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DE102012208064A1 - Illumination optics for EUV projection lithography - Google Patents

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DE102012208064A1
DE102012208064A1 DE102012208064A DE102012208064A DE102012208064A1 DE 102012208064 A1 DE102012208064 A1 DE 102012208064A1 DE 102012208064 A DE102012208064 A DE 102012208064A DE 102012208064 A DE102012208064 A DE 102012208064A DE 102012208064 A1 DE102012208064 A1 DE 102012208064A1
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DE
Germany
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mirror
individual
illumination
facet
groups
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Application number
DE102012208064A
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German (de)
Inventor
Michael Patra
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
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Publication date
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Priority to JP2015511982A priority patent/JP6332758B2/en
Priority to PCT/EP2013/059016 priority patent/WO2013171071A1/en
Publication of DE102012208064A1 publication Critical patent/DE102012208064A1/en
Priority to US14/517,139 priority patent/US10126658B2/en
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Abstract

Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie dient zur Führung von Beleuchtungslicht hin zu einem Objektfeld, in dem eine Lithographiemaske anordenbar ist. Die Beleuchtungsoptik hat einen ersten Facettenspiegel (36), der eine Vielzahl von zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbaren Einzelspiegeln (26) aufweist. Letztere stellen Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (35a) zur Führung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln hin zum Objektfeld (5) bereit. Ein zweiter Facettenspiegel (20) der Beleuchtungsoptik ist dem ersten Facettenspiegel (36) im Strahlengang des Beleuchtungslichts (16) nachgeordnet. Der zweite Facettenspiegel (20) weist eine Mehrzahl von Facetten (34) auf, die jeweils zur Abbildung einer Gruppe (24a) der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (36) in das Objektfeld (5) über einen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35) beitragen. Die Bilder der Gruppen (24a) überlagern einander im Objektfeld (5). Zumindest einige der Einzelspiegel (260) gehören mindestens zwei Verschiedenen der Einzelspiegel-Gruppen (24a2, 24a3), die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (352, 353) einer eigenen zweiten Facette (342, 343) zugeordnet sind.An illumination optics for the EUV projection lithography serves to guide illumination light toward an object field in which a lithography mask can be arranged. The illumination optics has a first facet mirror (36) which has a multiplicity of individual mirrors (26) which can be switched between at least two tilt positions. The latter provide single-mirror illumination channels (35a) for guiding illumination light sub-beams toward the object field (5). A second facet mirror (20) of the illumination optics is arranged downstream of the first facet mirror (36) in the beam path of the illumination light (16). The second facet mirror (20) has a plurality of facets (34) each for imaging a group (24a) of the individual mirrors (26) of the first facet mirror (36) into the object field (5) via a group mirror illumination channel (35). contribute. The images of the groups (24a) overlap each other in the object field (5). At least some of the individual mirrors (260) include at least two different ones of the individual-mirror groups (24a2, 24a3), each of which is assigned its own second-mirror facet (342, 343) via its own group-mirror illumination channel (352, 353).

Description

Die Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie zur Führung von Beleuchtungslicht hin zu einem Objektfeld, in dem eine Lithographiemaske anordenbar ist. Ferner betrifft die Erfindung ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik und einer Projektionsoptik zur Abbildung des Objektfeldes in ein Bildfeld. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem, ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils, insbesondere eines Halbleiterchips, mit Hilfe einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage und ein derart hergestelltes mikro- beziehungsweise nanostrukturiertes Bauteil. The invention relates to an illumination optics for EUV projection lithography for guiding illumination light toward an object field in which a lithography mask can be arranged. Furthermore, the invention relates to a lighting system with such illumination optics and projection optics for imaging the object field in an image field. Furthermore, the invention relates to a projection exposure apparatus having such an illumination system, a method for producing a microstructured or nanostructured component, in particular a semiconductor chip, with the aid of such a projection exposure apparatus and a microstructured or nanostructured component produced in this way.

Eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art ist bekannt aus der US 2011/0001947 A1 .An illumination optics of the type mentioned is known from the US 2011/0001947 A1 ,

Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine Flexibilität bei der Einstellung verschiedener Beleuchtungsgeometrien beziehungsweise Beleuchtungssettings erhöht ist. It is an object of the present invention to further develop an illumination optics of the type mentioned at the outset in such a way that flexibility in setting different illumination geometries or illumination settings is increased.

Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine Beleuchtungsoptik mit den im Anspruch 1 angegebenen Merkmalen. This object is achieved by an illumination optical system with the features specified in claim 1.

Die Erfindung löst sich von der Vorgabe einer festen Zuordnung aller Einzelspiegel des ersten Facettenspiegels zu bestimmten Einzelspiegel-Gruppen, wobei jeder Einzelspiegel nur genau einer Einzelspiegel-Gruppe zugeordnet ist. Bei der erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik kann über die Verkippung der Einzelspiegel nicht nur ein Wechsel zwischen über die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle zugeordneten zweiten Facetten erfolgen, sondern es kann auch ein Wechsel der Gruppen-Zuordnung der Einzelspiegel zu jeweils einer Einzelspiegel-Gruppe erfolgen, die mindestens einer zweiten Facette über mindestens einen Gruppen-Ausleuchtungskanal zugeordnet ist. Ein und dieselbe Einzelspiegel-Gruppe kann je nach Kippstellung der Einzelspiegel verschiedenen zweiten Facetten über jeweils einen Gruppen-Ausleuchtungskanal zugeordnet sein. Dadurch, dass zumindest einige der Einzelspiegel zu mindestens zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen gehören können, kann bei gegebener Anzahl der Einzelspiegel des ersten Facettenspiegels eine viel größere Anzahl von Einzelspiegel-Gruppen gebildet werden, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal einer eigenen zweiten Facette zugeordnet sind, als dies bei der Gruppen-Zuordnung nach dem Stand der Technik möglich war. Mit einem ersten Facettenspiegel mit einer gegebenen Anzahl von Einzelspiegeln kann daher eine viel größere Anzahl von zweiten Facetten über jeweilige Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle ausgeleuchtet werden. Entsprechend erhöht sich die Anzahl der prinzipiell durch die Abbildung der Einzelspiegel-Gruppen über die Facetten des zweiten Facettenspiegels in das Beleuchtungsfeld erreichbaren Beleuchtungswinkelverteilungen und damit der erreichbaren Beleuchtungsgeometrien beziehungsweise Beleuchtungssettings. Umgekehrt kann eine gegebene Anzahl von geforderten Beleuchtungswinkelverteilungen mit einem ersten Facettenspiegel mit einer geringeren Anzahl von Einzelspiegeln erreicht werden. Die Facetten des zweiten Facettenspiegels können alleine oder zusammenwirkend mit Folgekomponenten der Beleuchtungsoptik zur Abbildung der jeweiligen Einzelspiegel-Gruppe des ersten Facettenspiegels in das Beleuchtungsfeld beitragen. Ein Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal ist die Gesamtheit aller Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle einer Einzelspiegel-Gruppe, die sich aufgrund der Abbildung über die zugehörige Facette des zweiten Facettenspiegels zur Beleuchtung des gesamten Beleuchtungsfeldes ergänzen. Eine Einzelspiegel-Gruppe kann als Urbild eines Beleuchtungsfeldes aufgefasst werden, in dem das Objektfeld angeordnet ist oder das mit dem Objektfeld zusammenfällt. Diese Urbilder haben jeweils im Wesentlichen das gleiche Aspektverhältnis. Auch die Einzelspiegel-Gruppen haben jeweils im Wesentlichen das gleiche Aspektverhältnis. Unterschiede im Aspektverhältnis, die aufgrund von Detailänderungen bei der Abbildung der jeweiligen Einzelspiegel-Gruppe in das Objektfeld aufgrund einer Änderung der Strahlgeometrie je nach der Kippstellung der Einzelspiegel auftreten, bleiben hierbei unberücksichtigt. Die Beleuchtung des Beleuchtungsfeldes stellt dann eine Überlagerung beziehungsweise Superposition der Urbilder im Beleuchtungsfeld dar, wobei die Urbilder jedenfalls im Objektfeld zusammenfallen. Verschiedene Einzelspiegel-Gruppen sind Einzelspiegel-Gruppen, die nicht aus den gleichen Einzelspiegeln zusammengesetzt sind. Bei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen gibt es also immer mindestens einen Einzelspiegel, der nicht beiden Einzelspiegel-Gruppen gleichzeitig zugehört. Ein und dieselbe Einzelspiegel-Gruppe kann, wie oben bereits erwähnt, je nach Kippstellung verschiedenen zweiten Facetten zugeordnet sein. Die Zuordnung der Einzelspiegel zur jeweiligen Einzelspiegel-Gruppe und die Zuordnung der jeweiligen Einzelspiegel-Gruppen zur jeweiligen zweiten Facette erfolgt durch Vorgabe der entsprechenden Stellung bzw. Schaltstellung der zu der jeweils ausgebildeten Einzelspiegel-Gruppe gehörenden Einzelspiegel.The invention is based on the specification of a fixed assignment of all individual mirrors of the first facet mirror to specific individual mirror groups, wherein each individual mirror is assigned to exactly one single mirror group. In the case of the illumination optics according to the invention, not only a change between the second facets assigned via the individual mirror illumination channels can take place via the tilting of the individual mirrors, but a change in the group assignment of the individual mirrors to one individual mirror group can also take place, the at least one second facet is assigned via at least one group illumination channel. Depending on the tilting position of the individual mirrors, one and the same individual mirror group can be assigned to different second facets via a respective group illumination channel. By virtue of the fact that at least some of the individual mirrors can belong to at least two different individual-mirror groups, given a given number of individual mirrors of the first facet mirror, a much greater number of individual-mirror groups can be formed, each of which is assigned its own second facet via its own group-mirror illumination channel are, as was possible in the group assignment according to the prior art. Thus, with a first facet mirror having a given number of individual mirrors, a much larger number of second facets can be illuminated via respective group mirror illumination channels. Correspondingly, the number of illumination angle distributions achievable, in principle, by the imaging of the individual mirror groups via the facets of the second facet mirror into the illumination field, and thus of the achievable illumination geometries or illumination settings, is increased. Conversely, a given number of required illumination angle distributions may be achieved with a first facet mirror having a smaller number of individual mirrors. The facets of the second facet mirror may contribute alone or in cooperation with follow-on components of the illumination optics for imaging the respective individual mirror group of the first facet mirror into the illumination field. A group mirror illumination channel is the entirety of all individual mirror illumination channels of a single mirror group, which complement each other due to the image via the associated facet of the second facet mirror for illuminating the entire illumination field. An individual mirror group can be understood as a prototype of an illumination field in which the object field is arranged or which coincides with the object field. These archetypes each have essentially the same aspect ratio. The individual mirror groups also each have essentially the same aspect ratio. Differences in the aspect ratio, which occur due to changes in detail in the image of the respective individual mirror group in the object field due to a change in the beam geometry depending on the tilt position of the individual mirrors remain disregarded. The illumination of the illumination field then represents a superimposition or superposition of the original images in the illumination field, wherein the original images in any case coincide in the object field. Different single-mirror groups are single-mirror groups that are not composed of the same individual mirrors. In the case of different single-mirror groups, there is always at least one individual mirror that does not listen to both individual-mirror groups at the same time. One and the same individual mirror group can, as already mentioned above, be assigned to different second facets depending on the tilted position. The assignment of the individual mirror to the respective individual mirror group and the assignment of the respective individual mirror groups to the respective second facet takes place by presetting the corresponding position or switching position of the individual mirror belonging to the respective trained individual mirror.

Eine Zuordnung der Einzelspiegel nach Anspruch 2 führt zu einer besonders großen Beleuchtungsflexibilität. An assignment of the individual mirrors according to claim 2 leads to a particularly high illumination flexibility.

Eine Zuordnung nach Anspruch 3 vermeidet, dass die jeweiligen Einzelspiegel zu viele verschiedene Kippstellungen einnehmen müssen, um die jeweilige Gruppen-Zuordnung zu erreichen. Entsprechendes gilt für die Zuordnung nach Anspruch 4. An assignment according to claim 3 avoids that the respective individual mirrors have to take too many different tilt positions in order to achieve the respective group assignment. The same applies to the assignment according to claim 4.

Bei der Zuordnung nach Anspruch 5 überlappen jeweils maximal zwei der Einzelspiegel-Gruppen, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal einer eigenen zweiten Facette zugeordnet sind. Auch dies trägt dazu bei, die Anforderungen an eine Kipp-Verstellung der Einzelspiegel moderat zu halten. In the case of the assignment according to claim 5, in each case a maximum of two of the individual mirror groups, which in each case are assigned to a separate second facet via a separate group mirror illumination channel, overlap. This also helps to keep moderate the requirements for a tilt adjustment of the individual mirror.

Ein Überlapp nach Anspruch 6 hat sich für die Praxis als geeignet herausgestellt. Der Überlappbereich kann insbesondere ganze Zeilen oder Spalten von Einzelspiegeln umfassen. An overlap according to claim 6 has been found to be suitable in practice. The overlapping area may in particular comprise entire rows or columns of individual mirrors.

Auch eine Zuordnung nach Anspruch 7 hält die Anforderungen an eine Verkippbarkeit der Einzelspiegel moderat. An assignment according to claim 7 also holds the requirements for a tiltability of the individual levels moderate.

Die Vorteile eines Beleuchtungssystems nach Anspruch 8, einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 9, eines Herstellungsverfahrens nach Anspruch 11 und eines Bauteils nach Anspruch 12 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die erfindungsgemäße Beleuchtungsoptik bereits erläutert wurden. Bei einer Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 10 können Einzelspiegel zum Einsatz kommen, die im Wesentlichen um eine Achse verkippbar ausgeführt sind. Grundsätzlich ist es auch möglich, dass mindestens zwei der Einzelspiegel-Gruppen in einer Dimension quer zur Verlagerungsrichtung überlappen. Auch ein Überlapp von mindestens zwei der Einzelspiegel-Gruppen gleichzeitig längs und quer zur Verlagerungsrichtung ist möglich. The advantages of a lighting system according to claim 8, a projection exposure apparatus according to claim 9, a manufacturing method according to claim 11 and a component according to claim 12 correspond to those which have already been explained above with reference to the illumination optics according to the invention. In a projection exposure apparatus according to claim 10, individual mirrors may be used, which are designed essentially tiltable about an axis. In principle, it is also possible for at least two of the individual mirror groups to overlap in one dimension transversely to the direction of displacement. An overlap of at least two of the individual mirror groups simultaneously along and transversely to the direction of displacement is possible.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:Embodiments of the invention will be explained in more detail with reference to the drawing. Show it:

1 schematisch einen Meridionalschnitt durch eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithographie; 1 schematically a meridional section through a projection exposure system for EUV projection lithography;

2 schematisch eine Aufsicht auf einen Ausschnitt eines aus Einzelspiegel aufgebauten Feldfacettenspiegel zum Einsatz in der Projektionsbelichtungsanlage nach 1; 2 schematically a plan view of a section of a built-up from individual mirror field facet mirror for use in the projection exposure system according to 1 ;

3 eine Ansicht eines Ausschnitts einer Einzelspiegel-Zeile des Facettenspiegels nach 2 aus Blickrichtung III in 2; 3 a view of a section of a single mirror row of facet mirror behind 2 from viewing direction III in 2 ;

4 bis 6 stark schematisch verschiedene Formen einer aus den Einzelspiegeln der in der 3 dargestellten Einzelspiegel-Zeile gebildeten Zeilen-Reflexionsfläche in drei verschiedenen Konfigurationen; 4 to 6 very schematically different forms one of the individual mirrors of the 3 illustrated single-row mirror row reflective surface in three different configurations;

7 eine Aufsicht auf einen Ausschnitt einer Ausführung eines aus Einzelspiegeln aufgebauten Feldfacettenspiegels mit einer beispielhaften Gruppierung der Einzelspiegel in eine Anordnung von Einzelspiegel-Gruppen; 7 a plan view of a portion of an embodiment of a built-up of individual mirrors field facet mirror with an exemplary grouping of the individual mirror in an array of individual mirror groups;

8 und 9 Beispiele verschiedener Gruppierungen der Einzelspiegel des Facettenspiegels nach 2 in Einzelspiegel-Gruppen mit einer Gruppierungs-Zuordnung derart, dass einige der Einzelspiegel zu mindestens zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen gehören, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal einer eigenen zweiten Facette eines in den 8 und 9 jeweils links ebenfalls in einer Aufsicht dargestellten zweiten Facettenspiegels zugeordnet sind; 8th and 9 Examples of different groupings of the individual mirrors of the facet mirror 2 in single-mirror groups with a grouping assignment such that some of the individual mirrors belong to at least two different individual-mirror groups, each of which has its own group-mirror illumination channel of its own second facet in the 8th and 9 are also assigned to the left side also shown in a plan view of the second facet mirror;

10 stark schematisch eine Aufsicht auf einen Ausschnitt einer weiteren Ausführung eines aus Einzelspiegeln aufgebauten Feldfacettenspiegels mit einer Gruppierungs-Zuordnung der Einzelspiegel derart, dass einige der Einzelspiegel zu mindestens zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen gehören, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal einer eigenen zweiten Facette eines in der 10 rechts ebenfalls in einer Aufsicht dargestellten zweiten Facettenspiegels zugeordnet sind. 10 very schematically a plan view of a portion of another embodiment of a built-up of individual mirrors field facet mirror with a grouping assignment of the individual mirror such that some of the individual mirrors belong to at least two different individual mirror groups, each with its own group mirror illumination channel of its own second facet in the 10 are also assigned right side in a plan view shown second facet mirror.

1 zeigt schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für die Mikro-Lithographie. Zur Projektionsbelichtungsanlage 1 gehört eine Strahlungsquelle 2. Ein Beleuchtungssystem 3 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat eine Beleuchtungsoptik 4 zur Belichtung eines mit einem Objektfeld 5 zusammenfallenden Beleuchtungsfeldes in einer Objektebene 6. Das Beleuchtungsfeld kann auch größer sein als das Objektfeld 5. Belichtet wird hierbei ein Objekt in Form eines im Objektfeld 5 angeordneten Retikels 7, das von einem Objekt- beziehungsweise Retikelhalter 8 gehalten ist. Der Objekthalter 8 ist über einen Objektverlagerungsantrieb 9 längs einer Verlagerungsrichtung verlagerbar. Eine Projektionsoptik 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 11 in einer Bildebene 12. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 11 in der Bildebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem ebenfalls nicht dargestellten Waferhalter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über eine Waferverlagerungsantrieb 15 synchronisiert zum Objekthalter 8 ebenfalls längs der Verlagerungsrichtung verlagerbar. 1 schematically shows in a meridional section a projection exposure system 1 for micro-lithography. To the projection exposure system 1 belongs to a radiation source 2 , A lighting system 3 the projection exposure system 1 has a lighting look 4 to expose one with an object field 5 coincident illumination field in an object plane 6 , The illumination field can also be larger than the object field 5 , An object in the form of an object field is exposed in this case 5 arranged reticle 7 that of an object or reticle holder 8th is held. The object holder 8th is about a object displacement drive 9 displaceable along a displacement direction. A projection optics 10 serves to represent the object field 5 in a picture field 11 in an image plane 12 , A structure is shown on the reticle 7 on a photosensitive layer in the area of the image field 11 in the picture plane 12 arranged wafers 13 , The wafer 13 is from a wafer holder, also not shown 14 held. The wafer holder 14 is about a wafer displacement drive 15 synchronized to the object holder 8th also displaceable along the displacement direction.

Bei der Strahlungsquelle 2 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, gasdischarge-produced plasma) oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Laser, laser-produced plasma) handeln. Auch eine Strahlungsquelle, die auf einem Synchrotron oder auf einem freien Elektronenlaser (FEL) basiert, ist für die Strahlungsquelle 2 einsetzbar. Informationen zu einer derartigen Strahlungsquelle findet der Fachmann beispielsweise aus der US 6,859,515 B2 . EUV-Strahlung 16, die von der Strahlungsquelle 2 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt. Ein entsprechender Kollektor ist aus der EP 1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor 17 propagiert die EUV-Strahlung 16 durch eine Zwischenfokusebene 18, bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel 19 trifft. Der Feldfacettenspiegel 19 ist ein erster Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 4. Der Feldfacettenspiegel 19 hat eine Vielzahl von Einzelspiegeln, die in der 1 nicht dargestellt sind. Der Feldfacettenspiegel 19 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Objektebene 6 optisch konjugiert ist. At the radiation source 2 it is an EUV radiation source with an emitted useful radiation in the range between 5 nm and 30 nm. It can be a plasma source, for example a GDPP source (plasma generation by gas discharge, gasdischarge-produced plasma) or an LPP source (plasma generation by laser, laser-produced plasma). Also, a radiation source based on a synchrotron or on a free electron laser (FEL) is for the radiation source 2 used. Information about such a radiation source is the expert, for example from the US Pat. No. 6,859,515 B2 , EUV radiation 16 coming from the radiation source 2 emanating from a collector 17 bundled. A corresponding collector is from the EP 1 225 481 A known. After the collector 17 propagates the EUV radiation 16 through an intermediate focus level 18 before moving to a field facet mirror 19 meets. The field facet mirror 19 is a first facet mirror of the illumination optics 4 , The field facet mirror 19 has a variety of individual mirrors in the 1 are not shown. The field facet mirror 19 is in a plane of illumination optics 4 arranged to the object level 6 is optically conjugated.

Die EUV-Strahlung 16 wird nachfolgend auch als Beleuchtungslicht oder als Abbildungslicht bezeichnet. The EUV radiation 16 is hereinafter also referred to as illumination light or as imaging light.

Nach dem Feldfacettenspiegel 19 wird die EUV-Strahlung 16 von einem Pupillenfacettenspiegel 20 reflektiert. Der Pupillenfacettenspiegel 20 ist ein zweiter Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik 4. Der Pupillenfacettenspiegel 20 ist in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die zur Zwischenfokusebene 18 und zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 10 optisch konjugiert ist oder mit dieser Pupillenebene zusammenfällt. Der Pupillenfacettenspiegel 20 hat eine Mehrzahl von Pupillenfacetten, die in der 1 nicht dargestellt sind. Mit Hilfe der Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels 20 und einer nachfolgenden abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 21 mit in der Reihenfolge des Strahlengangs bezeichneten Spiegeln 22, 23 und 24 werden nachfolgend noch näher beschriebene Einzelspiegel-Gruppen 24a (vgl. 7) des Feldfacettenspiegels 19 in das Objektfeld 5 abgebildet. Der letzte Spiegel 24 der Übertragungsoptik 21 ist ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing Incidence-Spiegel“).After the field facet mirror 19 becomes the EUV radiation 16 from a pupil facet mirror 20 reflected. The pupil facet mirror 20 is a second facet mirror of the illumination optics 4 , The pupil facet mirror 20 is in a pupil plane of the illumination optics 4 arranged to the Zwischenfokusebene 18 and to a pupil plane of the projection optics 10 is optically conjugated or coincides with this pupil plane. The pupil facet mirror 20 has a plurality of pupil facets in the 1 are not shown. With the help of the pupil facets of the pupil facet mirror 20 and a subsequent imaging optical assembly in the form of a transmission optics 21 with mirrors in the order of the beam path 22 . 23 and 24 will be described in more detail below individual mirror groups 24a (see. 7 ) of the field facet mirror 19 in the object field 5 displayed. The last mirror 24 the transmission optics 21 is a grazing incidence mirror.

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 1 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem als globales Koordinatensystem für die Beschreibung der Lageverhältnisse von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage 1 zwischen der Objektebene 6 und der Bildebene 12 eingezeichnet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Achse verläuft in der 1 nach rechts und parallel zur Verlagerungsrichtung des Objekthalters 8 und des Waferhalters 14. Die z-Achse verläuft in der 1 nach unten, also senkrecht zur Objektebene 6 und zur Bildebene 12. To facilitate the description of positional relationships is in the 1 a Cartesian xyz coordinate system as a global coordinate system for the description of the positional relationships of components of the projection exposure apparatus 1 between the object plane 6 and the picture plane 12 located. The x-axis runs in the 1 perpendicular to the drawing plane into this. The y-axis runs in the 1 to the right and parallel to the direction of displacement of the object holder 8th and the wafer holder 14 , The z-axis runs in the 1 down, that is perpendicular to the object plane 6 and to the picture plane 12 ,

2 zeigt Details des Aufbaus des Feldfacettenspiegels 19 in einer stark schematischen Darstellung. Eine gesamte Reflexionsfläche 25 des Feldfacettenspiegels 19 ist zeilen- und spaltenweise unterteilt in ein Raster aus Einzelspiegeln 26. Die Einzelreflexions-Flächen der individuellen Einzelspiegel 26 sind plan und weisen keine Krümmung auf. Eine Einzelspiegel-Zeile 27 weist eine Mehrzahl der direkt nebeneinander liegenden Einzelspiegel 26 auf. In einer Einzelspiegel-Zeile 27 können mehrere zehn bis mehrere hundert der Einzelspiegel 26 vorgesehen sein. Im Beispiel nach 2 sind die Einzelspiegel 26 quadratisch. Auch andere Formen von Einzelspiegeln, die eine möglichst lückenlose Belegung der Reflexionsfläche 20 ermöglichen, können eingesetzt sein. Derartige alternative Einzelspiegel-Formen sind aus der mathematischen Theorie der Parkettierung bekannt. In diesem Zusammenhang sei verwiesen auf die in der WO 2009/100 856 A1 angegebenen Referenzen. 2 shows details of the construction of the field facet mirror 19 in a very schematic representation. An entire reflection surface 25 of the field facet mirror 19 is divided into rows and columns into a grid of individual mirrors 26 , The single reflection surfaces of the individual individual mirrors 26 are flat and have no curvature. A single-mirror line 27 has a plurality of directly adjacent individual mirrors 26 on. In a single-mirror line 27 can be several tens to several hundred of the individual mirrors 26 be provided. In the example below 2 are the individual mirrors 26 square. Other forms of individual mirrors, the most complete occupation of the reflection surface 20 can be used. Such alternative single mirror shapes are known from the mathematical theory of tiling. In this context, reference should be made to those in the WO 2009/100 856 A1 specified references.

Eine Einzelspiegel-Spalte 28 hat, je nach Ausführung des Feldfacettenspiegels 19, ebenfalls eine Mehrzahl der Einzelspiegel 26. Pro Einzelspiegel-Spalte 28 sind beispielsweise einige zehn oder einige hundert der Einzelspiegel 26 vorgesehen. A single mirror column 28 has, depending on the design of the field facet mirror 19 , also a plurality of individual mirrors 26 , Per single-mirror column 28 are, for example, a few tens or a few hundred of the individual levels 26 intended.

Zur Erleichterung der Beschreibung von Lagebeziehungen ist in der 2 ein kartesisches xyz-Koordinatensystem als lokales Koordinatensystem des Feldfacettenspiegels 19 eingezeichnet. Entsprechende lokale xyz-Koordinatensysteme finden sich auch in den nachfolgenden Figuren, die Facettenspiegel oder einen Ausschnitt hiervon in Aufsicht zeigen. In der 2 verläuft die x-Achse horizontal nach rechts parallel zu den Einzelspiegel-Zeilen 27. Die y-Achse läuft in der 2 nach oben parallel zu den Einzelspiegel-Spalten 28. Die z-Achse steht senkrecht auf der Zeichenebene der 2 und läuft aus dieser heraus.To facilitate the description of positional relationships is in the 2 a Cartesian xyz coordinate system as the local coordinate system of the field facet mirror 19 located. Corresponding local xyz coordinate systems can also be found in the following figures, which show facet mirrors or a section thereof in a top view. In the 2 the x-axis runs horizontally to the right parallel to the individual mirror lines 27 , The y-axis runs in the 2 upwards parallel to the individual mirror columns 28 , The z-axis is perpendicular to the plane of the 2 and runs out of this.

Die y-Richtung des globalen Koordinatensystems nach 1, also die Verlagerungsrichtung für das Retikel 7 und den Wafer 13, und die y-Richtung des lokalen Koordinatensystems nach 2, also die Spaltenrichtung des Einzelspiegel-Arrays, müssen nicht exakt parallel zueinander verlaufen, sondern können einen zum Beispiel kleinen Winkel zueinander einnehmen. The y direction of the global coordinate system after 1 , ie the direction of displacement for the reticle 7 and the wafer 13 , and the y direction of the local coordinate system 2 , So the column direction of the single-mirror array, do not have to be exactly parallel to each other, but can take a small angle to each other, for example.

In x-Richtung hat die Reflexionsfläche 25 des Feldfacettenspiegels 19 eine Erstreckung von x0. In y-Richtung hat die Reflexionsfläche 25 des Feldfacettenspiegels 19 eine Erstreckung von y0. In the x-direction has the reflection surface 25 of the field facet mirror 19 an extension of x 0 . In the y-direction has the reflection surface 25 of the field facet mirror 19 an extension of y 0 .

Je nach Ausführung des Feldfacettenspiegels 19 haben die Einzelspiegel 26 x/y-Erstreckungen im Bereich beispielsweise von 500 μm × 500 μm bis beispielsweise 2 mm × 2 mm. Die Einzelspiegel 26 können so geformt sein, dass sie eine bündelnde Wirkung für das Beleuchtungslicht 16 haben. Eine derartige bündelnde Wirkung der Einzelspiegel 26 ist besonders beim Einsatz einer divergenten Beleuchtung des Feldfacettenspiegels 19 mit dem Beleuchtungslicht 16 von Vorteil. Der gesamte Feldfacettenspiegel 19 hat eine x0/y0-Erstreckung, die je nach Ausführung beispielsweise 300 mm × 300 mm oder 600 mm × 600 mm beträgt. Die Einzelspiegel-Gruppen 24a (vgl. 7) haben typische x/y-Erstreckungen von 25 mm × 4 mm oder von 104 mm × 8 mm. Je nach dem Verhältnis zwischen der Größe der jeweiligen Einzelspiegel-Gruppen 24a und der Größe der Einzelspiegel 26, die diese Einzelspiegel-Gruppen 24a aufbauen, weist jede der Einzelspiegel-Gruppen 24a eine entsprechende Anzahl von Einzelspiegeln 26 auf. Depending on the version of the field facet mirror 19 have the individual mirrors 26 x / y extensions in the range, for example, of 500 .mu.m.times.500 .mu.m to, for example, 2 mm.times.2 mm. The individual mirrors 26 can be shaped to have a focusing effect on the illumination light 16 to have. Such a bundling effect of the individual mirror 26 especially when using a divergent illumination of the field facet mirror 19 with the illumination light 16 advantageous. The entire field facet mirror 19 has an x 0 / y 0 extension which, depending on the design, is for example 300 mm × 300 mm or 600 mm × 600 mm. The single-mirror groups 24a (see. 7 ) have typical x / y dimensions of 25 mm x 4 mm or 104 mm x 8 mm. Depending on the relationship between the size of each individual mirror groups 24a and the size of the individual mirror 26 who have these individual mirror groups 24a Build, assigns each of the individual mirror groups 24a a corresponding number of individual mirrors 26 on.

Jeder der Einzelspiegel 26 ist zur individuellen Ablenkung von auftreffendem Beleuchtungslicht 16 jeweils mit einem Aktor beziehungsweise Aktuator 29 verbunden, wie in der 2 anhand zweier in einer Ecke links unten der Reflexionsfläche 25 angeordneten Einzelspiegel 26 gestrichelt angedeutet und näher in der 3 anhand eines Ausschnitts einer Einzelspiegel-Zeile 27 dargestellt. Die Aktuatoren 29 sind auf der einer reflektierenden Seite der Einzelspiegel 26 abgewandten Seite jedes der Einzelspiegel 26 angeordnet. Die Aktuatoren 29 können beispielsweise als Piezo-Aktuatoren ausgeführt sein. Ausgestaltungen derartiger Aktuatoren sind vom Aufbau von Mikrospiegel-Arrays her bekannt. Each of the individual mirrors 26 is for the individual distraction of incident illumination light 16 each with an actuator or actuator 29 connected, as in the 2 based on two in a corner at the bottom left of the reflection surface 25 arranged individual mirrors 26 indicated by dashed lines and closer in the 3 based on a detail of a single-mirror row 27 shown. The actuators 29 are on the one reflective side of the individual mirror 26 opposite side of each of the individual mirrors 26 arranged. The actuators 29 For example, they can be designed as piezoactuators. Embodiments of such actuators are known from the structure of micromirror arrays ago.

Die Aktuatoren 29 einer Einzelspiegel-Zeile 27 sind jeweils über Signalleitungen 30 mit einem Zeilen-Signalbus 31 verbunden. Jeweils einem der Zeilen-Signalbusse 31 ist eine Einzelspiegel-Zeile 27 zugeordnet. Die Zeilen-Signalbusse 31 der Einzelspiegel-Zeilen 27 sind ihrerseits mit einem Haupt-Signalbus 32 verbunden. Letzterer steht mit einer Steuereinrichtung 33 des Feldfacettenspiegels 19 in Signalverbindung. Die Steuereinrichtung 33 ist insbesondere zur reihenweise, also zeilen- oder spaltenweise gemeinsamen Ansteuerung der Einzelspiegel 26 ausgeführt. Auch innerhalb der Einzelspiegel-Zeilen 27 und der Einzelspiegel-Spalten 28 ist eine individuelle Ansteuerung der Einzelspiegel 26 möglich. The actuators 29 a single-mirror line 27 are each via signal lines 30 with a line signal bus 31 connected. Each one of the line signal buses 31 is a single-mirror line 27 assigned. The line signal buses 31 the single-mirror lines 27 are in turn with a main signal bus 32 connected. The latter is connected to a control device 33 of the field facet mirror 19 in signal connection. The control device 33 is in particular the rows, so line or column-wise common control of the individual mirror 26 executed. Also within the single mirror lines 27 and the single-mirror columns 28 is an individual control of the individual mirrors 26 possible.

Jeder der Einzelspiegel 26 ist individuell unabhängig um zwei senkrecht aufeinander stehende Kippachsen verkippbar, wobei eine erste dieser Kippachsen parallel zur x-Achse und die zweite dieser beiden Kippachsen parallel zur y-Achse verläuft. Die beiden Kippachsen liegen in den Einzel-Reflexionsflächen der jeweiligen Einzelspiegel 26. Each of the individual mirrors 26 is independently tiltable about two mutually perpendicular tilt axes, with a first of these tilt axes parallel to the x-axis and the second of these two tilt axes parallel to the y-axis. The two tilt axes lie in the individual reflection surfaces of the respective individual mirrors 26 ,

Zusätzlich ist mittels der Aktuatoren 29 noch eine individuelle Verlagerung der Einzelspiegel 26 in z-Richtung möglich. Die Einzelspiegel 26 sind also separat voneinander ansteuerbar längs einer Normalen auf die Reflexionsfläche 25 verlagerbar. Hierdurch kann die Topographie der Reflexionsfläche 25 insgesamt verändert werden. Dies ist stark schematisch beispielhaft anhand der 4 bis 6 dargestellt. Dadurch können auch Konturen der Reflexionsfläche mit großen Pfeilhöhen, also großen Variationen in der Topografie der Reflexionsfläche, in Form von insgesamt in einer Ebene angeordneten Spiegelabschnitten nach Art von Fresnel-Linsen gefertigt werden. Eine Grundkrümmung einer derartigen Spiegelflächentopografie mit großer Pfeilhöhe wird durch eine solche Unterteilung in Abschnitte nach Art von Fresnel-Zonen eliminiert. In addition, by means of the actuators 29 still an individual shift of the individual mirror 26 in z-direction possible. The individual mirrors 26 are therefore separately controllable along a normal to the reflection surface 25 displaced. This allows the topography of the reflection surface 25 be changed altogether. This is very schematically exemplified by the 4 to 6 shown. As a result, it is also possible to produce contours of the reflection surface with large arrow heights, that is to say large variations in the topography of the reflection surface, in the form of mirror sections arranged overall in one plane in the manner of Fresnel lenses. A base curve of such a mirror-image topography with large arrow height is eliminated by such a division into sections in the manner of Fresnel zones.

4 zeigt Einzel-Reflexionsflächen der Einzelspiegel 26 eines Ausschnitts einer Einzelspiegel-Zeile 27, wobei alle Einzelspiegel 26 dieser Einzelspiegel-Zeile 27 über die Steuereinrichtung 33 und die Aktuatoren 29 in die gleiche absolute z-Position gestellt sind. Es resultiert eine ebene Zeilen-Reflexionsfläche der Einzelspiegel-Zeile 27. Wenn alle Einzelspiegel 26 des Feldfacettenspiegels 19 entsprechend der 4 ausgerichtet sind, ist die gesamte Reflexionsfläche 25 des Feldfacettenspiegels 19 eben. 4 shows single reflection surfaces of the individual mirrors 26 a section of a single-mirror line 27 , where all individual mirrors 26 this single-mirror line 27 via the control device 33 and the actuators 29 are placed in the same absolute z-position. The result is a flat line reflection surface of the single-mirror line 27 , If all individual mirrors 26 of the field facet mirror 19 according to the 4 are aligned, is the entire reflection surface 25 of the field facet mirror 19 just.

5 zeigt eine Ansteuerung der Einzelspiegel 26 der Einzelspiegel-Zeile 27, bei der der mittige Einzelspiegel 26 m gegenüber benachbarten Einzelspiegeln 26 r1, 26 r2, 26 r3 in negativer z-Richtung versetzt eingestellt ist. Hierdurch ergibt sich eine Stufenanordnung, die zu einem entsprechenden Phasenversatz der auf die Einzelspiegel-Zeile 27 nach 5 auftreffenden EUV-Strahlung 16 führt. Die von den beiden mittigen Einzelspiegeln 26 m reflektierte EUV-Strahlung 16 wird dabei am stärksten phasenverzögert. Die randseitigen Einzelspiegel 26 r3 erzeugen die geringste Phasenverzögerung. Die zwischenliegenden Einzelspiegel 26 r1, 26 r2 erzeugen entsprechend stufenweise eine, ausgehend von der Phasenverzögerung durch die mittigen Einzelspiegel 26 m zunehmend geringere Phasenverzögerung. 5 shows a control of the individual mirrors 26 the single-mirror line 27 in which the central single mirror 26 m opposite adjacent individual mirrors 26 r1 , 26 r2 , 26 r3 is set offset in the negative z-direction. This results in a step arrangement which results in a corresponding phase offset of the individual mirror row 27 to 5 incident EUV radiation 16 leads. The of the two central individual mirrors 26 m reflected EUV radiation 16 is thereby phase-delayed the most. The marginal single mirror 26 r3 generate the least phase delay. The intermediate individual mirror 26 r1 , 26 r2 generate a corresponding stepwise, starting from the phase delay through the central individual mirror 26 m increasingly lower phase delay.

6 zeigt eine Ansteuerung der Einzelspiegel 26 des dargestellten Ausschnitts der Einzelspiegel-Zeile 27 derart, dass durch den Versatz der Einzelspiegel 26 gegeneinander in z-Richtung einerseits und die Orientierung der Einzelspiegel 26 zueinander andererseits insgesamt eine konvex geformte Einzelspiegel-Zeile 27 resultiert. Dies kann zur Erzeugung einer abbildenden Wirkung von Einzelspiegel-Gruppen des Feldfacettenspiegels 19 genutzt werden. In gleicher Weise ist natürlich auch beispielsweise eine konkave Anordnung von Gruppen der Einzelspiegel 26 möglich. 6 shows a control of the individual mirrors 26 the illustrated section of the single-mirror row 27 such that by the offset of the individual mirror 26 against each other in the z-direction on the one hand and the orientation of the individual mirrors 26 on the other hand, on the other hand, a total of a convex shaped single-mirror row 27 results. This can produce an imaging effect of single-mirror groups of the field facet mirror 19 be used. In the same way, of course, for example, a concave arrangement of groups of individual mirrors 26 possible.

Entsprechende Formgestaltungen, wie vorstehend unter Bezugnahme auf die 5 und 6 erläutert, sind nicht auf die x-Dimension beschränkt, sondern können, je nach Ansteuerung über die Steuereinrichtung 33, auch über die y-Dimension des Feldfacettenspiegels 19 fortgesetzt werden. Corresponding shapes, as described above with reference to the 5 and 6 are not limited to the x-dimension, but can, depending on the control via the control device 33 , also about the y-dimension of the field facet mirror 19 to be continued.

Durch die individuelle Ansteuerung der Aktuatoren 29 über die Steuereinrichtung 33 ist eine vorgegebene Kipp-Gruppierung der Einzelspiegel 26 in die vorstehend schon erwähnten Einzelspiegel-Gruppen 24a aus je mindestens zwei Einzelspiegeln 26 einstellbar. Die Einzelspiegel-Gruppen 24a sind jeweils über mindestens einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal für das Beleuchtungslicht 16 mindestens einer eigenen Pupillenfacette des Pupillenfacettenspiegels 20 zur Abbildung der Einzelspiegel-Gruppe 24a in das Objektfeld 5 zugeordnet. Diese Zuordnung erfolgt durch Vorgabe der jeweiligen Kippstellung bzw. Schaltstellung der zur Einzelspiegel-Gruppe 24a gehörenden Einzelspiegel. Der Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal ist dabei die Gesamtheit aller Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle der jeweiligen Einzelspiegel-Gruppe 24a, die sich aufgrund der Abbildung über die Pupillenfacette zur Beleuchtung des gesamten Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeldes 5 ergänzen. Jede der Einzelspiegel-Gruppen 24a kann daher als Urbild des Beleuchtungsfeldes 5 aufgefasst werden. Die Gesamtbeleuchtung des Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeldes 5 stellt dann eine Superposition dieser Urbilder dar. Due to the individual actuation of the actuators 29 via the control device 33 is a given tilt grouping of the individual mirrors 26 in the above-mentioned single-mirror groups 24a from at least two individual mirrors 26 adjustable. The single-mirror groups 24a each have at least one separate group mirror illumination channel for the illumination light 16 at least one pupil facet of the pupil facet mirror 20 for imaging the single-mirror group 24a in the object field 5 assigned. This assignment is made by specifying the respective tilt position or switching position of the individual mirror group 24a belonging individual mirror. The group mirror illumination channel is the totality of all individual mirror illumination channels of the respective individual mirror group 24a , which, due to the image on the pupil facet, illuminate the entire illumination or object field 5 complete. Each of the individual mirror groups 24a can therefore be used as a prototype of the lighting field 5 be understood. The total illumination of the illumination or object field 5 then represents a superposition of these archetypes.

Jeweils eine der Einzelspiegel-Gruppen 24a hat also die Funktion einer Facette eines Feldfacettenspiegels, wie dieser beispielsweise in der US 6,438,199 B1 oder der US 6,658,084 B2 offenbart ist. Each one of the individual mirror groups 24a So has the function of a facet of a field facet mirror, as this example in the US Pat. No. 6,438,199 B1 or the US 6,658,084 B2 is disclosed.

7 verdeutlicht eine derartige Gruppierung. Dargestellt ist ein Ausschnitt aus der Reflexionsfläche 25 einer Feldfacettenplatte einer Variante des Feldfacettenspiegels 19 mit einer im Vergleich zur Darstellung nach 2 größeren Anzahl von Einzelspiegeln 26. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend schon unter Bezugnahme auf die 2 bis 6 erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. 7 clarifies such a grouping. Shown is a section of the reflection surface 25 a field facet plate of a variant of the field facet mirror 19 with one in comparison to the representation after 2 larger number of individual mirrors 26 , Components which correspond to those described above with reference to the 2 to 6 have the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Durch entsprechende Zusammenfassung der Ansteuerungen durch die Steuereinrichtung 33 sind innerhalb der Reflexionsfläche 25 beim Beispiel der 7 insgesamt zwölf Einzelspiegel-Gruppen 24a gebildet. Die Einzelspiegel-Gruppen 24a haben jeweils das gleiche x/y-Aspektverhältnis. Jede der Einzelspiegel-Gruppen 24a besteht aus einem 24 × 3-Array von Einzelspiegeln 26, hat also drei Einzelspiegel-Zeilen zu je vierundzwanzig Einzelspiegeln 26. Jede der Einzelspiegel-Gruppen 24a hat also ein Aspektverhältnis von 8 zu 1. Dieses Aspektverhältnis entspricht dem Aspektverhältnis des auszuleuchtenden Objektfeldes 5. By appropriate summary of the controls by the controller 33 are inside the reflection surface 25 in the example of 7 a total of twelve individual mirror groups 24a educated. The single-mirror groups 24a each have the same x / y aspect ratio. Each of the individual mirror groups 24a consists of a 24 × 3 array of individual mirrors 26 , so has three single-mirror lines, each with twenty-four individual mirrors 26 , Each of the individual mirror groups 24a So has an aspect ratio of 8 to 1. This aspect ratio corresponds to the aspect ratio of the object field to be illuminated 5 ,

Innerhalb jeder der Einzelspiegel-Gruppen 24a sind die Einzelspiegel 26 derart zueinander ausgerichtet, dass die Form jeder der Einzelspiegel-Gruppen 24a der Form einer einzelnen Feldfacette eines konventionellen Feldfacettenspiegels entspricht. Within each of the individual mirror groups 24a are the individual mirrors 26 aligned with each other such that the shape of each of the individual mirror groups 24a corresponds to the shape of a single field facet of a conventional field facet mirror.

8 und 9 zeigen Beispiele von Gruppierungen der Einzelspiegel 26 des Feldfacettenspiegels 19 in Einzelspiegel-Gruppen 24a. Die Einzelspiegel-Zeilen 27 sind dabei von oben nach unten fortlaufend durchnummeriert mit einem Index versehen. Die oberste Einzelspiegel-Zeile ist also mit 27 1 und die unterste Einzelspiegel-Zeile mit 27 8 bezeichnet. 8th and 9 show examples of groupings of the individual mirrors 26 of the field facet mirror 19 in single-mirror groups 24a , The single mirror lines 27 are consecutively numbered from top to bottom with an index. So the top single-mirror line is with 27 1 and the lowest single-mirror line with 27 8 denotes.

Bei der Gruppierung nach 8 sind jeweils zwei übereinander liegende Einzelspiegel-Zeilen, nämlich die Einzelspiegel-Zeilen 27 2/3, 27 4/5 und 27 6/7 zu drei Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 2 und 24a 3 zusammengefasst. Schematisch ist in der 8 auch die Zuordnung dieser Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 bis 24a 3 zu drei Pupillenfacetten 34 1, 34 2 und 34 3 über Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 1, 35 2 und 35 3 dargestellt. Über die Pupillenfacetten 34 1 bis 34 3 wird bei der Zuordnung nach 8 das über die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle der zu diesen Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 bis 24a 3 gehörenden Einzelspiegel 26 hin zum Beleuchtungsfeld 5 geführt, wobei die jeweilige Einzelspiegel-Gruppe 24a 1 bis 24a 3 in das Objekt- beziehungsweise Beleuchtungsfeld 5 abgebildet wird. Die Einzelspiegel 26 der Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 bis 24a 3 werden über die Steuereinrichtung 33 so verkippt, dass das Beleuchtungslicht 16 hin zu den jeweiligen Pupillenfacetten 34 1 bis 34 3 geführt wird. When grouping after 8th are each two superposed individual mirror rows, namely the individual mirror rows 27 2/3 , 27 4/5 and 27 6/7 to three single-mirror groups 24a 1 , 24a 2 and 24a 3 summarized. Schematically is in the 8th also the assignment of these individual mirror groups 24a 1 to 24a 3 to 3 pupil facets 34 1 , 34 2 and 34 3 via group mirror illumination channels 35 1 , 35 2 and 35 3 shown. About the pupil facets 34 1 to 34 3 will after the assignment 8th via the individual mirror illumination channels to these individual mirror groups 24a 1 to 24a 3 belonging individual mirror 26 towards the lighting field 5 led, whereby the respective single mirror group 24a 1 to 24a 3 in the object or illumination field 5 is shown. The individual mirrors 26 the single-mirror groups 24a 1 to 24a 3 are via the control device 33 so tilted that the illumination light 16 towards the respective pupil facets 34 1 to 34 3 is performed.

9 zeigt eine andere Zuordnung der Einzelspiegel 26 des Feldfacettenspiegels 19 zu Einzelspiegel-Gruppen. Die Einzelspiegel-Zeilen 27 1/2 sind dabei der Einzelspiegel-Gruppe 24a 4, die Einzelspiegel-Zeilen 27 3/4 der Einzelspiegel-Gruppe 24a 5, die Einzelspiegel-Zeilen 27 5/6 der Einzelspiegel-Gruppe 24a 6 und die Einzelspiegel-Zeilen 27 7/8 der Einzelspiegel-Gruppe 24a 7 zugeordnet. Über Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 4 bis 35 7 werden die Einzelspiegel-Gruppen 24a 4 bis 24a 7 weiteren Pupillenfacetten 34 4 bis 34 7 zugeordnet, die von den Pupillenfacetten 34 1 bis 34 3 der Zuordnung nach 8 verschieden sind. Über die Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 4 bis 35 7 und die Pupillenfacetten 34 4 bis 34 7 erfolgt wiederum eine Abbildung der Einzelspiegel-Gruppen 24a 4 bis 24a 7 in das Objekt- beziehungsweise Beleuchtungsfeld 5. 9 shows a different assignment of the individual levels 26 of the field facet mirror 19 to individual mirror groups. The single mirror lines 27 1/2 are the single-mirror group 24a 4 , the single-mirror lines 27 3/4 of the single-mirror group 24a 5 , the single-mirror lines 27 5/6 of the single-mirror group 24a 6 and the single-mirror lines 27 7/8 of the single-mirror group 24a 7 assigned. Via group mirror illumination channels 35 4 to 35 7 become the single-mirror groups 24a 4 to 24a 7 other pupil facets 34 4 to 34 7 assigned by the pupil facets 34 1 to 34 3 of the assignment after 8th are different. About the group mirror illumination channels 35 4 to 35 7 and the pupil facets 34 4 to 34 7 again takes a picture of the individual mirror groups 24a 4 to 24a 7 in the object or illumination field 5 ,

Bei der Zuordnung nach 9 bleiben die Pupillenfacetten 34 1 bis 34 3 unbeleuchtet. Entsprechend bleiben nach der Zuordnung nach der 8 die Pupillenfacetten 34 4 bis 34 7 unbeleuchtet. When assigning to 9 remain the pupil facets 34 1 to 34 3 unlit. Accordingly remain after the assignment after the 8th the pupil facets 34 4 to 34 7 unlit.

Die beiden unterschiedlichen Zuordnungen der Einzelspiegel-Gruppen 24a zu den Pupillenfacetten 34 resultieren in entsprechend unterschiedlichen Beleuchtungswinkelverteilungen bei der Beleuchtung des Objekt- beziehungsweise Beleuchtungsfeldes 5. Diese unterschiedlichen Beleuchtungswinkelverteilungen werden auch als Beleuchtungssettings bezeichnet. The two different assignments of the individual mirror groups 24a to the pupil facets 34 result in correspondingly different illumination angle distributions in the illumination of the object or illumination field 5 , These different illumination angle distributions are also referred to as illumination settings.

Die Einzelspiegel 26 der Einzelspiegel-Zeilen 27 2 bis 27 7 gehören bei den Zuordnungsbeispielen der 8 und 9 zu zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen 24a. Die Einzelspiegel-Zeile 27 2 gehört beispielsweise einerseits zur Einzelspiegel-Gruppe 24a 1 und andererseits zur Einzelspiegel-Gruppe 24a 4. Diese verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen, also beispielsweise die Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 4 sind jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal, also beispielsweise über die Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 1 und 35 4, einer eigenen zweiten Facette, also im dargestellten Beispiel den Pupillenfacetten 34 1 und 34 4 zugeordnet. The individual mirrors 26 the single-mirror lines 27 2 to 27 7 belong to the allocation examples of the 8th and 9 to two different individual mirror groups 24a , The single-mirror line 27 For example, 2 belongs to the single-mirror group 24a 1 and on the other hand to the single mirror group 24a 4 . These different individual mirror groups, so for example the individual mirror groups 24a 1 , 24a 4 are each via a separate group mirror illumination channel, so for example on the group mirror illumination channels 35 1 and 35 4 , a separate second facet, so in the example shown the pupil facets 34 1 and 34 4 assigned.

Bei der Ausführung nach den 8 und 9 gehört die Mehrheit der Einzelspiegel 26 des Feldfacettenspiegels 19, nämlich die Einzelspiegel der Einzelspiegel-Zeilen 27 2 bis 27 7 zu mindestens zwei Einzelspiegel-Gruppen 24a, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal 35 einer eigenen zweiten Facetten 34 zugeordnet sind. Diese Einzelspiegel der Einzelspiegel-Zeilen 27 2 bis 27 7 gehören jeweils zu genau zwei Einzelspiegel-Gruppen 24a, wie vorstehend bereits erläutert. Es ist klar, dass auch Beleuchtungsgeometrien möglich sind, bei denen bestimmte der Einzelspiegel 26 zu einer größeren Anzahl von Einzelspiegel-Gruppen 24a gehören. Falls beispielsweise eine Einzelspiegel-Gruppe 24a aus drei Einzelspiegel-Zeilen 27 aufgebaut ist, können analog zu dem, was vorstehend im Zusammenhang mit den 8 und 9 bereits erläutert wurde, Gruppierungs-Zuordnungen vorgegeben werden, bei denen eine dieser drei Einzelspiegel-Zeilen bei einer ersten Gruppierung eine obere Einzelspiegel-Zeile einer ersten Einzelspiegel-Gruppe, bei einer zweiten Gruppierung eine mittlere Zeile einer zweiten Einzelspiegel-Gruppe und bei einer dritten Gruppierung eine untere Zeile einer dritten Einzelspiegel-Gruppe darstellt. In the execution of the 8th and 9 belongs to the majority of individual mirrors 26 of the field facet mirror 19 , namely the individual levels of the individual mirror rows 27 2 to 27 7 to at least two individual mirror groups 24a , each with its own group mirror illumination channel 35 a separate second facet 34 assigned. These individual levels of single-mirror lines 27 2 to 27 7 each belong to exactly two individual mirror groups 24a as already explained above. It is clear that illumination geometries are also possible in which certain of the individual mirrors 26 to a larger number of single-mirror groups 24a belong. For example, if a single mirror group 24a from three single-mirror lines 27 can be constructed analogously to what is above in connection with the 8th and 9 has already been explained, grouping assignments are given, in which one of these three individual-mirror rows in a first grouping is a top single-row row of a first single-mirror group, in a second grouping a middle row of a second single-mirror group and in a third grouping represents a lower row of a third single mirror group.

Bei der Ausführung nach den 8 und 9 gehört keiner der Einzelspiegel 26 zu mehr als zwei Einzelspiegel-Gruppen 24a. Bei den alternativen Gruppierungs-Zuordnungen nach den 8 und 9 überlappen die Einzelspiegel-Gruppen 24a, also beispielsweise die Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 der Gruppierungs-Zuordnung nach 8 und die Einzelspiegel-Gruppe 24a 4 der Gruppierungs-Zuordnung nach 9 so, dass 50 % der gesamten Einzelspiegel 26 dieser Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 4, nämlich die Einzelspiegel 26 der Einzelspiegel-Zeile 27 2 gleichzeitig zu beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 4 gehören. Bei der Ausführung nach den 8 und 9 existieren jeweils drei Einzelspiegel-Gruppen, nämlich beispielsweise die Einzelspiegel-Gruppen 24a 4, 24a 5 der Gruppierungs-Zuordnung nach 9 und die Einzelspiegel-Gruppe 24a 1 der Gruppierungs-Zuordnung nach 8, die einander so überlappen, dass die Einzelspiegel-Gruppen 24a 4 und 24a 5 jeweils mit der Einzelspiegel-Gruppe 24a 1, aber nicht miteinander überlappen. In the execution of the 8th and 9 none of the individual mirrors belongs 26 to more than two single-mirror groups 24a , In the alternative grouping assignments after the 8th and 9 overlap the individual mirror groups 24a So, for example, the individual mirror groups 24a 1 of the grouping assignment after 8th and the single-mirror group 24a 4 of the grouping assignment after 9 so that 50% of the total individual level 26 of these individual mirror groups 24a 1 , 24a 4 , namely the individual mirror 26 the single-mirror line 27 2 simultaneously to both individual mirror groups 24a 1 , 24a 4 belong. In the execution of the 8th and 9 There are in each case three individual-mirror groups, namely, for example, the individual-mirror groups 24a 4 , 24a 5 of the grouping assignment after 9 and the single-mirror group 24a 1 of the grouping assignment after 8th that overlap each other so that the individual mirror groups 24a 4 and 24a 5 each with the single mirror group 24a 1 , but do not overlap with each other.

Eine alternative Ausgestaltung einer Gruppierungs-Zuordnung bei Einsatz einer Variante eines Feldfacettenspiegels 36 ist in der 10 dargestellt. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 9 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert. An alternative embodiment of a grouping assignment when using a variant of a field facet mirror 36 is in the 10 shown. Components which correspond to those described above with reference to 1 to 9 already described, bear the same reference numbers and will not be discussed again in detail.

Der Feldfacettenspiegel 36 ist ähnlich wie der Feldfacettenspiegel 19 unterteilt in ein Raster aus Einzelspiegel 26. Die Zeilen und Spalten dieses Rasters verlaufen beim Feldfacettenspiegel 36 allerdings jeweils in einem Winkel von 45° zur Objektverlagerungsrichtung y. Ein weiterer Unterschied zwischen dem Feldfacettenspiegel 36 nach 10 und dem Feldfacettenspiegel 19 ist, dass die Einzelspiegel-Gruppen 24a nicht rechteckig, sondern bogenförmig berandet sind. Entsprechend werden diese bogenförmigen Einzelspiegel-Gruppen 24a über jeweils zugeordnete Pupillenfacetten 34 und gegebenenfalls eine nachfolgende Übertragungsoptik in ein bogenförmiges Objekt- beziehungsweise Beleuchtungsfeld abgebildet, wie dies grundsätzlich aus dem Stand der Technik bekannt ist. The field facet mirror 36 is similar to the field facet mirror 19 divided into a grid of individual mirrors 26 , The rows and columns of this raster run in the field facet mirror 36 however, in each case at an angle of 45 ° to the object displacement direction y. Another difference between the field facet mirror 36 to 10 and the field facet mirror 19 is that the single-mirror groups 24a not rectangular, but bounded arcuately. Accordingly, these arcuate single mirror groups 24a via respectively assigned pupil facets 34 and possibly a subsequent transfer optics imaged in an arcuate object or illumination field, as is known in principle from the prior art.

Dargestellt ist in der 10 durchgezogen jeweils die bogenförmige Berandung der Einzelspiegel-Gruppen 24a. Diejenigen Einzelspiegel 26, die jeweils zu mehr als 50 % innerhalb dieser Berandung liegen, gehören zur jeweiligen Einzelspiegel-Gruppe 24a.Shown in the 10 pulled through each the arcuate boundary of the individual mirror groups 24a , Those individual mirrors 26 , each of which is more than 50% within this boundary, belong to the respective single-mirror group 24a ,

In der 10 sind zwei unterschiedliche Gruppierungs-Zuordnungen von Einzelspiegel-Gruppen 24a zu Pupillenfacetten 34 dargestellt. In einer ersten Gruppierungs-Zuordnung sind die Einzelspiegel 26 zweier übereinander liegender und aneinander angrenzender Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 2 über Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 1, 35 2 zwei Pupillenfacetten 34 1, 34 2 zugeordnet. Bei einer alternativen Gruppierungs-Zuordnung ist eine hälftig mit diesen beiden ersten Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 2 überlappende dritte Einzelspiegel-Gruppe 24a 3 über einen dritten Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal 35 3 einer dritten Pupillenfacette 34 3 zugeordnet. In the 10 are two different grouping assignments of single-mirror groups 24a to pupil facets 34 shown. In a first grouping assignment are the individual levels 26 two superimposed and adjacent individual mirror groups 24a 1 , 24a 2 via group mirror illumination channels 35 1 , 35 2 two pupil facets 34 1 , 34 2 assigned. In an alternative grouping assignment, one half is with these two first individual mirror groups 24a 1 , 24a 2 overlapping third single-mirror group 24a 3 over a third group mirror illumination channel 35 3 of a third pupil facet 34 3 assigned.

Beispielhaft ist in der 10 einer der Einzelspiegel 26 0 hervorgehoben, der zu den beiden verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen 24a 2 und 24 3 gehört. Dieser Einzelspiegel 26 0 gehört zu genau zwei Einzelspiegel-Gruppen, nämlich zu den Einzelspiegel-Gruppen 24a 2 und 24a 3. Is exemplary in the 10 one of the individual mirrors 26 0 highlighted, leading to the two different individual mirror groups 24a 2 and 24 3 belongs. This single mirror 26 0 belongs to exactly two single-mirror groups, namely to the individual mirror groups 24a 2 and 24a 3 .

Beispielhaft sind in der 10 auch einige der Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 35a dargestellt. Über die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle 35a werden Beleuchtungslicht-Teilbündel des Beleuchtungslichts 16 vom jeweiligen Einzelspiegel 26 hin über die jeweilige Pupillenfacette 34 zum Beleuchtungs- beziehungsweise Objektfeld 5 geführt. Exemplary are in the 10 also some of the single-mirror illumination channels 35a shown. About the single-mirror illumination channels 35a become illumination light sub-beams of the illumination light 16 from each individual mirror 26 over the respective pupil facet 34 to the illumination or object field 5 guided.

Auch bei der Ausführung nach 10 überlappen beispielsweise die beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 2 und 24a 3 so, dass etwa 50 % der gesamten Einzelspiegel 26 der beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 3 gleichzeitig zu beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 1, 24a 3 gehören. Die beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 und 24a 3 einerseits und die beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 2 und 24a 3 andererseits überlappen jeweils um etwa 50 %, wohingegen die beiden Einzelspiegel-Gruppen 24a 1 und 24a 3 nicht miteinander überlappen.Also in the execution after 10 For example, the two individual mirror groups overlap 24a 2 and 24a 3 so that about 50% of total individual levels 26 of the two single-mirror groups 24a 1 , 24a 3 simultaneously to both individual mirror groups 24a 1 , 24a 3 belong. The two single-mirror groups 24a 1 and 24a 3 on the one hand and the two individual mirror groups 24a 2 and 24a 3 on the other hand overlap each by about 50%, whereas the two individual mirror groups 24a 1 and 24a 3 do not overlap with each other.

Die Einzelspiegel 26 können bei den Feldfacettenspiegeln 19 und 36 auf sehr viele verschiedene Weisen zu Einzelspiegel-Gruppen 24a gruppiert werden, sodass der Pupillenfacettenspiegel 20 eine sehr viel größere Anzahl von Pupillenfacetten 34 aufweisen kann, die über die wechselweisen Zuordnungen der Einzelspiegel 26 zu Einzelspiegel-Gruppen 24a über die zugehörigen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanäle 35 mit dem Beleuchtungslicht 16 beaufschlagt werden können. Die Auswahl verschiedener Beleuchtungssettings erhöht sich hierdurch stark. The individual mirrors 26 can at the field facet mirrors 19 and 36 in many different ways to single-mirror groups 24a be grouped so that the pupil facet mirror 20 a much larger number of pupil facets 34 which may have the alternate assignments of the individual levels 26 to individual mirror groups 24a via the associated group mirror illumination channels 35 with the illumination light 16 can be applied. The selection of different lighting settings is thereby greatly increased.

Mit Hilfe der Projektionsbelichtungsanlage 1 wird wenigstens ein Teil des Retikels im Objektfeld 5 auf einen Bereich einer lichtempfindlichen Schicht auf den Wafer 13 im Bildfeld 11 zur lithografischen Herstellung eines mikro- beziehungsweise nanostrukturierten Bauteils, insbesondere eines Halbleiterbauteils, beispielsweise eines Mikrochips, abgebildet. Je nach Ausführung der Projektionsbelichtungsanlage 1 als Scanner oder als Stepper werden das Retikel 7 und der Wafer 13 zeitlich synchronisiert in der y-Richtung kontinuierlich im Scannerbetrieb oder schrittweise im Stepperbetrieb verfahren.With the help of the projection exposure system 1 becomes at least a part of the reticle in the object field 5 to a region of a photosensitive layer on the wafer 13 in the image field 11 for the lithographic production of a microstructured or nanostructured component, in particular a semiconductor component, for example a microchip. Depending on the version of the projection exposure system 1 as a scanner or as a stepper become the reticle 7 and the wafer 13 synchronized in time in the y-direction continuously in scanner mode or stepwise in stepper mode.

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Zitierte PatentliteraturCited patent literature

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Claims (12)

Beleuchtungsoptik (4) für die EUV-Projektionslithographie zur Führung von Beleuchtungslicht (16) hin zu einem Objektfeld (5), in dem eine Lithographiemaske (7) anordenbar ist, – mit einem ersten Facettenspiegel (19; 36), der eine Vielzahl von zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbaren Einzelspiegeln (26) aufweist, die Einzelspiegel-Ausleuchtungskanäle (35a) zur Führung von Beleuchtungslicht-Teilbündeln hin zum Objektfeld (5) bereitstellen, – mit einem zweiten Facettenspiegel (20), der dem ersten Facettenspiegel (19; 36) im Strahlengang des Beleuchtungslichts (16) nachgeordnet ist und eine Mehrzahl von Facetten (34) aufweist, die jeweils zur Abbildung einer Gruppe (24a) der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (19; 36) in das Objektfeld (5) über einen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35) beitragen, wobei die Bilder der Einzelspiegel-Gruppen (24a) einander im Objektfeld (5) überlagern, – wobei zumindest einige der Einzelspiegel (26 0) zu mindestens zwei Verschiedenen der Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehören, die, abhängig von der jeweiligen Kippstellung der Einzelspiegel, jeweils über mindestens einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) mindestens einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zuordenbar sind. Illumination optics ( 4 ) for EUV projection lithography for guiding illuminating light ( 16 ) to an object field ( 5 ), in which a lithography mask ( 7 ) can be arranged, - with a first facet mirror ( 19 ; 36 ), a plurality of switchable between at least two tilt positions individual mirrors ( 26 ), the individual mirror illumination channels ( 35a ) for guiding illumination light partial bundles toward the object field ( 5 ), - with a second facet mirror ( 20 ), the first facet mirror ( 19 ; 36 ) in the beam path of the illumination light ( 16 ) and a plurality of facets ( 34 ), each of which represents a group ( 24a ) the individual mirror ( 26 ) of the first facet mirror ( 19 ; 36 ) in the object field ( 5 ) via a group mirror illumination channel ( 35 ), whereby the images of the single-mirror groups ( 24a ) each other in the object field ( 5 ), wherein at least some of the individual mirrors ( 26 0 ) to at least two different of the single-mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), which, depending on the respective tilt position of the individual mirrors, each have at least one own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) at least one separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are assignable. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Mehrheit der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (19; 36) zu mindestens zwei der Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehören, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zugeordnet sind.Illumination optics according to claim 1, characterized in that the majority of the individual mirrors ( 26 ) of the first facet mirror ( 19 ; 36 ) to at least two of the single-mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are assigned. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest einige der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (19; 36) zu genau zwei der Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehören, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zugeordnet sind.Illumination optics according to claim 1 or 2, characterized in that at least some of the individual mirrors ( 26 ) of the first facet mirror ( 19 ; 36 ) to exactly two of the individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are assigned. Beleuchtungsoptik nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Mehrheit der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (19; 36) zu genau zwei der Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehören, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zugeordnet sind.Illumination optics according to claim 3, characterized in that the majority of the individual mirrors ( 26 ) of the first facet mirror ( 19 ; 36 ) to exactly two of the individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are assigned. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass keiner der Einzelspiegel (26) des ersten Facettenspiegels (19; 36) zu mehr als zwei der Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehört, die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zugeordnet sind.Illumination optics according to one of claims 1 to 4, characterized in that none of the individual mirrors ( 26 ) of the first facet mirror ( 19 ; 36 ) to more than two of the single-mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are assigned. Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass zwei Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3), die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4; 35 1, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 3) zugeordnet sind, einander so überlappen, dass zwischen 20 % und 80 % der gesamten Einzelspiegel (26) der beiden Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gleichzeitig zu beiden Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4; 24a 1, 24a 3) gehören. Illumination optics according to one of claims 1 to 5, characterized in that two individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 ; 35 1 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 3 ) are overlapping each other so that between 20% and 80% of the total individual levels ( 26 ) of the two individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ) simultaneously to both individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 ; 24a 1 , 24a 3 ). Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass drei Einzelspiegel-Gruppen (24a 1, 24a 4, 24a 5; 24a 1, 24a 2, 24a 3), die jeweils über einen eigenen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal (35 1, 35 4, 35 5; 35 1, 35 2, 35 3) einer eigenen zweiten Facette (34 1, 34 4, 34 5; 34 1, 34 2, 34 3) zugeordnet sind, einander so überlappen, dass eine erste (24a 4; 24a 1) der drei Einzelspiegel-Gruppen mit einer zweiten (24a 1; 24a 3) der drei Einzelspiegel-Gruppen und die zweite (24a 1; 24a 3) der drei Einzelspiegel-Gruppen mit einer dritten (24a 5; 24a 2) der drei Einzelspiegel-Gruppen überlappen, wobei die erste (24a 4; 24a 1) und die dritte (24a 5; 24a 2) der drei Einzelspiegel-Gruppen nicht miteinander überlappen. Illumination optics according to one of claims 1 to 6, characterized in that three individual mirror groups ( 24a 1 , 24a 4 , 24a 5 ; 24a 1 , 24a 2 , 24a 3 ), each with its own group mirror illumination channel ( 35 1 , 35 4 , 35 5 ; 35 1 , 35 2 , 35 3 ) a separate second facet ( 34 1 , 34 4 , 34 5 ; 34 1 , 34 2 , 34 3 ) are associated, overlapping each other so that a first ( 24a 4 ; 24a 1 ) of the three individual mirror groups with a second ( 24a 1 ; 24a 3 ) of the three individual mirror groups and the second ( 24a 1 ; 24a 3 ) of the three individual mirror groups with a third ( 24a 5 ; 24a 2 ) of the three individual mirror groups overlap, with the first ( 24a 4 ; 24a 1 ) and the third ( 24a 5 ; 24a 2 ) of the three individual mirror groups do not overlap with each other. Beleuchtungssystem mit einer Beleuchtungsoptik nach einem der Ansprüche 1 bis 7 und mit einer Projektionsoptik (10) zur Abbildung des Objektfeldes (5) in ein Bildfeld (11). Illumination system with an illumination optics according to one of Claims 1 to 7 and with a projection optics ( 10 ) for mapping the object field ( 5 ) in an image field ( 11 ). Projektionsbelichtungsanlage – mit einem Beleuchtungssystem (3) nach Anspruch 8, – mit einer EUV-Lichtquelle (2), – mit einem Objekthalter (8) zur Halterung eines Objektes (7) im Objektfeld (5), der über einen Objektverlagerungsantrieb (9) längs einer Verlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist, – mit einem Waferhalter (14) zur Halterung eines Wafers (13) im Bildfeld (11), der über einen Waferverlagerungsantrieb (15) längs der Verlagerungsrichtung (y) verlagerbar ist. Projection exposure system - with a lighting system ( 3 ) according to claim 8, - with an EUV light source ( 2 ), - with an object holder ( 8th ) for holding an object ( 7 ) in the object field ( 5 ), which via an object displacement drive ( 9 ) along a displacement direction (y) is displaceable, - with a wafer holder ( 14 ) for holding a wafer ( 13 ) in the image field ( 11 ) via a wafer displacement drive ( 15 ) along the displacement direction (y) is displaceable. Projektionsbelichtungsanlage nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens zwei der Einzelspiegel-Gruppen (24a) einander längs der Verlagerungsrichtung (y) überlappen. Projection exposure apparatus according to claim 9, characterized in that at least two of the individual mirror groups ( 24a ) overlap one another along the direction of displacement (y). Verfahren zur Herstellung eines mikro- oder nanostrukturierten Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten: – Bereitstellen eines Wafers (13), auf den zumindest teilweise eine Schicht aus einem lichtempfindlichen Material aufgebracht ist, – Bereitstellen eines Retikels (7), das abzubildende Strukturen aufweist, – Bereitstellen einer Projektionsbelichtungsanlage (1) nach einem der Ansprüche 9 oder 10, – Projizieren wenigstens eines Teils des Retikels (7) auf einen Bereich der Schicht mit Hilfe einer Projektionsoptik (10) der Projektionsbelichtungsanlage (1). Method for producing a micro- or nanostructured component with the following method steps: Providing a wafer ( 13 ), to which at least partially a layer of a photosensitive material is applied, - providing a reticle ( 7 ) having structures to be imaged, - providing a projection exposure apparatus ( 1 ) according to one of claims 9 or 10, - projecting at least part of the reticle ( 7 ) on a region of the layer by means of projection optics ( 10 ) of the projection exposure apparatus ( 1 ). Bauteil, hergestellt durch ein Verfahren nach Anspruch 11.Component produced by a method according to claim 11.
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