die Probenbehandlungsstation nach den 5A und 5B aufgrund
bestimmter Weiterbildungen und besonderer Ausgestaltungen eine Reihe
zusätzlicher
Funktionen und besonderer Behandlungsmaßnahmen ermöglicht.
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Die Ausführungsform nach den 5A und 5B enthält wiederum eine Gerätebasisplatte 1,
eine Schütteltischplatte 3,
einen zwischen diesen beiden Platten wirksamen Schüttelantrieb 4 und
auf der Schütteltischplatte 3 vorgesehene
Haltemittel zum lösbaren
Aufsetzen einer Mikrotiterplatte 6. Schwingstützen nach
der Art der Bauelemente 2 von 1 sind in der Darstellung nach den 5A und 5B ebenso weggelassen wie in der Darstellung
nach den 2 bis 4, sind jedoch in Bereichen
außerhalb der
für die
Darstellung gewählten
Querschnittsebene vorgesehen, um die Schütteltischplatte 3 vertikal
und in einer horizontalen Ebene beweglich abzustützen.
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In die Gerätebasisplatte 1 ist
ein Evakuierungskanal 13 eingeformt, der zu einer Mündungsöffnung 12 auf
der Oberseite der Gerätebasisplatte 1 führt. Auf
die Gerätebasisplatte
ist eine haubenförmige
Evakuierungsplatteneinheit 8 aufgesetzt, welche Seitenwände 10 aufweist,
an deren unterem Ende eine rundumlaufende Dichtung 11 für eine vakuumdichte
Abdichtung gegenüber
der Gerätebasisplatte 1 sorgt,
sobald der Evakuierungskanal 13 an eine Vakuumquelle angeschlossen
ist und die Evakuierplatteneinheit 8 gegen die Gerätebasisplatte 1 ansaugt. Bei
der Ausführungsform
nach den Figuren 5A und 5B kann auch ein Belüftungskanal
mit einer der Mündungsöffnung 12 entsprechenden
Belüftungsöffnung vorgesehen
sein, wobei jedoch diesbezügliche
Einzelheiten bei der vorliegend betrachteten Darstellung weder gezeichnet
noch unbedingt erforderlich sind.
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Auf der Schütteltischplatte 3,
welche eine thermisch isolierende Schicht enthalten kann, die in den 5A und 5B nicht eingezeichnet ist, befindet sich
ein Flächenheizelement 24,
und auf diesem eine Wärmeverteilungsplatte 25,
von der, einstöckig
an die Wärmeverteilungsplatte
angeformt, Wärmeübertragungsnoppen
in Gestalt zylindrischer Stifte 26 aufragen. Die Wärmeübertragungsnoppen 26 bilden
auf der Wärmeverteilungsplatte
25 eine Matrixanordnung, welche mit der Matrixanordnung von Probebehältnissen
7 der Mikrotiterplatte 6 übereinstimmt, derart, daß jeweils
eine nach aufwärts
weisende Oberfläche
der Wärmeübertragungsnoppen 26 der
Bodenfläche
eines Probenbehältnisses 7 gegenübersteht.
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Über
die Oberenden der Wärmeübertragungsnoppen 26 ist
eine Wärmeübertragungsschicht aus
gut wärmeleitendem
Schaumkunststoff 27 gebreitet, welche längs ihrer Außenränder rundum
gegenüber
einem Randflansch der Wärmeübertragungsplatte 25,
oder in Abwandlung hiervon, gegenüber einem Randflansch, welcher
von der Schütteltischplatte 3 aufragt,
derart abgedichtet ist, daß zwischen
der Oberseite der Wärmeverteilungsplatte
25 und der Unterseite der Wärmeübertragungsschicht 27 rund
um die Wärmeübertragungsnoppen 26 ein abgeschlossener
Raum gebildet ist.
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Von diesem Raum aus führt eine
Durchführungskanalanordnung 28 bzw.
29, welche die Wärmeverteilungsplatte 25,
das Flächenheizelement 24 und
die Schütteltischplatte 23 durchdringt,
zu einem Schlauchansatz der Schütteltischplatte,
von wo aus ein flexibler Schlauchabschnitt 30 bzw. 31 zum
Ausgleich von Schüttelbewegungen
zwischen der Gerätebasisplatte 1 und
der Schütteltischplatte 3 zu
einem Schlauchansatz eines in der Gerätebasisplatte 1 eingeformten
Kanalsystems 32 bzw. 33 führt. Über dieses Kanalsystem ist
der oberhalb der Wärmeverteilungsplatte 25 und
unterhalb der Wärmeübertragungsschicht 27 gelegene
Raum um die Wärmeübertragungsnoppen 26 herum,
welcher mit 34 bezeichnet ist, zu einem nachfolgend im einzelnen
erläuterten
Zwecke an einen äußeren Kühlmittelkreislauf
anschließbar.
Dichtmittel zum Abdichten der Wärmeverteilungsplatte 25 gegenüber dem
Flächenheizelement 24 und
gegenüber
der Schütteltischplatte 3 im
Bereich der Durchführungskanalanordnung 28 bzw.
29 sind zur Vereinfachung der Darstellung nicht eingezeichnet, jedoch
werden solche Dichtmittel vom Fachmann ebenso vorgesehen wie ausreichend
bemessene Durchbrüche
in dem Flächenheizelement 24 zum
Durchleiten der Durchführungskanalanordnung 28 bzw.
29.
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Aus 5A ist
noch zu ersehen, daß das Flächenheizelement 24 über durch
eine Leitungsdurchführung 35 verlegte
flexible elektrische Zuleitungen 36 zum Ausgleichen der
Relativbewegungen zwischen der Gerätebasisplatte 1 und
der Schütteltischplatte 3 mit
einem Anschluß 37 der
Gerätebasisplatte 1 zum
Zuleiten elektrischer Heizenergie zum Flächenheizelement 24 verbunden
ist.
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Im Unterschied zu der in 2 nur schematisch dargestellten
Ausführungsform
hat bei der Ausführungsform
nach den 5A und 5B die Evakuierplatteneinheit 8 einen
auf einen von den Seitenwänden 10 gebildeten
Rahmen aufgeschraubten und durch eine Dichtung 38 abgedichteten
Deckel 9. Unterhalb des Deckels 9 befindet sich
innerhalb der durch die Seitenwände 10 definierten
Umgrenzung eine flache Begasungskammer 39, welche durch eine auf
einen Randflansch der Seitenwände 10 der Evakuierplatteneinheit 8 dicht
aufgelegte Lochplatte 40 von dem unmittelbar über der
Mikrotiterplatte 6 gelegenen Hauptraum der Evakuierplatteneinheit 8 getrennt
ist.
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Blasdüsen 41 der Lochplatte
oder Blasdüsenplatte 40 bilden
eine Matrixanordnung, die mit Bezug auf die Vertikalrichtung der
Matrixanordnung der Probenbehältnisse 7 der
Mikrotiterplatte 6 entspricht. Die Düsenkanäle der Blasdüsen sind
also jeweils auf die entsprechenden Probenbehältnismündungen ausgerichtet, wobei
die Antriebsamplitude des Schüttelantriebs 4 so
gewählt
ist, daß die
aus den einzelnen Düsenkanälen 41 austretenden
und gegenüber der
Gerätebasis 1 unveränderliche
Lagen aufweisenden Blasgasströme
stets auf die Mündungsöffnungen
der zugehörigen
Probenbehältnisse
allein treffen und sich nicht an Randbereichen um die Probenbehältnisöffnungen
herum verwirbeln.
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Aus 5B ist
ersichtlich, daß die
flache Kammer 39, die auch die Gestalt eines Blasmittel-Führungskanalsystems
haben kann, das in den Deckel 9 der Evakuierplatteneinheit
8 eingeformt ist, was allerdings nicht dargestellt ist, über einen
sich durch die Seitenwand 10 der Evakuierplatteneinheit 8 erstreckenden
Durchführungskanalabschnitt 42 und
einen weiteren Durchführungskanalabschnitt 43 in
der Gerätebasisplatte 1 Verbindung
zu einem steuerbar mit einem bestimmten Blasgas beaufschlagbaren
Zuführungskanal 44 der
Gerätebasisplatte 1 Verbindung
hat.
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Zur Vorbereitung einer Probenbehandlung wird
die Evakuierplatteneinheit 8 von der Probenbehandlungsstation
abgenommen und es wird eine Mikrotiterplatte 6 passend
auf die Schütteltischplatte 3 aufgesetzt,
wobei die Mikrotiterplattenhalterung und/oder gesonderte Ausrichtmittel
sicherstellen, daß jeweils
der Boden eines Pobenbehältnisses 7 über einem
Wärmeübertrangungsnoppen 26 der Wärmeverteilungsplatte 25 zu
liegen kommt und aufgrund der Nachgiebigkeit der zwischengelagerten, gut
wärmeleitenden
Wärmeübertragungsschicht 27 aus
wärmeleitendem
Schaumstoff eine innige thermische Kopplung zwischen dem Flächenheizelement 24 über die
Wärmeverteilungsplatte 25,
die Wärmeübertragungsnoppen 26 und
die Wärmeübertragungsschicht 27 sowie
schließlich
den Boden des jeweiligen Probenbehältnisses zur Probe hin zustande kommt.
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Sodann wird die Evakuierplatteneinheit 8 auf die
Gerätebasisplatte 1 aufgesetzt
und der Innenraum wird über
die Mündungsöffnung 12 der
Gerätebasisplatte 1 sowie
den Anschluß 13 durch
Verbinden desselben mit einer Vakuumquelle evakuiert. Wird der Schüttelantrieb 4 eingeschaltet,
so erfolgt ein Durchmischen der Probenbehältnisse 7 und gleichzeitig
ein Sieden beispielsweise bei Umgebungstemperatur aufgrund des Vakuums
innerhalb der Evakuierplatteneinheit zum schonenden Aufkonzentrieren
der Proben.
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Um bei der Aufkonzentration kurze
Prozesszeiten zu erreichen, ist zusätzlich zur Evakuierung die
Zufuhr von Heizleistung notwendig, wozu den Proben durch Anschalten
des Flächenheizelementes 24 an
eine elektrische Leistungsquelle Wärmeenergie zugeführt wird.
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Ist ein bestimmtes Behandlungsergebnis, beispielsweise
eine bestimmte Konzentration der Proben in den Probenbehältnissen 7,
erreicht, was durch den von in der Zeichnung nicht gezeigten Detektoren
detektierten Temperaturanstieg in den Proben oder in den über den
Anschluß 13 abgezogenen Dämpfen ermittelt
werden kann, so ist es wünschenswert,
nunmehr die Wärmezufuhr
zu den Proben sehr rasch zu beenden. Zu diesem Zwecke wird dann
die elektrische Energiezufuhr zu dem Flächenheizelement abgeschaltet
und über
die Anschlüsse 32 und 33,
die flexiblen Leitungsverbindungen 30 und 31, die Durchführungskanalanordnung 28, 29 und
den Raum 34 um die Wärmeübertragungsnoppen 26 herum
wird ein Kühlmittelkreislauf
zur Wirkung gebracht, welcher eine sehr rasche Absenkung der Temperatur
der Böden
der Probenbehältnisse 7 und der
Proben bewirkt, so daß ein
Siedevorgang nahezu augenblicklich an sämtlichen Probenbehältnissen zum
Stillstand gebracht werden kann.
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Während
des Einwirkens des Vakuums auf die Proben in sämtlichen Probenbehältnissen 7 durch
Evakuieren des Innenraums der Evakuierplatteneinheit 8 können in
die einzelnen Probenbehältnisse 7 Blasgasströme über die
Düsenkanäle 41 von dem
Blasmittel-Zuführungsraum
39 aus eingeführt werden,
wobei diese Blasgasströme
die Wirkung haben, daß,
selbst bei stillgesetztem Schüttelantrieb 4, die
Oberfläche
der Probe, welche dem Vakuum ausgesetzt ist vergrößert wird,
was den Verdampfungsvorgang fördert.
Bei in Betrieb befindlichen Schüttelantrieb 4 haben
die einzelnen Blasgasströme,
welche in den Innenraum der Probenbehältnisse 7 eintreten,
auch die Wirkung von Rührorganen
zur Auflösung
der Oberfläche
wiederum zur Verbesserung des Verdampfungsverhaltens. Da bei der
Ausführungsform
nach den 5A und 5B die Blasgasströme relativ
zur Gerätebasisplatte 1 stillstehen,
während
die Mikrotiterplatte 6 aufgrund der Einschaltung des Schüttelantriebs 4 translatorische
kreisende Bewegung ausführt,
bewirken die Blasgasströme
nicht nur eine Auflösung
der Oberfläche
zur Verbesserung des Verdampfungsverhaltens, sondern bewirken auch
ein Niederhalten und Zerstören
von ansonsten aufsteigenden Gasblasen und aufsteigendem Schaum.
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Mein erkennt, daß über den Zuführungskanal oder Anschluß 44 das
Blasgas, beispielsweise Kohlendioxid oder ein Inertgas, nicht notwendigerweise
mit erhöhtem
Druck zugeführt
werden muß. Vielmehr
kann die Gaszuführung über den
Zuführungskanal 44 auch
mit Umgebungsdruck oder gar mit niedrigerem Druck erfolgen, da es
für die
Entwicklung der Blasgasströme
auf den Druckunterschied zwischen dem Blasmittel-Zuführungsraum
39 und dem Innenraum der Evakuierplatteneinheit 8 ankommt.
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Es hat sich gezeigt, daß mit Ausführungsformen
von Probenbehandlungsstationen etwa nach den 5A und 5B ein
schonendes Aufkonzentrieren von Proben mit verhältnismäßig geringer äußerer Wärmezufuhr
unter Einsatz von auf die Proben in Probenbehältnissen gerichteter Blasgasströme in Zeiten
möglich
war, welche nur die Hälfte
der bei herkömmlicher
Behandlung erforderlichen Zeiten betrug. Dabei erweist es sich als
sehr vorteilhaft, daß die
Temperierung, die Erhitzung und die Abkühlung oder Rückkühlung in
sehr engen Grenzen von Probenbehältnis
zu Probenbehältnis
in gleicher Weise gesteuert werden kann.
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Anstelle der Wärmezufuhr zu den Proben über das
Flächenheizelement 24,
die Wärmeverteilungsplatte 25 und
die Wärmeübertragungsnoppen 26 sowie
die Wärmeübertragungsschicht 27 oder aber
auch zusätzlich
zu diesem Heizsystem kann ein Temperieren, Erhitzen oder Abkühlen der
Proben in dem Probenbehältnissen
durch eine in 6 schematisch
gezeigte Anordnung vorgenommen werden. Bei der Ausbildung des Heizsystems
der Probenbehandlungsstation der hier angegebenen Art gemäß 6 hat die Mikrotiterplatte 6 auf
dem Niveau der Probenbehältnis-Mündungsöffnungen
eine durchgehende Probenbehältnis-Verbindungsplatte 46 und auf
dem Niveau der Probenbehältnis-Unterenden
ist entweder ein dichter Abschluß durch die Auflage auf eine
elastisch nachgiebige Matte gegeben oder auch auf diesem Niveau
ist eine durchgehende Probenbehältnis-Verbindungsplatte
vorgesehen, wobei der Raum um die einzelnen Probenbehältnisse
7 herum nach oben und nach unten sowie auch längs der seitlichen Ränder der
Mikrotiterplatte 6 abgedichtet ist. Über eine außerhalb des Bereiches der Probenbehältnisse 7 nach
unten aus der Mikrotiterplatte 6 ausmündende und durch die Schütteltischplatte
reichende Durchführungskanalanordnung 47 bzw. 48 sowie über flexible
Leitungsverbindungen 49 bzw. 50 zur Gerätebasisplatte 1 hin
ist der abgeschlossene Raum seitlich um die Probenbehältnis-Außenwände 7 herum
mit einem Heizmittelkreislauf oder einem Kühlmittelkreislauf steuerbar
verbindbar, wobei der äußere Teil
des Heizmittelkreislaufs bzw. Kühlmittelkreislaufs
in 6 mit 51 bezeichnet
ist.
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Durch mehrere strichpunktierte Linien 52 sind
in 6 Strömungsleitwände schematisch
angedeutet, die in den Räumen
zwischen den Probenbehältnissen 7 und
der oberen und unteren Probenbehälnis-Verbindungsplatte
eingebaut sind, um eine weitestgehend gleichmäßige Umströmung der Außenwände der einzelnen Probenbehältnisse
und damit eine von Probenbehältnis
zu Probenbehältnis
im wesentlichen gleichförmige
Wärmeübertragung
zwischen den Proben und dem Wärmetauschmittel
zu erreichen. Wird das Heizsystem gemäß 6 zusätzlich
zu dem anhand der 5A und 5B erläuterten Heizsystem in einer
Probenbehandlungsstation nach den 5A und 5B eingesetzt, so zeigt es
sich, daß eine
individuelle Temperierung, Kühlung
und Heizung verschiedener Niveaus der Füllhöhe der Probe in den Probenbehältnissen 7 nach
einem vorbestimmten Programm beliebig vorgenommen werden kann.
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7 zeigt
eine praktische Ausgestaltung einer Probenbehandlungsstation der
hier angegebenen Art gemäß der grundsätzlichen
Konstruktion nach 4,
wobei hier allerdings auf der Mikrotiterplatte 4 eine mit
dieser fest verbundene Mündungskanalplatte 53 angeordnet
ist, die mit der Mikrotiterplatte fest verbunden, beispielsweise
verschweißt
ist. Auf dem Niveau der Ausmündungen
der Probenbehältnisse 7 der
Mikrotiterplatte 4 befindet sich eine Probenbehältnis-Verbindungsplatte 54 und
von der Mündungskanalplatte 53 ragen
Kanalansätze 55 einstückig zu
den einzelnen Probenbehältnissmündungen.
Die Kanalansätze 55 haben
die Gestalt von Rohrflanschen mit unteren, einstückig angeformten Schwappschutzringen 56 mit
pyramidenstumpfförmigem
Ringquerschnitt. Die von der Mündungsöffnung der
Probenbehältnisse 7 nach
einwärts
gerichteten Schwappschutzringe 56 bewirken, daß auch bei
vergleichsweise größerer Füllhöhe der Proben
in den Probenbehältnissen 7 der
Probeninhalt bei kräftigen Schüt telbewegungen
der Schütteltischplatte 3 bzw. der
Mikrotiterplatte 4 nicht aus dem jeweiligen Probenbehältnis herausgeschleudert
wird.
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Zwischen der oberen Probenbehältnis-Verbindungsplatte
der Mikrotiterplatte 4 und der Unterseite der Mündungskanalplatte 53 ist
ein die Mündungskanalansätze umgebendes
und seitlich längs der
oberen Ränder
der Mikrotiterplatte 4 abgedichtetes Kanalsystem 57 gebildet,
das über
eine durch die Mikrotiterplatte 4 hindurch und durch die
Schütteltischplatte 3 hindurch
reichende Durchführungskanalanordnung 58 bzw. 59 sowie über flexible
Leitungsverbindungen 60 bzw. 61 zur Gerätebasisplatte 1 hin
steuerbar an den äußeren Teil 62 eines
Kühlmittelkreislaufs
anschließbar
ist. Der Wämeentzug
im Bereich der Mündungsöffnung der
Probenbehältnisse 7 bewirkt
bei bestimmten Behandlungsmaßnahmen
eine Verminderung des Probenverlustes durch ungewünschtes
Abdampfen und kann auch dazu beitragen eine Probenüberhitzung
zuverlässig
zu vermeiden, da das Kanalsystem bzw. die Räume 57 unabhängig von
den übrigen
Wärmetauscheinrichtungen
willkürlich
rasch mit Kühlmittel
beaufschlagt werden kann. Es sei hier bemerkt, daß auch die
in Zusammenhang mit den 5A und 5B erwähnten Blasgasstrahlen aus den
diesen Kanälen 41,
falls das Blasgas gekühlt
ist, zu einer Probenkühlung
beitragen und eine Probenüberhitzung
zu vermeiden helfen.
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Auf den oberen Rand der Mündungskanalplatte 53 ist
abdichtend die Evakuierplatteneinheit 8 aufgesetzt, deren
Innenraum wie in 7 nicht
gezeigt ist, über
eine die Mündungskanalplatte 53,
die Mikrotiterplatte 4 und die Schütteltischplatte 3 durchdringende
Durchführungskanalanordnung
sowie über
flexible Leitungsabschnitte mit einem Vakuumanschluß bzw. Belüftungsanschluß der Gerätebasisplatte 1 verbunden
ist, in ganz entsprechender Weise, wie dies für die Ausführungsform nach 4 beschrieben wurde.
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Gemäß einem sehr vorteilhaften
Merkmal der Ausführungsform
nach 7 ist die Mündungskanalplatte 53 auf
ihrer Oberseite mit einer Reihe von Stütznoppen 63 versehen,
gegen welche sich der Deckel 9 der Evakuierplatteneinheit 8 abstützen kann,
wenn der Innenraum der Evakuierplatteneinheit 8 evakuiert
wird und der Deckel 9 das Bestreben hat, sich durchzubiegen.
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Eine entsprechende Anordnung von
Stütznoppen
kann auch auf der Oberseite der Probenbehältnis-Verbindungsplatte der
Mikrotiterplatte 6 bei der Ausführungsform nach den 3 und 4 vorgesehen sein. Sind solche Stütznoppen
auf der Oberseite der Mikrotiterplatte 6 gemäß 3 vorgesehen, so haben diese
Stütznoppen
den zusätzlichen
Vorteil, daß bei
sich unter Vakuumeinwirkung leicht nach unten durchwölbendem
Deckel 9 die Mikrotiterplatte 6 durch eine zusätzliche
Haltekraft gegen die Oberseite der Schütteltischplatte 3 gedrückt wird
und so eine zusätzliche
Fixierung während
des Schüttelbetriebes erfährt.
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Bestimmte Proben oder bestimmte Suspensionsträgerflüssigkeiten
oder Lösungsmittel
haben solche Konsistenz bzw. Zähigkeit,
daß selbst
bei hohen Schüttelfrequenzen
keine ausreichende Durchmischung mehr erzielt werden kann. Auch
kleine Probenbehältnisse
bedingen aufgrund von Oberflächen- und
Trennflächenerscheinungen
oft eine erschwerte Durchmischung. In diesen Fällen kann es zweckmäßig sein,
in die einzelnen Probenbehältnisse
einer Mikrotiterplatte Rührorgane
in miniaturisierter Ausführung
einzuführen.
Gemäß einer
in der Zeichnung nicht gezeigten Ausführungsform kann an der nach unten
weisenden Wand des Deckels 9 der Evakuierplatteneinheit 8 oder
an der Unterseite einer an dieser vorgesehenen Blasdüseneinheit
eine Matrixanordnung von Rührstiften
vorgesehen sein, wobei die Matrixanordnung im zusammengesetzten
Zustand der Probenbehandlungsstation auf solchem Niveau an der Evakuierplatteneinheit
angeordnet ist, daß bei an
Vakuum angeschlossener und gegen die Gerätebasisplatte abgedichteter
Evakuierplatteneinheit die einzelnen je einem Probenbehältnis 7 der
Mikrotiterplatte 6 zugeordneten Rührstifte mit ihren unteren Enden
in die zugehörigen
Probenbehältnisse
reichen, ohne den Boden der Probenbehältnisse zu berühren. Die
Lage der Rührstifte
innerhalb der Matrixanordnung ist so gewählt und die Antriebsamplitude des
Schüttelantriebs
wird so eingestellt, daß die Rührstifte
im Betrieb und natürlich
auch im Ruhezustand die Wände
der Probenbehältnisse
nicht berühren.
Die Rührwirkung
kommt dadurch zustande, daß bei
stillstehenden Rührstiften
sich die Probenbe hältnisse
zusammen mit ihrem Probeninhalt translatorisch kreisend um die Rührstifte
bewegen.
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Bei der in 7 gezeigten Ausführungsform ist auf die Mikrotiterplatte 6 eine
mit Vakuum-Durchgriffsöffnungen
versehene Rührstiftplatte
durch einen Roboter-Manipulator abnehmbar oder aufsetzbar aufgelegt,
welche eine Matrixanordnung nach abwärts reichender, je einem Probenbehältnis 7 zugeordneter
Rührstifte
oder Rührlöffel 65 trägt. Die
Rührstiftplatte
liegt lose auf der Oberseite der Mündungskanalplatte 53 auf,
wobei die Vakuum-Durchgriffsöffnungen
der Rührstiftplatte 64 und
Durchbrüche
in den Rührlöffeln 65
die Möglichkeit
geben, ohne Abnehmen der Rührstiftplatte 64 nach
Trennen der Evakuierplatteneinheit 8 von dem übrigen Gerät die Probenbehältnisse 7 durch
eine Pipettiereinrichtung zu befüllen
bzw. zu entleeren. Die Rührstiftplatte 64 trägt Indexmittel,
beispielsweise Indexdurchbrüche,
und von der Mikrotiterplatte oder von der Mündungskanalplatte 53 ragen
Gegen-Indexmittel, etwa in Gestalt der Stütznoppen 63 auf, derart,
daß bei
Schüttelbewegungen
der Schütteltischplatte 3 und
damit der Mikrotiterplatte 6 und der Mündungskanalplatte 53 die Rührstiftplatte 64 innerhalb
eines bestimmten Spiels aufgrund ihrer trägen Masse Relativbewegungen
zur Mikrotiterplatte ausführt
und somit die Rührlöffel 65 Bewegungen
in den Probenbehältnissen 7 ausführen und
den Probeninhalt innig durchmischen, wobei dafür Sorge getragen ist, daß aufgrund
der Bemessung des Spiels zwischen der Rührstiftplatte 64 und
der Mündungskanalplatte 57 bzw.
der Mikrotiterplatte 6 die Rührlöffel 65 weder am Boden
noch an den Innenwänden
der Probenbehältnisse 7 anlaufen.
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Der Fachmann erkennt, daß die in 7 gezeigte Ausführungsform
auch noch dahingehend weitergebildet werden kann, daß über der
Evakuierplatteneinheit 8 eine dicht auf diese aufsetzbare
und von ihr wieder abnehmbare Blasdüseneinheit vorgesehen wird.
Von der Blasdüsen-Platteneinheit
aus ist dann wiederum getrennt von den anderen, in 7 gezeigten Kanalverbindungen eine gesonderte Durchführungskanalanordnung
durch die Mündungskanalplatte 57,
durch die Mikrotiterplatte 6 und durch die Schütteltischplatte 3 zu
flexiblen Leitungsverbindungen zu Anschlüssen der Geräteba sisplatte 1 zu führen, um
die Blasdüsen-Platteneinheit
an eine Quelle für
ein Blasgas oder Inertgas anschließen zu können.
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7 zeigt
weiterhin die Möglichkeit
auf, in den Probenbehältnissen 7 der
Mikrotiterplatte 6 eine Durchmischung oder Separation mittels
Magnetperlen, insbesondere mittels beschichteter Magnetperlen, vorzunehmen.
Zu diesem Zwecke ist auf die Schütteltischplatte 3,
und, genauer gesagt, auf die mit den Wärmeübertragungsnoppen 26 versehene Wärmeverteilungsplatte 25 eine
Dauermagnetsockel-Verbindungsplatte 66 aufgelegt, welche
mit einer Matrixanordnung von Durchbrüchen versehen ist, durch die
die Wärmeübertragungsnoppen 26 der Wärmeverteilungsplatte 25 hindurchreichen.
Von der Dauermagnetsockel-Verbindungsplatte 66 ragen in den
Bereich zwischen einer jeweiligen Vierergruppe von Behältnis-Unterenden
Dauermagnetsockel 67 nach aufwärts, die an ihren oberen Enden
Dauermagnetringe 68 tragen. Die Dauermagnet-Verbindungsplatte
66 ist wiederum mit Roboter-Manipulator-Angriffsorganen versehen,
derart, daß sie
auf die Schütteltischplatte 3 bzw.
auf die Wärmeverteilungsplatte 25 mit
den Wärmeübertragungsnoppen 26 roboterbetätigt aufgesetzt
werden kann, bevor über
die Dauermagnetsockel-Verbindungsplatte dann die Mikrotiterplatte 6 mit
der Mündungskanalplatte 57 und über diese
dann die Evakuierplatteneinheit 8 gesetzt wird, letzteres
gegebenenfalls erst nach roboterbetätigtes Auflegen der Rührstiftplatte 64.
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in 7 sind
durch den Dauermagnetring 68 aus den Proben der vier benachbarten
Probebehältnisse 7 separierte
Magnetperlenansammlungen an der Probenbehältniswand mit 69 bezeichnet.