DE102020212229B3 - Aperture device for delimiting a beam path between a light source and an illumination optics of a projection exposure system for projection lithography - Google Patents
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Abstract
Eine Blenden-Vorrichtung (36) dient zur Begrenzung eines Beleuchtungslicht-Strahlengangs zwischen einer Lichtquelle und einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie. Die Blenden-Vorrichtung (36) hat eine im Strahlengang angeordnete Blende (35) mit einer Blendenöffnung (34) zum Durchgang von Nutz-Beleuchtungslicht (16), welches von der Lichtquelle ausgeht. Mindestens eine Verlagerungseinrichtung (47) dient zur Verlagerung der Blende (35) quer zum Beleuchtungslicht-Strahlengang. Es resultiert eine Blenden-Vorrichtung, bei deren Einsatz ein EUV-Durchsatz einer hiermit ausgerüsteten Projektionsbelichtungsanlage bei ansonsten vergleichbarer Abbildungs- und Strukturierungsleistung der Projektionsbelichtungsanlage erhöht ist, beziehungsweise, dass bei gegebenem EUV-Durchsatz eine Strukturierungs- und Abbildungsleistung verbessert ist. A diaphragm device (36) serves to delimit an illuminating light beam path between a light source and an illuminating optics of a projection exposure system for projection lithography. The diaphragm device (36) has a diaphragm (35) arranged in the beam path with a diaphragm opening (34) for the passage of useful illuminating light (16) which emanates from the light source. At least one displacement device (47) serves to displace the diaphragm (35) transversely to the illuminating light beam path. The result is a diaphragm device whose use increases the EUV throughput of a projection exposure system equipped therewith with an otherwise comparable imaging and structuring performance of the projection exposure system, or that with a given EUV throughput a structuring and imaging performance is improved.
Description
Die Erfindung betrifft eine Blenden-Vorrichtung zur Begrenzung eines Strahlengangs zwischen einer Lichtquelle und einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithographie. Ferner betrifft die Erfindung ein Blenden-System mit einer derartigen Blenden-Vorrichtung, eine Beleuchtungsoptik mit einer derartigen Blenden-Vorrichtung oder mit einem derartigen Blenden-System, ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, ein optisches System mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen optischen System, ein Herstellungsverfahren zur Herstellung mikro- oder nanostrukturierter Bauteile unter Einsatz einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage sowie ein mit dem Verfahren hergestelltes strukturiertes Bauteil.The invention relates to a diaphragm device for delimiting a beam path between a light source and illumination optics of a projection exposure system for projection lithography. The invention also relates to a diaphragm system with such a diaphragm device, illumination optics with such a diaphragm device or with such a diaphragm system, an illumination system with such illumination optics, an optical system with such illumination optics, a projection exposure system with a Such an optical system, a manufacturing method for producing micro- or nanostructured components using such a projection exposure system, and a structured component produced with the method.
Eine Blenden-Vorrichtung der eingangs genannten Art ist bekannt aus der
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Blenden-Vorrichtung der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass ein EUV-Durchsatz einer hiermit ausgerüsteten Projektionsbelichtungsanlage bei ansonsten vergleichbarer Abbildungs- und Strukturierungsleistung der Projektionsbelichtungsanlage erhöht ist, beziehungsweise, dass bei gegebenem EUV-Durchsatz eine Strukturierungs- und Abbildungsleistung verbessert ist. It is an object of the present invention to develop a diaphragm device of the type mentioned at the outset in such a way that an EUV throughput of a projection exposure system equipped therewith is increased with an otherwise comparable imaging and structuring performance of the projection exposure system, or that with a given EUV throughput a structuring - and imaging performance is improved.
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Blenden-Vorrichtung mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen.According to the invention, this object is achieved by a diaphragm device having the features specified in claim 1 .
Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass mindestens eine Verlagerungseinrichtung zur Verlagerung der Blende quer zum Strahlengang einen Justagefreiheitsgrad eröffnet, der es erlaubt, systematische Abweichungen einer Ist-Position eines Beleuchtungslicht-Strahlengangs zwischen der Lichtquelle und der Beleuchtungsoptik von einer Soll-Position beziehungsweise Driftabweichungen des Strahlengangs zu korrigieren beziehungsweise zu kompensieren. Die erfindungsgemäße Blende kann dann mit im Vergleich zum Stand der Technik kleinerer Blendenöffnung realisiert sein, was ohne EUV-Durchsatzverlust durch die Blende zu einer schärferen bündelbegrenzenden Wirkung der Blende führt und die Anforderungen an die weitere Beleuchtungslichtführung ab der Blenden-Vorrichtung vereinfachen kann. Mit der Blende der Blenden-Vorrichtung kann eine Wärmesenke in thermischem Kontakt stehen. Ein derartiger thermischer Kontakt kann über eine mechanische Verbindung erfolgen. Diese mechanische Verbindung kann als metallische mechanische Verbindung ausgeführt sein. Die Verbindung kann als elastische Verbindung ausgeführt sein.According to the invention, it was recognized that at least one displacement device for displacing the diaphragm transversely to the beam path opens up a degree of freedom of adjustment that allows systematic deviations of an actual position of an illumination light beam path between the light source and the illumination optics from a target position or drift deviations of the beam path to be corrected or to compensate. The diaphragm according to the invention can then be implemented with a smaller diaphragm opening compared to the prior art, which leads to a sharper beam-limiting effect of the diaphragm without EUV throughput loss through the diaphragm and can simplify the requirements for further illumination light guidance from the diaphragm device. A heat sink may be in thermal contact with the aperture of the aperture device. Such a thermal contact can take place via a mechanical connection. This mechanical connection can be designed as a metallic mechanical connection. The connection can be designed as an elastic connection.
Eine Positioniergenauigkeit der mindestens einen Verlagerungseinrichtung quer zum Beleuchtungslicht-Strahlengang kann besser sein als 0,1 mm.A positioning accuracy of the at least one displacement device transverse to the illumination light beam path can be better than 0.1 mm.
Die Blenden-Vorrichtung hat einen Blendenträger, aufweisend eine Durchgangsöffnung, innerhalb der die Blendenöffnung liegt, wobei die Blende relativ zum Blendenträger über die Verlagerungseinrichtung verlagerbar ist. Ein derartiger Blendenträger ermöglicht einen kompakten Aufbau der Blenden-Vorrichtung. Der Blendenträger kann weitere Funktionskomponenten der Blenden-Vorrichtung aufweisen, zum Beispiel Sensoren für das Beleuchtungslicht oder Komponenten zur Wärmeabfuhr, beispielsweise eine Wärmesenke.The panel device has a panel support, having a through-opening within which the panel opening lies, the panel being displaceable relative to the panel support via the displacement device. Such a panel support enables a compact construction of the panel device. The panel carrier can have further functional components of the panel device, for example sensors for the illumination light or components for heat dissipation, for example a heat sink.
Mindestens zwei Verlagerungseinrichtungen nach Anspruch 2 verbessern die Justagemöglichkeiten der Blenden-Vorrichtung.At least two displacement devices according to claim 2 improve the adjustment possibilities of the diaphragm device.
Eine Aktorausführung der Verlagerungseinrichtung nach Anspruch 3 ermöglicht eine gesteuerte und insbesondere automatisierte Blendenverlagerung. Alternativ zu einer angetriebenen Verlagerungseinrichtung kann die Verlagerungseinrichtung auch manuell betätigbar sein.An actuator design of the displacement device according to
Eine entsprechende manuelle Verstellung kann auch nach dem Prinzip einer Rohrschelle mit einer hiermit befestigten Rahmenstange, die wiederum die Blende trägt, realisiert sein. Durch Lösen der jeweiligen Schelle und Verschieben der Rahmenstange kann eine lineare Verlagerung der Blende quer zum Strahlengang erreicht werden.A corresponding manual adjustment can also be implemented according to the principle of a pipe clamp with a frame rod fastened to it, which in turn carries the screen. By loosening the respective clamp and moving the frame rod, a linear displacement of the diaphragm transverse to the beam path can be achieved.
Der Aktor kann auch als Piezoaktor und insbesondere als Piezo-Stack ausgeführt sein.The actuator can also be designed as a piezo actuator and in particular as a piezo stack.
Eine Ausführung als Linearaktor nach Anspruch 4 ermöglicht eine präzise Positionsvorgabe der Blende. Der Linearaktor kann als Linearmotor ausgeführt sein, insbesondere als Einständer- oder als Doppelständer-Linearmotor. Der Linearaktor kann als Kolbenantrieb oder als Spindelantrieb ausgeführt sein.An embodiment as a linear actuator according to
Eine Schwenkaktor nach Anspruch 5 kann alternativ oder zusätzlich als Aktorkomponente der Blenden-Vorrichtung zum Einsatz kommen.A swivel actuator according to
Die Blenden-Vorrichtung kann insbesondere mindestens einen Linearaktor und gleichzeitig mindestens einen Schwenkaktor aufweisen. Eine Schwenkachse des Schwenkaktors kann parallel zum Strahlengang durch die Blende der Blenden-Vorrichtung verlaufen.In particular, the diaphragm device can have at least one linear actuator and at the same time at least one swivel actuator. A swivel axis of the swivel actuator can be parallel to the beam path through the aperture of the aperture device.
Alternativ kann die Blenden-Vorrichtung ausschließlich Linearaktoren oder ausschließlich Schwenkaktoren aufweisen, beispielsweise zwei Linearaktoren. Bei einer Linearaktor-Ausführung können die Linearaktoren in gekreuzter Anordnung oder auch, bei Einsatz von mindestens drei Linearaktoren, in H-Anordnung vorliegen.Alternatively, the diaphragm device can have only linear actuators or only swivel actuators, for example two linear actuators. In the case of a linear actuator design, the linear actuators can be in a crossed arrangement or, if at least three linear actuators are used, in an H arrangement.
Eine Ausführung der Blenden-Vorrichtung nach Anspruch 7 ist gut an die Symmetrie des Strahlengangs anpassbar. Der Zwischenträger und/oder der Blendenträger und/oder der weitere Zwischenträger können als rotationssymmetrisch zur Blende angeordnete Trägerkomponenten angeordnet sein. Es kann exakt ein Zwischenträger zum Einsatz kommen.An embodiment of the diaphragm device according to
Eine Schrittmotor-Ausführung der Verlagerungseinrichtung nach Anspruch 8 hat sich in der Praxis bewährt. Es kann ein Reluktanz-Schrittmotor, ein Permanentmagnet-Schrittmotor oder ein Hybrid-Schrittmotor zum Einsatz kommen.A stepper motor version of the displacement device according to
Der Schrittmotor kann einen Linearaktor und/oder einen Schwenkaktor antreiben.The stepper motor can drive a linear actuator and/or a swivel actuator.
Die Vorteile eines Blenden-Systems nach Anspruch 9 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die Blenden-Vorrichtung bereits erläutert wurden. Mit Hilfe der Steuer/Regeleinrichtung kann ein gesteuerter oder geregelter Betrieb der dann aktorisch ausgeführten Verlagerungseinrichtung erfolgen. Soweit ein gesteuerter Betrieb vorliegt, kann das Blenden-System auch ohne die Messeinrichtung realisiert sein.The advantages of a screen system according to
Die Steuerung beziehungsweise Regelung kann insbesondere dynamisch im Sinne einer Driftkorrektur sein.The control or regulation can in particular be dynamic in the sense of a drift correction.
Das Blenden-System kann weiterhin mindestens einen Aktor zur Verlagerung mindestens einer der Blende im Strahlengang des Beleuchtungslichts nachfolgenden Komponente der Beleuchtungsoptik zur Kompensation einer Verlaufsänderung des Strahlengangs aufgrund der Blendenverstellung aufweisen. Ein derartiger Aktor kann mit der Steuer/Regeleinrichtung in Signalverbindung stehen. Ein derartiger Aktor der Beleuchtungsoptik kann als Kipp- und/oder Translationsaktor einer Facette eines Facettenspiegels der Beleuchtungsoptik ausgeführt sein. Insbesondere lässt sich somit die Richtung eines jeweiligen Beleuchtungskanals vor einer jeweiligen Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage vorgeben, was die Größe einer Reflexionsfläche für die Pupillenfacette vorteilhaft verringern kann.The panel system can also have at least one actuator for displacing at least one component of the illumination optics following the panel in the beam path of the illuminating light to compensate for a change in the course of the beam path due to the panel adjustment. Such an actuator can have a signal connection with the control/regulating device. Such an actuator of the illumination optics can be designed as a tilting and/or translation actuator of a facet of a facet mirror of the illumination optics. In particular, the direction of a respective illumination channel in front of a respective pupil facet of a pupil facet mirror of an illumination optics of the projection exposure system can be specified, which can advantageously reduce the size of a reflection surface for the pupil facet.
Die Vorteile einer Beleuchtungsoptik nach Anspruch 10, eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 11, eines optischen Systems nach Anspruch 12, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 13, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 14 sowie eines nach diesem Verfahren hergestellten strukturierten Bauteils entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die erfindungsgemäße Blenden-Vorrichtung sowie das erfindungsgemäße Blenden-System bereits erläutert wurden. Bei dem zu beleuchtenden Objekt kann es sich um ein Retikel handeln. Bei dem hergestellten Bauelement kann es sich um einen Mikrochip handeln, insbesondere um einen Speicherchip.The advantages of illumination optics according to
Die Blende der Blenden-Vorrichtung bzw. des Blenden-Systems der Beleuchtungsoptik nach Anspruch 10 kann in einer Anordnungsebene liegen, die optisch konjugiert zu Pupillenfacetten eines Pupillenfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik oder optisch konjugiert zu einem zweiten facettierten Element eines spekularen Reflektors liegt. In diesem Fall wird die Blenden-Anordnungsebene zumindest näherungsweise auf die Pupillenfacetten bzw. das zweite facettierte Element des spekularen Reflektors abgebildet.The diaphragm of the diaphragm device or the diaphragm system of the illumination optics according to
In dieser Anordnungsebene der Blende kann ein Zwischenfokus eines von der Lichtquelle ausgehenden Strahlengangs liegen. Ein derartiger Zwischenfokus kann vom Kollektor des Beleuchtungssystems nach Anspruch 11 gebildet sein. Das Beleuchtungssystem mit der die Blenden-Vorrichtung beziehungsweise das Blenden-System aufweisenden Beleuchtungsoptik kann so ausgelegt sein, dass ein Zwischenfokus in einem Anordnungsbereich der Blende erzeugt wird, wobei der Zwischenfokus in eine Pupille der Beleuchtungsoptik abgebildet wird. Am Ort der abgebildeten Pupille kann ein Pupillenfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik angeordnet sein, wobei der Zwischenfokus beleuchtungskanalweise auf Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels abgebildet wird. Alternativ kann am Ort der abgebildeten Pupille ein zweites facettiertes Element eines spekularen Reflektors der Beleuchtungsoptik angeordnet sein, der alternativ zu einem Pupillenfacettenspiegel zum Einsatz kommen kann. Der Zwischenfokus kann ein Bild eines Quellvolumens der Lichtquelle des Beleuchtungssystems darstellen.An intermediate focus of a beam path emanating from the light source can lie in this arrangement plane of the diaphragm. Such an intermediate focus can be formed by the collector of the illumination system according to
Insbesondere kann ein Pupillenfüllgrad einer Beleuchtung des Objekts mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage vorteilhaft niedrig eingestellt werden. Bei dem Pupillenfüllgrad handelt es sich um die Fläche eines beleuchteten Anteils einer Beleuchtungspupille zur Gesamtfläche der genutzten Pupille. Details zu dem Parameter „Pupillenfüllgrad“ findet der Fachmann in der
Mit der erfindungsgemäßen Blende kann die Homogenität beziehungsweise Uniformität einer Beleuchtungsdosis optimiert werden, die das zu beleuchtende Objekt aus verschiedenen Beleuchtungsrichtungen erfährt.With the diaphragm according to the invention, the homogeneity or uniformity of an illumination dose which the object to be illuminated experiences from different illumination directions can be optimized.
Nachfolgend wird anhand der Zeichnung mindestens ein Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben. In der Zeichnung zeigen:
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1 schematisch im Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie; -
2 ebenfalls im Meridionalschnitt und schematisch beispielhafte Strahlenverläufe eines Strahlengangs bei einer Ausführung eines Kollektors der Projektionsbelichtungsanlage zur Abbildung eines Quellvolumens einer EUV-Strahlungsquelle hin zu einem Zwischenfokus in einer Zwischenfokusebene in der eine Blenden-Vorrichtung zur Begrenzung des Strahlengangs zwischen der Lichtquelle und einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage angeordnet ist; -
3 in einer zu2 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung des Kollektors; -
4 zeigt schematisch eine Abbildung des Zwischenfokus hin zu einer Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik über eine Feldfacette eines Feldfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik, wobei das Zwischenfokus-Bild mittig auf der Pupillenfacette zu liegen kommt; -
5 in einer zu4 ähnlichen Darstellung eine Abbildung des Zwischenfokus über eine der Feldfacetten des Feldfacettenspiegels auf einen Sensor als Bestandteil einer Messeinrichtung zur Vermessung beziehungsweise Ermittlung eines Schwerpunkts von auf diesen auftreffende EUV-Strahlung eines über die Feldfacette geführten Beleuchtungskanals, wobei der Zwischenfokus im Vergleich zu einer zentrierten Position nach4 dezentriert liegt und wobei ein Zwischenfokus-Bild auf dem Sensor entsprechend außermittig zu liegen kommt; -
6 in einer zu5 ähnlichen Darstellung die Führung eines Beleuchtungskanals vom Zwischenfokus hin zum Schwerpunkt-Ermittlungs-Sensor über eine Messfacette, die in einer Anordnungsebene des Feldfacettenspiegels liegt; -
7 ineiner zu 4 ähnlichen Darstellung einen Verlauf eines Beleuchtungskanals vom Zwischenfokus hin zur Pupillenfacette über die Feldfacette bei dezentriertem Zwischenfokus und noch unkorrigiertem Strahlenverlauf, so dass das Zwischenfokus-Bild dezentriert auf der Pupillenfacette zu liegen kommt; -
8 ineiner zu 7 ähnlichen Darstellung die Situation nach einer Korrekturverlagerung der Feldfacette, so dass bei weiterhin dezentrierter Zwischenfokuslage das Zwischenfokus-Bild mittig auf der Pupillenfacette zu liegen kommt; -
9 ineiner zu 4 ähnlichen Darstellung Intensitätsverlaufsverhältnisse quer zur Strahlrichtung des Beleuchtungskanals einerseits am Ort des Zwischenfokus vor Durchgang durch eine Blende in der Zwischenfokusebene und andererseits am Ort der Pupillenfacette; -
10 im Querschnitt einen Größen- und Lagevergleich zwischen einer Zwischenfokusblende nach dem Stand der Technik und einer erfindungsgemäßen Zwischenfokusblende bei zentriertem Zwischenfokus; -
11 in einer zu10 ähnlichen Darstellung den Blenden-Größen- und Lagevergleich bei dezentriertem Zwischenfokus; -
12 schematisch, im Vergleich zuden 4 bis 9 aber stärker im Detail einen Längsschnitt durch die Blenden-Vorrichtung zur Begrenzung des Strahlengangs im Bereich der Zwischenfokusebene mit einer mittels einer Verlagerungseinrichtung quer zum Strahlengang quer zu einem Blendenträger verlagerbaren Blende; -
13 perspektivisch eine Ausführung von Komponenten der Blenden-Vorrichtung; -
14 in einer Aufsicht eine Ausführung der verlagerbaren Blende mit einer Verlagerungseinrichtung in Form zweier Linearaktoren in einer Anordnung in Form eines Pluszeichens; -
15 in einer zu14 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführung der Blenden-Vorrichtung mit einer weiteren Ausführung der Verlagerungseinrichtung mit drei Linearaktoren, angeordnet in Form des Buchstabens „H“; -
16 in einer Aufsicht eine weitere Ausführung der Blenden-Vorrichtung mit einer weiteren Ausführung einer Verlagerungseinrichtung mit insgesamt vier Linearaktoren, von denen zwei zwischen der verlagerbaren Blende und einem Zwischenträger angeordnet sind und zwei weitere Linearaktoren zur Verlagerung des Zwischenträgers gegenüber dem Blendenträger dienen; -
17 eine weitere Ausführung einer Blenden-Vorrichtung mit einer weiteren Ausführung einer Verlagerungseinrichtung mit einem Linearaktor und einem Dreh- beziehungsweise Schwenkaktor; -
18 perspektivisch eine weitere Ausführung einer Blende mit einem Linearaktor; -
19 bis 21 inzu 18 ähnlicher Darstellung weitere Ausführungen von Linearaktoren für die Blende der Blenden-Vorrichtung; -
22 schematisch im Querschnitt die Blende der Blenden-Vorrichtung sowie ein Intensitätsprofil von EUV-Beleuchtungslicht der Projektionsbelichtungsanlage im Strahlengang vor und nach der Blende bei zentriertem Zwischenfokus; und -
23 in einer zu22 ähnlichen Darstellung die Intensitätsprofil-Verhältnisse vor und nach der Blende bei relativ zur Blende dezentriertem Zwischenfokus.
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1 a schematic meridional section of a projection exposure system for EUV projection lithography; -
2 also in a meridional section and schematically exemplary beam paths of a beam path in an embodiment of a collector of the projection exposure system for imaging a source volume of an EUV radiation source towards an intermediate focus in an intermediate focus plane in which a diaphragm device for limiting the beam path between the light source and an illumination optics of the projection exposure system is arranged is; -
3 in one to2 similar representation another version of the collector; -
4 shows schematically an image of the intermediate focus toward a pupil facet of a pupil facet mirror of the illumination optics via a field facet of a field facet mirror of the illumination optics, the intermediate focus image coming to lie in the middle of the pupil facet; -
5 in one to4 Similar representation shows an image of the intermediate focus via one of the field facets of the field facet mirror on a sensor as part of a measuring device for measuring or determining a focus of EUV radiation incident on it from an illumination channel guided via the field facet, the intermediate focus being compared to acentered position 4 is decentered and an intermediate focus image is correspondingly off-center on the sensor; -
6 in one to5 similar representation, the guidance of an illumination channel from the intermediate focus to the center of gravity determination sensor via a measurement facet, which lies in an arrangement plane of the field facet mirror; -
7 in one to4 similar representation of a course of an illumination channel from the intermediate focus to the pupil facet via the field facet with a decentered intermediate focus and still uncorrected beam course, so that the intermediate focus image comes to lie decentered on the pupil facet; -
8th in one to7 Similar representation shows the situation after a correction displacement of the field facet, so that the intermediate focus image comes to lie in the middle of the pupil facet if the intermediate focus position is still decentered; -
9 in one to4 Similar representation of intensity profile ratios transverse to the beam direction of the illumination channel on the one hand at the location of the intermediate focus before passing through a diaphragm in the intermediate focus plane and on the other hand at the location of the pupil facet; -
10 in cross section, a size and position comparison between an intermediate focus aperture according to the prior art and an intermediate focus aperture according to the invention with the intermediate focus centered; -
11 in one to10 similar representation, the aperture size and position comparison with decentered intermediate focus; -
12 schematic, compared to the4 until9 but more detailed, a longitudinal section through the diaphragm device for delimiting the beam path in the region of the intermediate focal plane with a diaphragm that can be displaced transversely to a diaphragm carrier by means of a displacement device transverse to the beam path; -
13 in perspective an embodiment of components of the aperture device; -
14 in a top view, an embodiment of the displaceable screen with a displacement device in the form of two linear actuators in an arrangement in the form of a plus sign; -
15 in one to14 a similar representation of a further embodiment of the screen device with a further embodiment of the displacement device with three linear actuators, arranged in the form of the letter "H"; -
16 in a top view, a further embodiment of the panel device with a further embodiment of a displacement device with a total of four linear actuators, two of which are arranged between the displaceable panel and an intermediate carrier and two further linear actuators are used to displace the intermediate carrier in relation to the panel carrier; -
17 a further embodiment of a diaphragm device with a further embodiment of a displacement device with a linear actuator and a rotary or swivel actuator; -
18 in perspective another version of an aperture with a linear actuator; -
19 until21 in to18 similar representation other versions of linear actuators for the aperture of the aperture device; -
22 a schematic cross section of the aperture of the aperture device and an intensity profile of EUV illumination light of the projection exposure system in the beam path before and after the aperture with a centered intermediate focus; and -
23 in one to22 Similar representation shows the intensity profile ratios before and after the aperture with the intermediate focus decentered relative to the aperture.
Im Folgenden werden zunächst unter Bezugnahme auf die
Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur Beleuchtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Retikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsantrieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar.In addition to a
In der
Die Projektionsbelichtungsanlage 1 umfasst eine Projektionsoptik 10. Die Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Die Bildebene 12 verläuft parallel zur Objektebene 6. Alternativ ist auch ein von 0° verschiedener Winkel zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 möglich.The projection exposure system 1 includes
Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinander erfolgen.A structure on the
Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung 16, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung, Beleuchtungsstrahlung oder Beleuchtungslicht bezeichnet wird. Die Nutzstrahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um eine Plasmaquelle handeln, zum Beispiel um eine LPP (Laser Produced Plasma, mithilfe eines Lasers erzeugtes Plasma)-Quelle oder um eine DPP (Gas Discharged Produced Plasma, mittels Gasentladung erzeugtes Plasma)-Quelle. Es kann sich auch um eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle handeln. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich um einen Freie-Elektronen-Laser (Free-Electron-Laser, FEL) handeln.The
Die Beleuchtungsstrahlung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Bei dem Kollektor 17 kann es sich um einen Kollektor mit einer oder mit mehreren ellipsoidalen und/oder hyperboloiden Reflexionsflächen handeln, wie nachfolgend anhand von Ausführungsbeispielen noch erläutert wird. Die mindestens eine Reflexionsfläche des Kollektors 17 kann im streifenden Einfall (Grazing Incidence, GI), also mit Einfallswinkeln größer als 45°, oder im normalen Einfall (Normal Incidence, NI), also mit Einfallwinkeln kleiner als 45°, mit der Beleuchtungsstrahlung 16 beaufschlagt werden. Der Kollektor 17 kann einerseits zur Optimierung seiner Reflektivität für die Nutzstrahlung und andererseits zur Unterdrückung von Falschlicht strukturiert und/oder beschichtet sein.The
Nach dem Kollektor 17 propagiert die Beleuchtungsstrahlung 16 durch einen Zwischenfokus IF in einer Zwischenfokusebene 18. Die Zwischenfokusebene 18 kann eine Trennung zwischen einem Strahlungsquellenmodul, aufweisend die Strahlungsquelle 3 und den Kollektor 17, und der Beleuchtungsoptik 4 darstellen.After the
Die Beleuchtungsoptik 4 umfasst einen Umlenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facettenspiegel 20. Bei dem Umlenkspiegel 19 kann es sich um einen planen Umlenkspiegel oder alternativ um einen Spiegel mit einer über die reine Umlenkungswirkung hinaus bündelbeeinflussenden Wirkung handeln. Alternativ oder zusätzlich kann der Spiegel 19 als Spektralfilter ausgeführt sein, der eine Nutzlichtwellenlänge der Beleuchtungsstrahlung 16 von Falschlicht einer hiervon abweichenden Wellenlänge trennt. Sofern der erste Facettenspiegel 20 in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, die zur Objektebene 6 als Feldebene optisch konjugiert ist, wird dieser auch als Feldfacettenspiegel bezeichnet. Der erste Facettenspiegel 20 umfasst eine Vielzahl von einzelnen ersten Facetten 21, welche im Folgenden auch als Feldfacetten bezeichnet werden. Von diesen Facetten 21 sind in der
Die ersten Facetten 21 können als makroskopische Facetten ausgeführt sein, insbesondere als rechteckige Facetten oder als Facetten mit bogenförmiger oder teilkreisförmiger Randkontur. Die ersten Facetten 21 können als plane Facetten oder alternativ als konvex oder konkav gekrümmte Facetten ausgeführt sein.The
Wie beispielsweise aus der
Zwischen dem Kollektor 17 und dem Umlenkspiegel 19 verläuft die Beleuchtungsstrahlung 16 horizontal, also längs der y-Richtung. Auch eine andere Verlaufsrichtung ist je nach Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 möglich.The
Im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 ist dem ersten Facettenspiegel 20 nachgeordnet ein zweiter Facettenspiegel 22. Sofern der zweite Facettenspiegel 22 in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet ist, wird dieser auch als Pupillenfacettenspiegel bezeichnet. Der zweite Facettenspiegel 22 kann auch beabstandet zu einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sein. In diesem Fall kann die Kombination aus dem ersten Facettenspiegel 20 und dem zweiten Facettenspiegel 22 auch als spekularer Reflektor ausgeführt sein. Spekulare Reflektoren sind bekannt aus der
Der zweite Facettenspiegel 22 umfasst eine Mehrzahl von zweiten Facetten 23. Die zweiten Facetten 23 werden im Falle eines Pupillenfacettenspiegels auch als Pupillenfacetten bezeichnet.The
Die hier gegebenen Erläuterungen gelten entsprechend auch für einen spekularen Reflektor, da eine Wirkung der nachfolgend beschriebenen Blenden-Vorrichtung für zweite facettierte Elemente eines spekularen Reflektors mit der Wirkung für die zweiten Facetten 23 des Pupillenfacettenspiegels 22 übereinstimmt. Auch die Wirkung eines ersten facettierten Elements des spekularen Reflektors stimmt, soweit dies im Rahmen der hier vorgenommenen Beschreibung relevant ist, mit der Wirkung des ersten Facettenspiegels 20 mit den Feldfacetten 21 überein.The explanations given here correspondingly also apply to a specular reflector, since an effect of the diaphragm device described below for second facetted elements of a specular reflector corresponds to the effect for the
Bei den zweiten Facetten 23 kann es sich ebenfalls um makroskopische Facetten, die beispielsweise rund, rechteckig oder auch hexagonal berandet sein können, oder alternativ um aus Mikrospiegeln zusammengesetzte Facetten handeln. Diesbezüglich wird ebenfalls auf die
Die zweiten Facetten 23 können plane oder alternativ konvex oder konkav gekrümmte Reflexionsflächen aufweisen.The
Die Beleuchtungsoptik 4 bildet somit ein doppelt facettiertes System. Dieses grundlegende Prinzip wird auch als Fliegenaugenintegrator (Fly's Eye Integrator) oder als Wabenkondensor bezeichnet.The
Es kann vorteilhaft sein, den zweiten Facettenspiegel 22 nicht exakt in einer Ebene, welche zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 7 optisch konjugiert ist, anzuordnen.It can be advantageous not to arrange the
Mit Hilfe des zweiten Facettenspiegels 22 werden die einzelnen ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der zweite Facettenspiegel 22 ist der letzte bündelformende oder auch tatsächlich der letzte Spiegel für die Beleuchtungsstrahlung 16 im Strahlengang vor dem Objektfeld 5.The individual
Bei einer weiteren, nicht dargestellten Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann im Strahlengang zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Objektfeld 5 eine Übertragungsoptik angeordnet sein, die insbesondere zur Abbildung der ersten Facetten 21 in das Objektfeld 5 beiträgt. Die Übertragungsoptik kann genau einen Spiegel, alternativ aber auch zwei oder mehr Spiegel aufweisen, welche hintereinander im Strahlengang der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet sind. Die Übertragungsoptik kann insbesondere einen oder zwei Spiegel für senkrechten Einfall (NI-Spiegel, Normal Incidence Spiegel) und/oder einen oder zwei Spiegel für streifenden Einfall (GI-Spiegel, Gracing Incidence Spiegel) umfassen.In a further embodiment of the
Die Beleuchtungsoptik 4 hat bei der Ausführung, die in der
Bei einer weiteren Ausführung der Beleuchtungsoptik 4 kann der Umlenkspiegel 19 auch entfallen, so dass die Beleuchtungsoptik 4 nach dem Kollektor 17 dann genau zwei Spiegel aufweisen kann, nämlich den ersten Facettenspiegel 20 und den zweiten Facettenspiegel 22.In a further embodiment of the
Die Abbildung der ersten Facetten 21 mittels der zweiten Facetten 23 beziehungsweise mit den zweiten Facetten 23 und einer Übertragungsoptik in die Objektebene 6 ist regelmäßig nur eine näherungsweise Abbildung.The imaging of the
Die Projektionsoptik 10 umfasst eine Mehrzahl von Spiegeln Mi, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsanlage 1 durchnummeriert sind.The
Bei dem in der
Reflexionsflächen der Spiegel Mi können als Freiformflächen ohne Rotationssymmetrieachse ausgeführt sein. Alternativ können die Reflexionsflächen der Spiegel Mi als asphärische Flächen mit genau einer Rotationssymmetrieachse der Reflexionsflächenform gestaltet sein. Die Spiegel Mi können, genauso wie die Spiegel der Beleuchtungsoptik 4, hoch reflektierende Beschichtungen für die Beleuchtungsstrahlung 16 aufweisen. Diese Beschichtungen können als Multilayer-Beschichtungen, insbesondere mit alternierenden Lagen aus Molybdän und Silizium, gestaltet sein.Reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as free-form surfaces without an axis of rotational symmetry. Alternatively, the reflection surfaces of the mirrors Mi can be designed as aspherical surfaces with exactly one axis of rotational symmetry of the reflection surface shape. Just like the mirrors of the
Die Projektionsoptik 10 hat einen großen Objekt-Bildversatz in der y-Richtung zwischen einer y-Koordinate eines Zentrums des Objektfeldes 5 und einer y-Koordinate des Zentrums des Bildfeldes 11. Dieser Objekt-Bild-Versatz in der y-Richtung kann in etwa so groß sein wie ein z-Abstand zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12.The
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere anamorphotisch ausgebildet sein. Sie weist insbesondere unterschiedliche Abbildungsmaßstäbe βx, βy in x- und y-Richtung auf. Die beiden Abbildungsmaßstäbe βx, βy der Projektionsoptik 10 liegen bevorzugt bei (βx, βy) = (+/- 0,25, /+- 0,125). Ein positiver Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung ohne Bildumkehr. Ein negatives Vorzeichen für den Abbildungsmaßstab β bedeutet eine Abbildung mit Bildumkehr.The
Die Projektionsoptik 10 führt somit in x-Richtung, das heißt in Richtung senkrecht zur Scanrichtung, zu einer Verkleinerung im Verhältnis 4:1.The
Die Projektionsoptik 10 führt in y-Richtung, das heißt in Scanrichtung, zu einer Verkleinerung von 8:1.The
Andere Abbildungsmaßstäbe sind ebenso möglich. Auch vorzeichengleiche und absolut gleiche Abbildungsmaßstäbe in x- und y-Richtung, zum Beispiel mit Absolutwerten von 0,125 oder von 0,25, sind möglich.Other imaging scales are also possible. Image scales with the same sign and absolutely the same in the x and y directions, for example with absolute values of 0.125 or 0.25, are also possible.
Die Anzahl von Zwischenbildebenen in der x- und in der y-Richtung im Strahlengang zwischen dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 11 kann gleich sein oder kann, je nach Ausführung der Projektionsoptik 10, unterschiedlich sein. Beispiele für Projektionsoptiken mit unterschiedlichen Anzahlen derartiger Zwischenbilder in x- und y-Richtung sind bekannt aus der
Jeweils eine der Pupillenfacetten 23 ist genau einer der Feldfacetten 21 zur Ausbildung jeweils eines Beleuchtungskanals zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 zugeordnet. Es kann sich hierdurch insbesondere eine Beleuchtung nach dem Köhlerschen Prinzip ergeben. Das Fernfeld wird mit Hilfe der Feldfacetten 21 in eine Vielzahl an Objektfeldern 5 zerlegt. Die Feldfacetten 21 erzeugen eine Mehrzahl von Bildern des Zwischenfokus auf den diesen jeweils zugeordneten Pupillenfacetten 23, was nachfolgend ebenfalls noch näher erläutert wird.In each case one of the
Die Feldfacetten 21 werden jeweils von einer zugeordneten Pupillenfacette 23 einander überlagernd zur Ausleuchtung des Objektfeldes 5 auf das Retikel 7 abgebildet. Die Ausleuchtung des Objektfeldes 5 ist insbesondere möglichst homogen. Sie weist vorzugsweise einen Uniformitätsfehler von weniger als 2 % auf. Die Felduniformität kann über die Überlagerung unterschiedlicher Beleuchtungskanäle erreicht werden.The
Durch eine Anordnung der Pupillenfacetten kann geometrisch die Ausleuchtung der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 definiert werden. Durch Auswahl der Beleuchtungskanäle, insbesondere der Teilmenge der Pupillenfacetten, die Licht führen, kann die Intensitätsverteilung in der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 eingestellt werden. Diese Intensitätsverteilung wird auch als Beleuchtungssetting bezeichnet.The illumination of the entrance pupil of the
Eine ebenfalls bevorzugte Pupillenuniformität im Bereich definiert ausgeleuchteter Abschnitte einer Beleuchtungspupille der Beleuchtungsoptik 4 kann durch eine Umverteilung der Beleuchtungskanäle erreicht werden.A likewise preferred pupil uniformity in the area of defined illuminated sections of an illumination pupil of the
Im Folgenden werden weitere Aspekte und Details der Ausleuchtung des Objektfeldes 5 sowie insbesondere der Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 beschrieben.Further aspects and details of the illumination of the
Die Projektionsoptik 10 kann insbesondere eine homozentrische Eintrittspupille aufweisen. Diese kann zugänglich sein. Sie kann auch unzugänglich sein.The
Die Eintrittspupille der Projektionsoptik 10 lässt sich regelmäßig mit dem Pupillenfacettenspiegel 22 nicht exakt ausleuchten. Bei einer Abbildung der Projektionsoptik 10, welche das Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 22 telezentrisch auf den Wafer 13 abbildet, schneiden sich die Aperturstrahlen oftmals nicht in einem einzigen Punkt. Es lässt sich jedoch eine Fläche finden, in welcher der paarweise bestimmte Abstand der Aperturstrahlen minimal wird. Diese Fläche stellt die Eintrittspupille oder eine zu ihr konjugierte Fläche im Ortsraum dar. Insbesondere zeigt diese Fläche eine endliche Krümmung.The entrance pupil of the
Es kann sein, dass die Projektionsoptik 10 unterschiedliche Lagen der Eintrittspupille für den tangentialen und für den sagittalen Strahlengang aufweist. In diesem Fall sollte ein abbildendes Element, insbesondere ein optisches Bauelement der Übertragungsoptik, zwischen dem zweiten Facettenspiegel 22 und dem Retikel 7 bereitgestellt werden. Mit Hilfe dieses optischen Elements kann die unterschiedliche Lage der tangentialen Eintrittspupille und der sagittalen Eintrittspupille berücksichtigt werden.The
Bei der in der
Der erste Facettenspiegel 20 ist verkippt zu einer Anordnungsebene angeordnet, die vom zweiten Facettenspiegel 22 definiert ist.The
Das Beleuchtungslicht 16 wird im Quellvolumen 24 durch Wechselwirkung der Pumpstrahlung 26 mit einem Zinntröpfchen 27a erzeugt, welches längs einer Trajektorie 28 durch das Quellvolumen 24 hindurchgeschossen wird. Die Trajektorie 28 verläuft senkrecht zum Strahlengang eines Hauptstrahls der Pumpstrahlung 26. Der Hauptstrahl kann mit einer Rotations-Symmetrieachse des Ellipsoid-Kollektors 17 zusammenfallen.The illuminating
Der Kollektor 17 kann um einen Faktor 5 vergrößernd abbildend ausgeführt sein.The
Ein Abstand zwischen dem Quellvolumen 24 und dem Zwischenfokus IF liegt im Bereich von 1500 mm. Ein Durchmesser des Zwischenfokus IF liegt im Bereich zwischen 1 mm und 5 mm.A distance between the
Aufgrund der zentrierten (Soll-)Anordnung, also einer Nominalposition, des Zwischenfokus IF in der Blendenöffnung 34 liegt, bei nomineller Ausrichtung der Feldfacette 21, die wiederum dem Beleuchtungskanal 16i zugeordnet ist, das Zwischenfokus-Bild 33 zentriert auf der Pupillenfacette 23.Due to the centered (target) arrangement, i.e. a nominal position, of the intermediate focus IF in the
Dargestellt ist in der
Die Messeinrichtung 37 steht mit einer Steuer/Regeleinrichtung 38 in Signalverbindung. Letztere steht wiederum mit einem Verstelleinrichtungs-Aktor 39 in Signalverbindung. Der Verstelleinrichtungs-Aktor 39 steht wiederum mit der Feldfacette 21 in mechanischer Wirkverbindung. Die Blenden-Vorrichtung 36, die Messeinrichtung 37, die Steuer/Regeleinrichtung 38 und der Verstelleinrichtungs-Aktor 39 sind Komponenten eines Blenden-Systems 40 für die Projektionsbelichtungsanlage 1.The measuring
Zur Kompensation einer Richtungsänderung einer Strahlrichtung des Beleuchtungslichtkanals 16i nach Reflexion an der Pupillenfacette 23, die aufgrund der Verstellung der zugeordneten Feldfacette 21 resultiert, kann auch die Pupillenfacette 23 mit einem entsprechenden Verstelleinrichtungs-Aktor ausgerüstet sein, der dann wiederum mit der Steuer/Regeleinrichtung 38 in Signalverbindung steht und eine Komponente des Blenden-Systems 40 darstellt.To compensate for a change in direction of a beam direction of the illumination light channel 16 i after reflection at the
Die Blendenöffnung 34 schneidet randseitige Intensitätsflanken 42 dieser Intensitätsverteilung I ab, so dass diese Intensitätsflanken 42, die in der
Bei relativ zur Blendenöffnung 34 zentriertem Zwischenfokus IF führt der zentrale Intensitäts-Ausschnitt 43 den Großteil der Intensität des Beleuchtungslichts 16 des Beleuchtungskanals 16i. Über die Intensitätsflanken 42 wird also lediglich ein kleiner Teil der Beleuchtungslicht-Intensität über die zentrierte Blende 35 abgeschnitten, beispielsweise weniger als 10 % oder auch weniger als 5 % oder auch weniger als 2 % oder auch weniger als 1 %. Regelmäßig wird mehr als 0,1 % der gesamten Beleuchtungslicht-Intensität, die auf die Zwischenfokusebene 18 einfällt, von der Blende 35 abgeschnitten.With the intermediate focus IF centered relative to the
Durch das randseitige Abschneiden des Intensitätsprofils I mit der Blende 35 ergibt sich insgesamt ein kleineres Zwischenfokus-Bild 33 auf der Pupillenfacette. Dies kann zur Verkleinerung eines erforderlichen typischen Durchmessers der Pupillenfacetten 23 des Pupillenfacettenspiegels 22 genutzt werden. Insbesondere kann ein Beleuchtungssetting mit kleinerem Pupillenfüllgrad realisiert werden. Alternativ oder zusätzlich kann durch das Abschneiden der Intensitätsflanken 42 eine Homogenisierung von über die verschiedenen Beleuchtungskanäle 16i transportierten Beleuchtungslicht-Intensitäten erreicht werden.The edge-side cutting off of the intensity profile I with the
Die
Soweit der zentrale Intensitäts-Ausschnitt 43 zentriert in der Blendenöffnung 44 liegt, ergeben sich die Lageverhältnisse nach
Die Blende 35 der Blenden-Vorrichtung 36 ist relativ zu einem Blendenträger 46 der Blenden-Vorrichtung 36 in der Zwischenfokusebene 18 verlagerbar, wie in der
Der Blendenträger 46 hat eine Durchgangsöffnung 46a, innerhalb der die Blendenöffnung 34 liegt. Die Durchgangsöffnung 46a ist um so viel größer als die Blendenöffnung 34, dass in möglichen Betriebsstellungen der Blendenöffnung 34 relativ zum Blendenträger 46 ausschließlich die Blendenöffnung 34 den Strahlengang des Beleuchtungslichts 16 begrenzt, nicht aber die Durchgangsöffnung 46a.The
Ein zweiter, nicht in der
Diese Verlagerung der Blende 35 wird bewirkt über eine Verlagerungseinrichtung 47, die als mindestens ein Aktor ausgeführt ist, wofür nachfolgend noch Ausführungsbeispiele beschrieben werden. Die Verlagerungseinrichtung 47 steht in nicht dargestellter Weise mit der Steuer/Regeleinrichtung 38 in Signalverbindung. Anstelle einer einzigen Verlagerungseinrichtung 47 zur Bewirkung der Verlagerung der Blende 35 über die beiden Freiheitsgrade können auch mehrere Verlagerungseinrichtungen 47 zur Verlagerung der Blende 35 längs zweier unabhängiger Verlagerungs-Richtungskomponenten quer zum Strahlengang des Beleuchtungslichts 16 durch die Zwischenfokusebene 18 vorgesehen sein, die jeweils als Aktor ausgeführt sein können.This displacement of the
Dargestellt ist in der
Bei dem Falschlicht 48 handelt es sich insbesondere um Strahlung mit anderer Wellenlänge als eine Nutzwellenlänge des Beleuchtungslichts 16, zum Beispiel um die Pumpstrahlung 26.The
Die Blenden-Vorrichtung 36 nach
Anhand der
Die Blenden-Vorrichtung 36 nach
Der Drehaktor 64 dient zur Dreh- beziehungsweise Schwenkverlagerung des Linearaktors 62 und der hierdurch geführten Blende 35 längs einer in der
Bei der Montage der Blenden-Vorrichtung 36 wird die Rotoröffnung 65 zu einer nominal zentrierten Position des Zwischenfokus IF ausgerichtet, so dass diese Zwischenfokus-Position zentriert in der Rotoröffnung 65 liegt. Durch Ansteuerung der Aktoren 62, 64, angesteuert über die Steuer/Regeleinrichtung 38 kann dann die Blendenöffnung 34 abhängig von einer Ist-Positionsverlagerung des Zwischenfokus relativ zur ursprünglich vorgegebenen Nominalposition (Soll-Position) innerhalb der Rotoröffnung 65 verlagert werden, bis die Blendenöffnung 34 wiederum mit der Zwischenfokus-Position des Beleuchtungslichts 16 übereinstimmt.When assembling the
Anhand der
Alternative Linearaktoren entsprechend denen, die vorstehend erläutert wurden, können als Kolbenantriebe, Spindelantriebe, Doppelständer-Linearmotoren oder Einständer-Linearmotoren mit Lang- oder Kurzständer ausgeführt sein.Alternative linear actuators corresponding to those explained above can be designed as piston drives, spindle drives, double-column linear motors or single-column linear motors with long or short columns.
Durch eine Regel-Rückkopplung, durchgeführt durch die Steuer/Regeleinrichtung 38, kann das Intensitätsprofil I(x,y) nach der Blende 35 gemessen werden, beispielsweise über einen ortsauflösenden Sensor der Messeinrichtung 37, und die Blende 35 kann durch Ansteuerung der jeweiligen mindestens einen Verlagerungseinrichtung aus einer relativ zum Maximum des Intensitätsprofils I(x,y) dezentrierten Position nach
Die jeweilige Verlagerungseinrichtung kann einen Schrittmotor aufweisen beziehungsweise als Schrittmotor ausgeführt sein.The respective displacement device can have a stepping motor or be designed as a stepping motor.
Mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird wenigstens ein Teil des Retikels 7 im Objektfeld 5 auf einen Bereich einer lichtempfindlichen Schicht auf dem Wafer 13 im Bildfeld 11 zur lithographischen Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten Bauteils, insbesondere eines Halbleiterbauteils, beispielsweise eines Mikrochips, abgebildet. Je nach Ausführung der Projektionsbelichtungsanlage 1 als Scanner oder als Stepper werden das Retikel 7 und der Wafer 13 zeitlich synchronisiert in der y-Richtung kontinuierlich im Scannerbetrieb oder schrittweise im Stepperbetrieb verfahren.With the aid of the projection exposure system 1, at least part of the
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