DE102024115927A1 - Structured glass element and method for its manufacture - Google Patents
Structured glass element and method for its manufactureInfo
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Abstract
Glaselement (1) mit zwei gegenüberliegenden Seitenflächen (2, 3), welches einen Steg (5) mit Wandflächen (50) aufweist, welche die Seitenflächen (2, 3) verbinden, wobei der Steg (5) in Aufsicht auf eine der Seitenflächen (2, 3) zumindest entlang eines Abschnitts (7) eine Breite von weniger als 3 mm aufweist, wobei dieser Abschnitt (7) des Stegs (5) eine Vertiefung (9) in einer der Seitenflächen (2, 3) aufweist, so dass die durch den Abstand der Seitenflächen (2, 3) gegebene Dicke des Glaselements (1) im Bereich der Vertiefung (9) reduziert ist, wobei die Vertiefung (9) Wandflächen (90) und eine Bodenfläche (92) aufweist, und wobei die Wandflächen (90) und die Bodenfläche (92) der Vertiefung (9), sowie die Wandflächen (50) des Stegs (5) eine geätzte Oberflächenstruktur aufweisen. Glass element (1) with two opposing side surfaces (2, 3), which has a web (5) with wall surfaces (50) connecting the side surfaces (2, 3), wherein the web (5) in plan view of one of the side surfaces (2, 3) has a width of less than 3 mm at least along a section (7), wherein this section (7) of the web (5) has a recess (9) in one of the side surfaces (2, 3), such that the thickness of the glass element (1) given by the distance of the side surfaces (2, 3) is reduced in the area of the recess (9), wherein the recess (9) has wall surfaces (90) and a bottom surface (92), and wherein the wall surfaces (90) and the bottom surface (92) of the recess (9), as well as the wall surfaces (50) of the web (5), have an etched surface structure.
Description
Hintergrund der ErfindungBackground of the invention
Die Erfindung betrifft allgemein die Herstellung von Glaselementen mit strukturierter Oberfläche. Insbesondere betrifft die Erfindung Glaselemente, deren Oberfläche durch Ätzen strukturiert wird.The invention relates generally to the production of glass elements with a structured surface. In particular, the invention relates to glass elements whose surface is structured by etching.
Vertiefungen in Glas können durch Entfernen von Glas durch mechanische oder chemische Prozesse oder Verbinden zweier Gläser (Bonding), wobei ein Glaselement eine entsprechende Aussparung enthält, erhalten werden. Allerdings ist es schwierig, eine hohe flächige Genauigkeit der einzelnen Scheiben zueinander bei der Positionierung der Vertiefung zu gewährleisten. Zudem kann eine genaue und homogene Tiefeneinstellung schwierig sein. Einige Prozesse können Schädigungen (Risse, Beschädigung an der Rückseite) in dem Glas verursachen. Bei Ätzverfahren können weiterhin unerwünschte große Abrundungsradien, sogar in der Größenordnung der Tiefe der Vertiefung in den Randbereichen, erhalten werden.Indentations in glass can be created by removing glass through mechanical or chemical processes, or by bonding two glass panes together, with one pane containing the corresponding recess. However, ensuring high surface accuracy between the individual panes when positioning the indentation is challenging. Furthermore, achieving precise and homogeneous depth control can be difficult. Some processes can cause damage (cracks, damage to the back surface) to the glass. Etching processes can also result in undesirably large radii of curvature, even on the order of the depth of the indentation, at the edges.
Ein Verfahren zur feinen Strukturierung von Glas, bei welchem filamentförmige Schädigungen im Glas mit einem Laser erzeugt und diese anschließend in einem Ätzmedium aufgeweitet werden, beschreibt die
Die damit hergestellten Glasteile haben eine scheibenförmige Grundform, wobei die Kavitäten in die Seitenflächen eingebracht sind. Im Zuge fortschreitender Miniaturisierung oder der Herstellung von Bauteilen auf Wafer-Ebene kann es allerdings wünschenswert sein, filigranere Strukturen herzustellen. Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den jeweiligen abhängigen Ansprüchen angegeben.The glass components produced in this way have a disc-shaped basic form, with the cavities being formed in the side surfaces. However, with increasing miniaturization or the production of components at the wafer level, it may be desirable to produce more intricate structures. This objective is achieved by the subject matter of the independent claims. Advantageous embodiments of the invention are specified in the respective dependent claims.
Zusammenfassung der ErfindungSummary of the invention
Die Erfindung sieht ein Glaselement mit zwei gegenüberliegenden Seitenflächen vor, welches einen Steg mit Wandflächen aufweist, welche die Seitenflächen verbinden. Der Steg weist in Aufsicht auf eine der Seitenflächen zumindest entlang eines Abschnitts eine Breite von weniger als 3 mm auf, wobei dieser Abschnitt des Stegs eine Vertiefung in einer der Seitenflächen aufweist, so dass die durch den Abstand der Seitenflächen gegebene Dicke des Glaselements im Bereich der Vertiefung reduziert ist, wobei die Vertiefung Wandflächen und eine Bodenfläche aufweist, und wobei die Wandflächen und die Bodenfläche der Vertiefung, sowie die Wandflächen des Stegs eine geätzte Oberflächenstruktur aufweisen.The invention provides a glass element with two opposing side surfaces, which has a web with wall surfaces connecting the side surfaces. The web, viewed from above on one of the side surfaces, has a width of less than 3 mm at least along a section, wherein this section of the web has a recess in one of the side surfaces, such that the thickness of the glass element, determined by the distance between the side surfaces, is reduced in the area of the recess, wherein the recess has wall surfaces and a bottom surface, and wherein the wall surfaces and the bottom surface of the recess, as well as the wall surfaces of the web, have an etched surface structure.
Ein geeignetes Verfahren zur Herstellung eines solchen Glaselements sieht vor, dass ein Ausgangselement aus Glas bereitgestellt wird, und
- - der gepulste Laserstrahl eines Ultrakurzpulslasers auf eine der Seitenflächen des Ausgangselements gerichtet und
- - mit einer Fokussierungsoptik zu einem langgezogenen Fokus im Ausgangselement konzentriert wird, wobei
- - durch die eingestrahlte Energie des Laserstrahls eine filamentförmige Schädigung im Volumen des Ausgangselements erzeugt wird, wobei
- - der Laserstrahl über das Ausgangselement entlang eines Pfades entsprechend der Kontur des Glaselements bewegt wird, so dass
- - entlang dieses Pfades nebeneinander filamentförmige Schädigungen erzeugt werden, wobei
- - die Kontur einen Steg mit einem Abschnitt mit einer Breite von kleiner als 3 mm umfasst, und wobei
- - mit dem Ultrakurzpulslaser innerhalb dieses Abschnitts eine Vielzahl von weiteren filamentförmigen Schädigungen eingefügt werden, welche im Volumen innerhalb des Ausgangselements enden, und wobei
- - das Ausgangselement einem Ätzmedium ausgesetzt wird, welches die filamentförmigen Schädigungen aufweitet, so dass diese sich entlang der Kontur miteinander verbinden und dadurch das Glaselement herausgearbeitet wird, und wobei die Vielzahl der im Volumen innerhalb des Ausgangselements endenden filamentförmigen Schädigungen sich durch Aufweitung ebenfalls verbinden und eine Vertiefung im Steg innerhalb des Abschnitts, der eine Breite kleiner als 3 mm aufweist, bilden.
- - the pulsed laser beam of an ultrashort pulse laser is directed onto one of the side surfaces of the output element and
- - is concentrated with a focusing optic to an elongated focus in the output element, whereby
- - the energy emitted by the laser beam creates filament-shaped damage in the volume of the starting element, whereby
- - the laser beam is moved across the output element along a path corresponding to the contour of the glass element, so that
- - filament-shaped damage is generated side by side along this path, whereby
- - the contour includes a bridge with a section less than 3 mm wide, and wherein
- - using the ultrashort pulse laser, a multitude of further filament-shaped defects are introduced within this section, which terminate in the volume within the original element, and wherein
- - the starting element is exposed to an etching medium which expands the filament-shaped defects so that they connect along the contour and thereby create the glass element, and wherein the multitude of filament-shaped defects ending in the volume within the starting element also connect by expansion and form a depression in the web within the section which has a width of less than 3 mm.
Mit dem Verfahren ist es ebenso auch möglich, Vertiefungen in einem Abschnitt eines Steges zu erzeugen, der eine Breite von weniger als 1mm, oder sogar kleiner als 0,6 mm, oder sogar kleiner als 0,3 mm aufweist. Insbesondere kann auch die Dicke des Glaselements größer sein als die Breite des Stegs, beziehungsweise des Abschnitts dieses Stegs mit der Vertiefung.This method also makes it possible to create indentations in a section of a web that has a width of less than 1 mm, or even less than 0.6 mm, or even less than 0.3 mm. In particular, the thickness of the glass element can also be greater than the width of the web, or of the section of this web containing the indentation.
Das Glas des Glaselements, beziehungsweise des Ausgangselements ist vorteilhaft für den Laserstrahl transparent, damit das Laserlicht das Glas durchdringen kann. Bevorzugt ist das Glas so gewählt, dass weniger als 10% des Lichts durch lineare Absorption, also für einen schwachen Lichtstrahl bei Durchquerung des Ausgangselements absorbiert werden. Die Absorption des hochintensiven Ultrakurzpuls-Laserstrahls hingegen wird durch nichtlineare Effekte, wie Mehrphotonen-Absorption verursacht und kann dementsprechend größer sein. Unter einem Glas wird im Sinne dieser Offenbarung auch eine Glaskeramik verstanden.The glass of the glass element, or the starting element, is advantageously transparent to the laser beam so that the laser light can penetrate the glass. Preferably, the glass is selected such that less than 10% of the light is absorbed by linear absorption, i.e., for a weak light beam, when passing through the starting element. The absorption of the high-intensity ultrashort pulse laser beam, on the other hand, is caused by nonlinear effects, such as multiphoton absorption, and can therefore be greater. For the purposes of this disclosure, the term "glass" also includes glass ceramics.
Die Erfindung wird nachfolgend genauer anhand der Figuren genauer erläutert. In den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen jeweils gleiche oder entsprechende Elemente.The invention is explained in more detail below with reference to the figures. In the figures, identical reference numerals denote identical or corresponding elements.
Kurzbeschreibung der FigurenBrief description of the characters
-
1 zeigt eine Vorrichtung zur Laserbearbeitung eines Ausgangselements als Vorbereitung für ein nachfolgendes Ätzen.1 shows a device for laser processing of a starting element in preparation for subsequent etching. -
2 zeigt ein Ausgangselement mit einer Kontur eines Glaselements aus eingefügten filamentförmigen Schädigungen.2 shows a starting element with a contour of a glass element made up of inserted filament-shaped defects. -
3 zeigt ein Glaselement, welches aus dem in2 gezeigten Ausgangselement hergestellt wurde.3 shows a glass element which is made from the in2 The starting element shown was produced. -
4 zeigt einen Ausschnitt eines weiteren Beispiels für ein Ausgangselement mit eingefügten filamentförmigen Schädigungen.4 shows a section of another example of a starting element with inserted filament-shaped damage. -
5 zeigt eine Weißlicht-Interferenzaufnahme einer Bodenfläche einer Vertiefung.5 shows a white light interference image of the ground surface of a depression. -
6 zeigt ein Ausführungsbeispiel eines Glaselements mit seitlich geöffneten Vertiefungen.6 shows an exemplary embodiment of a glass element with laterally open recesses. -
7 zeigt ein weiteres Beispiel mit einer nur einseitig seitlich geöffneten Vertiefung.7 Another example shows a recess that is only open on one side. -
8 zeigt eine Variante des Glaselements mit einseitig gehaltertem Steg.8 shows a variant of the glass element with a bridge supported on one side. -
9 und10 zeigen jeweils Verbundelemente mit einem Glaselement.9 and10 Each shows composite elements with a glass element. -
11 zeigt Ausführungsbeispiele von Zugängen zu einer Kavität mittels einer Vertiefung.11 shows examples of how to access a cavity by means of a depression. -
12 und13 zeigen Verbundelemente mit einer Kombination einer Vertiefung und einer Durchgangsöffnung.12 and13 show composite elements with a combination of a recess and a through-opening.
Ausführliche BeschreibungDetailed description
In
Die Fokussierungsoptik 23 fokussiert den Laserstrahl 27 nun zu einem in Strahlrichtung, also dementsprechend quer, insbesondere senkrecht zur bestrahlten Seitenfläche 2 langgezogenen Fokus. Ein solcher Fokus kann beispielsweise mit einer kegelförmigen Linse (ein sogenanntes Axikon) oder einer Linse mit großer sphärischer Aberration erzeugt werden. Die in
Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Reihenfolge des Einfügens der filamentförmigen Schädigungen 32 für die Kontur des Glaselements und der im Volumen des Ausgangselements endenden filamentförmigen Schädigungen 33 nicht festgelegt ist. Diese können auch, indem während des Überfahrens des Ausgangselements 10 die Fokuslage geändert wird, intermittierend eingefügt werden. Allgemein ist es bevorzugt, wenn die filamentförmigen Schädigungen 32 entlang der Kontur an den beiden Seitenflächen 2, 3 enden, beziehungsweise das Glas in seiner gesamten Dicke durchqueren. Denkbar wäre aber auch, zumindest ein Teil dieser filamentförmigen Schädigungen 32 ebenso wie die Schädigungen 33 zur Herstellung der Vertiefung im Glas enden oder beginnen zu lassen. Auch können verschiedene Lagen und Längen von filamentförmigen Schädigungen 32 kombiniert werden, etwa, um eine bestimmte Kantenform zu erzeugen.It is apparent to those skilled in the art that the sequence for inserting the filament-shaped defects 32 along the contour of the glass element and the filament-shaped defects 33 terminating in the volume of the starting element is not fixed. These defects can also be inserted intermittently by changing the focus position while scanning the starting element 10. Generally, it is preferred if the filament-shaped defects 32 terminate along the contour at the two side surfaces 2, 3, or if they extend through the entire thickness of the glass. However, it would also be conceivable to have at least some of these filament-shaped defects 32 terminate or begin in the same way as the defects 33 for producing the depression in the glass. Furthermore, different layers and lengths of filament-shaped defects 32 can be combined, for example, to create a specific edge shape.
Geeignete Wellenlängen des Ultrakurzpulslasers liegen allgemein vorzugsweise im Bereich von 300 nm bis 1905 nm; bevorzugt im Bereich von 505 nm bis 1111 nm; besonders bevorzugt im Bereich von 1000 nm bis 1100 nm, ganz besonders bevorzugt im Bereich von 1020 nm bis 1070 nm. Wesentlich ist, dass der Ultrakurzpulslaser Licht einer Wellenlänge abgibt, für die das Glas des Ausgangselements 10 transparent ist und welches eine hinreichende Intensität aufweist, um die Energie des Lichts durch Anregung nichtlinearer Effekte im Glas zu deponieren. Um thermische und mechanische Spannungen im Glas zu reduzieren, ist es allgemein günstig, wenn die Pulsdauer der Laserpulse kleiner als 10 ps, bevorzugt kleiner 3 ps, oder sogar kleiner 1 ps ist. Zu kurze Pulsdauern sind diesbezüglich ebenfalls eher ungünstig. Daher wird eine Pulsdauer von länger als 0,1 ps, vorzugsweise länger als 0,3 ps, besonders bevorzugt mindestens 0,5 ps bevorzugt.Suitable wavelengths for the ultrashort pulse laser are generally preferably in the range of 300 nm to 1905 nm; more preferably in the range of 505 nm to 1111 nm; particularly preferably in the range of 1000 nm to 1100 nm; and most preferably in the range of 1020 nm to 1070 nm. It is essential that the ultrashort pulse laser emits light of a wavelength for which the glass of the starting element 10 is transparent and which has sufficient intensity to deposit the energy of the light by exciting nonlinear effects in the glass. To reduce thermal and mechanical stresses in the glass, it is generally advantageous if the pulse duration of the laser pulses is less than 10 ps, preferably less than 3 ps, or even less than 1 ps. Pulse durations that are too short are also rather disadvantageous in this respect. Therefore, a pulse duration longer than 0.1 ps, preferably longer than 0.3 ps, and particularly preferably at least 0.5 ps, is preferred.
Die Einstrahlung des Laserlichts kann in einzelnen zeitlich gleich beabstandeten Pulsen erfolgen. Es ist aber auch möglich und bevorzugt, das Einfügen der filamentförmigen Schädigungen 32, 33 im sogenannten Burst-Modus durchzuführen. Im Burst-Modus wird die Laserenergie nicht als Einzelpuls abgegeben, sondern als Folge kurz hintereinander abgegebener Pulse, die gemeinsam ein Pulspaket, einen sogenannten Burst, bilden. Ein solches Pulspaket weist typischerweise eine etwas größere Energie auf, als ein Einzelpuls im üblichen Single-Shot-Betrieb. Die Pulse eines Bursts selbst beinhalten aber dafür weniger Energie als ein Einzelpuls. Bevorzugt wird ein Burst-Modus mit Pulspaketen von höchstens drei, oder mit zwei Pulsen. The laser light can be applied in individual pulses spaced at equal intervals. However, it is also possible, and preferred, to perform the insertion of the filament-shaped defects 32, 33 in so-called burst mode. In burst mode, the laser energy is not emitted as a single pulse, but as a sequence of pulses emitted in quick succession, which together form a pulse packet, a so-called burst. Such a pulse packet typically has a slightly higher energy than a single pulse in the usual single-shot operation. However, the individual pulses of a burst contain less energy than a single pulse. A burst mode with pulse packets of at most three, or with two pulses, is preferred.
Das Ätzen kann mit einem sauren Ätzmedium, wie etwa wässrigen Lösungen von HF, HCl, H2SO4, HNO3 oder anderen Säuren erfolgen. Bevorzugt ist ein Ätzen mit einem basischen, insbesondere alkalischen Ätzmedium, wie etwa mit Kalilauge, KOH, oder Natronlauge, NaOH. Gemäß einer Weiterbildung ist vorgesehen, dass das Ätzen in einem alkalischen Ätzmedium mit einem pH-Wert größer als 12 und einem Komplexbildner erfolgt. Der Komplexbildner kann dabei einen der Bestandteile des Glases komplexieren. So können, wie in der
Weiterhin kann auch eine Ätzlösung verwendet werden, die ein Silikat, bevorzugt ein Alkali-Silikat, besonders bevorzugt Wasserglas, in gelöster Form enthält.Furthermore, an etching solution containing a silicate, preferably an alkali silicate, particularly preferably water glass, in dissolved form can also be used.
Bei der Verwendung von Ätzlösungen, welche gelöste Silikate enthalten, kann die Ätzrate deutlich erhöht werden. Dieser Effekt ist insbesondere bei hohen Silikatkonzentrationen in der Ätzlösung zu beobachten. Insbesondere bei hohen Silikatkonzentrationen fungieren die Silikate zudem als Alkaliüberträger und erhöhen somit die Mobilität bzw. lonenbeweglichkeit der Hydroxidionen. Dies ist insbesondere bei Ausführungsformen mit sehr hohen Hydroxidkonzentration in der Ätzlösung vorteilhaft. So nimmt die lonenbeweglichkeit der Hydroxidionen bei sehr konzentrierten Laugen mit steigender Konzentration ab, was sich auch auf die Ätzrate auswirkt. Durch Zugabe von Silikaten als Alkaliüberträger kann dieser Effekt jedoch zumindest teilweise kompensiert werden. Komplexbildner und Zugabe von Silikaten können hilfreich sein, um innerhalb der herzustellenden Vertiefung 9 bei nur geringem Austausch des Ätzmediums eine hinreichende Ätzrate aufrechtzuerhalten und möglichst senkrechte Wandungen der Vertiefung 9 zu erreichen.When using etching solutions containing dissolved silicates, the etching rate can be significantly increased. This effect is particularly noticeable at high silicate concentrations in the etching solution. Especially at high silicate concentrations, the silicates also act as alkali carriers, thus increasing the mobility of the hydroxide ions. This is particularly advantageous in embodiments with very high hydroxide concentrations in the etching solution. For example, the ion mobility of hydroxide ions decreases with increasing concentration in highly concentrated alkalis, which also affects the etching rate. However, this effect can be at least partially compensated for by adding silicates as alkali carriers. Complexing agents and the addition of silicates can be helpful in maintaining a sufficient etching rate within the well 9 being produced, with only minimal exchange of the etching medium, and in achieving the most perpendicular possible walls of the well 9.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform kann die Ätztiefe an den Abstand der filamentförmigen Schädigungen 33 zur Ausbildung der Vertiefung 9 angepasst werden. Allgemein, ohne Beschränkung auf bestimmte Beispiele ist dazu insbesondere vorgesehen, dass der insgesamte Ätzabtrag durch das Ätzmedium in radialer Richtung der filamentförmigen Schädigungen 33 so eingestellt wird, dass dieser im Bereich des 0,5 bis 1,5-fachen des Abstands der filamentförmigen Schädigungen 33 liegt. Vorzugsweise liegt der Ätzabtrag im Bereich des 0,7 bis 1,3-fachen, besonders bevorzugt im Bereich des 0,9 bis 1,1-fachen des Abstands der filamentförmigen Schädigungen 33. Damit wird der Ätzvorgang also nicht wesentlich länger durchgeführt, als Zeit benötigt wird, damit sich die filamentförmigen Schädigungen 33 miteinander durch radiale Aufweitung verbinden. Jedenfalls ist es sinnvoll, den Ätzabtrag nicht so groß werden zu lassen, dass der Boden der Vertiefung 9 die gegenüberliegende Seitenfläche erreicht. Der Ätzabtrag kann durch verschiedene Parameter beeinflusst und entsprechend dann auch eingestellt werden. Solche Parameter sind die Zusammensetzung des Glases, die Temperatur des Ätzmediums, dessen Zusammensetzung, dessen Konzentration und dessen pH-Wert.According to a preferred embodiment, the etching depth can be adjusted to the spacing of the filamentous defects 33 for the formation of the recess 9. Generally, without limiting oneself to specific examples, it is particularly recommended that the total etching depth by the etching medium in the radial direction of the filamentous defects 33 be adjusted to be in the range of 0.5 to 1.5 times the spacing of the filamentous defects 33. Preferably, the etching depth is in the range of 0.7 to 1.3 times, and particularly preferably in the range of 0.9 to 1.1 times the spacing of the filamentous defects 33. This ensures that the etching process is not carried out significantly longer than the time required for the filamentous defects 33 to connect with each other through radial expansion. In any case, it is advantageous to prevent the etching depth from becoming so great that the bottom of the recess 9 reaches the opposite side surface. The etching process can be influenced and adjusted by various parameters. These parameters include the composition of the glass, the temperature of the etching medium, its composition, its concentration, and its pH value.
Bedingt durch den Ätzprozess weisen die Wandflächen 90 und die Bodenfläche 92 der Vertiefung 9, sowie die Wandflächen 50 des Stegs 5 eine geätzte Oberflächenstruktur auf. Auch die Seitenflächen 2, 3 können beim Aufweiten der filamentförmigen Schädigungen 32, 33 dem Ätzmedium ausgesetzt sein. Typischerweise unterscheidet sich die Topographie der Wandflächen 50, 90 von Steg 5 und Vertiefung 9, sowie der Bodenfläche 92 der Vertiefung 9 auch dann deutlich von der Topographie der Seitenflächen 2, 3. Letztere bleiben besonders bei der Verwendung eines basischen Ätzmediums glatt, während die geätzten Oberflächen der Wandflächen 50, 90 eine deutliche Struktur aufweisen. Ohne Beschränkung auf hier beschriebene bestimmte Beispiele und Ausführungsformen können sich Glaselemente 1 gemäß dieser Offenbarung dadurch auszeichnen, dass alternativ oder zusätzlich zum Merkmal einer geätzten Oberflächenstruktur die Wandflächen 50, 90 und die Bodenfläche 92 eine höhere Rauigkeit aufweisen, als die Seitenflächen 2, 3.Due to the etching process, the wall surfaces 90 and the bottom surface 92 of the recess 9, as well as the wall surfaces 50 of the web 5, exhibit an etched surface structure. The side surfaces 2, 3 may also be exposed to the etching medium when the filament-shaped defects 32, 33 widen. Typically, the topography of the wall surfaces 50, 90 of the web 5 and recess 9, as well as the bottom surface 92 of the recess 9, differs significantly from the topography of the side surfaces 2, 3. The latter remain smooth, particularly when using a basic etching medium, while the etched surfaces of the wall surfaces 50, 90 exhibit a distinct structure. Without being limited to the specific examples and embodiments described herein, glass elements 1 according to this disclosure can be characterized by the fact that, alternatively or additionally to the feature of an etched surface structure, the wall surfaces 50, 90 and the bottom surface 92 exhibit a higher roughness than the side surfaces 2, 3.
Wie anhand von
Wie bereits zu
Um die filigranen Strukturen, insbesondere von Stegen 9, die ihrerseits nochmals Vertiefungen aufweisen, herzustellen, ist es günstig, wenn das Glas nach der Laserbearbeitung möglichst geringe Spannungen aufweist. Dies kann auch allgemein durch Gläser mit niedrigeren thermischen Ausdehnungskoeffizienten erreicht werden. In Weiterbildung des Verfahrens und des Glaselements 1 wird dazu ein Glas verwendet, welches einen linearen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von kleiner als 10 ppm (α<10·10-6K-1), vorzugsweise kleiner als 8 ppm (α<8·10-6K-1), besonders bevorzugt von kleiner als 4 ppm (α<4·10-6K-1) aufweist. Aus dem gleichen Grund sind auch Gläser zu bevorzugen, die kein zu hohes Elastizitätsmodul aufweisen. Dazu weist das Glas des Glaselements 1 in einer weiteren alternativen oder zusätzlichen Ausführungsform ein E-Modul von kleiner als 73 GPa, vorzugsweise von kleiner als 70 GPa auf.To produce the delicate structures, especially the webs 9, which themselves have further recesses, it is advantageous for the glass to exhibit minimal stress after laser processing. This can also be generally achieved using glasses with lower coefficients of thermal expansion. In a further development of the method and the glass element 1, a glass is used that has a linear coefficient of thermal expansion of less than 10 ppm (α < 10 × 10⁻⁶ K⁻¹ ), preferably less than 8 ppm (α < 8 × 10⁻⁶ K⁻¹ ), and particularly preferably less than 4 ppm (α < 4 × 10⁻⁶ K⁻¹ ). For the same reason, glasses with a low modulus of elasticity are also preferred. In a further alternative or additional embodiment, the glass of the glass element 1 has a modulus of elasticity of less than 73 GPa, preferably less than 70 GPa.
Bei dem Beispiel der
Im Allgemeinen wird aber ein Raster von filamentförmigen Schädigungen 33 eingefügt, um entsprechend breitere Formen von Vertiefungen 9 erzeugen zu können. Dazu wird der Laserstrahl in mehreren nebeneinanderliegenden Spuren oder Reihen über das Ausgangselement 10 geführt. Damit ergeben sich zwei Abstände der filamentförmigen Schädigungen 33, nämlich einerseits der Abstand innerhalb einer Spur und andererseits der Abstand der Spuren untereinander.
In einer bevorzugten Weiterbildung des Verfahrens ist es dazu vorgesehen, dass die filamentförmigen Schädigungen 33 zur Herstellung der Vertiefung 9 nacheinander in mehreren nebeneinanderliegenden Reihen 35 eingefügt werden, wobei die Geschwindigkeit, mit welcher der Laserstrahl 27 über das Ausgangselement 10 bewegt wird, sowie die Repetitionsrate, mit welcher der Ultrakurzpulslaser 30 betrieben wird, sowie ein Reihenabstand 37 zwischen zwei benachbarten Reihen 35 so gewählt werden, dass der Abstand benachbarter filamentförmiger Schädigungen 33 im Mittel mindestens 20 µm beträgt. Weiter bevorzugt ist ein mittlerer Abstand benachbarter filamentförmiger Schädigungen 33 von mindestens 25 µm, gegebenenfalls auch mindestens 30 µm. Benachbarte filamentförmige Schädigungen sind dabei sowohl die nächsten Nachbarn innerhalb einer Reihe 35, also die zu einem gegebenen Filament unmittelbar zuvor und danach eingefügten filamentförmigen Schädigungen 33, als auch die nächstliegenden filamentförmigen Schädigungen 33 in benachbarten Reihen 35. Zu große mittlere Abstände sind andererseits wiederum wegen der Formtreue der Kontur der Vertiefung 9 und der Dauer des Ätzprozesses nachteilig. Daher ist es gemäß noch einer Weiterbildung des Verfahrens vorgesehen, dass die filamentförmigen Schädigungen 33 einen mittleren Abstand von höchstens 50 µm, bevorzugt höchstens 40 µm aufweisen.In a preferred embodiment of the method, the filament-shaped defects 33 for producing the depression 9 are inserted successively in several adjacent rows 35, wherein the speed at which the laser beam 27 is moved over the output element 10, the repetition rate at which the ultrashort pulse laser 30 is operated, and a row spacing 37 between two adjacent rows 35 are selected such that the average distance between adjacent filament-shaped defects 33 is at least 20 µm. A mean distance between adjacent filament-shaped defects 33 of at least 25 µm, and optionally at least 30 µm, is further preferred. Adjacent filament-shaped defects are both the nearest neighbors within a row 35, i.e., the filament-shaped defects 33 inserted immediately before and after a given filament, and the nearest filament-shaped defects 33 in adjacent rows 35. However, excessively large average distances are disadvantageous due to the need to maintain the contour accuracy of the recess 9 and the duration of the etching process. Therefore, according to a further development of the method, the filament-shaped defects 33 are designed to have an average distance of at most 50 µm, preferably at most 40 µm.
Die mittleren Abstände benachbarter filamentförmiger Schädigungen 33 innerhalb einer Reihe 35 und zu benachbarten Reihen sind vorzugsweise ähnlich, um Schäden oder Festigkeitsverlust durch Spannungen im Glas zu vermeiden. Gemäß noch einer Weiterbildung liegt der Abstand der filamentförmigen Schädigungen 33 innerhalb einer Reihe 35 beim 0,5-fachen bis 2-fachen des Reihenabstands 37, bevorzugt beim 0,7-fachen bis 1,4-fachen, insbesondere beim 0,9-fachen bis 1,1-fachen des Reihenabstands. Die vorstehend genannten bevorzugten Abstände der filamentförmigen Schädigungen 33 führen auch zu einer vergleichsweise ebeneren Bodenfläche 92 der Vertiefung 9.The mean distances between adjacent filament-shaped defects 33 within a row 35 and to adjacent rows are preferably similar in order to avoid damage or loss of strength due to stresses in the glass. According to a further embodiment, the distance between the filament-shaped defects 33 within a row 35 is 0.5 to 2 times the row spacing 37, preferably 0.7 to 1.4 times, and particularly 0.9 to 1.1 times the row spacing. The aforementioned preferred distances between the filament-shaped defects 33 also result in a comparatively flatter bottom surface 92 of the depression 9.
Die regelmäßige Anordnung der filamentförmigen Schädigungen 33 lässt sich auch noch an der geätzten Oberfläche des herausgearbeiteten Glaselements 1 nachweisen. Im Speziellen ergibt sich an der Bodenfläche 92 der Vertiefung 9 eine regelmäßige Anordnung von Mulden oder Dimple an den Positionen der filamentförmigen Schädigungen 33. Diese Mulden entstehen vermutlich durch die anisotrope Ätzgeschwindigkeit an den Schädigungen und in den Zwischenbereichen zwischen diesen Schädigungen.The regular arrangement of the filament-shaped defects 33 can also be observed on the etched surface of the extracted glass element 1. Specifically, a regular arrangement of depressions or dimples is found on the bottom surface 92 of the depression 9 at the positions of the filament-shaped defects 33. These depressions presumably arise from the anisotropic etching rate at the defects and in the areas between them.
Ein Beispiel einer derart strukturierten Bodenfläche 92 einer Vertiefung 9 mit Mulden 94 zeigt
- - der Abstand benachbarter Mulden 94 beträgt im Mittel mindestens 20 µm, vorzugsweise im Mittel mindestens 25 µm,
- - die Mulden 94 weisen einen mittleren Abstand von höchstens 50 µm, bevorzugt höchstens 40 µm auf,
- - der Abstand der Mulden 94 innerhalb einer Reihe 35 liegt beim 0,5-fachen bis zweifachen des Reihenabstands 37, bevorzugt beim 0,7-fachen bis 1,4-fachen, insbesondere beim 0,9-fachen bis 1,1-fachen des Reihenabstands 37,
- - der Abstand benachbarter Mulden 94 liegt im Bereich von 25 µm bis 35 µm.
- - the distance between adjacent troughs 94 is on average at least 20 µm, preferably on average at least 25 µm,
- - the troughs 94 have an average spacing of at most 50 µm, preferably at most 40 µm,
- - the spacing of the recesses 94 within a row 35 is 0.5 to 2 times the row spacing 37, preferably 0.7 to 1.4 times, in particular 0.9 to 1.1 times the row spacing 37,
- - the distance between adjacent troughs 94 is in the range of 25 µm to 35 µm.
Bei diesen Abständen ist jeweils der Mittenabstand gemeint.These distances refer to the center-to-center distance.
In einer weiteren Ausführungsform können die filamentförmigen Schädigungen 33 auch entlang sich kreuzender Reihen 35, insbesondere in zueinander in einem Winkel von 120° verlaufender Reihen 35 eingefügt werden. In diesem Fall kann beispielsweise eine regelmäßige Anordnung von Mulden 94 in einem dreieckigen oder hexagonalen Muster erreicht werden. Eine solche Anordnung kann weitere Vorteile in Bezug auf die Festigkeit des Glaselements 1 an der Vertiefung 9 haben. Die Merkmale bezüglich der Mittenabstände können auch auf diese Ausführungsform angewendet werden, wobei hier mehrere Sätze von Reihen vorhanden sind, die sich kreuzen. Der Mittenabstand im Bereich von 25 µm bis 35 µm ist zudem unabhängig davon, ob die Mulden in Reihen angeordnet sind und ist auf ein hexagonales Muster oder Dreiecksmuster ebenso anwendbar.In a further embodiment, the filament-shaped defects 33 can also be inserted along intersecting rows 35, particularly in rows 35 running at an angle of 120° to each other. In this case, for example, a regular arrangement of depressions 94 in a triangular or hexagonal pattern can be achieved. Such an arrangement can offer further advantages with regard to the strength of the glass element 1 at the depression 9. The features concerning the center-to-center spacing can also be applied to this embodiment, where several sets of intersecting rows are present. The center-to-center spacing in the range of 25 µm to 35 µm is also independent of whether the depressions are arranged in rows and is equally applicable to a hexagonal or triangular pattern.
Um eine besonders ebene Bodenfläche 92 zu erreichen, ist es günstig, wenn die Streuung der Position, an welcher die filamentförmigen Schädigungen im Glas enden, beziehungsweise beginnen, eine möglichst geringe Streuung aufweist. Ein Vorteil ist hier, dass der Absorptionsprozess des Laserstrahls ohnehin nichtlinear ist, so dass auch eine gewisse Streuung der individuellen Intensitäten der Pulse oder Bursts örtlich bei Intensitätsabfall ein Unterschreiten der Modifikationsschwelle an ähnlichen axialen Koordinaten weniger beeinflusst. Zusätzlich ist es aber günstig, wenn der axiale Intensitätsverlauf des Laserstrahls so ist, dass an der axialen Position innerhalb des Glases, dort wo die filamentförmigen Schädigungen enden oder beginnen, eine große Änderung der Intensität in axialer Richtung vorliegt. Je steiler der Intensitätszuwachs oder -abfall in axialer Richtung ist, desto geringer wird die Streuung der axialen Koordinate der Grenze der Materialmodifikation des Glases. Dies kann mit einer geeigneten Optik erreicht werden. In Weiterbildung des Verfahrens wird dazu mittels einer geeigneten Laserbearbeitungsvorrichtung 20, insbesondere deren Fokussierungsoptik 23, der Laserstrahl 23 so fokussiert, dass zumindest 80 % der Gesamtintensität des langgezogenen Fokus innerhalb des axialen Bereichs zwischen den Punkten liegt, an welchem die Lichtintensität den halben Maximalwert überschreitet. Gemäß noch einer Weiterbildung kann dabei sogar zumindest 60% oder sogar zumindest 80% der gesamten Lichtintensität zwischen den Punkten liegen, an denen die Lichtintensität 80% des Maximalwerts überschreitet. Gemäß einer alternativen oder zusätzlichen Ausführungsform variiert die Maximalintensität des radialen Intensitätsprofils über 85% der Länge des langgezogenen Fokus um nicht mehr als 40%, vorzugsweise um nicht mehr als 20% von der mittleren Maximalintensität. Eine geeignete Vorrichtung hierzu ist beispielsweise aus der
Bei dem Beispiel der
In
Ein Glaselement 1 gemäß dieser Offenbarung kann bevorzugt in einem Verbundelement verwendet werden. Dabei ist das Glaselement mit einem weiteren Element, vorzugsweise einem Element aus sprödbrüchigem Material, besonders bevorzugt aus Glas, verbunden. Auch für das weitere Element schließt im Sinne dieser Offenbarung der Begriff eines Glases allgemein auch Glaskeramiken mit ein. Denkbar für das weitere Element sind aber auch andere Materialien, wie etwa Metalle. In diesem Fall bildet das Verbundelement also ein Glas-Metall-Verbundelement. In einer für viele Anwendungen vorteilhaften Ausgestaltung ist das Glaselement 1 mit der die Vertiefung 9 aufweisenden Seitenfläche mit dem weiteren Element verbunden. Ohne Beschränkung auf bestimmte Ausführungsformen und Beispiele betrifft diese Offenbarung also auch ein Verbundelement mit einem Glaselement 1 mit zumindest einer Vertiefung 9, wie es hierin beschrieben ist, sowie einem weiteren Element, wobei das Glaselement 1 mit einem weiteren Element verbunden ist, so dass die Vertiefung 9 von einer Seitenfläche 12 des weiteren Elements abgedeckt wird.A glass element 1 according to this disclosure can preferably be used in a composite element. The glass element is connected to another element, preferably an element made of a brittle material, particularly preferably glass. For the purposes of this disclosure, the term "glass" generally includes glass ceramics. However, other materials, such as metals, are also conceivable for the other element. In this case, the composite element thus forms a glass-metal composite element. In an embodiment advantageous for many applications, the glass element 1 is connected to the other element via its side surface having the recess 9. Without limiting itself to specific embodiments and examples, this disclosure also relates to a composite element comprising a glass element 1 having at least one recess 9, as described herein, and another element, wherein the glass element 1 is connected to the other element such that the recess 9 is covered by a side surface 12 of the other element.
Ein Beispiel eines solchen Verbundelements 4 zeigt
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform, die auch im dargestellten Beispiel der
Bei den bisher gezeigten Ausführungsformen, etwa bei dem Beispiel der
In den Beispielen der
Es ist dem Fachmann ersichtlich, dass die Ausführungsbeispiele der Figuren lediglich beispielhaft sind und vielfach abgewandelt, insbesondere auch miteinander kombiniert werden können. So ist in den
Weiterhin weisen die Vertiefungen 9, 91, 93 der dargestellten Beispiele nur in Bezug auf die Seitenflächen 2, 3 senkrecht verlaufende Wandflächen 90 auf. Diese Ausführungsform, mit einer Abweichung von der senkrechten Richtung von betragsmäßig kleiner als 5°, ist auch bevorzugt. Es ist aber auch möglich, durch Änderung der Fokuslage während des Abfahrens der Oberfläche in ganz einfacher Weise anders verlaufende, wie schräg liegende oder gestufte Wandflächen 90 herzustellen.Furthermore, the recesses 9, 91, 93 of the illustrated examples have wall surfaces 90 that extend perpendicularly only with respect to the side surfaces 2, 3. This embodiment, with a deviation from the perpendicular direction of less than 5° in magnitude, is also preferred. However, it is also possible to produce differently oriented wall surfaces 90, such as inclined or stepped ones, very simply by changing the focus position while scanning the surface.
BezugszeichenlisteReference symbol list
- 11
- GlaselementGlass element
- 2, 32, 3
- Seitenflächen von 1Side surfaces of 1
- 44
- VerbundelementComposite element
- 55
- Stegweb
- 66
- weiteres Elementfurther element
- 77
- Abschnitt von Steg 5 mit Breite kleiner 3 mmSection of bridge 5 with a width of less than 3 mm
- 88
- DurchgangsöffnungPassage opening
- 9, 91, 939, 91, 93
- Vertiefungin-depth
- 1010
- AusgangselementOutput element
- 1111
- Außenkontur des Glaselements 1Outer contour of glass element 1
- 12, 1312, 13
- Seitenflächen von 6Side surfaces of 6
- 1515
- RecheneinrichtungComputer system
- 1616
- ZugangsöffnungAccess opening
- 1717
- PositioniereinrichtungPositioning device
- 1919
- TrägerelementSupport element
- 2020
- LaserbearbeitungsvorrichtungLaser processing device
- 2121
- elektrooptisches Bauteilelectro-optical component
- 2323
- FokussierungsoptikFocusing optics
- 2727
- Laserstrahllaser beam
- 3030
- UltrakurzpulslaserUltrashort pulse laser
- 32, 3332, 33
- filamentförmige Schädigungfilamentous damage
- 3535
- Reihe filamentförmiger Schädigungen 33Series of filamentous lesions 33
- 3636
- Abstand filamentförmiger Schädigungen 33 entlang einer Reihe 35Spacing of filamentous damage 33 along a row 35
- 3737
- ReihenabstandRow spacing
- 4040
- Ausschnitt in 1Excerpt in 1
- 4141
- Kavitätcavity
- 5050
- Wandfläche von 5Wall area of 5
- 51, 5251, 52
- Enden von 5Ends of 5
- 7373
- Auftreffpunkt von 27 auf 10Point of impact from 27 to 10
- 9090
- Wandfläche von 9Wall area of 9
- 9292
- Bodenfläche von 9Floor area of 9
- 9494
- Mulde in 92Mulde in 92
- 100100
- Kontur von 1Contour of 1
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNGQUOTES INCLUDED IN THE DESCRIPTION
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Zitierte PatentliteraturCited patent literature
- DE 10 2018 100 299 A1 [0003]DE 10 2018 100 299 A1 [0003]
- DE 102018 110 211 A1 [0003]DE 102018 110 211 A1 [0003]
- WO 2022/268585 A1 [0017]WO 2022/268585 A1 [0017]
- US 10 522963 B2 [0033]US 10 522963 B2 [0033]
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-
2024
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-
2025
- 2025-05-21 WO PCT/EP2025/063953 patent/WO2025252468A1/en active Pending
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