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DE102016104839B4 - Layout review system and procedures - Google Patents

Layout review system and procedures

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Publication number
DE102016104839B4
DE102016104839B4 DE102016104839.9A DE102016104839A DE102016104839B4 DE 102016104839 B4 DE102016104839 B4 DE 102016104839B4 DE 102016104839 A DE102016104839 A DE 102016104839A DE 102016104839 B4 DE102016104839 B4 DE 102016104839B4
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DE
Germany
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layout
groups
terminal
group
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE102016104839.9A
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German (de)
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DE102016104839A1 (en
Inventor
Yao-Jen Hsieh
Kai-Ming Liu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Original Assignee
Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd filed Critical Taiwan Semiconductor Manufacturing Co TSMC Ltd
Publication of DE102016104839A1 publication Critical patent/DE102016104839A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102016104839B4 publication Critical patent/DE102016104839B4/en
Active legal-status Critical Current
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Abstract

Verfahren (300) zum Layoutüberprüfen, umfassend:
Zuordnen (S341) mehrerer Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) von Verbindungsschichten (M1, M2, M3) anzeigen, zu einer Schaltung (200), um Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) der Schaltung (200) zu bestimmen, wobei
eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die erste Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem ersten Anschluss, wobei der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, und
eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem zweiten Anschluss, wobei der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist,
Extrahieren (S342) mehrerer Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus einem Layoutentwurf (240, 520) für die Schaltung (200),
Vergleichen (S343) der Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) mit den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), und
Generieren von Daten, die den Layoutentwurf (240, 520) anzeigen, zum Fertigen der Schaltung (200) bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) entsprechen.
Method (300) for checking layout, comprising:
Assigning (S341) a plurality of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) indicating layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) of interconnect layers (M1, M2, M3) to a circuit (200) in order to determine layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) of the circuit (200), wherein
a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a first predetermined sequence and within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the first terminal, wherein the first terminal is a terminal of the first element (M1), and
a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a second predetermined sequence and within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the second terminal, wherein the second terminal is a terminal of the second element (M2),
Extracting (S342) a plurality of layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from a layout design (240, 520) for the circuit (200),
Comparing (S343) the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) with the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), and
Generating data indicative of the layout design (240, 520) for manufacturing the circuit (200) under a condition that the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) conform to the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102).

Description

HINTERGRUNDBACKGROUND

In Halbleiterfertigungsprozessen wird zuweilen eine einzelne Schicht mithilfe von Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildet, um eine räumliche Auflösung der Schicht zu erhöhen. Jede der Mehrfach-Layout-Strukturen wird verschiedenen Gruppen zugeordnet. Eine solche Zuordnung wird von einem Schaltungsentwickler oder einem Layoutentwickler zum Beispiel durch Ausführen eines Softwareprogramms vorgenommen.In semiconductor manufacturing processes, a single layer is sometimes formed using multiple layout structures to increase the spatial resolution of the layer. Each of the multiple layout structures is assigned to different groups. This assignment is performed by a circuit designer or layout designer, for example, by executing a software program.

In der US 2013/0320555 und der US 2015/0121317 werden Halbleiterfertigungsprozesse beschrieben, bei denen Layout-Strukturen einer einzelnen Verbindungsschicht durch zwei- oder mehrfache Musterbildung (DPT, MPT) hergestellt werden. US 9 053 288 B1 beschreibt ein Verfahren zum Layoutüberprüfen von Schaltungs-Layouts auf direkt bereitgestellte Einschränkungen infolge von mehrfacher Musterbildung.In the US 2013/0320555 and the US 2015/0121317 describes semiconductor manufacturing processes in which layout structures of a single interconnect layer are produced by double or multiple patterning (DPT, MPT). US 9 053 288 B1 describes a method for checking circuit layouts for directly provided constraints resulting from multiple pattern formation.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGENBRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Aspekte der vorliegenden Offenbarung werden am besten aus der nachstehenden ausführlichen Beschreibung verstanden, wenn sie zusammen mit den begleitenden Zeichnungen gelesen wird. Es ist zu beachten, dass gemäß dem Standardverfahren in der Branche verschiedene Merkmale nicht maßstabsgetreu gezeichnet sind. Vielmehr können die Abmessungen der verschiedenen Merkmale zur Klarheit der Erörterung beliebig vergrößert oder verkleinert sein.

  • 1 ist ein schematisches Diagramm eines Entwurfssystems gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 2A ist ein schematisches Diagramm einer Schaltung gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 2B zeigt eine vorgegebene Beschreibung in einer Netzlistendatei, die die Schaltung in 2A anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 2C ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf zeigt, der der Schaltung in 2A entspricht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 3 ist ein Ablaufdiagramm eines Entwurfsverfahrens, das das Entwurfssystem in 1 verwendet, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 4 ist ein Ablaufdiagramm einer Operation des Verfahrens in 3 gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 5A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 5B ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf, der der Schaltung in 2A entspricht, und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 6A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 6B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 7A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 7B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 8A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 8B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 2C, in 5 und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 9A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß weiteren alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 9B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 10A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 10B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 11A zeigt eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in 2A umfasst, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung;
  • 11B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf in 5B und Layoutstrukturen des Layoutentwurfs zeigt, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung; und
  • 12 zeigt ein schematisches Diagramm, das eine vorgegebene Beschreibung anzeigt, welche die Schaltung in 2A und die Layout-Einschränkungen in einer Netzlistendatei anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.
Aspects of the present disclosure are best understood from the following detailed description when read in conjunction with the accompanying drawings. It should be noted that, in accordance with industry standard practice, various features are not drawn to scale. Rather, the dimensions of the various features may be arbitrarily exaggerated or reduced for clarity of discussion.
  • 1 is a schematic diagram of a design system according to various embodiments of the present disclosure;
  • 2A is a schematic diagram of a circuit according to various embodiments of the present disclosure;
  • 2B shows a predefined description in a netlist file that describes the circuit in 2A indicates, according to some embodiments of the present disclosure;
  • 2C is a schematic diagram showing a layout design that corresponds to the circuit in 2A corresponds, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 3 is a flowchart of a design process that describes the design system in 1 used according to various embodiments of the present disclosure;
  • 4 is a flowchart of an operation of the method in 3 according to various embodiments of the present disclosure;
  • 5A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 5B is a schematic diagram that shows a layout design that corresponds to the circuit in 2A and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 6A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 6B is a schematic diagram showing the layout design in 5B and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 7A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to alternative embodiments of the present disclosure;
  • 7B is a schematic diagram showing the layout design in 5B and shows layout structures of the layout design, according to alternative embodiments of the present disclosure;
  • 8A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to some other embodiments of the present disclosure;
  • 8B is a schematic diagram showing the layout design in 2C , in 5 and shows layout structures of the layout design, according to some other embodiments of the present disclosure;
  • 9A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to further alternative embodiments of the present disclosure;
  • 9B is a schematic diagram showing the layout design in 5B and shows layout structures of the layout design, according to various embodiments of the present disclosure;
  • 10A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to further various embodiments of the present disclosure;
  • 10B is a schematic diagram showing the layout design in 5B and shows layout structures of the layout design, according to further various embodiments of the present disclosure;
  • 11A shows a predefined description that specifies layout constraints for the circuit in 2A includes, according to other various embodiments of the present disclosure;
  • 11B is a schematic diagram showing the layout design in 5B and layout structures of the layout design, according to other various embodiments of the present disclosure; and
  • 12 shows a schematic diagram that displays a given description that illustrates the circuit in 2A and displays the layout constraints in a netlist file, according to some embodiments of the present disclosure.

AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNGDETAILED DESCRIPTION

Die nachstehende Offenbarung stellt viele verschiedene Ausführungsformen, oder Beispiele, zum Implementieren verschiedener Merkmale des vorliegenden Gegenstands bereit. Konkrete Beispiele von Komponenten und Anordnungen sind nachstehend beschrieben, um die vorliegende Offenbarung zu vereinfachen. Diese sind selbstverständlich lediglich Beispiele und sind nicht im beschränkenden Sinne gedacht. Zum Beispiel kann das Ausbilden eines ersten Merkmals über oder auf einem zweiten Merkmal in der nachstehenden Beschreibung Ausführungsformen umfassen, in denen das erste und das zweite Merkmal in direktem Kontakt ausgebildet werden, und kann ebenfalls Ausführungsformen umfassen, in denen zusätzliche Merkmale zwischen dem ersten und dem zweiten Merkmal ausgebildet werden können, so dass das erste und das zweite Merkmal möglicherweise nicht in direktem Kontakt stehen. Außerdem kann die vorliegende Offenbarung Bezugsnummern und/oder -buchstaben in den verschiedenen Beispielen wiederholen. Diese Wiederholung geschieht zum Zweck der Einfachheit und Klarheit und sie schreibt an sich keine Beziehung zwischen den verschiedenen besprochenen Ausführungsformen und/oder Ausgestaltungen vor.The following disclosure provides many different embodiments, or examples, for implementing various features of the present subject matter. Specific examples of components and arrangements are described below to simplify the present disclosure. These are, of course, merely examples and are not intended to be limiting. For example, in the following description, forming a first feature over or on top of a second feature may include embodiments in which the first and second features are formed in direct contact, and may also include embodiments in which additional features may be formed between the first and second features such that the first and second features may not be in direct contact. Furthermore, the present disclosure may repeat reference numbers and/or letters in the various examples. This repetition is for the purpose of simplicity and clarity and does not, in and of itself, prescribe any relationship between the various embodiments and/or configurations discussed.

Die in dieser Beschreibung verwendeten Begriffe weisen im Allgemeinen ihre normale Bedeutungen in der Technik und in dem konkreten Kontext, in dem jeder Begriff verwendet wird, auf. Die Verwendung von Beispielen in dieser Beschreibung, einschließlich von Beispielen beliebiger hier besprochener Begriffe, ist lediglich veranschaulichend und beschränkt keinesfalls den Umfang und die Bedeutung der Offenbarung oder eines als Beispiel erläuterten Begriffs. Gleichermaßen ist die vorliegende Offenbarung nicht auf verschiedene, in dieser Beschreibung angegebene Ausführungsformen beschränkt.The terms used in this specification generally have their ordinary meanings in the art and in the specific context in which each term is used. The use of examples in this specification, including examples of any terms discussed herein, is merely illustrative and in no way limits the scope and meaning of the disclosure or any term explained as an example. Likewise, the present disclosure is not limited to the various embodiments set forth in this specification.

Obwohl die Begriffe „erster“, „zweiter“ usw. hier verwendet werden können, um verschiedene Elemente zu beschreiben, sollten diese Elemente nicht durch diese Begriffe beschränkt sein. Diese Begriffe werden verwendet, um ein Element von einem anderen zu unterscheiden. Zum Beispiel könnte ein erstes Element als ein zweites Element bezeichnet werden, und gleichermaßen könnte ein zweites Element als ein erstes Element bezeichnet werden, ohne vom Umfang der Ausführungsformen abzuweichen. Wie hier verwendet, umfasst der Begriff „und/oder“ eine beliebige und alle Kombinationen von einem oder mehreren der zugehörigen aufgelisteten Elementen.Although the terms "first," "second," etc., may be used herein to describe various elements, these elements should not be limited by these terms. These terms are used to distinguish one element from another. For example, a first element could be referred to as a second element, and likewise, a second element could be referred to as a first element, without departing from the scope of the embodiments. As used herein, the term "and/or" includes any and all combinations of one or more of the associated listed elements.

1 ist ein schematisches Diagramm eines Entwurfssystems 100 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 1 is a schematic diagram of a design system 100 according to some embodiments of the present disclosure.

Wie in 1 zur Veranschaulichung dargestellt, umfasst das Entwurfssystem 100 einen Prozessor 110, einen Speicher 120 und Eingabe-/Ausgabeschnittstellen (I/O-Schnittstellen) 130. Der Prozessor 110 ist mit dem Speicher 120 und den I/O-Schnittstellen 130 gekoppelt. In verschiedenen Ausführungsformen ist der Prozessor 110 eine zentrale Verarbeitungseinheit (CPU), eine Anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC), ein Mehrfach-Prozessor, ein verteiltes Verarbeitungssystem oder eine geeignete Verarbeitungseinheit. Verschiedene Schaltungen oder Einheiten zum Implementieren des Prozessors 110 liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.As in 1 Shown for illustrative purposes, the design system 100 includes a processor 110, a memory 120, and input/output (I/O) interfaces 130. The processor 110 is coupled to the memory 120 and the I/O interfaces 130. In various embodiments, the processor 110 is a central processing unit (CPU), an application-specific integrated circuit (ASIC), a multi-processor, a distributed processing system, or any suitable processing unit. Various circuits or devices for implementing the processor 110 are within the scope of the present disclosure.

Der Speicher 120 speichert einen oder mehrere Programmcodes zum Unterstützen der Entwicklung von integrierten Schaltungen. Zur Veranschaulichung speichert der Speicher 120 einen Programmcode, der mit einem Satz von Befehlen zum Überprüfen von Layout-Strukturen der integrierten Schaltungen codiert ist. Der Prozessor 110 ist in der Lage, die in dem Speicher 120 gespeicherten Programmcodes auszuführen, und die Operationen des Layout-Überprüfens können automatisch durchgeführt werden.Memory 120 stores one or more program codes to support the development of integrated circuits. For illustration, memory 120 stores program code encoded with a set of instructions for verifying layout structures of the integrated circuits. Processor 110 is capable of executing the program codes stored in memory 120, and the layout verification operations can be performed automatically.

In einigen Ausführungsformen ist der Speicher 120 ein nichtflüchtiges, computerlesbares Speichermedium, das mit einem Satz von ausführbaren Befehlen zum Überprüfen von Layout-Strukturen codiert ist, d.h. sie speichert. Zur Veranschaulichung speichert der Speicher 120 ausführbare Befehle zum Durchführen von Operationen, die zum Beispiel Operation S340, die in 4 dargestellt ist, umfassen. In einigen Ausführungsformen ist das computerlesbare Speichermedium ein elektronisches, magnetisches, optisches, elektromagnetisches, ein Infrarot- und/oder ein Halbleitersystem (oder eine Vorrichtung oder ein Bauelement). Zum Beispiel umfasst das computerlesbare Speichermedium einen Halbleiter- oder Festkörperspeicher, ein Magnetband, eine entfernbare Computerdiskette, einen Direktzugriffspeicher (RAM), einen Festwertspeicher (ROM), eine starre Magnetplatte und/oder eine optische Platte. In einer oder mehreren Ausführungsformen, die optische Platten verwenden, umfasst das computerlesbare Speichermedium eine CD-ROM (Compact Disc Read-Only Memory), eine CD-RW (Compact Disc Read/Write) und/oder eine DVD (Digital Video Disc).In some embodiments, memory 120 is a non-transitory, computer-readable storage medium encoded with, i.e., storing, a set of executable instructions for verifying layout structures. the memory 120 stores executable instructions for performing operations, for example, operation S340, which in 4 illustrated. In some embodiments, the computer-readable storage medium is an electronic, magnetic, optical, electromagnetic, infrared, and/or semiconductor system (or device or apparatus). For example, the computer-readable storage medium includes semiconductor or solid-state memory, magnetic tape, a removable computer diskette, random access memory (RAM), read-only memory (ROM), a rigid magnetic disk, and/or an optical disk. In one or more embodiments that utilize optical disks, the computer-readable storage medium includes a CD-ROM (Compact Disc Read-Only Memory), a CD-RW (Compact Disc Read/Write), and/or a DVD (Digital Video Disc).

Die I/O-Schnittstellen 130 empfangen Eingaben oder Befehle von verschiedenen Steuervorrichtungen, die zum Beispiel durch einen Schaltungsentwickler und/oder einen Layoutentwickler bedient werden. Dementsprechend kann das Entwurfssystem 100 mit Eingaben oder Befehlen, die über die I/O-Schnittstellen 130 empfangen werden, beeinflusst werden. In einigen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 ein Display, das zum Anzeigen des Ausführungsstatus des Programmcodes ausgelegt ist. In einigen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 eine grafische Benutzeroberfläche (GUI). In einigen anderen Ausführungsformen umfassen die I/O-Schnittstellen 130 eine Tastatur, ein Tastenfeld, eine Maus, einen Trackball, ein Trackpad, einen Berührungsbildschirm, Cursor-Richtungstasten oder die Kombination davon, um Informationen und Befehle an den Prozessor 110 zu kommunizieren.The I/O interfaces 130 receive inputs or commands from various control devices operated, for example, by a circuit designer and/or a layout designer. Accordingly, the design system 100 can be influenced by inputs or commands received via the I/O interfaces 130. In some embodiments, the I/O interfaces 130 include a display configured to indicate the execution status of the program code. In some embodiments, the I/O interfaces 130 include a graphical user interface (GUI). In some other embodiments, the I/O interfaces 130 include a keyboard, keypad, mouse, trackball, trackpad, touchscreen, cursor direction keys, or a combination thereof to communicate information and commands to the processor 110.

2A ist ein schematisches Diagramm einer Schaltung 200 gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Um die Darstellung eines Layoutüberprüfungsverfahrens 300 von 3 zu erleichtern, werden verschiedene Begriffe oder Komponenten, die sich auf Layout-Strukturen beziehen, unter Bezugnahme auf 2A eingeführt. 2A is a schematic diagram of a circuit 200 according to some embodiments of the present disclosure. To illustrate a layout verification method 300 of 3 To facilitate this, various terms or components related to layout structures are explained with reference to 2A introduced.

Die Schaltung 200 umfasst einen Schalter M1 und einen Schalter M2. Zum Beispiel werden in einigen Ausführungsformen der Schalter M1 und Schalter M2 mit N-Typ-Metall-Oxid-Silizium-Feldeffekttransistoren (MOSFETs) implementiert. Der Schalter M1 umfasst vier Anschlüsse, die als ein Gate (als G1 gekennzeichnet), ein Drain (als D gekennzeichnet), eine Source (als S1 gekennzeichnet), und ein Bulk (als B1 gekennzeichnet) definiert sind. Gleichermaßen umfasst der Schalter M2 vier Anschlüsse, die als ein Gate (als G2 gekennzeichnet), ein Drain (als D gekennzeichnet), eine Source (als S2 gekennzeichnet), und ein Bulk (als B2 gekennzeichnet) definiert sind. Wie zur Veranschaulichung in 2A dargestellt, ist der Anschluss D des Schalters M1 mit dem Anschluss D des Schalters M2 gekoppelt.The circuit 200 includes a switch M1 and a switch M2. For example, in some embodiments, the switch M1 and switch M2 are implemented with N-type metal-oxide-silicon field-effect transistors (MOSFETs). The switch M1 includes four terminals defined as a gate (labeled G1), a drain (labeled D), a source (labeled S1), and a bulk (labeled B1). Similarly, the switch M2 includes four terminals defined as a gate (labeled G2), a drain (labeled D), a source (labeled S2), and a bulk (labeled B2). As illustrated in 2A As shown, terminal D of switch M1 is coupled to terminal D of switch M2.

Nun wird Bezug sowohl auf 2A als auch 2B genommen. 2B zeigt eine Beschreibung in einer Netzlistendatei 220, die die Schaltung 200 in 2A anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. In einigen Ausführungsformen ist ein Schaltungsentwickler in der Lage, die Schaltung 200 durch Beschreiben der Schaltung 200 über die Netzlistendatei 220 zu entwerfen. In einigen Ausführungsformen stimmen die Inhalte der Netzlistendatei 220 mit einem vorgegebenen Syntaxtyp überein, der in der Lage ist, eine Schaltung in einem beschreibenden Format, das durch das Entwurfssystem 100 erkennbar ist, zu erfassen und/oder zu entwerfen. In einigen Ausführungsformen ist der vorgegebene Syntaxtyp BERKLEY-SPICE-Syntax. In einigen anderen Ausführungsformen ist der vorgegebene Syntaxtyp HSPICE-Syntax.Now reference is made to both 2A as well as 2B taken. 2B shows a description in a netlist file 220 that describes the circuit 200 in 2A according to some embodiments of the present disclosure. In some embodiments, a circuit designer is able to design circuit 200 by describing circuit 200 via netlist file 220. In some embodiments, the contents of netlist file 220 conform to a predetermined syntax type capable of capturing and/or designing a circuit in a descriptive format recognizable by design system 100. In some embodiments, the predetermined syntax type is BERKLEY-SPICE syntax. In some other embodiments, the predetermined syntax type is HSPICE syntax.

Wie zur Veranschaulichung in 2B dargestellt, umfasst die Beschreibung der Netzlistendatei 220 Abschnitte 221 bis 223. Der Abschnitt 221, der die Aussage ".subckt" verwendet, und der Abschnitt 223, der die Aussage „.ends" verwendet, deklarieren eine Schaltung, die als „200“ bezeichnet ist, und ihre Anschlüsse D, G1, G2, S1, S2, B1 und B2. Der Abschnitt 222 deklariert ferner, dass die Schaltung 200 zwei N-Typ-Transistoren M1 und M2 (d.h. Schalter M1 und M2 in 2A) umfasst, indem er den Parameter „nch“ verwendet, und ihre Verbindungen und Größen, indem er die Parameter „W=3“ und" L=1" verwendet. In einigen Ausführungsformen ist der Schaltungsentwickler in der Lage, die Netzlistendatei 220 über das Entwurfssystem 100 zu erstellen und/oder zu editieren. In einigen Ausführungsformen speichert der Speicher 120 einen oder mehrere Programmcodes, die ausgeführt werden, um Schaltungssimulationen und -analyse gemäß der Netzlistendatei 220 durchzuführen.As illustrated in 2B As shown, the description of the netlist file 220 comprises sections 221 to 223. Section 221, which uses the statement ".subckt", and section 223, which uses the statement ".ends", declare a circuit designated as "200" and its terminals D, G1, G2, S1, S2, B1, and B2. Section 222 further declares that the circuit 200 comprises two N-type transistors M1 and M2 (i.e., switches M1 and M2 in 2A) by using the parameter "nch," and their connections and sizes by using the parameters "W=3" and "L=1." In some embodiments, the circuit designer is able to create and/or edit the netlist file 220 via the design system 100. In some embodiments, the memory 120 stores one or more program codes that are executed to perform circuit simulations and analysis according to the netlist file 220.

Die Schaltung 200 in 2A ist zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Schaltungen oder Halbleiterbauelemente für einen Layoutentwurf liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung. Entsprechend werden die Beschreibung in der Netzlistendatei 220 in 2B und ein nachstehend beschriebener Layoutentwurf ebenfalls zu Veranschaulichungszwecken angegeben.The circuit 200 in 2A is provided for illustrative purposes. Various circuits or semiconductor devices for a layout design are within the scope of the present disclosure. Accordingly, the description in the netlist file 220 in 2B and a layout draft described below is also provided for illustrative purposes.

Nun wird Bezug auf 2C genommen. 2C ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf 240 zeigt, welcher der Schaltung 200 in 2A entspricht, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 2C taken. 2C is a schematic diagram showing a layout design 240 corresponding to the circuit 200 in 2A according to some embodiments of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen umfasst der Layoutentwurf 240 Mehrfach-Layout-Strukturen, die Halbleiterschichten oder Metallschichten bei einer Fertigung entsprechen. Zur Veranschaulichung umfassen, wie in 2C dargestellt, die Mehrfach-Layout-Strukturen Oxid-Definitionsgebiete (OD-Gebiete) 240A-240B, Gategebiete 240C-240D, Verbindungsschichten 240E und Durchkontaktierungsstecker 240F. Das Gategebiet 240C entspricht dem Gate G1 des Schalters M1, und das Gategebiet 240D entspricht dem Gate G2 des Schalters M2. Das Gebiet 240A umfasst zwei Abschnitte 241 und 242 auf zwei Seiten des Gategebiets 240C, wie in 2C dargestellt. Der Abschnitt 241 des OD-Gebiets 240A entspricht der Source S1 des Schalters M1. Der Abschnitt 242 des OD-Gebiets 240A entspricht dem Drain D des Schalters M1. Das Gebiet 240B umfasst außerdem zwei Abschnitte 243 und 244 auf zwei Seiten des Gategebiets 240D, wie in 2C dargestellt. Der Abschnitt 243 des OD-Gebiets 240B entspricht der Source S1 des Schalters M2. Der Abschnitt 244 des OD-Gebiets 240B entspricht dem Drain D des Schalters M2. Die Verbindungsschichten 240E und die Durchkontaktierungsstecker 240F werden ausgebildet, um den Drain D des Schalters M1 mit dem Drain D des Schalters M2 elektrisch zu koppeln.In some embodiments, the layout design 240 includes multiple layout structures corresponding to semiconductor layers or metal layers in a fabrication. To illustrate, as shown in 2C shown, the multiple layout structures oxide definition regions (OD regions) 240A-240B, gate regions 240C-240D, interconnect layers 240E, and via plugs 240F. The gate region 240C corresponds to the gate G1 of the switch M1, and the gate region 240D corresponds to the gate G2 of the switch M2. The region 240A comprises two sections 241 and 242 on two sides of the gate region 240C, as shown in 2C shown. Section 241 of the OD region 240A corresponds to the source S1 of the switch M1. Section 242 of the OD region 240A corresponds to the drain D of the switch M1. The region 240B also includes two sections 243 and 244 on two sides of the gate region 240D, as shown in 2C Section 243 of OD region 240B corresponds to source S1 of switch M2. Section 244 of OD region 240B corresponds to drain D of switch M2. Interconnect layers 240E and via plugs 240F are formed to electrically couple drain D of switch M1 to drain D of switch M2.

In einigen Ausführungsformen werden die Verbindungsschichten 240E mit einer oder mehreren Metallschichten ausgebildet. Zur Veranschaulichung umfassen die Verbindungsschichten 240E eine Metallschicht Metall-1 und eine Metallschicht Metall-2. Jede von der Metallschicht Metall-1 und der Metallschicht Metall-2 wird mit mehreren Gruppen von Schichtstrukturen ausgebildet. Zur Veranschaulichung sind in 2C die Layout-Strukturen für die Metallschicht Metall-1 zu Gruppe M1_A und Gruppe M1_B zugeordnet, bei denen sich die Gruppe M1_A und die Gruppe M1_B gegenseitig ausschließen. Zum Beispiel wird die Metallschicht Metall-1 unter Verwendung einer Doppelstrukturierungstechnologie gefertigt. Die Metallschicht Metall-1 wird mit zwei separaten Gruppen M1_A und M1_B ausgebildet. In einigen Ausführungsformen werden die Layout-Strukturen, die den Gruppen M1_A und M1_B der Metallschicht Metall-1 entsprechen, auf verschiedenen Masken ausgebildet. Die Layout-Strukturen der Metallschicht Metall-2 sind der Gruppe M2_A zugeordnet. In verschiedenen Ausführungsformen verwendet das Entwurfssystem 100 verschiedene Farbenstrukturen, um die Gruppe M1_A, die Gruppe M1_B und die Gruppe M2_A darzustellen.In some embodiments, the interconnect layers 240E are formed with one or more metal layers. For illustration, the interconnect layers 240E include a metal layer Metal-1 and a metal layer Metal-2. Each of the metal layer Metal-1 and the metal layer Metal-2 is formed with multiple groups of layer structures. For illustration, 2C the layout structures for the metal layer Metal-1 are assigned to group M1_A and group M1_B, where the group M1_A and the group M1_B are mutually exclusive. For example, the metal layer Metal-1 is manufactured using a double patterning technology. The metal layer Metal-1 is formed with two separate groups M1_A and M1_B. In some embodiments, the layout structures corresponding to the groups M1_A and M1_B of the metal layer Metal-1 are formed on different masks. The layout structures of the metal layer Metal-2 are assigned to the group M2_A. In various embodiments, the design system 100 uses different color patterns to represent the group M1_A, the group M1_B, and the group M2_A.

In einigen Anwendungen wird der Layoutentwurf 240 unter Einhaltung einiger Entwurfsregeln entworfen. Zum Beispiel ist ein Mindestabstand zwischen zwei Leitungen, die mit derselben Gruppe der Metallschicht ausgebildet werden, begrenzt. Um die Fläche der Schaltung 200 in 2A zu reduzieren, wird daher der Anschluss D des Schalters M1 unter Verwendung einer anderen Gruppe der Metallschicht mit dem Schalter M2 gekoppelt. Des Weiteren wird der Anschluss D des Schalters M2 unter Verwendung einer anderen Gruppe der Metallschicht mit dem Schalter M1 gekoppelt. Zur Veranschaulichung wird, wie in 2C dargestellt, der Anschluss D des Schalters M1 unter Verwendung der Gruppe M1_A der Metallschicht Metall-1 mit dem Anschluss D des Schalters M2 gekoppelt. Der Anschluss D des Schalters M2 wird unter Verwendung der Gruppe M1_B der Metallschicht Metall-1 mit dem Anschluss D des Schalters M1 gekoppelt.In some applications, the layout design 240 is designed in compliance with certain design rules. For example, a minimum distance between two lines formed with the same group of metal layers is limited. To minimize the area of the circuit 200 in 2A To reduce the voltage drop, terminal D of switch M1 is coupled to switch M2 using a different group of the metal layer. Furthermore, terminal D of switch M2 is coupled to switch M1 using a different group of the metal layer. For illustration, as shown in 2C As shown, terminal D of switch M1 is coupled to terminal D of switch M2 using group M1_A of metal layer Metal-1. Terminal D of switch M2 is coupled to terminal D of switch M1 using group M1_B of metal layer Metal-1.

In verschiedenen Ausführungsformen empfängt mindestens eine der I/O-Schnittstellen 130 in 1 die Netzlistendatei 220 in 2B. In einigen Ausführungsformen sind ein Schaltungsentwickler und/oder ein Layoutentwickler in der Lage, Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A über mindestens eine der I/O-Schnittstellen 130 in 1 bereitzustellen. In einigen Ausführungsformen spezifizieren die Layout-Einschränkungen, wie die Mehrfach-Layout-Strukturen eines oder mehrerer Anschlüsse in dem Layoutentwurf 240 in 2C zugeordnet werden würden. In einigen Ausführungsformen arbeitet der Prozessor 110 zusammen mit dem Speicher 120 in 1 auf der Grundlage der empfangenen Netzlistendatei 220 und der Layout-Einschränkungen. Dementsprechend ist das Entwurfssystem 100 in der Lage, die Mehrfach-Layout-Strukturen in dem Layoutentwurf 240 in 2C mit den Layout-Einschränkungen zu vergleichen, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 240 mit der in 2C dargestellten Anordnung übereinstimmt.In various embodiments, at least one of the I/O interfaces 130 in 1 the netlist file 220 in 2B In some embodiments, a circuit designer and/or a layout designer are able to specify layout constraints for the circuit 200 in 2A via at least one of the I/O interfaces 130 in 1 In some embodiments, the layout constraints specify how the multiple layout structures of one or more terminals in the layout design 240 in 2C In some embodiments, the processor 110 operates together with the memory 120 in 1 based on the received netlist file 220 and the layout constraints. Accordingly, the design system 100 is able to convert the multiple layout structures into the layout design 240 into 2C with the layout constraints to check whether the layout design 240 complies with the 2C arrangement shown.

Die Anordnungen der Layout-Strukturen in 2C, die der Schaltung 200 in 2A entsprechen, sind zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Anordnungen der Layout-Strukturen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The arrangement of the layout structures in 2C , which the circuit 200 in 2A are provided for illustrative purposes. Various arrangements of the layout structures are within the scope of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen ist zumindest eine Gruppe der Layout-Strukturen mindestens einem der Anschlüsse der Schaltung 200 in 2A zugeordnet. In einigen Ausführungsformen werden die Anschlüsse der Schaltung 200 in der Netzlistendatei 220 in 2B definiert. In einigen Ausführungsformen wird jeder Anschluss der Schaltung 200 mit mindestens einem Anschluss eines oder mehrerer Bauelemente, Elemente und/oder anderer geeigneter Halbleiterkomponenten ausgebildet. Zur Veranschaulichung wird, wie in 2A dargestellt, der Anschluss D der Schaltung 200 mit den Drainanschlüssen D zweier Schalter M1 und M2 ausgebildet.In some embodiments, at least one group of the layout structures is associated with at least one of the terminals of the circuit 200 in 2A In some embodiments, the terminals of the circuit 200 are assigned in the netlist file 220 in 2B In some embodiments, each terminal of circuit 200 is formed with at least one terminal of one or more devices, elements, and/or other suitable semiconductor components. For illustration, as shown in 2A As shown, terminal D of circuit 200 is formed with the drain terminals D of two switches M1 and M2.

Die vorstehend erwähnten Definitionen und/oder Anordnungen der Anschlüsse der Schaltung sind lediglich zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Definitionen und/oder Anordnungen der Anschlüsse der Schaltung liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The above-mentioned definitions and/or arrangements of the circuit terminals are provided for illustrative purposes only. Various definitions and/or arrangements of the circuit terminals are within the scope of the present disclosure.

Nun wird Bezug auf 3 genommen. 3 ist ein Ablaufdiagramm eines Entwurfsverfahrens 300, das das Entwurfssystem 100 in 1 verwendet, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Zur Erleichterung des Verständnisses wird nachstehend als ein Beispiel das Entwurfsverfahren 300 unter Bezugnahme auf 1 und 2A bis 2C beschrieben. Das Entwurfsverfahren 300 kann außerdem auf andere Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung, einschließlich der Ausführungsformen in 5A bis 11B, angewendet werden.Now reference is made to 3 taken. 3 is a flowchart of a design process 300 that the design system 100 implements in 1 used according to some embodiments of the present disclosure. For ease of understanding, the design method 300 is described below as an example with reference to 1 and 2A to 2C The design method 300 may also be applied to other embodiments of the present disclosure, including the embodiments in 5A to 11B , can be applied.

Das Entwurfsverfahren 300 umfasst Operationen S310 bis S360. In Operation S310 werden die Netzlistendatei und die Layout-Einschränkungen für die Schaltung in das Entwurfssystem eingegeben. Zur Veranschaulichung werden die Netzlistendatei 220 in 2B und die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A in das Entwurfssystem 100 in 1 eingegeben.The design method 300 includes operations S310 to S360. In operation S310, the netlist file and the layout constraints for the circuit are entered into the design system. For illustration, the netlist file 220 is 2B and the layout constraints for circuit 200 in 2A into the design system 100 in 1 entered.

In einigen Ausführungsformen wird die Schaltung 200 in der Netzlistendatei 220 durch verschiedene Schaltungssimulationswerkzeuge, die in dem Entwurfssystem 100 verfügbar sind, beschrieben. In verschiedenen Ausführungsformen wird eine vorgegebene Beschreibung, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 umfasst, durch verschiedene Schaltungssimulationswerkzeuge und/oder EDA-Werkzeuge (Werkzeuge der Entwurfsautomatisierung elektronischer Systeme), die in dem Entwurfssystem 100 zu Verfügung stehen, bestimmt. Zur Veranschaulichung werden die Layout-Einschränkungen in einer vorgegebenen Beschreibung definiert, die zum Beispiel 500 in 5A, 600 in 6A, 700 in 7A, 800 in 8A, 900 in 9A, 1000 in 10A und 1100 in 11A nachstehend umfasst.In some embodiments, the circuit 200 in the netlist file 220 is described by various circuit simulation tools available in the design system 100. In various embodiments, a predetermined description comprising layout constraints for the circuit 200 is determined by various circuit simulation tools and/or EDA (electronic system design automation) tools available in the design system 100. For illustration, the layout constraints are defined in a predetermined description, for example, 500 in 5A , 600 in 6A , 700 in 7A , 800 in 8A , 900 in 9A , 1000 in 10A and 1100 in 11A includes below.

In Operation S320 wird der Layoutentwurf, der der Schaltung entspricht, bestimmt und in das Entwurfssystem eingegeben. Zur Veranschaulichung wird der Layoutentwurf 240 in 2C, der der Schaltung 200 in 2A entspricht, bestimmt und in das Entwurfssystem 100 in 1 eingegeben. In einigen Ausführungsformen wird der Layoutentwurf 240 durch einen Layoutentwickler mithilfe der EDA-Werkzeuge, die im Entwurfssystem 100 zur Verfügung stehen, manuell entworfen. In verschiedenen Ausführungsformen wird der Layoutentwurf 240 von einem APR-Werkzeug (auto place and route), das im Entwurfssystem 100 zur Verfügung steht, gemäß der Netzlistendatei 220 erzeugt.In operation S320, the layout design corresponding to the circuit is determined and entered into the design system. For illustration, the layout design 240 is 2C , which corresponds to the circuit 200 in 2A corresponds, determined and incorporated into the design system 100 in 1 In some embodiments, the layout design 240 is manually designed by a layout developer using the EDA tools available in the design system 100. In various embodiments, the layout design 240 is generated according to the netlist file 220 by an APR (auto place and route) tool available in the design system 100.

In Operation S330 bestimmt das Entwurfssystem, ob eine LCS-Verifizierung (Layout versus Schematic) bestanden wurde. Zur Veranschaulichung führt das Entwurfssystem 100 in 1 eine LVS-Verifizierung (Layout versus Schematic) durch, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 240 in 2C mit der Schaltung 200 in 2A übereinstimmt. Wenn ja, wird Operation S340 durchgeführt. Ansonsten wird Operation S350 durchgeführt. In einigen Ausführungsformen wird die LVS-Verifizierung durch das EDA-Werkzeug, das in dem Entwurfssystem 100 verfügbar ist, durchgeführt.In operation S330, the design system determines whether a layout versus schematic (LCS) verification has been passed. For illustration, the design system 100 performs 1 a LVS (Layout versus Schematic) verification to check whether the layout design 240 in 2C with the circuit 200 in 2A matches. If so, operation S340 is performed. Otherwise, operation S350 is performed. In some embodiments, the WMS verification is performed by the EDA tool available in the design system 100.

In einigen Ausführungsformen umfasst die LVS-Verifizierung folgende Operationen. Das Entwurfssystem 100 extrahiert die Verbindungen der Schaltung 200 aus der Netzlistendatei 220 und extrahiert die Mehrfach-Layout-Strukturen aus dem Layoutentwurf 240. Das Entwurfssystem 100 bestimmt dann, ob die Schaltung, die gemäß den Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildet wurde, mit den Verbindungen der Schaltung 200 übereinstimmt. Wenn die gemäß den Mehrfach-Layout-Strukturen ausgebildete Schaltung mit den Verbindungen der Schaltung 200 übereinstimmt, bestimmt der Prozessor 110, dass die LVS-Verifizierung bestanden wurde. Ansonsten bestimmt der Prozessor 110, dass die LVS-Verifizierung nicht bestanden wurde.In some embodiments, LVS verification includes the following operations. The design system 100 extracts the interconnections of circuit 200 from the netlist file 220 and extracts the multiple layout structures from the layout design 240. The design system 100 then determines whether the circuit formed according to the multiple layout structures matches the interconnections of circuit 200. If the circuit formed according to the multiple layout structures matches the interconnections of circuit 200, the processor 110 determines that the LVS verification passed. Otherwise, the processor 110 determines that the LVS verification failed.

Wenn die LVS-Verifizierung bestanden wurde, bestimmt der Prozessor bei Operation S340, ob die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen. Wenn ja, wird Operation S340 durchgeführt. Ansonsten wird Operation S350 durchgeführt. Zur Veranschaulichung führt der Prozessor 110 in 1 Programmcodes aus, um Layout-Strukturen der Schaltung 200 aus dem Layoutentwurf 240 in 2C zu extrahieren. In einigen Ausführungsformen umfassen die Layout-Strukturen eine oder mehrere Verbindungsschichten in dem Layoutentwurf 240. Der Prozessor 110 vergleicht dann die Layout-Strukturen der Schaltung 200 mit den Layout-Einschränkungen, um zu bestimmen, ob die Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen. Die zugehörigen Operationen werden nachstehend unter Bezugnahme auf 4 beschrieben.If the LVS verification has been passed, the processor determines at operation S340 whether the multiple layout structures conform to the layout constraints. If so, operation S340 is performed. Otherwise, operation S350 is performed. For illustration, the processor 110 executes 1 Program codes to create layout structures of the circuit 200 from the layout design 240 in 2C In some embodiments, the layout structures comprise one or more interconnect layers in the layout design 240. The processor 110 then compares the layout structures of the circuit 200 with the layout constraints to determine whether the layout structures satisfy the layout constraints. The associated operations are described below with reference to 4 described.

Wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen nicht den Layout-Einschränkungen entsprechen, wird in Operation S350 der Layoutentwurf, der der Schaltung entspricht, revidiert, um die LVS-Verifizierung in Operation S330 zu bestehen und/oder den Layout-Einschränkungen in Operation S340 zu entsprechen. Nachdem Operation S350 durchgeführt wurde, kehrt der Prozessor 110 zum Durchführen der Operation S320 zurück. Wenn zur Veranschaulichung die Layout-Strukturen, die aus dem Layoutentwurf 240 in 2C extrahiert wurden, nicht den Layout-Einschränkungen entsprechen, wird der Layoutentwurf 240 revidiert, um die LVS-Verifizierung zu bestehen und/oder den Layout-Einschränkungen zu entsprechen.If the multiple layout structures do not meet the layout constraints, in operation S350, the layout design corresponding to the circuit is revised to pass the LVS verification in operation S330 and/or to meet the layout constraints in operation S340. After operation S350 is performed, the processor 110 returns to perform operation S320. For illustration, if chung the layout structures resulting from the layout design 240 in 2C extracted do not meet the layout constraints, the layout draft 240 is revised to pass the LVS verification and/or meet the layout constraints.

Wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, führt das Entwurfssystem in Operation S360 eine „RC-Extraktion“ (RCE) durch, um die Schaltung mit parasitären Effekten zu analysieren. Nachdem zur Veranschaulichung die Layout-Einschränkungen erfüllt wurden, ist das Entwurfssystem 100 in 1 in der Lage, die RCE durchzuführen, um die Schaltung 200 in 2A mithilfe des EDA-Werkzeugs, das in dem Entwurfssystem 100 zur Verfügung steht, zu analysieren.If the multiple layout structures satisfy the layout constraints, the design system performs an RC extraction (RCE) in operation S360 to analyze the circuit with parasitic effects. For illustration, after the layout constraints have been satisfied, the design system 100 is in 1 able to perform the RCE to switch the circuit 200 in 2A using the EDA tool available in the design system 100.

In einigen Ausführungsformen umfasst die RCE folgende Operationen. Das Entwurfssystem 100 extrahiert parasitäre Komponenten der Schaltung 200 aus den Mehrfach-Layout-Strukturen. Das Entwurfssystem 100 führt dann Schaltungssimulationen und eine Analyse gemäß der Netzlistendatei 220 und den parasitären Komponenten durch. In einigen Ausführungsformen extrahiert das EDA-Werkzeug die parasitären Komponenten, die zum Beispiel Kapazitäten, Widerstände und Induktivitäten umfassen, innerhalb von Schichten des Layoutentwurfs 240. Dementsprechend kann mindestens ein parasitärer Effekt in der Schaltung 200 berechnet werden.In some embodiments, RCE includes the following operations. The design system 100 extracts parasitic components of the circuit 200 from the multiple layout structures. The design system 100 then performs circuit simulations and analysis according to the netlist file 220 and the parasitic components. In some embodiments, the EDA tool extracts the parasitic components, including, for example, capacitances, resistances, and inductances, within layers of the layout design 240. Accordingly, at least one parasitic effect in the circuit 200 can be calculated.

Nachdem Operation S2340 durchgeführt wurde und wenn die Mehrfach-Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, generiert der Prozessor 110 in einigen Ausführungsformen Daten, die den Layoutentwurf 240 in 2C anzeigen. In weiteren Ausführungsformen können die Daten, die den Layoutentwurf 240 in 2C anzeigen, für mindestens ein Werkzeug verwendet werden, das einen Halbleiterprozess zum Fertigen der Schaltung 200 auf der Grundlage der Mehrfach-Layout-Strukturen des Layoutentwurfs 240 in 2C durchführt. In einigen Ausführungsformen umfasst das vorstehend besprochene Werkzeug ein oder mehrere Halbleiterherstellungsgeräte zum Durchführen einer Halbleiterfertigung auf einem Wafer.After operation S2340 is performed and if the multiple layout structures satisfy the layout constraints, in some embodiments, the processor 110 generates data that represents the layout design 240 in 2C In further embodiments, the data that represents the layout design 240 in 2C display, be used for at least one tool that implements a semiconductor process for manufacturing the circuit 200 based on the multiple layout structures of the layout design 240 in 2C In some embodiments, the tool discussed above comprises one or more semiconductor manufacturing devices for performing semiconductor manufacturing on a wafer.

Ein Fachmann wird erkennen, dass eine Reihenfolge von Operationen im Verfahren 300 anpassbar ist. Ein Fachmann wird ferner erkennen, dass zusätzliche Operationen im Entwurfsverfahren 300 aufgenommen werden können, ohne vom Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.One skilled in the art will recognize that an order of operations in method 300 is adaptable. One skilled in the art will further recognize that additional operations may be included in design method 300 without departing from the scope of the present disclosure.

Zur Erleichterung des Verständnisses wird nachstehend als ein Beispiel das Entwurfsverfahren 300 unter Bezugnahme auf 5B beschrieben. In einigen Ausführungsformen ist das Entwurfsverfahren 300 auf Mehrfach-Layout-Strukturen anwendbar, die zahlreiche Verbindungsschichten aufweisen, bei denen jede der Verbindungsschichten mehreren Gruppen zugeordnet wird. Zur Veranschaulichung umfassen die Verbindungsschichten Metallschichten Metall-1, Metall-2 und Metall-3, wie nachstehend in 5B dargestellt. Die Metallschicht Metall-1 ist der Gruppe M1_A und der Gruppe M1_B zugeordnet. Die Metallschicht Metall-2 ist der Gruppe M2_A und einer Gruppe M2_B zugeordnet. Die Metallschicht Metall-3 ist der Gruppe M3_A und einer Gruppe M3_B zugeordnet.To facilitate understanding, the design method 300 is described below as an example with reference to 5B In some embodiments, the design method 300 is applicable to multi-layout structures having numerous interconnect layers, where each of the interconnect layers is assigned to multiple groups. To illustrate, the interconnect layers include metal layers Metal-1, Metal-2, and Metal-3, as described below in 5B shown. The metal layer Metal-1 is assigned to group M1_A and group M1_B. The metal layer Metal-2 is assigned to group M2_A and one group M2_B. The metal layer Metal-3 is assigned to group M3_A and one group M3_B.

Zur Veranschaulichung werden nachstehende Ausführungsformen mit den Metallschichten Metall-1, Metall-2 und Metall-3 beschrieben, aber die vorliegende Offenbarung ist diesbezüglich nicht beschränkt. Die Anzahl und Ausgestaltung der Verbindungsschichten und der Gruppen in nachstehenden Ausführungsformen werden zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Anzahlen und Ausgestaltungen der Verbindungsschichten und der Gruppen in nachstehenden Ausführungsformen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.For illustrative purposes, the following embodiments are described with the metal layers Metal-1, Metal-2, and Metal-3, but the present disclosure is not limited in this regard. The number and configuration of the interconnect layers and groups in the following embodiments are provided for illustrative purposes. Various numbers and configurations of the interconnect layers and groups in the following embodiments are within the scope of the present disclosure.

4 ist ein Ablaufdiagramm von Operation S340 des Verfahrens 300 in 3, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 5A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 500, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 5B ist ein schematisches Diagramm, das einen Layoutentwurf 520, welcher der Schaltung 200 in 2A entspricht, und Layoutstrukturen 540 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. Operationen, die in der Operation S340 in 4 aufgenommen sind, werden nachstehend unter Bezugnahme auf 5A-5B beschrieben. 4 is a flowchart of operation S340 of method 300 in 3 , according to some embodiments of the present disclosure. 5A shows a predefined description 500, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to some embodiments of the present disclosure. 5B is a schematic diagram showing a layout design 520 corresponding to the circuit 200 in 2A and shows layout structures 540 of the layout design 520, according to some embodiments of the present disclosure. Operations performed in operation S340 in 4 are described below with reference to 5A-5B described.

Die Operation S340 umfasst Teiloperationen S341 bis S343. In Teiloperation S341 werden die Layout-Einschränkungen durch die vorgegebene Beschreibung bestimmt. Zur Veranschaulichung liegen in einigen Ausführungsformen die Inhalte der vorgegebenen Beschreibung 500 in 5A in einer Form vor, die mit einer vorgegebenen Syntaxart übereinstimmen kann.Operation S340 includes sub-operations S341 to S343. In sub-operation S341, the layout constraints are determined by the predefined description. For illustration, in some embodiments, the contents of the predefined description 500 are located in 5A in a form that can match a given syntax type.

Wie in 5A dargestellt, umfasst die vorgegebene Beschreibung 500 zwei Codierabschnitte 501 und 502. Der Codierabschnitt 501 ist konfiguriert, um in einer vorgegebenen Sequenz die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M1 zuzuordnen. Mit anderen Worten spezifiziert der Codierabschnitt 501 die Layout-Einschränkungen für den Anschluss D des Schalters M1. Zur Veranschaulichung spezifiziert der Codierabschnitt 501, dass der Anschluss D des Schalters M1 sequenziell mit der Gruppe M1_A, der Gruppe M2_B und der Gruppe M1_B gekoppelt wird. Mit derartigen Einschränkungen wird erwartet, dass der Anschluss D des Schalters M1 mit der Gruppe M1_A gekoppelt wird, und mit der Gruppe M2_B über die Gruppe M1_A gekoppelt wird, und ferner mit der Gruppe M1_B über die Gruppe M1_A und die Gruppe M2_B gekoppelt wird.As in 5A As shown, the predetermined description 500 comprises two coding sections 501 and 502. The coding section 501 is configured to assign the groups of link layers to the port D of the switch M1 in a predetermined sequence. In other words, the coding section 501 specifies the layout constraints for the port D of the switch M1. For illustration, the coding section specifies Section 501, that the D terminal of the switch M1 is sequentially coupled to the group M1_A, the group M2_B, and the group M1_B. With such restrictions, it is expected that the D terminal of the switch M1 is coupled to the group M1_A, and to the group M2_B via the group M1_A, and further to the group M1_B via the group M1_A and the group M2_B.

Der Codierabschnitt 502 ist konfiguriert, um in einer vorgegebenen Sequenz die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen. Mit anderen Worten spezifiziert der Codierabschnitt 502 die Layout-Einschränkungen für den Anschluss D des Schalters M2. Zur Veranschaulichung spezifiziert der Codierabschnitt 502, dass der Anschluss D des Schalters M2 sequenziell mit der Gruppe M1_B und der Gruppe M2_B gekoppelt wird. Bei derartigen Einschränkungen wird erwartet, dass der Anschluss D des Schalters M2 mit der Gruppe M1_B gekoppelt wird, und mit der Gruppe M2_B durch die Gruppe M1_B gekoppelt wird.The coding section 502 is configured to assign the link layer groups to the port D of the switch M2 in a predetermined sequence. In other words, the coding section 502 specifies the layout constraints for the port D of the switch M2. For illustration, the coding section 502 specifies that the port D of the switch M2 is sequentially coupled to the group M1_B and the group M2_B. With such constraints, the port D of the switch M2 is expected to be coupled to the group M1_B and to the group M2_B through the group M1_B.

Unter weiterer Bezugnahme auf 4 extrahiert in Teiloperation S342 der Prozessor Layout-Strukturen aus dem Layoutentwurf. In Teiloperation S343 vergleicht der Prozessor die Layout-Strukturen 540 mit den Layout-Einschränkungen. Zur Veranschaulichung extrahiert der Prozessor 110 in 1 die Layout-Strukturen 540 in 5B aus dem Layoutentwurf 520 in 5B und vergleicht dann die Layout-Strukturen 540 mit den Layout-Einschränkungen, die in der vorgegebenen Beschreibung 500 in 5A definiert sind.With further reference to 4 In sub-operation S342, the processor extracts layout structures from the layout design. In sub-operation S343, the processor compares the layout structures 540 with the layout constraints. For illustration, the processor 110 extracts in 1 the layout structures 540 in 5B from the layout draft 520 in 5B and then compares the layout structures 540 with the layout constraints specified in the given description 500 in 5A are defined.

In einigen Ausführungsformen umfassen die Layout-Strukturen 540 die Verbindungsschichten, die zwischen den Schaltern M1 und M2 in dem Layoutentwurf 520 gekoppelt werden. Zur Veranschaulichung extrahiert, wie in 5B dargestellt, der Prozessor 110 sequenziell die Gruppen der Verbindungsschichten, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu dem Anschluss D des Schalters M2 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 541 der Layout-Strukturen 540 dargestellt. Der Anschluss D des Schalters M1 wird mit dem Anschluss D des Schalters M2 über die Gruppen M1_A, M2_B, M1_B, M2_B, M3_A, M2_B und M1_B in Sequenz gekoppelt. Der Prozessor 110 extrahiert außerdem die Gruppen der Verbindungsschichten, die von dem Anschluss D des Schalters M2 zu dem Anschluss D des Schalters M1 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 542 der Layout-Strukturen 540 dargestellt.In some embodiments, the layout structures 540 include the interconnect layers that are coupled between the switches M1 and M2 in the layout design 520. For illustrative purposes, extracted as in 5B As shown, the processor 110 sequentially extracts the groups of interconnect layers connected from the D port of switch M1 to the D port of switch M2, as shown in a portion 541 of the layout structures 540. The D port of switch M1 is coupled to the D port of switch M2 via the groups M1_A, M2_B, M1_B, M2_B, M3_A, M2_B, and M1_B in sequence. The processor 110 also extracts the groups of interconnect layers connected from the D port of switch M2 to the D port of switch M1, as shown in a portion 542 of the layout structures 540.

Außerdem vergleicht der Prozessor 110 den Abschnitt 541 in 5B mit dem Codierabschnitt 501 in 5A. Zur Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 501 auf die Gruppe M1_A die Gruppe M2_B, und auf die Gruppe M2_B folgt die Gruppe M1_B. Im Abschnitt 541 folgt auf die Gruppe M1_A ebenfalls die Gruppe M2_B, und auf die Gruppe M2_B folgt ebenfalls die Gruppe M1_B. Im Vergleich dazu stimmt die Sequenz der entsprechenden Layout-Strukturen, die im Abschnitt 541 beschrieben sind, mit der Sequenz von entsprechenden Gruppen, die in dem Codierabschnitt 501 beschrieben sind, überein. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 541 der Layout-Strukturen 540 für den Schalter M1 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 541 jener der Gruppen in dem Codierabschnitt 501 gleich ist.In addition, the processor 110 compares the section 541 in 5B with the coding section 501 in 5A . To illustrate, in the coding section 501, group M1_A is followed by group M2_B, and group M2_B is followed by group M1_B. In section 541, group M1_A is also followed by group M2_B, and group M2_B is also followed by group M1_B. By comparison, the sequence of the corresponding layout structures described in section 541 matches the sequence of corresponding groups described in the coding section 501. Accordingly, the processor 110 determines that section 541 of the layout structures 540 for switch M1 satisfies the layout constraints because the sequence of the groups in section 541 is the same as that of the groups in the coding section 501.

Der Prozessor 110 vergleicht außerdem den Abschnitt 542 in 5B mit dem Codierabschnitt 502 in 5A. Zur Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 502 auf die Gruppe M1_B die Gruppe M2_B. Im Abschnitt 542 folgt auf die Gruppe M1_B ebenfalls die Gruppe M2_B. Im Vergleich dazu stimmt die Sequenz der entsprechenden Layout-Strukturen, die im Abschnitt 542 beschrieben sind, mit der Sequenz von entsprechenden Gruppen, die in dem Codierabschnitt 502 beschrieben sind, überein. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 542 der Layout-Strukturen 540 für den Schalter M2 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 542 jener der Gruppen im Codierabschnitt 502 gleich ist.The processor 110 also compares the section 542 in 5B with the coding section 502 in 5A . For illustration, in the coding section 502, the group M1_B is followed by the group M2_B. In section 542, the group M1_B is also followed by the group M2_B. By comparison, the sequence of the corresponding layout structures described in section 542 matches the sequence of corresponding groups described in the coding section 502. Accordingly, the processor 110 determines that section 542 of the layout structures 540 for the switch M2 satisfies the layout constraints because the sequence of the groups in section 542 is the same as that of the groups in the coding section 502.

Nun wird Bezug auf 6A und 6B genommen. 6A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 600, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 6B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 520 in 5B und Layoutstrukturen 640 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 6A and 6B taken. 6A shows a predefined description 600, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to various embodiments of the present disclosure. 6B is a schematic diagram showing the layout design 520 in 5B and layout structures 640 of the layout design 520, according to various embodiments of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um die Verbindungsschichten jeweils dem Anschluss D des Schalters M1 bzw. dem Anschluss D des Schalters M2 gemäß der numerischen Reihenfolge der Verbindungsschichten zuzuordnen. Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 6A dargestellt, die vorgegebene Beschreibung 600 zwei Codierabschnitte 601 und 602. Der Codierabschnitt 601 ordnet in aufsteigender nummerischer Reihenfolge die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M1 zu. Zum Beispiel ordnet der Codierabschnitt 601 Metall-1, dann Metall-2, dann Metall-3 und so weiter zu. Der Codierabschnitt 602 ordnet gleichermaßen in aufsteigender nummerischer Reihenfolge die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zu.In some embodiments, the layout constraints are configured to assign the interconnect layers to the D port of switch M1 and the D port of switch M2, respectively, according to the numerical order of the interconnect layers. To illustrate, as shown in 6A As shown, the predefined description 600 has two coding sections 601 and 602. The coding section 601 assigns the groups of the connection layers to the terminal D of the switch M1 in ascending numerical order. For example, the coding section 601 assigns metal-1, then metal-2, then metal-3, and so on. The coding section 602 similarly assigns the groups pen of the connection layers to terminal D of switch M2.

Zu Veranschaulichung werden in 6A die Gruppe M1_A und die Gruppe M2_B sequenziell dem Anschluss D des Schalters M1 zugeordnet. Die Gruppe M1_B und die Gruppe M2_B werden sequenziell dem Anschluss D des Schalters M2 zugeordnet.For illustration, 6A Group M1_A and group M2_B are sequentially assigned to terminal D of switch M1. Group M1_B and group M2_B are sequentially assigned to terminal D of switch M2.

Außerdem extrahiert in einigen Ausführungsformen der Prozessor 110 die Layout-Strukturen 640 aus dem Layoutentwurf 520 in aufsteigender nummerischer Reihenfolge. Zum Beispiel extrahiert der Prozessor 110 Metall-1, dann Metall-2, dann Metall-3 und so weiter. Zur Veranschaulichung bestimmt, wie in 6B dargestellt, der Prozessor 110, dass die obere Gruppe der Verbindungsschicht auf den Anschlüssen D beider der Schalter M1 und M2 M3_A ist. Der Prozessor 110 extrahiert dann die Gruppen der Verbindungsschichten, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu der oberen Gruppe M3_A verbunden sind, in aufsteigender nummerischer Reihenfolge, wie in einem Abschnitt 641 der Layout-Strukturen 640 dargestellt. Der Anschluss D des Schalters M1 wird mit der oberen Gruppe M3_A über die Gruppen M1_A, M2_B, M1_B und M2_B gekoppelt. Der Prozessor 110 sortiert somit diese Gruppen in aufsteigender nummerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 641 dargestellt, gemäß der numerischen Reihenfolge der Metallschichten Metall-1 bis Metall-3.Additionally, in some embodiments, the processor 110 extracts the layout structures 640 from the layout design 520 in ascending numerical order. For example, the processor 110 extracts Metal-1, then Metal-2, then Metal-3, and so on. For illustrative purposes, as in 6B As shown, the processor 110 determines that the upper group of the interconnect layer on the D terminals of both switches M1 and M2 is M3_A. The processor 110 then extracts the groups of interconnect layers connected from the D terminal of switch M1 to the upper group M3_A in ascending numerical order, as shown in a section 641 of the layout structures 640. The D terminal of switch M1 is coupled to the upper group M3_A via the groups M1_A, M2_B, M1_B, and M2_B. The processor 110 thus sorts these groups in ascending numerical order, as shown in section 641, according to the numerical order of the metal layers Metal-1 through Metal-3.

Der Prozessor 110 generiert außerdem einen Abschnitt 642 der Layout-Strukturen 640 durch Extrahieren der Gruppen der Verbindungsschichten, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M3_A verbunden sind, in aufsteigender nummerischer Reihenfolge. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 601 und 602 in 6A jeweils mit dem Abschnitt 641 bzw. 642 in 6B zu vergleichen, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen entspricht.The processor 110 also generates a section 642 of the layout structures 640 by extracting the groups of the interconnection layers connected from the section D of the switch M2 to the upper group M3_A in ascending numerical order. Accordingly, the processor 110 is able to divide the coding sections 601 and 602 into 6A each with section 641 or 642 in 6B to check whether the layout design 520 conforms to the layout constraints.

Zur Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 601 auf die Gruppe M1_A die Gruppe M2_B. Im Abschnitt 641 folgt auf die Gruppe M1_A ebenfalls die Gruppe M2_B über die Gruppe M1_B. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 641 der Layout-Strukturen 640 für den Schalter M1 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 641 jener der Gruppen im Codierabschnitt 601 gleich ist.To illustrate, in coding section 601, group M1_A is followed by group M2_B. In section 641, group M1_A is also followed by group M2_B via group M1_B. Accordingly, processor 110 determines that section 641 of layout structures 640 for switch M1 satisfies the layout constraints because the sequence of groups in section 641 is the same as that of the groups in coding section 601.

Zur weiteren Veranschaulichung folgt in dem Codierabschnitt 602 auf die Gruppe M1_B die Gruppe M2_B. Im Abschnitt 641 folgt auf die Gruppe M1_A ebenfalls die Gruppe M2_B. Dementsprechend bestimmt der Prozessor 110, dass der Abschnitt 641 der Layout-Strukturen 640 für den Schalter M1 den Layout-Einschränkungen entspricht, da die Sequenz der Gruppen im Abschnitt 641 jener der Gruppen im Codierabschnitt 601 gleich ist.For further illustration, in coding section 602, group M1_B is followed by group M2_B. In section 641, group M1_A is also followed by group M2_B. Accordingly, processor 110 determines that section 641 of layout structures 640 for switch M1 satisfies the layout constraints because the sequence of groups in section 641 is the same as that of the groups in coding section 601.

Nun wird Bezug auf 7A und 7B genommen. 7A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 700, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 7B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 520 in 5B und Layoutstrukturen 740 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 7A and 7B taken. 7A shows a predefined description 700, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to alternative embodiments of the present disclosure. 7B is a schematic diagram showing the layout design 520 in 5B and layout structures 740 of layout design 520, according to alternative embodiments of the present disclosure.

Im Vergleich mit 6A-6B ordnet in einigen Ausführungsformen ein Codierabschnitt 701 der vorgegebenen Beschreibung 700 die Gruppen der Verbindungsschichten, in absteigender nummerischer Reihenfolge, dem Anschluss D des Schalters M1 zu. Zum Beispiel ordnet der Codierabschnitt 701 Metall-3, dann Metall-2, dann Metall-1 und so weiter zu. Ein Codierabschnitt 702 der vorgegebenen Beschreibung 700 ordnet gleichermaßen in absteigender nummerischer Reihenfolge die Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zu.Compared with 6A-6B In some embodiments, a coding portion 701 of the predetermined description 700 assigns the groups of interconnect layers, in descending numerical order, to the D terminal of switch M1. For example, the coding portion 701 assigns Metal-3, then Metal-2, then Metal-1, and so on. A coding portion 702 of the predetermined description 700 similarly assigns the groups of interconnect layers, in descending numerical order, to the D terminal of switch M2.

Zu Veranschaulichung werden in 7A die Gruppe M2_B und die Gruppe M1_A sequenziell dem Anschluss D des Schalters M1 zugeordnet. Die Gruppe M2_B und die Gruppe M1_B werden sequenziell dem Anschluss D des Schalters M2 zugeordnet. Wie in 7B dargestellt, extrahiert der Prozessor 110 die Gruppen, die von der oberen Gruppe M3_A zu dem Anschluss D des Schalters M1 verbunden sind. Dann sortiert der Prozessor 110 die Gruppen in den Layout-Strukturen in absteigender numerischer Reihenfolge, wie in einem Abschnitt 741 der Layout-Strukturen 740 dargestellt. Der Prozessor 110 extrahiert ferner die Gruppen in den Layout-Strukturen, die von der oberen Gruppe M3_A zu dem Anschluss D des Schalters M2 verbunden sind. Dann sortiert der Prozessor 110 die Gruppen in den Layout-Strukturen in absteigender numerischer Reihenfolge, wie in einem Abschnitt 742 der Layout-Strukturen 740 dargestellt. Folglich ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 701 und 702 in 7A jeweils mit dem Abschnitt 741 bzw. 742 in 7B zu vergleichen, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen entspricht. Die Art und Weise zum Überprüfen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen entspricht, ist im Hinblick auf 7A und 7B der vorstehend besprochenen Weise ähnlich, weswegen sie hier nicht weiter erörtert wird.For illustration, 7A The group M2_B and the group M1_A are sequentially assigned to the terminal D of the switch M1. The group M2_B and the group M1_B are sequentially assigned to the terminal D of the switch M2. As in 7B As shown, the processor 110 extracts the groups connected from the upper group M3_A to the terminal D of the switch M1. Then, the processor 110 sorts the groups in the layout structures in descending numerical order, as shown in a section 741 of the layout structures 740. The processor 110 further extracts the groups in the layout structures connected from the upper group M3_A to the terminal D of the switch M2. Then, the processor 110 sorts the groups in the layout structures in descending numerical order, as shown in a section 742 of the layout structures 740. Consequently, the processor 110 is able to divide the coding sections 701 and 702 into 7A each with section 741 or 742 in 7B to check whether the layout design 520 complies with the layout constraints. The way to check whether the layout design 520 complies with the layout constraints is with regard to 7A and 7B similar to the manner discussed above, which is why it will not be discussed further here.

Die vorgegebenen Sequenzen, die die aufsteigende numerische Reihenfolge und/oder die absteigende numerische Reihenfolge umfassen, werden lediglich zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Arten von Reihenfolgen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The predetermined sequences, including ascending numerical order and/or descending numerical order, are provided for illustrative purposes only. Various types of orders are within the scope of the present disclosure.

Nun wird Bezug auf 8A und 8B genommen. 8A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 800, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 8B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 240 in 2C und Layoutstrukturen 840 des Layoutentwurfs 240 zeigt, gemäß einigen anderen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 8A and 8B taken. 8A shows a predefined description 800, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to some other embodiments of the present disclosure. 8B is a schematic diagram showing the layout design 240 in 2C and layout structures 840 of layout design 240, according to some other embodiments of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 860, wie in 8B dargestellt, eine Gruppe einer der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M1 zuzuordnen, und um innerhalb eines Gebiets 861, wie in 8B dargestellt, eine andere Gruppe der einen von den Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen.In some embodiments, the layout constraints are configured to be within a region 860, as in 8B shown, to assign a group of one of the connection layers to the terminal D of the switch M1, and to be within an area 861, as shown in 8B shown, assigning another group of one of the connection layers to the terminal D of the switch M2.

Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 8A dargestellt, die vorgegebene Beschreibung 800 Codierabschnitte 801 und 802. Der Codierabschnitt 801 spezifiziert unter Verwendung des Parameters „ungefähr 0,1 um“, dass die Gruppe M1_A der Metallschicht Metall-1 dem Anschluss D des Schalters M1 innerhalb des Gebiets 860 zugeordnet wird. Der Parameter" ungefähr 0,1 um" spezifiziert, dass die Fläche des Gebiets 860 ungefähr 0,1*0,1 um2 beträgt. Wie in 8B dargestellt, ist in einigen Ausführungsformen die mittige Position des Gebiets 860 auf einen Kreuzungspunkt des Gategebiets 240C und des Oxiddefinitionsgebeits 240A des Schalters M1 eingestellt.For illustration purposes, as in 8A shown, the predetermined description 800 coding sections 801 and 802. The coding section 801 specifies, using the parameter "approximately 0.1 μm", that the group M1_A of the metal layer Metal-1 is assigned to the terminal D of the switch M1 within the region 860. The parameter "approximately 0.1 μm" specifies that the area of the region 860 is approximately 0.1*0.1 μm 2 . As shown in 8B As shown, in some embodiments, the central position of region 860 is set to an intersection point of the gate region 240C and the oxide definition region 240A of the switch M1.

Der Codierabschnitt 802 spezifiziert unter Verwendung des Parameters „ungefähr 0,1 um“, dass die Gruppe M1_B der Metallschicht Metall-1 dem Anschluss D des Schalters M2 innerhalb des Gebiets 861 zugeordnet wird. Demzufolge wird spezifiziert, dass die Fläche des Gebiets 861 ungefähr 0,1*0,1 um2 beträgt. In einigen Ausführungsformen ist die mittige Position des Gebiets 861 auf einen Kreuzungspunkt des Gategebiets 240D und des Oxiddefinitionsgebiets 240B des Schalters M2 eingestellt.The coding section 802 specifies, using the parameter "approximately 0.1 μm," that the group M1_B of the metal layer Metal-1 is assigned to the terminal D of the switch M2 within the region 861. Accordingly, the area of the region 861 is specified to be approximately 0.1*0.1 μm 2 . In some embodiments, the central position of the region 861 is set to an intersection point of the gate region 240D and the oxide definition region 240B of the switch M2.

Im Vergleich mit 5B extrahiert der Prozessor 110 die Layout-Strukturen innerhalb der Gebiete 860 und 861. Zur Veranschaulichung extrahiert, wie in 8B dargestellt, der Prozessor 110 sequenziell die Layout-Strukturen, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu dem Anschluss D des Schalters M2 innerhalb des Gebiets 860 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 841 der Layout-Strukturen 840 dargestellt. Der Prozessor 110 extrahiert sequenziell die Layout-Strukturen, die von dem Anschluss D des Schalters M2 zu dem Anschluss D des Schalters M1 innerhalb des Gebiets 861 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 842 der Layout-Strukturen 840 dargestellt. Der Prozessor 110 vergleicht ferner den Codierabschnitt 801 in 8A mit dem Abschnitt 841 in 8B, und vergleicht den Codierabschnitt 802 in 8A mit dem Abschnitt 842 in 8B. Daher ist der Prozessor 110 in der Lage zu bestimmen, ob der Layoutentwurf 240 den Layout-Einschränkungen, die in der vorgegebenen Beschreibung 800 definiert sind, entspricht.Compared with 5B the processor 110 extracts the layout structures within the areas 860 and 861. For illustration, as in 8B As shown, the processor 110 sequentially extracts the layout structures connected from the terminal D of the switch M1 to the terminal D of the switch M2 within the area 860, as shown in a section 841 of the layout structures 840. The processor 110 sequentially extracts the layout structures connected from the terminal D of the switch M2 to the terminal D of the switch M1 within the area 861, as shown in a section 842 of the layout structures 840. The processor 110 further compares the coding section 801 in 8A with section 841 in 8B , and compares the coding section 802 in 8A with section 842 in 8B . Therefore, the processor 110 is able to determine whether the layout design 240 conforms to the layout constraints defined in the predefined description 800.

Nun wird Bezug auf 9A und 9B genommen. 9A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 900, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß weiteren alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 9B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 520 in 5B und Layoutstrukturen 940 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß weiteren alternativen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 9A and 9B taken. 9A shows a predefined description 900, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to further alternative embodiments of the present disclosure. 9B is a schematic diagram showing the layout design 520 in 5B and layout structures 940 of the layout design 520, according to further alternative embodiments of the present disclosure.

Im Vergleich mit 8A sind in einigen Ausführungsformen die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 960, wie in 9B dargestellt, Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M1 zuzuordnen, und um sequenziell innerhalb eines Gebiets 961, wie in 9B dargestellt, Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen.Compared with 8A In some embodiments, the layout constraints are configured to be within a region 960, as in 9B shown, to assign groups of the link layers to the port D of the switch M1, and to sequentially within an area 961, as in 9B shown, groups of the link layers are assigned to the terminal D of the switch M2.

Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 9A dargestellt, die vorgegebene Beschreibung 900 Codierabschnitte 901 und 902. Der Codierabschnitt 901 spezifiziert, dass die Gruppe M1_A und die Gruppe M2_B innerhalb des Gebiets 960, das eine Fläche von ungefähr 0,05*0,05 um2 aufweist, sequenziell in einer vorgegebenen Sequenz mit dem Anschluss D des Schalters M1 gekoppelt werden. Bei derartigen Einschränkungen wird erwartet, dass der Anschluss D des Schalters M1 mit der Gruppe M1_A gekoppelt wird, und mit der Gruppe M2_B über die Gruppe M1_A innerhalb des Gebiets 961 gekoppelt wird. Der Codierabschnitt 902 spezifiziert, dass die Gruppe M1_B und die Gruppe M2_B innerhalb des Gebiets 961, das eine Fläche von ungefähr 0,05*0,05 um2 aufweist, sequenziell in einer vorgegebenen Sequenz mit dem Anschluss D des Schalters M2 gekoppelt werden. Bei derartigen Einschränkungen wird erwartet, dass der Anschluss D des Schalters M2 mit der Gruppe M1_B gekoppelt wird, und mit der Gruppe M2_B über die Gruppe M1_B innerhalb des Gebiets 961 gekoppelt wird.For illustration purposes, as in 9A As shown, the predetermined description 900 includes coding sections 901 and 902. The coding section 901 specifies that the group M1_A and the group M2_B within the region 960, which has an area of approximately 0.05*0.05 μm , are sequentially coupled to the terminal D of the switch M1 in a predetermined sequence. With such constraints, it is expected that the terminal D of the switch M1 is coupled to the group M1_A and is coupled to the group M2_B via the group M1_A within the region 961. The coding section 902 specifies that the group M1_B and the group M2_B are sequentially coupled to the terminal D of the switch M2 in a predetermined sequence within the region 961, which has an area of approximately 0.05*0.05 μm . With such restrictions, it is expected that the terminal D of the switch M2 is coupled to the group M1_B and is coupled with group M2_B via group M1_B within area 961.

Außerdem extrahiert der Prozessor 110 sequenziell die Layout-Strukturen innerhalb der Gebiete 960 und 961. Zur Veranschaulichung extrahiert, wie in 9B dargestellt, der Prozessor 110 sequenziell die Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu dem Anschluss D des Schalters M2 innerhalb des Gebiets 960 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 941 der Layout-Strukturen 940 dargestellt. Der Prozessor 110 extrahiert sequentiell die Gruppen in den Layout-Strukturen, die vom Anschluss D des Schalters M2 zum Anschluss D des Schalters M1 innerhalb des Gebiets 961 verbunden sind, wie in einem Abschnitt 942 der Layout-Strukturen 940 dargestellt. Der Prozessor 110 vergleicht ferner den Codierabschnitt 901 mit dem Abschnitt 941, und vergleicht den Codierabschnitt 902 mit dem Abschnitt 942. Daher ist der Prozessor 110 in der Lage zu bestimmen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen, die in der vorgegebenen Beschreibung 900 definiert sind, entspricht.In addition, the processor 110 sequentially extracts the layout structures within the regions 960 and 961. For illustration, as in 9B As shown, the processor 110 sequentially extracts the groups in the layout structures that are connected from the port D of the switch M1 to the port D of the switch M2 within the region 960, as shown in a portion 941 of the layout structures 940. The processor 110 sequentially extracts the groups in the layout structures that are connected from the port D of the switch M2 to the port D of the switch M1 within the region 961, as shown in a portion 942 of the layout structures 940. The processor 110 further compares the coding portion 901 with the portion 941, and compares the coding portion 902 with the portion 942. Therefore, the processor 110 is able to determine whether the layout design 520 conforms to the layout constraints defined in the predetermined description 900.

Nun wird Bezug auf 10A und 10B genommen. 10A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 1000, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 10B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 520 in 5B und Layoutstrukturen 1040 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß weiteren verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 10A and 10B taken. 10A shows a predefined description 1000, the layout constraints for the circuit 200 in 2A according to further various embodiments of the present disclosure. 10B is a schematic diagram showing the layout design 520 in 5B and layout structures 1040 of the layout design 520, according to further various embodiments of the present disclosure.

Im Vergleich mit 9A sind in einigen Ausführungsformen die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 1060, wie in 10B dargestellt, in aufsteigender numerischer Reihenfolge Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen. Die Layout-Einschränkungen sind ferner konfiguriert, um in aufsteigender Reihenfolge innerhalb eines Gebiets 1061, wie in 10B dargestellt, Gruppen der Verbindungsschichten dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen.Compared with 9A In some embodiments, the layout constraints are configured to be within a region 1060, as in 10B shown, to assign groups of link layers to port D of switch M2 in ascending numerical order. The layout constraints are further configured to assign groups of link layers in ascending order within a region 1061, as shown in 10B shown, groups of the link layers are assigned to the terminal D of the switch M2.

Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 10A dargestellt, die vorgegebene Beschreibung 1000 Codierabschnitte 1001 und 1002. Der Codierabschnitt 1001 spezifiziert, dass die Gruppe M1_A und die Gruppe M2_A innerhalb des Gebiets 1060, das eine Fläche von ungefähr 0,1*0,1 um2 aufweist, sequenziell dem Anschluss D des Schalters M1 zugeordnet werden. Der Codierabschnitt 1002 spezifiziert, dass die Gruppe M1_B und die Gruppe M2_B innerhalb des Gebiets 1061, das eine Fläche von ungefähr 0,05*0,05 um2 aufweist, sequenziell dem Anschluss D des Schalters M2 zugeordnet werden.For illustration purposes, as in 10A As shown, the predetermined description includes 1000 coding sections 1001 and 1002. The coding section 1001 specifies that the group M1_A and the group M2_A within the region 1060, which has an area of approximately 0.1*0.1 μm , are sequentially assigned to the terminal D of the switch M1. The coding section 1002 specifies that the group M1_B and the group M2_B within the region 1061, which has an area of approximately 0.05*0.05 μm , are sequentially assigned to the terminal D of the switch M2.

Außerdem bestimmt der Prozessor 110 die oberen Gruppen der Verbindungsschichten jeweils innerhalb des Gebiets 1060 bzw. 1061. Zur Veranschaulichung ist in 10B die obere Gruppe der Verbindungsschichten innerhalb des Gebiets 1060 die Gruppe M3_A, und die obere Gruppe der Verbindungsschichten innerhalb des Gebiets 1061 ist die Gruppe M2_B. Der Prozessor 110 extrahiert die Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu der oberen Gruppe M3_A verbunden sind. Dann sortiert der Prozessor 110 die Gruppen in den Layout-Strukturen in aufsteigender numerischer Reihenfolge, wie in einem Abschnitt 1041 der Layout-Strukturen 1040 dargestellt. Wie in 10B dargestellt, wird der Anschluss D des Schalters M1 mit der oberen Gruppe M3_A über die Gruppen M1_A, M2_B, M1_B und M2_B gekoppelt. Der Prozessor 110 sortiert diese Gruppen in aufsteigender nummerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 1041 dargestellt.In addition, the processor 110 determines the upper groups of the connection layers within the area 1060 and 1061, respectively. For illustration, 10B The upper group of interconnect layers within region 1060 is group M3_A, and the upper group of interconnect layers within region 1061 is group M2_B. The processor 110 extracts the groups in the layout structures that are connected from the terminal D of the switch M1 to the upper group M3_A. Then, the processor 110 sorts the groups in the layout structures in ascending numerical order, as shown in a section 1041 of the layout structures 1040. As shown in 10B As shown, terminal D of switch M1 is coupled to the upper group M3_A via groups M1_A, M2_B, M1_B, and M2_B. Processor 110 sorts these groups in ascending numerical order, as shown in section 1041.

Der Prozessor 110 generiert außerdem einen Abschnitt 1042 der Layout-Strukturen 1040 durch Extrahieren der Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M2_B verbunden sind. Der Prozessor 110 sortiert dann die Gruppen in den Layout-Strukturen in aufsteigender nummerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 1042 dargestellt. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 1001 und 1002 in 10A jeweils mit dem Abschnitt 1041 bzw. 1042 in 10B zu vergleichen, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen entspricht.The processor 110 also generates a section 1042 of the layout structures 1040 by extracting the groups in the layout structures that are connected from the section D of the switch M2 to the upper group M2_B. The processor 110 then sorts the groups in the layout structures in ascending numerical order, as shown in section 1042. Accordingly, the processor 110 is able to divide the coding sections 1001 and 1002 into 10A each with section 1041 or 1042 in 10B to check whether the layout design 520 conforms to the layout constraints.

Nun wird Bezug auf 11A und 11B genommen. 11A zeigt eine vorgegebene Beschreibung 1100, die Layout-Einschränkungen für die Schaltung 200 in 2A umfasst, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung. 11B ist ein schematisches Diagramm, das den Layoutentwurf 520 in 5B und Layoutstrukturen 1140 des Layoutentwurfs 520 zeigt, gemäß anderen verschiedenen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 11A and 11B taken. 11A shows a predefined description 1100 that defines layout constraints for the circuit 200 in 2A according to other various embodiments of the present disclosure. 11B is a schematic diagram showing the layout design 520 in 5B and layout structures 1140 of the layout design 520, according to other various embodiments of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen sind die Layout-Einschränkungen konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 1160, wie in 11B dargestellt, Gruppen der Verbindungsschichten in absteigender numerischer Reihenfolge dem Anschluss D des Schalters M1 zuzuordnen. Die Layout-Einschränkungen sind ferner konfiguriert, um innerhalb eines Gebiets 1161, wie in 11B dargestellt, Gruppen der Verbindungsschichten in absteigender nummerischer Reihenfolge dem Anschluss D des Schalters M2 zuzuordnen.In some embodiments, the layout constraints are configured to be within a region 1160, as shown in 11B shown, to assign groups of the link layers in descending numerical order to the port D of the switch M1. The layout constraints are further configured to be within a region 1161, as shown in 11B shown, groups of the link layers are assigned in descending numerical order to the terminal D of the switch M2.

Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 11A dargestellt, die vorgegebene Beschreibung 1100 Codierabschnitte 1101 und 1102. Der Codierabschnitt 1101 spezifiziert, dass die Gruppe M2_B und die Gruppe M1_A innerhalb des Gebiets 1160, das eine Fläche von ungefähr 0,1*0,1 um2 aufweist, sequenziell dem Anschluss D des Schalters M1 zugeordnet werden. Der Codierabschnitt 1102 spezifiziert, dass die Gruppe M2_B und die Gruppe M1_B innerhalb des Gebiets 1161, das eine Fläche von ungefähr 0,1*0,1 um2 aufweist, sequenziell dem Anschluss D des Schalters M2 zugeordnet werden.For illustration purposes, as in 11A shown, the given description 1100 Coding sections 1101 and 1102. Coding section 1101 specifies that group M2_B and group M1_A within region 1160, which has an area of approximately 0.1*0.1 μm , are sequentially assigned to terminal D of switch M1. Coding section 1102 specifies that group M2_B and group M1_B within region 1161, which has an area of approximately 0.1*0.1 μm , are sequentially assigned to terminal D of switch M2.

Dann bestimmt der Prozessor 110 die obere Gruppe der Verbindungsschichten jeweils innerhalb des Gebiets 1160 bzw. 1161. Zur Veranschaulichung ist in 11B die obere Gruppe der Verbindungsschichten innerhalb des Gebiets 1160 die Gruppe M3_A, und die obere Gruppe der Verbindungsschichten innerhalb des Gebiets 1161 ist die Gruppe M3_A. Der Prozessor 110 extrahiert dann die Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Anschluss D des Schalters M1 zu der oberen Gruppe M3_A verbunden sind, in absteigender Reihenfolge, wie in einem Abschnitt 1141 der Layout-Strukturen 1060 dargestellt. Wie in 11B dargestellt, wird der Anschluss D des Schalters M1 mit der oberen Gruppe M3_A über die Gruppen M1_A, M2_B, und M1_B gekoppelt. Der Prozessor 110 sortiert diese Gruppen in absteigender Reihenfolge, wie im Abschnitt 1141 dargestellt.Then, the processor 110 determines the upper group of connection layers within the area 1160 or 1161, respectively. For illustration, 11B the upper group of interconnect layers within region 1160 is group M3_A, and the upper group of interconnect layers within region 1161 is group M3_A. The processor 110 then extracts the groups in the layout structures connected from the terminal D of the switch M1 to the upper group M3_A in descending order, as shown in a section 1141 of the layout structures 1060. As shown in 11B As shown, terminal D of switch M1 is coupled to the upper group M3_A via groups M1_A, M2_B, and M1_B. Processor 110 sorts these groups in descending order, as shown in section 1141.

Gleichermaßen generiert der Prozessor 110 einen Abschnitt 1142 der Layout-Strukturen 1040 durch Extrahieren der Gruppen in den Layout-Strukturen, die von dem Abschnitt D des Schalters M2 zu der oberen Gruppe M2_B verbunden sind. Der Prozessor 110 sortiert dann die Gruppen in den Layout-Strukturen in absteigender numerischer Reihenfolge, wie im Abschnitt 1142 dargestellt. Dementsprechend ist der Prozessor 110 in der Lage, die Codierabschnitte 1101 und 1102 in 11A jeweils mit dem Abschnitt 1141 bzw. 1142 in 11B zu vergleichen, um zu überprüfen, ob der Layoutentwurf 520 den Layout-Einschränkungen entspricht.Similarly, the processor 110 generates a section 1142 of the layout structures 1040 by extracting the groups in the layout structures that are connected from the section D of the switch M2 to the upper group M2_B. The processor 110 then sorts the groups in the layout structures in descending numerical order, as shown in section 1142. Accordingly, the processor 110 is able to divide the coding sections 1101 and 1102 into 11A each with section 1141 or 1142 in 11B to check whether the layout design 520 conforms to the layout constraints.

Die Anordnungen der Layout-Einschränkungen, die in 5A bis 11A dargestellt sind, sind zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Anordnungen der Layout-Einschränkungen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The arrangements of the layout constraints that are in 5A to 11A are provided for illustrative purposes. Various arrangements of the layout constraints are within the scope of the present disclosure.

Nun wird Bezug auf 12 genommen. 12 ist ein schematisches Diagramm, das eine vorgegebene Beschreibung darstellt, welche die Schaltung in 2A und die Layout-Einschränkungen in einer Netzlistendatei 1220 anzeigt, gemäß einigen Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Now reference is made to 12 taken. 12 is a schematic diagram that represents a given description that shows the circuit in 2A and displays the layout constraints in a netlist file 1220, according to some embodiments of the present disclosure.

In einigen Ausführungsformen werden die vorgegebenen Beschreibungen 500 bis 1100, wie vorstehend dargestellt, in einer unabhängigen Datei beschrieben. Die unabhängige Datei wird in das Entwurfssystem 100 eingegeben, um die Layout-Einschränkungen zu extrahieren. Alternativ sind in einigen anderen Ausführungsformen die vorgegebenen Beschreibungen 500 bis 1100, wie vorstehend dargestellt, in der Netzlistendatei, die eine Beschreibung der Schaltung 200 umfasst, beschrieben.In some embodiments, the predetermined descriptions 500 to 1100, as illustrated above, are described in an independent file. The independent file is input into the design system 100 to extract the layout constraints. Alternatively, in some other embodiments, the predetermined descriptions 500 to 1100, as illustrated above, are described in the netlist file that includes a description of the circuit 200.

Zur Veranschaulichung umfasst, wie in 12 dargestellt, die Netzlistendatei 1220 zwei Beschreibungen 1221 und 1222. Die Beschreibung 1221 ist konfiguriert, um die Schaltung 200 zu beschreiben, wie in der Beschreibung in der Netzlistendatei 220 in 2B dargestellt. Die Beschreibung 1222 ist derart konfiguriert, dass sie die Layout-Einschränkungen beschreibt, zum Beispiel wie in 11A dargestellt.For illustration purposes, as in 12 shown, the netlist file 1220 two descriptions 1221 and 1222. The description 1221 is configured to describe the circuit 200 as described in the netlist file 220 in 2B The description 1222 is configured to describe the layout constraints, for example, as shown in 11A shown.

Die Anordnung der Layout-Einschränkungen in 12 ist zu Veranschaulichungszwecken angegeben. Verschiedene Anordnungen der Layout-Einschränkungen liegen innerhalb des Schutzumfangs der vorliegenden Offenbarung.The arrangement of layout constraints in 12 is provided for illustrative purposes. Various arrangements of the layout restrictions are within the scope of the present disclosure.

In verschiedenen Ausführungsformen können das Verfahren 300 und die Operation S340 davon auf verschiedene Layout-Strukturen und/oder Schichten, einschließlich von zum Beispiel Back-End-of-Line (BEOL), Middle-End-of-Line (MEOL) und/oder Front-End-of-Line (FEOL), angewendet werden.In various embodiments, the method 300 and operation S340 thereof may be applied to various layout structures and/or layers, including, for example, back-end-of-line (BEOL), middle-end-of-line (MEOL), and/or front-end-of-line (FEOL).

Zur Erleichterung des Verständnisses sind die vorstehenden Ausführungsformen mit einer Anwendung zum Fertigen von zwei Schaltern angegeben. Die vorstehenden Ausführungsformen können angewendet werden, um einen einzelnen Schalter oder zwei oder mehr Schalter zu fertigen. Zu Veranschaulichungszwecken werden die vorstehenden Ausführungsformen als eine Implementierung der Schalter beschrieben. Die vorliegende Offenbarung ist nicht darauf beschränkt. Verschiedene Elemente können gemäß den vorstehenden Ausführungsformen implementiert werden und bilden daher den Schutzumfang der vorliegenden Offenbarung.For ease of understanding, the above embodiments are provided with an application for manufacturing two switches. The above embodiments can be applied to manufacture a single switch or two or more switches. For illustrative purposes, the above embodiments are described as one implementation of the switches. The present disclosure is not so limited. Various elements can be implemented according to the above embodiments and therefore form the scope of the present disclosure.

In diesem Dokument kann der Begriff „gekoppelt“ ebenfalls als „elektrisch gekoppelt“ bezeichnet werden, und der Begriff „verbunden“ kann als „elektrisch verbunden“ bezeichnet werden. „Gekoppelt“ und „verbunden“ können außerdem verwendet werden, um anzuzeigen, dass zwei oder mehr Elemente miteinander zusammenwirken oder interagieren.Throughout this document, the term "coupled" may also be referred to as "electrically coupled," and the term "connected" may be referred to as "electrically connected." "Coupled" and "connected" may also be used to indicate that two or more elements cooperate or interact with each other.

In einigen Ausführungsformen umfasst ein Verfahren zum Layoutüberprüfen die nachstehende Operation. Gruppen, die Layout-Strukturen von Verbindungsschichten anzeigen, werden einer Schaltung zugeordnet, um Layout-Einschränkungen der Schaltung zu bestimmen. Eine erste Gruppe von den Gruppen wird einem ersten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Eine zweite Gruppe von den Gruppen wird einem zweiten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Das Zuordnen der Gruppen umfasst ein Zuordnen von mindestens einer, die erste Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen zu dem ersten Anschluss in einer ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets eines ersten Elements in der Schaltung, und ein Zuordnen von mindestens einer, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen zu dem zweiten Anschluss in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets eines zweiten Elements in der Schaltung. Der erste Anschluss ist ein Anschluss des ersten Elements, und der zweite Anschluss ist ein Anschluss des zweiten Elements. Layout-Strukturen werden aus einem Layoutentwurf für die Schaltung extrahiert. Die Layout-Strukturen werden mit den Layout-Einschränkungen verglichen. Daten zum Fertigen der Schaltung, die den Layoutentwurf anzeigen, werden bei einer Bedingung generiert, dass die Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen.In some embodiments, a method for checking layout includes the following Operation. Groups indicating layout structures of interconnect layers are assigned to a circuit to determine layout constraints of the circuit. A first group of the groups is assigned to a first terminal in the circuit. A second group of the groups is assigned to a second terminal in the circuit. Assigning the groups includes assigning at least one of the groups comprising the first group to the first terminal in a first predetermined sequence and within a first region of a first element in the circuit, and assigning at least one of the groups comprising the second group to the second terminal in a second predetermined sequence and within a second region of a second element in the circuit. The first terminal is a terminal of the first element, and the second terminal is a terminal of the second element. Layout structures are extracted from a layout design for the circuit. The layout structures are compared with the layout constraints. Data for fabricating the circuit indicating the layout design is generated under a condition that the layout structures satisfy the layout constraints.

Außerdem wird ein System zum Layoutüberprüfen offenbart, das einen Speicher und einen Prozessor umfasst. Der Speicher ist zum Speichern von Computerprogrammcodes konfiguriert. Der Prozessor ist derart konfiguriert, dass er die Computerprogrammcodes in dem Speicher ausführt, um Layout-Strukturen aus einem Layoutentwurf für eine Schaltung zu extrahieren, um Layout-Einschränkungen für die Schaltung, die mit den Layout-Strukturen zu vergleichen sind, zu extrahieren, und um Daten, die den Layoutentwurf anzeigen, zum Fertigen der Schaltung bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen den Layout-Einschränkungen entsprechen, zu generieren. Die Layout-Einschränkungen sind konfiguriert, um in einer ersten vorgegebenen Sequenz mehrere Gruppen, die Layout-Strukturen von Verbindungsschichten anzeigen, der Schaltung zuordnen. Eine erste Gruppe von den Gruppen wird einem ersten Anschluss der Schaltung zugeordnet. Eine zweite Gruppe von den Gruppen wird einem zweiten Anschluss in der Schaltung zugeordnet. Die Layout-Einschränkungen sind konfiguriert, um in der ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets eines ersten Elements in der Schaltung mindestens eine, die erste Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen dem ersten Anschluss zuzuordnen, und um in der zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets eines zweiten Elements in der Schaltung mindestens eine, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe von den Gruppen dem zweiten Anschluss zuzuordnen. Der erste Anschluss ist ein Anschluss des ersten Elements, und der zweite Anschluss ist ein Anschluss des zweiten Elements.Also disclosed is a system for layout verification comprising a memory and a processor. The memory is configured to store computer program code. The processor is configured to execute the computer program code in the memory to extract layout structures from a layout design for a circuit, to extract layout constraints for the circuit to be compared with the layout structures, and to generate data indicative of the layout design for fabricating the circuit under a condition that the layout structures meet the layout constraints. The layout constraints are configured to assign, in a first predetermined sequence, a plurality of groups indicative of layout structures of interconnect layers to the circuit. A first group of the groups is assigned to a first terminal of the circuit. A second group of the groups is assigned to a second terminal in the circuit. The layout constraints are configured to assign at least one of the groups comprising the first group to the first terminal in the first predetermined sequence and within a first region of a first element in the circuit, and to assign at least one of the groups comprising the second group to the second terminal in the second predetermined sequence and within a second region of a second element in the circuit. The first terminal is a terminal of the first element, and the second terminal is a terminal of the second element.

Das Vorstehende skizziert Merkmale von mehreren Ausführungsformen, so dass ein Fachmann die Aspekte der vorliegenden Offenbarung besser verstehen kann. Ein Fachmann sollte erkennen, dass er die vorliegende Offenbarung als eine Grundlage zum Entwerfen und Modifizieren anderer Prozesse und Strukturen leicht verwenden kann, um die gleichen Aufgaben durchzuführen und/oder die gleichen Vorteile der hier vorgestellten Ausführungsformen zu erzielen. Ein Fachmann sollte ebenfalls verstehen, dass derartige äquivalente Ausführungen nicht vom Erfindungsgedanken und Umfang der vorliegenden Offenbarung abweichen, und dass er verschiedene Änderungen, Ersetzungen und Modifizierungen hier vornehmen kann, ohne vom Erfindungsgedanken und Umfang der vorliegenden Offenbarung abzuweichen.The foregoing outlines features of several embodiments so that one skilled in the art can better understand aspects of the present disclosure. One skilled in the art should recognize that they can readily use the present disclosure as a basis for designing and modifying other processes and structures to perform the same tasks and/or achieve the same advantages of the embodiments presented herein. One skilled in the art should also understand that such equivalent embodiments do not depart from the spirit and scope of the present disclosure, and that they may make various changes, substitutions, and modifications herein without departing from the spirit and scope of the present disclosure.

Claims (8)

Verfahren (300) zum Layoutüberprüfen, umfassend: Zuordnen (S341) mehrerer Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) von Verbindungsschichten (M1, M2, M3) anzeigen, zu einer Schaltung (200), um Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) der Schaltung (200) zu bestimmen, wobei eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die erste Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem ersten Anschluss, wobei der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, und eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) in der Schaltung (200), von mindestens einer, die zweite Gruppe umfassenden Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem zweiten Anschluss, wobei der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist, Extrahieren (S342) mehrerer Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus einem Layoutentwurf (240, 520) für die Schaltung (200), Vergleichen (S343) der Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) mit den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), und Generieren von Daten, die den Layoutentwurf (240, 520) anzeigen, zum Fertigen der Schaltung (200) bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) entsprechen.Method (300) for layout checking, comprising: Assigning (S341) a plurality of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) indicating layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) of interconnect layers (M1, M2, M3) to a circuit (200) in order to determine layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) of the circuit (200), wherein a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a first predetermined sequence and within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the first terminal, wherein the first terminal is a terminal of the first element (M1) and a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal in the circuit (200), and the assignment of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, in a second predetermined sequence and within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the second terminal, wherein the second terminal is a terminal of the second element (M2), extracting (S342) a plurality of layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from a layout design (240, 520) for the circuit (200), comparing (S343) the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) with the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102), and generating data indicating the layout design (240, 520) for manufacturing the circuit (200) under a condition that the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) satisfy the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102). Verfahren (300) nach Anspruch 1, wobei eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, dem ersten Anschluss, einer ersten Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die in einer vorgegebenen Sequenz mit einer oberen Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) zu koppeln sind, wobei die erste Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) die erste Verbindungsschicht umfasst.Procedure (300) according to Claim 1 , wherein a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal in the circuit (200), and assigning the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, to the first terminal, a first number of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) which are to be coupled in a predetermined sequence to an upper group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), wherein the first number of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises the first connection layer. Verfahren (300) nach Anspruch 2, wobei eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und das Zuordnen der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) umfasst: Zuordnen, dem zweiten Anschluss, einer zweiten Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die in der vorgegebenen Sequenz mit der oberen Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) zu koppeln sind, wobei die zweite Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) die zweite Gruppe umfasst.Procedure (300) according to Claim 2 , wherein a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal in the circuit (200), and assigning the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises: assigning, to the second terminal, a second number of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to be coupled in the predetermined sequence to the upper group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), wherein the second number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises the second group. Verfahren (300) nach Anspruch 3, wobei die erste Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) ferner innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) der Schaltung (200) zugeordnet wird, der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, die zweite Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) ferner innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) der Schaltung (200) zugeordnet wird, und der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist.Procedure (300) according to Claim 3 , wherein the first number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is further assigned within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) of the circuit (200), the first terminal is a terminal of the first element (M1), the second number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is further assigned within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) of the circuit (200), and the second terminal is a terminal of the second element (M2). Verfahren (300) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei das Extrahieren der Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus dem Layoutentwurf (240, 520) umfasst: Extrahieren, innerhalb des ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160), von mindestens einer Layout-Struktur (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) von den Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus dem Layoutentwurf (240, 520).The method (300) according to any one of the preceding claims, wherein extracting the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from the layout design (240, 520) comprises: Extracting, within the first region (860, 960, 1060, 1160), at least one layout structure (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from the layout draft (240, 520). System (100) zum Layoutüberprüfen, umfassend: einen Speicher (120), der zum Speichern von Computerprogrammcodes konfiguriert ist, und einen zum Ausführen der Computerprogrammcodes in dem Speicher (120) konfigurierten Prozessor (110) zum: Extrahieren mehrerer Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) aus einem Layoutentwurf (240, 520) für die Schaltung (200), Extrahieren von Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) für die Schaltung (200), die mit den Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) zu vergleichen sind, wobei die Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) konfiguriert sind, um in einer ersten vorgegebenen Sequenz mehrere Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) von Verbindungsschichten (M1, M2, M3) anzeigen, zu der Schaltung (200) zuzuordnen, wobei eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss der Schaltung (200) zugeordnet wird, und die Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) konfiguriert sind, um in der ersten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) in der Schaltung (200), mindestens eine, die erste Gruppe umfassende Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem ersten Anschluss zuzuordnen, wobei der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, und wobei eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss der Schaltung (200) zugeordnet wird, und die Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) konfiguriert sind, um in einer zweiten vorgegebenen Sequenz und innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) in der Schaltung (200), mindestens eine, die zweite Gruppe umfassende Gruppe (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) dem zweiten Anschluss zuzuordnen, wobei der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist, und Generieren von Daten, die den Layoutentwurf (240, 520) anzeigen, zum Fertigen der Schaltung (200) bei einer Bedingung, dass die Layout-Strukturen (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) den Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) entsprechen.A system (100) for layout verification, comprising: a memory (120) configured to store computer program codes, and a processor (110) configured to execute the computer program codes in the memory (120) for: extracting a plurality of layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) from a layout design (240, 520) for the circuit (200), extracting layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) for the circuit (200) which are to be compared with the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142), wherein the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) are configured to define, in a first predetermined sequence, a plurality of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) of interconnect layers (M1, M2, M3), to the circuit (200), wherein a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal of the circuit (200), and the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) are configured to be arranged in the first predetermined sequence and within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to the first terminal, wherein the first terminal is a terminal of the first element (M1), and wherein a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal of the circuit (200), and the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) are configured to assign, in a second predetermined sequence and within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) in the circuit (200), at least one group (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprising the second group from the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) to the second terminal, wherein the second terminal is a terminal of the second element (M2), and generate data that represents the layout design (240, 520) for manufacturing the circuit (200) under a condition that the layout structures (541, 542, 641, 642, 741, 742, 841, 842, 941, 942, 1041, 1042, 1141, 1142) correspond to the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102). System (100) nach Anspruch 6, wobei eine erste Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem ersten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, eine zweite Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) einem zweiten Anschluss in der Schaltung (200) zugeordnet wird, und die Layout-Einschränkungen (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) konfiguriert sind, um dem ersten Anschluss eine erste Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die in der ersten vorgegebenen Sequenz mit einer oberen Gruppe von den Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) zu koppeln sind, zuzuordnen und um dem zweiten Anschluss eine zweite Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B), die in der ersten vorgegebenen Sequenz mit der oberen Gruppe zu koppeln sind, zuzuordnen wobei die erste Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) die erste Gruppe umfasst, und die zweite Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) die zweite Gruppe umfasst.System (100) according to Claim 6 , wherein a first group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a first terminal in the circuit (200), a second group of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is assigned to a second terminal in the circuit (200), and the layout constraints (501, 502, 601, 602, 701, 702, 801, 802, 901, 902, 1001, 1002, 1101, 1102) are configured to assign to the first terminal a first number of the groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) that are connected in the first predetermined sequence to an upper group of the Groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) are to be coupled, and to assign to the second terminal a second number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) which are to be coupled to the upper group in the first predetermined sequence, wherein the first number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises the first group, and the second number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) comprises the second group. System (100) nach Anspruch 7, wobei die erste Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) ferner innerhalb eines ersten Gebiets (860, 960, 1060, 1160) eines ersten Elements (M1) der Schaltung (200) zugeordnet wird, der erste Anschluss ein Anschluss des ersten Elements (M1) ist, die zweite Anzahl der Gruppen (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) ferner innerhalb eines zweiten Gebiets (861, 961, 1061, 1161) eines zweiten Elements (M2) der Schaltung (200) zugeordnet wird, und der zweite Anschluss ein Anschluss des zweiten Elements (M2) ist.System (100) according to Claim 7 , wherein the first number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is further assigned within a first region (860, 960, 1060, 1160) of a first element (M1) of the circuit (200), the first terminal is a terminal of the first element (M1), the second number of groups (M1_A, M1_B, M2_A, M2_B, M3_A, M3_B) is further assigned within a second region (861, 961, 1061, 1161) of a second element (M2) of the circuit (200), and the second terminal is a terminal of the second element (M2).
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9886544B2 (en) * 2016-02-23 2018-02-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Layout checking system and method
US10733352B2 (en) 2017-11-21 2020-08-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Integrated circuit and layout method for standard cell structures
DE102018124711B4 (en) 2017-11-21 2024-01-11 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Ltd. Layout procedures for standard cell structures

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080066027A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-13 Stefanus Mantik Computationally efficient design rule checking for circuit interconnect routing design
US20130320555A1 (en) * 2012-05-31 2013-12-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Eda tool and method, and integrated circuit formed by the method
US20150121317A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Multi-patterning system and method
US9396301B1 (en) * 2014-05-30 2016-07-19 Cadence Design Systems, Inc. Method, system, and computer program product for interconnecting circuit components with track patterns for electronic circuit designs

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2677256B2 (en) * 1995-06-26 1997-11-17 日本電気株式会社 Delay optimization method
US6467074B1 (en) * 2000-03-21 2002-10-15 Ammocore Technology, Inc. Integrated circuit architecture with standard blocks
US7418683B1 (en) * 2005-09-21 2008-08-26 Cadence Design Systems, Inc Constraint assistant for circuit design
US7873928B2 (en) * 2007-10-31 2011-01-18 Springsoft Usa, Inc. Hierarchical analog IC placement subject to symmetry, matching and proximity constraints
JP2009182161A (en) * 2008-01-31 2009-08-13 Renesas Technology Corp Semiconductor device
US7900178B2 (en) 2008-02-28 2011-03-01 International Business Machines Corporation Integrated circuit (IC) design method, system and program product
JP2010039682A (en) * 2008-08-04 2010-02-18 Ricoh Co Ltd Circuit design support device, program for device, recording medium recording program, circuit design support method, and method of manufacturing semiconductor integrated circuit
TW201102848A (en) * 2009-07-02 2011-01-16 Univ Nat Taiwan Method for concurrent migration and decomposition of integrated circuit layout
US8631379B2 (en) 2010-02-09 2014-01-14 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Decomposing integrated circuit layout
US8584052B2 (en) 2010-12-22 2013-11-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Cell layout for multiple patterning technology
US9152039B2 (en) * 2011-10-18 2015-10-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Multiple patterning technology method and system for achieving minimal pattern mismatch
US20130205266A1 (en) 2012-02-03 2013-08-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co.,Ltd. Coloring/grouping patterns for multi-patterning
US8667444B2 (en) * 2012-02-17 2014-03-04 Synopsys, Inc. Concurrent placement and routing using hierarchical constraints
US8793638B2 (en) * 2012-07-26 2014-07-29 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of optimizing design for manufacturing (DFM)
US8850374B2 (en) * 2012-11-06 2014-09-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of reducing parasitic mismatch
US8850368B2 (en) * 2013-01-30 2014-09-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Double patterning technology (DPT) layout routing
US9122833B2 (en) * 2013-11-21 2015-09-01 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Method of designing fin field effect transistor (FinFET)-based circuit and system for implementing the same
US9026971B1 (en) 2014-01-07 2015-05-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Multi-patterning conflict free integrated circuit design
US9613175B2 (en) 2014-01-28 2017-04-04 Globalfoundries Inc. Method, computer system and computer-readable storage medium for creating a layout of an integrated circuit
US9053288B1 (en) 2014-03-31 2015-06-09 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Layout checking system for multiple-patterning group assignment constraints
KR102257381B1 (en) 2014-07-23 2021-06-01 삼성전자주식회사 Method of design layout of integrated circuit and computer system performing the same
US9842185B2 (en) * 2015-08-21 2017-12-12 Qualcomm Incorporated Systems and methods for group constraints in an integrated circuit layout
US9886544B2 (en) * 2016-02-23 2018-02-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Layout checking system and method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080066027A1 (en) * 2006-09-13 2008-03-13 Stefanus Mantik Computationally efficient design rule checking for circuit interconnect routing design
US20130320555A1 (en) * 2012-05-31 2013-12-05 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Eda tool and method, and integrated circuit formed by the method
US20150121317A1 (en) * 2013-10-30 2015-04-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Multi-patterning system and method
US9396301B1 (en) * 2014-05-30 2016-07-19 Cadence Design Systems, Inc. Method, system, and computer program product for interconnecting circuit components with track patterns for electronic circuit designs

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
LIENIG, Jens: Layoutsynthese elektronischer Schaltungen − Grundlegende Algorithmen für die Entwurfsautomatisierung. Berlin : Springer, 2006. S. 9-21, 37-38, 63-66, 81-82, 91-92, 159-183. ISBN 978-3-540-29627-0 *

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