DE102019001209A1

DE102019001209A1 - Lichtdurchlässige struktur

Info

Publication number: DE102019001209A1
Application number: DE102019001209.7A
Authority: DE
Inventors: Masanobu Isshiki; Toru Ikeda; Takaaki Murakami; Yosuke Takeda; Minoru Tamada
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd
Current assignee: AGC Inc
Priority date: 2018-02-22
Filing date: 2019-02-19
Publication date: 2019-08-22
Also published as: JP2019144475A; JP7119417B2; US11267750B2; CN110187422A; CN110187422B; US20190256410A1

Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform, die aufweist: einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 5,8 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µmbis 0,05/µm; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine lichtdurchlässige Struktur, die gleichzeitig ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit erreichen kann.
In Bildanzeigevorrichtungen (Flüssigkristallanzeigen, organischen EL-Anzeigen, Plasmaanzeigen, usw.), die in verschiedenen Vorrichtungen (z.B. TV-Empfängern, Personalcomputern, Smartphones und Mobiltelefonen), Fahrzeugen, usw., bereitgestellt sind, wird die Sichtbarkeit durch ein Reflexionsbild von externem Licht, wie z.B. Innenbeleuchtungslicht (von z.B. Leuchtstofflampen) oder Sonnenlicht, das auf den Anzeigebildschirm scheint, vermindert.
Zum Unterdrücken einer Reflexion von externem Licht wird die Oberfläche eines Substrats (z.B. einer Glasplatte) als Anzeigeoberfläche einer Bildanzeigevorrichtung einer Blendschutzbehandlung unterzogen. Die Blendschutzbehandlung ist eine Behandlung, welche die Oberfläche uneben macht, wodurch einfallendes Licht gestreut wird. Aufgrund einer diffusen Reflexion von einfallendem Licht wird ein Reflexionsbild verschwommen und somit wird der Einfluss der Reflexion von externem Licht geringer gemacht. Als bekannte Blendschutzbehandlungsverfahren gibt es z.B. das Ätzen der Oberfläche eines Substrats und das Bilden einer Blendschutzschicht mit einer unebenen Oberfläche. Ein bekanntes Blendschutzschicht-Bildungsverfahren ist ein Verfahren, bei dem eine Beschichtungsflüssigkeit, die eine Siliziumoxid-Vorstufe enthält, wie z.B. ein hydrolytisches Kondensat eines Alkoxysilans, durch Sprühen auf ein Substrat aufgebracht und dann erwärmt wird (vgl. z.B. das Patentdokument 1).
In dem Fall, bei dem die Blendschutzbehandlung mit der Oberfläche eines Substrats durchgeführt wird, tritt ein Problem dahingehend auf, dass sich die Sichtbarkeit eines Bilds aufgrund einer Zunahme des Trübungswerts, einer Zunahme des Glitzerns, usw., verschlechtert.
Bezüglich eines von Oberflächenformparametern zum Erhalten einer hohen Auflösung gibt es ein Verfahren, das zeigt, dass eine Fläche von flachen Abschnitten bei der Bedingung von (H1 - H2)/Ra ≥ 0,25 klein ist, wobei in einer Bezugskurve einer rauen gekrümmten Oberfläche einer unebenen Oberfläche H1 eine Höhe bei dem Flächenanteil von 70 % ist und H2 eine Höhe bei dem Flächenanteil von 99 % ist. Diese Bedingung zeigt, dass eine Fläche von flachen Abschnitten, die an einem Talboden der Unebenheit vorliegt, klein ist, gibt jedoch keine Definition für flache Abschnitte an, die an hohen Abschnitten in der Höhenrichtung vorliegen. Die Spiegelreflexion tritt jedoch auch auf den flachen Abschnitten auf, die an den hohen Abschnitten in der Höhenrichtung vorliegen. Daher ist die vorstehend beschriebene Definition zum Bewerten des Anteils des flachen Abschnitts durch Erhalten eines Gradienten für alle Abschnitte nicht ausreichend (vgl. z.B. das Patentdokument 2).

Patentdokument 1: JP 2009-058640 A
Patentdokument 2: WO 2015/137196

Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer lichtdurchlässigen Struktur, die gleichzeitig ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit erreichen kann.
Zum Lösen der vorstehend beschriebenen Aufgabe stellt die vorliegende Erfindung eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 5,8 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,46 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 0,32 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,10; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,32 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,4 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm.
Die vorliegende Erfindung stellt eine lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform bereit, die aufweist: Einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0040/µm² bis 0,016/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 20 % bis 34 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von 0,14 bis 0,45; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,8 % bis 10,17 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm.
Es ist bevorzugt, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung eine Glasplatte ist.
Es ist bevorzugt, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung ein Glas, dessen Oberfläche einer Behandlung zur Bildung von Unebenheiten unterzogen worden ist, oder ein Glas ist, auf dem eine Beschichtung mit unebenen Formen ausgebildet ist.
Es ist bevorzugt, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung eine gehärtete Glasplatte ist.
Es ist bevorzugt, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung dreidimensionale Formen aufweist.
Die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine Druckschicht aufweisen.
Die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung kann eine darauf ausgebildete wasserabstoßend/ölabstoßend behandelte Schicht aufweisen.
Die vorliegende Erfindung stellt eine Anzeigevorrichtung bereit, welche die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung als Abdeckungselement umfasst.
Wichtige optische Eigenschaften, die für einen Blendschutzfilm erforderlich sind, sind ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen, eine sehr gute Sichtbarkeit und ein geringes Glitzern. Im Allgemeinen wird jedoch die Sichtbarkeit vermindert und das Glitzern wird auffälliger, wenn das Blendschutz-Leistungsvermögen verbessert wird. Es ist daher schwierig, sowohl ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen als auch eine sehr gute Sichtbarkeit und ferner alle eines sehr guten Blendschutz-Leistungsvermögens, einer sehr guten Sichtbarkeit und eines geringen Glitzerns bereitzustellen.
Die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung ermöglicht das gleichzeitige Erreichen eines sehr guten Blendschutz-Leistungsvermögens und einer sehr guten Sichtbarkeit und vorzugsweise sogar eines geringen Glitzerns.

1A zeigt ein Verfahren zum Messen eines Reflexionsbild-Streuindexwerts R.
1B zeigt ein Verfahren zum Messen eines Reflexionsbild-Streuindexwerts R.
2 zeigt ein Verfahren zum Messen eines Glitzerindexwerts (Anti-Glitzern) Z.
3 ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel für Oberflächenunebenheitsformen einer lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt.
4 ist ein Diagramm, das einen Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt zeigt.
5 zeigt 3072 (horizontal) x 3072 (vertikal) synthetisierte, quadratisch ausgebildete Daten, die als eine Anordnung von ursprünglichen und invertierten und/oder gedrehten Daten erzeugt werden.
6 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Sichtbarkeitsindexwert T und dem Reflexionsbild-Streuindexwert R in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
7 ist eine vergrößerte Ansicht eines Teils von 6.
8 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Reflexionsbild-Streuindexwert R und dem Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
9 ist eine vergrößerte Ansicht eines Teils von 8.
10 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und der Vorwölbungsdichte in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
11 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem Vorwölbungsflächenanteil in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
12 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
13 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und der Schiefe (dem Grad der Asymmetrie) Ssk in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.
14 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in Beispielen und Vergleichsbeispielen zeigt.

Nachstehend wird eine lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung beschrieben.
In dieser Beschreibung bedeutet der Begriff „lichtdurchlässig“, dass eine jeweilige Struktur den Durchgang von sichtbarem Licht ermöglicht. D.h., es reicht aus, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung den Durchgang von sichtbarem Licht ermöglicht und es ist bevorzugt, dass sie transparent ist. Eine transparente lichtdurchlässige Struktur bedeutet, dass sie im Durchschnitt den Durchgang von 80 % oder mehr von Licht in einem Wellenlängenbereich von 400 nm bis 1100 nm zulässt (d.h., die durchschnittliche Durchlässigkeit beträgt 80 % oder mehr). Die durchschnittliche Durchlässigkeit für Licht in einem Wellenlängenbereich von 400 nm bis 1100 nm wird mit einer Ulbricht-Kugel gemessen.
Beispiele für Materialien der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung umfassen Glas und Harze. Beispiele für Glas umfassen Natronkalkglas, Borosilikatglas, Aluminosilikatglas und alkalifreies Glas. Beispiele für Harze umfassen Polyethylenterephthalat, Polycarbonat, Triacetylcellulose und Polymethylmethacrylat.
Die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung kann in der Form einer Platte, einer Folie oder dergleichen vorliegen.
Es ist bevorzugt, dass die lichtdurchlässige Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung eine Glasplatte ist. Die Glasplatte kann eine glatte Glasplatte sein, die durch ein Floatverfahren, ein Verschmelzungsverfahren, ein Down-Draw-Verfahren oder dergleichen gebildet wird, oder eine Profilglasplatte sein, die durch ein Auswalzverfahren oder dergleichen gebildet wird und eine unebene Oberfläche aufweist. Die Glasplatte muss nicht immer eine flache Glasplatte sein und kann eine gekrümmte Glasplatte sein.
Es ist bevorzugt, dass die Glasplatte eine gehärtete Glasplatte ist, die einem Luftkühlungshärten oder einem chemischen Härten unterzogen worden ist. Die Härtungsbehandlung erhöht die Festigkeit des Glases und kann beispielsweise die Dicke vermindern, während die Festigkeit beibehalten wird.
Es gibt keine speziellen Beschränkungen bezüglich der Dicke der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung. Es kann eine Glasplatte verwendet werden, deren Dicke 10 mm oder weniger, vorzugsweise 0,05 mm bis 3 mm beträgt. Eine dünnere Glasplatte ist für Anwendungen bevorzugt, bei denen eine Erhöhung der Durchlässigkeit gewünscht ist, da die Lichtabsorption stärker unterdrückt werden kann, wenn die Dicke abnimmt. Ferner wird das Gewicht der lichtdurchlässigen Struktur verhindert, wenn deren Dicke abnimmt.
Nachstehend wird eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung detailliert beschrieben.
In dieser Beschreibung wird als Index für den Blendschutz der Reflexionsbild-Streuindexwert R verwendet.
(Reflexionsbild-Streuindexwert R)
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R, der in dieser Beschreibung verwendet wird, wird gemessen, nachdem die Hauptoberfläche, die nicht mit einer Blendschutzschicht ausgebildet ist, mittels eines Farbmarkers PX-30 (hergestellt durch Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) ausreichend bestrichen worden ist, um eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Hauptoberfläche, die nicht mit der Blendschutzschicht ausgebildet ist, und der Luft zu verhindern. Der Reflexionsbild-Streuindexwert R stellt dar, in welchem Ausmaß ein Reflexionsbild eines Gegenstands (z.B. einer Beleuchtungsvorrichtung), die in der Nähe einer Glasplatte angeordnet ist, mit dem Gegenstand zusammenfällt. Es wurde bestätigt, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R eine gute Korrelation mit einem Blendschutz-Beurteilungsergebnis einer visuellen Untersuchung eines Beobachters aufweist. Beispielsweise weist eine Glasplatte mit einem kleinen Reflexionsbild-Streuindexwert R (nahe bei „0“) einen geringen Blendschutz auf und umgekehrt weist eine Glasplatte mit einem hohen Reflexionsbild-Streuindexwert R (nahe bei „1“) ein sehr gutes Blendschutzvermögen auf.
Im Allgemeinen wird in dem Fall, bei dem eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Hauptoberfläche, die nicht mit einer Blendschutzschicht ausgebildet ist, und der Luft verhindert wird, der Wert R größer als in dem Fall, bei dem eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Hauptoberfläche, die nicht mit einer Blendschutzschicht ausgebildet ist, und der Luft nicht verhindert wird, da die Menge des Lichts, das durch eine Spiegelreflexion zur Einfallsseite zurückkehrt, entsprechend abnimmt. In der vorliegenden Erfindung wird zum korrekteren Bewerten der optischen Eigenschaften einer unebenen Oberfläche eine Messung in einem Zustand durchgeführt, bei dem die Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Hauptoberfläche, die nicht mit einer Blendschutzschicht ausgebildet ist, und der Luft verhindert wird.
Nachstehend wird ein Verfahren zum Messen eines Reflexionsbild-Streuindexwerts R unter Bezugnahme auf die 1A und 1B beschrieben.
Die 1A zeigt schematisch ein Beispiel für ein Messgerät, das zum Messen eines Reflexionsbild-Streuindexwerts R eines transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm verwendet wird.
Wie es in der 1A gezeigt ist, weist das Messgerät 101 eine lineare Lichtquellenvorrichtung 107 und eine Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 auf.
Die lineare Lichtquellenvorrichtung 107 weist eine Lichtquelle 111 und eine schwarze flache Platte 112 auf, die um die Lichtquelle 111 angeordnet ist. Die Lichtquelle 111 ist eine lineare Lichtquelle, die sich in einer Richtung senkrecht zur Papieroberfläche in der 1A erstreckt, und ist in einer schlitzförmigen Öffnung angeordnet, die in der Mitte der schwarzen flachen Platte 112 angeordnet ist.
Die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 ist in einer Ebene angeordnet, die senkrecht zur Längsachse der Lichtquelle 111 ist und nahezu durch die Mitte der Lichtquelle 111 hindurchtritt. Demgemäß ist die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 so angeordnet, dass sie auf die Lichtquelle 111 an einer Position gerichtet ist, die nahezu die Mitte der Lichtquelle 111 entlang der Längsachse ist. Die Distanz zwischen der Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 und der Lichtquelle 111 beträgt etwa 60 mm.
Der Brennpunkt der Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 ist auf eine Position eingestellt, bei der ein Bild der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 gebildet wird, nachdem es durch die äußere Oberfläche 122 des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 reflektiert worden ist.
Das transparente Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120, das ein zu messender Gegenstand ist, wird in dem Messgerät 101 derart angeordnet, dass sich die äußere Oberfläche 122 mit einem Blendschutzfilm auf der Seite der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 und der Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 befindet. In Fällen des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm bezüglich der Beispiele A1 bis F2 und Vergleichsbeispiele A1 bis D7 ist die äußere Oberfläche 122 eine äußere Oberfläche mit aufgebrachtem Blendschutzfilm. Eine Oberfläche gegenüber der äußeren Oberfläche mit aufgebrachtem Blendschutzfilm wird unter Verwendung eines Farbmarkers PX-30 (hergestellt von Mitsubishi Pencil Co., Ltd.) ausreichend in Schwarz bestrichen, so dass eine Reflexion an der Grenzfläche zwischen der Rückoberfläche des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm und der Luft während der Messung verhindert wird.
Wenn ein Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 unter Verwendung des Messgeräts 101 gemessen wird, wird Licht von der Lichtquelle 111 der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 in die Richtung der äußeren Oberfläche 122 des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 eingestrahlt.
Das Licht, das von der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 eingestrahlt wird, tritt in die äußere Oberfläche 122 des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 mit einem Einfallswinkel θi ein. Dieses Licht wird auf der äußeren Oberfläche 122 des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 mit einem Reflexionswinkel θr reflektiert und/oder gestreut und tritt dann in die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 ein.
Beispielsweise zeigt die 1A eine Situation, in der ein erstes einfallendes Licht 131, das von der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 eingestrahlt wird, auf der äußeren Oberfläche 122 reflektiert wird (Spiegelreflexion), so dass ein erstes Reflexionslicht 132 erzeugt wird, und dann in die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 eintritt.
In diesem Fall gilt die Formel θr - θi = 0° zwischen dem Einfallswinkel θi des ersten einfallenden Lichts 131 und dem Reflexionswinkel θr des ersten Reflexionslichts 132.
In einem solchen Fall der Spiegelreflexion, insbesondere in dem Fall, wenn der Einfallswinkel θi = der Reflexionswinkel θr = 5,7° ist, wird die Helligkeit des ersten Reflexionslichts 132, die durch die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 gemessen wird, als R₁ bezeichnet. Da jedoch eine tatsächliche Messung Fehler aufweist, ist die Helligkeit R₁ eine Helligkeit des ersten Reflexionslichts 132, die bei der Bedingung θr - θi = 5,7° ± 0,1° gemessen wird.
Andererseits zeigt die 1B eine Situation, in der ein zweites einfallendes Licht 133, das von der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 eingestrahlt wird, auf der äußeren Oberfläche 122 gestreut und reflektiert wird, so dass ein zweites Reflexionslicht 134 erzeugt wird, und dann in die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 eintritt.
Hier wird insbesondere in dem Fall, bei dem die Formel θr - θi = 0,5° ± 0,1° zwischen dem Einfallswinkel θi des zweiten einfallenden Lichts 133 und dem Reflexionswinkel θr des zweiten Reflexionslichts 134 gilt, die Helligkeit des zweiten Reflexionslichts 134, die durch die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 gemessen wird, als R₂ bezeichnet.
Zusätzlich wird in dem Fall, bei dem die Formel θr - θi = -0,5° ± 0,1° zwischen dem Einfallswinkel θi des zweiten einfallenden Lichts 133 und dem Reflexionswinkel θr des zweiten Reflexionslichts 134 gilt, die Helligkeit des zweiten Reflexionslichts 134, die durch die Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung 115 gemessen wird, als R₃ bezeichnet.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120 wird gemäß der folgenden Gleichung (1) gemäß der so erfassten Helligkeitswerte R₁, R₂ und R₃ berechnet: $(Reflexionsbild - Streuindexwert R) = (R_{2} + R_{3}) / (2 \times R_{1})$
Es wurde bestätigt, dass ein solcher Reflexionsbild-Streuindexwert R eine gute Korrelation mit einem Beurteilungsergebnis des Blendschutzvermögens einer visuellen Erkennung eines Beobachters aufweist. Beispielsweise weist ein transparentes Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120, das einen kleinen Reflexionsbild-Streuindexwert R (nahe bei „0“) aufweist, ein niedriges Blendschutzvermögen auf und umgekehrt weist ein transparentes Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 120, das einen großen Reflexionsbild-Streuindexwert R (nahe bei „1“) aufweist, ein sehr gutes Blendschutzvermögen auf.
Eine Messung, wie sie vorstehend beschrieben worden ist, kann beispielsweise mit dem Gerät SMS-1000, hergestellt von DM & S, durchgeführt werden. In dem Fall, bei dem dieses Gerät verwendet wird, wird ein C1614A-Objektiv mit einer Kameraobjektivbrennweite von 16 mm mit der Blende 5,6 verwendet. Die Distanz von der äußeren Oberfläche 122 zu dem Kameraobjektiv wird auf etwa 300 mm eingestellt und der Aufnahmemaßstab wird in einem Bereich von 0,0276 bis 0,0278 eingestellt.
Zusätzlich beträgt in diesem Messgerät die Abmessung der schlitzförmigen Öffnung der flachen Rückplatte 112 in der linearen Lichtquellenvorrichtung 107 101 mm × 1 mm.
In dieser Beschreibung wird ein Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) T, der gemäß dem folgenden Verfahren gemessen wird, als Index der Sichtbarkeit verwendet.
(Sichtbarkeitsindexwert T)
Der Sichtbarkeitsindexwert T wird gemäß dem folgenden Verfahren mit einem GonioFotometer GC5000L, hergestellt von Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., gemessen. Zuerst wird ein erstes Licht auf die lichtdurchlässige Struktur von der Seite gegenüber der Hauptoberfläche, die einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, in einer Richtung eingestrahlt, die in einem Bereich von 0° ± 0,5° liegt (0° entspricht einer Richtung parallel zur Dickenrichtung der lichtdurchlässigen Struktur; nachstehend auch als „Winkel 0°-Richtung“ bezeichnet). Das erste Licht, das durch die lichtdurchlässige Struktur hindurchgetreten ist, und Durchlasslicht, das von der Hauptoberfläche ausgetreten ist, die einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, werden empfangen und deren Leuchtdichte wird als „Leuchtdichte von 0°-Durchlasslicht“ durch das Gerät gemessen.
Entsprechende Vorgänge werden dann durchgeführt, während der Winkel θ, bei dem Licht, das von der Hauptoberfläche ausgetreten ist, die einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, empfangen wird, in einem Bereich von -30° bis 30° variiert wird. Die Leuchtdichteverteilung von Lichtstrahlen, die aus der Hauptoberfläche ausgetreten sind, die einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist, wird gemessen und die gemessenen Leuchtdichtewerte werden addiert, so dass die „Leuchtdichte des gesamten Durchlasslichts“ erhalten wird.
Der Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) T wird gemäß der folgenden Gleichung (2) berechnet: $\begin{array}{l} (Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) T) = (Leuchtdichte von 0 ° - \\ Durchlasslicht) / (Leuchtdichte des gesamten Durchlasslichts) \end{array}$
Es wurde bestätigt, dass der Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) T eine gute Korrelation mit einem Beurteilungsergebnis der visuellen Erkennung eines Beobachters aufweist und ein Verhalten zeigt, das einem Verhalten sehr ähnlich ist, wie es durch den menschlichen Sehsinn wahrgenommen wird. Beispielsweise weist eine lichtdurchlässige Struktur mit einem Blendschutzfilm, der einen kleinen Sichtbarkeitsindexwert T (nahe bei „0“) aufweist, eine niedrige Auflösung auf, und umgekehrt weist eine lichtdurchlässige Struktur, die einen großen Sichtbarkeitsindexwert T aufweist, eine hohe Auflösung auf. Als solches kann der Sichtbarkeitsindexwert T als quantitativer Index eingesetzt werden, der zum Beurteilen der Auflösung einer lichtdurchlässigen Struktur verwendet wird.
Es ist bevorzugt, dass der Sichtbarkeitsindexwert T einer lichtdurchlässigen Struktur größer als oder gleich 0,94 ist, es ist mehr bevorzugt, dass deren Sichtbarkeitsindexwert T größer als oder gleich 0,945 ist, und es ist besonders bevorzugt, dass deren Sichtbarkeitsindexwert T größer als oder gleich 0,96 ist. Wenn der Sichtbarkeitsindexwert T der lichtdurchlässigen Struktur größer als oder gleich 0,94 ist, kann ein Vorteil dahingehend erhalten werden, dass in dem Fall der Verwendung der lichtdurchlässigen Struktur als Abdeckglas einer Anzeigevorrichtung die Sichtbarkeit einer Anzeige sehr gut und klar ist, d.h., leicht erkennbar ist.
In dieser Beschreibung wird ein Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z, der gemäß dem folgenden Verfahren gemessen wird, als Glitzerindex verwendet.
Der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) stellt dar, in welchem Ausmaß eine Ungleichmäßigkeit der Helligkeit erfasst wird, wobei die Ungleichmäßigkeit der Helligkeit erzeugt wird, wenn ein Licht (Bild) eines angezeigten Bilds durch eine Glasplatte hindurchtritt, das durchgelassene Licht durch die Oberfläche der Glasplatte gestreut wird und dann das gestreute Licht einer Interferenz mit sich selbst unterliegt. Es wurde bestätigt, dass der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) eine gute Korrelation mit dem Ergebnis einer Glitzerbeurteilung eines visuellen Erkennens eines Beobachters aufweist. Beispielsweise besteht eine Tendenz dahingehend, dass eine Glasplatte mit einem kleinen Glitzerindexwert Z ein beträchtliches Glitzern aufweist und umgekehrt eine Glasplatte mit einem großen Glitzerindexwert Z ein geringes Glitzern aufweist.
(Glitzerindexwert Z)
Als nächstes wird nachstehend ein Verfahren zum Messen des Glitzerindexwerts (Anti-Glitzern) Z des transparenten Substrats unter Bezugnahme auf die 2 beschrieben. Die 2 zeigt schematisch ein Beispiel für ein Messgerät, das zum Messen des Glitzerindexwerts (Anti-Glitzern) Z des transparenten Substrats (ein Glitzerindexwert-Messgerät 201) verwendet wird.
Zum Messen des Glitzerindexwerts Z wird zuerst eine Anzeigevorrichtung 206 (iPad der dritten Generation (eingetragene Marke)) mit einer Auflösung von 264 ppi vorbereitet. Die Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung kann beispielsweise mit einer Abdeckung zum Schutz vor einer Beschädigung versehen werden.
Eine zu messende Probe, d.h., ein transparentes Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 (oder ein transparentes Substrat, das einer Blendschutzbehandlung unterzogen worden ist und somit eine Blendschutzfunktion aufweist), wird auf die Seite der Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung 206 aufgebracht. In dem Fall, bei dem ein Blendschutzfilm auf einer Hauptoberfläche (einer ersten Hauptoberfläche 204) des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 ausgebildet ist, wird das transparente Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 derart auf der Seite der Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung 206 angeordnet, dass sich die erste Hauptoberfläche 204 auf der Seite gegenüber der Anzeigevorrichtung 206 befindet (d.h., auf der Seite eines Detektors 202). Insbesondere wird das transparente Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 derart auf der Seite der Anzeigeoberfläche der Anzeigevorrichtung 206 angeordnet, dass die andere Oberfläche (eine zweite Hauptoberfläche 205) auf die Anzeigevorrichtung 206 gerichtet ist.
Als nächstes wird in einem Zustand, bei dem die Anzeigevorrichtung 206 eingeschaltet ist, der Grad des Glitzerns des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 durch eine Bildanalyse unter Verwendung des Analysegeräts SMS-1000, hergestellt von Display-Messtechnik & Systeme (DM & S), erfasst. Als Ergebnis wird ein Glitzerwert Za erhalten.
Es ist bevorzugt, dass ein grünes monochromes Bild, das aus RGB-Werten (0, 255, 0) aufgebaut ist, auf dem gesamten Anzeigebildschirm der Anzeigevorrichtung 206 angezeigt wird. Dies dient zur Minimierung der Einflüsse eines Unterschieds beim Aussehen eines Bilds, der von der Anzeigefarbe, usw., abhängt. Die Distanz d zwischen einer Festkörper-Bildgebungsvorrichtung und dem transparenten Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 wird auf 540 mm eingestellt, was einem Distanzindex r = 10,8 entspricht.
Hier wird der Distanzindex r gemäß der folgenden Gleichung unter Verwendung der Brennweite f der Festkörper-Bildgebungsvorrichtung und der Distanz d zwischen der Festkörper-Bildgebungsvorrichtung und dem transparenten Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 dargestellt: $\begin{array}{l} (Distanzindex r) = (Distanz d zwischen der Festkö rper-Bildgebungsvorrichtung und \\ dem transparenten Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203) / (Brennweite f der \\ Festkörper-Bildgebungsvorrichtung) . \end{array}$
Anschließend wird eine entsprechende Messung mit einer Referenzprobe durchgeführt, die ein Glassubstrat (VRD140-Glas, hergestellt von AGC Glass Europe B.V.) mit derselben Dicke wie das transparente Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 ist.
Der Glitzerwert, der von der Referenzprobe erhalten wird, wird als Glitzerwert Zs eingesetzt.
Der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z des transparenten Substrats mit aufgebrachtem Blendschutzfilm 203 wird auf der Basis der so erhaltenen Werte Za und Zs gemäß der folgenden Gleichung (3) berechnet: $(Glitzerindexwert Z) = 1 - (Za / Zs)$
Es wurde bestätigt, dass der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z eine gute Korrelation mit einem Ergebnis einer Glitzerbeurteilung eines visuellen Erkennens eines Beobachters aufweist. Beispielsweise gibt es eine Tendenz dahingehend, dass ein transparentes Substrat mit einem kleinen Glitzerindexwert Z ein beträchtliches Glitzern aufweist und umgekehrt ein transparentes Substrat mit einem großen Glitzerindexwert Z ein geringes Glitzern aufweist.
Bei diesem Messverfahren ist es bevorzugt, als Kameraobjektiv ein 23FM50SP-Objektiv mit einer Linse mit einer Brennweite von 50 mm mit einer Blende von 5,6 zu verwenden.
Es ist bevorzugt, dass der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z der lichtdurchlässigen Struktur größer als oder gleich 0,845 ist, und es ist mehr bevorzugt, dass deren Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z größer als oder gleich 0,905 ist. Wenn der Glitzerindexwert Z der lichtdurchlässigen Struktur größer als oder gleich 0,845 ist, kann ein Vorteil dahingehend erhalten werden, dass das Glitzern unterdrückt wird und die Sichtbarkeit dadurch verbessert wird.
Eine lichtdurchlässige Struktur, die ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit aufweist, kann durch die vorstehend beschriebenen drei Indexwerte dargestellt werden, d.h., den Reflexionsbild-Streuindexwert R, den Sichtbarkeitsindexwert (Klarheit) T und den Glitzerindexwert Z. In einem Verfahren zur Herstellung einer idealen lichtdurchlässigen Struktur haben die Erfinder gefunden, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen eine sehr wichtige Rolle spielt.
Es ist allgemein bekannt, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R durch Erhöhen der Oberflächenunebenheit (z.B. durch Erhöhen des arithmetischen Oberflächenmittenrauwerts Sa) erhöht werden kann. Herkömmlich ist jedoch das Problem unvermeidbar, dass der Sichtbarkeitsindexwert T abnimmt, wenn der Reflexionsbild-Streuindexwert R erhöht wird. Zum Erhöhen des Reflexionsbild-Streuindexwerts R ist es erforderlich, die Spiegelreflexion bezüglich der Intensität der diffusen Reflexion zu vermindern. Da die Spiegelreflexion in flachen Oberflächenbereichen auftritt, die in Bereiche einer Oberflächenunebenheit einbezogen sind, ist es zum Vermindern der Spiegelreflexion effektiv, den Flächenanteil der flachen Oberflächenbereiche zu vermindern. In herkömmlichen Verfahren zur Bildung eines Blendschutzfilms und herkömmlichen Glasätzverfahren liegen flache Bereiche notwendigerweise in Abschnitten mit einem Maximum und einem Minimum der Unebenheithöhe vor.
Die vorliegenden Erfinder haben ein neues Glasätzverfahren und Blendschutzfilm-Bildungsverfahren gefunden und diese als Ausführungsformen implementiert, und haben ferner durch eine Simulation gefunden, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R weiter erhöht werden kann, während der Sichtbarkeitsindexwert T beibehalten wird, wenn der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen weiter vermindert werden kann.
(Blendschutzbehandlung)
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung können Oberflächenunebenheitsformen, welche die vorstehend beschriebenen Bedingungen erfüllen, durch eine sogenannte Blendschutzbehandlung (AG-Behandlung) gebildet werden. Als Blendschutzbehandlung können die folgenden zwei Arten von Behandlungen verwendet werden.
(Blendschutzbehandlung A)
Bei der Blendschutzbehandlung A werden Oberflächenunebenheitsformen dadurch gebildet, dass die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur einer Ätzbehandlung unterzogen wird.
Ein bekanntes Ätzverfahren kann als Ätzbehandlung gemäß dem Material der lichtdurchlässigen Struktur, der zu bildenden unebenen Formen und anderer Faktoren verwendet werden. Beispielsweise kann in dem Fall, bei dem die lichtdurchlässige Struktur eine Glasplatte ist, ein Ätzverfahren des Inkontaktbringens eines Fluorierungsmittels mit der Oberfläche der Glasplatte eingesetzt werden. Wenn das Fluorierungsmittel mit der Oberfläche der Glasplatte in Kontakt gebracht wird, reagiert das Fluorierungsmittel mit SiO₂ als Glasgrundgerüststruktur, so dass SiF₄ (Gas) erzeugt wird und sich die restlichen Komponenten aufgrund eines Verlusts der Grundgerüststruktur in Siliziumfluoride umwandeln, wodurch die Glasoberfläche uneben gemacht wird. Beispiele für das Fluorierungsmittel umfassen die einfache Substanz Fluor (F₂) und Fluorwasserstoff (HF). In diesem Verfahren können gebildete unebene Formen gemäß der Art des verwendeten Fluorierungsmittels, der Zeit, während der das Fluorierungsmittel mit der Oberfläche der Glasplatte in Kontakt gehalten wird, der Ätztemperatur oder dergleichen eingestellt werden.
In dem Fall, bei dem die Ätzbehandlung mit einer Ätzflüssigkeit durchgeführt wird, die ein Fluorierungsmittel und Teilchen (z.B. Glasperlen) enthält, können unebene Formen durch Ändern des Gehalts der Teilchen in dem Fluorierungsmittel verändert werden. Beispielsweise wenn der Gehalt der Teilchen in der Behandlungsflüssigkeit groß eingestellt wird, wird das Ätzen mit dem Fluorierungsmittel behindert und die Ätzgeschwindigkeit wird dadurch vermindert. Als Ergebnis werden Vorwölbungen und Vertiefungen, die durch die Ätzbehandlung gebildet werden, kleiner und der Trübungsfaktor wird vermindert.
Glasplattenätzverfahren, die von dem Verfahren des Inkontaktbringens eines Fluorierungsmittels mit der Oberfläche der Glasplatte und Ätzverfahren, die auf lichtdurchlässige Strukturen angewandt werden können, die aus einem von Glas verschiedenen Material hergestellt sind, verschieden sind, sind beispielsweise eine Strahlbehandlung und eine lonenätzbehandlung.
Die Ätzbehandlung kann zweimal oder häufiger mit verschiedenen Sätzen von Behandlungsbedingungen durchgeführt werden. Dies kann derart durchgeführt werden, dass Vorwölbungen durch eine erste Ätzbehandlung gebildet werden und zweite Vorwölbungen durch eine zweite Ätzbehandlung gebildet werden. In diesem Fall ist es bevorzugt, dass die Ätzgeschwindigkeit der zweiten Ätzbehandlung höher ist als diejenige der ersten Ätzbehandlung.
In dem Fall, bei dem die Ätzbehandlung unter Verwendung einer vorstehend beschriebenen Ätzflüssigkeit durchgeführt wird, kann der Gehalt von Teilchen in der Ätzflüssigkeit zwischen der ersten Ätzbehandlung und der zweiten Ätzbehandlung verändert werden. Beispielsweise wenn der Gehalt von Teilchen in der Ätzflüssigkeit, die in der zweiten Ätzbehandlung verwendet wird, kleiner gemacht wird als in der ersten Ätzbehandlung, werden in der zweiten Ätzbehandlung die Vorwölbungen und Vertiefungen, die in der ersten Ätzbehandlung gebildet worden sind, sanfter gemacht.
(Blendschutzbehandlung B)
Bei der Blendschutzbehandlung B werden Oberflächenunebenheitsformen durch Bilden eines Beschichtungsfilms durch Aufbringen einer Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur und Erwärmen des Beschichtungsfilms gebildet. Beispielsweise enthält die Beschichtungsmittelzusammensetzung ein flüssiges Medium (b) und mindestens eines von einer Siliziumoxid-Vorstufe (a) und Teilchen (c).
(Siliziumoxid-Vorstufe (a))
Die Siliziumoxid-Vorstufe steht für eine Substanz, welche die Bildung einer Matrix ermöglicht, die Siliziumoxid als Hauptkomponente aufweist. Eine bekannte Silanverbindung, wie z.B. ein Alkoxysilan oder ein hydrolytisches Kondensat davon, kann in einer geeigneten Weise als Siliziumoxid-Vorstufe (a) verwendet werden. Entweder eine einzelne Art einer Siliziumoxid-Vorstufe oder eine Kombination von zwei oder mehr Arten von Siliziumoxid-Vorstufen kann verwendet werden.
Im Hinblick auf das Verhindern der Entwicklung von Rissen in einem Beschichtungsfilm und eines Filmablösens ist es bevorzugt, dass die Siliziumoxid-Vorstufe (a) eines oder beide von einem Alkoxysilan, das Kohlenstoffatome aufweist, die direkt an ein Siliziumatom gebunden sind, und einem hydrolytischen Kondensat davon enthält. Im Hinblick auf die Verschleißbeständigkeit eines Beschichtungsfilms ist es bevorzugt, dass die Siliziumoxid-Vorstufe (a) eines oder beide von einem Tetraalkoxysilan und einem hydrolytischen Kondensat davon enthält.
(Flüssiges Medium (b))
Das flüssige Medium (b) ist ein Medium, das bewirkt, dass die Siliziumoxid-Vorstufe (a) darin gelöst oder dispergiert wird, und es ist vorzugsweise ein Medium, das bewirkt, dass die Teilchen (c) darin dispergiert werden. Das flüssige Medium (b) kann ein Medium sein, das sowohl eine Funktion des Ermöglichens, dass die Siliziumoxid-Vorstufe (a) darin gelöst oder dispergiert wird, als auch eine Funktion des Ermöglichens aufweist, dass die Teilchen (c) darin dispergiert werden.
Das flüssige Medium (b) enthält mindestens ein flüssiges Medium (b1), dessen Siedetemperatur niedriger als oder gleich 150 °C ist. Es ist bevorzugt, dass dessen Siedetemperatur in einem Bereich von 50 °C bis 145 °C liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass dessen Siedetemperatur in einem Bereich von 55 °C bis 140 °C liegt. In dem Fall, bei dem die Siedetemperatur des flüssigen Mediums (b1) niedriger als oder gleich 150 °C ist, werden Oberflächenunebenheitsformen durch Aufbringen einer Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur unter Verwendung eines elektrostatischen Beschichtungsgeräts gebildet, das mit einer elektrostatischen Beschichtungspistole ausgestattet ist, die einen rotierenden Zerstäubungskopf aufweist, und Erwärmen derselben gebildet. Wenn die Siedetemperatur höher als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, können Oberflächenunebenheitsformen effektiv gebildet werden, nachdem Tröpfchen der Beschichtungsmittelzusammensetzung an der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur haften.
Da Wasser für die Hydrolyse des Alkoxysilans oder dergleichen in der Siliziumoxid-Vorstufe (a) erforderlich ist, sollte das flüssige Medium (b) Wasser in dem flüssigen Medium (b1) enthalten, falls kein Ersetzen des flüssigen Mediums nach der Hydrolyse durchgeführt wird. Gegebenenfalls kann das flüssige Medium (b) ferner ein flüssiges Medium enthalten, das von dem flüssigen Medium (b1) verschieden ist, d.h., ein flüssiges Medium, dessen Siedetemperatur höher als 150 °C ist.
(Teilchen (c))
Beispiele für Materialien der Teilchen (c) umfassen ein Metalloxid, ein Metall, ein Pigment und ein Harz. Beispiele für das Metalloxid umfassen Al₂O₃, SiO₂, SnO₂, TiO₂, ZrO₂, ZnO, CeO₂, SnO_x, das Sb enthält (ATO), In₂O₃, das Sn enthält (ITO), und RuO₂. In dem Fall, bei dem eine Matrix von Oberflächenunebenheitsformen Siliziumoxid als Hauptkomponente aufweist, ist die Verwendung von SiO₂ bevorzugt, da es einen Brechungsindex aufweist, der äquivalent zu demjenigen der Matrix ist. Beispiele für das Metall umfassen einfache Metallsubstanzen (Ag, Ru, usw.), Legierungen (AgPd, RuAu, usw.). Beispiele für das Pigment umfassen anorganische Pigmente (Titanschwarz, Ruß, usw.) und organische Pigmente. Beispiele für das Harz umfassen ein Acrylharz, Polystyrol und ein Melaninharz.
Die Teilchen (c) können jedwede von massiven Teilchen, hohlen Teilchen und Teilchen mit Löchern, wie z.B. porösen Teilchen, sein. Der Begriff „massiv“ steht für das Fehlen von Hohlräumen innerhalb und der Begriff „hohl“ steht für das Vorliegen von Hohlräumen innerhalb. Die Teilchen (c) können entweder von einer einzelnen Art sein oder aus zwei oder mehr Arten bestehen.
Im Hinblick auf das Unterdrücken der Zunahme des Brechungsindex eines Beschichtungsfilms und das Vermindern von dessen Reflexion ist es bevorzugt, dass die Teilchen (c) Siliziumoxidteilchen sind, die wie eine Kugel, eine Schuppe, ein Stab, eine Nadel oder dergleichen geformt sind. Die Verwendung von kugelförmigen Siliziumoxidteilchen ist für den Zweck des Erhaltens eines noch kleineren Trübungsfaktors bevorzugt. Die Verwendung von schuppenförmigen Siliziumoxidteilchen ist dahingehend bevorzugt, dass Oberflächenunebenheitsformen durch eine kleine Menge von Siliziumoxidteilchen gebildet werden können und die Entwicklung von Rissen in einem Beschichtungsfilm und ein Filmablösen verhindert werden können. Der Begriff „schuppenartig“ steht für eine flache Form.
Kugelförmige Siliziumoxidteilchen können massiv, hohl oder porös sein. Entweder nur eine dieser Arten von kugelförmigen Siliziumoxidteilchen oder zwei oder mehr dieser Arten von kugelförmigen Siliziumoxidteilchen kann oder können verwendet werden. Hohle Siliziumoxidteilchen sind beispielsweise solche, von denen jedes eine äußere Hülle, die aus Siliziumoxid (SiO₂) hergestellt ist, und einen Hohlraum aufweist, der innerhalb der äußeren Hülle vorliegt.
Es ist bevorzugt, dass der durchschnittliche Teilchendurchmesser der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen in einem Bereich von 10 nm bis 300 nm liegt, es ist mehr bevorzugt, dass deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser in einem Bereich von 40 nm bis 200 nm liegt, und es ist noch mehr bevorzugt, dass deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser in einem Bereich von 70 nm bis 110 nm liegt. In dem Fall, bei dem deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann ein noch geringeres Glitzern erreicht werden. In dem Fall, bei dem deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser kleiner als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann der Trübungsfaktor noch kleiner gemacht werden und eine hohe Dispersionsstabilität in der Beschichtungsmittelzusammensetzung kann erreicht werden.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser von kugelförmigen Siliziumoxidteilchen steht für einen Teilchendurchmesser bei einem 50 %-Punkt in einer kumulativen Volumenverteilungskurve, bei der das gesamte Volumen einer Teilchendurchmesserverteilung auf Volumenbasis als 100 % betrachtet wird, d.h., einen kumulativen 50 %-Durchmesser auf Volumenbasis (D50). Die Teilchendurchmesserverteilung wird aus einem Histogramm und einer kumulativen Volumenverteilungskurve bestimmt, die durch ein Laserbeugungs/streuungs-Teilchendurchmessermessgerät gemessen wird.
Schuppenförmige Siliziumoxidteilchen sind flockenartige Siliziumoxid-Primärteilchen oder Siliziumoxid-Sekundärteilchen, die jeweils aus einer Mehrzahl von flockenartigen Siliziumoxid-Primärteilchen ausgebildet sind, die parallel zueinander orientiert sind und aufeinanderliegen. Üblicherweise liegt jedes Siliziumoxid-Sekundärteilchen in einer schichtartigen Teilchenform vor. Schuppenförmige Siliziumoxidteilchen können entweder nur Siliziumoxid-Primärteilchen oder nur Siliziumoxid-Sekundärteilchen sein oder können sowohl Siliziumoxid-Primärteilchen als auch Siliziumoxid-Sekundärteilchen umfassen.
Es ist bevorzugt, dass die Dicke der flockenartigen Siliziumoxid-Primärteilchen in einem Bereich von 0,001 µm bis 0,1 µm liegt. In dem Fall, bei dem deren Dicke innerhalb dieses Bereichs liegt, kann ein schuppenartiges Siliziumoxid-Sekundärteilchen durch eine Mehrzahl von flockenartigen Siliziumoxid-Primärteilchen gebildet werden, die parallel zueinander orientiert sind und aufeinanderliegen. Es ist bevorzugt, dass das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Siliziumoxid-Primärteilchen größer als oder gleich 2 ist, es ist mehr bevorzugt, dass deren Verhältnis größer als oder gleich 5 ist, und es ist noch mehr bevorzugt, dass deren Verhältnis größer als oder gleich 10 ist.
Es ist bevorzugt, dass die Dicke der schuppenartigen Siliziumoxid-Sekundärteilchen in einem Bereich von 0,001 µm bis 3 µm liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass deren Dicke in einem Bereich von 0,005 µm bis 2 µm liegt. Es ist bevorzugt, dass das Verhältnis der minimalen Länge zur Dicke der Siliziumoxid-Sekundärteilchen größer als oder gleich 2 ist, es ist mehr bevorzugt, dass deren Verhältnis größer als oder gleich 5 ist, und es ist mehr bevorzugt, dass deren Verhältnis größer als oder gleich 10 ist. Es ist bevorzugt, dass Siliziumoxid-Sekundärteilchen unabhängig voneinander vorliegen, ohne miteinander verschmolzen zu sein.
Es ist bevorzugt, dass das durchschnittliche Seitenverhältnis der schuppenartigen Siliziumoxidteilchen in einem Bereich von 30 bis 200 liegt, es ist mehr bevorzugt, dass deren durchschnittliches Seitenverhältnis in einem Bereich von 40 bis 160 liegt, und es ist noch mehr bevorzugt, dass deren durchschnittliches Seitenverhältnis in einem Bereich von 50 bis 120 liegt. In dem Fall, bei dem das durchschnittliche Seitenverhältnis größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, können eine Entwicklung von Rissen in Oberflächenunebenheitsformen und ein Filmablösen zufriedenstellend unterdrückt werden, selbst wenn die Filmdicke groß ist. In dem Fall, bei dem das durchschnittliche Seitenverhältnis kleiner als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann eine hohe Dispersionsstabilität in der Beschichtungsmittelzusammensetzung erreicht werden.
Das Seitenverhältnis steht für das Verhältnis der größten Länge zur Dicke eines Teilchens und das durchschnittliche Seitenverhältnis steht für den Durchschnittswert von Seitenverhältnissen von zufällig ausgewählten 50 Teilchen. Die Dicke und die größte Länge jedes Teilchens werden durch ein Rasterkraftmikroskop (AFM) bzw. ein Transmissionselektronenmikroskop (TEM) gemessen.
Es ist bevorzugt, dass der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenartigen Siliziumoxidteilchen in einem Bereich von 50 nm bis 500 nm liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser in einem Bereich von 100 nm bis 300 nm liegt. In dem Fall, bei dem deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann ein noch geringeres Glitzern erhalten werden. Ferner können eine Entwicklung von Rissen in Oberflächenunebenheitsformen und ein Filmablösen zufriedenstellend unterdrückt werden, selbst wenn die Filmdicke groß ist. In dem Fall, bei dem deren durchschnittlicher Teilchendurchmesser kleiner als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann der Trübungsfaktor noch kleiner gemacht werden. Ferner kann eine hohe Dispersionsstabilität in der Beschichtungsmittelzusammensetzung erreicht werden.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser der schuppenartigen Siliziumoxidteilchen wird in der gleichen Weise wie derjenige der kugelförmigen Siliziumoxidteilchen gemessen.
Es kann ein Fall vorliegen, bei dem ein Pulver oder eine Dispersion nicht nur schuppenartige Siliziumoxidteilchen, sondern auch unregelmäßig geformte Siliziumoxidteilchen umfasst, die während der Herstellung der schuppenartigen Siliziumoxidteilchen erzeugt werden. Beispielsweise werden schuppenartige Siliziumoxidteilchen durch zerkleinern und Dispergieren von aggregratförmigen Siliziumoxid-Tertiärteilchen (nachstehend auch als „Siliziumoxidaggregate“ bezeichnet) hergestellt, die derart gebildet werden, dass schuppenartige Siliziumoxidteilchen aggregiert werden und unregelmäßig aufeinander angeordnet werden, so dass sie Zwischenräume aufweisen. Unregelmäßig geformte Siliziumoxidteilchen weisen in Bezug auf Siliziumoxidaggregate eine etwas verminderte Teilchengröße auf, jedoch nicht in einem Maß, dass einzelne schuppenartige Siliziumoxidteilchen erhalten werden; durch eine Mehrzahl von schuppenartigen Siliziumoxidteilchen werden Klumpen gebildet. In dem Fall, bei dem unregelmäßig geformte Siliziumoxidteilchen enthalten sind, weisen gebildete Oberflächenunebenheitsformen eine verminderte Kompaktheit auf und als Ergebnis besteht eine Tendenz dahingehend, dass Risse oder ein Filmablösen auftreten können bzw. kann. Folglich ist es bevorzugt, dass der Gehalt von unregelmäßig geformten Siliziumoxidteilchen in einem Pulver oder einer Dispersion so niedrig wie möglich ist.
Unregelmäßig geformte Siliziumoxidteilchen und Siliziumoxidaggregate sehen bei einer TEM-Untersuchung beide schwarz aus. Andererseits sehen flockenartige Siliziumoxid-Primärteilchen und Siliziumoxid-Sekundärteilchen bei einer TEM-Untersuchung grau oder halbtransparent aus.
Schuppenartige Siliziumoxidteilchen können entweder handelsüblich oder solche sein, die zur Herstellung einer lichtdurchlässigen Struktur erzeugt worden sind. Ein Beispiel für handelsübliche schuppenartige Siliziumoxidteilchen sind solche der Sunlovely (eingetragene Marke)-Reihe, hergestellt von AGC Si-Tech Co., Ltd.
(Bindemittel (d))
Beispiele für ein Bindemittel (d) (ausschließlich die Siliziumoxid-Vorstufe (a)) umfassen eine anorganische Substanz, ein Harz oder dergleichen, die in dem flüssigen Medium (b) gelöst oder dispergiert werden. Beispiele für die anorganische Substanz umfassen eine Metalloxidvorstufe (Metall: Titan, Zirkonium oder dergleichen), die von Siliziumoxid verschieden ist. Beispiele für das Harz umfassen ein thermoplastisches Harz, ein wärmeaushärtendes Harz und ein Ultraviolett-aushärtendes Harz.
(Zusatzstoff (e))
Beispiele für einen Zusatzstoff (e) umfassen eine organische Verbindung (e1) mit einer polaren Gruppe, ein Ultraviolett-Absorptionsmittel, ein Infrarotreflektierendes/absorbierendes Mittel, ein Reflexionsschutzmittel, ein grenzflächenaktives Mittel zum Verbessern der Verlaufeigenschaften und eine Metallverbindung zum Verbessern der Dauerbeständigkeit.
In dem Fall, bei dem die Beschichtungsmittelzusammensetzung die Teilchen (c) enthält, wird dadurch, dass die Beschichtungsmittelzusammensetzung die organische Verbindung (e1) mit einer polaren Gruppe enthält, bewirkt, dass die organische Verbindung (e1) mit einer polaren Gruppe die Teilchen (c) rundum bedeckt. Als Ergebnis stoßen die Teilchen (c) aufgrund der elektrostatischen Kraft, die in der Beschichtungsmittelzusammensetzung auftritt, einander ab, wodurch eine Aggregation der Teilchen (c) unterdrückt werden kann.
Beispiele für die organische Verbindung (e1) mit einer polaren Gruppe umfassen ein ungesättigte Carbonsäure-Polymer, ein Cellulosederivat, eine organische Säure (ausschließlich ein ungesättigte Carbonsäure-Polymer) und eine Terpenverbindung. Die organische Verbindung (e1) kann entweder von einer einzelnen Art sein oder aus mehreren Arten bestehen.
Beispiele für das grenzflächenaktive Mittel zum Verbessern der Verlaufeigenschaften umfassen ein grenzflächenaktives Mittel auf Silikonölbasis und ein Acryl-enthaltendes grenzflächenaktives Mittel. Bevorzugte Beispiele für die Metallverbindung zum Verbessern der Dauerbeständigkeit umfassen eine Zirkoniumchelatverbindung, eine Titanchelatverbindung und eine Aluminiumchelatverbindung. Beispiele für die Zirkoniumchelatverbindung umfassen Zirkoniumtetraacetylacetonat und Zirkoniumtributoxystearat.
(Zusammensetzung)
Es ist bevorzugt, dass der Gesamtgehalt der Siliziumoxid-Vorstufe (a) und der Teilchen (c) in einem Bereich von 30 bis 100 Massen-% des Feststoffgehalts (100 Massen-%) der Beschichtungsmittelzusammensetzung liegt (der Gehalt der Siliziumoxid-Vorstufe (a) wird in einen Gehalt von SiO₂ umgerechnet), und es ist mehr bevorzugt, dass der Gesamtgehalt der Siliziumoxid-Vorstufe (a) und der Teilchen (c) in einem Bereich von 40 bis 100 Massen-% liegt. In dem Fall, bei dem deren Gesamtgehalt größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, weist die Beschichtungsmittelzusammensetzung eine hervorragende Haftung an der lichtdurchlässigen Struktur auf. In dem Fall, bei dem deren Gesamtgehalt kleiner als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann eine Entwicklung von Rissen in einem Beschichtungsfilm und ein Filmablösen verhindert werden.
Der Feststoffgehalt der Beschichtungsmittelzusammensetzung ist die Summe der Gehalte aller Komponenten, die von dem flüssigen Medium (b) in der Beschichtungsmittelzusammensetzung verschieden sind, mit der Maßgabe, dass der Gehalt der Siliziumoxid-Vorstufe (a) in einen SiO₂-Gehalt umgerechnet wird.
In dem Fall, bei dem die Teilchen (c) kugelförmige Siliziumoxidteilchen sind, ist es bevorzugt, dass der Anteil der Masse der Teilchen (c) an der Gesamtmasse (100 Massen-%) der Siliziumoxid-Vorstufe (a) und der Teilchen (c) in einem Bereich von 3 bis 30 Massen-% liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass deren Anteil in einem Bereich von 5 bis 20 Massen-% liegt.
In dem Fall, bei dem die Teilchen (c) schuppenartige Siliziumoxidteilchen sind, ist es bevorzugt, dass der Anteil der Masse der Teilchen (c) an der Gesamtmasse (100 Massen-%) der Siliziumoxid-Vorstufe (a) und der Teilchen (c) in einem Bereich von 0,5 bis 20 Massen-% liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass deren Anteil in einem Bereich von 1 bis 15 Massen-% liegt.
In dem Fall, bei dem der Anteil der Masse der Teilchen (c) größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann ein noch geringeres Glitzern erreicht werden. In dem Fall, bei dem der Anteil der Masse der Teilchen (c) niedriger als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann ein noch besseres Blendschutzvermögen erreicht werden. In dem Fall, bei dem der Anteil der Masse der Siliziumoxid-Vorstufe (a) größer als ein vorgegebener Wert oder mit diesem identisch ist, kann die Haftfestigkeit zwischen einem Beschichtungsfilm und der lichtdurchlässigen Struktur noch höher gemacht werden.
Der Gehalt des flüssigen Mediums (b) in der Beschichtungsmittelzusammensetzung wird auf einen Wert eingestellt, der für eine Konzentration des Feststoffteils der Beschichtungsmittelzusammensetzung geeignet ist. Es ist bevorzugt, dass die Konzentration des Feststoffteils der Beschichtungsmittelzusammensetzung in Bezug auf die gesamte Beschichtungsmittelzusammensetzung (100 Massen-%) in einem Bereich von 0,05 bis 2 Massen-% liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass die Konzentration des Feststoffteils in einem Bereich von 0,1 bis 1 Massen-% liegt. In dem Fall, bei dem die Konzentration des Feststoffteils größer als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, kann die Menge des Flüssigkeitsteils der Beschichtungsmittelzusammensetzung vermindert werden. In dem Fall, bei dem die Konzentration des Feststoffteils kleiner als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, können Oberflächenunebenheitsformen mit zweiten Vorwölbungen einfach gebildet werden und der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen kann einfach vermindert werden. Ferner kann die Einheitlichkeit der Filmdicke eines Beschichtungsfilms erhöht werden.
Üblicherweise ist der Gehalt des flüssigen Mediums (b1), dessen Siedetemperatur niedriger als oder gleich 150 °C ist, in der Beschichtungsmittelzusammensetzung größer als oder gleich 86 Massen-% der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (b). In dem Fall, bei dem der Gehalt des flüssigen Mediums (b1) größer als oder gleich 86 Massen-% der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (b) ist, werden Oberflächenunebenheitsformen gebildet, wenn die Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die lichtdurchlässige Struktur unter Verwendung eines elektrostatischen Beschichtungsgeräts aufgebracht wird, das mit einer elektrostatischen Beschichtungspistole ausgestattet ist, die einen rotierenden Zerstäubungskopf aufweist, und dann erwärmt wird. In dem Fall, bei dem der Anteil des flüssigen Mediums (b1) kleiner als 86 Massen-% ist, findet vor dem Verflüchtigen und Entfernen des Lösungsmittels eine Glättung statt und als Ergebnis werden Oberflächenunebenheitsformen gegebenenfalls nicht gebildet.
Es ist bevorzugt, dass der Gehalt des flüssigen Mediums (b1) größer als oder gleich 90 Massen-% der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (b) ist. Der Gehalt des flüssigen Mediums (b1) kann 100 Massen-% der Gesamtmenge des flüssigen Mediums (b) betragen.
(Viskosität)
Es ist bevorzugt, dass die Viskosität (nachstehend auch als „Flüssigkeitsviskosität“) der Beschichtungsmittelzusammensetzung bei einer Aufbringtemperatur niedriger als oder gleich 0,003 Pa · s ist, und es ist besonders bevorzugt, dass deren Flüssigkeitsviskosität in einem Bereich von 0,001 bis 0,003 Pa · s liegt. In dem Fall, bei dem die Flüssigkeitsviskosität niedriger als die oder gleich der Obergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, werden Tröpfchen, die gebildet werden, wenn die Beschichtungsmittelzusammensetzung versprüht wird, feiner gemacht und somit können gewünschte Oberflächenunebenheitsformen leicht gebildet werden. In dem Fall, bei dem die Flüssigkeitsviskosität höher als die oder gleich der Untergrenze des vorstehend genannten Bereichs ist, können einheitliche Oberflächenunebenheitsformen gebildet werden. Die Viskosität der Beschichtungsmittelzusammensetzung wird mit einem B-Typ-Viskosimeter gemessen.
[Beschichtungsverfahren]
Eine Beschichtungsmittelzusammensetzung wird auf die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur durch Sprühen, während sie aufgeladen wird, beispielsweise unter Verwendung eines elektrostatischen Beschichtungsgeräts aufgebracht, das mit einer elektrostatischen Beschichtungspistole ausgestattet ist, die einen rotierenden Zerstäubungskopf aufweist. Es ist bevorzugt, dass die Temperatur und die relative Feuchtigkeit einer Atmosphäre, die sich zwischen dem rotierenden Zerstäubungskopf und der lichtdurchlässigen Struktur befindet, auf höher als oder gleich 20 °C bzw. niedriger als oder gleich 40 % eingestellt werden, da ein Beschichtungsfilm bei diesen Bedingungen dann bessere Filmeigenschaften aufweist.
Ein bekanntes elektrostatisches Beschichtungsgerät kann eingesetzt werden, solange es mit einer elektrostatischen Beschichtungspistole ausgestattet ist, die einen rotierenden Zerstäubungskopf aufweist. Eine elektrostatische Beschichtungspistole kann verwendet werden, solange sie mit einem rotierenden Zerstäubungskopf ausgestattet ist. Die Einrichtung zum Aufbringen einer Beschichtungsmittelzusammensetzung ist nicht auf das vorstehend genannte elektrostatische Beschichtungsgerät beschränkt; es können andere Typen von bekannten Beschichtungseinrichtungen verwendet werden.
[Wasserabstoßung/Ölabstoßung-Behandlungsverfahren]
Die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur kann eine wasserabstoßend/ölabstoßend behandelte Schicht aufweisen. Eine bevorzugte Wasserabstoßung/Ölabstoßung-Behandlung ist die Anwendung eines AFP (Anti-Fingerabdruck)-Mittels. Beispielsweise sind spezifische bevorzugte handelsübliche AFP-Mittel Afluid (eingetragene Marke) S-550 (Handelsbezeichnung), hergestellt von AGC Inc., KP-801 (Handelsbezeichnung), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., X-71 (Handelsbezeichnung), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY-130 (Handelsbezeichnung), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY-178 (Handelsbezeichnung), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KY-185 (Handelsbezeichnung), hergestellt von Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., und Optool (eingetragene Marke) DSX (Handelsbezeichnung), hergestellt von Daikin Industries, Ltd.
[Erwärmungsverfahren]
In einem Erwärmungsverfahren werden Oberflächenunebenheitsformen durch Erwärmen eines Beschichtungsfilms einer Beschichtungsmittelzusammensetzung gebildet, die auf der Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur in dem Beschichtungsverfahren ausgebildet worden ist. Das Erwärmen kann gleichzeitig mit dem Beschichten durch Erwärmen der lichtdurchlässigen Struktur durchgeführt werden, wenn eine Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur aufgebracht wird. Alternativ kann ein Beschichtungsfilm nach dem Aufbringen einer Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur aufgebracht werden. Es ist bevorzugt, dass die Erwärmungstemperatur höher als oder gleich 30 °C ist. In dem Fall, bei dem die lichtdurchlässige Struktur beispielsweise ein Glas ist, ist es mehr bevorzugt, dass die Erwärmungstemperatur in einem Bereich von 100 °C bis 750 °C liegt, und es ist mehr bevorzugt, dass die Erwärmungstemperatur in einem Bereich von 150 °C bis 550 °C liegt.
In dem vorstehend beschriebenen Herstellungsverfahren können vorgegebene unebene Formen auf der Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur durch Aufbringen einer vorgegebenen Beschichtungsmittelzusammensetzung auf die Oberfläche der lichtdurchlässigen Struktur und dann Erwärmen des Beschichtungsfilms gebildet werden.
Die 6 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Sichtbarkeitsindexwert T und dem Reflexionsbild-Streuindexwert R in lichtdurchlässigen Strukturen zeigt, die durch das vorstehend beschriebene Glasätzverfahren und Blendschutzfilm-Bildungsverfahren erzeugt worden sind. Aus der 6 ist ersichtlich, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R erhöht werden kann, während der Sichtbarkeitsindexwert T beibehalten wird. Ferner ist es durch Einführen des Glitzerindexwerts Z als neuen Index, der zum Unterdrücken eines Glitzerns verwendet wird, ersichtlich, dass ideale lichtdurchlässige Strukturen erhalten werden können, in denen der Reflexionsbild-Streuindexwert R, der Sichtbarkeitsindexwert T und der Glitzerindexwert Z jeweils in geeigneten Bereichen eingestellt sind (vgl. die 9).
Folglich haben die vorliegenden Erfinder durch die Durchführung von Simulationsanalysen gefunden, dass ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig in einer lichtdurchlässigen Struktur durch Bilden von Oberflächenunebenheitsformen erhalten werden können, in denen der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (später beschrieben) vermindert ist, die Vorwölbungsdichte (später beschrieben) vermindert ist, der Vorwölbungsflächenanteil (später beschrieben) so eingestellt ist, dass er innerhalb eines Bereichs von 5,5 % bis 50 % liegt, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie; später beschrieben) so eingestellt ist, dass sie innerhalb eines Bereichs von -0,5 bis 1,1 liegt, der Lastflächenfaktor Smr1 (später beschrieben) an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt vermindert ist und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa klein eingestellt ist.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung, die auf der vorstehenden Erkenntnis basiert, erfüllen Oberflächenunebenheitsformen die folgenden Bedingungen.
(Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen)
In dieser Beschreibung steht der Begriff „Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen“ für den Flächenanteil von Bereichen, bei denen der Winkel (Oberflächenwinkel), der durch die Oberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur und der flachen Ebene gebildet wird, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt.
In dieser Beschreibung wurde der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen gemäß dem folgenden Verfahren bestimmt. Eine XYZ-Messung wurde in einem Untersuchungsbereich von (111 bis 148) µm × (101 bis 135) µm mittels eines Lasermikroskops, Typenbezeichnung VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, bei einer auf 100 eingestellten Vergrößerung einer Objektivlinse durchgeführt. Die Gesamtzahl der Samplingdaten beträgt 2048 × 1536 = 3145728. Auf der Basis dieser Daten wurden Gradienten (nachstehend als „Oberflächengradienten“ bezeichnet) von senkrechten Vektoren in Bezug auf die Senkrechte zu der Hauptoberfläche der lichtdurchlässigen Struktur gemäß einem Verfahren berechnet, das später beschrieben wird. Der Anteil an der gesamten Fläche von Bereichen in jedem 0,1°-Winkelbereich von 0° bis 90° wurde berechnet und der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen wurde als die Summe von berechneten Anteilen von Bereichen in einem Bereich von 0° bis 0,5° festgelegt.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung liegt der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen von Oberflächenunebenheitsformen in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % und so können ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig erhalten werden. Ein Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,115 % bis 0,46 % ist bevorzugt, da ein sehr gutes Blendschutz-Leistungsvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit und darüber hinaus ein sehr geringes Glitzern gleichzeitig erreicht werden können. Ein Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen von größer als 5,8 % ist ungeeignet, da der Anteil des Auftretens einer Spiegelreflexion so groß wird, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R verglichen mit Proben mit demselben Sichtbarkeitsindexwert T zu klein wird. Der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen von Oberflächenunebenheitsformen kann in einem Bereich von 0 % bis 0,32 % liegen, kann in einem Bereich von 0,115 % bis 0,32 % liegen, kann in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 % liegen und kann in einem Bereich von 0,115 % bis 0,4 % liegen.
(Analyse von Oberflächenunebenheitsformen)
Oberflächenunebenheitsformen wurden durch Messen einer Fläche (nachstehend als „Untersuchungsfläche“ bezeichnet) von (101 bis 111) µm × (135 bis 148) µm mit einem Lasermikroskop VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, in einem hochaufgelösten Modus mit einem Messintervall in der Z-Richtung von 0,01 µm und Analysieren der resultierenden xyz-Daten, die Oberflächenformen in der Untersuchungsfläche darstellen, mittels einer Bildverarbeitungssoftware SPIP Ver. 6.4.3 of Image Metrology A/S analysiert.
In der vorstehenden Analyse wurden zuerst Gradientenkorrekturen durch ein durchschnittliches Profil-Anpassungsverfahren durchgeführt und eine Z-Verschiebung wurde mit einer auf 0 eingestellten Bezugshöhe (BH) durchgeführt. Anschließend wurde in einem Teilchenerfassungsmodus der Analyse ein Schwellenwert auf 0,05 µm eingestellt, „Speichere die gesamte Form“ wurde ausgewählt und die Filtergröße der Formumrissglättung wurde auf 51 Punkte eingestellt.
Die Vorwölbungsdichte, der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa, der Vorwölbungsflächenanteil, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt, die in der vorstehenden Analyse bestimmt werden, werden nachstehend beschrieben.
(Vorwölbungsdichte)
Die Vorwölbungsdichte wird unter Bezugnahme auf die 3 beschrieben. Die 3 ist eine Schnittansicht, die ein Beispiel für Oberflächenunebenheitsformen einer lichtdurchlässigen Struktur zeigt. Die Oberflächenunebenheitsformen 5 der lichtdurchlässigen Struktur, die in der 3 gezeigt sind, weisen eine Mehrzahl von ersten Vorwölbungen 5a auf. Zweite Vorwölbungen 5b können auf jeder ersten Vorwölbung 5a vorliegen.
In dieser Beschreibung steht der Begriff „erste Vorwölbung 5a“ für eine Vorwölbung mit einem Durchmesser (in einen Kreis umgewandelt), der bei einer Höhe, welche die Bezugshöhe (BH) plus 0,05 µm ist, in einer Oberflächenform einer lichtdurchlässigen Struktur größer als oder gleich 1 µm ist (vgl. die 3). Lasermikroskopdaten werden mit der Oberflächenformanalysesoftware SPIP Ver. 6.4.3 analysiert und die Vorwölbungsdichte (/µm²) (d.h., die Anzahl von ersten Vorwölbungen 5a, wie sie vorstehend festgelegt sind, die pro 1 µm² vorliegen) ist als die Anzahl (Formanzahl), dividiert durch die Fläche der Untersuchungsfläche, von ersten Vorwölbungen 5a, wie sie vorstehend definiert sind und die in der Untersuchungsfläche festgestellt werden, festgelegt.
Die Bezugshöhe (BH) ist die am stärksten vorherrschende Höhe z in einem Höhenhistogramm, das aus xyz-Daten von Oberflächenformen in der Untersuchungsfläche erhalten wird, die durch Durchführen einer Messung in der Untersuchungsfläche durch ein Lasermikroskop nach einem Durchführen von Gradientenkorrekturen durch das durchschnittliches Profil-Anpassungsverfahren erhalten worden sind. Die Höhe z in den xyz-Daten ist eine Höhe in Bezug auf einen niedrigsten Punkt in der Untersuchungsfläche (d.h., die Länge einer Senkrechten von einer Messposition der Höhe z zu einer Ebene, die parallel zur Hauptoberfläche des Substrats ist und den niedrigsten Punkt in der Untersuchungsfläche enthält). Diese Definition gilt auch für die Höhe einer Oberflächenform, für die nachstehend kein Bezug eingestellt wird. Das Intervall (die Klasse) des Histogramms, das beim Berechnen einer Bezugshöhe erhalten worden ist, wird auf 1000 eingestellt.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung können ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig erhalten werden, da die Vorwölbungsdichte der Oberflächenunebenheitsformen auf einen Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² eingestellt ist. Eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² ist mehr bevorzugt, da gleichzeitig auch ein geringes Glitzern erreicht werden kann.
Der Wert 0,0001/µm² ist die Untergrenze dieses Messverfahrens. Wenn die Vorwölbungsdichte von Oberflächenunebenheitsformen abnimmt, nehmen die vorstehend genannten Vorwölbungsdurchmesser zu und die Winkel, welche die Oberflächenunebenheitsformen mit der flachen Oberfläche bilden, nehmen zu.
Es gibt Tendenzen, dass der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa zunimmt und sich der Bereich des arithmetischen Oberflächenmittenrauwerts Sa verbreitert, wenn die Vorwölbungsdichte abnimmt. Eine kleine Vorwölbungsdichte bedeutet, dass die Vorwölbungen lange Intervalle aufweisen. Es ist bevorzugt, dass die Vorwölbungsdichte in einem vorgegebenen Bereich liegt, da lange Intervalle ein starkes Glitzern verursachen und kurze Intervalle einen großen Trübungsfaktor verursachen.
(Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa)
Diese Beschreibung nutzt den arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa, der in ISO 25178 angegeben ist. Ein solcher arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa, d.h., der arithmetische Mittenrauwert (Ra) der dreidimensionalen Oberflächenrauheit, kann beispielsweise mit dem Lasermikroskop VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, gemessen werden.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung können ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig erreicht werden, da der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa der Oberflächenunebenheitsformen in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm liegt. Ein arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm oder 0,06 µm bis 0,1 µm ist noch mehr bevorzugt, da ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit und zusätzlich ein geringes Glitzern gleichzeitig erreicht werden können. Das Blendschutzvermögen, d.h., der Reflexionsbild-Streuindexwert R, nimmt zu, wenn der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa zunimmt. Ein sehr gutes Blendschutzvermögen kann nicht erreicht werden, wenn der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa niedriger als 0,06 µm ist, in welchem Fall der Reflexionsbild-Streuindexwert R kleiner als 0,2 ist. Der Sichtbarkeitsindexwert T wird kleiner als 0,94, wenn der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa 0,143 µm übersteigt, und wird kleiner als 0,85, wenn der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa 0,23 µm übersteigt.
(Vorwölbungsflächenanteil)
Wie es in Verbindung mit der Vorwölbungsdichte beschrieben ist, wie es in der 3 gezeigt ist, steht der Begriff „erste Vorwölbung 5a“ für eine Vorwölbung mit einem Durchmesser (umgerechnet in einen Kreis), der größer als oder gleich 1 µm bei der Höhe ist, welche die Bezugshöhe (BH) plus 0,05 mm nach Gradientenkorrekturen durch das durchschnittliches Profil-Anpassungsverfahren in einer Oberflächenform einer lichtdurchlässigen Struktur ist. Der Vorwölbungsflächenanteil (%) ist als der Anteil der Summe von Flächen, die durch Analysieren von Lasermikroskopdaten unter Verwendung der OberflächenformAnalysesoftware SPIP Ver. 6.4.3 und Schneiden der ersten Vorwölbungen 5a, wie sie vorstehend festgelegt worden sind, durch eine Ebene, die sich bei einer Höhe befindet, welche die Bezugshöhe (BH) plus 0,05 µm ist, erhalten werden, an der Untersuchungsfläche festgelegt.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung können ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig erreicht werden, da der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % liegt. Ein Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % ist mehr bevorzugt, da ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit und zusätzlich ein geringes Glitzern gleichzeitig erreicht werden können.
Es ist erforderlich, die Vorwölbungsdichte und den Vorwölbungsflächenanteil zusammen zu berücksichtigen. Dass sowohl die Vorwölbungsdichte als auch der Vorwölbungsflächenanteil groß sind, bedeutet, dass die Anzahl und die Summe der Flächen der Vorwölbungsbereiche, die einen Durchmesser von größer als 1 µm aufweisen, wenn Oberflächenunebenheitsformen bei einer Höhe geschnitten werden, welche die Bezugshöhe (BH) plus 0,05 µm in der Untersuchungsfläche ist, groß sind. In dem Fall, bei dem die Vorwölbungsdichte groß ist, jedoch der Vorwölbungsflächenanteil klein ist, ist die Anzahl von Vorwölbungen in der Untersuchungsfläche groß, jedoch ist deren Durchschnittsfläche klein. In dem Fall, bei dem die Vorwölbungsdichte klein ist, jedoch der Vorwölbungsflächenanteil groß ist, ist die Anzahl der Vorwölbungen in der Untersuchungsfläche klein, jedoch ist deren Durchschnittsfläche groß.
Ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit können gleichzeitig erreicht werden, wenn die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² liegt und der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % liegt. Ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit und darüber hinaus ein geringes Glitzern können gleichzeitig erhalten werden, wenn die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² liegt und der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % liegt.
Ein Fall, bei dem der Flächenanteil von Vorwölbungsbereichen, die einen Durchmesser von größer als 1 µm aufweisen, wenn Oberflächenunebenheitsformen bei einer Höhe geschnitten werden, welche die Bezugshöhe (BH) plus 0,05 µm beträgt, größer als 50 % ist, bedeutet, dass die Fläche von Vorwölbungsbereichen viel größer ist als die Fläche von Vertiefungsbereichen. Umgekehrt bedeutet ein Fall, bei dem der Vorwölbungsflächenanteil kleiner als 5,5 % ist, dass Vorwölbungen und Vertiefungen eine geringe Höhe aufweisen, was zu einem geringen Blendschutzvermögen führt.
(Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk)
Die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk wurde in der gleichen Weise bestimmt, wie es vorstehend im Zusammenhang mit der Vorwölbungsdichte beschrieben worden ist, d.h., xyz-Daten, die durch Durchführen einer Messung in der Untersuchungsfläche von (101 bis 111) µm × (135 bis 148) µm mit dem Lasermikroskop VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, erhalten worden sind und Oberflächenformen in der Untersuchungsfläche darstellen, wurden Gradientenkorrekturen durch das durchschnittliches Profil-Anpassungsverfahren unter Verwendung der Bildverarbeitungssoftware SPIP Ver. 6.4.3 von Image Metrology A/S unterzogen und die resultierenden Daten wurden analysiert.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung liegt die Schiefe Ssk von Oberflächenunebenheitsformen in einem Bereich von -0,5 bis 1,1, da ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit gleichzeitig erreicht werden können.
Die Schiefe Ssk ist ein Index, der den Grad der Symmetrie einer Höhenverteilung von Oberflächenunebenheitsformen angibt. Wenn die Schiefe Ssk gleich 0 ist, gibt dies an, dass die Höhenverteilung symmetrisch ist. Wenn die Schiefe Ssk größer als 0 ist, gibt dies an, dass Vorwölbungen dominieren. Wenn die Schiefe Ssk kleiner als 0 ist, gibt dies an, dass Vertiefungen dominieren. Es gibt allgemeine Tendenzen dahingehend, dass die Schiefe Ssk von Oberflächenunebenheitsformen, die durch eine Beschichtungsbehandlung gebildet werden, größer als 0 ist, und dass die Schiefe Ssk von Oberflächenunebenheitsformen, die durch die Ätzbehandlung gebildet werden, kleiner als 0 ist. Vertiefungen werden zu flach, wenn Vorwölbungen zu stark dominieren, und umgekehrt werden Vorwölbungen zu flach, wenn Vertiefungen zu stark dominieren. Folglich ist es zum Vermindern des Flächenanteils von flachen Oberflächenbereichen bevorzugt, dass die Schiefe Ssk in einem vorgegebenen Bereich, einschließlich 0, liegt.
(Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt)
Der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt wurde in der gleichen Weise bestimmt, wie es vorstehend im Zusammenhang mit der Vorwölbungsdichte beschrieben worden ist, d.h., xyz-Daten, die durch Durchführen einer Messung in der Untersuchungsfläche von (101 bis 111) µm × (135 bis 148) µm mit dem Lasermikroskop VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, erhalten worden sind und Oberflächenformen in der Untersuchungsfläche darstellen, wurden Gradientenkorrekturen durch das durchschnittliches Profil-Anpassungsverfahren unter Verwendung der Bildverarbeitungssoftware SPIP Ver. 6.4.3 von Image Metrology A/S unterzogen und die resultierenden Daten wurden analysiert.
Der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt wird unter Bezugnahme auf die 4 beschrieben. In der 4 stellt die vertikale Achse die Höhe der Oberflächenunebenheit dar und die horizontale Achse stellt den Anteil (Lastflächenfaktor) der Summe von Flächen dar, die erhalten werden, wenn Oberflächenunebenheiten bei jeder Höhe durch eine horizontale Ebene geschnitten werden. Die Lastkurve einer Oberfläche ist eine Kurve, die eine Beziehung zwischen der Höhe und dem Lastflächenfaktor darstellt, der von 0 % bis 100 % variiert. Der Lastflächenfaktor steht für den Anteil einer Gesamtfläche von Bereichen, die größer als ein bestimmter Höhenwert c oder identisch mit diesem sind.
Die Teilungslinie der Lastkurve wird entlang der Lastkurve zwischen Abschnitten gezogen, bei denen die Differenz des Lastflächenanteils zwischen diesen 40 % beträgt. Ein zentraler Abschnitt der Lastkurve ist als Abschnitt festgelegt, bei dem der Gradient der Teilungslinie am kleinsten ist, wenn die Teilungslinie beginnend von einem Lastflächenanteil von 0 % bewegt wird. Eine äquivalente Gerade ist als Gerade festgelegt, bei welcher die Summe der Quadrate von Abweichungen von dem zentralen Abschnitt in der vertikalen Achsenrichtung am kleinsten ist. Ein Abschnitt, der in die Höhe entsprechend 0 % bis 100 % des Bereichs des Lastflächenfaktors einbezogen ist, der äquivalenten Geraden wird als Kernabschnitt bezeichnet. Ein Abschnitt, der höher ist als der Kernabschnitt, wird als vorgewölbter Erhebungsabschnitt bezeichnet. Ein Lastflächenfaktor an der Grenze zwischen dem Kernabschnitt und dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt wird durch Smr1 dargestellt.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung liegt der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt von Oberflächenunebenheitsformen in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %, da gleichzeitig ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit erreicht werden können.
In der lichtdurchlässigen Struktur gemäß der vorliegenden Erfindung ist es bevorzugt, dass der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt von Oberflächenunebenheitsformen in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % liegt, da gleichzeitig ein sehr gutes Blendschutzvermögen und eine sehr gute Sichtbarkeit und zusätzlich ein geringes Glitzern erreicht werden können.
Ein Lastflächenfaktor Smr1, der kleiner als ein vorgegebener Wert ist, gibt an, dass die in der 4 gezeigte Lastkurve nahe an der äquivalenten Geraden liegt, was bedeutet, dass die Wahrscheinlichkeit des Vorliegens von Oberflächen mit derselben Höhe in Oberflächenformen niedriger als ein vorgegebener Wert oder mit diesem identisch ist, d.h., die Anzahl von flachen Oberflächenbereichen ist gering und der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen ist gering.
Beispiele
(Beispiele A1 bis A4, Beispiele B1 bis B3 und Vergleichsbeispiele A1 bis A22)
In den Beispielen A1 bis A4, den Beispielen B1 bis B3 und den Vergleichsbeispielen A1 bis A22, die in der Tabelle 1 gezeigt sind, wurden der Reflexionsbild-Streuindexwert R, der Sichtbarkeitsindexwert T und der Glitzerindexwert Z durch Durchführen einer Simulation unter Verwendung eines optischen Fourier-Systems, in dem Oberflächenunebenheitsformen gemäß einem idealen konischen Modell ausgedrückt wurden, gemäß einem Verfahren berechnet, das in dem nachstehend gezeigten Dokument beschrieben ist.
Nachstehend wird beschrieben, wie ein ideales konisches Modell erzeugt wird. Zuerst werden flache Ebenen (Z = 0) mit 4096200 µm im Quadrat erzeugt. Ein Konus mit einem vorgegebenen Gradienten bzw. einer vorgegebenen Steigung (z.B. 5°) wird derart an einer beliebigen horizontalen Position in einer XY-Ebene angeordnet, dass dessen Scheitelpunkt beliebig in einem Höhenbereich von 0 bis 1 µm eingestellt war, so dass er nach unten (in der -Z-Richtung) gerichtet war. Ein ideales konisches Modell ohne flache Bereiche wurde durch wiederholtes Durchführen eines Vorgangs des Aushöhlens einer Ebene durch einen beliebig ausgewählten Konus erzeugt.
Obwohl in diesem Beispiel der Gradient jedes Konus auf 5° eingestellt wurde, ist die vorliegende Erfindung nicht auf diesen Fall beschränkt. Der Gradient jedes Konus muss nicht immer festgelegt sein; Konen mit verschiedenen Gradienten können verwendet und gemischt werden. Alternativ können Vertiefungen mit einer gekrümmten Oberfläche gebildet werden. Obwohl in diesem Beispiel die Spitze jedes Konus nach unten gerichtet ist, kann sie nach oben gerichtet sein, wobei in diesem Fall eine Ebene nicht ausgehöhlt wird, sondern dieser ein Konus hinzugefügt wird. Ergebnisse sind in der Tabelle 1 gezeigt.
(Referenzdokument)
„Simulation of Anti-Glare Cover Glass Using Fourier Optics Consistent with Sparkle and Other Visual Performances", Masanobu Isshiki, SID 2017 DIGEST, Seiten 1383-1386.
(Details des Simulationverfahrens)
Der Flächenanteil von Abschnitten, deren Oberflächengradienten bezüglich der ersten Hauptoberfläche einer lichtdurchlässigen Struktur kleiner als oder gleich 0,5° sind, wird gemäß dem folgenden Verfahren berechnet.
Oberflächenformen der ersten Hauptoberfläche werden in einer Untersuchungsfläche von (111 bis 148) µm × (101 bis 135) µm der Oberfläche, die mit einem Blendschutzfilm ausgebildet ist, einer lichtdurchlässigen Struktur mit dem Lasermikroskop, Typenbezeichnung VK-X210, hergestellt von Keyence Corporation, mit einer auf 100 eingestellten Vergrößerung einer Objektivlinse gemessen. Die Anzahl von Samplingdaten beträgt insgesamt 3145728, d.h., 2048 (horizontal) × 1536 (vertikal). Obwohl die Untersuchungsfläche von der vorstehenden Untersuchungsfläche bezüglich bestimmter Bedingungen verschieden sein kann, betrifft die folgende Beschreibung einen Fall, bei dem die Untersuchungsfläche Maße von 145,0 µm × 108,8 µm aufweist.
Quadratisch ausgebildete Daten werden durch Erzeugen von 2048 (horizontal) × 1536 (vertikal) Samplingdaten in der vorstehend beschriebenen Weise und Entfernen von 512 (1537te bis 2048te; horizontal) × 1536 (vertikal) Daten erhalten. Eine genäherte Ebene wird für die resultierenden quadratisch ausgebildeten Daten durch das Verfahren der kleinsten Fehlerquadrate erhalten. Gradientenkorrigierte quadratisch ausgebildete Daten wurden durch Durchführen von Gradientenkorrekturen durch Subtrahieren der genäherten Ebene von den ursprünglichen Daten erhalten. Die in der 5 gezeigten Daten, die 3072 (horizontal) × 3072 (vertikal) synthetisierte, quadratisch ausgebildete Daten umfassen, werden durch Invertieren und Drehen der gradientenkorrigierten quadratisch ausgebildeten Daten erhalten.
Dann werden 12285 (horizontal) × 12285 (vertikal) interpolierte Daten durch Durchführen einer zweidimensionalen linearen Interpolation der so erhaltenen 3072 (horizontal) × 3072 (vertikal) synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten derart, dass Daten an jedem 1/4-Punkt jedes Intervalls zwischen Datenpunkten hinzugefügt wurden, erhalten. Die Interpolation wurde unter Verwendung einer interp2-Funktion von MATLAB R2008b durchgeführt. Bei „Verfahren“ zum Angeben eines Interpolationsverfahrens der interp2-Funktion wurde „linear“ angegeben.
Anschließend werden die interpolierten Daten zu LCD-Pixelgrößedaten zugeschnitten. Unter der Annahme, dass die LCD-Anzeige 264 ppi aufweist und eine Pixelgröße von 96,2 µm × 96,2 µm aufweist, werden 10856 (horizontal) × 10856 (vertikal) (10856 = (96,2/108,8) × 12285) Daten aus den interpolierten Daten herausgeschnitten. Dann werden 1024 (horizontal) × 1024 (vertikal) Daten von den herausgeschnittenen Daten durch eine lineare Interpolation erhalten und 2048 (horizontal) × 2048 (vertikal) synthetisierte, quadratisch ausgebildete Daten-2 mit den Abmessungen 384,8 µm × 384,8 µm werden erneut erhalten, wie es in der 5 gezeigt ist, und zwar durch Invertieren und Drehen der interpolierten Daten. Wie in dem vorstehend beschriebenen Fall wurde die lineare Interpolation durch die Verwendung der interp2-Funktion und Angeben von „linear“ bei „Verfahren“ durchgeführt. Die so erhaltenen 2048 (horizontal) × 2048 (vertikal) synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 mit den Abmessungen 384,8 µm × 384,8 µm umfassen Daten, welche die Höhe betreffen. Das Intervall zwischen einzelnen Maschen beträgt 384,8 µm/2047 = 188 nm.
Oberflächengradienten der so erhaltenen 2048 (horizontal) × 2048 (vertikal) synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 mit den Abmessungen 384,8 µm × 384,8 µm werden berechnet. Ein Oberflächengradientenberechnungsverfahren ist wie folgt. Senkrechte Vektoren der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 werden unter Verwendung der surfnorm-Funktion von MATLAB R2008b berechnet. Insbesondere sollen Xa, Ya und Za Matrizen als X-, Y- und Z-Koordinaten von jeweils 2048 × 2048 Punkten der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 darstellen. Ein senkrechter Vektor an jedem Punkt wird durch Berechnen von surfnorm(Xa, Ya, Za) bestimmt. Ein Winkel, der durch den senkrechten Vektor an jedem Punkt und einer Ebene senkrecht zu der Glasoberfläche gebildet wird, wird berechnet, ein Histogramm wird mit Intervallen von 0,1° erzeugt, der Anteil von allen Datenpunkten in einem Bereich von 0° bis 0,5° in Bezug auf alle Datenpunkte des Histogramms wird berechnet und der Flächenanteil der Abschnitte, deren Winkel kleiner als oder gleich 0,5° sind, wird bestimmt.
Berechnungsverfahren der „Klarheit“ und der „Streuung“ werden nachstehend beschrieben.
Die x- und y-Achsen werden in der Substratoberfläche eingestellt und die z-Achse wird senkrecht zu diesen eingestellt. Die x-, y- und z-Achsen fallen mit den Achsen der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 der AG-Oberfläche zusammen. Eine Oberfläche bei der durchschnittlichen Höhe der AG-Oberfläche wird als z = 0-Oberfläche eingesetzt und die Amplitude eines elektrischen Felds in dieser Oberfläche wird durch U(x, y, 0) dargestellt, d.h., U=exp(i2π(n-1)ρ(x,y)/λ) in dem Fall des Durchlassens von Licht und U=exp(i4πnρ(x,y)/λ) in dem Fall von Reflexionslicht, wobei p(x, y) die z-Koordinate (AG-Höhe) an jedem Punkt (x, y) ist, n der Brechungsindex eines Glases ist (als 1,5 angenommen) und λ die Wellenlänge von Licht ist. Durch ein Fourier-Transformieren von U(x, y, 0) und inverses Umwandeln der Fouriertransformation wird das Folgende erhalten: $A (k_{x}, k_{y}; z = 0) = \iint U (x, y,0) exp (- i (k_{x} x + k_{y} y)) d x d y$
$U (x, y,0) = \frac{1}{{(2 π)}^{2}} \iint A (k_{x}, k_{y}; z = 0) exp (i (k_{x} x + k_{y} y)) d k_{x} d k_{y}$
wobei λ die Wellenlänge von Licht ist.
Da exp(i(k_xx+k_yy)) eine ebene Welle mit einer Wellenzahl von $\overset{⇀}{k} = (k_{x}, k_{y}, \sqrt{{(\frac{2 π}{λ})}^{2} - k_{x}^{2} - k_{y}^{2}})$
darstellt, stellt |A(k_x,k_y;z=0)|² die Intensität einer ebenen Welle mit der Wellenzahl $\vec{k}$
dar. Es ist möglich, die θ-Abhängigkeit von Streulicht durch Umrechnen von $\vec{k}$
in einen entsprechenden Parameter in dem kugelförmigen Koordinatensystem (2π/λ, θ, φ) und Integrieren von |A(k_x,k_y;z = 0)|²in der φ-Richtung zu bestimmen, wobei θ der Winkel ist, der durch die Z-Achse und $\vec{k}$
gebildet wird, und φ der Azimuthwinkel in der XY-Ebene ist. Die Winkelverteilung von Streulicht, wie sie durch das Goniofotometer GC5000L gemessen wird, kann aus dieser Winkelverteilung von Streulicht bestimmt werden. Die „Klarheit“ und die „Diffusion“ können aus der Winkelverteilung des Streulichts berechnet werden.
Die „Klarheit“ und die „Diffusion“ wurden mit dem Verfahren berechnet, das in dem japanischen Patent Nr. 5,867,649 beschrieben ist. Das japanische Patent Nr. 5,867,649 gibt an, dass die Winkelverteilung von Durchlasslicht und die Winkelverteilung von Reflexionslicht durch Variieren des Winkels des Detektors des Goniofotometers GC5000L gemessen werden und der Sichtbarkeitsindexwert T und der Reflexionsbild-Streuindexwert R durch die folgenden Gleichungen festgelegt sind: $\begin{array}{l} (Sichtbarkeitsindexwert T) = {(Leuchtdichte des gesamten Durchlasslichts) - \\ (Leuchtdichte von 0 ° - Durchlasslichts)} / (Leuchtdichte des gesamten Durchlasslichts); \end{array}$
$\begin{array}{l} (Reflexionsbild-Streuindexwert R) = {(Leuchtdichte des gesamten Reflexionslichts) - \\ (Leuchtdichte von 45 ° - Spiegelreflexionslicht)} / (Leuchtdichte des gesamten Reflexionslichts) . \end{array}$
In dem Fall einer Reflexion breitet sich Spiegelreflexionslicht in der 45°-Richtung aus, da Licht auf die AG-Oberfläche von der 45°-Richtung in Bezug auf deren senkrechter Richtung fällt. Da jedoch der Einfallswinkel von einfallendem Licht als 0° angenommen wurde, wurde die folgende Gleichung verwendet: $\begin{array}{l} Streuung = {(Leuchtdichte des gesamten Reflexionslichts) - (Leuchtdichte von 0 ° - \\ Spiegelreflexionslicht)} / (Leuchtdichte des gesamten Reflexionslichts) . \end{array}$
Andererseits wurde die „Klarheit“, die das Durchlasslicht betrifft und ein Index ist, der für eine bessere Eigenschaft steht, wenn er näher an 1 liegt (im Gegensatz zu dem Fall des japanischen Patents Nr. 5,867,649 ), in der folgenden Weise festgelegt: $\begin{array}{l} Klarheit = (Leuchtdichte von 0 ° - Durchlasslicht)} / (Leuchtdichte des gesamten \\ Durchlasslichts) . \end{array}$
Während GC5000L 1°-Intervalldaten erzeugt, wurde die Simulationsintegration in der φ-Richtung mit 0,1°-Intervallen für θ durchgeführt. Berechnungen wurden so durchgeführt, dass Komponenten in einem Bereich von -0,7° bis +0,7° als 0°-Durchlasslicht oder 0°-Spiegelreflexionslicht angenommen wurden.
Der Sichtbarkeitsindexwert T und der Reflexionsbild-Streuindexwert R werden durch Erstellen von Umrechnungsgleichungen durch Vergleichen der erhaltenen Klarheitsberechnungswerte t und Streuungsberechnungswerte r mit Klarheitsmesswerten und Streumesswerten, die für dieselben Proben gemessen worden sind, und Durchführen einer Umrechnung erhalten. Die verwendeten Umrechnungsgleichungen waren T = 0,9439 × t + 0,0742 und R = 0,0267 × EXP(3,7726 × r).
(Berechnungsverfahren des Glitzerindexwerts (Anti-Glitzern) Z)
Wenn eine Person eine Anzeigevorrichtung betrachtet, sind seine oder ihre Augen auf Pixel fokussiert. Entsprechend sind die Augen auf Pixel fokussiert, wenn eine Person ein Bild durch ein AG-Substrat betrachtet. Entsprechend sind die Augen auf Pixel fokussiert, wenn eine Person ein Bild durch ein AG-Substrat betrachtet. Folglich werden Pixel, die durch menschliche Augen durch ein AG-Substrat betrachtet werden, gemäß dem folgenden Verfahren berechnet. Es wird davon ausgegangen, dass die Pixeloberfläche eine Höhe z = 0 aufweist.
Zuerst wird eine Pixelstruktur erzeugt. Die Anzahl von Datenpunkten ist mit derjenigen in den synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 identisch. Vier (2 × 2) gleiche Abschnitte werden darin ausgebildet und jeder Abschnitt wird mit einem Pixel korreliert. Da von einer Anzeigevorrichtung ausgegangen wird, deren Pixelabstand 264 ppi (Pixel pro Zoll) beträgt, misst ein Pixel 96,2 µm × 96,2 µm. Zum Simulieren eines grünen monochromen Anzeigezustands wird eine Öffnung, die 96,2/3 µm × 96,2/1,5 µm misst, in der Mitte jedes Abschnitts eingestellt. Die Amplitude des elektrischen Felds U_Pixel(x, y, 0) wird in den Öffnungen auf 1 und auf 0 in dem anderen Bereich eingestellt. Dies wird wie folgt unter Verwendung einer Fouriertransformationsformel ausgedrückt: $U_{P i x e l} (x, y,0) = \frac{1}{{(2 π)}^{2}} \iint A (k_{x}, k_{y}; z = 0) exp (i (k_{x} x + k_{y} y)) d k_{x} d k_{y} .$
Da A(k_x,k_y;z =0) die Amplitude einer ebenen Welle mit der Wellenzahl $\vec{k}$
darstellt, kann die Amplitude eines elektrischen Felds, die auftritt, wenn die Verteilung eines elektrischen Felds an Pixeln die AG-Oberfläche erreicht, durch Ausbreitenlassen der ebenen Welle in der Z-Achsenrichtung um eine optische Distanz z₀ (hier als 4,75 mm angenommen) zwischen den Pixeln und der AG-Oberfläche bestimmt werden. $U_{P i x e l} (x, y, z_{0}) = \frac{1}{{(2 π)}^{2}} \iint A (k_{x}, k_{y}; z = 0) exp (i z_{0} \sqrt{{(\frac{2 π}{λ})}^{2} - k_{x}^{2} - k_{y}^{2}}) exp (i (k_{x} x + k_{y} y)) d k_{x} d k_{y}$
Unter Verwendung dieses U_Pixel(x, y, z₀) kann eine Verteilung von Licht, das durch die AG-Oberfläche gestreut wird, durch die folgende Gleichung bestimmt werden: $A_{P i x e l} (k_{x}, k_{y}; z_{0}) = \iint U_{P i x e l} (x, y, z_{0}) exp (- i (k_{x} x + k_{y} y)) d x d y .$
Dieses Streulicht erreicht die Augen eines Betrachters. Folglich kann ein Bild, das an den Augen des Betrachters gebildet wird, durch Bestimmen eines Bilds, das auf der Pixelebene durch imaginäres Rückführen des Streulichts zu der Pixelebene gebildet wird, bestimmt werden. Ein elektrisches Feld U_sim(x, y, 0) bei der Pixelebene wird unter Verwendung der folgenden Gleichung bestimmt: $U_{s i m} (x, y,0) = \frac{1}{{(2 π)}^{2}} \iint A_{P i x e l} (k_{x}, k_{y}; z_{0}) exp (- i z_{0} \sqrt{{(\frac{2 π}{λ})}^{2} - k_{x}^{2} - k_{y}^{2}}) exp (i (k_{x} x + k_{y} y)) d k_{x} d k_{y} .$
|U_sim(x,y,0)|² stellt ein Bild dar, das durch die Augen eines Menschen betrachtet wird.
Gemäß dem vorstehenden Verfahren konnte ein Pixelbild von vier Pixeln erhalten werden. Da vier Pixel unzureichend sind, um ein „Glitzern“ zu bestimmen, wurde ein Pixelbild von 400 Pixeln gemäß dem folgenden Verfahren erhalten.
Die synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 werden um 10 Stufen cyclisch in jeder der vertikalen Richtung und der horizontalen Richtung verschoben, wodurch 100 (10 × 10) verschiedene synthetisierte, quadratisch ausgebildete Daten-2 erhalten werden. Ein Schritt entspricht den 2048 Datenpunkten der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2, die gleich durch 10 geteilt sind. Ein Pixelbild von 400 Pixeln wird durch Bestimmen des vorstehend genannten |U_sim(x,y,0)|² für alle 100 synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 (die Daten von einem Pixel enthalten 1024 × 1024 Daten) erhalten. Eine Datenmatrix (20 Pixel × 20 Pixel) der Daten dieser 400 Pixel ist durch Bild1 angegeben.
Anschließend werden synthetisierte, quadratisch ausgebildete Daten-3 durch Verschieben der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 um 5 Schritte in jeder der vertikalen Richtung und der horizontalen Richtung erhalten. Eine Datenmatrix (20 Pixel × 20 Pixel) der Daten der 400 Pixel wird in derselben Weise, wie es vorstehend beschrieben ist, unter Verwendung der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-3 anstelle der synthetisierten, quadratisch ausgebildeten Daten-2 erhalten und ist durch Bild2 angegeben. Die Anordnungsreihenfolge ist dieselbe wie in Bild1.
Eine Berechnung, die dem „Differenzbildverfahren (DIM)“ entspricht, das im SMS-1000 verwendet wird, wird unter Verwendung von Bild1 und Bild2 durchgeführt (vgl. M. E. Becker, J. Soc. Inf. Disp. 23, 472 (2015)). Zuerst wird Bild1 - Bild2 berechnet, wobei Differenzen für jeweilige Sätze von entsprechenden Komponenten der zwei Datenmatrizen berechnet werden. Ein gleitender Durchschnitt-Filter, der dieselbe Größe wie ein Pixel aufweist, wird auf die verschiedenen Daten angewandt. Insbesondere wird eine quadratische 1024 × 1024-Matrix erzeugt, in der jede Komponente 1/1024² beträgt, und diese quadratische Matrix und die Differenzdaten werden einer zweidimensionalen Faltung unterzogen. Eine Gesamtstandardabweichung wird als Glitzerberechnungswert s berechnet.

Der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z wird durch eine Umrechnungsgleichung, die durch Erstellen einer Umrechnungsgleichung durch Vergleichen der so erhaltenen Glitzerberechnungswerte s mit den Glitzerindexwerten (Anti-Glitzern) Z, die für dieselben Proben gemessen worden sind, erzeugt wird, und Durchführen einer Umrechnung erhalten. Die verwendete Umrechnungsgleichung war Z = -44,852 × s + 0,9892. Tabelle 1

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Bsp. A1	0,12	0,0049	0,083	31,78	0,14	10,16	0,807	0,969	0,906	20,92
Bsp. A2	0,14	0,0051	0,077	30,29	0,14	10,16	0,542	0,972	0,910	18,62
Bsp. A3	0,16	0,0060	0,065	26,61	0,14	10,16	0,308	0,974	0,914	16,29
Bsp. A4	0,16	0,0053	0,071	28,53	0,14	10,16	0,308	0,974	0,914	16,29
Bsp. B1	5,79	0,0002	0,115	29,39	0,25	13,48	0,313	0,956	0,000	0,00
Bsp. B2	0,06	0,0039	0,118	38,03	0,14	10,16	1,000	0,946	0,891	33,08
Bsp. B3	0,10	0,0043	0,089	33,11	0,14	10,16	0,991	0,966	0,903	23,15
Vgl.-Bsp. A1	0,01	0,0001	1,842	40,88	0,25	13,48	1,000	0,090	0,655	55,80
Vgl.-Bsp. A2	0,02	0,0001	0,697	45,06	0,07	9,67	1,000	0,105	0,801	54,61
Vgl.-Bsp. A3	0,02	0,0002	0,914	44,49	0,06	9,59	1,000	0,100	0,807	55,20
Vgl.-Bsp. A4	0,02	0,0002	0,408	45,71	0,13	10,10	1,000	0,137	0,848	52,28
Vgl.-Bsp. A5	0,02	0,0002	0,471	50,03	0,17	10,39	1,000	0,126	0,766	53,13
Vql.-Bsp. A6	0,02	0,0003	0,351	44,99	0,16	10,39	1,000	0,161	0,811	50,90
Vgl.-Bsp. A7	0,02	0,0002	0,293	48,16	0,14	10,11	1,000	0,247	0,831	48,28
Vgl.-Bsp. A8	0,03	0,0003	0,235	49,62	0,13	10,06	1,000	0,525	0,826	44,65
Vgl.-Bsp. A9	0,04	0,0002	0,353	48,88	0,17	10,39	1,000	0,187	0,782	45,33

Tabelle 1 (Fortsetzung)

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Vgl.-Bsp. A10	0,04	0,0012	0,178	43,09	0,15	10,17	1,000	0,819	0,842	41,36
Vgl.-Bsp. A11	0,04	0,0004	0,263	43,44	0,16	10,39	1,000	0,371	0,774	40,56
Vql.-Bsp. A12	0,04	0,0002	0,306	44,43	0,13	10,10	1,000	0,231	0,819	43,23
Vgl.-Bsp. A13	0,04	0,0003	0,220	46,26	0,14	10,11	1,000	0,589	0,798	37,26
Vgl.-Bsp. A14	0,05	0,0003	0,177	47,20	0,13	10,06	1,000	0,791	0,784	34,24
Vgl.-Bsp. A15	0,08	0,0003	0,204	41,82	0,13	10,10	1,000	0,643	0,690	22,77
Vgl.-Bsp. A16	0,09	0,0004	0,175	40,41	0,16	10,39	1,000	0,764	0,719	22,20
Vgl.-Bsp. A17	1,07	0,0002	0,230	35,04	0,25	13,48	0,966	0,831	0,000	0,00
Vgl.-Bsp. A18	0,13	0,01213	0,059	31,26	0,15	10,21	0,068	0,982	0,957	13,61
Vgl.-Bsp. A19	0,23	0,00654	0,059	24,43	0,14	10,16	0,100	0,978	0,923	11,57
Vgl.-Bsp. A20	6,18	0,00049	0,057	21,79	0,06	9,59	0,106	0,973	0,556	0,00
Vgl.-Bsp. A21	6,46	0,00062	0,044	16,97	0,07	9,67	0,065	0,977	0,735	0,00
Vgl.-Bsp. A22	7,04	0,00119	0,029	10,55	0,17	10,39	0,041	0,982	0,828	0,00

Der Reflexionsbild-Streuindexwert R liegt in einem Bereich von 0,2 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T liegt in einem Bereich von 0,94 bis 1 in den Beispielen A1 bis A4 und B1 bis B3, welche die Bedingungen erfüllen, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, in denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 7,2 %, liegt, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 53 % liegt, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,55 bis 1,10 liegt, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 16 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm liegt.
In den Vergleichsbeispielen A1 bis A17, bei denen der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa größer als 0,143 µm war, war der Sichtbarkeitsindexwert T kleiner als 0,94. In den Vergleichsbeispielen A18 bis A22, bei denen der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa kleiner als 0,06 µm ist, ist der Reflexionsbild-Streuindexwert R kleiner als 0,2.
Ferner liegt der Glitzerindexwert Z in einem Bereich von 0,845 bis 1 in den Beispielen A1 bis A4, welche die Bedingungen erfüllen, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,115 % bis 0,46 % liegt, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,048/µm² bis 0,05/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % liegt, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,50 bis 1,10 liegt und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 15 % liegt.
(Beispiel C1)
Im Beispiel C1 wurde eine lichtdurchlässige Struktur mit Oberflächenunebenheitsformen durch die Blendschutzbehandlung B gebildet. Ein unebener Film wurde auf der lichtdurchlässigen Struktur durch ein elektrostatisches Sprühverfahren gebildet, bei dem eine Beschichtungsflüssigkeit schuppenartige Siliziumoxidteilchen und ein Lösungsmittel mit hoher Siedetemperatur enthielt. Die Probe wurde, so, wie sie war, nach der Bildung des unebenen Films durch das elektrostatische Sprühverfahren für eine vorgegebene Zeit einem Erwärmen unterzogen, wodurch Flüssigkeit auf den schuppenartigen Siliziumoxidteilchen aggregierte und eine Verlaufwirkung zur Veränderungn von unebenen Formen auftrat. Als Ergebnis wird es möglich, unebene Formen mit einem kleinen Flächenanteil der flachen Oberflächenbereiche zu bilden. Insbesondere wurde das folgende Verfahren durchgeführt.
[Reinigen der lichtdurchlässigen Struktur]
Als lichtdurchlässige Struktur wurde ein Natronkalkglassubstrat FL1.1, hergestellt von AGC Inc., vorbereitet, das eine Größe von 100 mm (vertikal) × 100 mm (horizontal) und eine Dicke von 1,1 mm aufwies und bei dem die durchschnittliche Durchlässigkeit 90,6 % in einem Wellenlängenbereich von 400 nm bis 1100 nm betrug und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Ra 0,5 nm betrug. Die Oberfläche des Glases wurde mit einer wässrigen Natriumhydrogencarbonatlösung gereinigt, mit entionisiertem Wasser gespült und getrocknet.
[Beschichtungsmittelzusammensetzung]
Eine Beschichtungsmittelzusammensetzung wurde gemäß dem folgenden Verfahren hergestellt. Solmix AP-11 (Handelsbezeichnung von Japan Alcohol Trading Co., Ltd.) wurde als Hauptlösungsmittel verwendet. Eine Teilchen-enthaltende Siliziumoxid-Vorstufenlösung wurde durch Zusetzen von Tetraethoxysilan (TEOS), einem organischen Silan, einer Teilchendispersionsflüssigkeit, reinem Wasser und Salpetersäure in dieser Reihenfolge, so dass eine Zusammensetzung und eine SiO₂-umgerechnete Feststoffkonzentration, die in der Tabelle 2 gezeigt sind, erhalten wurden, und Durchführen eines Mischens bei 60 °C für 60 Minuten unter Rühren mit einem Magnetrührer erhalten. Die Gehalte von TEOS, organischem Silan und der Teilchendispersionsflüssigkeit sind in der Form eines Siliziumoxid-umgerechneten Feststoffverhältnisses gezeigt.
Eine Sunlovely (SLV)-Teilchendispersionsflüssigkeit war eine Dispersionsflüssigkeit von schuppenartigen Siliziumoxidteilchen, die durch Zerkleinern und Dispergieren von Sunlovely LFS HN150, hergestellt von AGC Si-Tech Co., Ltd., in dem Wasser als Dispersionsmedium verwendet wurde, erhalten wurde, der durchschnittliche Teilchendurchmesser betrug 185 nm, das durchschnittliche Seitenverhältnis ((durchschnittlicher Teilchendurchmesser)/(durchschnittliche Dicke)) betrug 80 und die Feststoffkonzentration betrug 5 Gew.-%.
Eine Beschichtungsflüssigkeit wurde durch Verdünnen der so erhaltenen Teilchenenthaltenden Siliziumoxid-Vorstufenlösung mit AP-11 erhalten, so dass die SiO₂-umgerechnete Feststoffkonzentration der Beschichtungsflüssigkeit, die in der Tabelle 2 gezeigt ist, erhalten wurde. Gegebenenfalls wurden Propylenglykol (PG) und Diacetonalkohol (DAA) in einem Verhältnis, das in der Tabelle 2 gezeigt ist, als Lösungsmittel verwendet, die von AP-11 verschieden sind.
[Elektrostatisches Beschichtungsgerät]
Ein elektrostatisches Beschichtungsgerät (elektrostatischer Beschichter, hergestellt von Asahi Sunac Corporation), das mit einer elektrostatischen Beschichtungspistole ausgestattet ist, wurde vorbereitet. Die elektrostatische Beschichtungspistole war eine rotierende automatische elektrostatische Zerstäubungspistole Sunbell ESA120, hergestellt von Asahi Sunac Corporation, die einen Becherdurchmesser von 70 mm aufwies. Zum Erleichtern der Erdung der lichtdurchlässigen Struktur wurde eine Metallnetzschale als leitendes Substrat vorbereitet.
[Elektrostatisches Beschichten]
In einer Beschichtungskabine des elektrostatischen Beschichtungsgeräts wurden die Temperatur und die Feuchtigkeit auf Bereiche von 23 °C ± 1 °C bzw. 50 % ± 10 % eingestellt.
Eine gereinigte lichtdurchlässige Struktur, die im Vorhinein auf 30 °C ± 3 °C erwärmt worden ist, wurde mittels des leitenden Substrats auf einen Kettenförderer des elektrostatischen Beschichtungsgeräts gelegt. Während die lichtdurchlässige Struktur durch den Kettenförderer bei einer konstanten Geschwindigkeit gefördert wurde, wurde eine Beschichtungsflüssigkeit in einem Temperaturbereich von 23 °C ± 1 °C auf eine T-Oberfläche (gegenüber einer Oberfläche, die während der Herstellung mit einem Floatverfahren mit geschmolzenem Zinn in Kontakt gebracht worden ist) der lichtdurchlässigen Struktur aufgebracht. Dann wurde die lichtdurchlässige Struktur einem Erwärmen bei 300 °C in der Luft für 60 Minuten unterzogen, wodurch Oberflächenunebenheitsformen gebildet wurden.
Bezüglich der Beschichtungsbedingungen betrug die Beschichtungsflüssigkeit-Zuführungsgeschwindigkeit 24 mL/min, die Fördergeschwindigkeit betrug 3,0 m/min, die Turbinendrehzahl betrug 35 kU/min, die Düsenhöhe betrug 260 mm, (die Spannung betrug 60 kV), der Formluftdruck betrug 0,07 MPa und die Anzahl der Fördervorgänge betrug zwei. Die Beschichtungsflüssigkeit-Zuführungsgeschwindigkeit ist eine Zuführungsgeschwindigkeit einer Beschichtungsmittelzusammensetzung zu der elektrostatischen Beschichtungspistole. Die Turbinendrehzahl ist eine Drehzahl des rotierenden Zerstäubungskopfs. Die Düsenhöhe ist eine Distanz von der Düsenspitze der elektrostatischen Beschichtungspistole (d.h., dem vorderen Ende des rotierenden Zerstäubungskopfs in der Sprührichtung der Beschichtungsmittelzusammensetzung) zu der lichtdurchlässigen Struktur. (Die Spannung ist eine Spannung, die an die elektrostatische Beschichtungspistole angelegt wurde.)
(Beispiel C2, Beispiele D1 bis D4 und Vergleichsbeispiele B1 bis B10)
Lichtdurchlässige Strukturen des Beispiels C2, der Beispiele D1 bis D4 und der Vergleichsbeispiele B1 bis B10 wurden in der gleichen Weise wie die lichtdurchlässige Struktur von Beispiel C1 hergestellt, mit der Ausnahme, dass die Arten von Teilchendispersionsflüssigkeiten, die zur Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit verwendet wurden, die Teilchenkonzentrationen in dem Feststoffteil der Beschichtungsflüssigkeit, die Feststoffkonzentrationen in der Beschichtungsflüssigkeit und die Beschichtungsbedingungen der Beschichtungsflüssigkeit so waren, wie es in den Tabellen 2 und 3 gezeigt ist.
Die Proben der Vergleichsbeispiele B1 bis B10 waren solche, die durch herkömmliche Techniken unter Verwendung von herkömmlichen Beschichtungsflüssigkeiten hergestellt werden können. In den Beispielen C1 und C2 und den Beispielen D1 bis D4 wurden der Beschichtungsflüssigkeit beim elektrostatischen Beschichten feine Siliziumoxidteilchen und ein Lösungsmittel mit hoher Siedetemperatur zugesetzt. Es wurde gefunden, dass Oberflächenunebenheitsformen eines Blendschutzfilms, die herkömmlich nicht gebildet werden konnten, durch eine Verlaufwirkung und eine Matrixaggregation um feine Teilchen in einem Erstarrungsvorgang gebildet werden können, der nach dem Auftreffen der Beschichtungsflüssigkeit auf das Substrat durch das elektrostatische Beschichten stattfindet. Als Ergebnis war es möglich, gleichzeitig ein besseres Blendschutzvermögen und eine bessere Sichtbarkeit als bei herkömmlichen lichtdurchlässigen Strukturen zu erhalten.
Die Teilchendispersionsflüssigkeit, die in den nachstehenden Tabellen gezeigt ist, war wie folgt.
(Teilchendispersionsflüssigkeit)
ST-OZL (Snowtex OZL, hergestellt von Nissan Chemical Corporation), wobei es sich um eine Dispersionsflüssigkeit von kugelförmigen massiven Siliziumoxidteilchen handelt, und in der das Dispersionslösungsmittel Wasser war und der Teilchendurchmesser in einem Bereich von 70 nm bis 100 nm lag.
(Beispiel E1)
Im Beispiel E1 wurde eine lichtdurchlässige Struktur mit Oberflächenunebenheitsformen durch die Blendschutzbehandlung A gebildet. Insbesondere wurde das folgende Verfahren durchgeführt.
Zur Durchführung der Blendschutzbehandlung A als eine Verarbeitung zur Bildung von Unebenheiten auf nur einer Seite einer Glasplatte wurde ein Schutzfilm, der aus einer Substanz hergestellt ist, die in einer wässrigen Lösung von Fluorwasserstoffsäure unlöslich ist, auf eine beliebige Hauptoberfläche der Glasplatte geklebt. Die Blendschutzbehandlung A wurde auf der gegenüberliegenden Hauptoberfläche der Glasplatte durchgeführt, wodurch ein Substrat nur auf einer Oberfläche erzeugt wurde, die mit unebenen Formen ausgebildet war.
Die Blendschutzbehandlung A umfasste vier Schritte, d.h., ein Vorreinigen, ein Reinigen, ein Eintauchen in eine chemische Flüssigkeit und ein Reinigen. Das Substrat, auf das der Schutzfilm geklebt worden ist, wurde für 180 Sekunden in eine wässrige Lösung von Fluorwasserstoffsäure (5 Gew.-%) eingetaucht, wodurch Materialien, die auf der Substratoberfläche haften, wie z.B. Staub, Öle und Fette, entfernt wurden. Dann wurde das Substrat für 30 Sekunden in reines Wasser eingetaucht und gereinigt. Dieser Reinigungsschritt wurde dreimal wiederholt und dann wurde eine wässrige Lösung von Fluorwasserstoffsäure, die auf der Substratoberfläche verblieb, ausreichend entfernt
Anschließend wurde das Substrat langsam in eine Mattierungslösung eingetaucht, deren Konzentration so eingestellt war, wie es in der Tabelle 4 gezeigt ist (Beispiel E1) und für 180 Sekunden so, wie es war, stehengelassen, wodurch die Substratoberfläche mit unebenen Formen ausgebildet wurde. Schließlich wurde das Substrat für 30 Sekunden in reines Wasser eingetaucht, gereinigt und getrocknet, wodurch ein verarbeitetes Substrat erhalten wurde (vgl. die Tabelle 4).
Teile der Oberflächenschicht des Glassubstrats, die in die Mattierungschicht eingetaucht werden, werden durch Fluorwasserstoffsäure gelöst, so dass Siliziumfluoridionen erzeugt werden. Kaliumfluorid und Ammoniumfluorid, die in der Mattierungsflüssigkeit enthalten sind, bewirken, dass Salze, die mit Siliziumfluoridionen unlöslich sind, auf Abschnitten der Substratoberfläche abgeschieden werden. Während sich die Abschnitte des Glassubstrats, die mit den Salzen bedeckt sind, nicht weiter lösen, lösen sich die Abschnitte des Glassubstrats, die nicht mit den Salzen bedeckt sind, weiter. Als Ergebnis werden unebene Formen gebildet. Wie die unebenen Formen gebildet werden, wird durch die Substratlösungsgeschwindigkeit und die Abscheidungsgeschwindigkeit und die Formen von Salzen bestimmt, welche die Substratoberfläche bedecken.
Bei einer herkömmlichen Mattierungsverarbeitung wird eine Mischflüssigkeit aus Kaliumfluorid oder Ammoniumfluorid und Fluorwasserstoffsäure als Mattierungsflüssigkeit verwendet. Das Ätzen wird zusätzlich zusätzlich nach dem Bilden von unebenen Formen durchgeführt, wodurch unebene Formen mit löffelförmigen Vertiefungen („spoon cut“) erhalten werden. In einem Substrat, das in diese chemische Flüssigkeit eingetaucht worden ist, werden scharfe Kristalle auf der Substratoberfläche abgeschieden und unebene Formen werden somit so scharf, dass sie Licht zu stark streuen. Als Ergebnis weist ein Bild, das durch Licht übertragen wird, das durch das Substrat hindurchgetreten ist, eine zu geringe Sichtbarkeit auf. Es ist daher erforderlich, den Grad der Streuung durch Glätten der Oberfläche durch das zusätzliche Ätzen einzustellen.
Obwohl das zusätzliche Ätzen den Grad der Streuung auf ein gewünschtes Maß einstellen kann, können nur Formen mit löffelförmigen Vertiefungen auf der Substratoberfläche gebildet werden, da das Ätzen isotrop ist. Da sie flache Abschnitte aufweisen, können Formen mit löffelförmigen Vertiefungen nicht sowohl eine starke „Streuung“ als auch eine sehr gute „Klarheit“ erreichen, wie es vorstehend erwähnt worden ist.
In der vorliegenden Erfindung kann der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen mit einem hohen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa durch Bilden von geeigneten unebenen Formen auf einer Substratoberfläche durch Auswählen einer geeigneten chemischen Flüssigkeit und deren Konzentration vermindert werden. Als Ergebnis kann ein geeigneter Grad der Streuung sichergestellt werden, ohne dass ein zusätzliches Ätzen durchgeführt werden muss, wodurch sowohl eine starke „Streuung“ als auch eine sehr gute „Klarheit“ erreicht werden können.
(Beispiele F1 und F2)

Proben der Beispiele F1 und F2 wurden bei den gleichen Verarbeitungsbedingungen wie im Beispiel E1 hergestellt, mit der Ausnahme der HF-Konzentration, des Gegenions, der lonenkonzentration und der AlCl₃-Zusatzmenge (vgl. die Tabelle 4). Tabelle 4

	Ätzbedingungen
	HF (Gew.-%)	Gegenion	Ionenkonzentration (mol/L)	AlCl₃-Zusatzmenge (ppm)	Verarbeitungszeit (s)	Verarbeitungstemp. (°C)
Bsp. E1	5,0	KH₂PO₄	1,5	-	180	25
Bsp. F1	10,0	KCl	4,0	960	180	25
Bsp. F2	10,0	KCl	3,0	-	180	25

(Vergleichsbeispiele C1 bis C17)

Proben der Vergleichsbeispiele C1 bis C17 wurden bei den gleichen Verarbeitungsbedingungen wie im Beispiel E1 hergestellt, mit der Ausnahme der HF-Konzentration, des Gegenions, der lonenkonzentration und der AlCl₃-Zusatzmenge (vgl. die Tabelle 5). Tabelle 5

	Ätzbedingungen
	HF (Gew.-%)	Gegenion	Ionenkonzentration (mol/L)	AlCl₃-Zusatzmenge (ppm)	Verarbeitungszeit (sec)	Verarbeitungstemp. (°C)
Vgl.-Bsp. C1	2,0	KH₂PO₄	1,2	-	180	25
Vgl.-Bsp. C2	2,0	KH₂PO₄	1,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C3	5,0	KH₂PO₄	1,5	-	180	25
Vgl.-Bsp. C4	4,0	KH₂PO₄	1,2	-	180	25
Vgl.-Bsp. C5	3,0	KH₂PO₄	1,2	-	180	25
Vgl.-Bsp. C6	5,0	KCl	4,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C7	10,0	KCl	4,0	640	180	25
Vql.-Bsp. C8	10,0	KCl	4,0	320	180	25
Vgl.-Bsp. C9	7,5	KCl	3,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C10	5,0	KCl	1,3	-	180	25
Vgl.-Bsp. C11	7,5	KCl	2,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C12	7,5	KCl	4,0	-	180	25
Vql.-Bsp. C13	3,0	KCl	1,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C14	5,0	KCl	1,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C15	4,0	K₂SO₄	1,0	-	180	25
Vgl.-Bsp. C16	3,0	KCl	0,6	-	180	25
Vgl.-Bsp. C17	5,0	KNO₃	1,0	-	180	25

(Vergleichsbeispiele D1 bis D7)
In den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 wurde eine lichtdurchlässige Struktur mit Oberflächenunebenheitsformen durch die Blendschutzbehandlung B gebildet.
Insbesondere wurde das folgende Verfahren durchgeführt.
[Vorätzschritt]
Als lichtdurchlässige Struktur wurde ein Natronkalk-Glassubstrat FL1.1, hergestellt von AGC Inc., das eine Größe von 100 mm (vertikal) x 100 mm (horizontal) und eine Dicke von 1,1 mm aufwies und bei dem die durchschnittliche Durchlässigkeit 90,6 % in einem Wellenlängenbereich von 400 nm bis 1100 nm lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Ra 0,5 nm betrug, vorbereitet.
Nachdem ein Schutzfilm auf eine B-Oberfläche (gegenüber einer Oberfläche, die während der Herstellung mit einem Floatverfahren mit geschmolzenem Zinn in Kontakt gebracht wurde) der lichtdurchlässigen Struktur aufgebracht worden ist, wurde die lichtdurchlässige Struktur für 3 Minuten in eine Mattierungsbehandlungsflüssigkeit eingetaucht, die Fluorwasserstoff (2 Gew.-%) und Kaliumfluorid (3 Gew.-%) enthält.
[Hauptätzschritt]
Die lichtdurchlässige Struktur wurde mit einer wässrigen Natriumhydrogencarbonatlösung gereinigt und dann in eine wässrige Lösung, die Fluorwasserstoff (7,5 Gew.-%) und Chlorwasserstoff (7,5 Gew.-%) enthält, für eine Zeit eingetaucht, die in der folgenden Tabelle 6 gezeigt ist. Tabelle 6

Eintauchzeit (min)

Vgl.-Bsp. D1 4,7

Vgl.-Bsp. D2 9,0

Vgl.-Bsp. D3 10,3

Vgl.-Bsp. D4 12,0

Vgl.-Bsp. D5 12,9

Vgl.-Bsp. D6 17,5

Vgl.-Bsp. D7 19,4

Der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°), der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa, die Vorwölbungsdichte, der Vorwölbungsflächenanteil, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt, der Reflexionsbild-Streuindexwert R, der Sichtbarkeitsindexwert T, der Glitzerindexwert Z und ein Trübungsfaktor wurden gemäß den vorstehen beschriebenen Verfahren für jedes der Beispiele C1 und C2, der Beispiele D1 bis D4, des Beispiels E1, der Beispiele F1 und F2, der Vergleichsbeispiele B1 bis B10, der Vergleichsbeispiele C1 bis C17 und der Vergleichsbeispiele D1 bis D7 bestimmt. Die Ergebnisse sind in den folgenden Tabellen 7 bis 11 gezeigt. Tabelle 7

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streu indexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Bsp. C1	0,38	0,0157	0,081	20,81	0,44	7,93	0,369	0,968	0,846	10,22
Bsp. C2	0,46	0,0063	0,089	49,71	1,08	14,10	0,245	0,958	0,848	12,22
Bsp. D1	0,38	0,0073	0,085	5,59	0,22	6,56	0,282	0,965	0,834	10,58
Bsp. D2	0,39	0,0090	0,082	6,97	0,17	6,44	0,288	0,967	0,788	10,01
Bsp. D3	0,42	0,0116	0,080	13,91	0,36	7,44	0,229	0,967	0,710	8,16
Bsp. D4	0,48	0,0134	0,074	15,57	0,60	7,57	0,238	0,970	0,832	8,11

Tabelle 8

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µM)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Vgl.-Bsp. B1	0,22	0,0012	0,497	46,32	0,90	11,58	0,521	0,257	0,838	47,64
Vgl.-Bsp. B2	0,24	0,0007	0,510	53,16	0,57	13,38	0,429	0,246	0,812	47,66
Vgl.-Bsp. B3	0,25	0,0008	0,410	55,57	1,01	13,72	0,248	0,314	0,838	46,20
Vgl.-Bsp. B4	0,32	0,0011	0,394	49,98	0,61	12,49	0,096	0,298	0,858	43,78
Vgl.-Bsp. B5	0,44	0,0211	0,054	15,62	1,43	16,88	0,038	0,981	0,931	7,50
Vgl.-Bsp. B6	0,62	0,0039	0,156	55,18	4,48	14,61	0,230	0,904	0,787	26,60
Vgl.-Bsp. B7	0,65	0,0038	0,150	50,42	2,41	21,94	0,168	0,915	0,808	27,53
Vgl.-Bsp. B8	3,45	0,0037	0,030	2,14	0,46	8,05	0,036	0,984	0,941	0,00
Vgl.-Bsp. B9	8,32	0,0014	0,033	22,74	1,27	26,20	0,046	0,979	0,789	0,00
Vgl.-Bsp. B10	8,41	0,0017	0,041	12,38	0,34	7,86	0,035	0,984	0,837	0,00

Tabelle 9

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächen mittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächen anteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Bsp. E1	0,12	0,0378	0,143	12,72	-0,49	8,03	0,671	0,949	0,908	37,67
Bsp. F1	0,32	0,0175	0,112	25,14	-0,39	7,39	0,746	0,947	0,861	27,81
Bsp. F2	0,36	0,0142	0,110	24,79	-0,25	7,66	0,487	0,945	0,757	22,51

Tabelle 10

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Vgl.-Bsp. C1	0,09	0,0132	0,238	7,05	-0,92	4,63	0,780	0,804	0,886	47,44
Vgl.-Bsp. C2	0,11	0,0256	0,215	26,60	-0,93	6,45	0,816	0,859	0,895	47,46
Vgl.-Bsp. C3	0,11	0,0287	0,175	28,48	-0,57	5,57	0,367	0,917	0,895	42,30
Vgl.-Bsp. C4	0,11	0,0363	0,161	13,72	-0,27	6,33	0,317	0,934	0,920	40,37
Vgl.-Bsp. C5	0,11	0,0247	0,184	22,26	-0,78	6,34	0,849	0,897	0,894	43,29
Vgl.-Bsp. C6	0,28	0,0071	0,197	15,22	-0,89	5,04	0,763	0,797	0,664	34,45
Vgl.-Bsp. C7	0,32	0,0126	0,128	26,04	-0,58	6,99	0,570	0,918	0,782	26,67
Vgl.-Bsp. C8	0,37	0,0040	0,167	10,47	-0,33	5,21	0,552	0,834	0,632	24,46
Vgl.-Bsp. C9	0,37	0,1834	0,129	0,43	-0,64	9,44	0,709	0,918	0,819	25,43
Vgl.-Bsp. C10	0,37	0,0053	0,182	26,27	-0,58	7,18	0,671	0,763	0,675	27,14
Vgl.-Bsp. C11	0,40	0,0966	0,139	0,43	-0,35	10,64	0,624	0,896	0,796	23,84
Vgl.-Bsp. C12	0,40	0,0068	0,153	23,04	-0,76	6,75	0,482	0,888	0,682	24,97
Vgl.-Bsp. C13	0,41	0,0035	0,233	21,53	-0,73	7,29	0,791	0,697	0,657	20,51
Vgl.-Bsp. C14	0,46	0,0048	0,158	29,50	-0,69	10,17	0,563	0,856	0,720	19,36
Vgl.-Bsp. C15	0,53	0,0025	0,162	34,93	0,41	12,48	0,348	0,822	0,582	7,84
Vgl.-Bsp. C16	0,54	0,0015	0,035	0,91	0,04	9,00	0,032	0,986	0,940	0,00
Vgl.-Bsp. C17	0,74	0,0000	0,028	0,00	-0,02	9,23	0,030	0,986	0,946	0,00

Tabelle 11

	Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) (%)	Vorwölbungsdichte (/µm²)	Arithmetischer Oberflächenmittenrauwert Sa (µm)	Vorwölbungsflächenanteil (%)	Schiefe (Grad der Asymmetrie) Ssk	Lastflächenfaktor Smr1 (%) an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt	Reflexionsbild-Streuindexwert R	Sichtbarkeitsindexwert T	Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z	Trübungsfaktor (%)
Vgl.-Bsp. D1	0,18	0,0041	0,145	38,87	-0,21	10,07	0,823	0,915	0,816	37,00
Vgl.-Bsp. D2	0,25	0,0013	0,158	44,87	-0,12	10,76	0,908	0,899	0,736	40,16
Vgl.-Bsp. D3	0,33	0,0042	0,144	33,17	-0,15	9,20	0,735	0,913	0,867	32,52
Vgl.-Bsp. D4	0,39	0,0326	0,065	15,21	1,90	8,41	0,053	0,980	0,935	14,69
Vgl.-Bsp. D5	0,39	0,0012	0,179	34,87	-0,15	8,88	0,808	0,775	0,608	15,35
Vgl.-Bsp. D6	0,44	0,0069	0,141	0,21	-0,70	7,19	0,704	0,904	0,829	26,58
Vgl.-Bsp. D7	1,02	0,0121	0,043	6,30	2,36	9,85	0,041	0,982	0,907	3,18

Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,2 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,94 bis 1 in den Beispielen C1, C2, D1 bis D4, E1, F1 und F2, welche die Bedingungen erfüllten, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° lag, in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001 /µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,2 bis 0,9 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,94 bis 1 und darüber hinaus lag der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in einem Bereich von 0,845 bis 1 in den Beispielen C1, C2 und E1, welche die Bedingungen erfüllten, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,115 % bis 0,46 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,5 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,945 bis 1 in den Beispielen E1 und F1, welche die Bedingungen erfüllten, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0 % bis 0,32 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,50 bis 1,10 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,5 bis 0,9 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,945 bis 1 und darüber hinaus lag der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in einem Bereich von 0,905 bis 1 im Beispiel E1, das die Bedingungen erfüllte, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,115 % bis 0,32 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,25 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,96 bis 1 in den Beispielen C1, D1 und D2, welche die Bedingungen erfüllten, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,25 bis 0,65 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,96 bis 1 und darüber hinaus lag der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in einem Bereich von 0,84 bis 1 im Beispiel C1, das die Bedingungen erfüllte, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,115 % bis 0,4 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm lag.
Der Reflexionsbild-Streuindexwert R lag in einem Bereich von 0,30 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T lag in einem Bereich von 0,96 bis 1 und darüber hinaus lag der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in einem Bereich von 0,84 bis 1 in den Beispielen A1, A2, A3 und A4, im Beispiel B3 und im Beispiel C1, welche die Bedingungen erfüllten, dass der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 % lag, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0040/µm² bis 0,016/µm² lag, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 20 % bis 34 % lag, die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von 0,14 bis 0,45 lag, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,8 % bis 10,17 % lag und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm lag.
Die Vergleichsbeispiele B1 bis B10 genügten den folgenden Bedingungen nicht:

Die Vergleichsbeispiele B9 und B10 genügten dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % nicht.
Die Vergleichsbeispiele B1 bis B10 genügten dem arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm nicht.
Die Vergleichsbeispiele B2, B3, B6 und B8 genügten dem Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % nicht.
Die Vergleichsbeispiele B5 bis B7 und B9 genügten der Schiefe (dem Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,50 bis 1,1 nicht.
Die Vergleichsbeispiele B5 bis B7 und B9 genügten dem Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 % nicht.
Daher konnten die Vergleichsbeispiele B1 bis B10 nicht gleichzeitig einen Reflexionsbild-Streuindexwert R in einem Bereich von 0,2 bis 1 und einen Sichtbarkeitsindexwert T in einem Bereich von 0,94 bis 1 erreichen.

Die Vergleichsbeispiele C1 bis C17 genügten den folgenden Bedingungen nicht:

Die Vergleichsbeispiele C9, C11 und C17 genügten der Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² nicht.
Die Vergleichsbeispiele C1 bis C6, C8, C10 und C12 bis C17 genügten dem arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm nicht.
Die Vergleichsbeispiele C9, C11, C16, und C17 genügten dem Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % nicht.
Die Vergleichsbeispiele C1 bis C3, C5 bis C7, C9, C10 und C12 bis C14 genügten der Schiefe (dem Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,50 bis 1,1 nicht.
Daher konnten die Vergleichsbeispiele C1 bis C17 nicht gleichzeitig einen Reflexionsbild-Streuindexwert R in einem Bereich von 0,2 bis 1 und einen Sichtbarkeitsindexwert T in einem Bereich von 0,94 bis 1 erreichen.

Die Vergleichsbeispiele D1 bis D7 genügten den folgenden Bedingungen nicht:

Die Vergleichsbeispiele D1 bis D3, D5 und D7 genügten dem arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm nicht.
Die Vergleichsbeispiele D6 genügten dem Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % nicht.
Die Vergleichsbeispiele D4, D6 und D7 genügten der Schiefe (dem Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,50 bis 1,1 nicht.
Daher konnten die Vergleichsbeispiele D1 bis D7 nicht gleichzeitig einen Reflexionsbild-Streuindexwert R in einem Bereich von 0,2 bis 1 und einen Sichtbarkeitsindexwert T in einem Bereich von 0,94 bis 1 erreichen.

Die 6 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Sichtbarkeitsindexwert T und dem Reflexionsbild-Streuindexwert R in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt. Die 7 ist ein vergrößerter Graph eines Teils von 6.
In der 7 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,2 bis 1 beträgt und der Sichtbarkeitsindexwert T von 0,94 bis 1 beträgt. Der Bereich, der von einer gestrichelten Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,5 bis 1 beträgt und der Sichtbarkeitsindexwert T von 0,945 bis 1 beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,25 bis 1 beträgt und der Sichtbarkeitsindexwert T von 0,96 bis 1 beträgt. Der Bereich, der durch eine dünne gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem R und T größer als in Vergleichsbeispielen sind.
Aus der 7 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C und D sowohl der Reflexionsbild-Streuindexwert R als auch der Sichtbarkeitsindexwert T groß sind, d.h., der Reflexionsbild-Streuindexwert R liegt in einem Bereich von 0,2 bis 1 und der Sichtbarkeitsindexwert T liegt in einem Bereich von 0,94 bis 1.
Die 8 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Reflexionsbild-Streuindexwert R und dem Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt. Die 9 ist ein vergrößerter Graph eines Teils von 8.
In der 9 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,2 bis 0,9 beträgt und der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z von 0,845 bis 1 beträgt. Der Bereich, der von einer gestrichelten Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,5 bis 0,9 beträgt und der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z von 0,905 bis 1 beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Reflexionsbild-Streuindexwert R von 0,25 bis 0,65 beträgt und der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z von 0,845 bis 1 beträgt. Der Bereich, der durch eine dünne gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem R und Z größer als in Vergleichsbeispielen sind.
Aus der 9 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, C und E der Reflexionsbild-Streuindexwert R und der Sichtbarkeitsindexwert T groß sind und zusätzlich der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z groß ist. D.h., es ist ersichtlich, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R in einem Bereich von 0,2 bis 0,9 liegt, der Sichtbarkeitsindexwert T in einem Bereich von 0,94 bis 1 liegt und der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z in einem Bereich von 0,845 bis 1 liegt.
Im Allgemeinen nimmt der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z ab, wenn der Reflexionsbild-Streuindexwert R zunimmt. Wenn jedoch der Reflexionsbild-Streuindexwert R größer als oder gleich 0,5 ist, tritt die entgegengesetzte Tendenz auf, dass der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z zunimmt, wenn der Reflexionsbild-Streuindexwert R zunimmt. Es ist ersichtlich, dass der Reflexionsbild-Streuindexwert R und der Glitzerindexwert (Anti-Glitzern) Z der Beispiele A, C und E größer sind als diejenigen der Linien, welche die Punkte der Vergleichsbeispiele verbinden.
Die 10 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und der Vorwölbungsdichte in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt.
In der 10 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 5,8 % beträgt und die Vorwölbungsdichte von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² beträgt. Der Bereich, der durch eine gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 0,32 % beträgt und die Vorwölbungsdichte von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0,1 % bis 0,4 % beträgt und die Vorwölbungsdichte von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² beträgt.
Aus der 10 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C, D, E und F der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % liegt und die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm² liegt.
Die 11 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem Vorwölbungsflächenanteil in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt.
In der 11 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 5,8 % beträgt und der Vorwölbungsflächenanteil von 5,5 % bis 50 % beträgt. Der Bereich, der durch eine gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 0,32 % beträgt und der Vorwölbungsflächenanteil von 5,5 % bis 50 % beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0,1 % bis 0,4 % beträgt und der Vorwölbungsflächenanteil von 5,5 % bis 50 % beträgt.
Aus der 11 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C, D, E und F der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % liegt und der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 % liegt.
Die 12 ist ein Graph, der Beziehungen zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt.
In der 12 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 5,8 % beträgt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa von 0,06 µm bis 0,143 µm beträgt. Der Bereich, der durch eine gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 0,32 % beträgt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa von 0,075 µm bis 0,143 µm beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0,1 % bis 0,4 % beträgt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa von 0,05 µm bis 0,1 µm beträgt.
Aus der 12 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C, D, E und F der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm liegt.
Die 13 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und der Schiefe (dem Grad der Asymmetrie) Ssk in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt.
In der 13 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 5,8 % beträgt und die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk von -0,5 bis 1,1 beträgt. Der Bereich, der durch eine gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 0,32 % beträgt und die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk von -0,5 bis 1,1 beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0,1 % bis 0,4 % beträgt und die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk von -0,5 bis 1,1 beträgt.
Aus der 13 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C, D, E und F der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % liegt und die Schiefe (der Grad der Asymmetrie) Ssk in einem Bereich von -0,5 bis 1,1 liegt.
Die 14 ist ein Graph, der eine Beziehung zwischen dem Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) und dem Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in den Beispielen A1 bis A4 (in der Figur als Beispiele A bezeichnet), den Beispielen B1 bis B3 (in der Figur als Beispiele B bezeichnet), den Beispielen C1 und C2 (in der Figur als Beispiele C bezeichnet), den Beispielen D1 bis D4 (in der Figur als Beispiele D bezeichnet), dem Beispiel E1 (in der Figur als Beispiel E bezeichnet), den Beispielen F1 und F2 (in der Figur als Beispiele F bezeichnet), den Vergleichsbeispielen A1 bis A22 (in der Figur als Vergleichsbeispiele A bezeichnet), den Vergleichsbeispielen B1 bis B10 (in der Figur als Vergleichsbeispiele B bezeichnet), den Vergleichsbeispielen C1 bis C17 (in der Figur als Vergleichsbeispiele C bezeichnet) und den Vergleichsbeispielen D1 bis D7 (in der Figur als Vergleichsbeispiele D bezeichnet) zeigt.
In der 14 ist der Bereich, der von einer durchgezogenen Linie umgeben ist, ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 5,8 % beträgt und the Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt von 0 % bis 14,5 % beträgt. Der Bereich, der durch eine gestrichelte Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0 % bis 0,32 % beträgt und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt von 0 % bis 14,5 % beträgt. Der Bereich, der durch eine Punkt-Strich-Linie umgeben ist, ist ein Bereich, in dem der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) von 0,1 % bis 0,4 % und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt von 0 % bis 14,5 % beträgt.
Aus der 14 ist ersichtlich, dass in den Beispielen A, B, C, D, E und F der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen (0° bis 0,5°) in einem Bereich von 0 % bis 5,8 % liegt und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 % liegt.
Die vorliegende Anmeldung basiert auf der japanischen Patentanmeldung Nr. 2018-030054 , die am 22. Februar 2018 eingereicht worden ist und deren Inhalt unter Bezugnahme hierin einbezogen ist.
Bezugszeichenliste

101:: Messgerät
107:: Lineare Lichtquellenvorrichtung
111:: Lichtquelle
112:: Schwarze flache Platte
115:: Oberflächenhelligkeit-Messvorrichtung
120:: Transparentes Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm
122:: Äußere Oberfläche
131:: Erstes einfallendes Licht
132:: Erstes Reflexionslicht
133:: Zweites einfallendes Licht
134:: Zweites Reflexionslicht
201:: Glitzerindexwert-Messgerät
202:: Detektor
203:: Transparentes Substrat mit aufgebrachtem Blendschutzfilm
204:: Erste Hauptoberfläche
205:: Zweite Hauptoberfläche
206:: Anzeigevorrichtung

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
Zitierte Patentliteratur

JP 2009058640 A [0005]
WO 2015/137196 [0005]
JP 5867649 [0167, 0169]
JP 2018030054 [0247]

Zitierte Nicht-Patentliteratur

„Simulation of Anti-Glare Cover Glass Using Fourier Optics Consistent with Sparkle and Other Visual Performances", Masanobu Isshiki, SID 2017 DIGEST, Seiten 1383-1386 [0157]

Claims

Lichtdurchlässige Struktur mit einer Oberflächenunebenheitsform, die aufweist: einen Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen ein Winkel, der mit einer flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 5,8 %; eine Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0001/µm² bis 0,05/µm²; einen Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 5,5 % bis 50 %; eine Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von -0,5 bis 1,1; einen Lastflächenfaktor Smr1 an einer Grenze zwischen einem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und einem Kernabschnitt in einem Bereich von 0 % bis 14,5 %; und einen arithmetischen Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,143 µm.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 1, bei welcher der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,46 % liegt, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % liegt und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 1, bei welcher der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0 % bis 0,32 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 3, bei welcher der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,32 % liegt, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % liegt, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,075 µm bis 0,143 µm liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 1, bei welcher der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,1 % bis 0,4 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 5, bei welcher der Flächenanteil von flachen Oberflächenbereichen, bei denen der Winkel, der mit der flachen Oberfläche ausgebildet ist, in einem Bereich von 0° bis 0,5° liegt, in einem Bereich von 0,115 % bis 0,4 % liegt, die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0048/µm² bis 0,05/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 12 % bis 50 % liegt, der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,9 % bis 14,5 % liegt und der arithmetische Oberflächenmittenrauwert Sa in einem Bereich von 0,06 µm bis 0,1 µm liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach Anspruch 5, bei der die Vorwölbungsdichte in einem Bereich von 0,0040/µm² bis 0,016/µm² liegt, der Vorwölbungsflächenanteil in einem Bereich von 20 % bis 34 % liegt, die Schiefe Ssk, die den Grad der Asymmetrie darstellt, in einem Bereich von 0,14 bis 0,45 liegt, und der Lastflächenfaktor Smr1 an der Grenze zwischen dem vorgewölbten Erhebungsabschnitt und dem Kernabschnitt in einem Bereich von 7,8 % bis 10,17 % liegt.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die lichtdurchlässige Struktur ein Glas ist, dessen Oberfläche einer Behandlung zur Bildung von Unebenheiten unterzogen worden ist, oder ein Glas ist, auf dem eine Beschichtung mit unebenen Formen ausgebildet ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, die eine gehärtete Glasplatte ist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die lichtdurchlässige Struktur selbst dreidimensionale Formen aufweist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, die eine Druckschicht aufweist.
Lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7, auf der eine wasserabstoßend/ölabstoßend behandelte Schicht ausgebildet ist.
Anzeigevorrichtung, die eine lichtdurchlässige Struktur nach einem der Ansprüche 1 bis 7 als Abdeckungselement umfasst.