[go: up one dir, main page]

DE10204141A1 - Bandwidth narrowing module - Google Patents

Bandwidth narrowing module

Info

Publication number
DE10204141A1
DE10204141A1 DE2002104141 DE10204141A DE10204141A1 DE 10204141 A1 DE10204141 A1 DE 10204141A1 DE 2002104141 DE2002104141 DE 2002104141 DE 10204141 A DE10204141 A DE 10204141A DE 10204141 A1 DE10204141 A1 DE 10204141A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
polarization
light
polarized light
grating
bandwidth narrowing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE2002104141
Other languages
German (de)
Inventor
Bernd Kleemann
Jeffrey Erxmeyer
Johannes Kraus
Klaus Heidemann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Laser Optics GmbH filed Critical Carl Zeiss Laser Optics GmbH
Priority to DE2002104141 priority Critical patent/DE10204141A1/en
Priority to PCT/EP2003/000781 priority patent/WO2003065520A1/en
Publication of DE10204141A1 publication Critical patent/DE10204141A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/105Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1055Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length one of the reflectors being constituted by a diffraction grating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/22Gases
    • H01S3/223Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms
    • H01S3/225Gases the active gas being polyatomic, i.e. containing two or more atoms comprising an excimer or exciplex
    • H01S3/2256KrF, i.e. krypton fluoride is comprised for lasing around 248 nm

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

The invention relates to a bandwidth narrowing module for a light source, particularly a laser, with a reflection grating (5). Preferred s-polarization is set for the light falling on the reflection grating by means of polarizing means (6). The inventive module can be used for narrowing the bandwidth of lasers, for example.

Description

Die Erfindung bezieht sich auf ein Modul zur Bandbreiten-Einengung für eine Lichtquelle, insbesondere einen Laser, mit einem Reflektionsgitter. Derartige Module werden beispielsweise für Excimer-Laser zur Verringerung der Bandbreite des abgestrahlten Laserlichts verwendet, wobei sie den rückwärtigen Resonatorabschluss des Lasers darstellen. Als Reflektionsgitter wird z. B. ein Echelle-Gitter in sogenannter Littrow- Konfiguration eingesetzt, um die Bandbreite der emittierten Laserstrahlung durch wellenlängenselektive Reflektion zu reduzieren. Das Modul beinhaltet üblicherweise ein Strahlaufweitungssystem, das zwischen dem Laserresonator und dem Reflektionsgitter angeordnet ist und aus mehreren hintereinander geschalteten Prismenkörpern aufgebaut sein kann, und einen z. B. zur Durchstimmung der Wellenlänge drehbeweglich angeordneten Spiegel. The invention relates to a module for bandwidth narrowing a light source, in particular a laser, with a reflection grating. Such modules are used, for example, for excimer lasers Reducing the bandwidth of the emitted laser light is used represent the rear resonator termination of the laser. As Reflection grating is used e.g. B. an Echelle grating in a so-called Littrow Configuration used to the bandwidth of the emitted Reduce laser radiation by wavelength selective reflection. The module typically includes a beam expansion system that is between the laser resonator and the reflection grating is arranged and made several prism bodies connected in series can, and a z. B. to tune the wavelength rotatably arranged mirror.

Bei einem in der Patentschrift US 5.917.849 offenbarten, modifizierten Bandbreiten-Einengungsmodul dieser Art sind zwischen dem Strahlaufweitungssystem und dem schwenkbeweglich angeordneten Spiegel zusätzlich ein polarisierender Strahlteiler mit zugehörigem Reflektionsspiegel und ein Polarisationsdrehelement in Form einer λ/4-Platte eingebracht. Das vom Verstärkungsmedium, der Gasentladungskammer, kommende Licht ist durch die schräge Stellung der Kammeraustrittsfenster unter oder nahe dem Brewster-Winkel und nach Durchtritt durch das Prismenstrahlaufweitungssystem aufgrund der starken Polarisationsabhängigkeit der Reflexionsverluste an den Prismen hochgradig p- bzw. TM-polarisiert, wobei eventuell verbleibende, s- bzw. TE- polarisierte Lichtanteile vom polarisierenden Strahlteiler reflektiert werden, während er p-polarisiertes Licht durchlässt. Die λ/4-Platte wandelt das p-polarisierte Licht in zirkular polarisiertes Licht, das dann über den drehbeweglichen Spiegel auf das Echelle-Gitter in Littrow-Konfiguration fällt und zurückreflektiert wird. Die λ/4-Platte wandelt das erstmals rückreflektierte, zirkular polarisierte Licht in s-polarisiertes Licht, das vom polarisierenden Strahlteiler zum zugehörigen Spiegel und zurück reflektiert wird, so dass es nochmals durch die λ/4-Platte hindurch unter Umwandlung in zirkular polarisiertes Licht auf das Echelle-Gitter fällt. Das von dort erneut reflektierte Licht wird durch die λ/4-Platte nun in p- polarisiertes Licht gewandelt, das durch den polarisierenden Strahlteiler hindurchtreten kann und in die Gasentladungskammer zurückläuft. Weiter wird dort angegeben, dass der Reflektionsgrad von Echelle-Gittern polarisationsabhängig ist mit einer Differenz zwischen p- und s- Polarisation von etwa 10%, was zu einer gewissen Störung des zirkularen Polarisationszustands führt. Dies hat zur Folge, dass ein kleiner Anteil von nur einmal am Echelle-Gitter reflektiertem Licht durch den Strahlteiler hindurchtritt, wobei sich die Effizienz der zweifachen Reflektion jedoch um höchstens 10% verringert, was angesichts der durch die zweifache Reflektion verbesserten Bandbreiteneinengung akzeptiert wird. A modified one disclosed in US Pat. No. 5,917,849 Bandwidth narrowing modules of this type are between the Beam expansion system and the pivoting mirror additionally a polarizing beam splitter with associated Reflection mirror and a polarization rotating element in the form of a λ / 4 plate brought in. The from the gain medium, the gas discharge chamber, coming light is due to the oblique position of the Chamber exit window below or near the Brewster angle and after passing through the prism beam expansion system due to the strong Polarization dependence of the reflection losses on the prisms highly p- or TM-polarized, with any remaining s- or TE- polarized light components reflected by the polarizing beam splitter while allowing p-polarized light to pass through. The λ / 4 plate changes the p-polarized light into circularly polarized light, which is then transmitted through the rotating mirror on the Echelle grating in Littrow configuration falls and is reflected back. The λ / 4 plate changes this for the first time back-reflected, circularly polarized light into s-polarized light emitted by the polarizing beam splitter to the associated mirror and reflected back is, so that it again under the λ / 4 plate Conversion to circularly polarized light falls on the Echelle grating. That from the λ / 4 plate reflects light reflected there again in p- polarized light converted by the polarizing beam splitter can pass through and runs back into the gas discharge chamber. It also states that the reflectance of Echelle gratings is polarization dependent with a difference between p- and s- Polarization of about 10%, which leads to some disturbance of the circular polarization state leads. As a result, a small one Proportion of light reflected only once by the Echelle grating Beam splitter passes through, the efficiency doubling However, reflection is reduced by a maximum of 10%, which is given by the double reflection improved bandwidth narrowing accepted becomes.

Der Erfindung liegt als technisches Problem die Bereitstellung eines Bandbreiten-Einengungsmoduls der eingangs genannten Art zugrunde, das unter Beibehaltung der optischen Eigenschaften des Moduls, insbesondere eines hohen Polarisationsgrades für einen zugeordneten Laser, eine erhöhte Effizienz, reduzierte thermische Belastungen und eine erhöhte Lebensdauer des Reflektionsgitters ermöglicht. The invention has the technical problem of providing a Bandwidth narrowing module of the type mentioned at the beginning, while maintaining the optical properties of the module, in particular a high degree of polarization for an assigned laser, increased efficiency, reduced thermal loads and a allows longer life of the reflection grating.

Die Erfindung löst dieses Problem durch die Bereitstellung eines Bandbreiten-Einengungsmoduls mit den Merkmalen des Anspruchs 1. Dieses Modul enthält Polarisationsmittel zur Einstellung einer s-Vorzugspolarisation für auf das Reflektionsgitter einfallendes Licht. Diese Polarisationsmittel bewirken somit, dass das auf das Reflektionsgitter auftreffende Licht im wesentlichen s-polarisiert ist. Wie üblich, bezeichnet hierbei s- bzw. TE-Polarisation eine Polarisation senkrecht zur Ein- und Ausfallsebene des Lichtes, während die dazu senkrechte Polarisation mit p- bzw. TM-Polarisation bezeichnet wird. The invention solves this problem by providing a Bandwidth narrowing module with the features of claim 1. This Module contains polarization means for setting one Preferred polarization for light incident on the reflection grating. This Polarization means thus cause that on the reflection grating incident light is essentially s-polarized. As usual, labeled here s or TE polarization is a polarization perpendicular to the input and Plane of the light, while the perpendicular polarization with p- or TM polarization is called.

Theoretische Berechnungen und praktische Beobachtungen zeigen, dass die Lichtabsorption von Reflektionsgittern, wie insbesondere von Echelle-Gittern der hier verwendeten Art, ohne weitere Maßnahmen, wie z. B. eine Schutzschicht, für s-polarisiertes Licht, d. h. bei einem Echelle- Gitter für parallel zu den Gitterfurchen polarisiertes Licht, deutlich geringer als für p-polarisiertes Licht ist, wie es aufgrund der stark polarisationsabhängigen Transmission des hier verwendeten Strahlaufweitungssystems aus dem Laserresonator austritt. Gleichzeitig und als unmittelbare Folge zeigt sich für s-polarisiertes Licht eine deutlich höhere Beugungseffizienz z. B. für hohe Beugungsordnungen von Echelle-Gittern in Littrow-Konfiguration verglichen mit p-polarisiertem Licht. Insgesamt resultiert die Verwendung der besagten s-polarisierenden Polarisationsmittel folglich in einer verbesserten Bandbreiteneinengung aufgrund der Verringerung der thermischen Belastungen des Reflektionsgitters, einer damit einhergehenden Erhöhung seiner Lebensdauer und in einer Verbesserung der Effizienz des gesamten Bandbreiten-Einengungsmoduls. Theoretical calculations and practical observations show that the light absorption of reflection gratings, such as in particular Echelle grids of the type used here, without further measures such as z. B. a protective layer for s-polarized light, d. H. with an Echelle Grid for light polarized parallel to the grating grooves, clearly is less than for p-polarized light as it is strong due to the polarization-dependent transmission of the used here Beam expansion system emerges from the laser resonator. At the same time and as The immediate consequence is a significantly higher one for s-polarized light Diffraction efficiency e.g. B. for high diffraction orders of Echelle gratings in Littrow configuration compared to p-polarized light. All in all results in the use of said s-polarizing Polarization means consequently in an improved bandwidth narrowing due to the Reduction of the thermal loads on the reflection grating, one associated increase in its lifespan and in a Improve the efficiency of the entire bandwidth narrowing module.

In einer Weiterbildung der Erfindung nach Anspruch 2, die insbesondere das Erfordernis einer Drehung der aus dem Laserresonator austretenden Strahlung insgesamt vermeidet, beinhalten die Polarisationsmittel einfach eine λ/2-Platte, welche die Polarisationsrichtung des von einem Verstärkungsmedium kommenden, p-polarisierten Lichts um 90° dreht, so dass das Licht im wesentlichen s-polarisiert weitergeleitet wird. Gleichzeitig wandelt die λ/2-Platte das vom Reflektionsgitter reflektierte, s-polarisierte Licht vor dem Wiedereintritt in das Verstärkungsmedium wieder in p-polarisiertes Licht zurück. In a development of the invention according to claim 2, which in particular the need to rotate the out of the laser resonator avoids radiation emitted, contain the polarizing agent simply a λ / 2 plate, which shows the direction of polarization of one Amplification medium coming, p-polarized light rotates by 90 °, so that the light is essentially s-polarized. At the same time, the λ / 2 plate converts that reflected by the reflection grating s-polarized light before re-entering the gain medium back into p-polarized light.

Ein nach Anspruch 3 weitergebildetes Modul beinhaltet eine Strahlaufweitungseinheit mit einem oder mehreren aufeinanderfolgenden Strahlaufweitungselementen. Die Polarisationsmittel sind an beliebiger Stelle zwischen dem im Lichtstrahlengang vordersten Strahlaufweitungselement und dem Reflektionsgitter angeordnet. A module developed according to claim 3 includes one Beam expansion unit with one or more successive Beam expansion elements. The polarization means are anywhere between the foremost in the light beam path Beam expansion element and the reflection grating arranged.

In weiterer Ausgestaltung dieser Maßnahme sind gemäß Anspruch 4 mindestens zwei Strahlaufweitungselemente vorgesehen, und die Polarisationsmittel befinden sich irgendwo zwischen dem in Lichteinfallsrichtung ersten und letzten Strahlaufweitungselement, z. B. bei drei Strahlaufweitungselementen zwischen dem zweiten und dritten Strahlaufweitungselement. Bei dieser Positionierung befinden sich die Polarisationsmittel folglich im teilaufgeweiteten Lichtstrahl mit der Folge, dass einerseits ihre räumliche Abmessung kleiner als der Querschnitt des voll aufgeweiteten Lichtstrahls gehalten werden kann und andererseits die Leistungsdichte des Lichtstrahls und damit die thermische Belastung für die Polarisationsmittel gegenüber dem Bereich des noch nicht aufgeweiteten Lichtstrahls deutlich reduziert ist. In a further embodiment of this measure, according to claim 4 at least two beam expansion elements are provided, and the Polarizing agents are somewhere between the in Light incidence direction first and last beam expansion element, for. B. at three Beam expansion elements between the second and third Beam expansion element. With this positioning are the Polarization means consequently in the partially expanded light beam with the consequence that on the one hand, their spatial dimension is smaller than the cross section of the full expanded light beam can be kept and on the other hand the Power density of the light beam and thus the thermal load for the polarization means versus the area of the not yet expanded light beam is significantly reduced.

In weiterer Ausgestaltung sind gemäß Anspruch 5 das oder die hinter den Polarisationsmitteln angeordneten Strahlaufweitungselemente mit einer Entspiegelungsbeschichtung versehen, die für s-polarisiertes Licht optimiert ist. Gleichzeitig gewährleisten die hohen Reflektionsverluste für s-polarisierte Lichtanteile an dem oder den vor den Polarisationsmitteln liegenden Strahlaufweitungselementen einen hohen Polarisationsgrad des z. B. in einen Laserresonator rückreflektierten, bandbreiteneingeengten Lichtes. In a further embodiment, the one or more are according to claim 5 the beam expansion elements arranged with the polarizing means provided with an anti-reflective coating for s-polarized light is optimized. At the same time, the high reflection losses ensure s-polarized light components on or in front of the polarization means lying beam expansion elements a high degree of polarization of the z. B. reflected back into a laser resonator, bandwidth restricted light.

Eine vorteilhafte Ausführungsform der Erfindung ist in den Zeichnungen veranschaulicht und wird nachfolgend beschrieben. Hierbei zeigen: An advantageous embodiment of the invention is in the drawings illustrated and described below. Here show:

Fig. 1 eine schematische Seitenansicht eines aus Bandbreiten- Einengungsmodul, Verstärkungsmedium und Auskoppelspiegel bestehenden Laserresonators, Fig. 1 is a schematic side view of a group consisting of bandwidth narrowing module, gain medium and the output mirror laser resonator,

Fig. 2 ein Schaubild zur Veranschaulichung der für s-polarisiertes Licht im Vergleich zu p-polarisiertem Licht erhöhten Beugungseffizienz eines im Modul von Fig. 1 verwendbaren Echelle- Gitters und FIG. 2 is a graph illustrating the diffraction efficiency of an Echelle grating that can be used in the module of FIG. 1 and increased for s-polarized light compared to p-polarized light

Fig. 3 ein Schaubild zur Veranschaulichung der für s-polarisiertes Licht im Vergleich zu p-polarisiertem Licht geringeren Absorption des im Modul von Fig. 1 verwendbaren Echelle-Gitters. Fig. 3 is a graph illustrating the polarized s-by light compared to p-polarized light of the usable lower absorption in the module of FIG. 1 echelle grating.

Das in Fig. 1 gezeigte Bandbreiten-Einengungsmodul stellt den rückwärtigen Resonatorabschluss eines Lasers, z. B. eines Excimer-Lasers, dar und hat die Funktion, durch wellenlängenselektive Reflektion die Bandbreite der emittierten Laserstrahlung zu reduzieren. Ein wichtiges Anwendungsgebiet sind UV-Strahlung emittierende Excimer-Laser für Lithographieanlagen zur Waferstrukturierung. The bandwidth narrowing module shown in Fig. 1 represents the rear resonator termination of a laser, e.g. B. an excimer laser, and has the function of reducing the bandwidth of the emitted laser radiation by wavelength-selective reflection. An important area of application is UV radiation-emitting excimer lasers for lithography systems for wafer structuring.

Das Bandbreiten-Einengungsmodul umfasst im Lichtstrahlengang hintereinanderliegend nach einer Verstärkungs- bzw. Gasentladungskammer 1 eine Strahlaufweitungseinheit mit drei hintereinanderliegenden, geeignet angeordneten Prismen 3a, 3b, 3c, einen in nicht näher gezeigter, herkömmlicher Weise drehbeweglich angeordneten Spiegel 4 und ein Echelle-Gitter 5 überlicher Bauart in Littrow-Konfiguration. Des weiteren beinhaltet das Bandbreiten-Einengungsmodul eine in Lichteinfallrichtung zwischen dem zweiten Prisma 3b und dem dritten Prisma 3c angeordnete λ/2-Platte 6. The bandwidth narrowing module comprises, in the light beam path one after the other after an amplification or gas discharge chamber 1, a beam expansion unit with three successively arranged, suitably arranged prisms 3 a, 3 b, 3 c, a mirror 4, not shown, conventionally arranged, and a Echelle mirror. Lattice 5 over construction in Littrow configuration. Furthermore, the bandwidth narrowing module includes a λ / 2 plate 6 arranged between the second prism 3 b and the third prism 3 c in the direction of light incidence.

Da der Querschnitt des aus der Gasentladungskammer 1 kommenden Laserstrahls keine Rotationssymmetrie, sondern eher ein langgezogenes Rechteckprofil aufweist, existiert eine Vorzugsorientierung bezüglich der Ausrichtung von Gitter und Strahlaufweitung sowie bezüglich der Schrägstellung der Kammerfenster 2 unter oder nahe dem Brewster- Winkel. Optimale Bandbreiteneinengung wird erreicht, wenn die Richtung der Strahlaufweitung parallel, die der Gitterfurchen senkrecht zur kurzen Achse des Strahlprofils orientiert ist. Die erforderliche Größe der Kammerfenster ist zugleich minimal, wenn die Drehachse der Schrägstellung parallel zur langen Achse des Strahlprofils ist. Aus der Orientierung der Schrägstellung der Kammerfenster sowie der Orientierung der Prismenstrahlaufweitung ergibt sich die p-Polarisation als Vorzugspolarisation zur Minimierung von Verlusten durch Reflexion. Soll diese für Kammer und Strahlaufweitung günstige Polarisation beibehalten werden, so kann die für den Betrieb des Gitters günstigere s-Polarisation durch Einbringen eines Polarisationsdrehers nahe dem Gitter realisiert werden. Since the cross section of the laser beam coming from the gas discharge chamber 1 has no rotational symmetry, but rather an elongated rectangular profile, there is a preferred orientation with regard to the alignment of the grating and beam expansion and with respect to the inclined position of the chamber window 2 at or near the Brewster angle. Optimal bandwidth narrowing is achieved if the direction of the beam expansion is parallel, that of the grating furrows perpendicular to the short axis of the beam profile. The required size of the chamber window is also minimal if the axis of rotation of the inclined position is parallel to the long axis of the beam profile. From the orientation of the inclined position of the chamber windows and the orientation of the prism beam expansion, the p-polarization results as the preferred polarization to minimize losses due to reflection. If this polarization, which is favorable for the chamber and the beam expansion, is to be maintained, the s-polarization which is more favorable for the operation of the grating can be achieved by introducing a polarization rotator near the grating.

Das von der Verstärkungskammer 1 kommende, im wesentlichen p- polarisierte Licht erfährt durch das erste Prisma 3a und das zweite Prisma 3b eine Teilaufweitung, wonach es durch die λ/2-Platte in seiner Polarisation um 90° gedreht, d. h. von p- in s-polarisiertes Licht gewandelt wird. Das solchermaßen weitestgehend s-polarisierte Licht wird dann vom letzten Prisma 3c auf den vollen Querschnitt aufgeweitet, mit dem es über den Spiegel 4 auf das Echelle-Gitter 5 unter einem geeigneten großen Littrow-Winkel einfällt. Das vom Echelle-Gitter 5 rückreflektierte Licht mit s-Vorzugspolarisation gelangt dann über den Spiegel 4 und das dritte Prisma 3c wieder zur λ/2-Platte 6, von der es in Licht mit p- Polarisation rückgewandelt wird, wonach das im wesentlichen p- polarisierte und durch die Wirkung des Echelle-Gitters 5 bandbreiteneingeengte Licht über das zweite Prisma 3b und das erste Prisma 3a wieder zwecks Verstärkung in die Entladungskammer 1 eingekoppelt wird. An der Vorderseite der Entladungskammer 1 tritt ein entsprechender Laserstrahl 9 über eine ebenfalls schräg gestaltete Austrittsfläche 7 aus, wobei es über einen herkömmlichen ausgangsseitigen Koppler 9 geführt wird. The essentially p-polarized light coming from the amplification chamber 1 undergoes a partial widening through the first prism 3 a and the second prism 3 b, after which it is rotated by 90 ° in its polarization by the λ / 2 plate, ie by p- is converted into s-polarized light. The light which is largely s-polarized in this way is then expanded by the last prism 3 c to the full cross-section, with which it is incident on the Echelle grating 5 at a suitable large Littrow angle via the mirror 4 . The back-reflected light from the Echelle grating 5 with s preferred polarization then passes via the mirror 4 and the third prism 3 c back to the λ / 2 plate 6 , from which it is converted back into light with p-polarization, after which the essentially p - Polarized and by the action of the Echelle grating 5 bandwidth narrowed light is coupled via the second prism 3 b and the first prism 3 a again for amplification in the discharge chamber 1 . At the front of the discharge chamber 1 , a corresponding laser beam 9 emerges via a likewise obliquely designed exit surface 7 , it being guided via a conventional coupler 9 on the output side.

Die Platzierung der λ/2-Platte 6 im teilaufgeweiteten Lichtstrahl zwischen dem zweiten Prisma 3b und dem dritten Prisma 3c hat gegenüber einer Positionierung an einer weiter vorn in Richtung Entladungskammer 1 liegenden Stelle den Vorteil, dass die Leistungsdichte des Laserstrahls und damit die thermische Belastung für die λ/2-Platte 6 entsprechend reduziert ist. Zum anderen kann durch diese Positionierung gegenüber einem Anordnen der λ/2-Platte 6 zwischen dem dritten Prisma 3c und dem Echelle-Gitter 5, d. h. im voll aufgeweiteten Lichtstrahl, die Abmessung der λ/2-Platte 6 entsprechend klein gehalten werden, beispielsweise in einer Größenordnung von 25 mm × 25 mm bei quadratischen Abmessungen. The placement of the λ / 2 plate 6 in the partially widened light beam between the second prism 3 b and the third prism 3 c has the advantage over a positioning at a point further forward in the direction of the discharge chamber 1 that the power density of the laser beam and thus the thermal Load for the λ / 2 plate 6 is reduced accordingly. On the other hand, by this positioning compared to arranging the λ / 2 plate 6 between the third prism 3 c and the Echelle grating 5 , ie in the fully expanded light beam, the dimension of the λ / 2 plate 6 can be kept correspondingly small, for example in the order of 25 mm × 25 mm with square dimensions.

Alternativ zur gezeigten Positionierung kann die λ/2-Platte je nach Anwendungsfall auch im noch nicht so stark teilaufgeweiteten Bereich zwischen dem ersten Prisma 3a und dem zweiten Prisma 3b oder im noch nicht aufgeweiteten Bereich zwischen der Entladungskammer 1 und dem ersten Prisma 3a angeordnet werden, wenn die dort höhere Leistungsdichte keine Probleme bereitet, wobei dann die λ/2-Platte 6 noch kleiner dimensioniert werden kann. Weiter alternativ kann die λ/2-Platte im voll aufgeweiteten Lichtstrahl zwischen dem dritten Prisma 3c und dem Spiegel 4 oder zwischen dem Spiegel 4 und dem Echelle-Gitter 5 angeordnet sein, wenn die Leistungsdichte im erst teilaufgeweiteten Lichtstrahl ein Problem darstellt und dafür die notwendige größere Abmessung der λ/2-Platte in Kauf genommen wird. As an alternative to the positioning shown, the λ / 2 plate can, depending on the application, also in the region that has not yet been partially expanded between the first prism 3 a and the second prism 3 b or in the region that has not yet expanded between the discharge chamber 1 and the first prism 3 a be arranged if the higher power density there is no problem, in which case the λ / 2 plate 6 can be dimensioned even smaller. Further alternatively, the λ / 2 plate can be arranged in the fully expanded light beam between the third prism 3 c and the mirror 4 or between the mirror 4 and the Echelle grating 5 if the power density in the only partially expanded light beam is a problem and therefore the necessary larger dimension of the λ / 2 plate is accepted.

Bevorzugt ist das dritte Prisma 3c mit einer nicht explizit gezeigten Beschichtung zur Entspiegelung versehen, die für s-Polarisation optimiert ist, d. h. für das von der λ/2-Platte 6 kommende und das vom Echelle- Gitter 5 rückreflektierte, jeweils im wesentlichen s-polarisierte Licht, welches dieses dritte Prisma 3c auf dem Hin- und dem Rückweg durchquert. Dies minimiert den Lichtverlust durch das dritte Prisma 3c. Andererseits werden die beiden vorgeschalteten Prismen 3a, 3b in ihrem herkömmlichen Design beibehalten, das vergleichsweise hohe Reflektionsverluste für s-polarisiertes Licht liefert. Dies führt zu dem erwünschten Effekt, dass diese beiden Prismen 3a, 3b jegliche störenden spolarisierten Lichtanteile, die eventuell im zurückgestrahlten, aus der λ/2-Platte 6 austretenden Licht enthalten sind, aus dem eigentlichen Hauptstrahlengang wegreflektieren, so dass selbige nicht in die Verstärkungskammer 1 eingekoppelt werden, was die Erzielung eines hohen Polarisationsgrades der vom Laser emittierten Strahlung 9 gewährleistet. The third prism 3 c is preferably provided with an anti-reflective coating, not explicitly shown, which is optimized for s-polarization, ie for the one coming from the λ / 2 plate 6 and the one reflected back from the Echelle grating 5 , each essentially s polarized light which crosses this third prism 3 c on the way there and back. This minimizes the loss of light through the third prism 3 c. On the other hand, the two upstream prisms 3 a, 3 b are retained in their conventional design, which provides comparatively high reflection losses for s-polarized light. This leads to the desired effect that these two prisms 3 a, 3 b reflect any interfering polarized light components that may be contained in the reflected light emerging from the λ / 2 plate 6 from the actual main beam path, so that the same does not reflect in the amplification chamber 1 are coupled in, which ensures the achievement of a high degree of polarization of the radiation emitted by the laser 9 .

Bei den oben genannten, alternativen Positionierungen der λ/2-Platte 6 werden jeweils das oder die im Strahlengang zwischen der λ/2-Platte 6 und dem Echelle-Gitter 5 liegenden Prismen mit der für s-Polarisation optimierten Entspiegelungsbeschichtung versehen, während das oder die zwischen der λ/2-Platte 6 und der Entladungskammer 1 liegenden Prismen die Aufgabe der Ausblendung eventueller s-polarisierter Strahlungsanteile durch Wegreflektieren übernehmen. In the above-mentioned alternative positioning of the λ / 2 plate 6 , the prism or prisms located in the beam path between the λ / 2 plate 6 and the Echelle grating 5 are each provided with the anti-reflective coating optimized for s-polarization, while the or the prisms located between the λ / 2 plate 6 and the discharge chamber 1 take over the task of the suppression of any s-polarized radiation portions by reflect away.

Der Einsatz der λ/2-Platte 6 bewirkt wie beschrieben, dass das Licht mit s-Vorzugspolarisation auf das Echelle-Gitter 5 einfällt. Dies hat gegenüber herkömmlichen Anordnungen, bei denen Licht mit p-Polarisation oder jedenfalls mit merklichem Anteil an p-polarisierter Strahlung auf das Reflektionsgitter einfällt, signifikante Vorteile, die darauf beruhen, dass zum einen die Beugungseffizienz von Echelle-Gittern für s-polarisiertes Licht deutlich höher ist als für p-polarisiertes Licht, speziell bei geeigneten Einfallswinkeln, und zum anderen die Absorption von Echelle-Gittern für s-polarisiertes Licht deutlich geringer ist als für p-polarisiertes Licht. Dies ist in den Schaubildern der Fig. 2 und 3 beispielhaft dargestellt für ein typisches Gitter, wie es zum Betrieb in einem Bandbreiten- Einengungsmodul der in Fig. 1 dargestellten Art geeignet ist. Angenommen ist, dass ein Al-Echelle-Gitter mit d = 7648 nm für eine Laserlicht- Wellenlänge von λ = 248,4 nm in einer Konfiguration mit einem großen Littrow-Winkel von 77° für Blaze-Profile mit einem Apexwinkel von 90° in der -60. Beugungsordnung verwendet ist. Derart hohe Beugungsordnungen werden z. B. in Echelle-Gittern mit großem Littrow-Winkel innerhalb von Bandbreiten-Einengungsmodulen als letzte propagierende Beugungsordnung verwendet. Bei großen Littrow-Winkeln dient die kleine Facette der Dreiecksprofile des Echelle-Gitters als Blazeflanke. As described, the use of the λ / 2 plate 6 causes the light with s preferred polarization to strike the Echelle grating 5 . This has significant advantages over conventional arrangements in which light with p-polarization or in any case with a noticeable proportion of p-polarized radiation is incident on the reflection grating, based on the one hand that the diffraction efficiency of Echelle gratings for s-polarized light is clear is higher than for p-polarized light, especially at suitable angles of incidence, and secondly the absorption of Echelle gratings for s-polarized light is significantly lower than for p-polarized light. This is shown in the diagrams of FIGS. 2 and 3 by way of example for a typical grid, as is suitable for operation in a bandwidth narrowing module of the type shown in FIG. 1. It is assumed that an Al-Echelle grating with d = 7648 nm for a laser light wavelength of λ = 248.4 nm in a configuration with a large Littrow angle of 77 ° for blaze profiles with an apex angle of 90 ° in the -60. Diffraction order is used. Such high diffraction orders are z. B. used in Echelle grids with a large Littrow angle within bandwidth narrowing modules as the last propagating diffraction order. At large Littrow angles, the small facet of the triangular profile of the Echelle grating serves as a blaze flank.

Speziell zeigt Fig. 2 den Verlauf der Beugungseffizienz η für die -60. Beugungsordnung in Abhängigkeit vom Blaze-Facetten-Winkel über einen Winkelbereich von 74° bis 84° einerseits für s-polarisiertes Licht, d. h. TE-Polarisation, gemäß der oberen Kennlinie mit den kreisförmig markierten Datenpunkten und andererseits im Vergleich dazu für p- polarisiertes Licht, d. h. TM-Polarisation, gemäß der unteren Kennlinie mit den dreieckförmig markierten Datenpunkten. Ersichtlich ist für Blaze- Facetten-Winkel oberhalb von 77° in diesem speziellen Beispiel die Beugungseffizienz für s-polarisiertes Licht in der -60. Beugungsordnung um absolut gesehen etwa 15% höher als für p-polarisiertes Licht. Specifically, FIG. 2 shows the profile of the diffraction efficiency η for -60. Diffraction order depending on the blaze facet angle over an angular range from 74 ° to 84 ° on the one hand for s-polarized light, ie TE polarization, according to the upper characteristic curve with the circularly marked data points and on the other hand in comparison for p-polarized light, ie TM polarization, according to the lower characteristic with the triangularly marked data points. The diffraction efficiency for s-polarized light in the -60 can be seen for blaze facet angles above 77 ° in this special example. Diffraction order in absolute terms about 15% higher than for p-polarized light.

Fig. 3 veranschaulicht für dasselbe Beispiel mit den gleichen Parametern den Verlauf der Absorption a in Abhängigkeit vom Blaze-Facetten- Winkel einerseits für s-polarisiertes Licht, d. h. TE-Absorption, gemäß der unteren Kennlinie mit den kreisförmig markierten Datenpunkten und andererseits im Vergleich dazu für p-polarisiertes Licht, d. h. TM- Absorption, gemäß der oberen Kennlinie mit den dreieckförmig markierten Datenpunkten. Wie daraus ersichtlich, ist die Absorption für s- polarisiertes Licht über den gesamten Bereich von Blaze-Facetten- Winkeln von 74° bis 84° weniger als halb so groß wie diejenige für p- polarisiertes Licht. For the same example with the same parameters, FIG. 3 illustrates the course of the absorption a as a function of the blaze facet angle on the one hand for s-polarized light, ie TE absorption, according to the lower characteristic curve with the data points marked in a circle and on the other hand in comparison for p-polarized light, ie TM absorption, according to the upper characteristic with the triangularly marked data points. As can be seen from this, the absorption for s-polarized light is less than half as large as that for p-polarized light over the entire range of blaze facet angles from 74 ° to 84 °.

Da beim Modul von Fig. 1 durch Einsatz der λ/2-Platte 6 das Licht im wesentlichen s-polarisiert auf das Echelle-Gitter 5 trifft, wird eine entsprechend niedrige Absorption und hohe Beugungseffizienz erzielt. Die niedrige Absorption bedeutet reduzierte thermische Probleme, welche unter anderem die Wellenlängenauflösung des Moduls negativ beeinflussen könnten, sowie eine erhöhte Lebensdauer des Echelle-Gitters 5. Since in the module of FIG. 1 the light strikes the Echelle grating 5 in essentially s-polarized manner by using the λ / 2 plate 6 , a correspondingly low absorption and high diffraction efficiency is achieved. The low absorption means reduced thermal problems, which among other things could negatively influence the wavelength resolution of the module, and an increased service life of the Echelle grating 5 .

Es versteht sich, dass die oben erwähnten Vorteile nicht nur für die gezeigte und die oben erwähnten alternativen Realisierungen, sondern auch für weitere Realisierungen des erfindungsgemäßen Bandbreiten- Einengungsmoduls gelten. Solche weiteren Realisierungen können z. B. den Einsatz anderer herkömmlicher Polarisationsmittel anstelle der λ/2- Platte 6 beinhalten, die lediglich so auszulegen sind, dass sie sicherstellen, dass das Licht im wesentlichen s-polarisiert auf das Echelle-Gitter 5 einfällt. In weiteren alternativen Ausführungsformen können statt der gezeigten andersartige Strahlaufweitungseinheiten herkömmlicher Art verwendet sein, z. B. solche mit nur zwei oder solche mit mehr als drei Prismen und/oder solche mit anderen optischen Komponenten, z. B. Linsen, zusätzlich oder anstelle des jeweiligen Prismas. It goes without saying that the advantages mentioned above apply not only to the shown and the above-mentioned alternative implementations, but also to further implementations of the bandwidth narrowing module according to the invention. Such further implementations can e.g. B. include the use of other conventional polarization means instead of the λ / 2 plate 6 , which are only to be designed so that they ensure that the light is incident s-polarized on the Echelle grating 5 . In other alternative embodiments, instead of the shown different beam expansion units of conventional type can be used, e.g. B. those with only two or those with more than three prisms and / or those with other optical components, for. B. lenses, in addition to or instead of the respective prism.

Weiter versteht sich, dass das Bandbreiten-Einengungsmodul nicht nur, wie gezeigt, für einen Laser, sondern auch für andere Lichtquellen verwendbar ist, bei denen sich die Aufgabe stellt, die Bandbreite eines emittierten Lichtstrahls geeignet einzuengen. Als Reflektionsgitter sind nicht nur Echelle-Gitter, sondern je nach Anwendungsfall auch andere herkömmliche Reflektionsgittertypen abhängig vom jeweiligen Anwendungsfall einsetzbar. It also goes without saying that the bandwidth narrowing module not only as shown, for a laser, but also for other light sources is usable, where the task arises, the bandwidth of a emitted light beam appropriately constrict. As a reflection grating not only Echelle grids, but also others depending on the application conventional reflection grille types depending on the respective Use case.

Claims (5)

1. Bandbreiten-Einengungsmodul für eine Lichtquelle, insbesondere einen Laser, mit
einem Reflektionsgitter (5),
gekennzeichnet durch
Polarisationsmittel (6) zur Einstellung einer s-Vorzugspolarisation für auf das Reflektionsgitter (5) einfallendes Licht.
1. bandwidth narrowing module for a light source, in particular a laser, with
a reflection grating ( 5 ),
marked by
Polarization means ( 6 ) for setting a preferred polarization for light incident on the reflection grating ( 5 ).
2. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 1, weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Polarisationsmittel eine λ/2-Platte (6) beinhalten, die zwischen einem Verstärkungsmedium (1) der Lichtquelle und dem Reflexionsgitter (5) angeordnet ist. 2. bandwidth narrowing module according to claim 1, further characterized in that the polarizing means include a λ / 2 plate ( 6 ) which is arranged between a gain medium ( 1 ) of the light source and the reflection grating ( 5 ). 3. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 1 oder 2, weiter dadurch gekennzeichnet, dass eine Strahlaufweitungseinheit mit einer oder mehreren aufeinanderfolgenden Strahlaufweitungselementen (3a, 3b, 3c) vorgesehen ist und die Polarisationsmittel (6) im Bereich zwischen dem vordersten Strahlaufweitungselement (3a) und dem Reflektionsgitter (5) angeordnet sind. 3. bandwidth narrowing module according to claim 1 or 2, further characterized in that a beam expansion unit with one or more successive beam expansion elements ( 3 a, 3 b, 3 c) is provided and the polarization means ( 6 ) in the area between the foremost beam expansion element ( 3 a) and the reflection grating ( 5 ) are arranged. 4. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 3, weiter dadurch gekennzeichnet, dass die Polarisationsmittel (6) im Bereich hinter einem vordersten und vor einem hintersten von mehreren Strahlaufweitungselementen (3a, 3b, 3c) angeordnet sind. 4. bandwidth narrowing module according to claim 3, further characterized in that the polarization means ( 6 ) in the area behind a foremost and in front of a rearmost of a plurality of beam expansion elements ( 3 a, 3 b, 3 c) are arranged. 5. Bandbreiten-Einengungsmodul nach Anspruch 4, weiter dadurch gekennzeichnet, dass das oder die zwischen den Polarisationsmitteln (6) und dem Reflektionsgitter (5) befindlichen Strahlaufweitungselemente (3c) mit einer auf s-Polarisation optimierten Entspiegelungsbeschichtung versehen sind. 5. bandwidth narrowing module according to claim 4, further characterized in that the one or more between the polarization means ( 6 ) and the reflection grating ( 5 ) located beam expansion elements ( 3 c) are provided with an anti-reflective coating optimized for s-polarization.
DE2002104141 2002-01-29 2002-01-29 Bandwidth narrowing module Ceased DE10204141A1 (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2002104141 DE10204141A1 (en) 2002-01-29 2002-01-29 Bandwidth narrowing module
PCT/EP2003/000781 WO2003065520A1 (en) 2002-01-29 2003-01-27 Bandwidth narrowing module

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE2002104141 DE10204141A1 (en) 2002-01-29 2002-01-29 Bandwidth narrowing module

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10204141A1 true DE10204141A1 (en) 2003-08-14

Family

ID=27588248

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2002104141 Ceased DE10204141A1 (en) 2002-01-29 2002-01-29 Bandwidth narrowing module

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE10204141A1 (en)
WO (1) WO2003065520A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009031688A1 (en) * 2009-06-26 2010-12-30 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical arrangement, use of an optical arrangement and method for determining a diffraction grating

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4302378C2 (en) * 1993-01-28 1994-12-01 Lambda Physik Gmbh Tunable laser oscillator
DE19603637C1 (en) * 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Narrow band radiation emitting laser

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07318996A (en) * 1994-03-28 1995-12-08 Matsushita Electron Corp Wavelength conversion waveguide type laser device
DE19515321A1 (en) * 1995-04-20 1996-10-24 Gos Ges Zur Foerderung Angewan Tunable, adjustable stable laser light source with spectrally filtered output
US5917849A (en) * 1997-09-10 1999-06-29 Cymer, Inc. Line narrowing device with double duty grating
WO2001041270A2 (en) * 1999-11-04 2001-06-07 Wisconsin Alumni Research Foundation Frequency-narrowed high power diode laser with external cavity

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4302378C2 (en) * 1993-01-28 1994-12-01 Lambda Physik Gmbh Tunable laser oscillator
DE19603637C1 (en) * 1996-02-01 1997-07-31 Lambda Physik Gmbh Narrow band radiation emitting laser

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102009031688A1 (en) * 2009-06-26 2010-12-30 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical arrangement, use of an optical arrangement and method for determining a diffraction grating
US8441729B2 (en) 2009-06-26 2013-05-14 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optical arrangement, method of use, and method for determining a diffraction grating
DE102009031688B4 (en) * 2009-06-26 2013-12-24 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Method for determining a diffraction grating

Also Published As

Publication number Publication date
WO2003065520A1 (en) 2003-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0829120B1 (en) Tuneable, adjustment-stable laser light source with a spectral filtered output
DE69731148T2 (en) Solid-state laser amplifier
WO2005024516A2 (en) Illuminating device for a microlithographic projection illumination system
EP2810345A1 (en) Co2 laser with rapid power control
DE112011100321T5 (en) spectral device
DE112015006769T5 (en) Semiconductor laser device
DE102009047098A1 (en) Optical arrangement for homogenizing a laser pulse
EP1402291B1 (en) Method for producing light of a given polarisation state
DE60032017T2 (en) NARROW-BAND LASER WITH BIDIRECTIONAL BEAM EXPANSION
EP3652570B1 (en) Polariser arrangement and euv radiation generating device comprising a polariser arrangement
DE2831813C2 (en) Optical filter
DE102009020501A1 (en) Bandwidth narrowing module for adjusting a spectral bandwidth of a laser beam
WO2004099856A1 (en) Light beam splitting device
DE4029687A1 (en) Excimer laser resonator with high spectral purity output beam - has filter between beam widening device and exit mirror
DE4438283C2 (en) Laser for generating narrow-band radiation
DE102020116268A1 (en) FIBER-COUPLED LASER WITH VARIABLE BEAM PARAMETER PRODUCT
DE2020104B2 (en) Amplifier chain stage for laser light pulses
AT506600B1 (en) ARRANGEMENT FOR THE OPTICAL REINFORCEMENT OF LIGHT PULSES
DE10204141A1 (en) Bandwidth narrowing module
DE69828560T2 (en) Laser light source with external resonator
DE69724588T2 (en) LASER BEAM TRANSPORT SYSTEM FOR A HIGH-PERFORMANCE MULTIPLE-WAVELENGTH LASER SYSTEM
EP1316821A2 (en) Optical arrangement, Littrow grating for use in an optical arrangement and use of a Littrow grating
DE69032181T2 (en) Narrow band laser apparatus
DE102018209602B4 (en) Optical assembly for reducing a spectral bandwidth of an output beam of a laser
DE19744302B4 (en) Device for coupling the radiation of short-pulse lasers in a microscopic beam path

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection