DE102016104839B4 - Layout review system and procedures - Google Patents
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Abstract
Verfahren (300) zum Layoutüberprüfen, umfassend:
Zuordnen (S341) mehrerer Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) von Verbindungsschichten (M1, M2, M3) anzeigen, zu einer Schaltung (200), um Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) der Schaltung (200) zu bestimmen, wobei
eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die erste Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem ersten Anschluss, wobei der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, und
eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem zweiten Anschluss, wobei der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist,
Extrahieren (S342) mehrerer Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus einem Layoutentwurf (240, 520) für die Schaltung (200),
Vergleichen (S343) der Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) mit den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), und
Generieren von Daten, die den Layoutentwurf (240, 520) anzeigen, zum Fertigen der Schaltung (200) bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) entsprechen.
Method (300) for checking layout, comprising:
Assigning (S341) a plurality of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) indicating layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) of interconnect layers (M1, M2, M3) to a circuit (200) in order to determine layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) of the circuit (200), wherein
a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a first predetermined sequence and within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the first terminal, wherein the first terminal is a terminal of the first element (M1), and
a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a second predetermined sequence and within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the second terminal, wherein the second terminal is a terminal of the second element (M2),
Extracting (S342) a plurality of layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from a layout design (240, 520) for the circuit (200),
Comparing (S343) the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) with the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), and
Generating data indicative of the layout design (240, 520) for manufacturing the circuit (200) under a condition that the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) conform to the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102).
Description
HINTERGRUNDBACKGROUND
In Halbleiterfertigungsprozessen wird zuweilen eine einzelne Schicht mithilfe von Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildet, um eine räumliche Auflösung der Schicht zu erhöhen. Jede der Mehrfach-Layout-Strukturen wird verschiedenen Gruppen zugeordnet. Eine solche Zuordnung wird von einem Schaltungsentwickler oder einem Layoutentwickler zum Beispiel durch Ausführen eines Softwareprogramms vorgenommen.In semiconductor manufacturing processes, a single layer is sometimes formed using multiple layout structures to increase the spatial resolution of the layer. Each of the multiple layout structures is assigned to different groups. This assignment is performed by a circuit designer or layout designer, for example, by executing a software program.
In der
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
Aspekte der vorliegenden Offenbarung werden am besten aus der nachstehenden ausführlichen Beschreibung verstanden, wenn sie zusammen mit den begleitenden Zeichnungen gelesen wird. Es ist zu beachten, dass gemäß dem Standardverfahren in der Branche verschiedene Merkmale nicht maßstabsgetreu gezeichnet sind. Vielmehr können die Abmessungen der verschiedenen Merkmale zur Klarheit der Erörterung beliebig vergrößert oder verkleinert sein.
-
1 ist ein schematisches Diagramm eines Entwurfssystems gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
2A ist ein schematisches Diagramm einer Schaltung gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
2B zeigt eine vorgegebene Beschreibung in einer Netzlistendatei, die die Schaltung in2A anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
2C ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf zeigt, der der Schaltung in2A entspricht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
3 ist ein Ablaufdiagramm eines Entwurfsverfahrens, das das Entwurfssystem in1 verwendet, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
4 ist ein Ablaufdiagramm einer Operation des Verfahrens in3 gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
5A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
5B ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf, der der Schaltung in2A entspricht, und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
6A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
6B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
7A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
7B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
8A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
8B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in2C , in5 und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
9A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß weiteren alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
9B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
10A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
10B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
11A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in2A umfasst, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; -
11B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; und -
12 zeigt ein schematisches Diagramm, das eine vorgegebene Beschreibung anzeigt, welche die Schaltung in2A und die Layout-Einschränkungen in einer Netzlistendatei anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.
-
1 is a schematic diagram of a design system according to various embodiments of the present disclosure; -
2A is a schematic diagram of a circuit according to various embodiments of the present disclosure; -
2B shows a predefined description in a netlist file that describes the circuit in2A indicates, according to some embodiments of the present disclosure; -
2C is a schematic diagram showing a layout design that corresponds to the circuit in2A corresponds, according to various embodiments of the present disclosure; -
3 is a flowchart of a design process that describes the design system in1 used according to various embodiments of the present disclosure; -
4 is a flowchart of an operation of the method in3 according to various embodiments of the present disclosure; -
5A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to various embodiments of the present disclosure; -
5B is a schematic diagram that shows a layout design that corresponds to the circuit in2A and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure; -
6A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to various embodiments of the present disclosure; -
6B is a schematic diagram showing the layout design in5B and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure; -
7A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to alternative embodiments of the present disclosure; -
7B is a schematic diagram showing the layout design in5B and shows layout structures of the layout design, according to alternative embodiments of the present disclosure; -
8A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to some other embodiments of the present disclosure; -
8B is a schematic diagram showing the layout design in2C , in5 and shows layout structures of the layout design, according to some other embodiments of the present disclosure; -
9A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to further alternative embodiments of the present disclosure; -
9B is a schematic diagram showing the layout design in5B and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure; -
10A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to further various embodiments of the present disclosure; -
10B is a schematic diagram showing the layout design in5B and shows layout structures of the layout design, according to further various embodiments of the present disclosure; -
11A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in2A includes, according to other various embodiments of the present disclosure; -
11B is a schematic diagram showing the layout design in5B and layout structures of the layout design, according to other various embodiments of the present disclosure; and -
12 shows a schematic diagram that displays a given description that illustrates the circuit in2A and displays the layout constraints in a netlist file, according to some embodiments of the present disclosure.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION
Die nachstehende Offenbarung stellt viele verschiedene Ausführungsformen, oder Beispiele, zum Implementieren verschiedener Merkmale des vorliegenden Gegenstands bereit. Konkrete Beispiele von Komponenten und Anordnungen sind nachstehend beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind selbstverständlich lediglich Beispiele und sind nicht im beschränkenden Sinne gedacht. Zum Beispiel kann das Ausbilden eines ersten Merkmals über oder auf einem zweiten Merkmal in der nachstehenden Beschreibung Ausführungsformen umfassen, in denen das erste und das zweite Merkmal in direktem Kontakt ausgebildet werden, und kann ebenfalls Ausführungsformen umfassen, in denen zusätzliche Merkmale zwischen dem ersten und dem zweiten Merkmal ausgebildet werden können, so dass das erste und das zweite Merkmal möglicherweise nicht in direktem Kontakt stehen. Außerdem kann die vorliegende Offenbarung Bezugsnummern und/oder -buchstaben in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung geschieht zum Zweck der Einfachheit und Klarheit und sie schreibt an sich keine Beziehung zwischen den verschiedenen besprochenen Ausführungsformen und/oder Ausgestaltungen vor.The following disclosure provides many different embodiments, or examples, for implementing various features of the present subject matter. Specific examples of components and arrangements are described below to simplify the present disclosure. These are, of course, merely examples and are not intended to be limiting. For example, in the following description, forming a first feature over or on top of a second feature may include embodiments in which the first and second features are formed in direct contact, and may also include embodiments in which additional features may be formed between the first and second features such that the first and second features may not be in direct contact. Furthermore, the present disclosure may repeat reference numbers and/or letters in the various examples. This repetition is for the purpose of simplicity and clarity and does not, in and of itself, prescribe any relationship between the various embodiments and/or configurations discussed.
Die in dieser Beschreibung verwendeten Begriffe weisen im Allgemeinen ihre normale Bedeutungen in der Technik und in dem konkreten Kontext, in dem jeder Begriff verwendet wird, auf. Die Verwendung von Beispielen in dieser Beschreibung, einschließlich von Beispielen beliebiger hier besprochener Begriffe, ist lediglich veranschaulichend und beschränkt keinesfalls den Umfang und die Bedeutung der Offenbarung oder eines als Beispiel erläuterten Begriffs. Gleichermaßen ist die vorliegende Offenbarung nicht auf verschiedene, in dieser Beschreibung angegebene Ausführungsformen beschränkt.The terms used in this specification generally have their ordinary meanings in the art and in the specific context in which each term is used. The use of examples in this specification, including examples of any terms discussed herein, is merely illustrative and in no way limits the scope and meaning of the disclosure or any term explained as an example. Likewise, the present disclosure is not limited to the various embodiments set forth in this specification.
Obwohl die Begriffe „erster“, „zweiter“ usw. hier verwendet werden können, um verschiedene Elemente zu beschreiben, sollten diese Elemente nicht durch diese Begriffe beschränkt sein. Diese Begriffe werden verwendet, um ein Element von einem anderen zu unterscheiden. Zum Beispiel könnte ein erstes Element als ein zweites Element bezeichnet werden, und gleichermaßen könnte ein zweites Element als ein erstes Element bezeichnet werden, ohne vom Umfang der Ausführungsformen abzuweichen. Wie hier verwendet, umfasst der Begriff „und/oder“ eine beliebige und alle Kombinationen von einem oder mehreren der zugehörigen aufgelisteten Elementen.Although the terms "first," "second," etc., may be used herein to describe various elements, these elements should not be limited by these terms. These terms are used to distinguish one element from another. For example, a first element could be referred to as a second element, and likewise, a second element could be referred to as a first element, without departing from the scope of the embodiments. As used herein, the term "and/or" includes any and all combinations of one or more of the associated listed elements.
Wie in
Der Speicher 120 speichert einen oder mehrere Programmcodes zum Unterstützen der Entwicklung von integrierten Schaltungen. Zur Veranschaulichung speichert der Speicher 120 einen Programmcode, der mit einem Satz von Befehlen zum Überprüfen von Layout-Strukturen der integrierten Schaltungen codiert ist. Der Prozessor 110 ist in der Lage, die in dem Speicher 120 gespeicherten Programmcodes auszuführen, und die Operationen des Layout-Überprüfens können automatisch durchgeführt werden.Memory 120 stores one or more program codes to support the development of integrated circuits. For illustration, memory 120 stores program code encoded with a set of instructions for verifying layout structures of the integrated circuits. Processor 110 is capable of executing the program codes stored in memory 120, and the layout verification operations can be performed automatically.
In einigen Ausführungsformen ist der Speicher 120 ein nichtflüchtiges, computerlesbares Speichermedium, das mit einem Satz von ausführbaren Befehlen zum Überprüfen von Layout-Strukturen codiert ist, d.h. sie speichert. Zur Veranschaulichung speichert der Speicher 120 ausführbare Befehle zum Durchführen von Operationen, die zum Beispiel Operation S340, die in
Die I/O-Schnittstellen 130 empfangen Eingaben oder Befehle von verschiedenen Steuervorrichtungen, die zum Beispiel durch einen Schaltungsentwickler und/oder einen Layoutentwickler bedient werden. Dementsprechend kann das Entwurfssystem 100 mit Eingaben oder Befehlen, die über die I/O-Schnittstellen 130 empfangen werden, beeinflusst werden. In einigen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 ein Display, das zum Anzeigen des Ausführungsstatus des Programmcodes ausgelegt ist. In einigen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 eine grafische Benutzeroberfläche (GUI). In einigen anderen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 eine Tastatur, ein Tastenfeld, eine Maus, einen Trackball, ein Trackpad, einen Berührungsbildschirm, Cursor-Richtungstasten oder die Kombination davon, um Informationen und Befehle an den Prozessor 110 zu kommunizieren.The I/O interfaces 130 receive inputs or commands from various control devices operated, for example, by a circuit designer and/or a layout designer. Accordingly, the design system 100 can be influenced by inputs or commands received via the I/O interfaces 130. In some embodiments, the I/O interfaces 130 include a display configured to indicate the execution status of the program code. In some embodiments, the I/O interfaces 130 include a graphical user interface (GUI). In some other embodiments, the I/O interfaces 130 include a keyboard, keypad, mouse, trackball, trackpad, touchscreen, cursor direction keys, or a combination thereof to communicate information and commands to the processor 110.
Die Schaltung 200 umfasst einen Schalter M1 und einen Schalter M2. Zum Beispiel werden in einigen Ausführungsformen der Schalter M1 und Schalter M2 mit N-Typ-Metall-Oxid-Silizium-Feldeffekttransistoren (MOSFETs) implementiert. Der Schalter M1 umfasst vier Anschlüsse, die als ein Gate (als G1 gekennzeichnet), ein Drain (als D gekennzeichnet), eine Source (als S1 gekennzeichnet), und ein Bulk (als B1 gekennzeichnet) definiert sind. Gleichermaßen umfasst der Schalter M2 vier Anschlüsse, die als ein Gate (als G2 gekennzeichnet), ein Drain (als D gekennzeichnet), eine Source (als S2 gekennzeichnet), und ein Bulk (als B2 gekennzeichnet) definiert sind. Wie zur Veranschaulichung in
Nun wird Bezug sowohl auf
Wie zur Veranschaulichung in
Die Schaltung 200 in
Nun wird Bezug auf
In einigen Ausführungsformen umfasst der Layoutentwurf 240 Mehrfach-Layout-Strukturen, die Halbleiterschichten oder Metallschichten bei einer Fertigung entsprechen. Zur Veranschaulichung umfassen, wie in
In einigen Ausführungsformen werden die Verbindungsschichten 240E mit einer oder mehreren Metallschichten ausgebildet. Zur Veranschaulichung umfassen die Verbindungsschichten 240E eine Metallschicht Metall-1 und eine Metallschicht Metall-2. Jede von der Metallschicht Metall-1 und der Metallschicht Metall-2 wird mit mehreren Gruppen von Schichtstrukturen ausgebildet. Zur Veranschaulichung sind in
In einigen Anwendungen wird der Layoutentwurf 240 unter Einhaltung einiger Entwurfsregeln entworfen. Zum Beispiel ist ein Mindestabstand zwischen zwei Leitungen, die mit derselben Gruppe der Metallschicht ausgebildet werden, begrenzt. Um die Fläche der Schaltung 200 in
In verschiedenen Ausführungsformen empfängt mindestens eine der I/O-Schnittstellen 130 in
Die Anordnungen der Layout-Strukturen in
In einigen Ausführungsformen ist zumindest eine Gruppe der Layout-Strukturen mindestens einem der Anschlüsse der Schaltung 200 in
Die vorstehend erwähnten Definitionen und/oder Anordnungen der Anschlüsse der Schaltung sind lediglich zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Definitionen und/oder Anordnungen der Anschlüsse der Schaltung liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The above-mentioned definitions and/or arrangements of the circuit terminals are provided for illustrative purposes only. Various definitions and/or arrangements of the circuit terminals are within the scope of the present disclosure.
Nun wird Bezug auf
Das Entwurfsverfahren 300 umfasst Operationen S310 bis S360. In Operation S310 werden die Netzlistendatei und die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in das Entwurfssystem eingegeben. Zur Veranschaulichung werden die Netzlistendatei 220 in
In einigen Ausführungsformen wird die Schaltung 200 in der Netzlistendatei 220 durch verschiedene Schaltungssimulationswerkzeuge, die in dem Entwurfssystem 100 verfügbar sind, beschrieben. In verschiedenen Ausführungsformen wird eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 umfasst, durch verschiedene Schaltungssimulationswerkzeuge und/oder EDA-Werkzeuge (Werkzeuge der Entwurfsautomatisierung elektronischer Systeme), die in dem Entwurfssystem 100 zu Verfügung stehen, bestimmt. Zur Veranschaulichung werden die Layout-Einschränkungen in einer vorgegebenen Beschreibung definiert, die zum Beispiel 500 in
In Operation S320 wird der Layoutentwurf, der der Schaltung entspricht, bestimmt und in das Entwurfssystem eingegeben. Zur Veranschaulichung wird der Layoutentwurf 240 in
In Operation S330 bestimmt das Entwurfssystem, ob eine LCS-Verifizierung (Layout versus Schematic) bestanden wurde. Zur Veranschaulichung führt das Entwurfssystem 100 in
In einigen Ausführungsformen umfasst die LVS-Verifizierung folgende Operationen. Das Entwurfssystem 100 extrahiert die Verbindungen der Schaltung 200 aus der Netzlistendatei 220 und extrahiert die Mehrfach-Layout-Strukturen aus dem Layoutentwurf 240. Das Entwurfssystem 100 bestimmt dann, ob die Schaltung, die gemäß den Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildet wurde, mit den Verbindungen der Schaltung 200 übereinstimmt. Wenn die gemäß den Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildete Schaltung mit den Verbindungen der Schaltung 200 übereinstimmt, bestimmt der Prozessor 110, dass die LVS-Verifizierung bestanden wurde. Ansonsten bestimmt der Prozessor 110, dass die LVS-Verifizierung nicht bestanden wurde.In some embodiments, LVS verification includes the following operations. The design system 100 extracts the interconnections of circuit 200 from the netlist file 220 and extracts the multiple layout structures from the layout design 240. The design system 100 then determines whether the circuit formed according to the multiple layout structures matches the interconnections of circuit 200. If the circuit formed according to the multiple layout structures matches the interconnections of circuit 200, the processor 110 determines that the LVS verification passed. Otherwise, the processor 110 determines that the LVS verification failed.
Wenn die LVS-Verifizierung bestanden wurde, bestimmt der Prozessor bei Operation S340, ob die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen. Wenn ja, wird Operation S340 durchgeführt. Ansonsten wird Operation S350 durchgeführt. Zur Veranschaulichung führt der Prozessor 110 in
Wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen nicht den Layout-Einschränkungen entsprechen, wird in Operation S350 der Layoutentwurf, der der Schaltung entspricht, revidiert, um die LVS-Verifizierung in Operation S330 zu bestehen und/oder den Layout-Einschränkungen in Operation S340 zu entsprechen. Nachdem Operation S350 durchgeführt wurde, kehrt der Prozessor 110 zum Durchführen der Operation S320 zurück. Wenn zur Veranschaulichung die Layout-Strukturen, die aus dem Layoutentwurf 240 in
Wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, führt das Entwurfssystem in Operation S360 eine „RC-Extraktion“ (RCE) durch, um die Schaltung mit parasitären Effekten zu analysieren. Nachdem zur Veranschaulichung die Layout-Einschränkungen erfüllt wurden, ist das Entwurfssystem 100 in
In einigen Ausführungsformen umfasst die RCE folgende Operationen. Das Entwurfssystem 100 extrahiert parasitäre Komponenten der Schaltung 200 aus den Mehrfach-Layout-Strukturen. Das Entwurfssystem 100 führt dann Schaltungssimulationen und eine Analyse gemäß der Netzlistendatei 220 und den parasitären Komponenten durch. In einigen Ausführungsformen extrahiert das EDA-Werkzeug die parasitären Komponenten, die zum Beispiel Kapazitäten, Widerstände und Induktivitäten umfassen, innerhalb von Schichten des Layoutentwurfs 240. Dementsprechend kann mindestens ein parasitärer Effekt in der Schaltung 200 berechnet werden.In some embodiments, RCE includes the following operations. The design system 100 extracts parasitic components of the circuit 200 from the multiple layout structures. The design system 100 then performs circuit simulations and analysis according to the netlist file 220 and the parasitic components. In some embodiments, the EDA tool extracts the parasitic components, including, for example, capacitances, resistances, and inductances, within layers of the layout design 240. Accordingly, at least one parasitic effect in the circuit 200 can be calculated.
Nachdem Operation S2340 durchgeführt wurde und wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, generiert der Prozessor 110 in einigen Ausführungsformen Daten, die den Layoutentwurf 240 in
Ein Fachmann wird erkennen, dass eine Reihenfolge von Operationen im Verfahren 300 anpassbar ist. Ein Fachmann wird ferner erkennen, dass zusätzliche Operationen im Entwurfsverfahren 300 aufgenommen werden können, ohne vom Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.One skilled in the art will recognize that an order of operations in method 300 is adaptable. One skilled in the art will further recognize that additional operations may be included in design method 300 without departing from the scope of the present disclosure.
Zur Erleichterung des Verständnisses wird nachstehend als ein Beispiel das Entwurfsverfahren 300 unter Bezugnahme auf
Zur Veranschaulichung werden nachstehende Ausführungsformen mit den Metallschichten Metall-1, Metall-2 und Metall-3 beschrieben, aber die vorliegende Offenbarung ist diesbezüglich nicht beschränkt. Die Anzahl und Ausgestaltung der Verbindungsschichten und der Gruppen in nachstehenden Ausführungsformen werden zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Anzahlen und Ausgestaltungen der Verbindungsschichten und der Gruppen in nachstehenden Ausführungsformen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.For illustrative purposes, the following embodiments are described with the metal layers Metal-1, Metal-2, and Metal-3, but the present disclosure is not limited in this regard. The number and configuration of the interconnect layers and groups in the following embodiments are provided for illustrative purposes. Various numbers and configurations of the interconnect layers and groups in the following embodiments are within the scope of the present disclosure.
Die Operation S340 umfasst Teiloperationen S341 bis S343. In Teiloperation S341 werden die Layout-Einschränkungen durch die vorgegebene Beschreibung bestimmt. Zur Veranschaulichung liegen in einigen Ausführungsformen die Inhalte der vorgegebenen Beschreibung 500 in
Wie in
Der Codierabschnitt 502 ist konfiguriert, um in einer vorgegebenen Sequenz die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen. Mit anderen Worten spezifiziert der Codierabschnitt 502 die Layout-Einschränkungen für den Anschluss D des Schalters M2. Zur Veranschaulichung spezifiziert der Codierabschnitt 502, dass der Anschluss D des Schalters M2 sequenziell mit der Gruppe M1_B und der Gruppe M2_B gekoppelt wird. Bei derartigen Einschränkungen wird erwartet, dass der Anschluss D des Schalters M2 mit der Gruppe M1_B gekoppelt wird, und mit der Gruppe M2_B durch die Gruppe M1_B gekoppelt wird.The coding section 502 is configured to assign the link layer groups to the port D of the switch M2 in a predetermined sequence. In other words, the coding section 502 specifies the layout constraints for the port D of the switch M2. For illustration, the coding section 502 specifies that the port D of the switch M2 is sequentially coupled to the group M1_B and the group M2_B. With such constraints, the port D of the switch M2 is expected to be coupled to the group M1_B and to the group M2_B through the group M1_B.
Unter weiterer Bezugnahme auf
In einigen Ausführungsformen umfassen die Layout-Strukturen 540 die Verbindungsschichten, die zwischen den Schaltern M1 und M2 in dem Layoutentwurf 520 gekoppelt werden. Zur Veranschaulichung extrahiert, wie in
Außerdem vergleicht der Prozessor 110 den Abschnitt 541 in
Der Prozessor 110 vergleicht außerdem den Abschnitt 542 in
Nun wird Bezug auf
In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um die Verbindungsschichten jeweils dem Anschluss D des Schalters M1 bzw. dem Anschluss D des Schalters M2 gemäß der numerischen Reihenfolge der Verbindungsschichten zuzuordnen. Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Zu Veranschaulichung werden in
Außerdem extrahiert in einigen Ausführungsformen der Prozessor 110 die Layout-Strukturen 640 aus dem Layoutentwurf 520 in aufsteigender nummerischer Reihenfolge. Zum Beispiel extrahiert der Prozessor 110 Metall-1, dann Metall-2, dann Metall-3 und so weiter. Zur Veranschaulichung bestimmt, wie in
Der Prozessor 110 generiert außerdem einen Abschnitt 642 der Layout-Strukturen 640 durch Extrahieren der Gruppen der Verbindungsschichten, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M3_A verbunden sind, in aufsteigender nummerischer Reihenfolge. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 601 und 602 in
Zur Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 601 auf die Gruppe M1_A die Gruppe M2_B. Im Abschnitt 641 folgt auf die Gruppe M1_A ebenfalls die Gruppe M2_B über die Gruppe M1_B. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 641 der Layout-Strukturen 640 für den Schalter M1 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 641 jener der Gruppen im Codierabschnitt 601 gleich ist.To illustrate, in coding section 601, group M1_A is followed by group M2_B. In section 641, group M1_A is also followed by group M2_B via group M1_B. Accordingly, processor 110 determines that section 641 of layout structures 640 for switch M1 satisfies the layout constraints because the sequence of groups in section 641 is the same as that of the groups in coding section 601.
Zur weiteren Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 602 auf die Gruppe M1_B die Gruppe M2_B. Im Abschnitt 641 folgt auf die Gruppe M1_A ebenfalls die Gruppe M2_B. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 641 der Layout-Strukturen 640 für den Schalter M1 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 641 jener der Gruppen im Codierabschnitt 601 gleich ist.For further illustration, in coding section 602, group M1_B is followed by group M2_B. In section 641, group M1_A is also followed by group M2_B. Accordingly, processor 110 determines that section 641 of layout structures 640 for switch M1 satisfies the layout constraints because the sequence of groups in section 641 is the same as that of the groups in coding section 601.
Nun wird Bezug auf
Im Vergleich mit
Zu Veranschaulichung werden in
Die vorgegebenen Sequenzen, die die aufsteigende numerische Reihenfolge und/oder die absteigende numerische Reihenfolge umfassen, werden lediglich zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Arten von Reihenfolgen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The predetermined sequences, including ascending numerical order and/or descending numerical order, are provided for illustrative purposes only. Various types of orders are within the scope of the present disclosure.
Nun wird Bezug auf
In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 860, wie in
Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Der Codierabschnitt 802 spezifiziert unter Verwendung des Parameters „ungefähr 0,1 um“, dass die Gruppe M1_B der Metallschicht Metall-1 dem Anschluss D des Schalters M2 innerhalb des Gebiets 861 zugeordnet wird. Demzufolge wird spezifiziert, dass die Fläche des Gebiets 861 ungefähr 0,1*0,1 um2 beträgt. In einigen Ausführungsformen ist die mittige Position des Gebiets 861 auf einen Kreuzungspunkt des Gategebiets 240D und des Oxiddefinitionsgebiets 240B des Schalters M2 eingestellt.The coding section 802 specifies, using the parameter "approximately 0.1 μm," that the group M1_B of the metal layer Metal-1 is assigned to the terminal D of the switch M2 within the region 861. Accordingly, the area of the region 861 is specified to be approximately 0.1*0.1 μm 2 . In some embodiments, the central position of the region 861 is set to an intersection point of the gate region 240D and the oxide definition region 240B of the switch M2.
Im Vergleich mit
Nun wird Bezug auf
Im Vergleich mit
Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Außerdem extrahiert der Prozessor 110 sequenziell die Layout-Strukturen innerhalb der Gebiete 960 und 961. Zur Veranschaulichung extrahiert, wie in
Nun wird Bezug auf
Im Vergleich mit
Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Außerdem bestimmt der Prozessor 110 die oberen Gruppen der Verbindungsschichten jeweils innerhalb des Gebiets 1060 bzw. 1061. Zur Veranschaulichung ist in
Der Prozessor 110 generiert außerdem einen Abschnitt 1042 der Layout-Strukturen 1040 durch Extrahieren der Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M2_B verbunden sind. Der Prozessor 110 sortiert dann die Gruppen in den Layout-Strukturen in aufsteigender nummerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 1042 dargestellt. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 1001 und 1002 in
Nun wird Bezug auf
In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 1160, wie in
Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Dann bestimmt der Prozessor 110 die obere Gruppe der Verbindungsschichten jeweils innerhalb des Gebiets 1160 bzw. 1161. Zur Veranschaulichung ist in
Gleichermaßen generiert der Prozessor 110 einen Abschnitt 1142 der Layout-Strukturen 1040 durch Extrahieren der Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M2_B verbunden sind. Der Prozessor 110 sortiert dann die Gruppen in den Layout-Strukturen in absteigender numerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 1142 dargestellt. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 1101 und 1102 in
Die Anordnungen der Layout-Einschränkungen, die in
Nun wird Bezug auf
In einigen Ausführungsformen werden die vorgegebenen Beschreibungen 500 bis 1100, wie vorstehend dargestellt, in einer unabhängigen Datei beschrieben. Die unabhängige Datei wird in das Entwurfssystem 100 eingegeben, um die Layout-Einschränkungen zu extrahieren. Alternativ sind in einigen anderen Ausführungsformen die vorgegebenen Beschreibungen 500 bis 1100, wie vorstehend dargestellt, in der Netzlistendatei, die eine Beschreibung der Schaltung 200 umfasst, beschrieben.In some embodiments, the predetermined descriptions 500 to 1100, as illustrated above, are described in an independent file. The independent file is input into the design system 100 to extract the layout constraints. Alternatively, in some other embodiments, the predetermined descriptions 500 to 1100, as illustrated above, are described in the netlist file that includes a description of the circuit 200.
Zur Veranschaulichung umfasst, wie in
Die Anordnung der Layout-Einschränkungen in
In verschiedenen Ausführungsformen können das Verfahren 300 und die Operation S340 davon auf verschiedene Layout-Strukturen und/oder Schichten, einschließlich von zum Beispiel Back-End-of-Line (BEOL), Middle-End-of-Line (MEOL) und/oder Front-End-of-Line (FEOL), angewendet werden.In various embodiments, the method 300 and operation S340 thereof may be applied to various layout structures and/or layers, including, for example, back-end-of-line (BEOL), middle-end-of-line (MEOL), and/or front-end-of-line (FEOL).
Zur Erleichterung des Verständnisses sind die vorstehenden Ausführungsformen mit einer Anwendung zum Fertigen von zwei Schaltern angegeben. Die vorstehenden Ausführungsformen können angewendet werden, um einen einzelnen Schalter oder zwei oder mehr Schalter zu fertigen. Zu Veranschaulichungszwecken werden die vorstehenden Ausführungsformen als eine Implementierung der Schalter beschrieben. Die vorliegende Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. Verschiedene Elemente können gemäß den vorstehenden Ausführungsformen implementiert werden und bilden daher den Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung.For ease of understanding, the above embodiments are provided with an application for manufacturing two switches. The above embodiments can be applied to manufacture a single switch or two or more switches. For illustrative purposes, the above embodiments are described as one implementation of the switches. The present disclosure is not so limited. Various elements can be implemented according to the above embodiments and therefore form the scope of the present disclosure.
In diesem Dokument kann der Begriff „gekoppelt“ ebenfalls als „elektrisch gekoppelt“ bezeichnet werden, und der Begriff „verbunden“ kann als „elektrisch verbunden“ bezeichnet werden. „Gekoppelt“ und „verbunden“ können außerdem verwendet werden, um anzuzeigen, dass zwei oder mehr Elemente miteinander zusammenwirken oder interagieren.Throughout this document, the term "coupled" may also be referred to as "electrically coupled," and the term "connected" may be referred to as "electrically connected." "Coupled" and "connected" may also be used to indicate that two or more elements cooperate or interact with each other.
In einigen Ausführungsformen umfasst ein Verfahren zum Layoutüberprüfen die nachstehende Operation. Gruppen, die Layout-Strukturen von Verbindungsschichten anzeigen, werden einer Schaltung zugeordnet, um Layout-Einschränkungen der Schaltung zu bestimmen. Eine erste Gruppe von den Gruppen wird einem ersten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Eine zweite Gruppe von den Gruppen wird einem zweiten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Das Zuordnen der Gruppen umfasst ein Zuordnen von mindestens einer, die erste Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen zu dem ersten Anschluss in einer ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets eines ersten Elements in der Schaltung, und ein Zuordnen von mindestens einer, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen zu dem zweiten Anschluss in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets eines zweiten Elements in der Schaltung. Der erste Anschluss ist ein Anschluss des ersten Elements, und der zweite Anschluss ist ein Anschluss des zweiten Elements. Layout-Strukturen werden aus einem Layoutentwurf für die Schaltung extrahiert. Die Layout-Strukturen werden mit den Layout-Einschränkungen verglichen. Daten zum Fertigen der Schaltung, die den Layoutentwurf anzeigen, werden bei einer Bedingung generiert, dass die Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen.In some embodiments, a method for checking layout includes the following Operation. Groups indicating layout structures of interconnect layers are assigned to a circuit to determine layout constraints of the circuit. A first group of the groups is assigned to a first terminal in the circuit. A second group of the groups is assigned to a second terminal in the circuit. Assigning the groups includes assigning at least one of the groups comprising the first group to the first terminal in a first predetermined sequence and within a first region of a first element in the circuit, and assigning at least one of the groups comprising the second group to the second terminal in a second predetermined sequence and within a second region of a second element in the circuit. The first terminal is a terminal of the first element, and the second terminal is a terminal of the second element. Layout structures are extracted from a layout design for the circuit. The layout structures are compared with the layout constraints. Data for fabricating the circuit indicating the layout design is generated under a condition that the layout structures satisfy the layout constraints.
Außerdem wird ein System zum Layoutüberprüfen offenbart, das einen Speicher und einen Prozessor umfasst. Der Speicher ist zum Speichern von Computerprogrammcodes konfiguriert. Der Prozessor ist derart konfiguriert, dass er die Computerprogrammcodes in dem Speicher ausführt, um Layout-Strukturen aus einem Layoutentwurf für eine Schaltung zu extrahieren, um Layout-Einschränkungen für die Schaltung, die mit den Layout-Strukturen zu vergleichen sind, zu extrahieren, und um Daten, die den Layoutentwurf anzeigen, zum Fertigen der Schaltung bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, zu generieren. Die Layout-Einschränkungen sind konfiguriert, um in einer ersten vorgegebenen Sequenz mehrere Gruppen, die Layout-Strukturen von Verbindungsschichten anzeigen, der Schaltung zuordnen. Eine erste Gruppe von den Gruppen wird einem ersten Anschluss der Schaltung zugeordnet. Eine zweite Gruppe von den Gruppen wird einem zweiten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Die Layout-Einschränkungen sind konfiguriert, um in der ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets eines ersten Elements in der Schaltung mindestens eine, die erste Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen dem ersten Anschluss zuzuordnen, und um in der zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets eines zweiten Elements in der Schaltung mindestens eine, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen dem zweiten Anschluss zuzuordnen. Der erste Anschluss ist ein Anschluss des ersten Elements, und der zweite Anschluss ist ein Anschluss des zweiten Elements.Also disclosed is a system for layout verification comprising a memory and a processor. The memory is configured to store computer program code. The processor is configured to execute the computer program code in the memory to extract layout structures from a layout design for a circuit, to extract layout constraints for the circuit to be compared with the layout structures, and to generate data indicative of the layout design for fabricating the circuit under a condition that the layout structures meet the layout constraints. The layout constraints are configured to assign, in a first predetermined sequence, a plurality of groups indicative of layout structures of interconnect layers to the circuit. A first group of the groups is assigned to a first terminal of the circuit. A second group of the groups is assigned to a second terminal in the circuit. The layout constraints are configured to assign at least one of the groups comprising the first group to the first terminal in the first predetermined sequence and within a first region of a first element in the circuit, and to assign at least one of the groups comprising the second group to the second terminal in the second predetermined sequence and within a second region of a second element in the circuit. The first terminal is a terminal of the first element, and the second terminal is a terminal of the second element.
Das Vorstehende skizziert Merkmale von mehreren Ausführungsformen, so dass ein Fachmann die Aspekte der vorliegenden Offenbarung besser verstehen kann. Ein Fachmann sollte erkennen, dass er die vorliegende Offenbarung als eine Grundlage zum Entwerfen und Modifizieren anderer Prozesse und Strukturen leicht verwenden kann, um die gleichen Aufgaben durchzuführen und/oder die gleichen Vorteile der hier vorgestellten Ausführungsformen zu erzielen. Ein Fachmann sollte ebenfalls verstehen, dass derartige äquivalente Ausführungen nicht vom Erfindungsgedanken und Umfang der vorliegenden Offenbarung abweichen, und dass er verschiedene Änderungen, Ersetzungen und Modifizierungen hier vornehmen kann, ohne vom Erfindungsgedanken und Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.The foregoing outlines features of several embodiments so that one skilled in the art can better understand aspects of the present disclosure. One skilled in the art should recognize that they can readily use the present disclosure as a basis for designing and modifying other processes and structures to perform the same tasks and/or achieve the same advantages of the embodiments presented herein. One skilled in the art should also understand that such equivalent embodiments do not depart from the spirit and scope of the present disclosure, and that they may make various changes, substitutions, and modifications herein without departing from the spirit and scope of the present disclosure.
Claims (8)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US15/051,473 US9886544B2 (en) | 2016-02-23 | 2016-02-23 | Layout checking system and method |
| US15/051,473 | 2016-02-23 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102016104839A1 DE102016104839A1 (en) | 2017-08-24 |
| DE102016104839B4 true DE102016104839B4 (en) | 2025-08-07 |
Family
ID=59522552
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102016104839.9A Active DE102016104839B4 (en) | 2016-02-23 | 2016-03-16 | Layout review system and procedures |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US9886544B2 (en) |
| KR (1) | KR101827119B1 (en) |
| CN (1) | CN107103108B (en) |
| DE (1) | DE102016104839B4 (en) |
| TW (1) | TWI608373B (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US10733352B2 (en) | 2017-11-21 | 2020-08-04 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Integrated circuit and layout method for standard cell structures |
| DE102018124711B4 (en) | 2017-11-21 | 2024-01-11 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. | Layout procedures for standard cell structures |
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2016
- 2016-02-23 US US15/051,473 patent/US9886544B2/en active Active
- 2016-03-16 DE DE102016104839.9A patent/DE102016104839B4/en active Active
- 2016-05-25 KR KR1020160064257A patent/KR101827119B1/en active Active
- 2016-11-01 TW TW105135366A patent/TWI608373B/en active
-
2017
- 2017-01-13 CN CN201710023963.7A patent/CN107103108B/en active Active
-
2018
- 2018-01-30 US US15/884,130 patent/US10534892B2/en active Active
-
2019
- 2019-12-20 US US16/723,965 patent/US11144704B2/en active Active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR101827119B1 (en) | 2018-02-07 |
| KR20170099334A (en) | 2017-08-31 |
| US9886544B2 (en) | 2018-02-06 |
| US20200125786A1 (en) | 2020-04-23 |
| US20170242954A1 (en) | 2017-08-24 |
| US20180150594A1 (en) | 2018-05-31 |
| US10534892B2 (en) | 2020-01-14 |
| CN107103108B (en) | 2022-05-10 |
| CN107103108A (en) | 2017-08-29 |
| DE102016104839A1 (en) | 2017-08-24 |
| US11144704B2 (en) | 2021-10-12 |
| TWI608373B (en) | 2017-12-11 |
| TW201730795A (en) | 2017-09-01 |
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