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DE102023126128A1 - Decoating device and method for decoating uneven substrates - Google Patents

Decoating device and method for decoating uneven substrates Download PDF

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Publication number
DE102023126128A1
DE102023126128A1 DE102023126128.2A DE102023126128A DE102023126128A1 DE 102023126128 A1 DE102023126128 A1 DE 102023126128A1 DE 102023126128 A DE102023126128 A DE 102023126128A DE 102023126128 A1 DE102023126128 A1 DE 102023126128A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
decoating
unit
edge region
substrate
distance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102023126128.2A
Other languages
German (de)
Inventor
Juliane Doster
Pirmin Muffler
Stefano Pinotti
Arlindo Baptista Fonseca
Robert Tautz
Florian Maier
Maximilian Bückle
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Notion Systems De GmbH
Original Assignee
Osiris International GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osiris International GmbH filed Critical Osiris International GmbH
Priority to DE102023126128.2A priority Critical patent/DE102023126128A1/en
Priority to PCT/DE2024/100832 priority patent/WO2025067599A1/en
Priority to TW113135701A priority patent/TW202514772A/en
Publication of DE102023126128A1 publication Critical patent/DE102023126128A1/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H10P72/0424—
    • H10P72/78—
    • H10P72/0606—

Landscapes

  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer auf einem unebenen Substrat (10) angeordneten Arbeitsschicht (12, 12') mit Hilfe einer Entschichtungsvorrichtung (100). Die Entschichtungsvorrichtung (100) hat eine Entschichtungseinheit (20), eine Arbeitsebenenbewegungseinheit (30) und eine Abstandseinstelleinheit (50). Die Entschichtungseinheit (20) ist ausgebildet den Randbereich (14, 14') zu entfernen und weist einen Entschichtungsausgang (22, 22') auf, der ausgebildet ist, der Arbeitsschicht (12,12') gegenüberliegend angeordnet zu werden. Die Arbeitsebenenbewegungseinheit (30) ist ausgebildet die Entschichtungseinheit (20) in einer Arbeitsebene (40) über den Randbereich (14, 14') zu verfahren Die Abstandseinstelleinheit (50) ist ausgebildet Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang (22) der Entschichtungseinheit (20) und einer Oberfläche (16) des Randbereichs (14) in einer zur Arbeitsebene (40) senkrechten Abstandsrichtung (z) beim Verfahren der Entschichtungseinheit (20) in der Arbeitsebene (40) über den Randbereich (14, 14') innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Dies ermöglicht ein verbessertes Entfernen des Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem unebenen Substrat.

Figure DE102023126128A1_0000
The invention relates to the removal of an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') arranged on an uneven substrate (10) using a decoating device (100). The decoating device (100) has a decoating unit (20), a work plane movement unit (30), and a distance adjustment unit (50). The decoating unit (20) is designed to remove the edge region (14, 14') and has a decoating outlet (22, 22') designed to be arranged opposite the working layer (12, 12'). The working plane movement unit (30) is designed to move the decoating unit (20) in a working plane (40) over the edge region (14, 14'). The distance adjustment unit (50) is designed to keep deviations from a predetermined distance between the decoating outlet (22) of the decoating unit (20) and a surface (16) of the edge region (14) in a distance direction (z) perpendicular to the working plane (40) within a predetermined deviation value when moving the decoating unit (20) in the working plane (40) over the edge region (14, 14'). This enables improved removal of the edge region of a working layer on an uneven substrate.
Figure DE102023126128A1_0000

Description

GEBIET DER ERFINDUNGFIELD OF THE INVENTION

Die Erfindung betrifft das Entschichten von unebenen, insbesondere gewölbten, Substraten. Es werden eine Entschichtungsvorrichtung und ein Verfahren bereitgestellt, die dem Entfernen eines Randbereichs einer Arbeitsschicht von unebenen, insbesondere gewölbten, Substraten dienen.The invention relates to the decoating of uneven, particularly curved, substrates. A decoating device and a method are provided for removing an edge region of a working layer from uneven, particularly curved, substrates.

STAND DER TECHNIKSTATE OF THE ART

US 2006/0003591 A1 beschreibt ein Verfahren zum Entfernen einer Randwulst auf einem Wafer. Das Verfahren umfasst das Bereitstellen eines Wafers mit einer Schicht, Beschichten der Schicht mit einem Fotolack, Rotieren des Wafers und Entfernen einer Randwulst vom Wafer indem in einem ersten Schritt ein Randbuckelteil der Randwulst und in einem zweiten Schritt ein Randabschnitt der Randwulst entfernt werden. US 2006/0003591 A1 describes a method for removing an edge bead on a wafer. The method comprises providing a wafer with a layer, coating the layer with a photoresist, rotating the wafer, and removing an edge bead from the wafer by removing a hump portion of the edge bead in a first step and an edge portion of the edge bead in a second step.

BESCHREIBUNG DER ERFINDUNGDESCRIPTION OF THE INVENTION

Es kann als eine Aufgabe der Erfindung gesehen werden, eine Entschichtungsvorrichtung, ein Entschichtungsmodul, ein Entschichtungssystem, ein Substratverarbeitungssystem, sowie ein Verfahren zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht vorzusehen, die es ermöglichen einen Randbereich einer auf einem unebenen Substrat, insbesondere gewölbten, Substrats angeordneten Arbeitsschicht, besser zu entfernen.It can be seen as an object of the invention to provide a decoating device, a decoating module, a decoating system, a substrate processing system, and a method for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate, which make it possible to better remove an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate, in particular a curved substrate.

Gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung ist eine Entschichtungsvorrichtung zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht vorgesehen. Die Entschichtungsvorrichtung umfasst eine Entschichtungseinheit, eine Arbeitsebenenbewegungseinheit und eine Abstandseinstelleinheit. Die Entschichtungseinheit ist ausgebildet den Randbereich zu entfernen und weist einen Entschichtungsausgang auf. Der Entschichtungsausgang ist ausgebildet, der Arbeitsschicht gegenüberliegend angeordnet zu werden. Die Arbeitsebenenbewegungseinheit ist ausgebildet, die Entschichtungseinheit in einer Arbeitsebene über den Randbereich zu verfahren. Die Abstandseinstelleinheit ist ausgebildet Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und einer Oberfläche des Randbereichs in einer zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Da eine Abstandseinstelleinheit vorgesehen ist, die ausgebildet ist die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten, kann eine Kollision der Entschichtungseinheit mit dem Substrat vermieden werden und auf einem unebenen Substrat ein Randbereich der Arbeitsschicht mit verbesserter Präzision entfernt werden. Dadurch, dass ein nahezu konstanter Abstand zwischen Entschichtungsausgang und Oberfläche des Randbereichs gehalten werden kann, kann eine nahezu gerade Kante am Übergang des entfernten Randbereichs zur Arbeitsschicht erzeugt werden. Dies ermöglicht es Randeffekte zu vermindern, die bei einer ungeraden, insbesondere welligen Kante verstärkt auftreten können. Eine wellige Kante entsteht insbesondere in Fällen, in denen der Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang und der Oberfläche des Randbereichs schwankt und die entfernte Fläche vom Abstand des Entschichtungsausgangs zur Oberfläche des Randbereichs abhängt. Dies ist beispielsweise der Fall, wenn der Entschichtungsausgang nicht senkrecht zur Oberfläche des Randbereichs angeordnet ist, sondern mit einem Winkel zur Oberfläche, z.B. mit einem 45° Winkel, und/oder der Entschichtungsausgang ein kegelförmiges Ausgabevolumen hat, so dass mit größerem Abstand eine größere Fläche entfernt wird und mit kleinerem Abstand eine kleinere Fläche.According to a first aspect of the invention, a decoating device for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate is provided. The decoating device comprises a decoating unit, a working plane movement unit, and a distance adjustment unit. The decoating unit is designed to remove the edge region and has a decoating outlet. The decoating outlet is designed to be arranged opposite the working layer. The working plane movement unit is designed to move the decoating unit in a working plane over the edge region. The distance adjustment unit is designed to keep deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and a surface of the edge region in a distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within a predetermined deviation value. Since a distance adjustment unit is provided which is designed to keep the deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region within a predetermined deviation value in the distance direction when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region, a collision of the decoating unit with the substrate can be avoided and an edge region of the working layer can be removed with improved precision on an uneven substrate. Because a nearly constant distance can be maintained between the decoating outlet and the surface of the edge region, a nearly straight edge can be created at the transition from the removed edge region to the working layer. This makes it possible to reduce edge effects which can occur more frequently with an uneven, particularly wavy edge. A wavy edge arises particularly in cases in which the distance between the decoating outlet and the surface of the edge region fluctuates and the removed area depends on the distance from the decoating outlet to the surface of the edge region. This is the case, for example, if the decoating outlet is not arranged perpendicular to the surface of the edge area, but at an angle to the surface, e.g. at a 45° angle, and/or the decoating outlet has a conical output volume, so that a larger area is removed with a greater distance and a smaller area with a smaller distance.

Der Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung kann zum Beispiel eine geringste Entfernung in senkrechter Richtung zwischen einem am nächsten zur Oberfläche liegenden Punkt des Entschichtungsausgangs, insbesondere dessen distales Ende, und der Oberfläche des Randbereichs sein. Der Abstand kann aber auch eine Entfernung jedes anderen Punktes des Entschichtungsausgangs zur Oberfläche des Randbereichs in senkrechter Richtung sein.The distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane can, for example, be the shortest distance in the perpendicular direction between a point of the decoating outlet closest to the surface, in particular its distal end, and the surface of the edge region. However, the distance can also be the distance of any other point of the decoating outlet to the surface of the edge region in the perpendicular direction.

Der Entschichtungsausgang kann ausgebildet sein ein Entschichtungsmittel, z.B. ein Lösungsmedium oder ein Ätzmedium, auf den Randbereich aufzubringen, um den Randbereich zu entfernen. Der Entschichtungsausgang kann beispielsweise ein Ausgang einer Düse sein. Der Entschichtungsausgang kann ausgebildet sein das Entschichtungsmittel auf eine vom Abstand des Entschichtungsausgangs zur Oberfläche des Randbereichs in senkrechter Richtung abhängige Fläche des Randbereichs aufzubringen. Dies ermöglicht es eine unterschiedlich große Fläche in Abhängigkeit des Abstands des Entschichtungsausgangs von der Oberfläche des Randbereichs zu entfernen. Der Entschichtungsausgang kann beispielsweise ausgebildet sein ein kegelförmiges Ausgabevolumen zu erzeugen, so dass mit größerem Abstand eine größere Fläche entfernt wird und mit kleinerem Abstand eine kleinere Fläche. Alternativ oder zusätzlich kann der Entschichtungsausgang senkrecht zur Oberfläche des Randbereichs oder mit einem Winkel zu der Oberfläche des Randbereichs, beispielsweise mit einem Winkel zwischen 5° und 85° zur Oberfläche des Randbereichs, insbesondere mit einem Winkel von 45° zur Oberfläche des Randbereichs, angeordnet sein. Dies ermöglicht es das Entschichtungsmittel aus dem Entschichtungsausgang unter einem Winkel auf die Oberfläche des Randbereichs aufzubringen und somit in Abhängigkeit des Abstands zwischen dem Entschichtungsausgang und der Oberfläche des Randbereichs unterschiedlich große Flächen des Randbereichs zu entfernen.The decoating outlet can be designed to apply a decoating agent, e.g. a solvent medium or an etching medium, to the edge region in order to remove the edge region. The decoating outlet can be, for example, an outlet of a nozzle. The decoating outlet can be designed to apply the decoating agent to an area of the edge region that depends on the distance of the decoating outlet to the surface of the edge region in the vertical direction. This makes it possible to remove an area of different sizes depending on the distance of the decoating outlet from the surface of the edge region. The decoating outlet can, for example, be designed It should be possible to create a conical output volume so that a larger area is removed at a greater distance and a smaller area at a smaller distance. Alternatively or additionally, the decoating outlet can be arranged perpendicular to the surface of the edge region or at an angle to the surface of the edge region, for example at an angle between 5° and 85° to the surface of the edge region, in particular at an angle of 45° to the surface of the edge region. This makes it possible to apply the decoating agent from the decoating outlet to the surface of the edge region at an angle and thus to remove areas of the edge region of different sizes depending on the distance between the decoating outlet and the surface of the edge region.

Die Abstandseinstelleinheit kann ausgebildet sein, die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand während des Verfahrens der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich beispielsweise innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts von 6 mm oder weniger, bevorzugt 3 mm oder weniger zu halten. Der vorbestimmte Abstand kann ein fester Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung sein, zum Beispiel ein für eine Bearbeitung des Randbereichs optimaler Abstand des Entschichtungsausgangs der Entschichtungseinheit von der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung sein. Der vorbestimmte Abstand kann sich auch entlang des Randbereichs unterscheiden, beispielsweise in Abhängigkeit eines vorbestimmten Höhenprofils variabel sein. Dies kann es ermöglichen einen Randbereich basierend auf einem Höhenprofil zu entfernen. Das Höhenprofil kann beispielsweise ein gemessenes Höhenprofil der Arbeitsschicht auf dem Substrat oder des unebenen Substrats sein. Das Höhenprofil der Arbeitsschicht oder des unebenen Substrats kann beispielsweise vorab oder während eines Entfernens des Randbereichs gemessen werden. Alternativ kann das Höhenprofil auch ein vorgegebenes Höhenprofil sein, das vorbestimmte Strukturen auf dem Randbereich oder am Übergang zwischen dem entfernten Randbereich und der Arbeitsschicht erzeugt. Zusätzlich kann das vorgegebene Höhenprofil das Höhenprofil der Arbeitsschicht und/oder des unebenen Substrats berücksichtigen.The distance adjustment unit can be configured to keep the deviations from the predetermined distance during the movement of the decoating unit in the working plane over the edge region, for example, within a predetermined deviation value of 6 mm or less, preferably 3 mm or less. The predetermined distance can be a fixed distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction, for example, a distance of the decoating outlet of the decoating unit from the surface of the edge region in the distance direction that is optimal for processing the edge region. The predetermined distance can also differ along the edge region, for example, be variable depending on a predetermined height profile. This can make it possible to remove an edge region based on a height profile. The height profile can, for example, be a measured height profile of the working layer on the substrate or of the uneven substrate. The height profile of the working layer or of the uneven substrate can, for example, be measured beforehand or during removal of the edge region. Alternatively, the height profile can also be a predefined height profile that creates predetermined structures on the edge region or at the transition between the remote edge region and the working layer. Additionally, the predefined height profile can take into account the height profile of the working layer and/or the uneven substrate.

Das Substrat kann beispielsweise ein eckiges Substrat sein. Ein eckiges Substrat ist ein Substrat, dass nicht-vollständig rund ist. In anderen Worten ist ein eckiges Substrat ein Substrat, welches Substratlängsseiten aufweist, die über eine Ecke miteinander verbunden sind. Eine, mehrere oder alle Ecken des eckigen Substrats können abgerundete Ecken sein. Das eckige Substrat kann beispielsweise rechteckig oder quadratisch sein.The substrate can, for example, be a square substrate. A square substrate is a substrate that is not completely round. In other words, a square substrate is a substrate that has long sides that are connected to each other via a corner. One, several, or all corners of the square substrate can be rounded corners. The square substrate can, for example, be rectangular or square.

Die Entschichtungseinheit kann ein Entschichtungskopf mit einer oder mehreren Düsen sein oder aufweisen. Der Entschichtungsausgang ist in diesem Fall der Ausgang der Düse oder einer der mehreren Düsen. Es können auch mehrere Entschichtungsausgänge, jeweils an unterschiedlichen Düsen vorgesehen sein. Die Düsen können ausgebildet sein ein Lösungs- oder Ätzmedium auf die Arbeitsschicht auf dem Substrat aufzubringen, um Teile der Arbeitsschicht, insbesondere den Randbereich zu entfernen. Die Entschichtungseinheit kann auch mehrere Entschichtungsköpfe aufweisen, beispielsweise zwei Entschichtungsköpfe. Die Entschichtungsköpfe können in der Arbeitsebene aufeinander gegenüberliegenden Substratslängsseiten angeordnet sein. Jeder der Entschichtungsköpfe kann eine oder mehrere Düsen aufweisen. Eine höhere Anzahl an Düsen ermöglicht die Bearbeitungsgeschwindigkeit zu erhöhen und eine höhere Flexibilität beim zu entfernenden Material, da die Düsen mit unterschiedlichen Medien versorgt werden können.The decoating unit can be or have a decoating head with one or more nozzles. In this case, the decoating outlet is the outlet of the nozzle or one of the multiple nozzles. Multiple decoating outlets can also be provided, each on different nozzles. The nozzles can be designed to apply a solvent or etching medium to the working layer on the substrate in order to remove parts of the working layer, in particular the edge region. The decoating unit can also have multiple decoating heads, for example two decoating heads. The decoating heads can be arranged on opposite longitudinal sides of the substrate in the working plane. Each of the decoating heads can have one or more nozzles. A higher number of nozzles makes it possible to increase the processing speed and provide greater flexibility with regard to the material to be removed, since the nozzles can be supplied with different media.

Das unebene Substrat kann ein gewölbtes Substrat sein, insbesondere ein entlang einer oder mehrerer Richtungen oder in einer oder mehreren Ebenen gewölbtes Substrat sein. Beispielsweise kann ein Rand des Substrats entlang eines Schnitts senkrecht zur Arbeitsebene eine konvexe Kontur aufweisen. Alternativ oder zusätzlich kann das unebene Substrat eine nicht glatte bzw. nicht plane bzw. nicht ebene Oberfläche aufweisen, d.h., auf der Oberfläche können sich eine oder mehrere Erhöhungen und/oder Vertiefungen befinden. Das Substrat kann auch Strukturen aufweisen, beispielsweise Schaltkreise, die unter der Arbeitsschicht auf dem Substrat angeordnet sind. Die Strukturen sind in diesem Fall als Teil des Substrats zu verstehen und von der Arbeitsschicht zu unterscheiden. Das Substrat und die Arbeitsschicht sind von unterschiedlichen Materialien gebildet. Das Substrat kann beispielsweise von einem Glas gebildet sein. Das Substrat kann beispielsweise eine Substratdicke zwischen 100 µm und 1 cm, z.B. zwischen 200 µm und 6 mm, insbesondere zwischen 200 µm und 3,5 mm haben. Beispielsweise für ein gewölbtes Substrat, kann die Substratdicke im Wesentlichen konstant sein, d.h. eine konstante Substratdicke aufweisen, deren Wert entlang des Substrats nur um wenige µm abweicht. Eine tiefste Stelle des unebenen Substrats kann beispielsweise einen Höhenunterschied zu einer höchsten Stelle des unebenen Substrats zwischen 100 µm und 2 cm, bevorzugt zwischen 1 mm und 15 mm, insbesondere zwischen 1 mm und 6 mm haben. Beispielsweise für ein gewölbtes Substrat, kann der Höhenunterschied durch die Wölbung erzeugt werden.The uneven substrate can be a curved substrate, in particular a substrate curved along one or more directions or in one or more planes. For example, an edge of the substrate can have a convex contour along a section perpendicular to the working plane. Alternatively or additionally, the uneven substrate can have a non-smooth or non-planar surface, i.e., one or more elevations and/or depressions can be located on the surface. The substrate can also have structures, for example circuits, arranged on the substrate below the working layer. In this case, the structures are to be understood as part of the substrate and are to be distinguished from the working layer. The substrate and the working layer are formed from different materials. The substrate can be formed from glass, for example. The substrate can have a substrate thickness of between 100 µm and 1 cm, e.g., between 200 µm and 6 mm, in particular between 200 µm and 3.5 mm. For example, for a curved substrate, the substrate thickness can be essentially constant, i.e., it can have a constant substrate thickness whose value deviates by only a few µm along the substrate. For example, a lowest point of the uneven substrate can have a height difference of between 100 µm and 2 cm, preferably between 1 mm and 15 mm, in particular between 1 mm and 6 mm, from a highest point of the uneven substrate. For example, for a curved substrate, the height difference can be generated by the curvature.

Die Arbeitsebenenbewegungseinheit kann ein oder mehrere lineare Verfahrsysteme aufweisen. Die linearen Verfahrsysteme können orthogonal zueinander ausgerichtet sein. Beispielsweise kann die Arbeitsebenenbewegungseinheit zwei in der Arbeitsebene orthogonal zueinander angeordnete lineare Verfahrsysteme aufweisen. Die linearen Verfahrsysteme können beispielsweise jeweils in Form einer Linearachse (engl. linear stage) ausgeführt sein und dafür ausgebildet sein die Entschichtungseinheit jeweils in einer Richtung in der Arbeitsebene linear zu verfahren. Dies ermöglicht es die Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene zu verfahren.The work plane movement unit can have one or more linear travel systems. The linear travel systems can be aligned orthogonally to one another. For example, the work plane movement unit can have two linear travel systems arranged orthogonally to one another in the work plane. The linear travel systems can, for example, each be designed as a linear axis (linear stage) and be configured to move the decoating unit linearly in one direction in the work plane. This enables the decoating unit to move in the work plane.

Der Randbereich kann beispielsweise zwischen mehr als 0 mm und 20 mm, insbesondere zwischen 100 µm und 1 mm betragen.The edge area can, for example, be between more than 0 mm and 20 mm, in particular between 100 µm and 1 mm.

Die Abstandseinstelleinheit kann einen Abstandssensor und eine Abstandsrichtungsbewegungseinheit aufweisen. Der Abstandssensor kann ausgebildet sein einen Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung zu bestimmen. Die Abstandsrichtungsbewegungseinheit kann ausgebildet sein das unebene Substrat und den Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand zu verfahren. Dies ermöglicht es Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten, während die Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich verfahren wird.The distance adjustment unit may comprise a distance sensor and a distance direction movement unit. The distance sensor may be configured to determine a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction. The distance direction movement unit may be configured to move the uneven substrate and the decoating outlet of the decoating unit relative to one another in the distance direction based on the distance determined by the distance sensor. This makes it possible to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction within the predetermined deviation value while the decoating unit is moved over the edge region in the working plane.

Die Abstandsrichtungsbewegungseinheit kann ausgebildet sein das unebene Substrat und den Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand in den vorbestimmten Abstand zu verfahren.The distance direction moving unit may be configured to move the uneven substrate and the stripping outlet of the stripping unit relative to each other in the distance direction to the predetermined distance based on the distance determined by the distance sensor.

Die Abstandsrichtungsbewegungseinheit kann ein lineares Verfahrsystem, beispielsweise in Form einer Linearachse (engl. linear stage) sein, das ausgebildet ist das Substrat und/oder die Entschichtungseinheit in der Abstandsrichtung linear zu verfahren. Durch Verfahren der Entschichtungseinheit wird auch der Entschichtungsausgang relativ zum Substrat in der Abstandsrichtung verfahren. Es können auch mehrere Abstandssensoren vorgesehen sein, beispielsweise jeweils an einer Entschichtungseinheit. Es können auch mehrere Abstandsrichtungsbewegungseinheiten vorgesehen sein, beispielsweise jeweils eine an einer Entschichtungseinheit oder jeweils mehrere an einer Entschichtungseinheit. Dies ermöglicht es Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der jeweiligen Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten, während die jeweilige Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich verfahren wird. Sofern eine Entschichtungseinheit mehrere Abstandssensoren und Abstandsrichtungsbewegungseinheiten aufweist, können zudem Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen mehreren Entschichtungsausgängen der jeweiligen Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs, insbesondere auf der Oberseite und der Unterseite, in Abstandsrichtung innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden, während die jeweilige Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich verfahren wird.The distance direction movement unit can be a linear travel system, for example in the form of a linear axis (linear stage), which is designed to move the substrate and/or the decoating unit linearly in the distance direction. By moving the decoating unit, the decoating outlet is also moved relative to the substrate in the distance direction. Multiple distance sensors can also be provided, for example each on a decoating unit. Multiple distance direction movement units can also be provided, for example one on each decoating unit or several on each decoating unit. This makes it possible to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the respective decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction within the predetermined deviation value, while the respective decoating unit is moved in the working plane over the edge region. If a decoating unit has several distance sensors and distance direction movement units, deviations from the predetermined distance between several decoating outlets of the respective decoating unit and the surface of the edge region, in particular on the top side and the bottom side, can also be kept within the predetermined deviation value in the distance direction while the respective decoating unit is moved over the edge region in the working plane.

Der Abstandssensor kann ausgebildet sein den Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs basierend auf einer Abstandsmessung, zum Beispiel einer Laufzeitmessung oder basierend auf einer chromatischen Aberrationsmessung, zu bestimmen. Der Abstandssensor kann beispielsweise ein konfokal-chromatischer Sensor sein, der ausgebildet ist den Abstand basierend auf einer chromatischen Aberrationsmessung zu bestimmen. Der Abstandssensor kann einen Signalsender und einen Signalempfänger aufweisen. Der Signalsender kann in einem bestimmten Abstand zum Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit angeordnet sein und ausgebildet sein ein Signal in Abstandsrichtung zur Oberfläche des Randbereichs zu senden. Das Signal kann an der Oberfläche des Randbereichs reflektiert werden und der Signalempfänger kann ausgebildet sein das reflektierte Signal zu empfangen. Der Abstandssensor kann einen Laufzeitmesser aufweisen, der ausgebildet ist, basierend auf der Laufzeit des Signals einen Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs zu bestimmen. Der Abstandssensor kann ausgebildet sein basierend auf dem bestimmten Abstand ein Steuersignal zu erzeugen. Das Steuersignal kann an die Abstandseinstelleinheit übermittelt werden, damit diese die Abstandseinstelleinheit steuern kann, um die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Beispielsweise kann der Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit oder das Substrat basierend auf dem Steuersignal in Abstandsrichtung verfahren werden.The distance sensor can be designed to determine the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region based on a distance measurement, for example a time-of-flight measurement or based on a chromatic aberration measurement. The distance sensor can be, for example, a confocal-chromatic sensor designed to determine the distance based on a chromatic aberration measurement. The distance sensor can have a signal transmitter and a signal receiver. The signal transmitter can be arranged at a specific distance from the decoating outlet of the decoating unit and can be designed to send a signal in the distance direction to the surface of the edge region. The signal can be reflected at the surface of the edge region, and the signal receiver can be designed to receive the reflected signal. The distance sensor can have a time-of-flight meter designed to determine a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region based on the time-of-flight of the signal. The distance sensor can be designed to generate a control signal based on the specific distance. The control signal can be transmitted to the distance adjustment unit so that it can control the distance adjustment unit to keep the deviations from the predetermined distance between the stripping outlet of the stripping unit and the surface of the edge region in the distance direction within the predetermined deviation value. For example, the stripping outlet of the stripping unit or the substrate can be moved in the distance direction based on the control signal.

Der Abstandssensor kann eine Steuereinheit aufweisen, die ausgebildet ist, das Steuersignal zu erzeugen. Die Steuereinheit kann den Laufzeitmesser enthalten. Der Laufzeitmesser kann eine physische Einheit sein oder als Software implementiert sein. Die Steuersignale können beispielsweise Schrittmotoren, Linearmotoren oder andere Antriebe der Abstandsrichtungsbewegungseinheit ansteuern, um den Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung anzupassen und somit die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten.The distance sensor can have a control unit configured to generate the control signal. The control unit can contain the transit time meter. The transit time meter can be a physical unit or implemented as software. The control signals can, for example, control stepper motors, linear motors, or other drives of the distance direction movement unit in order to adjust the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction and thus keep the deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within the predetermined deviation value.

Die Entschichtungsvorrichtung kann eine Halteeinheit aufweisen. Die Halteeinheit kann ausgebildet sein das Substrat zu halten. Alternativ oder zusätzlich kann die Halteeinheit ausgebildet sein das Substrat relativ zu der Entschichtungseinheit zu drehen. Die Halteeinheit kann ausgebildet sein, um eine senkrecht zur Arbeitsebene verlaufende Drehachse gedreht zu werden, um das Substrat relativ zur Entschichtungseinheit zu drehen. Dies kann es ermöglichen mit einem Entschichtungskopf den Randbereich unterschiedlicher Substratlängsseiten des unebenen Substrats zu entfernen.The decoating device can have a holding unit. The holding unit can be configured to hold the substrate. Alternatively or additionally, the holding unit can be configured to rotate the substrate relative to the decoating unit. The holding unit can be configured to be rotated about an axis of rotation running perpendicular to the working plane in order to rotate the substrate relative to the decoating unit. This can make it possible to remove the edge region of different longitudinal sides of the uneven substrate using a decoating head.

Die Halteeinheit kann in der Abstandseinstelleinheit enthalten sein oder ein Teil der Abstandseinstelleinheit sein.The holding unit may be included in the distance adjustment unit or be part of the distance adjustment unit.

Die Halteeinheit kann einen oder mehrere Halter aufweisen. Der Halter kann oder die Halter können ausgebildet sein das unebene Substrat kontaktlos zu halten. Der oder die Halter können beispielsweise Luftkissenhalter oder Gaskissenhalter sein. Alternativ kann der Halter oder können die Halter das Substrat auch festhalten, beispielsweise indem sie das Substrat ansaugen. Es können auch einer oder mehrere Gaskissenhalter und einer oder mehrere Halter, die das Substrat ansaugen vorgesehen sein. Die Halteeinheit kann beispielsweise vier Halter aufweisen. Die vier Halter können zueinander in einer bestimmten Form angeordnet sein, beispielsweise in Form eines Kreises oder Quadrats zueinander ausgerichtet sein, um das unebene Substrat zu halten.The holding unit can have one or more holders. The holder(s) can be designed to hold the uneven substrate without contact. The holder(s) can be, for example, air cushion holders or gas cushion holders. Alternatively, the holder(s) can also hold the substrate firmly, for example by sucking the substrate. One or more gas cushion holders and one or more holders that suck the substrate can also be provided. The holding unit can, for example, have four holders. The four holders can be arranged in a specific shape relative to one another, for example aligned in the shape of a circle or square, in order to hold the uneven substrate.

Die Halteeinheit kann wenigstens zwei Halter aufweisen, die ausgebildet sind, einen jeweiligen Bereich der Unterseite des unebenen Substrats festzuhalten. Die Halter können derart angeordnet sein, dass eine Unebenheit des Substrats verringert wird. Dies ermöglicht es die Unebenheit des Substrats zu reduzieren, so dass Abweichungen zum vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden können. Beispielsweise können die Halter entlang der Wölbung eines gewölbten Substrats so angeordnet werden, dass die Wölbung verringert oder entfernt wird.The holding unit can have at least two holders configured to hold a respective region of the underside of the uneven substrate. The holders can be arranged such that an unevenness of the substrate is reduced. This makes it possible to reduce the unevenness of the substrate, so that deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction can be kept within the predetermined deviation value when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region. For example, the holders can be arranged along the curvature of a curved substrate such that the curvature is reduced or eliminated.

Die Halter können eine jeweilige Saugeinheit aufweisen, um den Bereich der Unterseite des Substrats in Richtung des Halters zu ziehen und so die Unebenheit des Substrats weiter zu reduzieren. Die Saugeinheit kann beispielsweise ausgebildet sein den Bernoulli-Effekt zu verwenden, um das Substrat anzusaugen, indem die Saugeinheit mittels einer Gasströmung einen Unterdruck erzeugt.The holders can each have a suction unit to pull the underside of the substrate toward the holder, thus further reducing the substrate's unevenness. The suction unit can, for example, be configured to utilize the Bernoulli effect to suck in the substrate by generating a negative pressure using a gas flow.

Die Halteeinheit kann einen verfahrbaren Halter aufweisen. Der verfahrbare Halter kann ausgebildet sein das unebene Substrat zu halten. Die Abstandseinstelleinheit kann ausgebildet sein den verfahrbaren Halter in einer zu der Arbeitsebene parallelen Halteebene parallel mit der Entschichtungseinheit zu verfahren, so dass der verfahrbare Halter sich in Abstandsrichtung in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit befindet. Da das unebene Substrat vom verfahrbaren Halter gehalten wird und der Abstand zwischen dem verfahrbaren Halter und dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit in Abstandsrichtung beim Verfahren konstant gehalten wird, können Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs eines gewölbten Substrats mit einer im Wesentlichen konstanten Substratdicke in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden.The holding unit can have a movable holder. The movable holder can be designed to hold the uneven substrate. The distance adjustment unit can be designed to move the movable holder in a holding plane parallel to the working plane, parallel to the decoating unit, such that the movable holder is at a constant distance from the decoating outlet of the decoating unit in the distance direction. Since the uneven substrate is held by the movable holder and the distance between the movable holder and the decoating outlet of the decoating unit is kept constant in the distance direction during movement, deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region of a curved substrate with a substantially constant substrate thickness in the distance direction can be kept within the predetermined deviation value when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region.

Der verfahrbare Halter kann ausgebildet sein das unebene, insbesondere gewölbte, Substrat kontaktlos zu halten. Dafür kann der verfahrbare Halter beispielsweise ein Luftkissenhalter oder Gaskissenhalter sein.The movable holder can be designed to hold the uneven, particularly curved, substrate without contact. For this purpose, the movable holder can be, for example, an air cushion holder or a gas cushion holder.

Die Entschichtungseinheit kann ausgebildet sein zeitgleich den Randbereich auf einer Oberseite und einen weiteren Randbereich auf einer Unterseite der Arbeitsschicht zu entfernen. Dies ermöglicht eine schnellere und vollständigere Entfernung des Randbereichs. Da die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden, kann eine Kollision der Entschichtungseinheit mit dem Substrat vermieden werden.The decoating unit can be designed to simultaneously remove the edge region on a top side and another edge region on a bottom side of the working layer. This enables faster and more complete removal of the edge region. Since the deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction when moving the decoating unit in the working plane over the If the edge area is kept within a predetermined deviation value, a collision of the decoating unit with the substrate can be avoided.

Die Entschichtungseinheit kann einen der Oberseite der Arbeitsschicht gegenüberliegenden Oberseiten-Entschichtungskopf und einen der Unterseite der Arbeitsschicht gegenüberliegenden Unterseiten-Entschichtungskopf aufweisen. Alternativ kann auch nur ein Entschichtungskopf für die Oberseite und die Unterseite vorgesehen sein, der ausgebildet ist, die Randbereiche auf der Oberseite und der Unterseite parallel zu entfernen. Der Unterseiten-Entschichtungskopf kann im Betrieb der Entschichtungsvorrichtung so angeordnet sein, dass sich das Substrat zwischen dem Oberseiten-Entschichtungskopf und dem Unterseiten-Entschichtungskopf befindet. Der Oberseiten-Entschichtungskopf und der Unterseiten-Entschichtungskopf können eine identische Anzahl und Konfiguration von Düsen aufweisen. Alternativ können diese auch eine unterschiedliche Anzahl und/oder Konfiguration von Düsen aufweisen. Je nach Konfiguration einer Düse kann diese mit einem unterschiedlich starken Druck, zum Beispiel zwischen 0,5 bar und 10 bar, insbesondere zwischen 0,5 bar und 2 bar, betrieben werden. Die Verwendung eines höheren Drucks kann eine verbesserte Entschichtung ermöglichen, jedoch auch die Abnutzung der Düsen erhöhen. Je nach Konfiguration der Düse kann diese zusätzlich oder alternativ mit einem unterschiedlichen Lösungs- oder Ätzmedium versorgt werden. Je nach Konfiguration der Düse kann diese für verschiedene Lösungs- oder Ätzmedien geeignet sein, beispielsweise chemikalienbeständig sein. Dies ermöglicht es von unterschiedlichen Materialien gebildete Randbereiche zu entfernen. Das Lösungs- oder Ätzmedium kann beispielsweise Natriumpersulfat, Schwefelsäure (H2SO4), Tetrabromethan, Wasserstoffperoxid (H2O2) oder Stickstoff (N2) sein oder enthalten.The decoating unit can have a top-side decoating head opposite the top side of the working layer and a bottom-side decoating head opposite the bottom side of the working layer. Alternatively, only one decoating head can be provided for the top side and the bottom side, which is designed to remove the edge regions on the top side and the bottom side in parallel. The bottom-side decoating head can be arranged during operation of the decoating device such that the substrate is located between the top-side decoating head and the bottom-side decoating head. The top-side decoating head and the bottom-side decoating head can have an identical number and configuration of nozzles. Alternatively, they can also have a different number and/or configuration of nozzles. Depending on the configuration of a nozzle, it can be operated with a different pressure, for example between 0.5 bar and 10 bar, in particular between 0.5 bar and 2 bar. Using a higher pressure can enable improved decoating, but can also increase nozzle wear. Depending on the nozzle configuration, it can be supplied with a different solvent or etching medium in addition or as an alternative. Depending on the nozzle configuration, it can be suitable for various solvent or etching media, for example, it can be chemical-resistant. This makes it possible to remove edge areas formed by different materials. The solvent or etching medium can be or contain, for example, sodium persulfate, sulfuric acid (H 2 SO 4 ), carbon tetrabromide, hydrogen peroxide (H 2 O 2 ), or nitrogen (N 2 ).

Die Entschichtungsvorrichtung kann eine oder mehrere Spüldüsen aufweisen. Die Spüldüse oder die Spüldüsen können in der Entschichtungseinheit enthalten sein oder Teil der Entschichtungseinheit sein. Die Spüldüsen können ausgebildet sein ein Spülmedium auf den zu entfernenden Randbereich aufzubringen, um diesen, insbesondere gelöstes Material, zu Spülen. Das Spülmedium kann beispielsweise deionisiertes (DI) Wasser oder ein Alkohol, insbesondere Isopropanol sein.The decoating device can have one or more rinsing nozzles. The rinsing nozzle(s) can be contained in the decoating unit or be part of the decoating unit. The rinsing nozzles can be designed to apply a rinsing medium to the edge region to be removed in order to rinse it, in particular to remove dissolved material. The rinsing medium can be, for example, deionized (DI) water or an alcohol, in particular isopropanol.

Die Entschichtungsvorrichtung kann eine oder mehrere Absaugeinheiten aufweisen, die ausgebildet sind das Lösungs- und/oder Ätzmedium zusammen mit dem entfernten Material abzusaugen. Dies ermöglicht eine Verschmutzung der Entschichtungsvorrichtung zu vermindern. Eine Anpassung des Drucks und einer von der oder den Absaugeinheiten zur Verfügung gestellten Absaugstärke ermöglicht es sicherzustellen, dass kein Restmaterial, beispielsweise Lösungs- oder Ätzmedium, auf der Oberfläche am Rand des Substrats verbleibt, nachdem die Arbeitsschicht entfernt wurde.The decoating device can have one or more suction units configured to extract the solvent and/or etching medium along with the removed material. This reduces contamination of the decoating device. Adjusting the pressure and suction strength provided by the suction unit(s) ensures that no residual material, such as solvent or etching medium, remains on the surface at the edge of the substrate after the working layer has been removed.

Die Entschichtungseinheit kann ausgebildet sein einen Ajinomoto Build-up Film (ABF), Kupfer (Cu) oder Titan (Ti) enthaltenden Randbereich der Arbeitsschicht zu entfernen. Der Randbereich kann einen vorbestimmten Prozentsatz, bevorzugt über 50 % von ABF, Cu oder Ti enthalten oder von einem oder mehreren von diesen gebildet sein. Der Randbereich kann auch von einem anderen Material gebildet sein oder ein anderes Material, beispielsweise ein Metall, enthalten. Je nach zu entfernendem Material kann die Entschichtungseinheit eine unterschiedliche Anzahl und/oder Konfiguration von Düsen enthalten. Das Lösungs- oder Ätzmedium und/oder der Druck können auf das zu entfernende Material oder die zu entfernenden Materialien abgestimmt sein. Dies ermöglicht ein optimiertes Entfernen von Randbereichen verschiedener Materialien.The decoating unit can be designed to remove an edge region of the working layer containing Ajinomoto Build-up Film (ABF), copper (Cu), or titanium (Ti). The edge region can contain a predetermined percentage, preferably more than 50%, of ABF, Cu, or Ti, or can be formed from one or more of these. The edge region can also be formed from another material or contain another material, for example a metal. Depending on the material to be removed, the decoating unit can contain a different number and/or configuration of nozzles. The solvent or etching medium and/or the pressure can be tailored to the material or materials to be removed. This enables optimized removal of edge regions of different materials.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Entschichtungsmodul mit einer Entschichtungsvorrichtung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7 oder irgendeiner Ausführungsform der Entschichtungsvorrichtung vorgesehen. Das Entschichtungsmodul enthält zusätzlich wenigstens ein Medien-Reservoir. Das Medienreservoir ist ausgebildet ein oder mehrere Lösungsmedien, ein oder mehrere Ätzmedien oder ein oder mehrere Lösungsmedien und ein oder mehrere Ätzmedien zu enthalten und die Entschichtungseinheit der Entschichtungsvorrichtung mit dieser oder mit diesen zu versorgen.According to a further aspect of the invention, a decoating module is provided with a decoating device according to at least one of claims 1 to 7 or any embodiment of the decoating device. The decoating module additionally contains at least one media reservoir. The media reservoir is configured to contain one or more dissolving media, one or more etching media, or one or more dissolving media and one or more etching media, and to supply the decoating unit of the decoating device with the media.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Entschichtungssystem mit einem oder mehreren Entschichtungsmodulen gemäß Anspruch 8 oder irgendeiner Ausführungsform des Entschichtungsmoduls vorgesehen. Das Entschichtungssystem enthält zusätzlich ein Substrattransfersystem zum Transferieren des unebenen Substrats. Das Substrattransfersystem kann ausgebildet sein unebene Substrate zwischen verschiedenen Modulen, beispielsweise Entschichtungsmodulen zu transferien.According to a further aspect of the invention, a decoating system is provided with one or more decoating modules according to claim 8 or any embodiment of the decoating module. The decoating system additionally includes a substrate transfer system for transferring the uneven substrate. The substrate transfer system can be configured to transfer uneven substrates between different modules, for example, decoating modules.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Substratverarbeitungssystem mit einem oder mehreren Entschichtungssystemen gemäß Anspruch 9 oder irgendeiner Ausführungsform des Entschichtungssystems vorgesehen. Das Substratverarbeitungssystem enthält zusätzlich wenigstens ein Funktionsmodul zum Bearbeiten des unebenen Substrats. Das Substratverarbeitungssystem kann beispielsweise dazu ausgebildet sein ein unebenes Substrat in Form eines gewölbten Wafers, insbesondere einen gewölbten Glas-Wafer zu bearbeiten. Der Glas-Wafer kann beispielsweise ein abgerundeter eckiger Glas-Wafer sein. Das Substratverarbeitungssystem kann beispielsweise eine Vielzahl von Funktionsmodulen, wie z.B. einen Spincoater, eine Chemikalien-Entwicklungseinheit, einen oder mehrere Öfen, eine Belichtungseinheit oder dergleichen enthalten, um das unebene Substrat zu bearbeiten.According to a further aspect of the invention, a substrate processing system is provided with one or more decoating systems according to claim 9 or any embodiment of the decoating system. The substrate processing system additionally contains at least one functional module for processing the uneven substrate. The substrate processing system can, for example, be designed to process an uneven substrate in the form of a curved wafer, in particular a curved glass wafer. The glass wafer can, for example, be a rounded square glass wafer. The substrate processing system may, for example, include a variety of functional modules, such as a spin coater, a chemical development unit, one or more ovens, an exposure unit, or the like, to process the uneven substrate.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Verfahren zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht vorgesehen. Das Verfahren umfasst die Schritte:

  • - Verfahren einer Entschichtungseinheit in einer Arbeitsebene mit einem der Arbeitsschicht gegenüberliegend angeordneten Entschichtungsausgang über den Randbereich und
  • - Entfernen des Randbereichs, wobei Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und einer Oberfläche des Randbereichs in einer zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden. Da Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden, kann auf dem unebenen Substrat der Randbereich mit verbesserter Präzision entfernt und somit eine vollständige Entfernung des Randbereichs der Arbeitsschicht vom Substrat ermöglicht werden.
According to a further aspect of the invention, a method for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate is provided. The method comprises the steps:
  • - Moving a decoating unit in a working plane with a decoating outlet arranged opposite the working layer over the edge area and
  • - Removing the edge region, wherein deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and a surface of the edge region in a distance direction perpendicular to the working plane are kept within a predetermined deviation value when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region. Since deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction are kept within the predetermined deviation value when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region, the edge region can be removed with improved precision on the uneven substrate, thus enabling complete removal of the edge region of the working layer from the substrate.

Das Verfahren kann einen oder mehrere der Schritte umfassen:

  • - Bereitstellen der Entschichtungseinheit, die ausgebildet ist den Randbereich zu entfernen und den Entschichtungsausgang aufweist,
  • - Bereitstellen einer Arbeitsebenenbewegungseinheit, die ausgebildet ist, die Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich zu verfahren,
  • - Bereitstellen einer Abstandseinstelleinheit, die ausgebildet ist Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten,
  • - Bereitstellen eines Abstandssensors, der ausgebildet ist, den Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung zu bestimmen,
  • - Bereitstellen einer Abstandsrichtungsbewegungseinheit, die ausgebildet ist, das unebene Substrat und den Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand zu verfahren.
The method may comprise one or more of the following steps:
  • - Providing the decoating unit, which is designed to remove the edge region and has the decoating output,
  • - Providing a working plane movement unit which is designed to move the decoating unit in the working plane over the edge area,
  • - Providing a distance adjustment unit which is designed to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction within the predetermined deviation value when moving the decoating unit in the working plane over the edge region,
  • - Providing a distance sensor which is designed to determine the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction,
  • - Providing a distance direction moving unit configured to move the uneven substrate and the stripping outlet of the stripping unit relative to each other in the distance direction based on the distance determined by the distance sensor.

Mehrere oder alle Schritte können in einer sinnvollen Reihenfolge oder parallel zueinander ausgeführt werden. Es können auch einige Schritte parallel zueinander ausgeführt werden und seriell zu einem oder mehreren anderen Schritten.Several or all steps can be performed in a meaningful order or in parallel. Some steps can also be performed in parallel and in series with one or more other steps.

Das Verfahren kann einen oder mehrere der Schritte umfassen:

  • - Messen eines Abstands zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung,
  • - Verfahren des unebenen Substrats und des Entschichtungsausgangs der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs, um Abweichungen zum vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten,
  • - Halten des unebenen Substrats,
  • - Drehen des unebenen Substrats relativ zu der Entschichtungseinheit,
  • - Festhalten des unebenen Substrats an wenigstens zwei Bereichen der Unterseite des unebenen Substrats, so dass eine Unebenheit des Substrats verringert wird,
  • - Verfahren eines verfahrbaren Halters in einer zur Arbeitsebene parallelen Halteebene parallel mit der Entschichtungseinheit während der verfahrbare Halter das unebene Substrat hält, so dass der verfahrbare Halter sich in Abstandsrichtung in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit befindet,
  • - Zeitgleiches Entfernen des Randbereichs auf einer Oberseite und eines weiteren Randbereichs auf einer Unterseite der Arbeitsschicht,
  • - Vorsehen eines auf ein Material des Randbereichs abgestimmtes Lösungs- oder Ätzmediums zum Entfernen des Randbereichs.
The method may comprise one or more of the following steps:
  • - Measuring a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge area in the distance direction perpendicular to the working plane,
  • - Moving the uneven substrate and the decoating outlet of the decoating unit relative to each other in the distance direction based on the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region determined by the distance sensor, in order to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within the predetermined deviation value,
  • - Holding the uneven substrate,
  • - Rotating the uneven substrate relative to the decoating unit,
  • - Holding the uneven substrate at least two areas of the underside of the uneven substrate so that unevenness of the substrate is reduced,
  • - Moving a movable holder in a holding plane parallel to the working plane, parallel to the decoating unit, while the movable holder holds the uneven substrate, so that the movable holder is at a constant distance from the decoating outlet of the decoating unit in the distance direction,
  • - Simultaneous removal of the edge area on an upper side and another edge area on a lower side of the working layer,
  • - Providing a solvent or etching medium adapted to a material of the edge area for removing the edge area.

Entfernen eines ABF, Cu oder Ti enthaltenden Randbereich der Arbeitsschicht.Removal of an edge region of the working layer containing ABF, Cu or Ti.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist eine Verwendung der Entschichtungsvorrichtung gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7 oder irgendeiner Ausführungsform der Entschichtungsvorrichtung vorgesehen für:

  • - das Entfernen eines Randbereichs, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer metallischen Schichts oder eines Lacks, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem rechteckigen Substrat, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem Wafer.
According to a further aspect of the invention, a use of the decoating device according to at least one of claims 1 to 7 or any embodiment of the decoating device is provided for:
  • - removing a border area, and/or
  • - the removal of an edge area of a metallic layer or a lacquer, and/or
  • - removing an edge region of a working layer on a rectangular substrate, and/or
  • - the removal of an edge region of a working layer on a wafer.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist eine Verwendung des Verfahrens gemäß Anspruch 11 oder 12 oder irgendeiner Ausführungsform des Verfahrens vorgesehen für:

  • - das Entfernen eines Randbereichs, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer metallischen Schicht oder eines Lacks, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem rechteckigen Substrat, und/oder
  • - das Entfernen eines Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem Wafer.
According to a further aspect of the invention, a use of the method according to claim 11 or 12 or any embodiment of the method is provided for:
  • - removing a border area, and/or
  • - the removal of an edge area of a metallic layer or a varnish, and/or
  • - removing an edge region of a working layer on a rectangular substrate, and/or
  • - the removal of an edge region of a working layer on a wafer.

Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung ist ein Computerprogrammprodukt zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht vorgesehen. Das Computerprogrammprodukt enthält Computerprogrammcodemittel, die einen Prozessor veranlassen das Verfahren gemäß Anspruch 11 oder 12 oder irgendeiner Ausführungsform des Verfahrens auszuführen, wenn das Computerprogrammprodukt auf dem Prozessor ausgeführt wird.According to a further aspect of the invention, a computer program product is provided for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate. The computer program product contains computer program code means that cause a processor to execute the method according to claim 11 or 12 or any embodiment of the method when the computer program product is executed on the processor.

Gemäß einem weiteren Aspekt ist ein computerlesbares Medium vorgesehen, das das Computerprogrammprodukt zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht gespeichert hat. Alternativ, oder zusätzlich, kann das computerlesbare Medium das Computerprogrammprodukt gemäß einer oder mehrerer Ausführungsformen des Computerprogrammprodukts gespeichert haben.According to a further aspect, a computer-readable medium is provided that stores the computer program product for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate. Alternatively, or additionally, the computer-readable medium may store the computer program product according to one or more embodiments of the computer program product.

Die Entschichtungsvorrichtung gemäß Anspruch 1, das Entschichtungsmodul gemäß Anspruch 8, das Entschichtungssystem gemäß Anspruch 9, das Substratverarbeitungssystem gemäß Anspruch 10, das Verfahren gemäß Anspruch 11, die Verwendung gemäß Anspruch 13, die Verwendung gemäß Anspruch 14, und das Computerprogrammprodukt gemäß Anspruch 15, sowie das computerlesbare Medium können ähnliche und/oder identische bevorzugte Ausführungsformen haben, wie sie insbesondere in den abhängigen Ansprüchen definiert sind.The stripping device according to claim 1, the stripping module according to claim 8, the stripping system according to claim 9, the substrate processing system according to claim 10, the method according to claim 11, the use according to claim 13, the use according to claim 14, and the computer program product according to claim 15, as well as the computer-readable medium, may have similar and/or identical preferred embodiments, as defined in particular in the dependent claims.

Des Weiteren kann eine bevorzugte Ausführungsform der Erfindung auch jedwede Kombination der Merkmale der abhängigen Ansprüche oder der vorgenannten Ausführungsformen in Verbindung mit dem entsprechenden unabhängigen Anspruch sein.Furthermore, a preferred embodiment of the invention may also be any combination of the features of the dependent claims or the aforementioned embodiments in conjunction with the corresponding independent claim.

Diese und weitere Aspekte der Erfindung werden im Folgenden mit Bezug zu in den Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.These and other aspects of the invention are explained in more detail below with reference to embodiments shown in the figures.

KURZE BESCHREIBUNG DER FIGURENSHORT DESCRIPTION OF THE CHARACTERS

In den folgenden Figuren zeigt:

  • 1 schematisch und exemplarisch ein beispielhaftes gewölbtes Substrat mit jeweils einer Arbeitsschicht aus Cu auf Oberseite und Unterseite;
  • 2 schematisch und exemplarisch ein erstes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-z-Ebene;
  • 3 schematisch und exemplarisch das erstes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der y-z-Ebene;
  • 4 schematisch und exemplarisch ein zweites Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-y-Ebene;
  • 5 schematisch und exemplarisch ein drittes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-z-Ebene;
  • 6 schematisch und exemplarisch ein viertes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-z-Ebene;
  • 7 schematisch und exemplarisch ein fünftes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-z-Ebene;
  • 8 schematisch und exemplarisch ein sechstes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-y-Ebene;
  • 9 schematisch und exemplarisch ein siebentes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in der x-y-Ebene;
  • 10 schematisch und exemplarisch ein Ausführungsbeispiel des Substratverarbeitungssystems mit einem Funktionsmodul, einem Substrattransfersystem und Entschichtungssystemen, die Entschichtungsmodule und Entschichtungsvorrichtungen enthalten;
  • 11 ein exemplarisches Diagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht.
In the following figures shows:
  • 1 schematically and exemplarily an exemplary curved substrate with a working layer of Cu on the top and bottom sides;
  • 2 schematically and exemplarily a first embodiment of the decoating device in the xz plane;
  • 3 schematically and exemplarily the first embodiment of the decoating device in the yz plane;
  • 4 schematically and exemplarily a second embodiment of the decoating device in the xy plane;
  • 5 schematically and exemplarily a third embodiment of the decoating device in the xz plane;
  • 6 schematically and exemplarily a fourth embodiment of the decoating device in the xz plane;
  • 7 schematically and exemplarily a fifth embodiment of the decoating device in the xz plane;
  • 8 schematically and exemplarily a sixth embodiment of the decoating device in the xy plane;
  • 9 schematically and exemplarily a seventh embodiment of the decoating device in the xy plane;
  • 10 schematically and exemplarily an embodiment of the substrate processing system with a functional module, a substrate transfer system and decoating systems containing decoating modules and decoating devices;
  • 11 an exemplary diagram of an embodiment of a method for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate.

BESCHREIBUNG DER AUSFÜHRUNGSBEISPIELEDESCRIPTION OF THE EMBODIMENTS

1 zeigt ein gewölbtes Substrat 10 in einem Schnitt in der x-z-Ebene. Das Substrat 10 hat eine Arbeitsschicht 12 aus Cu mit einem zu entfernenden Randbereich 14 auf der Oberseite 18 und eine Arbeitsschicht 12' aus Cu mit einem zu entfernenden Randbereich 14' auf der Unterseite 18'. In diesem Ausführungsbeispiel ist das Substrat ein rechteckiger Glaswafer. In anderen Ausführungsbeispielen kann das Substrat auch eine andere Form haben und/oder von einem anderen Material oder anderen Materialien gebildet sein. In anderen Ausführungsbeispielen können die Arbeitsschichten aus anderen Materialien gebildet sein, beispielsweise auch die Arbeitsschicht auf der Oberseite des Substrats von einem anderen Material als die Arbeitsschicht auf der Unterseite des Substrats gebildet sein. Die Arbeitsschichten können auch von mehreren Materialien gebildet sein. 1 shows a curved substrate 10 in a section in the xz plane. The substrate 10 has a working layer 12 made of Cu with an edge region 14 to be removed on the top side 18 and a working layer 12' made of Cu with an edge region 14' to be removed on the bottom side 18'. In this embodiment, the substrate is a rectangular glass wafer. In other embodiments, the substrate can also have a different shape and/or be formed from a different material or other materials. In other embodiments, the working layers can be formed from different materials, for example the working layer on the top side of the substrate can be formed from a different material than the working layer on the bottom side of the substrate. The working layers can also be formed from multiple materials.

Die nachfolgenden 2 bis 9 zeigen unterschiedliche Ausführungsbeispiele einer Entschichtungsvorrichtung 100 zum Entfernen des Randbereichs 14 und/oder 14' der auf dem unebenen Substrat 10 angeordneten Arbeitsschicht 12 und/oder 12'. Die Entschichtungsvorrichtung 100 kann zum Beispiel verwendet werden, um den Randbereich 14 und/oder 14' einer Arbeitsschicht in Form einer metallischen Schicht oder eines Lacks zu entfernen, die beispielsweise auf einem rechteckigen Substrat, insbesondere einem rechteckigen Glaswafer angeordnet ist. Teile, Komponenten oder Einheiten der unterschiedlichen Ausführungsbeispiele der Entschichtungsvorrichtung 100 mit im Wesentlichen gleicher Funktion sind mit identischen Bezugszeichen versehen. Teilweise wurde aus Übersichtlichkeitsgründen darauf verzichtet alle Teile der verschiedenen Ausführungsbeispiele mit Bezugszeichen zu kennzeichnen.The following 2 to 9 show different exemplary embodiments of a decoating device 100 for removing the edge region 14 and/or 14' of the working layer 12 and/or 12' arranged on the uneven substrate 10. The decoating device 100 can be used, for example, to remove the edge region 14 and/or 14' of a working layer in the form of a metallic layer or a lacquer, which is arranged, for example, on a rectangular substrate, in particular a rectangular glass wafer. Parts, components, or units of the different exemplary embodiments of the decoating device 100 with essentially the same function are provided with identical reference numerals. For reasons of clarity, it has been partially omitted to identify all parts of the various exemplary embodiments with reference numerals.

2 zeigt in einer schematischen Schnittdarstellung ein erstes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-z-Ebene und 3 zeigt das erste Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der y-z-Ebene. Die Entschichtungsvorrichtung 100 enthält eine Entschichtungseinheit 20, eine Arbeitsebenenbewegungseinheit 30 und eine Abstandseinstelleinheit 50. In diesem Ausführungsbeispiel enthält die Entschichtungsvorrichtung 100 zusätzlich eine Steuereinheit 500. In anderen Ausführungsbeispielen kann die Entschichtungsvorrichtung auch mit einer Steuereinheit verbunden sein, die die Entschichtungsvorrichtung steuert. Die Steuereinheit kann beispielsweise ein Computer sein. 2 shows a schematic sectional view of a first embodiment of the decoating device 100 in the xz plane and 3 shows the first embodiment of the decoating device 100 in the yz plane. The decoating device 100 includes a decoating unit 20, a work plane movement unit 30, and a distance adjustment unit 50. In this embodiment, the decoating device 100 additionally includes a control unit 500. In other embodiments, the decoating device can also be connected to a control unit that controls the decoating device. The control unit can be a computer, for example.

Die Entschichtungseinheit 20 dient dazu den Randbereich 14 und den Randbereich 14' zu entfernen. In diesem Ausführungsbeispiel enthält die Entschichtungseinheit 20 zwei Entschichtungsausgänge 22 und 22', die jeweils der Arbeitsschicht 12 und 12' gegenüberliegend angeordnet sind und das jeweilige Ende einer Düse 24 und 24' bilden. Die Düsen 24 und 24' werden mit einem Lösungs- oder Ätzmedium aus einem jeweiligen Medienreservoir (nicht gezeigt) versorgt. Die Düse 24 sprüht aus ihrem Entschichtungsausgang 22 das Lösungs- oder Ätzmedium mit einem vorbestimmten Druck, bevorzugt zwischen 0,5 bar und 10 bar, auf die Oberfläche 16 des Randbereichs 14 auf der Oberseite 18 des Substrats 10, um den Randbereich 14 zu entfernen. Das Lösungs- oder Ätzmedium und der Druck sind auf das zu entfernende Material der Arbeitsschicht abgestimmt. Zum Entfernen der Arbeitsschicht 12 aus Cu vom Substrat 10 in Form eines rechteckigen Glaswafers mit der Entschichtungsvorrichtung 100 des ersten Ausführungsbeispiels beträgt der Druck zwischen 0,5 bar und 2 bar und als Lösungs- oder Ätzmedium wird eine Ammoniak-Natriumchlorit-Mischung oder Natriumpersulfat-Schwefelsäure-Mischung verwendet. Damit die Entschichtungseinheit 20 das Ätzmedium versprühen kann, ist sie aus einem chemikalienresistenten Material, zum beispiel Polyetheretherketon (PEEK) für die Ammoniak-Natriumchlorit-Mischung und Quartz für die Natriumpersulfat-Schwefelsäure-Mischung gebildet. In anderen Ausführungsbeispielen kann die Entschichtungseinheit auch ausgebildet sein, z.B. einen ABF oder Ti enthaltenden Randbereich der Arbeitsschicht zu entfernen.The decoating unit 20 serves to remove the edge region 14 and the edge region 14'. In this exemplary embodiment, the decoating unit 20 contains two decoating outlets 22 and 22', which are each arranged opposite the working layer 12 and 12' and form the respective end of a nozzle 24 and 24'. The nozzles 24 and 24' are supplied with a dissolving or etching medium from a respective media reservoir (not shown). The nozzle 24 sprays the dissolving or etching medium from its decoating outlet 22 at a predetermined pressure, preferably between 0.5 bar and 10 bar, onto the surface 16 of the edge region 14 on the top side 18 of the substrate 10 in order to remove the edge region 14. The dissolving or etching medium and the pressure are tailored to the material of the working layer to be removed. To remove the Cu working layer 12 from the substrate 10 in the form of a rectangular glass wafer using the decoating device 100 of the first embodiment, the pressure is between 0.5 bar and 2 bar, and an ammonia-sodium chlorite mixture or a sodium persulfate-sulfuric acid mixture is used as the solvent or etching medium. To enable the decoating unit 20 to spray the etching medium, it is made of a chemically resistant material, for example, polyetheretherketone (PEEK) for the ammonia-sodium chlorite mixture and quartz for the sodium persulfate-sulfuric acid mixture. In other embodiments, the decoating unit can also be configured to remove, for example, an edge region of the working layer containing ABF or Ti.

Neben der Düse 24 enthält die Entschichtungseinheit 20 zudem zwei Spüldüse 26, die neben der Düse 24 angeordnet sind und ein Spülmedium auf die Oberfläche 16 des Randbereichs 14 sprühen, um gelöstes Material und das Lösungs- oder Ätzmedium wegzuspülen. Je nachdem in welche Richtung die Entschichtungseinheit 20 verfahren wird, kann die eine oder die andere Spüldüse 26 verwendet werden, um der Düse 24 nachlaufend das Spülmedium auf die Oberfläche 16 aufzusprühen. Alternativ können die Spüldüsen 26 auch parallel betrieben werden.In addition to the nozzle 24, the decoating unit 20 also contains two rinsing nozzles 26, which are arranged next to the nozzle 24 and spray a rinsing medium onto the surface 16 of the edge region 14 in order to rinse away dissolved material and the dissolving or etching medium. Depending on the direction in which the decoating unit 20 is moved, one or the other rinsing nozzle 26 can be used to follow the nozzle 24 and spray the Spraying rinsing medium onto the surface 16. Alternatively, the rinsing nozzles 26 can also be operated in parallel.

Die Düse 24' deren Entschichtungsausgang 22' der Arbeitsschicht 12' gegenüberliegend angeordnet ist, sprüht entsprechend aus ihrem Entschichtungsausgang 22' Lösungs- oder Ätzmedium auf die Oberfläche 16' des Randbereichs 14' auf der Unterseite 18' des Substrats 10, um den Randbereich 14' zu entfernen. Die Entschichtungseinheit 20 enthält zudem zwei Spüldüsen 26', die neben der Düse 24' angeordnet sind und Spülmedium auf die Oberfläche 16' des Randbereichs 14' sprühen. Die Entschichtungseinheit 20 kann daher zeitgleich den Randbereich 14 der Arbeitsschicht 12 auf einer Oberseite 18 und den weiteren Randbereich 14' der Arbeitsschicht 12' auf der Unterseite 18' des Substrats 10 entfernen. In anderen Ausführungsbeispielen kann die Entschichtungseinheit auch dazu ausgebildet sein nur den Randbereich der Oberseite oder Unterseite zu entfernen.The nozzle 24', whose stripping outlet 22' is arranged opposite the working layer 12', sprays dissolving or etching medium from its stripping outlet 22' onto the surface 16' of the edge region 14' on the underside 18' of the substrate 10 in order to remove the edge region 14'. The stripping unit 20 also contains two rinsing nozzles 26', which are arranged next to the nozzle 24' and spray rinsing medium onto the surface 16' of the edge region 14'. The stripping unit 20 can therefore simultaneously remove the edge region 14 of the working layer 12 on an upper side 18 and the further edge region 14' of the working layer 12' on the underside 18' of the substrate 10. In other embodiments, the stripping unit can also be designed to remove only the edge region of the upper side or underside.

In diesem Ausführungsbeispiel sind die Entschichtungsausgänge 22 und 22' senkrecht zur Oberfläche 16 und 16' des Randbereichs 14 und 14' angeordnet. In anderen Ausführungsbeispielen können die Entschichtungsausgänge auch mit einem Winkel, beispielsweise zwischen 5° und 85° insbesondere 45° zur Oberfläche des Randbereichs angeordnet sein. Auch die Ausgänge der Spüldüsen können senkrecht oder mit einem Winkel zur Oberfläche des Randbereichs angeordnet sein.In this embodiment, the stripping outlets 22 and 22' are arranged perpendicular to the surface 16 and 16' of the edge region 14 and 14'. In other embodiments, the stripping outlets can also be arranged at an angle, for example, between 5° and 85°, in particular 45°, to the surface of the edge region. The outlets of the rinsing nozzles can also be arranged perpendicularly or at an angle to the surface of the edge region.

Ferner sind in diesem Ausführungsbeispiel die Düsen 24, 24' und die Spüldüsen 26, 26' an einem Entschichtungskopf 28 angeordnet. In anderen Ausführungsbeispielen können auch mehrere Entschichtungsköpfe vorgesehen sein. Insbesondere kann ein Entschichtungskopf für die Oberseite und ein Entschichtungskopf für die Unterseite vorgesehen sein. Ferner können auch mehr oder weniger Düsen an der Entschichtungseinheit vorgesehen sein. Beispielsweise kann eine Düse oder können mehrere Düsen nur für das Entfernen des Randbereichs auf der Oberseite oder nur für das Entfernen des Randbereichs auf der Unterseite vorgesehen sein. Es kann neben der Düse auch nur jeweils eine Spüldüse oder keine Spüldüse vorgesehen sein.Furthermore, in this exemplary embodiment, the nozzles 24, 24' and the rinsing nozzles 26, 26' are arranged on a decoating head 28. In other exemplary embodiments, several decoating heads can also be provided. In particular, one decoating head can be provided for the top side and one decoating head for the bottom side. Furthermore, more or fewer nozzles can be provided on the decoating unit. For example, one nozzle or several nozzles can be provided only for removing the edge region on the top side or only for removing the edge region on the bottom side. In addition to the nozzle, only one rinsing nozzle or no rinsing nozzles can be provided.

In diesem Ausführungsbeispiel ist das Spülmedium DI-Wasser. In anderen Ausführungsbeispielen kann auch ein anderes Spülmedium verwendet werden, beispielsweise ein Alkohol, wie zum Beispiel Isopropanol.In this embodiment, the flushing medium is DI water. In other embodiments, a different flushing medium may be used, for example, an alcohol such as isopropanol.

Die Arbeitsebenenbewegungseinheit 30 dient dazu die Entschichtungseinheit 20 in einer Arbeitsebene 40 über den Randbereich 14 und 14' zu verfahren. Die Arbeitsebene 40 liegt in der zur Abstandsrichtung z senkrechten x-y-Ebene. In diesem Ausführungsbeispiel hat die Arbeitsebenenbewegungseinheit 30 eine Linearachse 32, die mit der Entschichtungseinheit 20 verbunden ist, um die Entschichtungseinheit 20 über den Randbereich 14 und 14' linear zu verfahren. In anderen Ausführungsbeispielen können andere Verfahrsysteme vorgesehen sein.The working plane movement unit 30 serves to move the decoating unit 20 in a working plane 40 over the edge region 14 and 14'. The working plane 40 lies in the x-y plane perpendicular to the distance direction z. In this embodiment, the working plane movement unit 30 has a linear axis 32 connected to the decoating unit 20 in order to move the decoating unit 20 linearly over the edge region 14 and 14'. In other embodiments, other movement systems may be provided.

Die Abstandseinstelleinheit 50 dient dazu Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang 22 der Entschichtungseinheit 20 und der Oberfläche 16 des Randbereichs 14 in der zur Arbeitsebene 40 senkrechten Abstandsrichtung z beim Verfahren der Entschichtungseinheit 20 in der Arbeitsebene 40 über den Randbereich 14 und 14' innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Die Abstandseinstelleinheit 50 hat in diesem Ausführungsbeispiel eine Abstandsrichtungsbewegungseinheit 52 in Form einer linearen Achse, eine Halteeinheit 54 in Form eines Waferchucks, Halter 56 und einen Abstandssensor 60.The distance adjustment unit 50 serves to keep deviations from a predetermined distance between the decoating outlet 22 of the decoating unit 20 and the surface 16 of the edge region 14 in the distance direction z perpendicular to the working plane 40 within a predetermined deviation value when the decoating unit 20 is moved in the working plane 40 over the edge regions 14 and 14'. In this exemplary embodiment, the distance adjustment unit 50 has a distance direction movement unit 52 in the form of a linear axis, a holding unit 54 in the form of a wafer chuck, a holder 56, and a distance sensor 60.

In diesem Ausführungsbeispiel hat die Halteeinheit 54 vier Halter 56, die das Substrat 10 halten. In diesem Ausführungsbeispiel sind die Halter 56 Gaskissenhalter, die das Substrat kontaktlos halten, indem die Arbeitsschicht 12' des Substrats 10 auf den von den Haltern 56 erzeugten Gaskissen aufliegt, so dass die Arbeitsschicht 12' nicht beschädigt oder verschmutzt wird. In anderen Ausführungsbeispielen können auch andere Halterarten vorgesehen sein, zum Beispiel ansaugende Halter oder eine Kombination von kontaktlos haltenden und ansaugenden Haltern. Die Halter 56 sind kreuzförmig um ein Zentrum des Substrats 10 angeordnet, so dass das Substrat 10 an vier Bereichen gehalten wird, die zueinander um 90° um das Zentrum des Substrats um die z-Achse gedreht sind. Die Halteeinheit 54 ist in diesem Ausführungsbeispiel um die z-Achse drehbar, so dass das Substrat 10 relativ zu der Entschichtungseinheit 20 in der Arbeitsebene 40 gedreht werden kann.In this exemplary embodiment, the holding unit 54 has four holders 56 that hold the substrate 10. In this exemplary embodiment, the holders 56 are gas cushion holders that hold the substrate in a contactless manner, with the working layer 12' of the substrate 10 resting on the gas cushions created by the holders 56, so that the working layer 12' is not damaged or contaminated. In other exemplary embodiments, other types of holders can also be provided, for example, suction holders or a combination of contactless holding and suction holders. The holders 56 are arranged in a cross shape around a center of the substrate 10, so that the substrate 10 is held in four areas that are rotated 90° relative to each other around the center of the substrate about the z-axis. In this exemplary embodiment, the holding unit 54 is rotatable about the z-axis, so that the substrate 10 can be rotated relative to the decoating unit 20 in the working plane 40.

Der Abstandssensor 60 dient dazu einen Abstandswert für den Abstand d zwischen dem Entschichtungsausgang 22 der Entschichtungseinheit 20 und der Oberfläche 16 des Randbereichs 14 in Abstandsrichtung z zu bestimmen. In diesem Ausführungsbeispiel ist der Abstandssensor 60 ein konfokal-chromatischer Sensor, der den Abstandswert für den Abstand d basierend auf einer chromatisch-konfokalen Aberrationsmessung bestimmt. Der Abstandssensor 60 enthält eine Abstandsmesseinheit 62, die basierend auf einem von der Oberfläche 16 empfangenen Abstandsmessungssignal 64 den Abstandswert für den Abstand d bestimmt. Ferner bestimmt die Abstandsmesseinheit 62 eine Abweichungswert der Abweichung vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang 22 und der Oberfläche 16 in der Abstandsrichtung z. In anderen Ausführungsbeispielen kann auch ein anderer Abstandssensor vorgesehen sein. In alternativen Ausführungsbeispielen kann auch auf einen Abstandssensor verzichtet werden.The distance sensor 60 serves to determine a distance value for the distance d between the decoating outlet 22 of the decoating unit 20 and the surface 16 of the edge region 14 in the distance direction z. In this exemplary embodiment, the distance sensor 60 is a confocal-chromatic sensor that determines the distance value for the distance d based on a chromatic-confocal aberration measurement. The distance sensor 60 contains a distance measuring unit 62 that determines the distance value for the distance d based on a distance measurement signal 64 received from the surface 16. Furthermore, the distance measuring unit 62 determines a deviation value of the deviation from the predetermined Distance between the decoating outlet 22 and the surface 16 in the distance direction z. In other embodiments, a different distance sensor may also be provided. In alternative embodiments, a distance sensor may also be omitted.

Die Abstandsrichtungsbewegungseinheit 52 erhält den Abweichungswert der Abweichung vom vorbestimmten Abstand von der Abstandsmesseinheit 62 und verfährt das Substrat 10 und die Entschichtungseinheit 20 relativ zueinander in der Abstandsrichtung z basierend auf dem vom Abstandssensor 60 bestimmten Abstand d indem sie die Halteeinheit 54 um den Abweichungswert der Abweichung vom vorbestimmten Abstand in Abstandsrichtung z verfährt.The distance direction moving unit 52 receives the deviation value of the deviation from the predetermined distance from the distance measuring unit 62 and moves the substrate 10 and the stripping unit 20 relative to each other in the distance direction z based on the distance d determined by the distance sensor 60 by moving the holding unit 54 by the deviation value of the deviation from the predetermined distance in the distance direction z.

In anderen Ausführungsbeispielen, insbesondere mit mehreren Entschichtungseinheiten können anstatt dem auf der Halteeinheit aufliegenden Substrat auch die Entschichtungseinheiten individuell verfahren werden (siehe z.B. die Ausführungsbeispiele in den 4 und 8). In alternativen Ausführungsbeispielen können auch mehrere Abstandssensoren und Abstandsrichtungsbewegungseinheiten an einer Entschichtungseinheit angeordnet sein, beispielsweise an einem Entschichtungskopf für die Unterseite und einem Entschichtungskopf für die Oberseite und die Entschichtungsköpfe unabhängig voneinander verfahren werden. Dies kann es ermöglichen einen optimalen Abstand der Oberfläche auf der Unterseite und der Oberseite zu den Entschichtungsausgängen einzustellen, um das Entfernen des Randbereichs zu verbessern. Insbesondere kann die Präzision des Entfernens verbessert werden und mit einem geringeren Druck gearbeitet werden, wenn der Entschichtungsausgang während des Entfernens des Randbereichs näher an der Oberfläche des Randbereichs entlang verfahren wird.In other embodiments, in particular with several decoating units, instead of the substrate resting on the holding unit, the decoating units can also be moved individually (see, for example, the embodiments in the 4 and 8 ). In alternative embodiments, multiple distance sensors and distance direction movement units can also be arranged on a decoating unit, for example, on a decoating head for the underside and a decoating head for the top side, and the decoating heads can be moved independently of one another. This can make it possible to set an optimal distance between the surface on the underside and the top side and the decoating outlets in order to improve the removal of the edge region. In particular, the precision of the removal can be improved and less pressure can be applied if the decoating outlet is moved closer to the surface of the edge region during the removal of the edge region.

Die Steuereinheit 500 enthält einen Prozessor 510 und ein computerlesbares Medium in Form eines Speichers 520. Im Speicher 520 ist ein Computerprogrammprodukt zum Entfernen der Randbereiche 14 und 14' der auf dem unebenen Substrat 10 angeordneten Arbeitsschichten 12 und 12' gespeichert. Das Computerprogrammprodukt enthält Computerprogrammcodemittel, die den Prozessor 510 veranlassen ein Verfahren zum Entfernen der Randbereiche 14 und 14' auszuführen, beispielsweise entsprechend dem Ausführungsbeispiel des in 11 dargestellten Verfahrens zum Entfernen der Randbereiche 14 und 14', wenn das Computerprogrammprodukt auf dem Prozessor 510 ausgeführt wird. Zusätzlich kann der Speicher 520 weitere Daten, wie beispielsweise Betriebsparameter oder Bearbeitungsparameter speichern und dem Prozessor 510 zur Verarbeitung zur Verfügung stellen.The control unit 500 contains a processor 510 and a computer-readable medium in the form of a memory 520. A computer program product for removing the edge regions 14 and 14' of the working layers 12 and 12' arranged on the uneven substrate 10 is stored in the memory 520. The computer program product contains computer program code means that cause the processor 510 to execute a method for removing the edge regions 14 and 14', for example, according to the embodiment of the 11 illustrated method for removing the edge regions 14 and 14' when the computer program product is executed on the processor 510. In addition, the memory 520 can store further data, such as operating parameters or processing parameters, and make them available to the processor 510 for processing.

4 zeigt schematisch und exemplarisch ein zweites Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-y-Ebene. Die Darstellung der Düsen 24 und 24' der Entschichtungseinheit 20 ist teilweise perspektivisch, um darzustellen, dass Randbereiche sowohl auf der Oberseite als auch auf der Unterseite des Substrats von der Entschichtungseinheit 20 entfernt werden können. Das Substrat 10 wird in diesem Ausführungsbeispiel von vier kreuzförmig angeordneten Haltern 56 in Form von Gaskissen kontaktlos gehalten. 4 shows a schematic and exemplary second embodiment of the decoating device 100 in the xy plane. The representation of the nozzles 24 and 24' of the decoating unit 20 is partially perspective to illustrate that edge regions on both the top and bottom sides of the substrate can be removed by the decoating unit 20. In this embodiment, the substrate 10 is held contactlessly by four cross-shaped holders 56 in the form of gas cushions.

Das zweite Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 unterscheidet sich vom ersten Ausführungsbeispiel dadurch, dass zwei Entschichtungseinheiten 20 und 20' vorgesehen sind und jede der Entschichtungseinheiten 20, 20' einen Abstandssensor 60 hat. Zudem ist der Entschichtungskopf 28 der jeweiligen Entschichtungseinheit 20, 20' mit einer Abstandsrichtungsbewegungseinheit 52 in Form einer linearen Achse verbunden, der die Entschichtungsausgänge der Düsen 24 und 24' der jeweiligen Entschichtungseinheit 20, 20' in Abstandsrichtung z individuell verfahren kann. Die zwei Entschichtungseinheiten 20, 20' können daher zeitgleich in der Arbeitsebene entlang dem Randbereich 14 mittels der Linearachse 32 der Arbeitsebenenbewegungseinheit 30 in y-Richtung verfahren werden, ohne dass eine Kollision zwischen den Düsen 24 und 24' und dem Substrat 10 droht, da Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der jeweiligen Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in Abstandsrichtung innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden kann, während die jeweilige Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich verfahren wird. Dies ermöglicht es die Randbereiche mit zwei oder mehr Entschichtungseinheiten parallel zu entfernen und erhöht die Bearbeitungsgeschwindigkeit.The second embodiment of the decoating device 100 differs from the first embodiment in that two decoating units 20 and 20' are provided, and each of the decoating units 20, 20' has a distance sensor 60. Furthermore, the decoating head 28 of the respective decoating unit 20, 20' is connected to a distance direction movement unit 52 in the form of a linear axis, which can individually move the decoating outlets of the nozzles 24 and 24' of the respective decoating unit 20, 20' in the distance direction z. The two decoating units 20, 20' can therefore be moved simultaneously in the working plane along the edge region 14 by means of the linear axis 32 of the working plane movement unit 30 in the y-direction, without the risk of a collision between the nozzles 24 and 24' and the substrate 10, since deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the respective decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction can be kept within the predetermined deviation value while the respective decoating unit is moved in the working plane over the edge region. This enables the edge regions to be removed in parallel with two or more decoating units and increases the processing speed.

Sobald eine Längsseite des Substrats von den Entschichtungseinheiten bearbeitet wurde, also ein Randbereich 14 der Arbeitsschicht 12 entlang der Länge der Längsseite entfernt wurde, kann das Substrat um die z-Achse um 90° gedreht werden, so dass die verbleibenden Längsseiten bearbeitet werden können. In anderen Ausführungsbeispielen können auch vier Entschichtungseinheiten, jeweils eine pro Längsseite angeordnet sein, um den Randbereich entlang der Länge der jeweiligen Längsseite zu entfernen.Once one long side of the substrate has been processed by the decoating units, i.e., an edge region 14 of the working layer 12 has been removed along the length of the long side, the substrate can be rotated 90° around the z-axis so that the remaining long sides can be processed. In other embodiments, four decoating units, one per long side, can be arranged to remove the edge region along the length of the respective long side.

5 zeigt schematisch und exemplarisch ein drittes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-z-Ebene. Im Gegensatz zu den ersten zwei Ausführungsbeispielen der Entschichtungsvorrichtung 100 enthält das dritte Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 keinen Abstandssensor und auch keine Abstandsrichtungsbewegungseinheit. Stattdessen hat die Halteeinheit 54 acht Halter 58 die einen jeweiligen Bereich der Unterseite 18' des gewölbten Substrats 10 festhalten und die so angeordnet sind, dass sie die Wölbung des Substrats 10 verringern. In diesem Ausführungsbeispiel sind die Halter 58 kreuzförmig angeordnet, so dass jeder Arm des Kreuzes zwei der acht Halter 58 umfasst. Zudem saugen die Halter 58 das Substrat 10 an dessen Unterseite 18' an, so dass durch die Ansaugkraft die Wölbung verringert wird und ein nahezu ebenes Substrat 10 entsteht. Dadurch, dass die Wölbung des Substrats 10 verringert ist, können Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang 22 und 22' der Entschichtungseinheit 20 und der Oberfläche 16 und 16' des Randbereichs 14 und 14' in der Abstandsrichtung z beim Verfahren der Entschichtungseinheit 20 in der Arbeitsebene 40 über den Randbereich 14 und 14' mittels der linearen Achse 32 der Arbeitsebenenbewegungseinheit 30 innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden. In diesem Ausführungsbeispiel ist die Halteeinheit 54 zudem um die z-Achse drehbar, so dass das Substrat so gedreht werden kann, dass die Entschichtungseinheit 20 die verschiedenen Längsseiten des rechteckigen Substrats 10 bearbeiten kann. 5 shows schematically and exemplarily a third embodiment of the decoating device 100 in the xz plane. In contrast to the first two embodiments of the decoating device 100, the third embodiment of the decoating device 100 does not contain a distance sensor or a distance directional movement unit. Instead, the holding unit 54 has eight holders 58 that hold a respective area of the underside 18' of the curved substrate 10 and are arranged to reduce the curvature of the substrate 10. In this embodiment, the holders 58 are arranged in a cross shape, so that each arm of the cross comprises two of the eight holders 58. In addition, the holders 58 suck the substrate 10 onto its underside 18', so that the suction force reduces the curvature and creates a nearly flat substrate 10. By reducing the curvature of the substrate 10, deviations from the predetermined distance between the decoating outlet 22 and 22' of the decoating unit 20 and the surface 16 and 16' of the edge region 14 and 14' in the distance direction z can be kept within a predetermined deviation value when the decoating unit 20 is moved in the working plane 40 over the edge region 14 and 14' by means of the linear axis 32 of the working plane movement unit 30. In this exemplary embodiment, the holding unit 54 is also rotatable about the z-axis, so that the substrate can be rotated such that the decoating unit 20 can process the various longitudinal sides of the rectangular substrate 10.

6 zeigt schematisch und exemplarisch ein viertes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-z-Ebene. Das vierte Ausführungsbeispiel umfasst alle Merkmale des dritten Ausführungsbeispiels hat aber zusätzlich wie die ersten zwei Ausführungsbeispiele der Entschichtungsvorrichtung 100 einen Abstandssensor 60 und eine Abstandrichtungsbewegungseinheit 52. Der Abstandssensor 60 und die Abstandsrichtungsbewegungseinheit 52 des vierten Ausführungsbeispiels funktionieren äquivalent zu denen der ersten und zweiten Ausführungsbeispiele, weshalb an dieser Stelle auf eine erneute Beschreibung der Funktionsweise verzichtet wird. Die Kombination der Verringerung der Wölbung des Substrats 10 durch die Anordnung der die Unterseite 18' des Substrats 10 ansaugenden Halter 58 und des Verfahrens der Entschichtungsausgänge 22 und 22' relativ zur Oberfläche 16 und 16' des Randbereichs 14 und 14' in der Abstandsrichtung z ermöglicht es Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen diesen weiter zu verringern. 6 shows schematically and by way of example a fourth embodiment of the decoating device 100 in the xz plane. The fourth embodiment comprises all the features of the third embodiment but, like the first two embodiments of the decoating device 100, additionally has a distance sensor 60 and a distance direction movement unit 52. The distance sensor 60 and the distance direction movement unit 52 of the fourth embodiment function equivalently to those of the first and second embodiments, which is why a repeated description of the mode of operation is omitted here. The combination of reducing the curvature of the substrate 10 by arranging the holders 58 that suction the underside 18' of the substrate 10 and moving the decoating outlets 22 and 22' relative to the surface 16 and 16' of the edge region 14 and 14' in the distance direction z makes it possible to further reduce deviations from the predetermined distance between them.

7 zeigt schematisch und exemplarisch ein fünftes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-z-Ebene. In diesem Ausführungsbeispiel wird das Substrat 10 kontaktlos von verfahrbaren Haltern 59 in Form von verfahrbaren Gaskissenhaltern gehalten. Die verfahrbaren Halter 59 werden über lineare Achsen 57 der Abstandseinstelleinheit 50 in einer zur Arbeitsebene 40 parallelen Halteebene 70 parallel mit der Entschichtungseinheit 20 verfahren, so dass der verfahrbare Halter 59 sich in Abstandsrichtung z in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang 22 der Entschichtungseinheit 20 befindet. Das ermöglicht es die Wölbung des Substrats am jeweiligen Teil des Randbereichs 14, der aktuell zu entfernen ist, zu verringern und eine Kollision der Düsen 24 und 24' mit dem Substrat 10 zu vermeiden. Zur Stabilisierung der Lage des Substrats, werden die verfahrbaren Halter 59 entsprechend abgestimmt verfahren. Zur weiteren Stabilisierung des Substrats können noch weitere Halter, beispielsweise ansaugende Halter nahe dem Zentrum des Substrats, vorgesehen sein (siehe siebentes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung in 9). 7 shows schematically and by way of example a fifth embodiment of the decoating device 100 in the xz plane. In this embodiment, the substrate 10 is held contactlessly by movable holders 59 in the form of movable gas cushion holders. The movable holders 59 are moved parallel to the decoating unit 20 via linear axes 57 of the distance adjustment unit 50 in a holding plane 70 parallel to the working plane 40, so that the movable holder 59 is at a constant distance from the decoating outlet 22 of the decoating unit 20 in the distance direction z. This makes it possible to reduce the curvature of the substrate at the respective part of the edge region 14 that is currently to be removed and to avoid a collision of the nozzles 24 and 24' with the substrate 10. To stabilize the position of the substrate, the movable holders 59 are moved in a coordinated manner. For further stabilization of the substrate, further holders, for example suction holders near the center of the substrate, can be provided (see seventh embodiment of the decoating device in 9 ).

8 zeigt schematisch und exemplarisch ein sechstes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-y-Ebene. In diesem Ausführungsbeispiel sind acht Halter 58 zum Ansaugen der Unterseite des Substrats kreuzförmig um ein Zentrum des Substrats angeordnet. Zusätzlich sind vier Halter 56 in Form von Gaskissenhaltern zum kontaktlosen Halten des Substrats kreuzförmig um das Zentrum angeordnet. Die Halter 56 sind zu den Haltern 58 um 45° um die z-Achse gedreht angeordnet. Die Halter 56 ermöglichen es eine Verschmutzung oder Beschädigung der Arbeitsschicht auf der Unterseite in der Nähe des Randbereichs zu vermeiden. In anderen Ausführungsbeispielen kann auch eine andere Anzahl an Gaskissenhaltern und ansaugenden Haltern vorgesehen sein. 8 shows schematically and exemplarily a sixth embodiment of the decoating device 100 in the xy plane. In this embodiment, eight holders 58 for suctioning the underside of the substrate are arranged in a cross shape around a center of the substrate. In addition, four holders 56 in the form of gas cushion holders for contactless holding of the substrate are arranged in a cross shape around the center. The holders 56 are arranged rotated 45° about the z-axis relative to the holders 58. The holders 56 make it possible to avoid contamination or damage to the working layer on the underside near the edge region. In other embodiments, a different number of gas cushion holders and suction holders can also be provided.

In diesem Ausführungsbeispiel sind zudem Düsen und Spüldüsen vorgesehen. In anderen Ausführungsbeispielen kann auch nur eine Düse vorgesehen sein oder mehrere Düsen und eine oder mehrere Spüldüsen. Eine höhere Anzahl an Düsen erhöht die Bearbeitungsgeschwindigkeit, da mehr Flüssigkeit in kürzerer Zeit auf den Randbereich aufgesprüht werden kann, um diesen zu entfernen.In this embodiment, nozzles and rinsing nozzles are also provided. In other embodiments, only one nozzle may be provided, or multiple nozzles and one or more rinsing nozzles may be provided. A larger number of nozzles increases the processing speed, since more fluid can be sprayed onto the edge area in a shorter time to remove it.

9 zeigt schematisch und exemplarisch ein siebentes Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 in der x-y-Ebene. In diesem Ausführungsbeispiel sind die verfahrbaren Halter 59 mit den ansaugenden Haltern 58 kombiniert. Die verfahrbaren Halter 59 sind Gaskissenhalter, die in der y-Richtung parallel zu den Entschichtungseinheiten 20, 20' verfahren werden können. 9 shows a schematic and exemplary seventh embodiment of the decoating device 100 in the xy plane. In this embodiment, the movable holders 59 are combined with the suction holders 58. The movable holders 59 are gas cushion holders that can be moved in the y-direction parallel to the decoating units 20, 20'.

10 zeigt schematisch und exemplarisch ein Ausführungsbeispiel des Substratverarbeitungssystems 400 mit zwei Entschichtungssystemen 300 und 300', einem Funktionsmodul 410, einem Substrattransfersystem 420 und einer Steuereinheit 500. 10 shows schematically and exemplarily an embodiment of the substrate processing system 400 with two decoating systems 300 and 300', a functional module 410, a substrate transfer system 420 and a control unit 500.

Die Entschichtungssysteme 300 und 300' haben in diesem Ausführungsbeispiel jeweils zwei Entschichtungsmodule 200 und 200'. In anderen Ausführungsbeispielen können sie auch eins oder mehr Entschichtungsmodule aufweisen. Zusätzlich enthalten die Entschichtungssysteme 300 und 300' ein Substrattransfersystem 310 zum Transferieren von Substraten. Das Substrattransfersystem 310 transferiert Substrate 10 zwischen den Entschichtungssystemen 300 und 300' und dem Substrattransfersystem 420 des Funktionsmoduls 410. Zudem können die Substrate 10 auch zwischen den Entschichtungssystemen 300 und 300' transferiert werden, beispielsweise falls mehrere unterschiedliche Arbeitsschichten auf dem Substrat 10 übereinander angeordnet sind, deren Randbereich nacheinander von unterschiedlichen Entschichtungsvorrichtungen 100 entfernt wird.In this embodiment, the decoating systems 300 and 300' each have two decoating modules 200 and 200'. In other embodiments, they may also have one or have more decoating modules. In addition, the decoating systems 300 and 300' contain a substrate transfer system 310 for transferring substrates. The substrate transfer system 310 transfers substrates 10 between the decoating systems 300 and 300' and the substrate transfer system 420 of the functional module 410. In addition, the substrates 10 can also be transferred between the decoating systems 300 and 300', for example, if several different working layers are arranged one above the other on the substrate 10, the edge region of which is removed one after the other by different decoating devices 100.

Die Entschichtungsmodule 200 und 200' haben jeweils eine erfindungsgemäße Entschichtungsvorrichtung 100 und mehrere Medien-Reservoirs 210 und 220.The decoating modules 200 and 200' each have a decoating device 100 according to the invention and several media reservoirs 210 and 220.

Die Entschichtungsvorrichtung 100 kann entsprechend einem der Ausführungsbeispiele der Entschichtungsvorrichtungen 100, die in den 2 bis 9 dargestellt sind, ausgestaltet sein. In anderen Ausführungsbeispielen des Substratverarbeitungssystems können in den Entschichtungsmodulen auch unterschiedliche Ausführungsbeispiele oder alternative Ausführungsformen der Entschichtungsvorrichtung vorgesehen sein.The decoating device 100 can be designed according to one of the embodiments of the decoating devices 100 shown in the 2 to 9 are shown. In other embodiments of the substrate processing system, different embodiments or alternative embodiments of the decoating device can also be provided in the decoating modules.

Die Medien-Reservoirs 210 und 220 enthalten in diesem Ausführungsbeispiel ein Lösungs- oder Ätzmedium und ein Spülmedium und versorgen die Entschichtungseinheit der Entschichtungsvorrichtung 100 mit diesen. In anderen Ausführungsbeispielen können auch mehr oder weniger Medien-Reservoirs, beispielsweise eins oder drei, vier, fünf, sechs oder mehr Medien-Reservoirs vorgesehen sein. Je nachdem wie viele Düsen mit Medien versorgt werden müssen und wie viele verschiedenen Medien bereitgestellt werden, ist eine größere oder geringere Anzahl an Medien-Reservoirs vorzusehen.In this embodiment, the media reservoirs 210 and 220 contain a dissolving or etching medium and a rinsing medium and supply them to the decoating unit of the decoating device 100. In other embodiments, more or fewer media reservoirs, for example, one or three, four, five, six, or more media reservoirs, may be provided. Depending on how many nozzles need to be supplied with media and how many different media are provided, a larger or smaller number of media reservoirs may be required.

In diesem Ausführungsbeispiel enthält das Funktionsmodul 410 mehrere Funktionseinheiten, nämlich einen Spincoater 412, eine Chemikalien-Entwicklungseinheit 414, eine Belichtungseinheit 416 und einen Ofen 418. In anderen Ausführungsbeispielen kann das Funktionsmodul auch nur eine oder andere Funktionseinheiten enthalten oder eine Funktionseinheit sein, beispielsweise ein Spincoater. Das Funktionsmodul 410 dient dazu das Substrat 10 zu bearbeiten. In diesem Ausführungsbeispiel erzeugt das Funktionsmodul 410 eine Arbeitsschicht auf dem Substrat 10. Der Randbereich der Arbeitsschicht auf dem Substrat 10 wird nachfolgend von den Entschichtungssystemen 300 und 300' entfernt. Die so erzeugten bearbeiteten Substrate können dann weiteren Bearbeitungsschritten zugeführt werden. Hierfür kann das Substrattransfersystem 420 die Substrate 10 zwischen dem Funktionsmodul 410 und den Entschichtungsystems 300 und 300' transferieren und aus dem Substratverarbeitungssystem 400 heraustransferieren (nicht gezeigt).In this exemplary embodiment, the functional module 410 contains several functional units, namely a spin coater 412, a chemical development unit 414, an exposure unit 416, and an oven 418. In other exemplary embodiments, the functional module can also contain only one or other functional units or be a functional unit, for example, a spin coater. The functional module 410 serves to process the substrate 10. In this exemplary embodiment, the functional module 410 creates a working layer on the substrate 10. The edge region of the working layer on the substrate 10 is subsequently removed by the stripping systems 300 and 300'. The processed substrates thus created can then be fed to further processing steps. For this purpose, the substrate transfer system 420 can transfer the substrates 10 between the functional module 410 and the stripping systems 300 and 300' and transfer them out of the substrate processing system 400 (not shown).

In diesem Ausführungsbeispiel werden die Bearbeitungsprozesse des Substratverarbeitungssystems 400 durch die Steuereinheit 500 zentral gesteuert. In anderen Ausführungsbeispielen können auch mehrere lokale Steuereinheiten vorgesehen sein oder die Steuerung von einer externen Steuereinheit ausgeführt werden.In this embodiment, the processing processes of the substrate processing system 400 are centrally controlled by the control unit 500. In other embodiments, multiple local control units may be provided, or the control may be performed by an external control unit.

Die Steuereinheit 500 enthält einen Prozessor 510 und ein computerlesbares Medium in Form eines Speichers 520. Der Prozessor 510 führt Berechnungen durch. Der Speicher 520 speichert unterschiedliche Daten, wie Betriebsparameter und Computerprogrammprodukte und stellt diese dem Prozessor 510 bereit, damit die Steuereinheit 500 verschiedene Verfahren zum Betreiben der unterschiedlichen Teile, Module, Vorrichtungen und Einheiten des Substratverarbeitungssystems 400 ausführen kann.The control unit 500 includes a processor 510 and a computer-readable medium in the form of a memory 520. The processor 510 performs calculations. The memory 520 stores various data, such as operating parameters and computer program products, and provides them to the processor 510 so that the control unit 500 can perform various methods for operating the various parts, modules, devices, and units of the substrate processing system 400.

11 zeigt den zeitlichen Ablauf eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens 1000 zum Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht. Das Verfahren kann mittels einer Entschichtungsvorrichtung ausgeführt werden, beispielsweise mittels einer der in den 2 bis 9 dargestellten Entschichtungsvorrichtungen 100, insbesondere dem in 8 gezeigten Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100. Das Verfahren kann beispielsweise verwendet werden, um einen Randbereich einer metallischen Schicht oder eines Lacks von einem Substrat, wie einem rechteckigen Substrat, beispielsweise einem rechteckigen Glaswafer, zu entfernen. Das Verfahren kann beispielsweise auch in einer Entschichtungsvorrichtung verwendet werden, die in einem Substratverarbeitungssystem eingebaut ist. 11 shows the time sequence of an embodiment of a method 1000 for removing an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate. The method can be carried out by means of a decoating device, for example by means of one of the 2 to 9 decoating devices 100 shown, in particular the one shown in 8 The method can be used, for example, to remove an edge region of a metallic layer or a resist from a substrate, such as a rectangular substrate, for example, a rectangular glass wafer. The method can also be used, for example, in a decoating device incorporated into a substrate processing system.

In Schritt 1100 wird das unebene Substrat an acht Bereichen der Unterseite des unebenen Substrats durch Ansaugen festgehalten, so dass eine Unebenheit des Substrats verringert wird. Ferner wird das unebene Substrat an vier Bereichen der Unterseite des unebenen Substrats am oder in der Nähe vom Rand kontaktlos gehalten, um eine Verschmutzung und/oder eine Beschädigung des Randbereichs der Arbeitsschicht zu vermeiden. Zum Festhalten der acht Bereiche sind acht Halter zum Ansaugen der Unterseite des Substrats kreuzförmig um einen Mittelpunkt des Substrats angeordnet, so dass jeweils 2 ansaugende Halter einen Arm des entstehenden Kreuzes bilden. Zum kontaktlosen Halten des unebenen Substrats an den vier Bereichen sind Gaskissenhaltern angeordnet, die ein Gaskissen erzeugen, auf dem das unebene Substrat kontaktlos gehalten wird. Das Substrat kann auf diese Weise beispielsweise von dem Ausführungsbeispiel der Entschichtungsvorrichtung 100 gehalten werden, die in 8 gezeigt ist. In anderen Ausführungsbeispielen kann das unebene Substrat auch auf eine andere Art oder von einer anderen Anzahl an Haltern gehalten werden. Der Verfahrensschritt ist entsprechend an die Halteeinheit angepasst, insbesondere die Anzahl und Art der Halter.In step 1100, the uneven substrate is held by suction at eight areas on the underside of the uneven substrate, so that unevenness of the substrate is reduced. Furthermore, the uneven substrate is held contactlessly at four areas on the underside of the uneven substrate at or near the edge to prevent contamination and/or damage to the edge area of the working layer. To hold the eight areas, eight holders for suctioning the underside of the substrate are arranged in a cross shape around a center of the substrate, so that two suction holders each form one arm of the resulting cross. To hold the uneven substrate contactlessly at the four areas, gas cushion holders are arranged, which form a gas cushion on which the uneven substrate is held contactlessly. The substrate can be held in this way, for example, by the embodiment of the decoating device 100 shown in 8 is shown. In other embodiments, the uneven substrate can also be held in a different manner or by a different number of holders. The method step is adapted accordingly to the holding unit, in particular the number and type of holders.

Der Schritt 1100 wird in diesem Ausführungsbeispiel zeitlich kontinuierlich und somit parallel zu allen nachfolgenden Schritten ausgeführt bis den Randbereich entfernt ist und das Substrat durch ein neues zu bearbeitendes Substrat ausgetauscht wurde, d.h. das Substrat wird dauerhaft während einer Bearbeitung gehalten.In this embodiment, step 1100 is carried out continuously over time and thus in parallel to all subsequent steps until the edge region is removed and the substrate has been replaced by a new substrate to be processed, i.e. the substrate is held permanently during processing.

In Schritt 1200 wird ein Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung gemessen, um einen Abstandswert zu bestimmen. Hierfür kann beispielsweise ein Abstandssensor verwendet werden, insbesondere kann der Abstand basierend auf einer chromatischen Aberrationsmessung gemessen werden.In step 1200, a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region is measured in the distance direction perpendicular to the working plane to determine a distance value. For this purpose, for example, a distance sensor can be used; in particular, the distance can be measured based on a chromatic aberration measurement.

In Schritt 1300 werden das unebenen Substrats und der Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstandswert des Abstands zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs verfahren, um Abweichungen zum vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Das Verfahren in Abstandsrichtung kann beispielsweise mittels eine Abstandsrichtungsbewegungseinheit erfolgen.In step 1300, the uneven substrate and the decoating outlet of the decoating unit are moved relative to each other in the distance direction based on the distance value of the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region determined by the distance sensor, in order to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within the predetermined deviation value. The movement in the distance direction can be carried out, for example, by means of a distance direction movement unit.

In Schritt 1400 wird die Entschichtungseinheit in einer Arbeitsebene mit einem der Arbeitsschicht gegenüberliegend angeordneten Entschichtungsausgang über den Randbereich verfahren.In step 1400, the decoating unit is moved over the edge area in a working plane with a decoating outlet arranged opposite the working layer.

Die Schritte 1100 bis 1300 werden parallel zum Schritt 1400 durchgeführt, so dass beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden. In anderen Ausführungsbeispielen kann auch das unebene Substrat relativ zur Entschichtungseinheit verfahren werden, beispielsweise gedreht werden. Insbesondere für ein rundes Substrat ermöglicht ein Drehen des Substrats ein einfaches Verfahren zum Entfernen des Randbereichs.Steps 1100 to 1300 are performed in parallel with step 1400, so that when the decoating unit is moved in the working plane over the edge region, deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane are kept within a predetermined deviation value. In other embodiments, the uneven substrate can also be moved relative to the decoating unit, for example, rotated. Particularly for a round substrate, rotating the substrate enables a simple method for removing the edge region.

Ferner kann in anderen Ausführungsbeispielen auf die Schritte 1200 und 1300 verzichtet werden, so dass auch ohne ein Anpassen des Abstands in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden können. Insbesondere für ein gewölbtes Substrat kann dies beispielsweise allein basierend auf dem Ansaugen durch Halter erfolgen, da diese eine Wölbung des Substrats verringern können, so dass die Abweichungen vom vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden können.Furthermore, in other embodiments, steps 1200 and 1300 can be omitted, so that even without adjusting the distance in the distance direction perpendicular to the working plane, deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane can be kept within a predetermined deviation value. In particular, for a curved substrate, this can be achieved, for example, solely based on suction by holders, since these can reduce the curvature of the substrate, so that the deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane can be kept within a predetermined deviation value.

In Schritt 1500 wird der Randbereich entfernt. In diesem Ausführungsbeispiel werden die Randbereiche der Arbeitsschicht auf der Oberseite und der Unterseite des Substrats gleichzeitig entfernt, wie dies beispielsweise in 2 und 3 dargestellt ist. Um den Randbereich zu entfernen, wird je nach zu entfernendem Material des Randbereichs, beispielsweise ABF, Cu oder Ti, ein entsprechendes Lösungs- oder Ätzmedium mit einem entsprechenden Druck, beispielsweise zwischen 0,5 bar und 10 bar aus einem Entschichtungsausgang einer Düse der Entschichtungseinheit auf den Randbereich aufgesprüht. Zusätzlich wird der Randbereich mit einer Spüldüse gespült, die auf den Randbereich ein Spülmedium, beispielsweise DI-Wasser oder einen Alkohol, wie Isopropanol, aufsprüht, um gelöstes Material des Randbereichs und das Lösungs- oder Ätzmedium wegzuspülen. In diesem Ausführungsbeispiel ist die Spüldüse räumlich unmittelbar hinter der Düse angeordnet, die das Lösungs- oder Ätzmedium aufsprüht, so dass zeitlich die Spülung unmittelbar nach dem Aufbringen des Lösungs- oder Ätzmediums erfolgt. Alternativ kann in anderen Ausführungsbeispielen das Spülen auch erst nach einer Einwirkungszeit des Lösungs- oder Ätzmediums erfolgen.In step 1500, the edge region is removed. In this embodiment, the edge regions of the working layer on the top and bottom of the substrate are removed simultaneously, as is the case, for example, in 2 and 3 is shown. In order to remove the edge region, depending on the material to be removed from the edge region, for example ABF, Cu or Ti, a corresponding solvent or etching medium is sprayed onto the edge region at a corresponding pressure, for example between 0.5 bar and 10 bar, from a decoating outlet of a nozzle of the decoating unit. In addition, the edge region is rinsed with a rinsing nozzle which sprays a rinsing medium, for example DI water or an alcohol such as isopropanol, onto the edge region in order to rinse away dissolved material in the edge region and the solvent or etching medium. In this exemplary embodiment, the rinsing nozzle is arranged spatially immediately behind the nozzle which sprays the solvent or etching medium, so that the rinsing takes place immediately after the application of the solvent or etching medium. Alternatively, in other exemplary embodiments, the rinsing can also take place only after a certain exposure time to the solvent or etching medium.

In Schritt 1600 wird das unebene Substrat relativ zur Entschichtungseinheit gedreht, damit der Randbereich einer Seite des Substrats entfernt werden kann. Durch das Drehen des Substrats relativ zur Entschichtungseinheit wird das Substrat auch relativ zum Entschichtungsausgang gedreht, so dass dieser über einen anderen Teil des Randbereichs verfahren werden kann. Schritt 1500 kann parallel zu den Schritten 1400 und 1600 ausgeführt werden. Der Schritt 1600 ist optional und hängt von der Form des Substrats ab und davon, wie das Substrat relativ zur Entschichtungseinheit verfahren wird. In anderen Ausführungsbeispielen kann Schritt 1600 entfallen, zum Beispiel, bei einem runden Substrat kann in Schritt 1400 das Substrat zum Verfahren über den Randbereich gedreht werden, so dass der gesamte Randbereich der Arbeitsschicht auf dem Substrat entfernt werden kann.In step 1600, the uneven substrate is rotated relative to the stripping unit so that the edge region of one side of the substrate can be removed. By rotating the substrate relative To the decoating unit, the substrate is also rotated relative to the decoating exit so that it can be moved over a different part of the edge region. Step 1500 can be carried out in parallel to steps 1400 and 1600. Step 1600 is optional and depends on the shape of the substrate and how the substrate is moved relative to the decoating unit. In other embodiments, step 1600 can be omitted. For example, in the case of a round substrate, the substrate can be rotated in step 1400 to be moved over the edge region so that the entire edge region of the working layer on the substrate can be removed.

Mehrere oder alle Schritte können in einer sinnvollen Reihenfolge oder parallel zueinander ausgeführt werden. Es können auch einige Schritte parallel zueinander ausgeführt werden und seriell zu einem oder mehreren anderen Schritten.Several or all steps can be performed in a meaningful order or in parallel. Some steps can also be performed in parallel and in series with one or more other steps.

In weiteren Ausführungsbeispielen kann beispielsweise vorgesehen sein einen verfahrbaren Halter in einer zur Arbeitsebene parallelen Halteebene parallel mit der Entschichtungseinheit zu verfahren, während der verfahrbare Halter das unebene Substrat hält, so dass der verfahrbare Halter sich in Abstandsrichtung in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit befindet. Alternativ oder zusätzlich kann in anderen Ausführungsbeispielen vorgesehen sein ein auf ein Material des Randbereichs abgestimmtes Lösungs- oder Ätzmedium zum Entfernen des Randbereichs vorzusehen.In further embodiments, for example, it may be provided to move a movable holder in a holding plane parallel to the working plane, parallel to the decoating unit, while the movable holder holds the uneven substrate, so that the movable holder is at a constant distance from the decoating outlet of the decoating unit in the spacing direction. Alternatively or additionally, in other embodiments, it may be provided to provide a solvent or etching medium tailored to a material of the edge region for removing the edge region.

Die oben gegebene Beschreibung der Erfindung in Verbindung mit den Zeichnungen dient dazu die Merkmale der Erfindung in Form von Ausführungsbeispielen beispielhaft zu erläutern. Die in den Ausführungsbeispielen erläuterten Merkmale sind jedoch nur beispielhaft und sollen nicht als einschränkend verstanden werden. Insbesondere ist die Erfindung nicht auf die Ausführungsbeispiele oder die Merkmalskombination einzelner Ausführungsbeispiele beschränkt. Beispielsweise ist es auch möglich die Erfindung in einem Ausführungsbeispiel mit anderen Haltern oder anderen Entschichtungseinheiten oder Entschichtungsmitteln zu betreiben. Es sind verschiedene Schichten, beispielsweise verschiedene Metallschichten als Arbeitssschichten denkbar. Zudem können verschiedene Materialien für den Entschichtungsausgang oder die Entschichtungsausgänge verwendet werden. Insbesondere können die Entschichtungsausgänge, das Material der Entschichtungsausgänge und das Entschichtungsmittel aufeinander und auf das zu entfernende Material des Randbereichs der Arbeitsschicht angepasst oder abgestimmt sein.The above description of the invention in conjunction with the drawings serves to explain the features of the invention by way of example in the form of exemplary embodiments. However, the features explained in the exemplary embodiments are only examples and should not be understood as restrictive. In particular, the invention is not limited to the exemplary embodiments or the combination of features of individual exemplary embodiments. For example, it is also possible to operate the invention in an exemplary embodiment with other holders or other decoating units or decoating means. Different layers, for example different metal layers, are conceivable as working layers. In addition, different materials can be used for the decoating outlet or outlets. In particular, the decoating outlets, the material of the decoating outlets and the decoating means can be adapted or matched to one another and to the material to be removed from the edge region of the working layer.

Andere Varianten und Variationen der gezeigten Ausführungsbeispiele können vom Fachmann nachvollzogen und ausgeführt werden, indem er bzw. sie die beanspruchte Erfindung in Anbetracht der Figuren, Beschreibung und Ansprüche nacharbeitet.Other variants and variations of the embodiments shown can be understood and implemented by those skilled in the art by reworking the claimed invention in view of the figures, description and claims.

Die Worte „enthalten“, „aufweisen“, „umfassen“ schließen weitere Elemente, Komponenten oder Schritte nicht aus und die unbestimmten Artikel „ein“ bzw. „eine“ schließen eine Vielzahl nicht aus.The words “contain”, “comprise”, “include” do not exclude further elements, components or steps and the indefinite articles “a” or “an” do not exclude a plurality.

Eine Einheit, ein Prozessor oder eine Vorrichtung kann beispielsweise eine Vielzahl an Funktionen von verschiedenen in den Ansprüchen genannten Gegenständen erfüllen. Die Tatsache, dass bestimmte Mittel in voneinander verschiedenen Ansprüchen genannt sind, ist nicht derart zu verstehen, dass eine Kombination dieser Mittel nicht vorteilhaft verwendet werden kann.For example, a unit, processor, or device may perform a plurality of functions of different subject matter recited in the claims. The fact that certain means are recited in different claims should not be understood to mean that a combination of these means cannot be used advantageously.

Verfahrensschritte wie Entfernen des Randbereichs, halten von Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und einer Oberfläche des Randbereichs in einer zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts, Messen eines Abstands zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung, Verfahren des unebenen Substrats und des Entschichtungsausgangs der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs, um Abweichungen zum vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten, Halten des unebenen Substrats, Drehen des unebenen Substrats relativ zu der Entschichtungseinheit, Festhalten des unebenen Substrats an wenigstens zwei Bereichen der Unterseite des unebenen Substrats, so dass eine Unebenheit des Substrats verringert wird, Verfahren eines verfahrbaren Halters in einer zur Arbeitsebene parallelen Halteebene parallel mit der Entschichtungseinheit während der verfahrbare Halter das unebene Substrat hält, so dass der verfahrbare Halter sich in Abstandsrichtung in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang dezur Entschichtungseinheit befindet, zeitgleiches Entfernen des Randbereichs der Arbeitsschicht auf einer Oberseite und eines weiteren Randbereichs der Arbeitsschicht auf einer Unterseite des Substrats, Vorsehen eines auf ein Material des Randbereichs abgestimmtes Lösungs- oder Ätzmediums zum Entfernen des Randbereichs, etc., die von einer oder mehreren Einheiten, Komponenten oder Vorrichtungen ausgeführt werden, können auch von einer anderen Anzahl an Einheiten, Komponenten oder Vorrichtungen ausgeführt werden. Diese Verfahrensschritte und/oder das Verfahren können beispielsweise als Computerprogrammcode oder Computerprogrammcodemittel und/oder als bestimmte Hardware implementiert oder vorgesehen sein.Method steps such as removing the edge region, keeping deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and a surface of the edge region in a distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within a predetermined deviation value, measuring a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane, moving the uneven substrate and the decoating outlet of the decoating unit relative to one another in the distance direction based on the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region determined by the distance sensor, in order to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within the predetermined deviation value, holding the uneven substrate, rotating the uneven substrate relative to the decoating unit, holding the uneven substrate on at least two areas of the underside of the uneven substrate, so that an unevenness of the substrate is reduced, moving a movable holder in a holding plane parallel to the working plane parallel to the decoating unit while the movable holder holds the uneven substrate, so that the movable holder is located in the distance direction at a constant distance from the decoating outlet to the decoating unit, simultaneous removal of the edge region of the working layer on an upper side and a further edge region of the working layer on an underside of the substrate, providing a solvent or etching medium tailored to a material of the edge region for removing the edge region, etc., which are carried out by one or more units, components, or devices, can also be carried out by a different number of units, components, or devices. These method steps and/or the method can be implemented or provided, for example, as computer program code or computer program code means and/or as specific hardware.

Ein Computerprogrammprodukt kann auf einem geeigneten Medium gespeichert oder bereitgestellt werden, wie beispielsweise einem optischen Speichermedium oder einem Festkörpermedium. Es kann auch zusammen mit oder als Teil von anderer Hardware bereitgestellt werden. Ferner kann es auch auf andere Weise bereitgestellt werden, wie zum Beispiel über das Internet, Ethernet oder über ein anderes drahtgebundenes oder drahtloses Telekommunikationssystem.A computer program product may be stored or delivered on a suitable medium, such as an optical storage medium or a solid-state medium. It may also be delivered together with or as part of other hardware. Furthermore, it may also be delivered by other means, such as over the Internet, Ethernet, or another wired or wireless telecommunications system.

Die Bezugszeichen, die in den Ansprüchen verwendet werden, sind nicht als einschränkend auf die Merkmale der Ausführungsbeispiele, sondern lediglich beispielhaft für die Merkmale der Ansprüche zu verstehen.The reference signs used in the claims are not to be understood as limiting the features of the embodiments, but merely as examples of the features of the claims.

Die Erfindung betrifft das Entfernen eines Randbereichs einer auf einem unebenen Substrat angeordneten Arbeitsschicht mit Hilfe einer Entschichtungsvorrichtung. Die Entschichtungsvorrichtung hat eine Entschichtungseinheit, eine Arbeitsebenenbewegungseinheit und eine Abstandseinstelleinheit. Die Entschichtungseinheit ist ausgebildet den Randbereich zu entfernen und weist einen Entschichtungsausgang auf, der ausgebildet ist, der Arbeitsschicht gegenüberliegend angeordnet zu werden. Die Arbeitsebenenbewegungseinheit ist ausgebildet die Entschichtungseinheit in einer Arbeitsebene über den Randbereich zu verfahren Die Abstandseinstelleinheit ist ausgebildet Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und einer Oberfläche des Randbereichs in einer zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten. Dies ermöglicht ein verbessertes Entfernen des Randbereichs einer Arbeitsschicht auf einem unebenen Substrat.The invention relates to the removal of an edge region of a working layer arranged on an uneven substrate with the aid of a decoating device. The decoating device has a decoating unit, a working plane movement unit and a distance adjustment unit. The decoating unit is designed to remove the edge region and has a decoating outlet which is designed to be arranged opposite the working layer. The working plane movement unit is designed to move the decoating unit in a working plane over the edge region. The distance adjustment unit is designed to keep deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and a surface of the edge region in a distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within a predetermined deviation value. This enables improved removal of the edge region of a working layer on an uneven substrate.

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES CONTAINED IN THE DESCRIPTION

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

  • US 2006/0003591 A1 [0002]US 2006/0003591 A1 [0002]

Claims (15)

Entschichtungsvorrichtung (100) zum Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer auf einem unebenen Substrat (10) angeordneten Arbeitsschicht (12, 12'), umfassend: - eine Entschichtungseinheit (20), die ausgebildet ist den Randbereich (14, 14') zu entfernen und einen Entschichtungsausgang (22, 22') aufweist, der ausgebildet ist, der Arbeitsschicht (12, 12') gegenüberliegend angeordnet zu werden, - eine Arbeitsebenenbewegungseinheit (30), die ausgebildet ist, die Entschichtungseinheit (20) in einer Arbeitsebene (40) über den Randbereich (14, 14') zu verfahren, und gekennzeichnet durch - eine Abstandseinstelleinheit (50), die ausgebildet ist Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang (22) der Entschichtungseinheit (20) und einer Oberfläche (16) des Randbereichs (14) in einer zur Arbeitsebene (40) senkrechten Abstandsrichtung (z) beim Verfahren der Entschichtungseinheit (20) in der Arbeitsebene (40) über den Randbereich (14, 14') innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts zu halten.Decoating device (100) for removing an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') arranged on an uneven substrate (10), comprising: - a decoating unit (20) which is designed to remove the edge region (14, 14') and has a decoating outlet (22, 22') which is designed to be arranged opposite the working layer (12, 12'), - a working plane movement unit (30) which is designed to move the decoating unit (20) in a working plane (40) over the edge region (14, 14'), and characterized by - a distance adjustment unit (50) which is designed to compensate for deviations from a predetermined distance between the decoating outlet (22) of the decoating unit (20) and a surface (16) of the edge region (14) in a distance direction (z) perpendicular to the working plane (40) when moving the To keep the decoating unit (20) in the working plane (40) over the edge region (14, 14') within a predetermined deviation value. Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß Anspruch 1, wobei die Abstandseinstelleinheit (50) einen Abstandssensor (60) und eine Abstandsrichtungsbewegungseinheit (52) aufweist und wobei der Abstandssensor (60) ausgebildet ist einen Abstand (d) zwischen dem Entschichtungsausgang (22) der Entschichtungseinheit (20) und der Oberfläche (16) des Randbereichs (14) in Abstandsrichtung (z) zu bestimmen und wobei die Abstandsrichtungsbewegungseinheit (52) ausgebildet ist das unebene Substrat (10) und den Entschichtungsausgang (22) der Entschichtungseinheit (20) relativ zueinander in der Abstandsrichtung (z) basierend auf dem vom Abstandssensor (60) bestimmten Abstand (d) zu verfahren.Decoating device (100) according to Claim 1 , wherein the distance setting unit (50) has a distance sensor (60) and a distance direction movement unit (52), and wherein the distance sensor (60) is designed to determine a distance (d) between the decoating outlet (22) of the decoating unit (20) and the surface (16) of the edge region (14) in the distance direction (z), and wherein the distance direction movement unit (52) is designed to move the uneven substrate (10) and the decoating outlet (22) of the decoating unit (20) relative to one another in the distance direction (z) based on the distance (d) determined by the distance sensor (60). Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß Anspruch 1 oder 2, die eine Halteeinheit (54) aufweist, die ausgebildet ist, das Substrat (10) zu halten.Decoating device (100) according to Claim 1 or 2 which has a holding unit (54) which is designed to hold the substrate (10). Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß Anspruch 3, wobei die Halteeinheit (54) wenigstens zwei Halter (58) aufweist, die ausgebildet sind, einen jeweiligen Bereich der Unterseite (18') des unebenen Substrats (10) festzuhalten und wobei die Halter (58) derart angeordnet sind, dass eine Unebenheit des Substrats (10) verringert wird.Decoating device (100) according to Claim 3 , wherein the holding unit (54) has at least two holders (58) which are designed to hold a respective region of the underside (18') of the uneven substrate (10) and wherein the holders (58) are arranged such that an unevenness of the substrate (10) is reduced. Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß Anspruch 3 oder 4, wobei die Halteeinheit (54) einen verfahrbaren Halter (59) aufweist, der ausgebildet ist das unebene Substrat (10) zu halten und wobei die Abstandseinstelleinheit (50) ausgebildet ist den verfahrbaren Halter (59) in einer zu der Arbeitsebene (40) parallelen Halteebene (70) parallel mit der Entschichtungseinheit (20) zu verfahren, so dass der verfahrbare Halter (59) sich in Abstandsrichtung (z) in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang (22) der Entschichtungseinheit (20) befindet.Decoating device (100) according to Claim 3 or 4 , wherein the holding unit (54) has a movable holder (59) which is designed to hold the uneven substrate (10) and wherein the distance adjustment unit (50) is designed to move the movable holder (59) in a holding plane (70) parallel to the working plane (40) parallel to the decoating unit (20), so that the movable holder (59) is located at a constant distance from the decoating outlet (22) of the decoating unit (20) in the distance direction (z). Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die Entschichtungseinheit (20) ausgebildet ist zeitgleich den Randbereich (14) der Arbeitsschicht (12) auf einer Oberseite (18) und einen weiteren Randbereich (14') der Arbeitsschicht (12') auf einer Unterseite (18') des Substrats (10) zu entfernen.Decoating device (100) according to at least one of the Claims 1 until 5 , wherein the decoating unit (20) is designed to simultaneously remove the edge region (14) of the working layer (12) on an upper side (18) and a further edge region (14') of the working layer (12') on an underside (18') of the substrate (10). Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei die Entschichtungseinheit (20) ausgebildet ist einen Ajinomoto Build-up Film, Cu oder Ti enthaltenden Randbereich (14, 14') der Arbeitsschicht (12, 12') zu entfernen.Decoating device (100) according to at least one of the Claims 1 until 6 , wherein the decoating unit (20) is designed to remove an edge region (14, 14') of the working layer (12, 12') containing Ajinomoto build-up film, Cu or Ti. Entschichtungsmodul (200) mit einer Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7, das zusätzlich enthält - wenigstens ein Medien-Reservoir (210, 220), das ausgebildet ist ein oder mehrere Lösungsmedien, ein oder mehrere Ätzmedien oder ein oder mehrere Lösungsmedien und ein oder mehrere Ätzmedien zu enthalten und die Entschichtungseinheit (20) der Entschichtungsvorrichtung (100) mit dieser oder mit diesen zu versorgen.Decoating module (200) with a decoating device (100) according to at least one of the Claims 1 until 7 which additionally contains - at least one media reservoir (210, 220) which is designed to contain one or more dissolving media, one or more etching media or one or more dissolving media and one or more etching media and to supply the decoating unit (20) of the decoating device (100) with this or these. Entschichtungssystem (300) mit einem oder mehreren Entschichtungsmodulen (200, 200') gemäß Anspruch 8, das zusätzlich enthält - ein Substrattransfersystem (310) zum Transferieren des unebenen Substrats (10).Decoating system (300) with one or more decoating modules (200, 200') according to Claim 8 , which additionally contains - a substrate transfer system (310) for transferring the uneven substrate (10). Substratverarbeitungssystem (400) mit einem oder mehreren Entschichtungssystemen (300, 300') gemäß Anspruch 9, das zusätzlich wenigstens ein Funktionsmodul (410) zum Bearbeiten des unebenen Substrats (10) enthält.Substrate processing system (400) with one or more decoating systems (300, 300') according to Claim 9 which additionally contains at least one functional module (410) for processing the uneven substrate (10). Verfahren (1000) zum Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer auf einem unebenen Substrat (10) angeordneten Arbeitsschicht (12, 12'), umfassend: - Verfahren einer Entschichtungseinheit in einer Arbeitsebene mit einem der Arbeitsschicht gegenüberliegend angeordneten Entschichtungsausgang über den Randbereich und - Entfernen des Randbereichs, dadurch gekennzeichnet, dass Abweichungen von einem vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und einer Oberfläche des Randbereichs in einer zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb eines vorbestimmten Abweichungswerts gehalten werden.Method (1000) for removing an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') arranged on an uneven substrate (10), comprising: - moving a decoating unit in a working plane with a decoating outlet arranged opposite the working layer over the edge region and - removing the edge region, characterized in that deviations from a predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and a surface of the edge region in a distance direction perpendicular to the working plane during the process of the decoating unit in the working plane over the edge area must be kept within a predetermined deviation value. Verfahren (1000) gemäß Anspruch 11, umfassend einen oder mehrere der Schritte: - Messen eines Abstands zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung, - Verfahren des unebenen Substrats und des Entschichtungsausgangs der Entschichtungseinheit relativ zueinander in der Abstandsrichtung basierend auf dem vom Abstandssensor bestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs, um Abweichungen zum vorbestimmten Abstand zwischen dem Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit und der Oberfläche des Randbereichs in der zur Arbeitsebene senkrechten Abstandsrichtung beim Verfahren der Entschichtungseinheit in der Arbeitsebene über den Randbereich innerhalb des vorbestimmten Abweichungswerts zu halten, - Halten des unebenen Substrats, - Drehen des unebenen Substrats relativ zu der Entschichtungseinheit, - Festhalten des unebenen Substrats an wenigstens zwei Bereichen der Unterseite des unebenen Substrats, so dass eine Unebenheit des Substrats verringert wird, - Verfahren eines verfahrbaren Halters in einer zur Arbeitsebene parallelen Halteebene parallel mit der Entschichtungseinheit während der verfahrbare Halter das unebene Substrat hält, so dass der verfahrbare Halter sich in Abstandsrichtung in einem konstanten Abstand zum Entschichtungsausgang der Entschichtungseinheit befindet, - Zeitgleiches Entfernen des Randbereichs der Arbeitsschicht auf einer Oberseite und eines weiteren Randbereichs der Arbeitsschicht auf einer Unterseite des Substrats, - Vorsehen eines auf ein Material des Randbereichs abgestimmtes Lösungs- oder Ätzmediums zum Entfernen des Randbereichs.Procedure (1000) according to Claim 11 , comprising one or more of the following steps: - measuring a distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane, - moving the uneven substrate and the decoating outlet of the decoating unit relative to one another in the distance direction based on the distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region determined by the distance sensor, in order to keep deviations from the predetermined distance between the decoating outlet of the decoating unit and the surface of the edge region in the distance direction perpendicular to the working plane when moving the decoating unit in the working plane over the edge region within the predetermined deviation value, - holding the uneven substrate, - rotating the uneven substrate relative to the decoating unit, - holding the uneven substrate on at least two areas of the underside of the uneven substrate so that an unevenness of the substrate is reduced, - moving a movable holder in a holding plane parallel to the working plane parallel to the decoating unit during movable holder holds the uneven substrate so that the movable holder is at a constant distance from the decoating outlet of the decoating unit in the distance direction, - simultaneous removal of the edge region of the working layer on an upper side and another edge region of the working layer on an underside of the substrate, - provision of a solvent or etching medium matched to a material of the edge region for removing the edge region. Verwendung der Entschichtungsvorrichtung (100) gemäß wenigstens einem der Ansprüche 1 bis 7 für: - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14'), und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer metallischen Schicht oder eines Lacks, und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer Arbeitsschicht (12, 12') auf einem rechteckigen Substrat (10), und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer Arbeitsschicht (12, 12') auf einem Wafer.Use of the decoating device (100) according to at least one of the Claims 1 until 7 for: - the removal of an edge region (14, 14'), and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a metallic layer or a lacquer, and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') on a rectangular substrate (10), and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') on a wafer. Verwendung des Verfahrens (1000) gemäß Anspruch 11 oder 12 für: - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14'), und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer metallischen Schicht oder eines Lacks, und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer Arbeitsschicht (12, 12') auf einem rechteckigen Substrat (10), und/oder - das Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer Arbeitsschicht (12, 12') auf einem Wafer.Use of the method (1000) according to Claim 11 or 12 for: - the removal of an edge region (14, 14'), and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a metallic layer or a lacquer, and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') on a rectangular substrate (10), and/or - the removal of an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') on a wafer. Computerprogrammprodukt zum Entfernen eines Randbereichs (14, 14') einer auf einem unebenen Substrat (10) angeordneten Arbeitsschicht (12, 12'), das Computerprogrammprodukt enthaltend Computerprogrammcodemittel, die einen Prozessor (510) veranlassen das Verfahren gemäß Anspruch 11 oder 12 auszuführen, wenn das Computerprogrammprodukt auf dem Prozessor ausgeführt wird.Computer program product for removing an edge region (14, 14') of a working layer (12, 12') arranged on an uneven substrate (10), the computer program product containing computer program code means which cause a processor (510) to carry out the method according to Claim 11 or 12 to execute when the computer program product is executed on the processor.
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