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DE102016123007A1 - Organic opto-electronic component - Google Patents

Organic opto-electronic component Download PDF

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Publication number
DE102016123007A1
DE102016123007A1 DE102016123007.3A DE102016123007A DE102016123007A1 DE 102016123007 A1 DE102016123007 A1 DE 102016123007A1 DE 102016123007 A DE102016123007 A DE 102016123007A DE 102016123007 A1 DE102016123007 A1 DE 102016123007A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
oxide layer
layer
optoelectronic component
organic optoelectronic
pores
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102016123007.3A
Other languages
German (de)
Inventor
Erwin Lang
Sebastian Wittmann
Nina Riegel
Arne Fleissner
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osram Oled GmbH
Original Assignee
Osram Oled GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Oled GmbH filed Critical Osram Oled GmbH
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Publication of DE102016123007A1 publication Critical patent/DE102016123007A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8423Metallic sealing arrangements
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
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    • Y02E10/549Organic PV cells

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Abstract

Organisches optoelektronisches Bauteil (1) miteiner organischen aktiven Schicht (10), undeinem Körper (20), der mit der organischen aktiven Schicht (10) verbunden ist, wobeider Körper (20) eine Trägerschicht (21) und eine Oxidschicht (22) umfasst,die Oxidschicht (22) mit einem Oxid von wenigstens einem Metall gebildet ist,die Trägerschicht (21) und die Oxidschicht (22) miteinander verbunden sind, unddie Oxidschicht (22) Poren (220) aufweist.An organic optoelectronic component (1) having an organic active layer (10), and a body (20) connected to the organic active layer (10), the body (20) comprising a carrier layer (21) and an oxide layer (22), the oxide layer (22) is formed with an oxide of at least one metal, the support layer (21) and the oxide layer (22) are bonded together, and the oxide layer (22) has pores (220).

Description

Es wird ein organisches optoelektronisches Bauteil angegeben.An organic optoelectronic component is specified.

Eine zu lösende Aufgabe besteht unter anderem darin, ein organisches optoelektronisches Bauteil anzugeben, welches besonders zuverlässig ist und eine verbesserte Effizienz aufweist.One object to be solved is, inter alia, to provide an organic optoelectronic component which is particularly reliable and has improved efficiency.

Bei dem organischen optoelektronischen Bauteil handelt es sich beispielsweise um ein strahlungsemittierendes optoelektronisches Bauteil. Es kann sich bei dem organischen optoelektronischen Bauteil beispielsweise um eine organische Leuchtdiode handeln. Das organische optoelektronische Bauteil kann im bestimmungsgemäßen Betrieb Licht erzeugen und emittieren. Dabei ist es möglich, dass das organische optoelektronische Bauteil Licht im Spektralbereich von UV-Strahlung bis Infrarotstrahlung erzeugt.The organic optoelectronic component is, for example, a radiation-emitting optoelectronic component. For example, the organic optoelectronic component may be an organic light-emitting diode. The organic optoelectronic component can generate and emit light during normal operation. It is possible that the organic optoelectronic component generates light in the spectral range of UV radiation to infrared radiation.

Ferner ist es möglich, dass es sich bei dem organischen optoelektronischen Bauteil um ein strahlungsempfangendes Bauteil, wie zum Beispiel einen Strahlungsdetektor oder eine Solarzelle, handelt.Furthermore, it is possible for the organic optoelectronic component to be a radiation-receiving component, such as a radiation detector or a solar cell.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils umfasst das Bauteil eine organische aktive Schicht. Die aktive Schicht ist beispielsweise mit einem organischen Material gebildet. Die aktive Schicht ist dazu eingerichtet, im bestimmungsgemäßen Betrieb elektromagnetische Strahlung zu erzeugen oder zu empfangen. Für ein strahlungsemittierendes Bauteil kann die aktive Schicht beispielsweise für elektromagnetische Strahlung im sichtbaren Wellenlängenbereich transparent ausgestaltet sein.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the component comprises an organic active layer. The active layer is formed, for example, with an organic material. The active layer is configured to generate or receive electromagnetic radiation during normal operation. For a radiation-emitting component, the active layer can be made transparent, for example, for electromagnetic radiation in the visible wavelength range.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils umfasst das Bauteil einen Körper, der mit der organischen aktiven Schicht verbunden ist. Bei dem Körper handelt es sich beispielsweise um den Teil des organischen optoelektronischen Bauteils, welcher dem Bauteil seine mechanische Stabilität gibt. Der Körper kann weiter flexibel ausgebildet sein. Insbesondere kann ein organisches optoelektronisches Bauteil, welches einen flexiblen Körper umfasst, biegbar sein.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the component comprises a body that is connected to the organic active layer. By way of example, the body is the part of the organic optoelectronic component which gives the component its mechanical stability. The body can be further flexible. In particular, an organic optoelectronic component comprising a flexible body may be bendable.

Beispielsweise ist die organische aktive Schicht auf einer Hauptfläche des Körpers angeordnet, so dass die Haupterstreckungsebene der organischen aktiven Schicht parallel zu der Haupterstreckungsebene des Körpers verläuft.For example, the organic active layer is disposed on a major surface of the body so that the main plane of extension of the organic active layer is parallel to the main plane of extension of the body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils umfasst der Körper eine Trägerschicht und eine Oxidschicht. Beispielsweise verlaufen die Haupterstreckungsebenen der Trägerschicht und die Haupterstreckungsebene der Oxidschicht parallel zur Haupterstreckungsebene des Körpers. Beispielsweise überdeckt die Oxidschicht die Trägerschicht an ihrer der organischen aktiven Schicht zugewandten Seite vollständig. Insbesondere ist die organische aktive Schicht auf der der Trägerschicht abgewandten Seite der Oxidschicht angeordnet.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the body comprises a carrier layer and an oxide layer. For example, the main extension planes of the carrier layer and the main extension plane of the oxide layer are parallel to the main extension plane of the body. For example, the oxide layer completely covers the carrier layer on its side facing the organic active layer. In particular, the organic active layer is arranged on the side of the oxide layer facing away from the carrier layer.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist die Oxidschicht mit einem Oxid von wenigstens einem Metall gebildet. Beispielsweise handelt es sich bei dem Metall um Aluminium, Zinn, Titan, Tantal, Niobium, Magnesium oder einer Legierung der genannten Metalle. Insbesondere kann die Trägerschicht mit einem Material gebildet sein, welches ein Metall oder eine Legierung von Metallen umfasst. Beispielsweise ist die Oxidschicht mit einem Material gebildet, welches eine oxidierte Form des Materials, mit dem die Trägerschicht gebildet ist, umfasst.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the oxide layer is formed with an oxide of at least one metal. For example, the metal is aluminum, tin, titanium, tantalum, niobium, magnesium or an alloy of the metals mentioned. In particular, the carrier layer may be formed with a material comprising a metal or an alloy of metals. For example, the oxide layer is formed with a material comprising an oxidized form of the material with which the carrier layer is formed.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils sind die Trägerschicht und die Oxidschicht miteinander verbunden. Beispielsweise sind die Trägerschicht und die Oxidschicht stoffschlüssig miteinander verbunden, wobei die Verbindungspartner durch atomare oder molekulare Kräfte zusammengehalten werden. Insbesondere handelt es sich um eine nicht zerstörungsfrei lösbare Verbindung, so dass die Oxidschicht und die Trägerschicht nur unter Zerstörung einer der beiden Schichten voneinander getrennt werden können. Beispielsweise ist die Oxidschicht mit dem Material der Trägerschicht hergestellt. Insbesondere ist die Oxidschicht auf der Trägerschicht hergestellt.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the carrier layer and the oxide layer are connected to one another. For example, the carrier layer and the oxide layer are bonded together in a material-locking manner, wherein the connection partners are held together by atomic or molecular forces. In particular, it is a non-destructive releasable connection, so that the oxide layer and the support layer can be separated only by destroying one of the two layers. For example, the oxide layer is made with the material of the carrier layer. In particular, the oxide layer is produced on the carrier layer.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils umfasst das organische optoelektronische Bauteil eine organische aktive Schicht und einem Körper , der mit der organischen aktiven Schicht verbunden ist, wobei der Körper eine Trägerschicht und eine Oxidschicht umfasst, die Oxidschicht mit einem Oxid von wenigstens einem Metall gebildet ist, und die Trägerschicht und die Oxidschicht miteinander verbunden sind.According to at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the organic optoelectronic component comprises an organic active layer and a body which is connected to the organic active layer, wherein the body comprises a carrier layer and an oxide layer, the oxide layer is formed with an oxide of at least one metal is, and the carrier layer and the oxide layer are interconnected.

Einem hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteil liegen dabei unter anderem die folgenden Überlegungen zugrunde. Im Allgemeinen werden keramische Vollkörper als vollständig anorganisch elektrisch isolierendes sowie gut thermisch leitfähiges Substrat verwendet. Die keramischen Vollkörper sind kaum elastisch verformbar, so dass sich mit diesen keramischen Vollkörpern keine flexiblen organischen optoelektronischen Bauteile herstellen lassen. Alternativ werden Metallfolien mit einer organischen Polymerbeschichtung als elektrisch isoliertes sowie gut thermisch leitfähiges Substrat verwendet. Solch ein Substrat kann flexible Eigenschaften aufweisen, jedoch eignen sich organische Polymerschichten nur bedingt zur Verkapselung von organischen optoelektronischen Bauteilen, da die Hermetizität gegenüber Feuchtigkeit und Sauerstoff nur begrenzt ist. Durch das Eindiffundieren von Feuchtigkeit oder Sauerstoff kann die organische aktive Schicht des optoelektronischen Bauteils beschädigt werden. Alternativ können metallische Substrate mit anorganischen Schichten per Atomic Layer Deposition (ALD), Chemical Vapor Deposition (CVD) oder mittels Sputtern beschichtet werden. Bei diesen Abscheideverfahren sind jedoch entweder die Prozesszeiten sehr lang, beispielsweise länger als 60 Minuten um eine Schicht mit einer Dicke von mindestens 1 µm zu erzeugen, oder die Schichtdicken des abgeschiedenen Materials sind gering, beispielsweise geringer als 1 µm.An organic optoelectronic component described here is based, inter alia, on the following considerations. In general, solid ceramic bodies are used as completely inorganic electrically insulating and good thermally conductive substrate. The solid ceramic bodies are hardly elastically deformable, so that can be produced with these ceramic solid bodies no flexible organic optoelectronic components. Alternatively, metal foils with an organic polymer coating as used electrically insulated and well thermally conductive substrate. Such a substrate may have flexible properties, however, organic polymer layers are only limitedly suitable for encapsulating organic optoelectronic devices since hermeticity to moisture and oxygen is limited. By diffusing moisture or oxygen, the organic active layer of the optoelectronic component can be damaged. Alternatively, metallic substrates can be coated with inorganic layers by atomic layer deposition (ALD), chemical vapor deposition (CVD) or by sputtering. In these deposition methods, however, either the process times are very long, for example longer than 60 minutes to produce a layer having a thickness of at least 1 .mu.m, or the layer thicknesses of the deposited material are low, for example less than 1 .mu.m.

Das hier beschriebene organische optoelektronische Bauteil macht nun unter anderem von der Idee Gebrauch, einen Körper als Substrat oder Deckschicht bereitzustellen. Der Körper umfasst eine Metallschicht, die beispielsweise flexible Eigenschaften aufweist. Die Metallschicht ist mit einem elektrisch oxidierbaren Material gebildet, so dass zum Beispiel mittels Eloxierens eine Oxidschicht auf der Trägerschicht des Körpers erzeugt werden kann. In diesem Zusammenhang ist Eloxieren ein Verfahren der Oberflächentechnik zum Erzeugen einer Oxidschicht an einem elektrisch oxidierbaren Material mittels elektrischer Oxidation oder anodischer Oxidation. Bei dem Eloxier Verfahren wird durch Umwandlung der Metallschicht ein Oxid bzw. Hydroxid gebildet. Die Oxidschicht ist mit der Metallschicht an der sie hergestellt ist, insbesondere der Trägerschicht, monolithisch verbunden. Insbesondere wird die Oxidschicht nicht auf dem Werkstück mittels Anordnens eines zusätzlichen Materials erzeugt, sondern mittels Umwandlung des Materials der Metallschicht. Beispielsweise weist eine mittels Eloxierens hergestellte Oxidschicht eine besonders große Dicke von mindestens 2 µm auf, wobei eine derartige Dicke der Oxidschicht innerhalb einer moderaten Prozesszeit von beispielsweise 10 Minuten, insbesondere weniger als 5 Minuten, herstellbar ist. Insbesondere beträgt die Dicke einer nativen Oxidschicht die unter normalatmosphärischen Bedingungen entsteht, im Gegensatz zu einer mittels Eloxierens hergestellten Oxidschicht, eines elektrisch oxidierbaren Metalls weniger als 100 nm. Mit anderen Worten kann die Oxidschicht durch Eloxieren eines Metalls gebildet sein. Dabei handelt es sich auch um ein gegenständliches Merkmal, dass zum Beispiel durch elektronenmikroskopische Untersuchungen der Oxidschicht nachweisbar ist. Die durch Eloxieren hergestellte Oxidschicht weist beispielsweise Poren auf. Insbesondere ist die Oxidschicht zum Beispiel anhand der Form, Verteilung und/oder Größe der Poren eindeutig von Oxidschichten unterscheidbar, die mit alternativen Verfahren hergestellt sind.The organic optoelectronic component described here now makes use, inter alia, of the idea of providing a body as substrate or cover layer. The body comprises a metal layer having, for example, flexible properties. The metal layer is formed with an electrically oxidizable material, so that, for example, by means of anodization, an oxide layer can be produced on the carrier layer of the body. In this context, anodizing is a method of surface technology for producing an oxide layer on an electrically oxidizable material by means of electrical oxidation or anodic oxidation. In the anodization process, an oxide or hydroxide is formed by conversion of the metal layer. The oxide layer is monolithically connected to the metal layer on which it is produced, in particular the carrier layer. In particular, the oxide layer is not formed on the workpiece by arranging an additional material, but by converting the material of the metal layer. For example, an oxide layer produced by means of anodizing has a particularly large thickness of at least 2 μm, such a thickness of the oxide layer being able to be produced within a moderate process time of, for example, 10 minutes, in particular less than 5 minutes. In particular, the thickness of a native oxide layer formed under normal atmospheric conditions is less than 100 nm, as opposed to an oxide layer made of anodized oxide of an electrically oxidizable metal. In other words, the oxide layer may be formed by anodizing a metal. This is also an objective feature that can be detected, for example, by electron microscopic investigations of the oxide layer. The oxide layer produced by anodizing, for example, has pores. In particular, the oxide layer is clearly distinguishable, for example, based on the shape, distribution and / or size of the pores of oxide layers, which are prepared by alternative methods.

Vorteilhafterweise ist somit der Körper sowohl innerhalb moderater Prozesszeiten herstellbar, weist flexible mechanische Eigenschaften auf und ist mit einem anorganischen Material gebildet, welches eine hohe Hermetizität gegenüber Feuchtigkeit und Sauerstoff aufweist. Weiter weist der Körper eine Trägerschicht und eine Oxidschicht auf, die über eine besonders feste mechanische Verbindung stoffschlüssig miteinander verbunden sind. Die Trägerschicht ist somit vorteilhafterweise an ihren Hauptflächen besonders gut vor Korrosion und anderen schädlichen Umwelteinflüssen geschützt. Beispielsweise weist die Oxidschicht eine besonders hohe mechanische Stabilität auf, sodass die Oxidschicht vorteilhafterweise auch als Kratzschutz dient.Advantageously, therefore, the body can be produced both within moderate process times, has flexible mechanical properties and is formed with an inorganic material which has a high hermeticity to moisture and oxygen. Furthermore, the body has a carrier layer and an oxide layer, which are connected to one another in a material-tight manner via a particularly strong mechanical connection. The carrier layer is thus advantageously particularly well protected on its main surfaces from corrosion and other harmful environmental influences. For example, the oxide layer has a particularly high mechanical stability, so that the oxide layer advantageously also serves as scratch protection.

Vorteilhafterweise weist die beispielsweise mittels Eloxierens hergestellte Oxidschicht eine poröse Struktur auf. Mit anderen Worten sind in der Oxidschicht Poren angeordnet, die mit einem von der Oxidschicht unterschiedlichen Material gefüllt sein können. Die Poren können beispielsweise mit einem Farbstoff gefüllt sein, welcher die Farberscheinung der Oberfläche, die mit der Oxidschicht bedeckt ist, beeinflusst. Weiter kann die Oxidschicht Bereiche aufweisen, in denen die Rauheit der Oberfläche variiert. Beispielsweise können die Poren verschlossen sein, so dass die Poren von allen Seiten vollständig mit dem Material der Oxidschicht umgeben sind. In weiteren Bereichen können die Poren zu zumindest einer Seite freiliegen, so dass die Oxidschicht, aufgrund der durch die Poren gebildeten Ausnehmungen, eine aufgeraute Oberfläche aufweist. Insbesondere können damit Haftungseigenschaften verschiedener Materialien auf der Oberfläche der Oxidschicht in bestimmten Bereichen gezielt beeinflusst werden. Weiter kann vorteilhafterweise in verschlossenen Poren beispielsweise ein Farbstoff besonders gut vor schädlichen Umwelteinflüssen geschützt werden und mittels des Verschließens der Poren kann besonders gut ein Ausgasen des Farbstoffes oder Konversionsmaterials verhindert werden.Advantageously, the oxide layer produced by means of anodization, for example, has a porous structure. In other words, pores are arranged in the oxide layer, which may be filled with a different material from the oxide layer. For example, the pores may be filled with a dye that affects the color appearance of the surface covered with the oxide layer. Further, the oxide layer may have areas in which the roughness of the surface varies. For example, the pores may be closed, so that the pores are completely surrounded on all sides by the material of the oxide layer. In other areas, the pores can be exposed to at least one side, so that the oxide layer, due to the recesses formed by the pores, has a roughened surface. In particular, adhesion properties of different materials on the surface of the oxide layer can be specifically influenced in certain areas. Further advantageously, for example, a dye can be particularly well protected from harmful environmental influences in closed pores and by means of the closing of the pores can be prevented particularly good outgassing of the dye or conversion material.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils weist die Oxidschicht Poren auf. Beispielsweise handelt es sich bei den Poren um Einschlüsse eines Materials, welches sich von dem Material der Oxidschicht unterscheidet. Insbesondere nehmen die Poren höchstens 70 Volumenprozent, bevorzugt weniger als 50 Volumenprozent, und wenigstens 5 Volumenprozent, insbesondere wenigstens 10 Volumenprozent, der Oxidschicht ein. Insbesondere können die Poren verschlossen sein, so dass die Poren von allen Seiten vollständig von dem Material der Oxidschicht begrenzt sind. Alternativ können zumindest manche der Poren offen sein, sodass diese Poren von einem Bereich außerhalb der Oxidschicht frei zugänglich sind.According to at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the oxide layer has pores. For example, the pores are inclusions of a material that is different from the material of the oxide layer. In particular, the pores occupy at most 70% by volume, preferably less than 50% by volume, and at least 5% by volume, especially at least 10% by volume, of the oxide layer. In particular, the pores may be closed, so that the pores are completely bounded on all sides by the material of the oxide layer. Alternatively, at least some of the Be open pores, so that these pores are freely accessible from an area outside the oxide layer.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist der Körper das Substrat des optoelektronischen Bauteils. Beispielsweise ist die organische aktive Schicht auf dem Körper hergestellt. Insbesondere ist die organische aktive Schicht auf der der Trägerschicht abgewandten Seite der Oxidschicht hergestellt. Der Körper kann, insbesondere bei der Herstellung des Bauteils, eine mechanisch tragende Komponente des organischen optoelektronischen Bauteils sein. Vorteilhafterweise kann der Körper ein besonders kostengünstig herstellbares, mechanisch flexibles und eine hohe Hermetizität aufweisendes Substrat sein.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the body is the substrate of the optoelectronic component. For example, the organic active layer is made on the body. In particular, the organic active layer is produced on the side of the oxide layer facing away from the carrier layer. The body may, in particular during the production of the component, be a mechanically bearing component of the organic optoelectronic component. Advantageously, the body may be a particularly cost-producible, mechanically flexible and high hermeticity exhibiting substrate.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils weist die Trägerschicht eine erste Hauptfläche und eine zweite Hauptfläche auf. Dabei ist die erste Hauptfläche von der Oxidschicht und die zweite Hauptfläche von einer weiteren Oxidschicht bedeckt, und die Trägerschicht, die Oxidschicht und die weitere Oxidschicht sind monolithisch miteinander verbunden. Beispielsweise sind beide Hauptflächen der Trägerschicht vollständig von der Oxidschicht oder der weiteren Oxidschicht bedeckt. Insbesondere steht die Trägerschicht sowohl mit der Oxidschicht als auch mit der weiteren Oxidschicht in direktem Kontakt und ist mit der Oxidschicht und der weiteren Oxidschicht stoffschlüssig verbunden. Insbesondere überdecken die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht auch Stirnflächen der Trägerschicht, welche die erste Hauptfläche und die zweite Hauptfläche der Trägerschicht miteinander verbinden. Beispielsweise stehen die Oxidschicht und die weitere Oxidschicht im Bereich der Stirnflächen in direktem mechanischen Kontakt zueinander. Vorteilhafterweise ist ein Körper, welcher an der ersten und an der zweiten Hauptfläche jeweils eine Oxidschicht aufweist, an beiden Hauptflächen isoliert.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the carrier layer has a first main area and a second main area. In this case, the first main surface of the oxide layer and the second main surface is covered by a further oxide layer, and the support layer, the oxide layer and the further oxide layer are monolithically connected to each other. For example, both main surfaces of the carrier layer are completely covered by the oxide layer or the further oxide layer. In particular, the carrier layer is in direct contact both with the oxide layer and with the further oxide layer and is adhesively bonded to the oxide layer and the further oxide layer. In particular, the oxide layer and / or the further oxide layer also cover end faces of the carrier layer which connect the first main area and the second main area of the carrier layer to one another. By way of example, the oxide layer and the further oxide layer are in direct mechanical contact with one another in the region of the end faces. Advantageously, a body, which in each case has an oxide layer on the first and on the second main surface, is insulated on both main surfaces.

Alle Merkmale, die für die Oxidschicht offenbart sind, sind auch für die weitere Oxidschicht offenbart. Beispielsweise weist auch die weitere Oxidschicht Poren auf. Vorteilhafterweise weist der Körper mit einer Oxidschicht und einer weiteren Oxidschicht sowohl an der ersten als auch an der zweiten Hauptfläche eine besonders große Härte auf.All features disclosed for the oxide layer are also disclosed for the further oxide layer. For example, the further oxide layer also has pores. Advantageously, the body with an oxide layer and a further oxide layer on both the first and on the second major surface on a particularly high hardness.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist zwischen der Trägerschicht und der Oxidschicht eine Adhäsionsschicht angeordnet. Dabei steht die Adhäsionsschicht in direktem Kontakt mit der Trägerschicht und der Oxidschicht. Beispielsweise kann die Oxidschicht mittels vollständiger elektrischer Oxidation einer Metallschicht gebildet sein. Insbesondere kann die Metallschicht, welche mit dem zu oxidierenden Material gebildet ist, mit einem von der Trägerschicht unterschiedlichen Metall gebildet sein. Vorteilhafterweise können bei einem Körper, bei dem die Oxidschicht und die Trägerschicht mit unterschiedlichen Metallen gebildet sind, auch Metalle für die Trägerschicht verwendet werden, die beispielsweise nicht elektrisch oxidierbar sind. Beispielsweise sind die Oxidschicht und die Trägerschicht mittels Bondens mechanisch fest mit der Adhäsionsschicht verbunden. Insbesondere sind die Oxidschicht und/oder die Trägerschicht mittels eutektischen Bondens fest an der Adhäsionsschicht befestigt. Insbesondere kann das Ausgangsmaterial der Oxidschicht vor seiner Oxidation mechanisch fest mit der Adhäsionsschicht verbunden sein. Am fertigen Produkt kann dies beispielsweise sichtbar sein, da in diesem Fall die Oxidschicht von der der Adhäsionsschicht abgewandten Seite her in das Ausgangsmaterial für die Oxidschicht hineingewachsen ist. Somit kann ein Rest des Ausgangsmaterials auf der der Adhäsionsschicht zugewandten Seite der Oxidschicht angeordnet sein. Vorteilhafterweise kann bei einer Verbindung mittels einer Adhäsionsschicht zwischen der Oxidschicht und der Trägerschicht das Material, mit dem die Trägerschicht gebildet ist, unabhängig von dem Material, mit dem die Oxidschicht gebildet ist, gewählt werden.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, an adhesion layer is arranged between the carrier layer and the oxide layer. In this case, the adhesion layer is in direct contact with the carrier layer and the oxide layer. For example, the oxide layer may be formed by complete electrical oxidation of a metal layer. In particular, the metal layer, which is formed with the material to be oxidized, may be formed with a different metal from the carrier layer. Advantageously, in a body in which the oxide layer and the carrier layer are formed with different metals, it is also possible to use metals for the carrier layer which, for example, are not electrically oxidizable. For example, the oxide layer and the carrier layer are mechanically firmly bonded to the adhesion layer by means of bonding. In particular, the oxide layer and / or the carrier layer are firmly attached to the adhesion layer by means of eutectic bonding. In particular, the starting material of the oxide layer may be mechanically firmly bonded to the adhesion layer prior to its oxidation. This can be visible, for example, on the finished product since, in this case, the oxide layer has grown into the starting material for the oxide layer from the side facing away from the adhesion layer. Thus, a remainder of the starting material may be disposed on the side of the oxide layer facing the adhesion layer. Advantageously, in a connection by means of an adhesion layer between the oxide layer and the carrier layer, the material with which the carrier layer is formed can be selected independently of the material with which the oxide layer is formed.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist die Trägerschicht mit einem Metall gebildet, und die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht mit dem Oxid des Metalls gebildet. Beispielsweise ist der Körper mittels Oxidation der freiliegenden Flächen eines Ausgangsmaterials hergestellt. Somit können die Oxidschicht und die weitere Oxidschicht in einem gemeinsamen Oxidationsprozess, insbesondere elektrischen Oxidationsprozess, hergestellt sein. Weiter kann das Ausgangsmaterial eine Folie sein, die in einem Rolle-zu-Rolle-Verfahren prozessiert werden kann, sodass die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht in einem Rollezu-Rolle-Prozess herstellbar ist. Beispielsweise weisen die Oxidschicht und die weitere Oxidschicht eine gleiche Dicke auf. Vorteilhafterweise sind die Oxidschicht und die weitere Oxidschicht in einem gemeinsamen Prozessschritt herstellbar. Dies ermöglicht ein besonders zeitsparendes Herstellungsverfahren des Körpers.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the carrier layer is formed with a metal, and the oxide layer and / or the further oxide layer are formed with the oxide of the metal. For example, the body is made by oxidation of the exposed surfaces of a source material. Thus, the oxide layer and the further oxide layer can be produced in a common oxidation process, in particular an electrical oxidation process. Further, the starting material may be a film that can be processed in a roll-to-roll process so that the oxide layer and / or the further oxide layer can be produced in a roll-to-roll process. For example, the oxide layer and the further oxide layer have the same thickness. Advantageously, the oxide layer and the further oxide layer can be produced in a common process step. This allows a particularly time-saving manufacturing process of the body.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils weist die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht eine Dicke von mindestens 2 µm auf und die Poren weisen eine Haupterstreckungsrichtung auf, die quer zur ersten und/oder zweiten Hauptfläche verläuft. Insbesondere weist die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht eine Dicke von mindestens 5 µm, bevorzugt mindestens 10 µm auf. Die Oxidschicht ist beispielsweise mittels elektrischer Oxidation hergestellt. Vorteilhafterweise sind mittels elektrischer Oxidation besonders große Schichtdicken der Oxidschicht in besonders kurzen Prozesszeiten herstellbar.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the oxide layer and / or the further oxide layer has a thickness of at least 2 μm, and the pores have a main extension direction which extends transversely to the first and / or second main surface. In particular, the oxide layer and / or the further oxide layer has a thickness of at least 5 μm, preferably at least 10 μm. The oxide layer is produced for example by means of electrical oxidation. Advantageously, by means of electrical oxidation particularly large layer thicknesses of the oxide layer can be produced in particularly short process times.

Die Poren erstrecken sich nicht in das Material der Trägerschicht, sondern sind ausschließlich von dem Material der Oxidschicht beziehungsweise der weiteren Oxidschicht umgeben und liegen gegebenenfalls nach außen frei. Die Poren erstrecken sich quer, insbesondere senkrecht, zu der Hauptfläche der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht.The pores do not extend into the material of the carrier layer, but are surrounded exclusively by the material of the oxide layer or the further oxide layer and are optionally exposed to the outside. The pores extend transversely, in particular perpendicular, to the main surface of the oxide layer and / or the further oxide layer.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist in zumindest manchen der Poren ein nicht gasförmiges Material angeordnet, welches sich hinsichtlich der thermischen Eigenschaften von dem Material des die Poren umgebenden Materials der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht unterscheidet. Beispielsweise ist in den Poren ein flüssiges oder festes Material angeordnet, welches eine besonders hohe thermische Leitfähigkeit aufweist. Vorteilhafterweise ermöglicht die Anordnung eines Materials, in den Poren der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht einen Körper mit besonders hoher thermischer Leitfähigkeit bereitzustellen. Alternativ kann ein Material mit besonders geringer thermischer Leitfähigkeit angeordnet sein, sodass die Oxidschicht eine thermisch isolierende Wirkung hat. Vorteilhafterweise kann mittels der Anordnung bestimmter Materialien in den Poren die thermische Leitfähigkeit der Oxidschicht bereichsweise gezielt beeinflusst werden.According to at least one embodiment of the organic optoelectronic component, a non-gaseous material is arranged in at least some of the pores, which material differs from the material of the material surrounding the pores of the oxide layer and / or the further oxide layer with respect to the thermal properties. For example, a liquid or solid material is arranged in the pores, which has a particularly high thermal conductivity. The arrangement of a material advantageously makes it possible to provide a body with particularly high thermal conductivity in the pores of the oxide layer and / or the further oxide layer. Alternatively, a material with particularly low thermal conductivity may be arranged so that the oxide layer has a thermally insulating effect. Advantageously, by means of the arrangement of certain materials in the pores, the thermal conductivity of the oxide layer can be selectively influenced in certain areas.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils sind in zumindest manchen der Poren ein Farbstoff und/oder ein Konversionsmaterial angeordnet. Bei dem Konversionsmaterial handelt es sich beispielsweise um ein Material, welches dazu eingerichtet ist in der organischen aktiven Schicht erzeugt elektromagnetische Strahlung in elektromagnetische Strahlung eines langwelligeren Wellenlängenbereichs umzuwandeln. Insbesondere umfasst das Konversionsmaterial einen keramischen Leuchtstoff und/oder Quantendots. Bei dem Farbstoff handelt es sich beispielsweise um ein Material, welches elektromagnetische Strahlung unterschiedlicher Wellenlängen mit unterschiedlicher Intensität reflektiert. Beispielsweise sind der Farbstoff und/oder das Konversionsmaterial in Bereichen angeordnet, die von der organischen aktiven Schicht überdeckt sind. Insbesondere kann der Farbstoff im ausgeschalteten Zustand von außen sichtbar sein. Weiter kann im Betrieb des optoelektronischen Bauteils von der organischen aktiven Schicht emittierte elektromagnetische Strahlung auf den Farbstoff und/oder das Konversionsmaterial treffen. Beispielsweise kann somit ein Teil der in der organischen aktiven Schicht erzeugten optoelektronischen Strahlung mittels des Konversionsmaterials konvertiert werden oder mittels des Farbstoffes absorbiert werden. Beispielsweise kann mittels eines Farbstoffes die dominante Wellenlänge der emittierten elektromagnetischen Strahlung in Richtung längerer Wellenlängen verschoben werden. Vorteilhafterweise sind Farbstoffe oder Konversionsmaterialien in den Poren besonders gut vor Umwelteinflüssen geschützt, was zu einem besonders robusten optoelektronischen Bauteil führt.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, a dye and / or a conversion material are arranged in at least some of the pores. By way of example, the conversion material is a material which is set up in the organic active layer to convert electromagnetic radiation into electromagnetic radiation of a longer wavelength range. In particular, the conversion material comprises a ceramic phosphor and / or quantum dots. The dye is, for example, a material which reflects electromagnetic radiation of different wavelengths with different intensity. For example, the dye and / or the conversion material are arranged in areas which are covered by the organic active layer. In particular, the dye can be visible from the outside when switched off. Furthermore, electromagnetic radiation emitted by the organic active layer during operation of the optoelectronic component can strike the dye and / or the conversion material. For example, therefore, a part of the optoelectronic radiation generated in the organic active layer can be converted by means of the conversion material or absorbed by means of the dye. For example, by means of a dye, the dominant wavelength of the emitted electromagnetic radiation can be shifted in the direction of longer wavelengths. Advantageously, dyes or conversion materials in the pores are particularly well protected against environmental influences, resulting in a particularly robust optoelectronic component.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils sind zumindest manche der Poren, die auf der der organischen aktiven Schicht abgewandten Seite der Trägerschicht angeordnet sind, mit einem schwarzen Farbstoff befüllt. Beispielsweise verhindert der schwarze Farbstoff besonders effizient das Austreten der in der organischen aktiven Schicht erzeugten elektromagnetischen Strahlung durch die der organischen aktiven Schicht abgewandten Seite des Körpers. Weiter können mittels des schwarzen Farbstoffes die thermischen Eigenschaften des Körpers beeinflusst werden, so dass dieser vorteilhafterweise eine besonders effiziente Ableitung der im Betrieb des optoelektronischen Bauteils entstehenden Wärme ermöglicht.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, at least some of the pores, which are arranged on the side of the carrier layer facing away from the organic active layer, are filled with a black dye. For example, the black dye particularly effectively prevents the leakage of the electromagnetic radiation generated in the organic active layer through the side of the body facing away from the organic active layer. Further, the thermal properties of the body can be influenced by means of the black dye, so that this advantageously allows a particularly efficient dissipation of the heat generated during operation of the optoelectronic component.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils sind in den Poren der Oxidschicht andere Farbstoffe und/oder Konversionsmaterialien angeordnet, als in den Poren der weiteren Oxidschicht. Beispielsweise kann das organische optoelektronische Bauteil auf der der organischen aktiven Schicht zugewandten Seite ein Konversionsmaterial aufweisen oder einen Farbstoff aufweisen, welcher im Betrieb und/oder im ausgeschalteten Zustand die Farbe des optoelektronischen Bauteils beziehungsweise die Wellenlänge der durch das optoelektronische Bauteil emittierten Strahlung beeinflusst. Auf der der organischen aktiven Schicht abgewandten Seite kann die weitere Oxidschicht Poren aufweisen, die beispielsweise mit einem Material befüllt sind, welches eine besonders hohe thermische Leitfähigkeit aufweist. Vorteilhafterweise ermöglicht dies eine Anpassung der Eigenschaften des Körpers, welche auf unterschiedliche Randbedingungen hin optimiert sind. Beispielsweise können die Eigenschaften der der organischen aktiven Schicht zugewandten Seite hinsichtlich ihrer optischen Eigenschaften optimiert sein, und die der organischen aktiven Schicht abgewandten Seite hinsichtlich ihrer thermischen Eigenschaften optimiert sein.According to at least one embodiment of the organic optoelectronic component, other dyes and / or conversion materials are arranged in the pores of the oxide layer than in the pores of the further oxide layer. For example, the organic optoelectronic component can have a conversion material on the side facing the organic active layer or can have a dye which, during operation and / or in the switched-off state, influences the color of the optoelectronic component or the wavelength of the radiation emitted by the optoelectronic component. On the side facing away from the organic active layer, the further oxide layer may have pores which are filled, for example, with a material which has a particularly high thermal conductivity. Advantageously, this allows an adaptation of the properties of the body, which are optimized for different boundary conditions. For example, the properties of the side facing the organic active layer may be optimized with regard to their optical properties, and the side facing away from the organic active layer may be optimized with regard to their thermal properties.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils sind die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht auf ihrer von der Trägerschicht abgewandten Seite zumindest stellenweise frei von Poren. Beispielsweise sind die Poren nach der Herstellung der Oxidschicht mittels elektrischem Oxidieren in einem weiteren Prozessschritt verschlossen. Insbesondere werden die Poren mittels Wasserdampfs oder erhitztem Wasser verschlossen. Somit sind die Poren nach dem Verschließen von außen nicht frei zugänglich, sodass die Poren von allen Seiten vollständig von dem Material der Oxidschicht beziehungsweise der weiteren Oxidschicht begrenzt sind. Vorteilhafterweise ermöglicht dies eine besonders zuverlässige und robuste Integration eines Farbstoffes oder eines Konversionsmaterials in den Poren. Weiter kann somit trotz der Poren in der Oxidschicht eine geringe Rauheit der Hauptfläche des Körpers erzeugt werden.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the oxide layer and / or the further oxide layer are at least locally free of pores on their side remote from the carrier layer. For example, after the production of the oxide layer, the pores are closed by means of electrical oxidation in a further process step. In particular, the pores are made by means of steam or heated water locked. Thus, the pores are not freely accessible after closing from the outside, so that the pores are completely bounded on all sides by the material of the oxide layer or the further oxide layer. Advantageously, this allows a particularly reliable and robust integration of a dye or a conversion material in the pores. Further, despite the pores in the oxide layer, a low roughness of the main surface of the body can be generated.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils variiert in lateraler Richtung die Dicke der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht, gemessen senkrecht zur lateralen Ebene. Beispielsweise ist die Oxidschicht mittels eines Strukturierungsverfahrens, insbesondere mittels Laserstrukturierung, stellenweise abgetragen, so dass die Dicke der Oxidschicht reduziert ist. Insbesondere kann die Oxidschicht in manchen Bereichen vollständig abgetragen sein, sodass die Trägerschicht nach außen frei liegt. Vorteilhafterweise kann mittels einer derartigen Strukturierung eine besonders robuste Strukturierung des organischen optoelektronischen Bauteils erzeugt werden, so dass diese sich insbesondere nur unter Zerstörung des organischen optoelektronischen Bauteils entfernen lässt. Vorteilhafterweise bietet dies eine einfache Möglichkeit zum Erzeugen von sicherheitsrelevanten Markierungen, die beispielsweise Seriennummern oder QR-Codes sein können.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the thickness of the oxide layer and / or the further oxide layer, measured perpendicular to the lateral plane, varies in the lateral direction. For example, the oxide layer is removed in places by means of a structuring method, in particular by means of laser structuring, so that the thickness of the oxide layer is reduced. In particular, the oxide layer may be completely removed in some areas, so that the carrier layer is exposed to the outside. Advantageously, by means of such structuring, a particularly robust structuring of the organic optoelectronic component can be generated so that it can be removed, in particular, only by destroying the organic optoelectronic component. Advantageously, this offers a simple possibility for generating security-relevant markings, which can be, for example, serial numbers or QR codes.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils variiert in lateraler Richtung die Rauigkeit der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht. Beispielsweise sind die Poren der Oxidschicht und/oder der weiteren Oxidschicht nur in bestimmten Bereichen verschlossen. Alternativ kann die Schicht, aus der die Oxidschicht und/oder die weitere Oxidschicht hergestellt werden, bereits vor dem Oxidieren bereichsweise eine unterschiedliche Rauheit aufweisen. Insbesondere kann mittels der unterschiedlichen Rauheit bereichsweise die thermische Leitfähigkeit, die Größe der Kontaktoberfläche oder die optische Erscheinung des Körpers gezielt beeinflusst werden. Beispielsweise können in Bereichen, in denen weitere Schichten auf die Oberfläche der Oxidschicht aufgebracht werden sollen, eine besonders raue Oberfläche aufweisen, so dass eine mechanisch besonders stabile Verbindung zwischen der Oxidschicht und dem weiteren Material erzeugt werden kann. Alternativ kann die Oxidschicht in Bereichen, die eine besonders gute thermische Kontaktierung erfordern, eine besonders glatte Oberfläche aufweisen. Vorteilhafterweise kann die Rauigkeit der Oxidschicht lokal angepasst werden, um unterschiedliche Eigenschaften, insbesondere Adhäsionseigenschaften, thermische Eigenschaften und/oder optische Eigenschaften der Oberflächen anzupassen.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the roughness of the oxide layer and / or the further oxide layer varies in the lateral direction. For example, the pores of the oxide layer and / or the further oxide layer are closed only in certain areas. Alternatively, the layer from which the oxide layer and / or the further oxide layer are produced may already have a different roughness in regions before the oxidation. In particular, the thermal conductivity, the size of the contact surface or the optical appearance of the body can be selectively influenced by means of the different roughness in regions. For example, in regions in which further layers are to be applied to the surface of the oxide layer, have a particularly rough surface, so that a mechanically particularly stable connection between the oxide layer and the other material can be produced. Alternatively, the oxide layer may have a particularly smooth surface in areas which require particularly good thermal contacting. Advantageously, the roughness of the oxide layer can be locally adapted to adapt different properties, in particular adhesion properties, thermal properties and / or optical properties of the surfaces.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils überragt der Körper die organische aktive Schicht in lateralen Richtungen. Beispielsweise überragt der Körper die organische aktive Schicht in allen lateralen Richtungen, wobei laterale Richtungen Richtungen sind, die parallel zur Haupterstreckungsebene des optoelektronischen Bauteils verlaufen sind. Insbesondere kann der Körper in Bereichen, welche die organische aktive Schicht lateral überragen, einen Farbstoff umfassen, welcher in die Poren der Oxidschicht integriert ist. Beispielsweise kann es sich mittels des Farbstoffes um einen Schriftzug oder einen maschinell lesbaren Code, zum Beispiel einen Strichcode oder einen sogenannten QR-Code, handeln. Alternativ kann der den organischen aktiven Bereich lateral überragende Bereich des Körpers einen farbigen Rahmen um den elektromagnetische Strahlung emittierenden Bereich bilden. Insbesondere weist der Körper in diesem Rahmenbereich einen Farbstoff auf, der eine ähnliche Farbe wie das durch das organische optoelektronische Bauteil emittierte Licht aufweist.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, the body projects beyond the organic active layer in lateral directions. For example, the body projects beyond the organic active layer in all lateral directions, with lateral directions being directions that are parallel to the main extension plane of the optoelectronic device. In particular, in regions which laterally project beyond the organic active layer, the body may comprise a dye which is integrated into the pores of the oxide layer. By way of example, the dye may be lettering or a machine-readable code, for example a bar code or a so-called QR code. Alternatively, the area of the body projecting laterally beyond the organic active area may form a colored frame around the electromagnetic radiation emitting area. In particular, in this frame region, the body has a dye which has a color similar to that emitted by the organic optoelectronic component.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des optoelektronischen Bauteils ist die Trägerschicht an ihrer ersten und/oder zweiten Hauptfläche laserstrukturiert. Beispielsweise ist die Trägerschicht bereits vor dem Erzeugen der Oxidschicht laserstrukturiert, sodass laserstrukturierte Bereiche eine von den umgebenden Bereichen unterschiedliche Rauheit aufweisen. Entsprechend weist die Oberfläche der Oxidschicht nach der Erzeugung der Oxidschicht auf der Trägerschicht Bereiche mit unterschiedlicher Rauheit auf.In accordance with at least one embodiment of the optoelectronic component, the carrier layer is laser-structured on its first and / or second main surface. For example, the carrier layer is already laser-structured before the oxide layer is produced, so that laser-structured regions have a different roughness from the surrounding regions. Accordingly, the surface of the oxide layer after the formation of the oxide layer on the support layer on areas with different roughness.

Alternativ kann die Oberfläche der Trägerschicht nach dem Erzeugen der Oxidschicht mittels eines Lasers strukturiert werden. Dabei kann die Wellenlänge des Lasers so gewählt werden, dass die Oxidschicht für den Laser transparent ist. Vorteilhafterweise ermöglicht eine derartige Strukturierung eine besonders kratzfeste und robuste Strukturierung der Trägerschicht. Vorteilhafterweise ist bei einer derartigen Laserstrukturierung die Rauheit der Oxidschicht im Vergleich zu umgebenden Bereichen unverändert, wobei jedoch die von umgebenden Bereichen unterschiedliche Rauheit der Trägerschicht von außen sichtbar ist.Alternatively, the surface of the carrier layer can be patterned after the oxide layer has been produced by means of a laser. In this case, the wavelength of the laser can be selected so that the oxide layer is transparent to the laser. Advantageously, such structuring enables a particularly scratch-resistant and robust structuring of the carrier layer. Advantageously, in such a laser structuring, the roughness of the oxide layer is unchanged compared to surrounding areas, but the roughness of the carrier layer, which is different from surrounding areas, is visible from the outside.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils trifft im Betrieb emittiertes Licht auf die Oxidschicht und wird von den Farbstoffen und/oder Konversionsmaterialien beeinflusst. Beispielsweise wird mit den Konversionsmaterialien das im Betrieb emittierte Licht in Licht eines langwelligeren Wellenlängenbereichs umgewandelt. Weiter können Farbstoffe und/oder Konversionsmaterialien mittels eines Druckverfahrens lateral strukturiert auf die Oxidschicht aufgebracht werden. Vorteilhafterweise kann somit die farbliche Erscheinung beziehungsweise das emittierte Licht entlang definierter lateraler Bereiche gezielt beeinflusst werden. Beispielsweise können Farbstoffe und oder Konversionsmaterialien mittels Inkjet, Gravurdruck oder Tampondruck aufgebracht werden.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic component, light emitted during operation strikes the oxide layer and is influenced by the dyes and / or conversion materials. For example, with the conversion materials, the light emitted during operation is converted into light of a longer wavelength range. Furthermore, dyes and / or conversion materials can be applied to the oxide layer laterally structured by means of a printing process become. Advantageously, the color appearance or the emitted light can thus be influenced in a targeted manner along defined lateral areas. For example, dyes and / or conversion materials can be applied by means of inkjet, gravure printing or pad printing.

Gemäß zumindest einer Ausführungsform des organischen optoelektronischen Bauteils ist in dem Bereich, in dem der Körper mit der organischen aktiven Schicht verbunden ist, die Oxidschicht von außen sichtbar. Vorteilhafterweise kann mittels eines Farbstoffes die farbliche Erscheinung der Oxidschicht gezielt beeinflusst werden. Beispielsweise umfasst die Oxidschicht einen Farbstoff, welcher eine ähnliche Farbe aufweist, wie das im Betrieb des optoelektronischen Bauteils emittierten Lichtes, sodass vorteilhafterweise auch im ausgeschalteten Zustand sichtbar ist, Licht welchen Wellenlängenbereichs das optoelektronische Bauteil emittiert.In accordance with at least one embodiment of the organic optoelectronic device, in the region in which the body is connected to the organic active layer, the oxide layer is visible from outside. Advantageously, the color appearance of the oxide layer can be specifically influenced by means of a dye. By way of example, the oxide layer comprises a dye which has a color similar to that emitted during operation of the optoelectronic component, so that it is advantageously also visible in the switched-off state that light of which wavelength range the optoelectronic component emits.

Weitere Vorteile und vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen des organischen optoelektronischen Bauteils ergeben sich aus den folgenden, im Zusammenhang mit den Figuren dargestellten Ausführungsbeispielen.

  • Es zeigen die 1A - 1G Schnittansichten verschiedener Ausführungsbeispiele eines Körpers eines organischen optoelektronischen Bauteils.
  • Es zeigen die 2A - 2C Schnittansichten von Poren, die in einer Oxidschicht eines Körpers eines organischen optoelektronischen Bauteils angeordnet sind.
  • Es zeigt die 3 eine schematische Draufsicht einer beispielhaften Ausgestaltung eines organischen optoelektronischen Bauteils.
  • Es zeigen die 4A und 4B Schnittansichten beispielhafter Ausgestaltungen eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils.
Further advantages and advantageous embodiments and further developments of the organic optoelectronic component will become apparent from the following, in connection with the figures illustrated embodiments.
  • It show the 1A - 1G Sectional views of various embodiments of a body of an organic optoelectronic device.
  • It show the 2A - 2C Sectional views of pores, which are arranged in an oxide layer of a body of an organic optoelectronic device.
  • It shows the 3 a schematic plan view of an exemplary embodiment of an organic optoelectronic device.
  • It show the 4A and 4B Sectional views of exemplary embodiments of an organic optoelectronic device described here.

Gleiche, gleichartige oder gleich wirkende Elemente sind in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen. Die Figuren und die Größenverhältnisse der in den Figuren dargestellten Elemente untereinander sind nicht als maßstäblich zu betrachten. Vielmehr können einzelne Elemente zur besseren Darstellbarkeit und/oder für eine bessere Verständlichkeit übertrieben groß dargestellt sein.The same, similar or equivalent elements are provided in the figures with the same reference numerals. The figures and the proportions of the elements shown in the figures with each other are not to be considered to scale. Rather, individual elements may be exaggerated in size for better representability and / or better intelligibility.

Die 1A zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines hier beschriebenen Körpers 20 eines organischen optoelektronischen Bauteils 1 gemäß eines ersten Ausführungsbeispiels. Der Körper 20 umfasst eine Trägerschicht 21, eine Oxidschicht 22 und eine optionale weitere Oxidschicht 23. Die Oxidschicht 22 ist an einer ersten Hauptfläche 21a der Trägerschicht 21 angeordnet. Die weitere Oxidschicht 23 ist an der der Oxidschicht 22 abgewandten zweiten Hauptfläche 21b der Trägerschicht 21 angeordnet. Beispielsweise ist die Trägerschicht 21 vollständig an ihren Hauptflächen durch die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht 23 überdeckt. Insbesondere stehen die Oxidschicht 22 und die Trägerschicht 21 in direktem Kontakt zueinander und sind monolithisch miteinander verbunden. Weiter stehen die Trägerschicht 21 und die weitere Oxidschicht 23 in direktem Kontakt zueinander und sind monolithisch miteinander verbunden. Insbesondere sind die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht 23 mit der Trägerschicht 21 stoffschlüssig verbunden. Beispielsweise können die Verbindungen zwischen der Oxidschicht 22 und der Trägerschicht 21 und zwischen der weiteren Oxidschicht 23 und der Trägerschicht 21 nur unter Zerstörung einer der Schichten gelöst werden.The 1A shows a schematic sectional view of a body described here 20 an organic optoelectronic device 1 according to a first embodiment. The body 20 comprises a carrier layer 21 , an oxide layer 22 and an optional further oxide layer 23 , The oxide layer 22 is on a first major surface 21a the carrier layer 21 arranged. The further oxide layer 23 is at the oxide layer 22 remote second major surface 21b the carrier layer 21 arranged. For example, the carrier layer 21 completely at their major surfaces through the oxide layer 22 and the further oxide layer 23 covered. In particular, the oxide layer 22 and the carrier layer 21 in direct contact with each other and are connected monolithically. Next are the carrier layer 21 and the further oxide layer 23 in direct contact with each other and are connected monolithically. In particular, the oxide layer 22 and the further oxide layer 23 with the carrier layer 21 cohesively connected. For example, the connections between the oxide layer 22 and the carrier layer 21 and between the further oxide layer 23 and the carrier layer 21 can only be solved by destroying one of the layers.

Die Trägerschicht ist beispielsweise mit einem Metall oder einer Legierung aus Metallen gebildet. Insbesondere ist die Trägerschicht mit zumindest einem der Metalle Aluminium, Zinn, Titan, Tantal, Niobium, Magnesium oder einer Legierung, welche zumindest eines dieser Metalle enthält, gebildet. Beispielsweise ist die Oxidschicht mit einer oxidierten Form einer der Metalle Aluminium, Zinn, Titan, Tantal, Niobium, Magnesium oder einer oxidierten Form einer Legierung, welche zumindest eines dieser Metalle enthält, gebildet. Insbesondere ist die Oxidschicht mit einer oxidierten Form des Metalls oder der Legierung aus Metallen gebildet, mit dessen nicht oxidierter Form die Trägerschicht gebildet ist. Beispielsweise sind die Oxidschicht 22 und/oder die weitere Oxidschicht 23 mittels Oxidation eines Ausgangsmaterials gebildet. Insbesondere sind die Oxidschicht 22 und/oder die weitere Oxidschicht mittels Eloxierens hergestellt. Insbesondere ist das Ausgangsmaterial mit dem gleichen Material wie die Trägerschicht gebildet. Insbesondere ist die Trägerschicht 21 Teil des Ausgangsmaterials, dessen Oberfläche zur Herstellung der Oxidschicht 22 und/oder der weiteren Oxidschicht 23 oxidiert wurde. Beispielsweise weist die Oxidschicht, senkrecht zur ersten 21a oder zweiten 21b Hauptfläche gemessen, eine Dicke von mindestens 2 µm, bevorzugt mindestens 5 µm, insbesondere mindestens 10 µm auf.The carrier layer is formed, for example, with a metal or an alloy of metals. In particular, the carrier layer is formed with at least one of the metals aluminum, tin, titanium, tantalum, niobium, magnesium or an alloy which contains at least one of these metals. For example, the oxide layer is formed with an oxidized form of one of the metals aluminum, tin, titanium, tantalum, niobium, magnesium or an oxidized form of an alloy containing at least one of these metals. In particular, the oxide layer is formed with an oxidized form of the metal or the alloy of metals, with the unoxidized form of which the carrier layer is formed. For example, the oxide layer 22 and / or the further oxide layer 23 formed by oxidation of a starting material. In particular, the oxide layer 22 and / or the further oxide layer produced by anodizing. In particular, the starting material is formed with the same material as the carrier layer. In particular, the carrier layer 21 Part of the starting material, its surface for the preparation of the oxide layer 22 and / or the further oxide layer 23 was oxidized. By way of example, the oxide layer, measured perpendicular to the first 21a or second 21b main surface, has a thickness of at least 2 μm, preferably at least 5 μm, in particular at least 10 μm.

Die 1B zeigt eine Schnittansicht eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1 gemäß eines zweiten Ausführungsbeispiels. In diesem Ausführungsbeispiel weist der Körper eine Trägerschicht auf, welche an der ersten Hauptseite 21a eine Oxidschicht 22 aufweist. An der der Oxidschicht 22 abgewandten zweiten Hauptseite 21b der Trägerschicht 21 ist eine optionale weitere Oxidschicht 23 angeordnet. Die Oxidschichten stehen mit der Trägerschicht 21 in direktem Kontakt und sind mit dieser stoffschlüssig verbunden. Im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel sind in dem zweiten Ausführungsbeispiel auch Stirnflächen 21c der Trägerschicht 21, welche die Hauptflächen der Trägerschicht 21 miteinander verbinden, von der Oxidschicht 22 beziehungsweise der weiteren Oxidschicht 23 bedeckt. Insbesondere ist die Trägerschicht 21 vollständig von allen Seiten durch die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht 23 überdeckt. Die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht 23 stehen im Bereich der Stirnflächen 21c des Trägers 21 in direktem mechanischem Kontakt zueinander und sind stoffschlüssig miteinander verbunden. Insbesondere sind die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht mit dem gleichen Material gebildet. Beispielsweise weisen die Oxidschicht 22 und die weitere Oxidschicht 23 im Rahmen der Herstellungstoleranzen die gleiche Dicke auf.The 1B shows a sectional view of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 according to a second embodiment. In this embodiment, the body has a carrier layer which is on the first main side 21a an oxide layer 22 having. At the oxide layer 22 facing away from the second main page 21b the carrier layer 21 is an optional further oxide layer 23 arranged. The oxide layers stand with the carrier layer 21 in direct contact and are with this cohesively connected. In contrast to the first embodiment, end faces are also in the second embodiment 21c the carrier layer 21 , which are the main surfaces of the carrier layer 21 connect together, from the oxide layer 22 or the further oxide layer 23 covered. In particular, the carrier layer 21 completely from all sides through the oxide layer 22 and the further oxide layer 23 covered. The oxide layer 22 and the further oxide layer 23 stand in the area of the faces 21c of the carrier 21 in direct mechanical contact with each other and are materially interconnected. In particular, the oxide layer 22 and the further oxide layer formed with the same material. For example, the oxide layer 22 and the further oxide layer 23 Within the manufacturing tolerances the same thickness.

Die 1C zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. Der Körper 20 umfasst eine Trägerschicht 21 und eine Oxidschicht 22. Die Oxidschicht 22 ist an einer Hauptfläche der Trägerschicht 21 angeordnet. Die Trägerschicht 21 und die Oxidschicht 22 sind stoffschlüssig mechanisch fest miteinander verbunden. Im Gegensatz zum ersten und zweiten Ausführungsbeispiel, die in den 1A und 1B dargestellt sind, ist die erste Hauptfläche 21a der Trägerschicht 21 frei von einer Oxidschicht. Beispielsweise kann herstellungsbedingt die Trägerschicht 21 nur an der zweiten Hauptfläche 21b oxidiert worden sein.The 1C shows a third embodiment of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 , The body 20 comprises a carrier layer 21 and an oxide layer 22 , The oxide layer 22 is on a major surface of the carrier layer 21 arranged. The carrier layer 21 and the oxide layer 22 are materially firmly bonded together mechanically. In contrast to the first and second embodiments, which in the 1A and 1B are shown, is the first major surface 21a the carrier layer 21 free from an oxide layer. For example, the carrier layer may be due to the production 21 only on the second main surface 21b have been oxidized.

Die 1D zeigt ein viertes Ausführungsbeispiel eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. Der Körper 20 umfasst eine Trägerschicht 21, eine Adhäsionsschicht 24 und eine Oxidschicht 22. Die Adhäsionsschicht 24 ist an der zweiten Hauptfläche 21b der Trägerschicht 21 angeordnet. Auf der der Trägerschicht 21 abgewandten Seite der Adhäsionsschicht 24 ist die Oxidschicht 22 angeordnet. Die Adhäsionsschicht 24 ist stoffschlüssig mechanisch fest mit der Trägerschicht 21 und der Oxidschicht 22 verbunden.The 1D shows a fourth embodiment of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 , The body 20 comprises a carrier layer 21 , an adhesion layer 24 and an oxide layer 22 , The adhesion layer 24 is at the second major surface 21b the carrier layer 21 arranged. On the carrier layer 21 opposite side of the adhesion layer 24 is the oxide layer 22 arranged. The adhesion layer 24 is cohesively mechanically fixed to the carrier layer 21 and the oxide layer 22 connected.

Beispielsweise kann die Trägerschicht 21 in diesem Ausführungsbeispiel mit einem keramischen Material oder einem Metall gebildet sein. Insbesondere weist die Oxidschicht 22 ein von der Trägerschicht 21 unterschiedliches Material auf. Insbesondere ist das Material der Oxidschicht 22 nicht durch Oxidation des Materials der Trägerschicht 21 herstellbar. Vielmehr ist die Oxidschicht 22 durch die Oxidation eines anderen Materials hergestellt. Beispielsweise wurde das andere Material, welches das Ausgangsmaterial für die Oxidschicht 22 ist, mittels der Adhäsionsschicht 24 an der Trägerschicht befestigt und anschließend in einem Eloxalverfahren elektrisch oxidiert. Insbesondere ist das andere Material vollständig elektrisch oxidiert. Alternativ ist das andere Material teilweise elektrisch oxidiert, sodass zwischen der Adhäsionsschicht 24 und der mittels Eloxierens hergestellten Oxidschicht 22 Reste des anderen Materials angeordnet sind. Insbesondere kann das andere Material mittels Eloxierens vollständig elektrisch oxidiert sein, sodass zwischen der Oxidschicht 22 und der Adhäsionsschicht 24 kein anderes Material angeordnet ist.For example, the carrier layer 21 be formed in this embodiment with a ceramic material or a metal. In particular, the oxide layer 22 one from the carrier layer 21 different material on. In particular, the material is the oxide layer 22 not by oxidation of the material of the carrier layer 21 produced. Rather, the oxide layer 22 produced by the oxidation of another material. For example, the other material which was the starting material for the oxide layer 22 is, by means of the adhesion layer 24 attached to the carrier layer and then electrically oxidized in an anodizing process. In particular, the other material is completely electrically oxidized. Alternatively, the other material is partially electrically oxidized so that between the adhesion layer 24 and the oxide layer prepared by anodization 22 Remnants of the other material are arranged. In particular, the other material may be completely electrically oxidized by anodization, so that between the oxide layer 22 and the adhesion layer 24 no other material is arranged.

Die 1E zeigt die Schnittansicht eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1 gemäß eines fünften Ausführungsbeispiels. Der Körper 20 umfasst eine Trägerschicht 21 und zwei Adhäsionsschichten 24, die jeweils an den einander gegenüberliegenden ersten 21a und zweiten 21b Hauptfläche der Trägerschicht 21 angeordnet sind. An einander abgewandten Hauptflächen der Adhäsionsschichten 24 ist eine Oxidschicht 22 beziehungsweise eine weitere Oxidschicht 23 angeordnet. Die Trägerschicht ist mechanisch fest über eine stoffschlüssige Verbindung mit der Adhäsionsschicht 24 verbunden. Die Adhäsionsschichten 24 sind mechanisch fest über eine stoffschlüssige Verbindung mit der Oxidschicht 22 beziehungsweise der weiteren Oxidschicht 23 verbunden. Beispielsweise kann die Trägerschicht 21 in diesem Ausführungsbeispiel mit einem keramischen Material oder einem Metall gebildet sein. Insbesondere weist die Oxidschicht 22 und/oder die weitere Oxidschicht 23 ein von der Trägerschicht 21 unterschiedliches Material auf. Insbesondere ist das Material der Oxidschicht 22 nicht durch Oxidation des Materials der Trägerschicht 21 herstellbar.The 1E shows the sectional view of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 according to a fifth embodiment. The body 20 comprises a carrier layer 21 and two adhesion layers 24 respectively at the opposing first 21a and second 21b major surfaces of the carrier layer 21 are arranged. At opposite major surfaces of the adhesive layers 24 is an oxide layer 22 or a further oxide layer 23 arranged. The carrier layer is mechanically strong via a cohesive connection with the adhesion layer 24 connected. The adhesion layers 24 are mechanically strong via a cohesive connection with the oxide layer 22 or the further oxide layer 23 connected. For example, the carrier layer 21 be formed in this embodiment with a ceramic material or a metal. In particular, the oxide layer 22 and / or the further oxide layer 23 a different material from the carrier layer 21. In particular, the material is the oxide layer 22 not by oxidation of the material of the carrier layer 21 produced.

Die 1F zeigt eine Schnittansicht eines Körpers 20 eines organischen optoelektronischen Bauteils 1 gemäß eines sechsten Ausführungsbeispiels. Der Körper 20 umfasst einen Träger 25, eine Adhäsionsschicht 24, eine Trägerschicht 21 und eine Oxidationsschicht 22. Die Adhäsionsschicht 24 ist an einer Hauptfläche des Trägers 25 angeordnet. Die Adhäsionsschicht und der Träger 25 sind mechanisch fest über eine stoffschlüssige Verbindung miteinander verbunden. Auf der dem Träger 25 abgewandten Seite der Adhäsionsschicht 24 ist die Trägerschicht 21 angeordnet. Die Adhäsionsschicht 24 und die Trägerschicht stehen in direktem Kontakt zueinander und sind über eine stoffschlüssige Verbindung miteinander verbunden. Auf der der Adhäsionsschicht 24 abgewandten Seite der Trägerschicht 21 ist die Oxidschicht 22 angeordnet. Beispielsweise ist das Material der Oxidschicht 22 mittels Oxidation des Materials der Trägerschicht 21 herstellbar. Beispielsweise sind die Trägerschicht 21 und der Träger 25 nicht mit dem gleichen Material gebildet. Insbesondere ist das Material der Oxidschicht 22 nicht mittels Oxidation des Materials des Trägers 25 herstellbar. Beispielsweise ist der Träger 25 mit einem keramischen Material gebildet und die Oxidschicht mit einem Metalloxid gebildetThe 1F shows a sectional view of a body 20 an organic optoelectronic device 1 according to a sixth embodiment. The body 20 includes a carrier 25 , an adhesion layer 24 , a carrier layer 21 and an oxidation layer 22 , The adhesion layer 24 is on a major surface of the carrier 25 arranged. The adhesive layer and the carrier 25 are mechanically fixed to each other via a material connection. On the carrier 25 opposite side of the adhesion layer 24 is the carrier layer 21 arranged. The adhesion layer 24 and the carrier layer are in direct contact with each other and are connected to each other via a cohesive connection. On the adhesion layer 24 opposite side of the carrier layer 21 is the oxide layer 22 arranged. For example, the material is the oxide layer 22 by oxidation of the material of the carrier layer 21 produced. For example, the carrier layer 21 and the carrier 25 not formed with the same material. In particular, the material is the oxide layer 22 not by oxidation of the material of the carrier 25 produced. For example, the carrier 25 formed with a ceramic material and the oxide layer formed with a metal oxide

Die 1G zeigt ein siebtes Ausführungsbeispiel eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. Der Körper 20 umfasst einen Träger 25, an dessen gegenüberliegenden Hauptseiten jeweils eine Adhäsionsschicht 24 angeordnet ist. Die Adhäsionsschichten 24 und der Träger 25 stehen in direktem mechanischem Kontakt zueinander und sind stoffschlüssig über eine nicht lösbare Verbindung miteinander verbunden. Die einander abgewandten Seiten der Adhäsionsschichten 24 stehen jeweils in direktem Kontakt zu einer Trägerschicht 21. Die Trägerschichten 21 sind mittels einer stoffschlüssigen Verbindung jeweils mit der Adhäsionsschicht 24 mechanisch fest verbunden. Auf den einander abgewandten Seiten der Trägerschichten 21 ist eine Oxidschicht 22 beziehungsweise eine weitere Oxidschicht 23 angeordnet. Die Oxidschicht 22 beziehungsweise die weitere Oxidschicht 23 stehen jeweils in direktem Kontakt mit den Trägerschichten 21 und sind über eine stoffschlüssige Verbindung mit diesen mechanisch fest verbunden. Insbesondere ist das Material der Oxidschicht 22 und der weiteren Oxidschicht 23 mittels Oxidation der angrenzenden Trägerschichten 21 jeweils herstellbar. Insbesondere ist das Material der Oxidschicht 22 und das Material der weiteren Oxidschicht 23 nicht mittels Oxidation des Materials des Trägers 25 herstellbar. The 1G shows a seventh embodiment of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 , The body 20 includes a carrier 25 , on whose opposite main sides in each case an adhesion layer 24 is arranged. The adhesion layers 24 and the carrier 25 are in direct mechanical contact with each other and are materially interconnected via a non-detachable connection. The opposite sides of the adhesive layers 24 are each in direct contact with a carrier layer 21 , The carrier layers 21 are by means of a material connection in each case with the adhesion layer 24 mechanically firmly connected. On the opposite sides of the carrier layers 21 is an oxide layer 22 or a further oxide layer 23 arranged. The oxide layer 22 or the further oxide layer 23 are each in direct contact with the carrier layers 21 and are mechanically firmly connected via a material connection with these. In particular, the material is the oxide layer 22 and the further oxide layer 23 by oxidation of the adjacent carrier layers 21 each produced. In particular, the material is the oxide layer 22 and the material of the further oxide layer 23 not by oxidation of the material of the carrier 25 produced.

Die folgenden Ausführungen, Merkmale die im Zusammenhang mit der Oxidschicht 22 und/oder der weiteren Oxidschicht 23 offenbart sind, gelten implizit sowohl für die Oxidschicht 22 als auch für die weitere Oxidschicht 23.The following designs, features related to the oxide layer 22 and / or the further oxide layer 23 are implicitly applicable to both the oxide layer 22 as well as for the further oxide layer 23 ,

Die 2A zeigt eine Schnittansicht der Poren 220 eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1 gemäß eines ersten Ausführungsbeispiels. Die Oxidschicht 22 weist beispielsweise eine Dicke von mindestens 2 µm auf. Insbesondere weist die Oxidschicht 22 eine Dicke von mindestens 5 µm, bevorzugt mindestens 10 µm, auf. In der Oxidschicht 22 sind Poren 220 angeordnet, die von allen Seiten vollständig durch das Material der Oxidschicht 22 begrenzt werden. Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind die Poren 220 teilweise mit einem Konversionsmaterial 202 befüllt. Bei dem Konversionsmaterial handelt es sich beispielsweise um einen keramischen Leuchtstoff, Quantendots oder Quantenrods. Beispielsweise ist entlang einer lateralen Richtung nur bereichsweise ein Konversionsmaterial 202 in den Poren der Oxidationsschicht 22 angeordnet. Zusätzlich kann die Oxidationsschicht Bereiche aufweisen, in denen die Poren 220 nicht mit einem Konversionsmaterial 202 befüllt sind.The 2A shows a sectional view of the pores 220 of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 according to a first embodiment. The oxide layer 22 has, for example, a thickness of at least 2 μm. In particular, the oxide layer 22 a thickness of at least 5 microns, preferably at least 10 microns, on. In the oxide layer 22 are pores 220 arranged from all sides completely through the material of the oxide layer 22 be limited. In the present embodiment, the pores 220 partly with a conversion material 202 filled. The conversion material is, for example, a ceramic phosphor, quantum dots or quantum electrodes. For example, a conversion material is only partially used along a lateral direction 202 in the pores of the oxidation layer 22 arranged. In addition, the oxidation layer may have areas in which the pores 220 not with a conversion material 202 are filled.

Alternativ oder zusätzlich sind die Poren beispielsweise mit einem Material gefüllt, welches sich hinsichtlich der thermischen Eigenschaften von dem Material der Oxidschicht 22 und/oder der weiteren Oxidschicht 23 unterscheidet. Insbesondere handelt es sich bei dem Material, welches in den Poren angeordnet ist, um ein nicht-gasförmiges Material. Vorteilhafterweise kann durch die Anordnung eines Materials mit hoher thermischer Leitfähigkeit im Betrieb des Bauteils 1 entstandene Wärme besonders gut abgeleitet werden. Alternativ können mittels der Anordnung von Materialien in den Poren 220, die eine geringe Wärmeleitfähigkeit aufweisen, mittels der Oxidationsschicht 22 Bereiche voneinander thermisch entkoppelt werden.Alternatively or additionally, the pores are filled, for example, with a material which, with respect to the thermal properties, of the material of the oxide layer 22 and / or the further oxide layer 23 different. In particular, the material which is arranged in the pores is a non-gaseous material. Advantageously, the arrangement of a material with high thermal conductivity in the operation of the component 1 resulting heat to be derived particularly well. Alternatively, by means of the arrangement of materials in the pores 220, which have a low thermal conductivity, by means of the oxidation layer 22 Regions are thermally decoupled from each other.

Die Poren weisen eine Haupterstreckungsrichtung auf, die senkrecht zur Hauptfläche der Trägerschicht 21 verläuft. Insbesondere können an die Stirnseite 21c der Trägerschicht angrenzende Oxidschichten Poren 220 aufweisen, deren Haupterstreckungsebene senkrecht zur Stirnfläche 21c der Trägerschicht 21 verläuft.The pores have a main extension direction perpendicular to the main surface of the carrier layer 21 runs. In particular, to the front page 21c the carrier layer adjacent oxide layers pores 220 have, whose main extension plane perpendicular to the end face 21c the carrier layer 21 runs.

Die erste Hauptfläche 21a der Trägerschicht 21 ist bereichsweise strukturiert. Beispielsweise ist die erste Hauptfläche 21a mittels Laserstrahlung nach der Herstellung der Oxidschicht 22 auf der Oberfläche der Trägerschicht 21 erzeugt. Insbesondere ist die Wellenlänge der Laserstrahlung so gewählt, dass das Material der Oxidschicht im Wesentlichen transparent für die Laserstrahlung ist. Bei der Herstellung der Strukturierung durchläuft die Laserstrahlung beispielsweise die Oxidschicht und wird an der ersten Hauptfläche 21a der Trägerschicht 21 absorbiert. Vorteilhafterweise kann somit eine Strukturierung erzeugt werden, die durch das Material der Oxidschicht 22 geschützt ist.The first main area 21a the carrier layer 21 is structured in certain areas. For example, the first major surface 21a by means of laser radiation after the production of the oxide layer 22 on the surface of the carrier layer 21 generated. In particular, the wavelength of the laser radiation is selected so that the material of the oxide layer is substantially transparent to the laser radiation. During the production of the structuring, the laser radiation, for example, passes through the oxide layer and becomes on the first main surface 21a the carrier layer 21 absorbed. Advantageously, it is thus possible to produce a pattern which is formed by the material of the oxide layer 22 is protected.

Die 2B zeigt eine Schnittansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels der Poren 220 eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. In diesem Ausführungsbeispiel sind die Poren 220 von der der Trägerschicht 21 abgewandten Seite teilweise frei zugänglich. The 2 B shows a sectional view of a second embodiment of the pores 220 of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 , In this embodiment, the pores are 220 from the backing layer 21 opposite side partly freely accessible.

Mit anderen Worten, manche Poren 220 sind nicht von allen Seiten vollständig durch das Material der Oxidschicht 22 begrenzt. Beispielsweise können nicht verschlossene Poren, die von außen frei zugänglich sind, die Rauheit der der Trägerschicht 21 abgewandten Seite der Oxidschicht 22 beeinflussen. Vorteilhafterweise kann in Bereichen nicht verschlossener Poren 220 besonders gut ein weiteres Material auf der Oxidschicht 22 angeordnet werden und mit der Oxidschicht 22 eine besonders stabile mechanische Verbindung eingehen.In other words, some pores 220 are not completely covered on all sides by the material of the oxide layer 22 limited. For example, unclogged pores that are freely accessible from the outside, the roughness of the carrier layer 21 opposite side of the oxide layer 22 influence. Advantageously, in areas of unclogged pores 220 especially good another material on the oxide layer 22 be arranged and with the oxide layer 22 make a particularly stable mechanical connection.

Die 2C zeigt die Schnittansicht eines dritten Ausführungsbeispiels der Poren 220 eines Körpers 20 eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. In diesem Ausführungsbeispiel ist die dem Träger 21 abgewandte Oberfläche 22 teilweise aufgeraut. Beispielsweise kann die Oberfläche in diesem Bereich aufgeraut sein, da die Oberfläche des Ausgangsmaterials, aus dem die Oxidschicht 22 hergestellt ist, bereits bereichsweise aufgeraut war. Alternativ kann die Oberfläche der Oxidschicht 22 mittels eines Ätzverfahrens oder mittels Laserstrukturierung nach der Herstellung der Oxidschicht 22 aufgeraut worden sein. Beispielsweise variiert die Dicke der Oxidschicht 22 entlang einer lateralen Richtung, gemessen senkrecht zur Haupterstreckungsebene der Oxidschicht 22.The 2C shows the sectional view of a third embodiment of the pores 220 of a body 20 an organic optoelectronic device described here 1 , In this embodiment, the carrier 21 facing away surface 22 partially roughened. For example, the surface in this area may be roughened, as the surface of the starting material from which the oxide layer 22 is already roughened regionally. Alternatively, the surface of the oxide layer 22 by means of an etching process or by means of laser structuring after the production of the oxide layer 22 roughened. For example, the thickness of the oxide layer varies 22 along a lateral direction measured perpendicular to the main extension plane of the oxide layer 22 ,

Weiter ist in manchen der Poren 220 einen Farbstoff 201 angeordnet. Beispielsweise ist der Farbstoff 201 von der der Trägerschicht 21 abgewandten Seite der Oxidschicht 22 sichtbar. Insbesondere sind Konversionsmaterialien 202 und/oder Farbstoffe 201 nur bereichsweise entlang einer lateralen Richtung in den Poren 220 angeordnet. Laterale Richtungen verlaufen dabei parallel zur Haupterstreckungsrichtung des Körpers 20. Beispielsweise können so Muster oder Schriftzüge auf dem Körper farblich dargestellt werden.Next is in some of the pores 220 a dye 201 arranged. For example, the dye 201 from the backing layer 21 opposite side of the oxide layer 22 visible, noticeable. In particular, conversion materials 202 and / or dyes 201 only partially along a lateral direction in the pores 220 arranged. Lateral directions are parallel to the main direction of extension of the body 20 , For example, patterns or lettering on the body can be displayed in color.

Die 3 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein hier beschriebenes organisches optoelektronisches Bauteil 1. Das organische optoelektronische Bauteil 1 umfasst eine organische aktive Schicht 10, die auf einem Körper 20 angeordnet ist. Der Körper 20 überragt die organische aktive Schicht 10 in lateralen Richtungen. Die organische aktive Schicht 10 ist auf der Seite der Oxidschicht 20 des Körpers 20 angeordnet. Insbesondere kann, in dem Bereich, in dem der Körper mit der organischen aktiven Schicht 10 verbunden ist, die Oxidschicht 22 von außen sichtbar sein.The 3 shows a schematic plan view of an organic optoelectronic device described here 1 , The organic optoelectronic component 1 comprises an organic active layer 10 on a body 20 is arranged. The body 20 surmounts the organic active layer 10 in lateral directions. The organic active layer 10 is on the side of the oxide layer 20 of the body 20 is arranged. In particular, in the area where the body with the organic active layer 10 connected, the oxide layer 22 be visible from the outside.

Das organische optoelektronische Bauteil 1 weist zwei Strukturierungen 300 auf. Eine der Strukturierungen 300 ist von der organischen aktiven Schicht 10 überdeckt. Die Strukturierungen 300 sind durch eine Modifikation in der Oxidschicht 22 erzeugt. Beispielsweise handelt es sich bei den Strukturierungen 300 um die Anordnung eines Farbstoffs 201 oder eines Konversionsmaterials 202 in den Poren 220 in der Oxidschicht 22 des Körpers 20. Alternativ handelt es sich bei den Strukturierungen 300 um Bereiche, in denen die Rauheit der Oberfläche des Körpers 20 im Vergleich zu den lateral umgebenden Bereichen verändert ist. Alternativ handelt es sich bei der Strukturierung 300 um Bereiche, in denen die erste Hauptfläche 21a der Trägerschicht 21, wie in 2A dargestellt, strukturiert ist.The organic optoelectronic component 1 has two structuring 300 on. One of the structuring 300 is from the organic active layer 10 covered. The structuring 300 are due to a modification in the oxide layer 22 generated. For example, it is the structuring 300 order of a dye 201 or a conversion material 202 in the pores 220 in the oxide layer 22 of the body 20 , Alternatively, it is the structuring 300 around areas where the roughness of the surface of the body 20 is changed compared to the laterally surrounding areas. Alternatively, it is the structuring 300 around areas where the first main area 21a the carrier layer 21 , as in 2A represented, is structured.

Weiter weist die Oxidschicht 22 des Körpers 20 einen ersten Emissionsbereich 11 auf, in dem ein Farbstoff 201 in den Poren 220 angeordnet ist. Dieser erste Emissionsbereich 11 ist von der organischen aktiven Schicht 10 überdeckt. Weiter weist die Oxidschicht 22 einen Bereich auf, in dem ein Konversionsmaterial 202 in den Poren 220 angeordnet ist. In dem Bereich, in dem das Konversionsmaterial 202 von der organischen aktiven Schicht 10 überdeckt ist, weist das organische optoelektronische Bauteil einen zweiten Emissionsbereich 12 auf. Beispielsweise ist der Bereich, in dem das Konversionsmaterial 202 angeordnet ist, teilweise durch die organische aktive Schicht 10 überdeckt. Beispielsweise ist die organische aktive Schicht 10 transparent, so dass der Farbstoff 201 im ausgeschalteten Zustand durch die organische aktive Schicht 10 sichtbar ist. Insbesondere trifft im Betrieb des organischen optoelektronischen Bauteils 1 in der organischen aktiven Schicht 10 erzeugte elektromagnetische Strahlung zumindest teilweise auf die Oxidschicht 22. Insbesondere ist das Konversionsmaterial 202 dazu eingerichtet, die im Betrieb erzeugte elektromagnetische Strahlung, welche auf das Konversionsmaterial 202 trifft, in Strahlung einer längeren Wellenlänge umzuwandeln. Sowohl mit dem Konversionsmaterial 202 als auch mit dem Farbstoff 201 kann die Farbe des emittierten Lichts beeinflusst werden.Next, the oxide layer 22 of the body 20 a first emission range 11 in which a dye 201 in the pores 220 is arranged. This first emission area 11 is from the organic active layer 10 covered. Next, the oxide layer 22 an area in which a conversion material 202 in the pores 220 is arranged. In the area where the conversion material 202 from the organic active layer 10 is covered, the organic optoelectronic component has a second emission region 12 on. For example, the area where the conversion material is 202 is arranged, partially through the organic active layer 10 covered. For example, the organic active layer 10 transparent, leaving the dye 201 in the off state through the organic active layer 10 is visible. In particular, during operation of the organic optoelectronic device 1 in the organic active layer 10 generated electromagnetic radiation at least partially on the oxide layer 22 , In particular, the conversion material 202 adapted to the electromagnetic radiation generated in the operation, which on the conversion material 202 meets, to convert into radiation of a longer wavelength. Both with the conversion material 202 and with the dye 201 the color of the emitted light can be influenced.

Entlang einer lateralen Richtung parallel zur Haupterstreckungsebene des organischen optoelektronischen Bauteils kann die Oxidschicht unterschiedliche Bereiche aufweisen, in denen sie beispielsweise eine unterschiedliche Rauheit, von außen frei zugängliche und von außen nicht frei zugängliche Poren 220 aufweist, in denen bereichsweise ein Konversionsmaterial 202 und/oder ein Farbstoff 201 angeordnet ist. Diese Bereiche können zumindest teilweise durch die organische aktive Schicht 10 überdeckt sein.Along a lateral direction parallel to the main plane of extent of the organic optoelectronic component, the oxide layer may have different regions in which, for example, they have a different roughness, pores which are freely accessible from the outside and which are not freely accessible from the outside 220 in which partially a conversion material 202 and / or a dye 201 is arranged. These areas can at least partially pass through the organic active layer 10 be covered.

Die 4A zeigt eine schematische Schnittansicht eines ersten Ausführungsbeispiels eines hier beschriebenen organischen optoelektronischen Bauteils 1. Das organische optoelektronische Bauteil 1 weist einen Körper 20 auf. Der Körper 20 kann beispielsweise eine der in den 1A bis 1G beschriebenen Strukturen aufweisen. Insbesondere sind auch Kombinationen der beschriebenen Strukturen möglich. Weiter kann der Körper eine Oxidschicht 22 beziehungsweise eine weitere Oxidschicht 23 aufweisen, deren Poren 220 die in den 2A bis 2C beschriebene Struktur aufweisen kann.The 4A shows a schematic sectional view of a first embodiment of an organic optoelectronic device described here 1 , The organic optoelectronic component 1 has a body 20 on. The body 20 For example, one of the in the 1A to 1G have described structures. In particular, combinations of the described structures are possible. Next, the body can be an oxide layer 22 or a further oxide layer 23 have their pores 220 in the 2A to 2C may have described structure.

Auf der Oxidschicht 22 des Körpers 20 ist eine erste Elektrode 101 und eine zweite Elektrode 102 teilweise überlappend angeordnet. Die erste Elektrode 101 und die zweite Elektrode 102 sind mittels eines isolierenden Materials 105 voneinander elektrisch isoliert. Zwischen der ersten Elektrode 101 und der zweiten Elektrode 102 ist eine organische aktive Schicht 10 angeordnet.On the oxide layer 22 of the body 20 is a first electrode 101 and a second electrode 102 partially overlapping. The first electrode 101 and the second electrode 102 are by means of an insulating material 105 electrically isolated from each other. Between the first electrode 101 and the second electrode 102 is an organic active layer 10 arranged.

Im bestimmungsgemäßen Betrieb wird die organische aktive Schicht 10 über die erste Elektrode 101 und die zweite Elektrode 102 elektrisch leitend kontaktiert und bestromt. Die zweite Elektrode 102 ist transparent für in der organischen aktiven Schicht 10 erzeugte elektromagnetische Strahlung. Ein Teil der erzeugten elektromagnetischen Strahlung tritt im Betrieb durch die dem Körper abgewandte Seite des optoelektronischen Bauteils 1 direkt aus. Ein weiterer Teil der im organischen optoelektronischen Bauteil 1 erzeugten elektromagnetischen Strahlung trifft zunächst auf die erste Elektrode 101, welche beispielsweise reflektierend für die in der organischen aktiven Schicht 10 erzeugte elektromagnetische Strahlung sein kann. Beispielsweise kann die erste 101 und/oder die zweite 102 Elektrode bereichsweise auf der Oxidschicht angeordnet sein, sodass die Oberfläche der Oxidschicht teilweise sichtbar ist.In normal operation, the organic active layer 10 over the first electrode 101 and the second electrode 102 electrically conductive contacted and energized. The second electrode 102 is transparent to in the organic active layer 10 generated electromagnetic radiation. A portion of the generated electromagnetic radiation occurs during operation by the side facing away from the body of the optoelectronic device 1 straight from. Another part of the organic optoelectronic component 1 generated electromagnetic radiation first strikes the first electrode 101 which, for example, reflective to those in the organic active layer 10 generated electromagnetic radiation can be. For example, the first 101 and / or the second 102 electrode can be arranged in regions on the oxide layer, so that the surface of the oxide layer is partially visible.

Alternativ kann die erste Elektrode 101 transparent für die erzeugte elektromagnetische Strahlung sein, sodass der weitere Teil der Strahlung durch die erste Elektrode 101 auf die Oxidschicht 22 des Körpers 20 trifft. Die Rauheit der Oxidschicht, ein in den Poren 220 angeordneter Farbstoff 201 und/oder ein Konversionsmaterial 202 kann mit der elektromagnetischen Strahlung wechselwirken und so die Emissionseigenschaften des organischen optoelektronischen Bauteils 1 beeinflussen.Alternatively, the first electrode 101 be transparent to the generated electromagnetic radiation, so that the further part of the radiation through the first electrode 101 on the oxide layer 22 of the body 20 meets. The roughness of the oxide layer, one in the pores 220 arranged dye 201 and / or a conversion material 202 can interact with the electromagnetic radiation and so the emission properties of the organic optoelectronic device 1 influence.

Eine Verkapselung 100 überdeckt die erste Elektrode 101, die organische aktive Schicht 10, die zweite Elektrode 102 und die isolierenden Materialien 105 an ihrer dem Körper 20 abgewandten Seite. Die Verkapselung 100 ist beispielsweise mit einem Material gebildet, welches zumindest teilweise für die in der organischen aktiven Schicht 10 erzeugte elektromagnetische Strahlung transparent ist. Insbesondere sind die erste Elektrode 101 und die zweite Elektrode 102 von außen frei zugänglich, so dass die erste 101 und die zweite 102 Elektrode von außen elektrisch kontaktierbar sind.An encapsulation 100 covers the first electrode 101 , the organic active layer 10 , the second electrode 102 and the insulating materials 105 at her the body 20 opposite side. The encapsulation 100 is formed, for example, with a material which is at least partially soluble in the organic active layer 10 generated electromagnetic radiation is transparent. In particular, the first electrode 101 and the second electrode 102 freely accessible from outside, so that the first 101 and the second 102 electrodes are electrically contactable from the outside.

Beispielsweise handelt es sich vorliegend bei dem Körper 20 um die mechanisch tragende Komponente. Insbesondere ist der Körper 20 das Substrat, auf dem während der Herstellung des organischen optoelektronischen Bauteils 1 die genannten Strukturen nacheinander aufgebracht werden. Beispielsweise handelt es sich bei dem Körper 20 um ein mechanisch flexibles Substrat, welches biegbar ist. Insbesondere ist das organische optoelektronische Bauteil 1 ein flexibles Bauteil. For example, this is the body 20 around the mechanically bearing component. In particular, the body is 20 the substrate on which during the manufacture of the organic optoelectronic device 1 the said structures are applied one after the other. For example, it is the body 20 around a mechanically flexible substrate, which is bendable. In particular, the organic optoelectronic component 1 a flexible component.

Die 4B zeigt die Schnittansicht eines zweiten Ausführungsbeispiels eines organischen optoelektronischen Bauteils 1. Im Unterschied zu dem optoelektronischen Bauteil 1, welches in der 4A dargestellt ist, ist hier der Körper 20 nicht das Substrat, auf dem die weiteren Strukturen hergestellt sind. Das organische optoelektronische Bauteil 1 weist ein Substrat 40 auf. Das Substrat 40 ist für die im bestimmungsgemäßen Betrieb des organischen optoelektronischen Bauteils 1 emittierte elektromagnetische Strahlung transparent. Beispielsweise wird im Betrieb des organischen optoelektronischen Bauteils 1 elektromagnetische Strahlung durch das Substrat 40 emittiert. Das Substrat 40 ist beispielsweise eine mechanisch tragende Struktur, auf deren Hauptfläche die weiteren Strukturen des organischen optoelektronischen Bauteils 1 hergestellt sind.The 4B shows the sectional view of a second embodiment of an organic optoelectronic device 1 , In contrast to the optoelectronic component 1, which in the 4A is shown, here is the body 20 not the substrate on which the other structures are made. The organic optoelectronic component 1 has a substrate 40. The substrate 40 is for the normal operation of the organic optoelectronic device 1 emitted electromagnetic radiation transparent. For example, during operation of the organic optoelectronic device 1 emitted electromagnetic radiation through the substrate 40. The substrate 40 is, for example, a mechanically supporting structure, on whose main surface the further structures of the organic optoelectronic component 1 are made.

Auf einer Hauptfläche des Substrats 40 sind eine erste Elektrode 101 und eine zweite Elektrode 102 angeordnet. Die erste 101 und die zweite 102 Elektrode sind mittels eines isolierenden Materials 105 elektrisch voneinander isoliert. Zwischen der ersten Elektrode 101 und der zweiten Elektrode 102 ist eine organische aktive Schicht 10 angeordnet. Auf der dem Substrat abgewandten Seite der ersten Elektrode 101, der organischen aktiven Schicht 10, der zweiten Elektrode 102 und des isolierenden Materials 105 ist eine Verkapselung 100 angeordnet. Die Verkapselung 100 ist beispielsweise dazu eingerichtet, die organische aktive Schicht 10 vor Umwelteinflüssen, insbesondere Feuchtigkeit und Sauerstoff, zu schützen.On a main surface of the substrate 40 are a first electrode 101 and a second electrode 102 arranged. The first 101 and the second 102 electrodes are by means of an insulating material 105 electrically isolated from each other. Between the first electrode 101 and the second electrode 102 is an organic active layer 10 arranged. On the side facing away from the substrate of the first electrode 101 , the organic active layer 10 , the second electrode 102 and the insulating material 105 is an encapsulation 100 arranged. The encapsulation 100 For example, it is designed to be the organic active layer 10 to protect against environmental influences, especially moisture and oxygen.

Auf der dem Substrat 40 abgewandten Seite der Verkapselung 100 ist ein Körper 20 angeordnet. Aus Gründen der Übersichtlichkeit sind die Poren 220 der Oxidschicht 22 und die Trägerschicht 21 vorliegend nicht dargestellt. Beispielsweise überragt der Körper 20 die organische aktive Schicht 10 in lateralen Richtungen.On the side facing away from the substrate 40 of the encapsulation 100 is a body 20 arranged. For clarity, the pores are 220 the oxide layer 22 and the carrier layer 21 not shown here. For example, the body towers over 20 the organic active layer 10 in lateral directions.

Insbesondere können wie beispielsweise im Zusammenhang mit der 2A, 2C und 3 beschrieben unterschiedliche Farbstoffe 201 oder Konversionsmaterialien 202 entlang einer lateralen Richtung in den Poren 220 der Oxidschicht 22 des Körpers 20 angeordnet sein. Beispielsweise können so unterschiedliche Emissionsbereiche in einem organischen optoelektronischen Bauteil definiert werden. Solche Emissionsbereiche können sich beispielsweise durch die Farbe oder Intensität der emittierten elektromagnetischen Strahlung voneinander unterscheiden. Insbesondere kann mittels unterschiedlicher Konzentrationen der Farbstoffe in unterschiedlichen Emissionsbereichen 11, 12 eine unterschiedliche Helligkeit der Emissionsbereiche 11, 12 erzielt werden. Weiter unterscheiden sich die Emissionsbereiche 11, 12 beispielsweise durch ihre farbliche Erscheinung im ausgeschalteten Zustand.In particular, such as in connection with the 2A . 2C and 3 described different dyes 201 or conversion materials 202 along a lateral direction in the pores 220 the oxide layer 22 of the body 20 be arranged. For example, so different emission regions can be defined in an organic optoelectronic component. Such emission regions may differ, for example, from one another by the color or intensity of the emitted electromagnetic radiation. In particular, by means of different concentrations of the dyes in different emission ranges 11 . 12 a different brightness of the emission areas 11 . 12 be achieved. Furthermore, the emission ranges differ 11 . 12 for example, by their color appearance in the off state.

Insbesondere kann der Körper 20 auf seiner der Verkapselung 100 abgewandten Seite eine weitere Oxidschicht 23 aufweisen. Die weitere Oxidschicht kann wie in den 2A bis 2C beschrieben gestaltet sein. Beispielsweise können die Poren der weiteren Oxidschicht mit einem schwarzen Farbstoff befüllt sein. Insbesondere sind die Poren 220 der weiteren Oxidschicht 23 mit einem Material befüllt, welches eine höhere thermische Leitfähigkeit als das Material der weiteren Oxidschicht 23 aufweist. Insbesondere sind in die Poren 220 der weiteren Oxidschicht 23 andere Materialien angeordnet als in den Poren 220 der Oxidschicht 22.In particular, the body can 20 on its side facing away from the encapsulation 100 another oxide layer 23 exhibit. The further oxide layer can, as in the 2A to 2C be designed described. For example, the pores of the further oxide layer may be filled with a black dye. In particular, the pores 220 the further oxide layer 23 filled with a material having a higher thermal conductivity than the material of the further oxide layer 23 having. In particular, in the pores 220 the further oxide layer 23 other materials arranged than in the pores 220 the oxide layer 22 ,

Die Erfindung ist nicht durch die Beschreibung anhand der Ausführungsbeispiele auf diese beschränkt. Vielmehr umfasst die Erfindung jedes neue Merkmal sowie jede Kombination von Merkmalen, was insbesondere jede Kombination von Merkmalen in den Patentansprüchen beinhaltet, auch wenn dieses Merkmal oder diese Kombination selbst nicht explizit in den Patentansprüchen oder Ausführungsbeispielen angegeben ist.The invention is not limited by the description based on the embodiments of these. Rather, the invention encompasses any novel feature as well as any combination of features, including in particular any combination of features in the claims, even if this feature or combination itself is not explicitly stated in the patent claims or exemplary embodiments.

BezugszeichenlisteLIST OF REFERENCE NUMBERS

11
Organisches optoelektronisches BauteilOrganic opto-electronic component
1010
organische aktive Schichtorganic active layer
1111
erster Emissionsbereichfirst emission area
1212
zweiter Emissionsbereichsecond emission area
100100
Verkapselungencapsulation
101101
erste Elektrodefirst electrode
102102
zweite Elektrodesecond electrode
105105
isolierendes Materialinsulating material
2020
Körperbody
2121
Trägerschichtbacking
21a21a
erste Hauptflächefirst main area
21b21b
zweite Hauptflächesecond main surface
21c21c
Stirnflächeface
2222
Oxidschichtoxide
2323
weitere Oxidschichtfurther oxide layer
2525
Trägercarrier
220220
Porenpore
201201
Farbstoffdye
202202
Konversionsmaterialconversion material
2424
Adhäsionsschichtadhesion
300300
Strukturierungstructuring

Claims (19)

Organisches optoelektronisches Bauteil (1) mit - einer organischen aktiven Schicht (10), und - einem Körper (20), der mit der organischen aktiven Schicht (10) verbunden ist, wobei - der Körper (20) eine Trägerschicht (21) und eine Oxidschicht (22) umfasst, - die Oxidschicht (22) mit einem Oxid von wenigstens einem Metall gebildet ist, und - die Trägerschicht (21) und die Oxidschicht (22) miteinander verbunden sind.Organic optoelectronic component (1) with an organic active layer (10), and - A body (20) which is connected to the organic active layer (10), wherein the body (20) comprises a carrier layer (21) and an oxide layer (22), - The oxide layer (22) is formed with an oxide of at least one metal, and - The support layer (21) and the oxide layer (22) are interconnected. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß dem vorherigen Anspruch, bei dem die Oxidschicht (22) Poren (220) aufweist.An organic optoelectronic component (1) according to the preceding claim, wherein the oxide layer (22) has pores (220). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß dem vorherigen Anspruch, bei dem der Körper (20) das Substrat (40) des optoelektronischen Bauteils (1) ist.Organic optoelectronic component (1) according to the preceding claim, in which the body (20) is the substrate (40) of the optoelectronic component (1). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die Trägerschicht (21) eine erste Hauptfläche (21a) und eine zweite Hauptfläche (21b) aufweist, wobei die erste Hauptfläche (21a) von der Oxidschicht und die zweite Hauptfläche (21b) von einer weiteren Oxidschicht (23) bedeckt ist, und die Trägerschicht (21) die Oxidschicht (22) und die weitere Oxidschicht (23) monolithisch miteinander verbindet.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, wherein the carrier layer (21) has a first major surface (21a) and a second major surface (21b), the first major surface (21a) being covered by the oxide layer and the second major surface (21b) being covered by another oxide layer (23), and the carrier layer (21) monolithically connects the oxide layer (22) and the further oxide layer (23). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der Ansprüche 1 oder 2, bei dem zwischen der Trägerschicht (21) und der Oxidschicht (22) eine Adhäsionsschicht (23) angeordnet ist, wobei die Adhäsionsschicht (23) in direktem Kontakt mit der Trägerschicht (21) und der Oxidschicht (22) steht.Organic optoelectronic component (1) according to one of Claims 1 or 2 in which an adhesion layer (23) is arranged between the carrier layer (21) and the oxide layer (22), wherein the adhesion layer (23) is in direct contact with the carrier layer (21) and the oxide layer (22). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die Trägerschicht (21) mit einem Metall gebildet ist, und die Oxidschicht (22) und/oder die weitere Oxidschicht (23) mit dem Oxid des Metalls gebildet ist.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, wherein the carrier layer (21) is formed with a metal, and the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23) is formed with the oxide of the metal. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die Oxidschicht (22) und/oder die weitere Oxidschicht(23)eine Dicke von mindestens 2 µm aufweist und die Poren (220) eine Haupterstreckungsrichtung (P) aufweisen, die quer zur ersten (21a) und/oder zweiten (21b) Hauptfläche verläuft.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23) has a thickness of at least 2 μm and the pores (220) have a main extension direction (P) which is transverse to the first (21a) and / or second (21b). Main surface runs. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem zumindest in manchen der Poren (220) ein nicht-gasförmiges Material angeordnet ist, welches sich hinsichtlich der thermischen Eigenschaften von dem Material des die Poren (220) umgebenden Materials der Oxidschicht (22) und/oder der weiteren Oxidschicht (23) unterscheidet.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which at least in some of the pores (220) a non-gaseous material is arranged, which differs with respect to the thermal properties of the material of the pores (220) surrounding material of the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23) , Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem zumindest in manchen der Poren (220) ein Farbstoff (201) und/oder ein Konversionsmaterial (202) angeordnet ist. Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which at least in some of the pores (220) a dye (201) and / or a conversion material (202) is arranged. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem zumindest manche der Poren (220), die auf der der organischen aktiven Schicht (10) abgewandten Seite der Trägerschicht (21) angeordnet sind, mit einem schwarzen Farbstoff (221) befüllt sind.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which at least some of the pores (220) which are arranged on the side of the carrier layer (21) facing away from the organic active layer (10) are filled with a black dye (221) are. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der Ansprüche 8 bis 9, bei dem in den Poren (220) der Oxidschicht (22) andere Farbstoffe (221) und/oder Konversionsmaterialien (222) angeordnet sind als in den Poren (220) der weiteren Oxidschicht (23).Organic optoelectronic component (1) according to one of Claims 8 to 9 in which other dyes (221) and / or conversion materials (222) are arranged in the pores (220) of the oxide layer (22) than in the pores (220) of the further oxide layer (23). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem in einer lateralen Richtung die Poren (220) mit unterschiedlichen Farbstoffen (221) und/oder Konversionsmaterialien (222) gefüllt sind.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, wherein in a lateral direction the pores (220) are filled with different dyes (221) and / or conversion materials (222). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die Oxidschicht (22) und/oder die weitere Oxidschicht (23) auf ihrer von der Trägerschicht abgewandten Seite zumindest stellenweise frei von Poren ist.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23) is at least locally free of pores on its side remote from the carrier layer. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem in lateraler Richtung die Dicke der Oxidschicht (22) und/oder der weiteren Oxidschicht (23), gemessen senkrecht zur lateralen Ebene, variiert.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the thickness of the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23), measured perpendicular to the lateral plane, varies in the lateral direction. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem in lateraler Richtung die Rauigkeit (R) der Oxidschicht (22) und/oder der weiteren Oxidschicht (23) variiert.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the roughness (R) of the oxide layer (22) and / or the further oxide layer (23) varies in the lateral direction. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem der Körper (20) die organische aktive Schicht (10) in lateralen Richtungen überragt.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the body (20) projects beyond the organic active layer (10) in lateral directions. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem die Trägerschicht (21) an ihrer ersten (21a) und/oder zweiten (21b) Hauptfläche laserstrukturiert ist.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which the carrier layer (21) is laser-structured on its first (21a) and / or second (21b) main surface. Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem im Betrieb emittiertes Licht auf die Oxidschicht (22) trifft und von den Farbstoffen (221) und/oder Konversionsmaterialien (222) beeinflusst wird.An organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, wherein light emitted during operation strikes the oxide layer (22) and is influenced by the dyes (221) and / or conversion materials (222). Organisches optoelektronisches Bauteil (1) gemäß einem der vorherigen Ansprüche, bei dem in dem Bereich, in dem der Körper mit der organischen aktiven Schicht (10) verbunden ist, die Oxidschicht (22) von außen sichtbar ist.Organic optoelectronic component (1) according to one of the preceding claims, in which, in the region in which the body is connected to the organic active layer (10), the oxide layer (22) is visible from outside.
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