DE102011008836B4 - Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten - Google Patents
Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten Download PDFInfo
- Publication number
- DE102011008836B4 DE102011008836B4 DE102011008836A DE102011008836A DE102011008836B4 DE 102011008836 B4 DE102011008836 B4 DE 102011008836B4 DE 102011008836 A DE102011008836 A DE 102011008836A DE 102011008836 A DE102011008836 A DE 102011008836A DE 102011008836 B4 DE102011008836 B4 DE 102011008836B4
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrolyte
- acid
- copper
- tin
- metals
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 title claims abstract description 89
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical class [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 27
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 21
- -1 sulfated aromatic alkyl-aryl ether compound Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 17
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 15
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 13
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 claims abstract description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000002563 ionic surfactant Substances 0.000 claims abstract description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 27
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 24
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 21
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 19
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 12
- YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N thiodiglycol Chemical compound OCCSCCO YODZTKMDCQEPHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229950006389 thiodiglycol Drugs 0.000 claims description 8
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 7
- FFEARJCKVFRZRR-UHFFFAOYSA-N methionine Chemical compound CSCCC(N)C(O)=O FFEARJCKVFRZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 7
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229930182817 methionine Natural products 0.000 claims description 6
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 claims description 4
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 claims description 4
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 claims description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N propane-1-sulfonic acid Chemical compound CCCS(O)(=O)=O KCXFHTAICRTXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nonylphenoxy)ethanol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OCCO IEORSVTYLWZQJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-sulfanylethylsulfanyl)ethanethiol Chemical compound SCCSCCS KSJBMDCFYZKAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Thiobispropanoic acid Chemical compound OC(=O)CCSCCC(O)=O ODJQKYXPKWQWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QRQVZZMTKYXEKC-UHFFFAOYSA-N 3-(3-hydroxypropylsulfanyl)propan-1-ol Chemical compound OCCCSCCCO QRQVZZMTKYXEKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GZWIBBZCQMNKPK-UHFFFAOYSA-N 3-(3-sulfanylpropylsulfanyl)propane-1-thiol Chemical compound SCCCSCCCS GZWIBBZCQMNKPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQWRKNRBLGXYDF-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxybutylsulfanyl)butan-1-ol Chemical compound OCCCCSCCCCO BQWRKNRBLGXYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N Dextrotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-JCYAYHJZSA-N 0.000 claims description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PDYXSJSAMVACOH-UHFFFAOYSA-N [Cu].[Zn].[Sn] Chemical compound [Cu].[Zn].[Sn] PDYXSJSAMVACOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 claims description 2
- 235000015165 citric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N copper zinc Chemical compound [Cu].[Zn] TVZPLCNGKSPOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M ethanesulfonate Chemical compound CCS([O-])(=O)=O CCIVGXIOQKPBKL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- TVCSSJHLVLMADJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(2-ethoxy-2-oxoethyl)sulfanylacetate Chemical compound CCOC(=O)CSCC(=O)OCC TVCSSJHLVLMADJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VCXUFKFNLUTDAX-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-(3-ethoxy-3-oxopropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCSCCC(=O)OCC VCXUFKFNLUTDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 2
- ZQUQLLPRRJVUES-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(2-methoxy-2-oxoethyl)sulfanylacetate Chemical compound COC(=O)CSCC(=O)OC ZQUQLLPRRJVUES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229920000847 nonoxynol Polymers 0.000 claims description 2
- QADJHAOXTKCYFT-UHFFFAOYSA-N octyl 3-(3-octoxy-3-oxopropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCC QADJHAOXTKCYFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 claims description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 claims description 2
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 claims description 2
- UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N thiodiacetic acid Chemical compound OC(=O)CSCC(O)=O UVZICZIVKIMRNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XDILCINHTMZTGG-UHFFFAOYSA-N 3-(3-dodecoxy-3-oxopropyl)sulfanylpropanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(O)=O XDILCINHTMZTGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims 1
- TVYHCEXFDOSFIF-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-(2-dodecoxy-2-oxoethyl)sulfanylacetate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CSCC(=O)OCCCCCCCCCCCC TVYHCEXFDOSFIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PUUARXRJNUGOBB-UHFFFAOYSA-N octyl 2-(2-octoxy-2-oxoethyl)sulfanylacetate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)CSCC(=O)OCCCCCCCC PUUARXRJNUGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N vinyl sulfide Chemical group C=CSC=C UIYCHXAGWOYNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 10
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 7
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 5
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 2-naphthol Chemical compound C1=CC=CC2=CC(O)=CC=C21 JWAZRIHNYRIHIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 229940099690 malic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MUWPITKDYNUQQC-UHFFFAOYSA-N [Sn].[Cu].CS(=O)(=O)O Chemical compound [Sn].[Cu].CS(=O)(=O)O MUWPITKDYNUQQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L copper;methanesulfonate Chemical compound [Cu+2].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O BSXVKCJAIJZTAV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- AICMYQIGFPHNCY-UHFFFAOYSA-J methanesulfonate;tin(4+) Chemical compound [Sn+4].CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O.CS([O-])(=O)=O AICMYQIGFPHNCY-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 239000006259 organic additive Substances 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910001432 tin ion Inorganic materials 0.000 description 2
- WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N (2E)-2-Tetradecenal Chemical compound CCCCCCCCCCC\C=C\C=O WHOZNOZYMBRCBL-OUKQBFOZSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPUQWXNMICMVGQ-UHFFFAOYSA-N 2-(1-carboxynonylsulfanyl)decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)SC(C(O)=O)CCCCCCCC VPUQWXNMICMVGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEDIEWJQTGPNHC-UHFFFAOYSA-N 2-(1-carboxytridecylsulfanyl)tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)SC(C(O)=O)CCCCCCCCCCCC VEDIEWJQTGPNHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDHFSBXFZGYBIP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethylsulfanyl)ethylsulfanyl]ethanol Chemical compound OCCSCCSCCO PDHFSBXFZGYBIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoyloxy]ethylsulfanyl]ethyl 3-(3,5-ditert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=C(O)C(C(C)(C)C)=CC(CCC(=O)OCCSCCOC(=O)CCC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1 VFBJXXJYHWLXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZOVBIIWPDQIHF-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2-methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1S(O)(=O)=O BZOVBIIWPDQIHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N Benzalacetone Natural products CC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017755 Cu-Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017927 Cu—Sn Inorganic materials 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N L-methionine Chemical compound CSCC[C@H](N)C(O)=O FFEARJCKVFRZRR-BYPYZUCNSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N Propionic acid Substances CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001128 Sn alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 229940045714 alkyl sulfonate alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- 150000008052 alkyl sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 239000013566 allergen Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229950011260 betanaphthol Drugs 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 230000000711 cancerogenic effect Effects 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- JYYOBHFYCIDXHH-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;hydrate Chemical class O.OC(O)=O JYYOBHFYCIDXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000315 carcinogenic Toxicity 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010668 complexation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- WIYCQLLGDNXIBA-UHFFFAOYSA-L disodium;3-(3-sulfonatopropyldisulfanyl)propane-1-sulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)CCCSSCCCS([O-])(=O)=O WIYCQLLGDNXIBA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229940082150 encore Drugs 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004475 heteroaralkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 229940116298 l- malic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWWWNVEZBAKHR-UHFFFAOYSA-N methyl 3-(3-methoxy-3-oxopropyl)sulfanylpropanoate Chemical compound COC(=O)CCSCCC(=O)OC MYWWWNVEZBAKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960003966 nicotinamide Drugs 0.000 description 1
- 235000005152 nicotinamide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011570 nicotinamide Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229940044654 phenolsulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M sodium;(2r)-2-[6-(4-chlorophenoxy)hexyl]oxirane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].C=1C=C(Cl)C=CC=1OCCCCCC[C@]1(C(=O)[O-])CO1 RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000003573 thiols Chemical class 0.000 description 1
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N trans-benzylideneacetone Chemical compound CC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 BWHOZHOGCMHOBV-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- 150000003628 tricarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/58—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of copper
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/16—Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Abstract
Cyanidfreier Elektrolyt zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Bronzen auf Gebrauchsgütern und technischen Gegenständen, welcher die abzuscheidenden Metalle in Form von wasserlöslichen Salzen enthält, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt folgende weitere Bestandteile aufweist: a) eine oder mehrere Alkylsulfonsäuren; b) ein ionisches Netzmittel in Form eines Salzes einer sulfonierten oder sulfatierten aromatischen Alkyl-Aryl-Etherverbindung; c) ein Komplexierungsmittel; und d) eine Verbindung ausgewählt aus der Gruppe der Thiodialkylether-Derivate.
Description
- Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen Elektrolyten und ein Verfahren zur Abscheidung von Bronzelegierungen auf Gebrauchsgütern und technischen Gegenständen. Der erfindungsgemäße Elektrolyt weist neben den abzuscheidenden Metallen und Zusätzen, wie z. B. Netzmitteln, Komplexbildnern und Glanzmittel auch bestimmte Thioetherderivate auf, welche sich positiv in dem entsprechenden Verfahren zur Abscheidung der Bronzen auswirken.
- Gebrauchsgüter oder Gebrauchsgegenstände, wie sie in der Gebrauchsgegenständeverordnung definiert sind, werden aus Dekorgründen und zur Verhinderung von Korrosion mit dünnen, oxidationsstabilen Metallschichten veredelt. Diese Schichten müssen mechanisch stabil sein und sollen auch bei längerem Gebrauch keine Anlauffarben oder Abnutzungserscheinungen zeigen. Seit 2001 ist der Verkauf von Gebrauchsgütern, die mit nickelhaltigen Veredelungslegierungen überzogen sind, in Europa gemäß EU-Richtlinie 94/27/EC nicht mehr zugelassen bzw. nur unter Beachtung strenger Auflagen möglich, da es sich bei Nickel und nickelhaltigen Metallschichten um Kontaktallergene handelt. Als Ersatz für nickelhaltige Veredelungsschichten haben sich insbesondere Bronzelegierungen etabliert, mit denen solche Massenware darstellenden Gebrauchsgüter in galvanischen Trommel- oder Gestellbeschichtungsverfahren kostengünstig zu allergenfreien, ansehnlichen Erzeugnissen veredelt werden können.
- Bei der Erzeugung von Bronzeschichten für die Elektronikindustrie sind die Lötbarkeit der resultierenden Schicht und gegebenenfalls ihre mechanische Haftfestigkeit die entscheidenden Eigenschaften der zu erzeugenden Schicht. Das Aussehen der Schichten ist für die Anwendung in diesem Bereich in der Regel weniger bedeutsam als ihre Funktionalität. Für die Erzeugung von Bronzeschichten auf Gebrauchsgütern ist dagegen die dekorative Wirkung (Glanz und Helligkeit) neben der langen Haltbarkeit der resultierenden Schicht bei möglichst unverändertem Aussehen der wesentliche Zielparameter.
- Zur Herstellung von Bronzeschichten sind – neben den konventionellen Verfahren unter Verwendung von cyanidhaltigen und somit hochtoxischen, alkalischen Bädern – verschiedene galvanische Verfahren bekannt, die sich entsprechend der Zusammensetzung ihrer Elektrolyte meist einer von zweien im Stand der Technik zu beobachtenden Hauptgruppen zuordnen lassen: Verfahren unter Verwendung von Organosulfonsäure-basierten Elektrolyten oder Verfahren unter Verwendung von Diphosphorsäure(Pyrophosphorsäure)-basierten Bädern.
- Beispielsweise beschreibt die
EP1111097A2 einen Elektrolyten, der neben einer Organosulfonsäure und Ionen des Zinns und des Kupfers Dispergiermittel und Glanzzusätze, sowie gegebenenfalls Antioxidantien enthält. - Die
EP1146148A2 beschreibt einen cyanidfreien Kupfer-Zinn-Elektrolyten auf der Basis von Diphosphorsäure, der neben dem Reaktionsprodukt eines Amins und eines Epichlorhydrins im Molverhältnis von 1:1 ein kationisches Tensid enthält. Das Amin kann Hexamethylentetramin sein. Es wird bei der elektrolytischen Abscheidung mit Stromdichten von 0.5, 1.5, 2.5 und 3.0 A/dm2 eingesetzt. - Die
richtet sich auf einen cyanidfreien Diphosphorsäure-Kupfer-Zinn-Elektrolyten, der ein Additiv enthält, welches aus einem Aminderivat, einem Epichlorhydrin und einer Glycidylether-Verbindung im Molverhältnis 1:0.5–2:0.1–5 zusammengesetzt ist. Dieser Schrift lag die Aufgabe zugrunde, den Stromdichtebereich, in dem eine gleichmäßige Abscheidung der Metalle in einer glänzenden Schicht erreicht werden kann, weiter auszudehnen. Es wird explizit erwähnt, dass eine solche Abscheidung nur erreicht werden kann, wenn das zugegebene Additiv aus allen dreien der oben genannten Komponenten aufgebaut ist.W02004/005528 A2 - Ebenfalls sind cyanidfreie saure Bronzeelektrolyte bekannt. Oft enthalten entsprechende Bäder eine oder mehrere Alkylsulfonsäuren, meist in Zusammenhang mit weiteren Additiven, wie Netzmittel, Komplexbildner, Glanzbildner etc.
- Die
EP1408141 A1 offenbart ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Bronzen, in dem ein saurer Elektrolyt verwendet wird, der neben Zinn- und Kupferionen eine Alkylsulfonsäure und ein aromatisches, nichtionisches Netzmittel enthält. - Die
EP1874982A1 beschreibt die Abscheidung von Bronzen aus einem Elektrolyten, welcher neben Kupfer und Zinnionen auch Alkylsulfonsäuren und ein Netzmittel aufweist. Auch in dem hier vorgeschlagenen Elektrolyten können vorteilhafterweise Schwefelverbindungen enthalten sein. Allerdings werden diese hier in Kombination mit nichtionischen aromatischen Netzmitteln eingesetzt. - In der
EP1325175B1 wird ebenfalls das Vorhandensein von bestimmten Schwefelverbindungen der allgemeinen Formel -R-Z-R'- in sauren Bronzeelektrolyten propagiert. - Ziel ist es, durch selektive Komplexierung des Kupfers eine Angleichung der Standardpotentiale von Cu-II- und Sn-II-Ionen zu erreichen. Trotz der in dieser Schrift verwendeten Thioverbindungen scheint der Zusatz von Antioxidantien unumgänglich zu sein, um der schädlichen Sn-II-Oxidation vorzubeugen.
- Üblicherweise werden in der Galvanotechnik je nach Art und Beschaffenheit der zu beschichtenden Teile unterschiedliche Beschichtungsverfahren eingesetzt. Die Verfahren unterscheiden sich unter anderem hinsichtlich der anwendbaren Stromdichten. Im Wesentlichen sind 3 unterschiedliche Beschichtungsverfahren zu nennen.
- 1. Trommelbeschichtung für Schüttgut und Massenteile: Bei diesem Beschichtungsverfahren werden eher niedrige Arbeitsstromdichten angewendet (Größenordnung 0,025–0,5 A/dm2)
- 2. Gestellbeschichtung für Einzelteile: Bei diesem Beschichtungsverfahren werden mittlere Arbeitsstromdichten angewendet (Größenordnung: 0,2–5 A/dm2)
- 3. High-Speed Beschichtung für Bänder und Drähte in Durchlaufanlagen: In diesem Beschichtungsbereich werden sehr hohe Arbeitsstromdichten angewendet. (Größenordnung 5–100 A/dm2)
- Für Beschichtungen mit Kupfer-Zinn sind die beiden ersten Beschichtungsverfahren (Trommel und Gestell) eher von Bedeutung, wobei je nach unterschiedlichem Elektrolyttyp entweder Trommelbeschichtung (niedere Stromdichten) oder Gestellbeschichtung (mittlere Stromdichten) möglich ist (siehe „Praktische Galvanotechnik”, Eugen G. Leuze Verlag 1997, Seite 74 ff.).
- Unter Beachtung des eben genannten Standes der Technik ist festzustellen, dass, insbesondere für Trommelanwendungen, solche Abscheidungsverfahren besonders vorteilhaft sind, die es über den ins Auge gefassten Stromdichtebereich hinweg erlauben, eine gleichmäßige Abscheidung an Metallen zu gewährleisten und auf der anderen Seite mit Elektrolyten arbeiten, die von der Zusammensetzung her weniger kompliziert sind und sich insbesondere gegen Sn-II-Oxidation als stabil erweisen.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es daher, ein Abscheideverfahren und einen weiteren Elektrolyten anzugeben, der gegenüber den im Stand der Technik genannten sowohl vom ökologischen wie ökonomischen Standpunkt aus gesehen vorteilhaft ist. Dabei sei ein besonderes Augenmerk auf die Abscheidung möglichst weißer, glänzender Bronzeschichten gerade im niedrigen Stromdichtebereich mittels eines stabilen und einfach aufgebauten Elektrolyten gelegt.
- Diese und weitere sich für den Fachmann aus dem Stand der Technik in nahe liegender Weise ergebenden Aufgaben werden durch einen Elektrolyten und ein entsprechendes Verfahren zur Abscheidung von Bronzen gemäß vorliegendem Anspruch 1 beziehungsweise 11 gelöst. Die auf Anspruch 1 respektive 11 rückbezogenen Unteransprüche stellen bevorzugte Ausführungsformen des Elektrolyten oder des Verfahrens dar.
- Dadurch, dass man einen cyanidfreien Elektrolyten zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Bronzen auf Gebrauchsgütern und technischen Gegenständen vorschlägt, welcher die abzuscheidenden Metalle, wie Kupfer, Zinn und ggf. Zink in Form von wasserlöslichen Salzen enthält, und der dadurch gekennzeichnet ist, dass der Elektrolyt folgende weitere Bestandteile aufweist:
- a) eine oder mehrere Alkylsulfonsäuren;
- b) ein ionisches Netzmittel in Form eines Salzes einer sulfonierten oder sulfatierten aromatischen Alkyl-Aryl-Etherverbindung;
- c) ein Komplexierungsmittel; und
- d) eine Verbindung ausgewählt aus der Gruppe der Thiodialkylether-Derivate,
- Im erfindungsgemäßen Elektrolyten liegen die abzuscheidenden Metalle Kupfer und Zinn oder Kupfer, Zinn und Zink in Form ihrer Ionen gelöst vor. Bevorzugt ist die Ausführung, in der die Metalle als Salze mit Anionen eingesetzt werden, die entweder schon im Elektrolyten zugegen sind oder andererseits nicht zu einer Aufkonzentrierung eines Anionenbestandteils im Elektrolyten durch Ergänzung des entsprechenden Metallsalzes führt. Sie werden daher äußerst vorzugsweise in Form von wasserlöslichen Salzen eingebracht, die bevorzugt ausgewählt sind aus der Gruppe der Alkylsulfonate, Carbonate, Hydroxidcarbonate, Hydrogencarbonate, Hydroxide, Oxid-Hydroxide, Oxide oder Kombinationen davon. Es sei darauf hingewiesen, dass in einer weiteren bevorzugten Ausführungsform die Metalle dem Elektrolyten auch in Form einer löslichen Anode zugeführt werden können. Diesbezüglich sei auf die Ausführungen hinsichtlich des erfindungsgemäßen Verfahrens verwiesen, welche hier entsprechend vorteilhaft anzuführen sind.
- Welche Salze in welcher Menge in den Elektrolyten eingebracht werden, kann bestimmend für die Farbe der resultierenden dekorativen Bronzeschichten sein und kann den Kundenanforderungen entsprechend eingestellt werden. Die abzuscheidenden Metalle liegen wie angedeutet zur Aufbringung von dekorativen Bronzeschichten auf Gebrauchsgüter und technische Gegenstände in ionisch gelöster Form im Elektrolyten vor. Die Ionenkonzentration des Kupfers kann im Bereich von 0,2 bis 10 g/L, vorzugsweise 0,3 bis 4 g/L Elektrolyt, die Ionenkonzentration des Zinns im Bereich 1,0 bis 30 g/L, vorzugsweise 2–20 g/L Elektrolyt und – sofern vorhanden – die Ionenkonzentration des Zinks im Bereich 0,5 bis 20 g/L, vorzugsweise 1–3 g/L Elektrolyt eingestellt werden.
- Der erfindungsgemäße Elektrolyt ist ein saurer Elektrolyt auf Basis von einer oder mehreren Alkylsulfonsäuren. Die Konzentration der Säuren im Elektrolyten kann variieren zwischen 100–300 mL/L Elektrolyt, bevorzugt 150–250 mL/L und ganz besonders bevorzugt um 200 mL/L. Als Alkylsulfonsäuren können solche im Elektrolyten eingesetzt werden, die dem Fachmann für derartige Zwecke ins Gedächtnis kommen. Alkyl bedeutet im vorliegenden Fall einen linearen oder beliebig verzweigten Alkyl-Rest mit 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 5 und ganz besonders bevorzugt 1 bis 3 Kohlenstoffatomen. Ganz besonders bevorzugt werden Alkylsulfonsäuren ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Methansulfonsäure, Ethansulfonsäure und n-Propansulfonsäure eingesetzt. Vorteilhaft werden die oben genannten abzuscheidenden Metalle in Form der wasserlöslichen Salze als Alkansulfonate eingesetzt. Ganz besonders bevorzugt zur Veredelung von Gebrauchsgütern ist die Einbringung der abzuscheidenden Metalle als Salz der Methansulfonsäure in der Weise, dass die resultierende Ionenkonzentration im Bereich 0,3 bis 4 Gramm Kupfer, 2 bis 20 Gramm Zinn und 0 bis 3 Gramm Zink, jeweils pro Liter Elektrolyt liegt.
- Der einzusetzende Elektrolyt enthält wie oben schon beschrieben ionische Netzmittel/Glanzzusätze. Die Netzmittel sind aus Salzen einer sulfonierten oder sulfatierten aromatischen Alkyl-Aryl-Etherverbindung gebildet. Dem Fachmann sind derartige Netzmittel hinlänglich bekannt (”Die galvanische Abscheidung von Zinn und Zinnlegierungen”, Manfred Jordan, Eugen G. Leuze Verlag, Bad Saulgau). Die eingesetzten sulfonierten oder sulfatierten aromatischen Alkyl-Aryl-Etherverbindung enthalten einen über eine Sauerstoffbrücke mit einem Arylrest verbundene Alkylgruppe. Als Alkyl wird erfindungsgemäß ein solcher Rest verstanden, der im vorliegenden Fall einen linearen oder beliebig verzweigten Alkyl-Rest mit 1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 5 und ganz besonders bevorzugt 1 bis 3 Kohlenstoffatomen enthält. Als Arylreste kann der Fachmann solche auswählen, die unter die Formel (C7-C19)-Alkylaryl, (C6-C18)-Aryl, (C7-C19)-Aralkyl, (C3-C18)-Heteroaryl, (C4-C19)-Alkylheteroaryl, (C4-C19)-Heteroaralkyl zu subsumieren sind. Besonders bevorzugt sind solche aus der Gruppe bestehend aus Phenol, Naphthol, Benzol, Toluol, Xylol, Cumol, Anisol, Anilin. Ganz besonders vorteilhaft setzt man als Alkyl-Aryl-Etherverbindung eine solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Arylethoxylate, insbesondere β-Naphtholethoxylat, Nonylphenolethoxylat ein. Die sulfonierte bzw. sulfatierte Stelle kann sich dabei entweder im Aromaten oder im aliphatischen Teil der Verbindung befinden. Vorzugsweise befindet sie sich im aromatischen Teil der Verbindung. Als Gegenionen können alle dem Fachmann für diesen Zweck in Frage kommende Kationen ausgewählt werden. Vorzugsweise werden die Alkalisalze oder Ammoniumionen der entsprechenden Säuren verwendet. Besonders vorteilhaft sind dies solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Natrium und Kalium. Mit diesem Zusatz (z. B. Natriumsalz sulfonierter oder sulfatierter Arylethoxylate, wie insbesondere Na-Salz sulfonierter und sulfatierter Alkylphenolethoxylate) wird der Glanz der abgeschiedenen Schichten verstärkt, der Stromdichtebereich zu höheren Stromdichten aufgeweitet und die Helligkeit der abgeschiedenen Schichten in der erfindungsgemäßen Kombination um ca. 2 L-Einheiten erhöht. Gleichzeitig wirkt dieser Glanzzusatz als Netzmittel. Die angesprochenen Netzmittel werden vorteilhaft in einer Konzentration von 0,01–10 ml/l bevorzugt 0,2–5 ml/l und besonders bevorzugt 0,5–1 ml/l Elektrolyt eingestzt.
- Ebenfalls im Elektrolyten zugegen sein sollte ein Komplexierungsmittel. Das Komplexierungsmittel hat u. a. die Aufgabe, eventuell sich bildende Sn-IV-Ionen vor dem Ausfallen als Zinnstein zu bewahren. Ohne Zusatz von Komplexierungsmittel kommt es schon nach kurzer Zeit zur Trübung des Elektrolyten durch gebildeten Zinnstein. In Folge dessen werden die abgeschiedenen Bronzeüberzüge zunehmend matter. Aufgrund der Trübung durch feinverteiltes SnO2 ist der Verbrauch an anderen organischen Zusätzen deutlich erhöht. Durch den Zusatz des Komplexierungsmittels wird die Eintrübung des Elektrolyten stark reduziert und die Qualität der Bronzeschichten bleibt mit zunehmender Badbelastung konstant gut (glänzend und hell) und der Verbrauch an organischen Zusätzen wird minimiert.
- Als Komplexierungsmittel können solche dem Fachmann für diesen Zweck in Frage kommende Verbindungen ausgewählt werden. Die bevorzugten Verbindungen sind dabei solche auf Basis von (Hydroxy-)di oder tricarbonsäuren. Besonders bevorzugt ist, wenn man als Komplexierungsmittel solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure, Weinsäure, Apfelsäure, Zitronensäure, Maleinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure einsetzt. Ganz besonders bevorzugt ist Apfelsäure in diesem Zusammenhang. Die angesprochenen Komplexierungsmittel werden vorteilhaft in einer Konzentration von 1–300 g/l, bevorzugt 20–200 g/l, besonders bevorzugt 50–150 g/l Elektrolyt eingesetzt.
- Wie schon erwähnt, ist der erfindungsgemäße Elektrolyt auch mit einem oder mehreren Thiodialkylether-Derivaten versetzt. Diese Agenzien führen zu einer verbesserten Abscheidung der Bronzelegierung, insbesondere im Bereich niedriger Stromdichten. Vorteilhaft sind in diesem Zusammenhang symmetrisch substituierte Thiodialkylether-Derivate, wie z. B. Thiodiglykolpropoxylat oder Thiodiglykolethoxylat. Als Alkylreste können wieder die oben schon erwähnten Verwendung finden. Gegebenenfalls können die Alkylreste mit weiteren funktionellen Gruppen substituiert sein. Letztere können vorzugsweise ausgewählt sein aus der Gruppe bestehend aus Hydroxy, Carbonsäure(ester), Thiol, Amino. Ganz besonders bevorzugt sind beispielsweise Verbindungen ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Thiodiglykolpropoxylat, Thiodiglykol, Thiodiglycerol, Thiodiglykolethoxylat, Thiodiethylen-bis(3-(3,5-di-tert.-butyl-4-hydroxyphenyl)propionat), 2-Amino-4-(methylthio)butansäure, 2,2'-Thiodiethanthiol, 3,3'-Thiodipropanthiol, 2,2'-Thiodiessigsäure, 3,3'-Thiodipropionsäure, 2,2'-Thiodiessigsäure-diethylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-dimethylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-dioctylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-didodecylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-didodecylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-dimethylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-diethylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-dioctylester, 3,3'-Thiodipropanol, 2,2'-Thiodiethanol, 4,4'-Thiodibutanol, 2-Propionsäure-1,1'-(thiodi-2,1-ethandiyl)ester, Dioctadecyl-3,3'-thiodipropionat.. in diesem Zusammenhang, wobei die 2-Amino-4-(methylthio)butansäure äußerst bevorzugt erscheint.
- Die angesprochenen Thiodialkylether-Derivate werden vorteilhaft in einer Konzentration von 0,01–20 g/l, bevorzugt 0,1–5 g/l, besonders bevorzugt 0,3–1 g/l Elektrolyt eingesetzt.
- Der pH-Wert des Elektrolyten liegt aufgrund der Zugabe der Säuren im stark sauren Bereich. Er wird so eingestellt, dass ein Bereich von –1–4, bevorzugt ein Bereich von –0,5–2 und ganz besonders bevorzugt ein pH von um 1 resultiert.
- Weiterhin schlägt die vorliegende Erfindung ein elektrolytisches Abscheidungsverfahren zur galvanischen Aufbringung von Bronzelegierungsschichten auf Gebrauchsgüter und technische Gegenstände vor, bei dem die zu beschichtenden Substrate in einen erfindungsgemäßen Elektrolyten getaucht werden und ein entsprechender Stromfluss bereitgestellt wird. Die bevorzugten Ausgestaltungen des Elektrolyten, die weiter oben besprochen wurden, gelten für das hier vorgestellte Verfahren sinngemäß.
- Der Elektrolyt wird bevorzugt in einem Bereich von 20 bis 40°C, bevorzugt um 30°C temperiert. Es kann eine Stromdichte eingestellt werden, die im Bereich 0,01 bis 100 Ampere pro Quadratdezimeter [A/dm2] liegt und die abhängig ist von der Art der Beschichtungsanlage. So werden in Trommelbeschichtungsverfahren Stromdichten zwischen 0,01 und 0,75 A/dm2 bevorzugt, mehr bevorzugt sind 0,025 bis 0,5 A/dm2 und ganz besonders bevorzugt um 0,1–0,3 A/dm2. In Gestellbeschichtungsverfahren wählt man bevorzugt Stromdichten zwischen 0,2 und 10,0 A/dm2, besonders bevorzugt 0,2 bis 5,0 A/dm2 um ganz besonders bevorzugt 0,25 bis 1,0 A/dm2. Bevorzugte Anwendung ist aber die Trommelanwendung (siehe Einleitung und „Praktische Galvanotechnik”, Eugen G. Leuze Verlag 1997 Seite 74 ff.)
- Bei Verwendung des erfindungsgemäßen Elektrolyten können verschiedene Anoden eingesetzt werden. Es sind vorteilhafter Weise lösliche Anoden besonders geeignet. Als lösliche Anoden werden solche aus einem Material ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Elektrolytkupfer, phosphorhaltigem Kupfer, Zinn, Kupfer-Zinn-Legierung, Kupfer-Zink-Legierung und Kupfer-Zinn-Zink Legierung bevorzugt eingesetzt. Besonders bevorzugt sind Kombinationen von verschiedenen löslichen Anoden aus diesen Materialien.
- Rein-Kupfer-Anoden sind in diesem Elektrolytsystem auch einsetzbar. Die bevorzugten Anoden für den Kupfer-Zinn-Elektrolyten auf Alkylsulfonsäurebasis sind jedoch Kupfer-Zinn-Legierungsanoden mit einem Kupfergehalt von < 90 Gew.-% bis > 50 Gew.-% und einem Zinngehalt von > 10 Gew.-% bis < 50 Gew.-%. Weiter bevorzugt haben die Anoden zwischen 85 – 60 Gew.-% Kupfer und 40 – 15 Gew.-% Zinn. Äußerst bevorzugt liegt der Kupfergehalt der Anode etwa 4 mal so hoch wie deren Zinngehalt. Dies ist auch der Fall, wenn optional andere Elemente wie vorzugsweise Zink in der löslichen Anode vorkommen.
- Der Elektrolyt enthält auch keine gesundheitsschädlichen Stoffe, was ein weiterer Vorteil gegenüber anderen Kupfer-Zinn-Elektrolytsystemen auf Methansulfonsäurebasis ist. Normalerweise werden in methansulfonsauren Kupfer-Zinn-Elektrolyten u. a. Antioxidationsmittel eingesetzt, um die Zinnoxidation zu verhindern. Als Antioxidationsmittel werden oft Hydrochinon (Krebserzeugend), Brenzcatechin und Resorcin (beide gesundheitsschädlich) eingesetzt. Keine der genannten Chemikalien wird im erfindungsgemäßen Elektrolytsystem verwendet. Der Elektrolyt ist stabil genug, um ohne den Zusatz weiterer Antioxidantien auszukommen.
- Unter (C6-C18)-Aryl wird ein aromatisches System, welches vollständig aus 6 bis 18 C-Atomen aufgebaut ist, verstanden. Insbesondere sind dies solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Phenyl, Naphthyl, Anthracenyl etc.
- (C7-C19)-Alkylaryl-Reste sind solche, welche einen (C1-C8)-Alkyl-Rest am (C6-C18)-Aryl-Rest tragen.
- (C7-C19)-Aralkyl-Reste sind solche, welcher einen (C6-C18)-Aryl-Rest an einem (C1-C8)-Alkyl-Rest besitzen, über den der Rest an das betreffende Molekül gebunden ist.
- Unter (C3-C18)-Heteroaryl-Resten wird erfindungsgemäß ein aromatisches System verstanden, welches mindestens drei C-Atome aufweist. Zusätzlich sind weitere Heteroatome im aromatischen System vorhanden. Vorzugsweise sind dies Stickstoff und/oder Schwefel. Derartige Heteroaromaten können zum Beispiel dem Buch Bayer-Walter, Lehrbuch der Organischen Chemie, S. Hirzel Verlag, 22. Auflage, S. 703 ff. entnommen werden.
- (C4-C19)-Alkylheteroaryl bedeutet im Rahmen der Erfindung ein (C3-C18)-Heteroaryl-Rest, welcher mit einem (C1-C8)-Alkyl-Substituenten ergänzt ist. Die Anbindung an das betrachtete Molekül ist hierüber den Heteroaromaten geknüpft.
- (C4-C19)-Heteroaralkyl im Gegenzug ist ein (C3-C18)-Heteroaryl-Rest, der über einen (C1-C8)-Alkyl-Substituenten an das betreffende Molekül gebunden ist.
- Beispiele:
- Erfindungsgemäßer Elektrolytansatz:
180 ml/l Methansulfonsäure (70%) 60 g/l Äpfelsäure 20 ml/l Kupfer-Methansulfonat Lösung (100 g/l) = 2 g/l Cu im Elektrolyt 20 ml/l Zinn-Methansulfonat Lösung (300 g/l) = 6 g/l Sn im Elektrolyt 1 g/l 2-Amino-4-(methylthio)butansäure 1 ml/l Glanzzusatz (Natriumsalz sulfonierter und sulfatierter Alkylphenolethoxylate) - 1. 200 ml/l deionisiertes Wasser wird in einem 1 l Becherglas vorgelegt.
- 2. Danach wird 180 ml/l Methansulfonsäure (70%) unter kräftiger Rührung langsam dazugegeben.
- 3. Dann wird 60 g/l Äpfelsäure unter kräftiger Rührung in der verdünnten Methansulfonsäure aufgelöst. Nach vollständiger Lösung werden
- 4. 20 ml/l Kupfermethansulfonatlösung und 20 ml/l Zinnmethansulfonatlösung dazugegeben und das Volumen mit deionisiertem Wasser auf 950 ml aufgefüllt.
- 5. Danach erfolgt die Zugabe von 1 g/l 2-Amino-4-(methylthio)butansäure. Nachdem diese sich vollständig gelöst hat wird dem Elektrolyten noch
- 6. 1 ml/l Glanzzusatz zugegeben und auf Endvolumen (1000 ml) mit deionisiertem Wasser aufgefüllt.
- Stromdichten für Trommelanwendungen:
- Der optimale Stromdichtebereich für Trommelanwendungen liegt zwischen 0,1 und 0,3 A/dm2.
- Anoden:
- Die Anoden für den Kupfer-Zinn-Elektrolyten auf Methansulfonsäurebasis sind Kupfer-Zinn-Legierungsanoden mit einem Kupfergehalt von 80 Gew.-% und einem Zinngehalt von 20 Gew.-%. [kommerziell erhältlich bei der Goodfellow GmbH] Elektrolyteigenschaften:
Überzugseigenschaften:Farbe hellblau Dichte 1,146 (25°C) Stromausbeute Im Arbeitsstromdichtebereich fast 100%. Abscheiderate 22 mg/Amin–24 mg/Amin Abscheidegeschwindigkeit 0,025 μm/min bei 0,1 A/dm2 Überzug: Kupfer-Zinn Legierungszusammensetzung: 70 – 55% Cu, 30 – 45% Sn (je nach Arbeitsbedingungen) Dichte des Überzugs: ca. 8,2 g/cm3 (berechnet) Farbe: Weiß, L*-Wert ca. 82–85 bei 0,1 A/dm2 - Versuche mit Ersatzsubstanzen für Thiodialkylether-Derivaten:
- Ansatzvorschrift für 1 l Elektrolyt:
-
- Siehe Versuch mit 2-Amino-4-(methylthio)butansäure
- Arbeitsparameter:
1 Liter Becherglas/200 U/min/6 cm Magnetrührstab/WarenbewegungTemperatur: 30°C Anoden: Cu-Sn 80/20 - Die Versuchsabscheidungen erfolgten auf 0,5 dm2 Messingblechen, bei 0,2 A/dm2/10 min und 0,5 A/dm2/5 min.
- Das Thiodialkylether-Derivat wurde bei diesen Versuchen durch nachfolgende Substanzen (siehe Tabelle) ersetzt.
Chem. Bezeichnung Handelsname Hersteller Zugabe Qualität der Schichten Anmerkungen Dithiaoctandiol ( EP1325175B1 )5 g/l + In den niederen Stromdichten (0,5 A/dm2) bilden sich dunkle Schlieren auf silbrigen Untergrund aus. In höheren Stromdichten glänzende, silbrige Niederschläge. Benzalaceton Lugalvan BAR BASF 0,2 g/l – Drängt leicht Zinnschleier in höheren Stromdichten zurück, aber in niederen Stromdichten nur Cu-Abscheidung. Betanaphthol Ethoxylat ( WO2006113473A1 )Ralufon NO14 Raschig 0,5 ml/l – Leichte Schleierbildung in hohen Stromdichten 1-Propansulfonsäure, 3-(2-benzothiazolyl-thio)-Natriumsalz ZPS Raschig 0,5 g/l – Verschlechtert Abscheidungen Modifizierter Polyglykolether Lutron HF 3 BASF 0,25 ml/l – Inhomogene Abscheidung 1-Propansulfon-säure, 3,3'-dithiobis, Dinatriumsalz SPS Raschig 1/6/50 g/l – Nur Kupferabscheidung in den niederen Stromdichten Thiosulfatlösung 0,1 Molar 10 ml/l – Nur Kupferabscheidung in den niederen Stromdichten Phenolsulfonsäure 10 ml/l – Hohe Stromdichten deutlich milchiger, Schichten sehr dunkel Nicotinsäureamid 10–200 mg/l – Nur Kupferabscheidung in den niederen Stromdichten Saccharin 0,5 g/l – Nur Kupferabscheidung in den niederen Stromdichten. In den höheren Stromdichten dunkle Schichten Poly[N-(3-(dimethylamino)propyl)-N'-(3-ethylenoxyethylendimethylamino)propyl]harnstoffdichlorid Mirapol WT 1 ml/l 10% Lsg. – Nur noch Kupferfarbene Schichten Thioanisol 1 ml/l – Starke Geruchsbelästigung, ölt im Elektrolyten aus, pulvrige Abscheidungen - Ergebnis: Keine der getesteten Substanzen wirkt so gut wie die Thiodialkylether-Derivate, insbesondere 2-Amino-4-(methylthio)butansäure.
| Temperatur: | Elektrolyttemperatur: 30°C. |
| pH: | pH < 1 |
Claims (14)
- Cyanidfreier Elektrolyt zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Bronzen auf Gebrauchsgütern und technischen Gegenständen, welcher die abzuscheidenden Metalle in Form von wasserlöslichen Salzen enthält, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt folgende weitere Bestandteile aufweist: a) eine oder mehrere Alkylsulfonsäuren; b) ein ionisches Netzmittel in Form eines Salzes einer sulfonierten oder sulfatierten aromatischen Alkyl-Aryl-Etherverbindung; c) ein Komplexierungsmittel; und d) eine Verbindung ausgewählt aus der Gruppe der Thiodialkylether-Derivate.
- Elektrolyt nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass er als abzuscheidende Metalle Kupfer und Zinn oder Kupfer, Zinn und Zink aufweist.
- Elektrolyt nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die abzuscheidenden Metalle in ionisch gelöster Form vorliegen, wobei die Ionenkonzentration des Kupfers im Bereich 0,2 bis 10 g/L Elektrolyt, die Ionenkonzentration des Zinns im Bereich 1,0 bis 20 g/L Elektrolyt und sofern vorhanden die Ionenkonzentration des Zinks im Bereich 1,0 bis 20 g/L Elektrolyt liegt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass man als Alkylsulfonsäuren solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Methansulfonsäure, Ethansulfonsäure, n-Propansulfonsäure einsetzt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass man als wasserlösliche Salze die Alkansulfonate der abzuscheidenden Metalle einsetzt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass man als Alkyl-Aryl-Etherverbindung eine solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus β-Naphtholethoxylat, Nonylphenolethoxylat, einsetzt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Alkalisalze der entsprechenden Säuren verwendet werden.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass man als Komplexierungsmittel solche ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Oxalsäure, Malonsäure, Bernsteinsäure, Weinsäure, Äpfelsäure, Citronensäure, Maleinsäure, Glutarsäure, Adipinsäure einsetzt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass man als Thiodialkylether-Derivat ein solches ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Thiodiglykolpropoxylat, Thiodiglykol, Thiodiglycerol, Thiodiglykolethoxylat, Thiodiethylen-bis(3-(3,5-di-tert.-butyl-4-hydroxyphenyl)propionat), 2-Amino-4-(methylthio)butansäure, 2,2'-Thiodiethanthiol, 3,3'-Thiodipropanthiol, 2,2'-Thiodiessigsäure, 3,3'-Thiodipropionsäure, 2,2'-Thiodiessigsäure-diethylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-dimethylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-dioctylester, 2,2'-Thiodiessigsäure-didodecylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-didodecylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-dimethylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-diethylester, 3,3'-Thiodipropionsäure-dioctylester, 3,3'-Thiodipropanol, 2,2'-Thiodiethanol, 4,4'-Thiodibutanol, 2-Propionsäure-1,1'-(thiodi-2,1-ethandiyl)ester, Dioctadecyl-3,3'-thiodipropionat einsetzt.
- Elektrolyt nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert des Elektrolyten zwischen –1 und 4 liegt.
- Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Kupfer-Zinn-Bronzen auf Gebrauchsgütern und technischen Gegenständen, bei dem man die zu beschichtenden Substrate in einen Elektrolyten taucht, welcher die abzuscheidenden Metalle in Form von wasserlöslichen Salzen enthält, und einen entsprechenden Stromfluss bereitstellt, dadurch gekennzeichnet, dass ein Elektrolyt gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10 verwendet wird.
- Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Elektrolyt während der Abscheidung der Metalle im Bereich 20 bis 40°C temperiert wird.
- Verfahren nach Anspruch 11 und/oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass eine Stromdichte eingestellt wird, die im Bereich 0,01 bis 100 Ampere pro Quadratdezimeter liegt.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 11–13, dadurch gekennzeichnet, dass lösliche Anoden aus einem Material ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus Elektrolytkupfer, phosphorhaltigem Kupfer, Zinn, Kupfer-Zinn-Legierung, Kupfer-Zink-Legierung und Kupfer-Zinn-Zink-Legierung oder Kombinationen dieser Anoden verwendet werden.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102011008836A DE102011008836B4 (de) | 2010-08-17 | 2011-01-19 | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102010034646.2 | 2010-08-17 | ||
| DE102010034646 | 2010-08-17 | ||
| DE102011008836A DE102011008836B4 (de) | 2010-08-17 | 2011-01-19 | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102011008836A1 DE102011008836A1 (de) | 2012-02-23 |
| DE102011008836B4 true DE102011008836B4 (de) | 2013-01-10 |
Family
ID=44514714
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102011008836A Expired - Fee Related DE102011008836B4 (de) | 2010-08-17 | 2011-01-19 | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20130140185A1 (de) |
| EP (1) | EP2606164A1 (de) |
| JP (1) | JP2013534276A (de) |
| KR (1) | KR20130098304A (de) |
| CN (1) | CN103069054B (de) |
| DE (1) | DE102011008836B4 (de) |
| WO (1) | WO2012022689A1 (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102012008544A1 (de) | 2012-05-02 | 2013-11-07 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Verchromte Verbundwerkstoffe ohne Nickelschicht |
| EP2735627A1 (de) * | 2012-11-26 | 2014-05-28 | ATOTECH Deutschland GmbH | Kupferplattierbadzusammensetzung |
| US20160298249A1 (en) * | 2014-09-30 | 2016-10-13 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Cyanide-free electroplating baths for white bronze based on copper (i) ions |
| ES2762748T3 (es) | 2015-05-22 | 2020-05-25 | Basf Se | Beta-naftoletersulfonatos, procedimiento para su preparación y su uso como mejoradores de brillo |
| CN105220189A (zh) * | 2015-10-30 | 2016-01-06 | 无锡市嘉邦电力管道厂 | 一种钐-锡-铜合金电镀液及其电镀方法 |
| DE102021117095A1 (de) | 2021-07-02 | 2023-01-05 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Bronzeschichten als Edelmetallersatz |
| DE202021004169U1 (de) | 2021-07-02 | 2022-12-07 | Umicore Galvanotechnik Gmbh | Bronzeschicht als Edelmetallersatz in Smart Cards |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1111097A2 (de) * | 1999-12-22 | 2001-06-27 | Nippon MacDermid Co., Ltd. | Lösung für das Elektroplattieren einer glänzenden Zinn-Kupfer-Legierung |
| EP1146148A2 (de) * | 2000-04-14 | 2001-10-17 | Nihon New Chrome Co. Ltd. | Cyanidfreies Pyrophosphorsäure-Bad zum elektrolytischen Abscheiden von Kupfer-Zinnlegierungsüberzügen |
| WO2004005528A2 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Nihon New Chrome Co., Ltd. | Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating |
| EP1408141A1 (de) * | 2002-10-11 | 2004-04-14 | Enthone Inc. | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Bronzen |
| EP1325175B1 (de) * | 2000-09-20 | 2005-05-04 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-kupfer-legierungsschichten |
| EP1874982A1 (de) * | 2005-04-14 | 2008-01-09 | Enthone, Inc. | Verfahren zur galvanischen abscheidung von bronzen |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3833486A (en) * | 1973-03-26 | 1974-09-03 | Lea Ronal Inc | Cyanide-free electroplating |
| US5730854A (en) * | 1996-05-30 | 1998-03-24 | Enthone-Omi, Inc. | Alkoxylated dimercaptans as copper additives and de-polarizing additives |
| US6251249B1 (en) * | 1996-09-20 | 2001-06-26 | Atofina Chemicals, Inc. | Precious metal deposition composition and process |
| US6508927B2 (en) * | 1998-11-05 | 2003-01-21 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Tin-copper alloy electroplating bath |
| JP3433291B2 (ja) * | 1999-09-27 | 2003-08-04 | 石原薬品株式会社 | スズ−銅含有合金メッキ浴、スズ−銅含有合金メッキ方法及びスズ−銅含有合金メッキ皮膜が形成された物品 |
| DE10046600C2 (de) * | 2000-09-20 | 2003-02-20 | Schloetter Fa Dr Ing Max | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Zinn-Kupfer-Legierungsschichten und Verwendung des Elektrolyten |
| DE60226196T2 (de) * | 2001-05-24 | 2009-05-14 | Shipley Co., L.L.C., Marlborough | Zinn-Plattieren |
| WO2003012174A1 (en) * | 2001-07-27 | 2003-02-13 | Pirelli Pneumatici S.P.A. | Electrolytic process for depositing a layer of copper on a steel wire |
| JP4698904B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2011-06-08 | 株式会社大和化成研究所 | 錫又は錫系合金めっき浴、該めっき浴の建浴用又は維持・補給用の錫塩及び酸又は錯化剤溶液並びに該めっき浴を用いて製作した電気・電子部品 |
| JP3876383B2 (ja) * | 2002-06-03 | 2007-01-31 | 京都市 | 銅−錫合金めっき浴及び該めっき浴を用いた銅−錫合金めっき方法 |
| JP4332667B2 (ja) * | 2003-10-16 | 2009-09-16 | 石原薬品株式会社 | スズ及びスズ合金メッキ浴 |
| TW200613586A (en) * | 2004-07-22 | 2006-05-01 | Rohm & Haas Elect Mat | Leveler compounds |
-
2011
- 2011-01-19 DE DE102011008836A patent/DE102011008836B4/de not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-12 CN CN201180038728.8A patent/CN103069054B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-08-12 KR KR1020137003759A patent/KR20130098304A/ko not_active Ceased
- 2011-08-12 JP JP2013524427A patent/JP2013534276A/ja active Pending
- 2011-08-12 EP EP11749145.6A patent/EP2606164A1/de not_active Withdrawn
- 2011-08-12 WO PCT/EP2011/063923 patent/WO2012022689A1/en not_active Ceased
- 2011-08-12 US US13/816,623 patent/US20130140185A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1111097A2 (de) * | 1999-12-22 | 2001-06-27 | Nippon MacDermid Co., Ltd. | Lösung für das Elektroplattieren einer glänzenden Zinn-Kupfer-Legierung |
| EP1146148A2 (de) * | 2000-04-14 | 2001-10-17 | Nihon New Chrome Co. Ltd. | Cyanidfreies Pyrophosphorsäure-Bad zum elektrolytischen Abscheiden von Kupfer-Zinnlegierungsüberzügen |
| EP1325175B1 (de) * | 2000-09-20 | 2005-05-04 | Dr.Ing. Max Schlötter GmbH & Co. KG | Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-kupfer-legierungsschichten |
| WO2004005528A2 (en) * | 2002-07-05 | 2004-01-15 | Nihon New Chrome Co., Ltd. | Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating |
| EP1408141A1 (de) * | 2002-10-11 | 2004-04-14 | Enthone Inc. | Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Bronzen |
| EP1874982A1 (de) * | 2005-04-14 | 2008-01-09 | Enthone, Inc. | Verfahren zur galvanischen abscheidung von bronzen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20130140185A1 (en) | 2013-06-06 |
| JP2013534276A (ja) | 2013-09-02 |
| DE102011008836A1 (de) | 2012-02-23 |
| WO2012022689A1 (en) | 2012-02-23 |
| KR20130098304A (ko) | 2013-09-04 |
| CN103069054A (zh) | 2013-04-24 |
| CN103069054B (zh) | 2016-08-10 |
| EP2606164A1 (de) | 2013-06-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE102011008836B4 (de) | Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungsschichten | |
| EP2116634B1 (de) | Modifizierter Kupfer-Zinn-Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Bronzeschichten | |
| EP1961840B1 (de) | Kupfer-Zinn-Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Bronzeschichten | |
| DE102008050135B4 (de) | Verfahren zur Abscheidung von Platin-Rhodiumschichten mit verbesserter Helligkeit | |
| DE102008032398A1 (de) | Verbesserter Kupfer-Zinn-Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Bronzeschichten | |
| EP1408141B1 (de) | Verfahren und Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von Bronzen | |
| AT514818A1 (de) | Abscheidung von Cu, Sn, Zn-Beschichtungen auf metallischen Substraten | |
| DE102009024396A1 (de) | Cyanid-freier Elektrolyt zur galvanischen Abscheidung von Gold oder dessen Legierungen | |
| EP2130948A1 (de) | Pyrophosphathaltiges Bad zur cyanidfreien Abscheidung von Kupfer-Zinn-Legierungen | |
| DE2355581B2 (de) | ||
| JP2013534276A5 (de) | ||
| DE2143806C3 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten | |
| EP3067444B1 (de) | Abscheidung von dekorativen palladium-eisen-legierungsbeschichtungen auf metallischen substanzen | |
| AT514427B1 (de) | Elektrolytbad sowie damit erhältliche Objekte bzw. Artikel | |
| EP0115020B1 (de) | Saures galvanisches Zinkbad | |
| DE19924895B4 (de) | Verfahren zur Herstellung einer cyanidfreien, für galvanische Gold-Bäder geeigneten Goldverbindungslösung | |
| DE102020131371B4 (de) | Verwendung eines Elektrolyten zur Erzeugung einer Rutheniumlegierungsschicht | |
| DE102020133188B4 (de) | Verwendung eines Silber-Bismut-Elektrolyt zur Abscheidung von Hartsilberschichten | |
| EP0163944A2 (de) | Wässrige, saure, Nickel- und Cobalt-Ionen enthaltende Elektrolyte zur galvanischen Abscheidung von harten, anlaufbeständigen, weiss glänzenden Legierungsüberzügen | |
| DE102013110263A1 (de) | Galvanisches Bad | |
| AT528141A1 (de) | Elektrolytbad zur Abscheidung einer Palladium-Zinn-Legierung | |
| EP2604727A1 (de) | Elektrolytisches Bad zum Abscheiden einer Goldkupferlegierung | |
| HK1152352B (en) | Modified copper-tin electrolyte and process for the deposition of bronze layers |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R016 | Response to examination communication | ||
| R016 | Response to examination communication | ||
| R018 | Grant decision by examination section/examining division | ||
| R020 | Patent grant now final |
Effective date: 20130411 |
|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |