DE102015105909A1

DE102015105909A1 - Processing arrangement and method for producing a process chamber

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Publication number: DE102015105909A1
Application number: DE102015105909.6A
Authority: DE
Inventors: Christoph Häusler; Hubertus VON DER WAYDBRINK
Original assignee: Von Ardenne GmbH
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2015-04-17
Filing date: 2015-04-17
Publication date: 2016-10-20

Abstract

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung (100) Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer (102) mit einem Prozessierbereich (111) zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer (102); und ein Transportsystem (104) zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (106), wobei das Transportsystem (104) eine erste Transportvorrichtung (104a) aufweist, welche auf einer ersten Seite (111a) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist, und wobei das Transportsystem (104) eine zweite Transportvorrichtung (104b) aufweist, welche auf einer zweiten Seite (111b) des Prozessierbereichs (111) angeordnet ist, so dass der Substratträger (106) mittels der beiden Transportvorrichtungen (104a, 104b) in dem Prozessierbereich (111) transportiert werden kann, wobei die erste Transportvorrichtung (104a) und/oder die zweite Transportvorrichtung (104b) jeweils mindestens eine Trägerstruktur (114a, 114b) aufweisen zum Tragen und Transportieren des Substratträgers (106) in dem Prozessierbereich (111), wobei die jeweils mindestens eine Trägerstruktur (114a, 114b) mittels mindestens zweier Umlenkstrukturen (204u) endlos umlaufend eingerichtet ist.According to various embodiments, a processing assembly (100) may include: a process chamber (102) having a processing area (111) for processing a substrate within the process chamber (102); and a transport system (104) for transporting the substrate by means of a substrate carrier (106), the transport system (104) having a first transport device (104a) disposed on a first side (111a) of the processing area (111), and wherein the Transport system (104) has a second transport device (104b) which is arranged on a second side (111b) of the processing area (111), so that the substrate carrier (106) by means of the two transport devices (104a, 104b) in the processing area (111). wherein the first transport device (104a) and / or the second transport device (104b) each have at least one support structure (114a, 114b) for carrying and transporting the substrate support (106) in the processing region (111), the respective at least a support structure (114a, 114b) is arranged endlessly circulating by means of at least two deflecting structures (204u).

Description

Die Erfindung betrifft eine Prozessieranordnung und ein Verfahren zum Herstellen einer Prozesskammer.The invention relates to a processing arrangement and a method for producing a process chamber.

Im Allgemeinen können verschiedene Transportvorrichtungen genutzt werden, um beispielsweise Substrate oder andere Träger in einer Prozessieranlage zu transportieren. Beispielsweise können mittels einer Transportvorrichtung Substrate durch eine Vakuumprozesskammer, Unterdruckprozesskammer oder Atmosphärendruck-Prozesskammer transportiert werden, so dass die Substrate innerhalb der Vakuumprozesskammer, der Unterdruckprozesskammer bzw. der Atmosphärendruck-Prozesskammer prozessiert werden können, z.B. beschichtet werden können.In general, various transport devices can be used to transport, for example, substrates or other carriers in a processing plant. For example, by means of a transport device, substrates may be transported through a vacuum processing chamber, vacuum processing chamber or atmospheric pressure processing chamber so that the substrates may be processed within the vacuum processing chamber, the vacuum processing chamber and the atmospheric pressure processing chamber, e.g. can be coated.

Ferner kann mittels einer Transportvorrichtung ein Substrat durch eine Prozesskammer einer Prozessieranlage hindurch transportiert werden, wobei das Substrat in einem Prozessierbereich der Prozesskammer prozessiert (behandelt) werden kann. Das Transportieren flächiger Substrate kann beispielsweise direkt mittels Transportrollen erfolgen, oder die Substrate (z.B. Wafer) können mittels Substrat-Trägern (so genannter Carrier) transportiert werden. Bandförmige Substrate können beispielsweise von Rolle zu Rolle und/oder mittels mehrerer Umlenkrollen in der Prozesskammer transportiert werden.Furthermore, a substrate can be transported through a process chamber of a processing plant by means of a transport device, wherein the substrate can be processed (treated) in a processing area of the process chamber. For example, the transport of sheet substrates may be carried out directly by means of transport rollers, or the substrates (e.g., wafers) may be transported by means of substrate carriers (so-called carriers). Ribbon-shaped substrates can be transported, for example, from roll to roll and / or by means of a plurality of deflection rollers in the process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einem Prozessierbereich zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; ein Transportsystem zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers (auch als Carrier bezeichnet) entlang einer Transportrichtung in dem Prozessierbereich; wobei das Transportsystem mindestens eine erste Transportvorrichtung und mindestens eine zweite Transportvorrichtung aufweist zum Tragen des Substratträgers in dem Prozessierbereich, wobei die mindestens eine erste Transportvorrichtung auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei die mindestens eine zweite Transportvorrichtung auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist. Anschaulich kann das Transportsystem beidseitig in einer Prozesskammer angeordnete Transportvorrichtungen aufweisen zum Transportieren eines Substrats oder mehrerer Substrate mittels eines Substratträgers. Innerhalb des Prozessierbereichs der Prozesskammer kann das Substrat (analog auch mehrere Substrate) mittels einer Prozessiervorrichtung prozessiert werden. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessiervorrichtung als Beschichtungsvorrichtung eingerichtet sein und betrieben werden, wobei die Beschichtungsvorrichtung mindestens eine Beschichtungsquelle aufweisen kann, z.B. eine Dampfquelle, z.B. eine Magnetronkathode.According to various embodiments, a processing arrangement may include: a process chamber having a processing area for processing a substrate within the process chamber; a transport system for transporting the substrate by means of a substrate carrier (also referred to as a carrier) along a transport direction in the processing area; wherein the transport system has at least one first transport device and at least one second transport device for carrying the substrate carrier in the processing area, wherein the at least one first transport device is arranged on a first side of the processing area, and wherein the at least one second transport device is located on a second side opposite the first side Side of the processing area is arranged. Illustratively, the transport system can have transport devices arranged on both sides in a process chamber for transporting a substrate or a plurality of substrates by means of a substrate carrier. Within the processing area of the process chamber, the substrate (analogously also a plurality of substrates) can be processed by means of a processing device. According to various embodiments, a processing device may be set up and operated as a coating device, wherein the coating device may comprise at least one coating source, e.g. a vapor source, e.g. a magnetron cathode.

Eine Prozessiervorrichtung und eine entsprechend eingerichtete Prozesskammer können beispielsweise derart bereitgestellt sein oder werden, dass mittels der Prozessiervorrichtung ein Substrat einseitig oder beidseitig prozessiert (behandelt) werden kann, wobei die Prozessiervorrichtung als Modul seitlich aus der Prozesskammer herausgezogen werden kann, beispielsweise zu Montagezwecken oder zur Wartung der Prozessiervorrichtung. Dabei kann die Prozessiervorrichtung derart eingerichtet sein, z.B. an einem Kammerdeckel montiert sein oder ein Wandelement aufweisen, dass die Prozessiervorrichtung, z.B. mittels des Kammerdeckels oder des Wandelements, eine Öffnung in der Prozesskammer im montierten Zustand (z.B. wenn die Prozessiervorrichtung in der Prozesskammer zum Behandeln eines Substrats installiert ist) vakuumdicht oder luftdicht verschließt, oder vakuumdicht oder luftdicht (gasdicht) abdichtet. Anschaulich kann die Prozessiervorrichtung an eine vertikal verlaufende seitliche Kammerwand einer Prozesskammer als vormontierte Baugruppe (z.B. als Modul) montiert sein oder werden, wobei die Prozessiervorrichtung mindestens eine Prozessierquelle aufweisen kann, wobei sich die mindestens eine Prozessierquelle im montierten Zustand der Beschichtungsvorrichtung entlang einer horizontalen Richtung in der Prozesskammer erstreckt, so dass innerhalb der Prozesskammer ein Substrat mittels der mindestens einen Prozessierquelle der Prozessiervorrichtung prozessiert (behandelt) werden kann. Ferner kann die Prozessiervorrichtung derart eingerichtet sein, z.B. mehrere Prozessierquellen aufweisen, dass mittels der Prozessiervorrichtung ein zu prozessierendes (zu behandelndes) Substrat beidseitig prozessiert werden kann, z.B. können eine Vorderseite und eine Rückseite des Substrats gleichzeitig prozessiert werden. Ferner kann die Prozessiervorrichtung mindestens eine (eine oder mehrere) (z.B. schwenkbar gelagerte oder fest installierte) Abschirmung, Blende, Abdeckung oder dergleichen aufweisen, zum Abschirmen der mindestens einen Prozessierquelle (z.B. zum Abschirmen einer oder mehrerer Prozessierquellen).A processing device and a correspondingly configured process chamber can be provided, for example, such that a substrate can be processed (treated) on one or both sides by means of the processing device, wherein the processing device can be pulled out laterally from the process chamber as a module, for example for assembly purposes or for maintenance the processing device. In this case, the processing device can be set up in this way, e.g. be mounted on a chamber lid or have a wall element that the processing device, e.g. by means of the chamber lid or the wall member, an opening in the process chamber in the assembled state (e.g., when the processing apparatus is installed in the process chamber for treating a substrate) vacuum-tightly or airtightly seals, or vacuum-tight or airtight (gas-tight) seals. Illustratively, the processing device can be mounted on a vertically extending lateral chamber wall of a process chamber as a preassembled assembly (eg as a module), wherein the processing device can have at least one processing source, wherein the at least one processing source in the assembled state of the coating device along a horizontal direction in the process chamber extends, so that within the process chamber, a substrate can be processed (treated) by means of the at least one processing source of the processing device. Further, the processing device may be configured such, e.g. a plurality of processing sources, that by means of the processing device, a substrate to be processed (to be treated) can be processed on both sides, e.g. For example, a front side and a back side of the substrate may be processed simultaneously. Further, the processing device may include at least one (one or more) (e.g., pivotally mounted or permanently installed) shield, bezel, cover or the like for shielding the at least one processing source (e.g., shielding one or more processing sources).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Substrat, z.B. ein Wafer, in einer Prozesskammer mittels eines Substratträgers transportiert werden oder, in analoger Weise, können mehrere Substrate, z.B. mehrere Wafer, in einer Prozesskammer mittels eines Substratträgers transportiert werden. Der Substratträger kann beispielsweise mittels zweier Transportvorrichtungen, welche an einander gegenüberliegenden seitlichen Kammerwänden der Prozesskammer befestigt sind, transportiert werden. Anschaulich liegt der jeweilige mittels der zwei Transportvorrichtungen transportierte Substratträger nur mit jeweils einem seitlichen Randbereich auf der jeweiligen Transportvorrichtung auf. Diese seitlichen Randbereiche (oder anschaulich Auflagebereiche) des jeweils transportierten Substratträgers können derart eingerichtet sein, z.B. U-förmig, L-förmig oder C-förmig, dass die seitlichen Randbereiche die jeweilige Transportvorrichtung teilweise umgreifen. Die beiden Transportvorrichtungen können eine Transportrichtung definieren, entlang welcher der jeweilige Substratträger (z.B. mit einem oder mehreren Substraten bestückt) transportiert werden kann, sowie eine Transportebene, in welcher der jeweilige Substratträger transportiert werden kann.According to various embodiments, a substrate, for example a wafer, can be transported in a process chamber by means of a substrate carrier or, in an analogous manner, a plurality of substrates, eg a plurality of wafers, can be transported in a process chamber by means of a substrate carrier. The substrate carrier can be transported, for example, by means of two transport devices, which are fastened to opposite lateral chamber walls of the process chamber. Illustratively, the respective lies by means of two transport devices transported substrate carrier only with a respective lateral edge region on the respective transport device. These lateral edge regions (or illustratively support regions) of the respectively transported substrate carrier can be set up in such a way, eg U-shaped, L-shaped or C-shaped, that the lateral edge regions partially surround the respective transport device. The two transport devices can define a transport direction, along which the respective substrate carrier (eg equipped with one or more substrates) can be transported, as well as a transport plane, in which the respective substrate carrier can be transported.

Ein Aspekt verschiedener Ausführungsformen kann anschaulich darin gesehen werden, eine ausreichende Gasseparation innerhalb einer Prozesskammer entlang der Transportrichtung bereitzustellen. Anschaulich kann eine Prozesskammer mehrere Prozessierbereiche (auch jeweils als Sektionen oder Kompartments bezeichnet) aufweisen, wobei der Substratträger nacheinander durch die mehreren Prozessierbereiche hindurch transportiert werden kann, wobei die jeweiligen Prozessierbereiche voneinander gassepariert sein sollen, z.B. mit einem Gasseparationsfaktor von mehr als 5, 10, 50 oder mehr als 100. Zwischen zwei benachbarten Prozessierbereichen kann eine vertikal verlaufende Schottwand bereitgestellt sein oder werden, welche eine Transferöffnung derart aufweist, dass der Substratträger durch die Schottwand hindurch transportiert werden kann. Der Bereich der Transferöffnung kann als Gasseparationsbereich ausgestaltet sein, d.h. es kann ein Gasseparationstunnel bereitgestellt sein oder werden. Ferner kann auch ein Prozessierbereich der mehreren Prozessierbereiche als Gasseparationsbereich eingerichtet sein oder werden.One aspect of various embodiments can be seen illustratively to provide sufficient gas separation within a process chamber along the transport direction. Illustratively, a process chamber may comprise a plurality of processing areas (also referred to as sections or compartments, respectively), wherein the substrate carrier may be successively transported through the plurality of processing areas, the respective processing areas being gas-separated from one another, e.g. with a gas separation factor of more than 5, 10, 50 or more than 100. Between two adjacent processing areas, a vertically extending bulkhead may be provided which has a transfer opening such that the substrate carrier can be transported through the bulkhead. The area of the transfer opening may be designed as a gas separation area, i. a gas separation tunnel may or may not be provided. Furthermore, a processing area of the multiple processing areas can also be set up as a gas separation area.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: einen Kammerdeckel bzw. ein Wandelement derart eingerichtet, dass beim Montieren (Befestigen) des Kammerdeckels bzw. des Wandelements an der Prozesskammer eine Öffnung der Prozesskammer abgedichtet wird, wobei eine Innenseite des Kammerdeckels bzw. des Wandelements zum Inneren der Prozesskammer gerichtet ist; und mindestens eine an der Innenseite des Kammerdeckels bzw. des Wandelements befestigte Prozessiervorrichtung zum Prozessieren eines Substrats. Beispielsweise kann der Kammerdeckel bzw. das Wandelement flächig eingerichtet sein, wobei die Prozessiervorrichtung mehrere Prozessierquellen aufweisen kann, welche derart relativ zu dem flächigen Wandelement angeordnet sein können, dass ein Prozessierbereich zwischen den mehreren Prozessierquellen gebildet wird, welcher sich senkrecht zum flächigen Wandelement erstreckt. Ferner kann die Prozessiervorrichtung eine Versorgungs-Anordnung aufweisen zum Versorgen der mindestens einen Prozessierquelle mit zum Betreiben der Prozessierquelle verwendeten Medien, wobei der Kammerdeckel bzw. das Wandelement zwischen der Versorgungs-Anordnung und der mindestens einen Prozessierquelle angeordnet ist. Dabei können Medien zum Versorgen der mindestens einen Prozessierquelle beispielsweise folgendes aufweisen oder sein: Kühlmittel (z.B. Kühlwasser), elektrische Energie (Strom und Spannung), Signale oder Daten (Steuersignale, Regelsignale, Messsignale, Stellsignale oder dergleichen), Druckluft, Prozessgase (Reaktivgase und/oder Inertgase), Spülgase (z.B. komprimierte-getrocknete-Luft (CDA, compressed dry air), Vakuum (Unterdruck, Grobvakuum, Feinvakuum, Hochvakuum, Ultrahochvakuum). Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können zwei Prozessierquellen in einer ersten Ebene auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet sein und zwei weitere Prozessierquellen können in einer zweiten Ebene auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet sein. Somit kann beispielsweise ein Prozessierbereich zwischen den mehreren Prozessierquellen bereitgestellt sein oder werden, durch welchen ein Substrat beispielsweise geradlinig hindurch transportiert werden kann.According to various embodiments, a processing assembly may include: a chamber lid or wall element configured such that when mounting the chamber lid or wall element to the process chamber, an opening of the process chamber is sealed, wherein an inside of the chamber lid or wall element to Inside the process chamber is directed; and at least one processing device attached to the inside of the chamber lid or the wall element for processing a substrate. For example, the chamber lid or the wall element can be configured flat, wherein the processing device can have a plurality of processing sources, which can be arranged relative to the planar wall element such that a processing area between the plurality of processing sources is formed, which extends perpendicular to the planar wall element. Furthermore, the processing device may have a supply arrangement for supplying the at least one processing source with media used for operating the processing source, wherein the chamber lid or the wall element is arranged between the supply arrangement and the at least one processing source. In this case, media for supplying the at least one processing source may include or be, for example: coolant (eg cooling water), electrical energy (current and voltage), signals or data (control signals, control signals, measurement signals, control signals or the like), compressed air, process gases (reactive gases and or inert gases), purge gases (eg, compressed dry air (CDA), vacuum (vacuum, rough vacuum, fine vacuum, high vacuum, ultrahigh vacuum) According to various embodiments, two processing sources may be in a first level on a first side of the processing area and two further processing sources may be arranged in a second plane on a second side of the processing area Thus, for example, a processing area may be provided between the plurality of processing sources through which a substrate may be transported in a straight line, for example.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozessieranordnung Folgendes aufweisen: eine Prozesskammer mit einem Prozessierbereich zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer; ein Transportsystem zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers, wobei das Transportsystem eine erste Transportvorrichtung aufweist, welche auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei das Transportsystem eine zweite Transportvorrichtung aufweist, welche auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, so dass der Substratträger mittels der beiden Transportvorrichtungen in dem Prozessierbereich transportiert werden kann; wobei die erste Transportvorrichtung und die zweite Transportvorrichtung jeweils mindestens eine Trägerstruktur aufweisen zum Tragen und Transportieren des Substratträgers in dem Prozessierbereich, wobei die jeweils mindestens eine Trägerstruktur mittels mindestens zweier Umlenkstrukturen endlos umlaufend eingerichtet ist.According to various embodiments, a processing arrangement may include: a process chamber having a processing area for processing a substrate within the process chamber; a transport system for transporting the substrate by means of a substrate carrier, the transport system having a first transport device arranged on a first side of the processing region, and the transport system having a second transport device arranged on a second side of the processing region such that the transport device Substrate carrier can be transported by means of the two transport devices in the processing area; wherein the first transport device and the second transport device each have at least one support structure for carrying and transporting the substrate support in the processing area, wherein the respective at least one support structure is arranged endlessly circulating by means of at least two deflection structures.

Anschaulich kann auf zumindest einer Seite des Prozessierbereichs (welcher beispielsweise von mindestens einer Prozessiervorrichtung definiert sein kann) eine Band-Transportvorrichtung, eine Riemen-Transportvorrichtung oder eine Ketten-Transportvorrichtung verwendet werden. Dies ermöglicht es beispielsweise, den Substratträger mit dessen Randabschnitten jeweils flächig auf die entsprechende Transportvorrichtung aufzulegen. Dies ermöglicht eine einfachere mechanische Ausgestaltung des Substratträgers im Gegensatz zu herkömmlichen auf einzelnen Transportrollen basierende Transportsystemen, da der Substratträger bei flächiger Randauflage weniger Verwindungssteif bereitgestellt sein kann. Auch kann der Substratträger mittels der endlos umlaufenden Transportvorrichtungen bei flächiger Randauflage schneller transportiert werden, da die Gefahr des Auflaufens bzw. Anstoßens auf eine einzelne Transportrolle nicht besteht.Clearly, on at least one side of the processing area (which may be defined, for example, by at least one processing device) a belt transport device, a belt transport device or a chain transport device can be used. This makes it possible, for example, to place the substrate carrier with its edge portions in each case flat on the corresponding transport device. This allows a simpler mechanical design of the substrate carrier in contrast to conventional on individual transport rollers based Transport systems, since the substrate carrier can be provided less torsionally stiff in flat edge support. Also, the substrate carrier can be transported faster by means of the endless circulating transport devices with flat edge support, since the risk of creeping or bumping on a single transport roller does not exist.

Die jeweilige Transportvorrichtung kann ferner zur jeweiligen seitlichen Kammerwand hin gasdicht eingerichtet sein. Somit kann ein Bereich oberhalb des Substratträgers von einem Bereich unterhalb des Substratträgers gassepariert sein oder werden. Die flächige Randauflage des Substratträgers auf den Transportvorrichtungen ermöglicht eine quasi gasdichte Verbindung zwischen der jeweiligen Transportvorrichtung und dem Substratträger.The respective transport device can also be arranged gas-tight towards the respective lateral chamber wall. Thus, an area above the substrate carrier may or may be gas-separated from an area below the substrate carrier. The flat edge support of the substrate carrier on the transport devices allows a quasi-gas-tight connection between the respective transport device and the substrate carrier.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Trägerstruktur ein Transportband, einen Riemen und/oder eine Kette aufweisen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können mehrere Auflageelemente (z.B. Lamellen oder Ähnliches) an der Kette montiert sein oder werden, wobei der Substratträger auf den mehreren Auflageelementen aufliegen kann.According to various embodiments, the support structure may comprise a conveyor belt, a belt and / or a chain. According to various embodiments, a plurality of support elements (e.g., fins or the like) may or may not be mounted on the chain, wherein the substrate support may rest on the plurality of support elements.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die mindestens zwei Umlenkstrukturen jeweils eine Rolle, ein Riemenrad und/oder ein Kettenrad aufweisen.According to various embodiments, the at least two deflection structures can each have a roller, a belt wheel and / or a sprocket.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger im Obertrum (auch als Lasttrum oder Zugtrum bezeichnet) auf der jeweils mindestens einen Trägerstruktur aufliegen.According to various embodiments, the substrate carrier in the upper strand (also referred to as a load strand or Zugtrum) rest on the respective at least one support structure.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweils mindestens eine Trägerstruktur zumindest teilweise auf einer Führung (z.B. mindestens einer Stützschiene, mindestens Gleitschiene und/oder mindestens einer Stützrolle) aufliegen.According to various embodiments, the respective at least one support structure may rest at least partially on a guide (for example at least one support rail, at least slide rail and / or at least one support roller).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Substratträger jeweils mit einem Randabschnitt flächig auf der entsprechenden mindestens einen Trägerstruktur aufliegen. Anschaulich kann der Substratträger zwei einander gegenüberliegende Randabschnitte aufweisen, welche nicht dem Substrathalten dienen sondern der Auflage des Substratträgers auf den beiden Transportvorrichtungen.According to various embodiments, the substrate carrier may in each case rest with a peripheral edge on the corresponding at least one carrier structure. Illustratively, the substrate carrier can have two edge sections lying opposite one another, which do not serve for holding the substrate, but instead rest the support of the substrate carrier on the two transport devices.

Ferner kann die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer aufweisen zum Einschieben der Prozessiervorrichtung in die Prozesskammer hinein und/oder zum Herausziehen der Prozessiervorrichtung aus der Prozesskammer heraus, wobei mindestens ein Teil der ersten Transportvorrichtung oder der zweiten Transportvorrichtung an der Prozessiervorrichtung montiert ist. Dabei kann die Prozessiervorrichtung ein Deckelelement aufweisen zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung in der seitlichen Kammerwand der Prozesskammer, wobei mindestens ein Teil der ersten Transportvorrichtung oder der zweiten Transportvorrichtung an dem Deckelelement montiert ist. Ferner kann mindestens ein Teil der Gasseparationsstruktur an dem Deckelelement montiert sein oder werden.Furthermore, the process chamber may have a chamber opening in a lateral chamber wall of the process chamber for inserting the processing device into the process chamber and / or for extracting the processing device from the process chamber, wherein at least a part of the first transport device or the second transport device is mounted on the processing device. In this case, the processing device may have a cover element for gas-tight covering of the chamber opening in the lateral chamber wall of the process chamber, wherein at least a part of the first transport device or the second transport device is mounted on the cover element. Further, at least a part of the gas separation structure may be mounted on the lid member.

Mit anderen Worten kann die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer und einen Kammerdeckel zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung aufweisen. Dabei kann zumindest ein Teil der Transportvorrichtung an dem Kammerdeckel montiert sein oder werden.In other words, the process chamber may have a chamber opening in a lateral chamber wall of the process chamber and a chamber lid for gas-tightly covering the chamber opening. In this case, at least a part of the transport device may be mounted on the chamber lid or be.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozesskammer eine Kammeröffnung in einer seitlichen Kammerwand der Prozesskammer und einen Kammerdeckel zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung aufweisen, wobei zumindest eine Prozessiervorrichtung an dem Kammerdeckel montiert ist.According to various embodiments, the process chamber may include a chamber opening in a side chamber wall of the process chamber and a chamber lid for gas-tightly covering the chamber opening, wherein at least one processing device is mounted to the chamber lid.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessieranordnung ferner eine Prozessiervorrichtung aufweisen zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs, wobei die Prozessiervorrichtung an dem Kammerdeckel montiert ist. Ferner kann zumindest eine der beiden Transportvorrichtungen an dem Kammerdeckel montiert sein oder werden.According to various embodiments, the processing arrangement may further comprise a processing device for processing the substrate within the processing area, wherein the processing device is mounted on the chamber lid. Further, at least one of the two transport devices may be mounted on the chamber lid or be.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann sich zumindest eine der beiden Transportvorrichtungen über die Kammeröffnung in der seitlichen Kammerwand der Prozesskammer hinweg erstrecken.According to various embodiments, at least one of the two transport devices may extend beyond the chamber opening in the lateral chamber wall of the process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die erste Transportvorrichtung und die zweite Transportvorrichtung jeweils eine Schiene (auch als Balken oder Träger bezeichnet) aufweisen, welche sich in Transportrichtung erstreckt.According to various embodiments, the first transport device and the second transport device may each have a rail (also referred to as a beam or carrier) which extends in the transport direction.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann zumindest eine der beiden Transportvorrichtungen eine Gasseparationsstruktur aufweisen. Die Gasseparationsstruktur kann beispielsweise einen Balken aufweisen, welcher sich in Transportrichtung erstreckt. Anschaulich kann die jeweilige Schiene der Transportvorrichtungen als Gasseparationsstruktur fungieren bzw. gemeinsam mit dem zu transportierenden Substratträger eine Gasseparationsstruktur bilden.According to various embodiments, at least one of the two transport devices may have a gas separation structure. The gas separation structure may, for example, comprise a beam which extends in the transport direction. Illustratively, the respective rail of the transport devices can function as a gas separation structure or, together with the substrate carrier to be transported, form a gas separation structure.

Ferner kann ein Aspekt verschiedener Ausführungsformen anschaulich darin gesehen werden, eine Prozesskammer aus mindestens zwei Kammerelementen aufzubauen, wobei der Verbindungsbereich der mindestens zwei Kammerelemente dazu genutzt wird, das Transportsystem zu tragen. Ferner können zwei verschiedenen Kammerelement-Typen verwendet werden, um Prozesskammern verschiedener Größe aus den beiden Kammerelement-Typen zusammenzusetzen.Furthermore, an aspect of various embodiments can be clearly seen therein to build a process chamber from at least two chamber elements, wherein the connection region of the at least two chamber elements is used to carry the transport system. Further, two different types of chamber elements may be used to assemble different sized process chambers from the two types of chamber elements.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann eine Prozesskammer zum Prozessieren eines Substrats innerhalb eines Prozessraums der Prozesskammer eingerichtet sein, wobei die Prozesskammer Folgendes aufweisen kann: ein Prozesskammerelement mit einem ersten Verbindungsabschnitt, ein weiteres Prozesskammerelement mit einem zweiten Verbindungsabschnitt, wobei die beiden Prozesskammerelemente mittels der beiden Verbindungsabschnitte miteinander derart verbunden sind, dass beide Prozesskammerelemente eine gemeinsame Prozesskammer bilden, ein Transportsystem zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers in dem Prozessraum, wobei das Transportsystem eine erste Transportvorrichtung und eine zweite Transportvorrichtung aufweist, wobei die erste Transportvorrichtung auf einer ersten Seite des Prozessraums angeordnet ist, und wobei die zweite Transportvorrichtung auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite des Prozessraums angeordnet ist, so dass der Substratträger mittels der beiden Transportvorrichtungen in dem Prozessraum transportiert werden kann, wobei die beiden Transportvorrichtungen zumindest an einem der beiden Verbindungsabschnitte montiert sind oder wobei zumindest einer der beiden Verbindungsabschnitte als Teil der beiden Transportvorrichtungen dient.According to various embodiments, a process chamber may be arranged for processing a substrate within a process space of the process chamber, wherein the process chamber may comprise: a process chamber element having a first connection section, a further process chamber element having a second connection section, wherein the two process chamber elements by means of the two connection sections with each other in that both process chamber elements form a common process chamber, a transport system for transporting the substrate by means of a substrate carrier in the process space, wherein the transport system comprises a first transport device and a second transport device, wherein the first transport device is arranged on a first side of the process space, and wherein the second transport device is arranged on a first side opposite the second side of the process space, so that the Substratträ ger can be transported by means of the two transport devices in the process space, wherein the two transport devices are mounted at least at one of the two connecting portions or at least one of the two connecting portions serves as part of the two transport devices.

Mit anderen Worten kann eine Prozessieranordnung zum Prozessieren eines Substrats Folgendes aufweisen: ein Prozesskammerelement mit einem ersten Verbindungsabschnitt; ein weiteres Prozesskammerelement mit einem zweiten Verbindungsabschnitt, wobei die beiden Prozesskammerelemente mittels der beiden Verbindungsabschnitte miteinander derart verbunden sind, dass beide Prozesskammerelemente eine gemeinsame Prozesskammer mit einem Prozessierbereich bilden; ein Transportsystem zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers in dem Prozessierbereich, wobei das Transportsystem eine erste Transportvorrichtung und eine zweite Transportvorrichtung aufweist, wobei die erste Transportvorrichtung auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, und wobei die zweite Transportvorrichtung auf einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite des Prozessierbereichs angeordnet ist, so dass der Substratträger mittels der beiden Transportvorrichtungen in dem Prozessierbereich transportiert werden kann, wobei die beiden Transportvorrichtungen zumindest an einem der beiden Verbindungsabschnitte montiert sind oder wobei zumindest einer der beiden Verbindungsabschnitte als Teil der beiden Transportvorrichtungen dient.In other words, a processing arrangement for processing a substrate may include: a process chamber element having a first connection portion; a further process chamber element with a second connecting portion, wherein the two process chamber elements are connected to each other by means of the two connecting portions such that both process chamber elements form a common process chamber with a processing region; a transport system for transporting the substrate by means of a substrate carrier in the processing area, the transport system having a first transport device and a second transport device, wherein the first transport device is arranged on a first side of the processing region, and wherein the second transport device is located on a second side opposite the first side Side of the processing area is arranged so that the substrate carrier can be transported by means of the two transport devices in the processing area, wherein the two transport devices are mounted at least on one of the two connecting portions or at least one of the two connecting portions serves as part of the two transport devices.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die jeweilige Transportvorrichtung eine Band-Transportvorrichtung, eine Riemen-Transportvorrichtung oder eine Ketten-Transportvorrichtung sein.According to various embodiments, the respective transport device may be a belt transport device, a belt transport device or a chain transport device.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die beiden Verbindungsabschnitte jeweils zueinander passend eingerichtete Dichtungsbereiche aufweisen zum gasdichten oder vakuumdichten Verbinden der beiden Prozesskammerelemente.According to various embodiments, the two connecting sections may each have mutually suitably arranged sealing regions for gas-tight or vacuum-tight connection of the two process chamber elements.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Prozesskammerelement einen ersten Teil-Prozessraum bilden und das weitere Prozesskammerelement kann einen zweiten Teil-Prozessraum bilden, wobei der erste Teil-Prozessraum und der zweite Teil-Prozessraum das gleiche Volumen aufweisen können. Alternativ kann das Prozesskammerelement einen ersten Teil-Prozessraum bilden und das weitere Prozesskammerelement kann einen zweiten Teil-Prozessraum bilden, wobei der erste Teil-Prozessraum und der zweite Teil-Prozessraum voneinander verschiedene Volumina aufweisen.According to various embodiments, the process chamber element may form a first part process space and the further process chamber element may form a second part process space, wherein the first part process space and the second part process space may have the same volume. Alternatively, the process chamber element may form a first part process space, and the further process chamber element may form a second part process space, wherein the first part process space and the second part process space have different volumes from each other.

Anschaulich kann beispielsweise ein großer Prozesskammerelement-Typ und ein kleiner Prozesskammerelement-Typ verwendet werden, um beispielsweise entweder aus zwei großen Prozesskammerelementen des großen Prozesskammerelement-Typs eine Prozesskammer mit großem Prozessraum herzustellen oder um aus einem großen Prozesskammerelement des großen Prozesskammerelement-Typs und einem kleinen Prozesskammerelement des kleinen Prozesskammerelement-Typs eine Prozesskammer mit kleinem Prozessraum herzustellen. Der große Prozessraum kann beispielsweise notwendig oder hilfreich sein, wenn das mittels des Substratträgers transportierte Substrat beidseitig prozessiert werden soll. Der kleine Prozessraum kann beispielsweise notwendig oder hilfreich sein, wenn das mittels des Substratträgers transportierte Substrat nur einseitig prozessiert werden soll. Dabei kann jeweils der Verbindungsbereich der beiden miteinander verbundenen Prozesskammerelemente die Lage der Transportvorrichtungen definieren oder bereits einen Teil (z.B. einen Träger) der Transportvorrichtungen bereitstellen.Illustratively, for example, a large process chamber element type and a small process chamber element type may be used to fabricate either a large process chamber process chamber from two large process chamber elements of the large process chamber element type or from a large process chamber element of the large process chamber element type and a small process chamber element the small process chamber element type to produce a process chamber with a small process space. The large process space can be necessary or helpful, for example, if the substrate transported by means of the substrate carrier is to be processed on both sides. The small process space can be necessary or helpful, for example, if the substrate transported by means of the substrate carrier is to be processed only on one side. In this case, in each case the connection region of the two interconnected process chamber elements can define the position of the transport devices or already provide a part (for example a support) of the transport devices.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Herstellen einer Prozesskammer (z.B. einer Vakuumprozesskammer) Folgendes aufweisen: Auswählen zweier erster Prozesskammerelemente aus einer ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der ersten Menge die gleiche Form aufweisen, und Zusammenfügen der beiden ausgewählten ersten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer mit einem ersten Prozessraum; Auswählen eines ersten Prozesskammerelements aus der ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen und eines zweiten Prozesskammerelements aus einer zweiten Menge von zweiten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der zweiten Menge die gleiche Form aufweisen, und Zusammenfügen des ausgewählten ersten Prozesskammerelements und des ausgewählten zweiten Prozesskammerelements zu einer zweiten Prozesskammer mit einem zweiten Prozessraum, wobei die ersten Prozesskammerelemente der ersten Menge und die zweiten Prozesskammerelemente der zweiten Menge derart voneinander verschieden eingerichtet sind, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer.According to various embodiments, a method of manufacturing a process chamber (eg, a vacuum process chamber) may include selecting two first process chamber elements from a first set of first process chamber elements, wherein all process chamber elements of the first set have the same shape, and joining the two together selected first process chamber elements to a first process chamber having a first process space; Selecting a first process chamber element from the first set of first process chamber elements and a second process chamber element from a second set of second process chamber elements, wherein all process chamber elements of the second set have the same shape, and joining the selected first process chamber element and the selected second process chamber element to a second process chamber a second process chamber, wherein the first process chamber elements of the first set and the second process chamber elements of the second set are set differently from each other such that the first process space of the assembled first process chamber is greater than the second process space of the assembled second process chamber.

Mit anderen Worten kann ein Verfahren zum Herstellen einer Prozesskammer (z.B. einer Vakuumprozesskammer) Folgendes aufweisen: Bereitstellen mehrerer erster Prozesskammerelemente, welche jeweils die gleiche Form aufweisen; Bereitstellen mehrerer zweiter Prozesskammerelemente, welche jeweils die gleiche Form aufweisen; wobei die mehreren ersten Prozesskammerelemente verschieden von den mehreren zweiten Prozesskammerelementen sind; Auswählen zweier erster Prozesskammerelemente der mehreren ersten Prozesskammerelemente und Zusammenfügen der beiden ausgewählten ersten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer mit einem ersten Prozessraum; Auswählen eines ersten Prozesskammerelements der mehreren ersten Prozesskammerelemente und eines zweiten Prozesskammerelements der mehreren zweiten Prozesskammerelemente und Zusammenfügen der ausgewählten ersten und zweiten Prozesskammerelemente zu einer zweiten Prozesskammer mit einem zweiten Prozessraum, wobei die mehreren ersten Prozesskammerelemente und die mehreren zweiten Prozesskammerelemente derart eingerichtet sind, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer.In other words, a method of manufacturing a process chamber (e.g., a vacuum process chamber) may include: providing a plurality of first process chamber elements each having the same shape; Providing a plurality of second process chamber elements each having the same shape; wherein the plurality of first process chamber elements are different from the plurality of second process chamber elements; Selecting two first process chamber elements of the plurality of first process chamber elements and joining the two selected first process chamber elements to a first process chamber having a first process space; Selecting a first process chamber element of the plurality of first process chamber elements and a second process chamber element of the plurality of second process chamber elements and joining the selected first and second process chamber elements to a second process chamber having a second process space, wherein the plurality of first process chamber elements and the plurality of second process chamber elements are configured such that the first one Process chamber of the assembled first process chamber is greater than the second process space of the assembled second process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann ein Verfahren zum Herstellen einer Prozesskammer Folgendes aufweisen: erstes Auswählen zweier Prozesskammerelemente aus einer ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der ersten Menge die gleiche Form aufweisen; erstes Zusammenfügen der beiden aus der ersten Menge ausgewählten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer, die einen ersten Prozessraum aufweist; und zweites Auswählen eines Prozesskammerelements aus der ersten Menge von Prozesskammerelementen und eines Prozesskammerelements aus einer zweiten Menge von zweiten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der zweiten Menge die gleiche Form aufweisen und verschieden sind von den Prozesskammerelementen der ersten Menge; zweites Zusammenfügen des aus der ersten Menge ausgewählten Prozesskammerelements und des aus der zweiten Menge ausgewählten Prozesskammerelements zu einer zweiten Prozesskammer, die einen zweiten Prozessraum aufweist, wobei die Prozesskammerelemente der ersten Menge und die Prozesskammerelemente der zweiten Menge derart eingerichtet sind, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer.According to various embodiments, a method for manufacturing a process chamber may include: first selecting two process chamber elements from a first set of first process chamber elements, wherein all process chamber elements of the first set have the same shape; first assembling the two process chamber elements selected from the first set to a first process chamber having a first process space; and second selecting a process chamber element from the first set of process chamber elements and a process chamber element from a second set of second process chamber elements, wherein all process chamber elements of the second set have the same shape and are different from the process chamber elements of the first set; second assembling of the process chamber element selected from the first set and the process chamber element selected from the second set into a second process chamber having a second process space, wherein the process chamber elements of the first set and the process chamber elements of the second set are set up so that the first process space of the joined first process chamber is greater than the second process space of the assembled second process chamber.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.Embodiments of the invention are illustrated in the figures and are explained in more detail below.

Es zeigenShow it

1 eine Prozessieranordnung in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 1 a processing arrangement in a schematic view, according to various embodiments;

2A bis 2C jeweils eine Transportvorrichtung einer Prozessieranordnung in verschiedenen schematischen Ansichten, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 2A to 2C in each case a transport device of a processing arrangement in various schematic views, according to various embodiments;

3A bis 3C jeweils einen Teil einer Prozessieranordnung in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 3A to 3C in each case a part of a processing arrangement in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;

4 eine Prozessieranordnung bzw. Prozesskammer in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 4 a processing arrangement or process chamber in a schematic view, according to various embodiments;

5A bis 5C jeweils eine aus zwei Kammerelementen zusammengesetzte Prozesskammer in einer schematischen Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 5A to 5C in each case a process chamber composed of two chamber elements in a schematic cross-sectional view, according to various embodiments;

6 ein schematisches Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Vakuumprozesskammer, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; 6 a schematic flow diagram of a method of manufacturing a vacuum processing chamber, according to various embodiments;

7 ein schematisches Ablaufdiagramm eines Verfahrens zum Herstellen einer Vakuumprozesskammer, gemäß verschiedenen Ausführungsformen; und 7 a schematic flow diagram of a method of manufacturing a vacuum processing chamber, according to various embodiments; and

8 eine Prozessieranordnung bzw. Prozesskammer in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. 8th a processing arrangement or process chamber in a schematic view, according to various embodiments.

In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird auf die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser bilden und in denen zur Veranschaulichung spezifische Ausführungsformen gezeigt sind, in denen die Erfindung ausgeübt werden kann. In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa "oben", "unten", "vorne", "hinten", "vorderes", "hinteres", usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figur(en) verwendet. Da Komponenten von Ausführungsformen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschaulichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend. Es versteht sich, dass andere Ausführungsformen benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumfang der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen beispielhaften Ausführungsformen miteinander kombiniert werden können, sofern nicht spezifisch anders angegeben. Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert. In the following detailed description, reference is made to the accompanying drawings, which form a part hereof, and in which is shown by way of illustration specific embodiments in which the invention may be practiced. In this regard, directional terminology such as "top", "bottom", "front", "back", "front", "rear", etc. is used with reference to the orientation of the described figure (s). Because components of embodiments can be positioned in a number of different orientations, the directional terminology is illustrative and is in no way limiting. It should be understood that other embodiments may be utilized and structural or logical changes may be made without departing from the scope of the present invention. It should be understood that the features of the various exemplary embodiments described herein may be combined with each other unless specifically stated otherwise. The following detailed description is therefore not to be taken in a limiting sense, and the scope of the present invention is defined by the appended claims.

Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe "verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung. In den Figuren werden identische oder ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.As used herein, the terms "connected," "connected," and "coupled" are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling. In the figures, identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine horizontale Vakuumprozessieranlage bereitgestellt, welche ein Carrier-Transportsystem (d.h. eine Transportvorrichtung zum Transportieren von Substraten mittels eines Substratträgers) und seitlich herausnehmbaren Prozesseinheiten (auch als Prozessiervorrichtungen bezeichnet) aufweist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Carrier-Transportsystem ein kammerseitig montiertes erstes Teiltransportsystem aufweisen, welches mittels eines an der Prozesseinheit befestigten und mit dieser entfernbaren zweiten Teiltransportsystems komplettiert wird.According to various embodiments, there is provided a horizontal vacuum processing system comprising a carrier transport system (i.e., a transport device for transporting substrates by means of a substrate carrier) and laterally detachable process units (also referred to as processing devices). According to various embodiments, the carrier transport system can have a chamber-mounted first partial transport system, which is completed by means of a second partial transport system attached to and removable from the process unit.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Vakuumprozessieranlage für eine Wafer-Beschichtung im Sputterup-Verfahren (bei welchem das Substrat im Wesentlichen in der Horizontalen transportiert wird und von unten her beschichtet wird, z.B. mittels Sputterdeposition) und/oder Sputterdown-Verfahren (bei welchem das Substrat im Wesentlichen in der Horizontalen transportiert wird und von oben her beschichtet wird, z.B. mittels Sputterdeposition) konzipiert sein oder werden.According to various embodiments, the vacuum processing equipment may be sputtered for a wafer coating (in which the substrate is transported substantially horizontally and coated from below, eg, by sputter deposition) and / or sputterdown (where the substrate is in the substrate) Essentially transported in the horizontal and is coated from above, for example by means of Sputterdeposition be designed).

In der Vakuumprozessieranlage können verschiedene Sektionen oder Kompartments nacheinander (z.B. gesehen in Transportrichtung) angeordnet sein, wobei ein oder mehrere Prozessierbereiche bereitgestellt sein können oder werden können. In einem Prozessierbereich kann eine abwechselnde Anordnung von sogenannten Pump- und Prozesskompartments bereitgestellt sein oder werden. Während des Sputterns kann der Prozessierbereich der Anlage mittels eines horizontal geschlossenen Substratträgerbands (auch als Carrierband bezeichnet) in einen unteren und einen oberen Bereich getrennt sein oder werden. Das Substratträgerband kann mehrere in einer Reihe geführte Substratträger aufweisen, welche beispielsweise in Transportrichtung gesehen aneinander stoßen oder einander teilweise überlappen, so dass ein geschlossenes Substratträgerband gebildet ist.In the vacuum processing plant, various sections or compartments may be arranged sequentially (e.g., as seen in the direction of transport), where one or more processing areas may or may be provided. In a processing area, an alternating arrangement of so-called pump and process compartments may or may not be provided. During sputtering, the processing area of the plant may be separated into a lower and an upper area by means of a horizontally closed substrate carrier belt (also referred to as a carrier belt). The substrate carrier tape can have a plurality of substrate carriers guided in a row, which abut each other, for example, when viewed in the transport direction or partially overlap one another, so that a closed substrate carrier band is formed.

Die herkömmlicherweise in einer derartigen Vakuumprozessieranlage verwendeten Substratträger (auch als Carrier bezeichnet) können beispielsweise zur mechanischen Versteifung an den Rändern C-förmige oder U-förmige Schienen aufweisen, die aufgrund der herkömmlicherweise vorliegenden großen Rollenabstände im Transportsystem für einen funktionierenden Transport entsprechend groß zu dimensionieren sind. Herkömmlicherweise beträgt die Höhe der C-förmigen oder U-förmigen Schienen ungefähr 80 mm.The substrate carriers conventionally used in such a vacuum processing system (also referred to as carriers) can have C-shaped or U-shaped rails for mechanical stiffening at the edges, for example, which are to be dimensioned correspondingly large for a functioning transport due to the conventionally present large roller spacings in the transport system , Conventionally, the height of the C-shaped or U-shaped rails is about 80 mm.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen werden der obere Prozessierbereich und der untere Prozessierbereich voneinander gassepariert. Die in Transportrichtung gesehenen rechten und linken Ränder des Carrierbands können für die Gasseparation wesentlich sein, z.B. bedingt durch das Transportsystem und das Carrierdesign, und weisen herkömmlicherweise größere Leckagen auf. Diese Leckagen werden beispielsweise herkömmlicherweise mittels einer aufwendigen, kleinteiligen und oberflächenintensiven Blecheinhausung der C-Schienen oder U-Schienen der Carrierränder versucht zu minimieren.According to various embodiments, the upper processing area and the lower processing area are gas-separated from each other. The right and left edges of the carrier tape seen in the direction of transport may be essential for gas separation, e.g. due to the transport system and the carrier design, and conventionally have larger leaks. For example, these leaks are conventionally attempted by means of a complex, small-scale and surface-intensive sheet housing of the C rails or U rails of the carrier edges to minimize.

Neben der vertikalen Gasseparation kann auch die Gasseparation in Transportrichtung wesentlich sein. Zur Realisierung der Gasseparation in Transportrichtung können beispielsweise in den Pump- und Prozesskompartments entsprechende Einbauten, die zusammen mit dem Carrier rechteckförmige Kanäle (auch als Gasseparationskanäle oder Gasseparationstunnel bezeichnet) bilden, verwendet werden. Die Höhe und Länge der beispielsweise rechteckförmigen Kanäle bestimmt wesentlich den Wert der Gasseparation. Im Bereich der Pumpkompartments ist die Höhe der Kanäle quasi nur durch Fertigungstoleranzen und die Durchbiegung des Carriers definiert und damit ist dort eine Gasseparation in einem Bereich von ungefähr 1:7 bis ungefähr 1:8 erreichbar. Voraussetzung ist hier die aus Sicht der Gastrennung konstruktiv korrekte Ein- bzw. Anbindung der Einbauten wie z.B. der Heiz- oder Kühlelemente.In addition to the vertical gas separation, the gas separation in the transport direction can also be essential. In order to realize the gas separation in the transport direction, corresponding internals, which together with the carrier form rectangular channels (also referred to as gas separation channels or gas separation tunnels) can be used in the pump and process compartments, for example. The height and length of, for example, rectangular channels substantially determines the value of the gas separation. In the area of the pump compartments, the height of the channels is defined as it were only by manufacturing tolerances and the deflection of the carrier and thus there is a gas separation in a range of about 1: 7 to about 1: 8 reachable. The prerequisite here is the structurally correct connection or integration of the installations, such as the heating or cooling elements, from the point of view of gas separation.

Herkömmlicherweise bereitet jedoch die Gasseparation in Transportrichtung im Bereich der Prozesskompartments Schwierigkeiten. Hier besteht die unbedingte Forderung, dass die seitlich einzuschiebenden Prozesseinheiten auch im Fall eines in der Anlage befindlichen geschlossenen Carrierbands geöffnet bzw. geschlossen werden können. Die Höhe eines möglichen rechteckförmigen Kanals im Prozessbereich wird damit durch die Höhe der C-Schienen oder U-Schienen der herkömmlicherweise verwendeten Carrier inkl. Toleranzen festgelegt. Wie oben erläutert, ist die Höhe der C-Schiene oder U-Schiene des Carriers herkömmlicherweise infolge des Transportkonzepts sehr hoch, wodurch die Gasseparation herkömmlicherweise im Prozesskompartment kaum realisiert werden kann. Der Wert für die erreichbare Gasseparation in Transportrichtung liegt bei weniger als 1:2. Oftmals wird aber eine Gasseparation zwischen zwei Prozessen (z.B. zwei Beschichtungsprozessen) in der Größe von ungefähr 1:100 gefordert. Dies kann jedoch mit einer herkömmlicherweise verwendeten Konstruktion mit Transportrollenantrieb über ein zwischengeschaltetes Prozesskompartment nur knapp oder nicht erreicht werden.Conventionally, however, the gas separation in the transport direction in the area of the process compartments presents difficulties. Here, there is the unconditional requirement that the process units to be laterally inserted can also be opened or closed in the case of a closed carrier belt in the system. The height of a possible rectangular channel in the process area is thus determined by the height of the C rails or U rails of the conventionally used carriers incl. Tolerances. As explained above, the height of the C-rail or U-rail of the carrier is conventionally very high due to the transportation concept, whereby conventionally gas separation can hardly be realized in the process compartment. The value for the achievable gas separation in the transport direction is less than 1: 2. Often, however, gas separation between two processes (e.g., two coating processes) in the size of about 1: 100 is required. However, this can be achieved only slightly or not with a conventionally used construction with transport roller drive via an intermediate process compartment.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird eine Prozessieranordnung (z.B. eine Vakuumprozessieranlage) bereitgestellt, welche eine verbesserte vertikale (quer zur Transportrichtung) und longitudinale (parallel zur Transportrichtung) Gasseparation aufweist bei gleichzeitig optimalem Carrier-Transport innerhalb der Prozessieranordnung.According to various embodiments, there is provided a processing assembly (e.g., a vacuum processor) having improved vertical (transversely to the transport direction) and longitudinal (parallel to the transport direction) gas separation while providing optimal carrier transport within the processing assembly.

Beispielsweise kann die Gastrennung im Wesentlichen durch die Gestaltung des Transportsystems limitiert sein. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein Transportsystem beschrieben, welches eine massive durchgehende Schiene (auch als Balken oder Träger bezeichnet) aufweist, die von der Kammerwand bis zum jeweils zu transportierenden Substratträger reicht (z.B. bis in das Innere einer C-Schiene oder U-Schiene des jeweils transportierten Carriers). Die Dichtung zwischen Kammerwand und der Schiene kann beispielsweise mittels metallischer Dichtelemente erfolgen, oder jedem anderen geeigneten Dichtelement. Die Schiene enthält in beispielsweise engen Abständen Rollen, die wahlweise als Antriebsrollen, Stützrollen bzw. Spannrollen ausgeführt sein können. Die Stützrollen befinden sich zwischen einer jeweiligen Antriebs- und Spannrolle und haben optional kleinere Durchmesser als die Antriebs- und Spannrollen. Zwischen Antriebs- und Spannrolle ist ein elastischer Riemen oder Ähnliches (z.B. ein Band oder eine Kette) gespannt. Der Riemen kann beispielsweise ein Zahnriemen sein, wobei dann die Rollen als Zahnriemenräder ausgeführt sein können. Der obere Schenkel der C-Schiene oder U-Schiene des Carriers kann auf dem (z.B. elastischen) Riemen aufliegen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Carrier auch ohne C- oder U-Schiene verwendet werden, wobei in diesem Fall der Carrier mit einem beliebig ausgestalteten Randabschnitt auf dem Riemen aufliegen kann. Bei sich drehender Antriebsrolle wirkt der Riemen wie ein Förderband und transportiert den Carrier durch die Prozesskammer bzw. durch den Prozessierbereich. Aufgrund der massiven Transportschiene und der engen Rollenabstände kommt der C- oder U-Schiene des Carriers keine tragende Funktion mehr zu. Die C-Schiene oder U-Schiene des Carriers kann damit beispielsweise in ihrer Höhe gegenüber dem herkömmlichen Design (mit tragender Funktion) drastisch reduziert werden (z.B. auf weniger als 60 mm, z.B. auf ungefähr 30 mm Höhe, z.B. auf eine Höhe in einem Bereich von ungefähr 20 mm bis ungefähr 60 mm; gegenüber der herkömmlicherweise verwendeten Höhe von 80 mm).For example, the gas separation may be substantially limited by the design of the transport system. According to various embodiments, a transport system is described, which has a solid continuous rail (also referred to as a beam or support), which extends from the chamber wall to each substrate carrier to be transported (for example into the interior of a C-rail or U-rail of each transported carrier). The seal between the chamber wall and the rail can be done for example by means of metallic sealing elements, or any other suitable sealing element. The rail contains, for example, in narrow intervals roles, which can be optionally designed as drive rollers, support rollers or tension rollers. The support rollers are located between a respective drive and tension pulley and optionally have smaller diameters than the drive and tension rollers. Between the driving and tensioning rollers, an elastic belt or the like (e.g., a belt or a chain) is tensioned. The belt may for example be a toothed belt, in which case the rollers may be designed as toothed belt wheels. The upper leg of the C-rail or U-rail of the carrier may rest on the (e.g., elastic) belt. According to various embodiments, the carrier can also be used without a C or U-rail, in which case the carrier can rest on the belt with an arbitrarily designed edge section. When the drive roller rotates, the belt acts like a conveyor belt and transports the carrier through the process chamber or through the processing area. Due to the massive transport rail and the narrow roller clearances, the C or U rail of the carrier no longer has any supporting function. The C-rail or U-rail of the carrier, for example, can be drastically reduced in height (for example, to less than 60 mm, for example to about 30 mm in height, for example to a height in a range compared to the conventional design (with a supporting function) from about 20 mm to about 60 mm, compared to the conventionally used height of 80 mm).

Aufgrund der Auflage des oberen Schenkels der C-Schiene oder U-Schiene des Carriers auf dem Riemen und der massiven Transportschiene wird eine fast 100%ige Gasseparation zwischen oberem und unterem Prozessraum sichergestellt. Die Gasseparation zwischen Sputterup- und Sputterdown-Prozessen ist damit a-priori immer gegeben.Due to the support of the upper leg of the C-rail or U-rail of the carrier on the belt and the massive transport rail, an almost 100% gas separation between the upper and lower process space is ensured. The gas separation between sputter-up and sputter-down processes is thus always given a priori.

Die Reduktion der Höhe der C- oder U-Schiene des Carriers ermöglicht im Prozesskompartment wesentlich niedrigere Transportkanäle. Die Reduktion der Höhe um den Faktor 2 gegenüber dem herkömmlichen Design ist möglich. Da die Höhe der Kanäle ungefähr quadratisch in den Gasseparationsfaktor eingeht, ist eine Verbesserung des Gasseparationsfaktors um den Faktor 4 zu erreichen. Im Bereich des Prozesskompartments liegt damit der Gasseparationsfaktor in der Größenordnung von ungefähr 1:7 bis ungefähr 1:8. Eine geforderte Gasseparation in Transportrichtung zwischen zwei Sputterup- oder Sputterdown-Prozessen von 1:100 über ein zwischengeschaltetes Prozesskompartment kann folglich wesentlich sicherer erfüllt werden und evtl. vorhandene unvermeidbare konstruktiv bzw. technisch bedingte Leckagen sind leichter tolerierbar.Reducing the height of the C or U rail of the carrier enables much lower transport channels in the process compartment. The reduction of the height by a factor of 2 compared to the conventional design is possible. Since the height of the channels is approximately square in the gas separation factor, an improvement of the gas separation factor by a factor of 4 can be achieved. In the area of the process compartment, the gas separation factor is on the order of about 1: 7 to about 1: 8. A required gas separation in the transport direction between two sputter-up or sputterdown processes of 1: 100 via an intermediate process compartment can consequently be fulfilled much more safely and possibly existing unavoidable constructional or technical leakages are more easily tolerated.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen ist der Transport mittels des hierin beschrieben Transportsystems nahezu stoß- und erschütterungsfrei, wodurch hohe Prozessgeschwindigkeiten gewährleistet sein können oder werden können. Ferner können mehrere hintereinander transportierte Substratträger mechanisch miteinander zu einem gemeinsamen Substratträgerband verbunden sein oder werden.According to various embodiments, the transport by means of the transport system described herein is almost shock and vibration free, which high process speeds can be guaranteed or can be. Furthermore, a plurality of substrate carriers transported in succession may be mechanically connected to one another to form a common substrate carrier band.

Ferner kann die Transportschiene auf der Seite der Prozesseinschübe ebenfalls durchgehend sein und die oben beschriebenen Rollen tragen. Damit wird das Transportsystem von den Prozesseinheiten (Prozesseinschüben) separiert und eine Einstellung und Kontrolle des Transportsystems bei geöffneter Anlage ist möglich. Mit anderen Worten ist das Transportsystem, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, nur in der Prozesskammer montiert und nicht an einer Kammertür (auch als Kammerdeckel bezeichnet) der Prozesskammer. Furthermore, the transport rail on the side of the process inserts can also be continuous and carry the roles described above. This separates the transport system from the process units (process inserts) and allows adjustment and control of the transport system when the system is open. In other words, according to various embodiments, the transport system is mounted only in the process chamber and not on a chamber door (also referred to as a chamber lid) of the process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Transportschiene auf der Seite der Prozesseinschübe auch eine Teilung aufweisen, so dass bei eventuellen Wartungsarbeiten an der Anlage Teile der Transportschiene leicht entfernt werden können, um einen besseren Zugang zum Inneren der Prozesskammer zu gewähren. Beispielsweise kann das Transportsystem mehrteilig sein, wobei sich die verschiedenen Teile komplettieren, wobei, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, mindestens ein Teil des Transportsystems in der Prozesskammer montiert ist und ein anderer Teil des Transportsystems an der Kammertür (auch als Kammerdeckel bezeichnet) montiert ist.According to various embodiments, the transport rail can also have a division on the side of the process inserts so that parts of the transport rail can easily be removed during possible maintenance work on the system in order to provide better access to the interior of the process chamber. For example, the transport system can be multi-part, with the various parts complete, wherein, according to various embodiments, at least part of the transport system is mounted in the process chamber and another part of the transport system is mounted on the chamber door (also referred to as chamber lid).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen wird ein kompaktes Transportsystem bereitgestellt, welches wenige Oberfläche aufweist, womit die Desorption reduziert ist und der Basisdruck im Prozessbereich schneller erreicht werden kann.According to various embodiments, a compact transport system is provided which has a small surface area, whereby the desorption is reduced and the base pressure in the process area can be reached more quickly.

Das hierin gemäß verschiedenen Ausführungsformen beschriebene Transportsystem erlaubt zusätzlich die Einsparung von Antriebstechnik, eine geringere Bauhöhe der beispielsweise verwendeten Schleusenkammern, damit ein kleineres abzupumpendes Volumen und folglich bei gleicher Pumptechnik eine kürzere Taktzeit. Bei einer Höhe der C- oder U-Schiene des Substratträgers von nur ungefähr 30 mm könnten in den Schleusen ungefähr 170 l Volumen eingespart werden. Beispielsweise kann das Schleusenvolumen herkömmlicherweise ungefähr 860 l betragen und mit der Einsparung nur noch ungefähr 690 l.The transport system described herein according to various embodiments also allows the saving of drive technology, a smaller overall height of the lock chambers used, for example, thus a smaller volume to be pumped and consequently a shorter cycle time with the same pumping technique. At a height of the C or U rail of the substrate support of only about 30 mm, about 170 liters of volume could be saved in the locks. For example, the lock volume can be conventionally about 860 liters and with the saving, only about 690 liters.

Zusätzlich würden sich beispielsweise die herkömmlicherweise verwendeten Blecheinbauten um den Substratträger herum erübrigen.In addition, for example, the conventionally used sheet metal inserts around the substrate carrier would be unnecessary.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die hierin beschriebene Gastrenn- und Transportschiene in die Prozesskammer als separates Bauteil (z.B. als modulartig vormontierte Baugruppe) eingebaut sein oder werden (vgl. beispielsweise 2B).According to various embodiments, the gas separation and transport rail described herein may be incorporated in the process chamber as a separate component (eg, as a module-preassembled assembly) or be (see, for example 2 B ).

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozesskammer konstruktiv horizontal auf Höhe der Mittelebene des Carriers in eine obere und untere Hälfte geteilt werden, d.h. anschaulich aus mehreren Prozesskammerelementen zusammengesetzt sein oder werden. An den Trennstellen wird rechts und links (in Transportrichtung gesehen) an die Kammerseitenwände eine ins Innere der Kammer ragende Zarge vakuumdicht geschweißt, die die Kammer stabilisiert und gleichzeitig die obere bzw. untere Hälfte der Gastrenn- und Transportschiene darstellt. Die Kammerhälften werden nach der nun auf einem Bohr- und Fräswerk möglichen präzisen Bearbeitung der Zargen respektive der Gastrenn- und Transportschienen z.B. mit Hilfe von Schrauben und metallgedichtet zur kompletten Prozesskammer verbunden. Hieraus ergibt sich sofort die über das ursprüngliche Anlagenkonzept hinausgehende zusätzliche Möglichkeit, die Anlagenplattform modular aufzubauen. In den Fällen, in denen nur Sputterup oder Sputterdown gewünscht ist, kann zur Kostenreduktion die jeweilige gegenüberliegende Kammerhälfte durch einen Kammerdeckel oder Kammerboden ersetzt werden (vgl. beispielsweise 4 und 5A bis 5C).According to various embodiments, the process chamber can be structurally divided horizontally at the level of the center plane of the carrier into an upper and a lower half, that is to say be composed of several process chamber elements. At the separation points, a frame projecting into the interior of the chamber is welded vacuum-tight to the chamber side walls on the right and left (in the transport direction), which stabilizes the chamber and at the same time represents the upper or lower half of the gas separation and transport rail. The chamber halves are connected to the now on a drilling and milling possible precise machining of the frames respectively the gas separation and transport rails, for example by means of screws and metal sealed to the complete process chamber. This immediately results in the additional possibility, beyond the original plant concept, of modularly setting up the plant platform. In cases where only sputter-up or sputterdown is desired, the respective opposite chamber half can be replaced by a chamber lid or chamber floor to reduce costs (cf., for example 4 and 5A to 5C ).

1 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 100 in einer schematischen Seitenansicht oder Querschnittsansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Die Prozessieranordnung 100 kann eine Prozesskammer 102 aufweisen. Innerhalb der Prozesskammer 102 kann ein Prozessierbereich 111 bereitgestellt sein zum Prozessieren eines Substrats innerhalb der Prozesskammer 102. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Prozessierbereich von einer Prozessiervorrichtung definiert sein oder werden (vgl. beispielsweise 3B und 3C). Beispielsweise kann eine Beschichtungsvorrichtung einen Beschichtungsbereich definieren, innerhalb dessen ein Substrat innerhalb der Prozesskammer 102 beschichtet werden kann, oder beispielsweise kann eine Bestrahlungsvorrichtung einen Bestrahlungsbereich definieren, innerhalb dessen ein Substrat innerhalb der Prozesskammer 102 bestrahlt werden kann, etc. 1 illustrates a processing arrangement 100 in a schematic side view or cross-sectional view, according to various embodiments. The processing arrangement 100 can a process chamber 102 exhibit. Within the process chamber 102 can be a processing area 111 be provided for processing a substrate within the process chamber 102 , According to various embodiments, the processing area may or may not be defined by a processing device (see for example 3B and 3C ). For example, a coating apparatus may define a coating area within which a substrate within the process chamber 102 or, for example, an irradiation device may define an irradiation area within which a substrate within the process chamber 102 can be irradiated, etc.

Ferner kann die Prozessieranordnung 100 ein Transportsystem 104 aufweisen zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers 106 (auch als Carrier 106 bezeichnet) entlang einer Transportrichtung 101 (z.B. senkrecht zu der Breitenrichtung 103 und senkrecht zu der Höhenrichtung 105, vgl. 2B) in dem Prozessierbereich 111. Das Transportsystem 104 kann eine erste Transportvorrichtung 104a aufweisen sowie eine zweite Transportvorrichtung 104b zum Transportieren des Substratträgers 106 mittels der beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b.Furthermore, the processing arrangement 100 a transport system 104 have for transporting the substrate by means of a substrate carrier 106 (also as a carrier 106 designated) along a transport direction 101 (eg perpendicular to the width direction 103 and perpendicular to the height direction 105 , see. 2 B ) in the processing area 111 , The transport system 104 may be a first transport device 104a have and a second transport device 104b for transporting the substrate carrier 106 by means of the two transport devices 104a . 104b ,

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann die erste Transportvorrichtung 104a auf einer ersten Seite 111a des Prozessierbereichs 111 angeordnet sein oder werden, und die zweite Transportvorrichtung 104b kann auf einer der ersten Seite 111a gegenüberliegenden zweiten Seite 111b des Prozessierbereichs 111 angeordnet sein oder werden.As in 1 is illustrated, the first transport device 104a on a first page 111 of the processing area 111 be arranged or, and the second transport device 104b can on one of the first page 111 opposite second side 111b of the processing area 111 be arranged or become.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die erste Transportvorrichtung 104a einen ersten Träger 110a (auch als Schiene 110a oder Balken 110a bezeichnet) aufweisen, welcher sich entlang der Transportrichtung 101 erstreckt. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der erste Träger 110a an der seitlichen Kammerwand 102s auf der ersten Seite 111a des Prozessierbereichs 111 montiert sein oder werden. In analoger Weise kann die zweite Transportvorrichtung 104b einen zweiten Träger 110b (auch als Schiene 110b oder Balken 110b bezeichnet) aufweisen, welcher sich entlang der Transportrichtung 101 erstreckt. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der zweiten Träger 110b an der seitlichen Kammerwand 102s auf der zweiten Seite 111b des Prozessierbereichs 111 montiert sein oder werden.According to various embodiments, the first transport device 104a a first carrier 110a (also as a rail 110a or beams 110a designated), which along the transport direction 101 extends. According to various embodiments, the first carrier 110a on the lateral chamber wall 102s on the first page 111 of the processing area 111 be or be mounted. In an analogous manner, the second transport device 104b a second carrier 110b (also as a rail 110b or beams 110b designated), which along the transport direction 101 extends. According to various embodiments, the second carrier 110b on the lateral chamber wall 102s on the second page 111b of the processing area 111 be or be mounted.

Anschaulich kann der jeweilige Träger 110a, 110b mit der jeweiligen seitlichen Kammerwand 102s gasdicht verbunden sein oder werden. Optional kann der jeweilige Träger 110a, 110b derart eingerichtet sein, dass dieser zur Gasseparation dient, d.h. beispielsweise gemeinsam mit den transportierten Substratträger 106 einen entsprechenden Gasseparationsspalt 113a, 113b bildet. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der jeweilige Träger 110a, 110b einen Gasseparationsspalt in Transportrichtung 101 bilden. Der Gasseparationsspalt kann dabei in Transportrichtung 101 wesentlich länger sein als dessen Spaltbreite bzw. Spalthöhe quer zur Transportrichtung 101. Beispielsweise kann das Verhältnis aus Spaltbreite bzw. Spalthöhe (quer zur Transportrichtung 101) zur Spaltlänge (in Transportrichtung 101) kleiner sein als 10%, 5%, 1% oder 0,1%.Illustratively, the respective carrier 110a . 110b with the respective lateral chamber wall 102s be or be connected gas-tight. Optionally, the respective carrier 110a . 110b be set up so that it is used for gas separation, ie, for example, together with the transported substrate carrier 106 a corresponding gas separation gap 113a . 113b forms. According to various embodiments, the respective carrier 110a . 110b a gas separation gap in the transport direction 101 form. The gas separation gap can be in the transport direction 101 be much longer than the gap width or gap height transverse to the transport direction 101 , For example, the ratio of gap width or gap height (transversely to the transport direction 101 ) to the gap length (in the transport direction 101 ) less than 10%, 5%, 1% or 0.1%.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können mehrere Rollen, Riemenräder oder Zahnräder zum Führen der endlos umlaufend eingerichteten Trägerstruktur 114a, 114b an dem jeweiligen Träger 110a, 110b (bzw. an der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b) montiert sein oder werden.According to various embodiments, a plurality of rollers, pulleys or gears may be used to guide the endless encircling support structure 114a . 114b at the respective carrier 110a . 110b (or at the respective gas separation structure 110a . 110b ) or be mounted.

Alternativ können sich mehrere Rollen, Riemenräder oder Zahnräder zum Führen der endlos umlaufend eingerichteten Trägerstruktur 114a, 114b durch jeweils eine Durchgangsöffnung in dem jeweiligen Träger 110a, 110b (bzw. in der jeweiligen Gasseparationsstruktur 110a, 110b) hindurch erstrecken, und beispielsweise an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden.Alternatively, a plurality of rollers, pulleys or gears for guiding the endless circumferentially arranged support structure 114a . 114b by a passage opening in the respective carrier 110a . 110b (or in the respective gas separation structure 110a . 110b ) and, for example, on the lateral chamber wall 102s the process chamber 102 be or be mounted.

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann die Transportvorrichtung 104 derart eingerichtet sein, dass ein beidseitiges Prozessieren eines mittels des Substratträgers 106 transportierten Substrats in dem Prozessierbereich 111 der Prozesskammer 102 möglich ist.As in 1 is illustrated, the transport device 104 be set up so that a two-sided processing one by means of the substrate carrier 106 transported substrate in the processing area 111 the process chamber 102 is possible.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die erste Transportvorrichtung und die zweite Transportvorrichtung jeweils mindestens eine Trägerstruktur 114a, 114b aufweisen zum Tragen und Transportieren des Substratträgers 106 in dem Prozessierbereich, wobei die jeweils mindestens eine Trägerstruktur 114a, 114b mittels mindestens zweier Umlenkstrukturen endlos umlaufend eingerichtet ist (vgl. beispielsweise 2B).According to various embodiments, the first transport device and the second transport device may each have at least one support structure 114a . 114b have for carrying and transporting the substrate carrier 106 in the processing area, wherein the respective at least one carrier structure 114a . 114b is arranged endlessly circulating by means of at least two deflecting structures (cf., for example 2 B ).

Dabei kann der jeweils transportierte Substratträger 106 mit einem entsprechenden Randabschnitt flächig auf der entsprechenden mindestens einen Trägerstruktur 114a, 114b aufliegen. Die jeweilige Trägerstruktur 114a, 114b kann beispielsweise ein Transportband, einen Riemen und/oder eine Kette aufweisen. Anschaulich kann die jeweilige Trägerstruktur 114a, 114b mittels mindestens zweier Umlenkstrukturen gespannt bzw. angetrieben werden, wobei die jeweilige Umlenkstruktur eine Rolle, ein Riemenrad und/oder ein Kettenrad aufweisen kann.In this case, the respectively transported substrate carrier 106 with a corresponding edge portion flat on the corresponding at least one support structure 114a . 114b rest. The respective carrier structure 114a . 114b may for example have a conveyor belt, a belt and / or a chain. Illustratively, the respective support structure 114a . 114b be stretched or driven by at least two deflection structures, wherein the respective deflection structure may have a roller, a pulley and / or a sprocket.

Wie in 1 veranschaulicht ist, kann ein oberer Prozessierbereich 111o von einem unteren Prozessierbereich 111u mittels des Substratträgers 106 und des Transportsystems 104 gassepariert sein. Somit kann beispielsweise oberhalb des Substratträgers 106 ein erster Prozess durchgeführt werden und unterhalb des Substratträgers 106 ein davon unabhängiger zweiter Prozess.As in 1 may be an upper processing area 111o from a lower processing area 111U by means of the substrate carrier 106 and the transport system 104 be gas-separated. Thus, for example, above the substrate carrier 106 a first process can be performed and below the substrate support 106 an independent second process.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozesskammer 102 als Vakuumkammer ausgestaltet sein oder werden, z.B. kann mindestens eine Vorvakuumpumpe bzw. mindestens eine Hochvakuumpumpe mit der Prozesskammer 102 gekuppelt sein oder werden.According to various embodiments, the process chamber 102 be configured as a vacuum chamber or be, for example, at least one backing pump or at least one high vacuum pump with the process chamber 102 be coupled or become.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Träger 110a, 110b des Transportsystems auch Teil der Prozesskammer 102 sein (vgl. beispielsweise 4).According to various embodiments, the carrier 110a . 110b the transport system also part of the process chamber 102 be (see, for example, 4 ).

2A veranschaulicht beispielhaft eine Ausgestaltung der ersten Transportvorrichtung 104a der Prozessieranordnung 100 sowie die Auflage des Substratträgers 106 auf der Trägerstruktur 114a der ersten Transportvorrichtung 104a. In analoger Weise kann die zweite Transportvorrichtung 104b ausgestaltet sein oder werden. In diesem Fall kann der Substratträger 106 einen C- oder U-förmigen Randbereich 206r aufweisen, wobei der Substratträger 106 mit dessen Randbereich 206r (z.B. mit einem Schenkel der C- oder U-förmigen Schiene des Substratträgers 106) auf der Trägerstruktur 114a der ersten Transportvorrichtung 104a aufliegt, analog zum vorangehend Beschriebenen. Dabei kann der Randbereich 206r des Substratträgers 106 die Trägerstruktur 114a (und auch den Träger 110a) der ersten Transportvorrichtung 104a teilweise umgeben. In diesem Fall wird ein gekrümmter bzw. gewinkelter Gasseparationskanal 113a zwischen dem oberen Prozessierbereich 111o und dem unteren Prozessierbereich 111u bereitgestellt zur effizienten Gasseparation. 2A exemplifies an embodiment of the first transport device 104a the processing arrangement 100 as well as the support of the substrate carrier 106 on the support structure 114a the first transport device 104a , In an analogous manner, the second transport device 104b be or be designed. In this case, the substrate carrier 106 a C- or U-shaped edge area 206r wherein the substrate carrier 106 with its edge area 206r (For example, with a leg of the C or U-shaped rail of the substrate carrier 106 ) on the support structure 114a the first transport device 104a rests, analogous to the previously described. It can be the edge area 206r of the substrate carrier 106 the support structure 114a (and also the carrier 110a ) of the first transport device 104a partially surrounded. In this case, a curved or angled gas separation channel 113a between the upper processing area 111o and the lower processing area 111U provided for efficient gas separation.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Träger 110a und somit die erste Transportvorrichtung 104a an einer seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden, oder alternativ kann der Träger 110a und somit zumindest ein Teil der ersten Transportvorrichtung 104a an einem Kammerdeckel der Prozesskammer 102 montiert sein oder werden, wobei der Kammerdeckel zum Abdecken einer passenden Kammeröffnung in der Prozesskammer 102 eingerichtet ist.According to various embodiments, the carrier 110a and thus the first transport device 104a on a lateral chamber wall 102s the process chamber 102 be or may be mounted, or alternatively, the carrier 110a and thus at least a part of the first transport device 104a on a chamber lid of the process chamber 102 be mounted, wherein the chamber lid for covering a matching chamber opening in the process chamber 102 is set up.

2B veranschaulicht beispielhaft eine Ausgestaltung der ersten Transportvorrichtung 104a der Prozessieranordnung 100, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. In analoger Weise kann die zweite Transportvorrichtung 104b ausgestaltet sein. 2 B exemplifies an embodiment of the first transport device 104a the processing arrangement 100 according to various embodiments. In an analogous manner, the second transport device 104b be designed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können mittels des Trägers 110a mehrere Rollen, Riemenräder oder Zahnräder derart gelagert werden, dass die Trägerstruktur 114a (z.B. ein Band 114a, ein Riemen 114a oder eine Kette 114a) endlos umlaufend eingerichtet sein kann zum Transportieren des Substratträgers 106 (aufliegend auf der Trägerstruktur 114a) entlang der Transportrichtung 101.According to various embodiments, by means of the carrier 110a a plurality of rollers, pulleys or gears are stored such that the support structure 114a (eg a band 114a , a belt 114a or a chain 114a ) may be arranged endlessly circulating for transporting the substrate carrier 106 (resting on the support structure 114a ) along the transport direction 101 ,

Die Trägerstruktur 114a kann mittels zweier Umlenkstrukturen 204u (z.B. Umlenk-Rollen 204u, Umlenk-Riemenräder 204u oder Umlenk-Zahnräder 204u) entsprechend umgelenkt werden, wobei zumindest eine der Umlenkstrukturen angetrieben 204a sein kann (z.B. entsprechend der Transportrichtung 101).The support structure 114a can by means of two deflection structures 204U (eg deflection rollers 204U , Deflection pulleys 204U or deflection gears 204U ) are deflected accordingly, wherein at least one of the deflecting driven 204a may be (eg according to the transport direction 101 ).

Zwischen den beiden Umlenkstrukturen 204u können eine oder mehrere Stützen 204h (z.B. Stütz-Rollen 204u, Stütz-Riemenräder 204u oder Stütz-Zahnräder 204u) zum Abstützen der Trägerstruktur 114a verwendet werden. Ferner kann beispielsweise eine Stützschiene zum Abstützen der Trägerstruktur 114a zwischen den beiden Umlenkstrukturen 204u verwendet werden.Between the two deflecting structures 204U can have one or more supports 204h (eg support rollers 204U , Support pulleys 204U or support gears 204U ) for supporting the support structure 114a be used. Furthermore, for example, a support rail for supporting the support structure 114a between the two deflection structures 204U be used.

2C veranschaulicht beispielhaft eine Ausgestaltung der ersten Transportvorrichtung 104a der Prozessieranordnung 100, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. In analoger Weise kann die zweite Transportvorrichtung 104b ausgestaltet sein. 2C exemplifies an embodiment of the first transport device 104a the processing arrangement 100 according to various embodiments. In an analogous manner, the second transport device 104b be designed.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozesskammer 102 eine Schottwand 202s oder mehrere Schottwände 202s aufweisen, z.B. zum Unterteilen der Prozesskammer 102 in verschiedenen Kompartments bzw. in verschiedene Prozessierbereiche entlang der Transportrichtung 101. Ferner kann mindestens eine der Umlenkstrukturen 204u mittels eines Motors 214 angetrieben sein oder werden, analog zum vorangehend Beschriebenen. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann nur eine der beiden in der Prozesskammer 102 verwendeten Transportvorrichtungen 104a, 104b angetrieben sein oder werden. Ferner können die Transportvorrichtungen 104a, 104b nur abschnittsweise angetrieben sein oder werden. Mit anderen Worten kann ein erster Teil des Transportsystems aktiv angetrieben sein oder werden und ein zweiter Teil des Transportsystems kann passive mitlaufen. Dies kann beispielsweise eine einfache und kostengünstige Ausgestaltung des Transportsystems sein.According to various embodiments, the process chamber 102 a bulkhead 202s or more bulkheads 202s have, for example, for dividing the process chamber 102 in different compartments or in different processing areas along the transport direction 101 , Furthermore, at least one of the deflection structures 204U by means of a motor 214 be driven or be, analogous to the previously described. According to various embodiments, only one of the two may be in the process chamber 102 used transport devices 104a . 104b be driven or become. Furthermore, the transport devices 104a . 104b only be driven in sections or be. In other words, a first part of the transport system may be or may be actively driven and a second part of the transport system may be passive. This can be, for example, a simple and cost-effective design of the transport system.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die einzelnen Umlenkstrukturen sowie optional die Stützstrukturen auch alternativ direkt in der seitlichen Kammerwand 102s gelagert sein oder werden, oder mittels einer Zarge, welche an zumindest einem Prozesskammerelement bereitgestellt ist, wenn die Prozesskammer 102 aus mehreren Prozesskammerelementen zusammengesetzt ist (vgl. beispielsweise 4).According to various embodiments, the individual deflection structures as well as optionally the support structures may alternatively also be located directly in the lateral chamber wall 102s be stored or by means of a frame, which is provided on at least one process chamber element, when the process chamber 102 is composed of a plurality of process chamber elements (see, for example 4 ).

In 3A, 3B und 3C sind verschiedene Ansichten einer Prozessieranordnung 100 veranschaulicht, analog zum vorangehend Beschriebenen, wobei die Prozesskammer 102 eine Kammeröffnung 302o in einer seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 aufweist, und wobei die Prozessieranordnung 100 einen Kammerdeckel 302d zum gasdichten Abdecken der Kammeröffnung 302o aufweist. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, eine Prozessiervorrichtung 430a, 430b, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen (vgl. beispielsweise 3B und 3C). Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können der Kammerdeckel 302d und die seitliche Kammerwand 102s, welche die entsprechend zu dem Kammerdeckel passende Kammeröffnung 302o aufweist, eine Dichtfläche 322 und/oder eine Dichtungsstruktur 322 aufweisen, so dass die Prozesskammer 102 vakuumdicht bzw. gasdicht verschlossen werden kann.In 3A . 3B and 3C are different views of a processing arrangement 100 illustrated, analogous to the previously described, wherein the process chamber 102 a chamber opening 302o in a lateral chamber wall 102s the process chamber 102 and wherein the processing arrangement 100 a chamber lid 302d for gas-tight covering of the chamber opening 302o having. According to various embodiments, the chamber lid 302d be used to a processing device 430a . 430b , which on the chamber lid 302d is mounted, out of the process chamber 102 to take (see, for example 3B and 3C ). Illustratively, the chamber lid 302d Part of a modular processing device, which laterally (eg along direction 103 ) in the process chamber 102 can be inserted. According to various embodiments, the chamber lid 302d and the lateral chamber wall 102s which the corresponding to the chamber lid chamber opening 302o has, a sealing surface 322 and / or a sealing structure 322 have, so the process chamber 102 can be sealed vacuum-tight or gas-tight.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 302d auch dazu verwendet werden, einen Teil des Transportsystems 104 aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen, z.B. zumindest einen Teil der Schiene 110a der ersten Transportvorrichtung 104a und zumindest einen Teil der Trägerstruktur 114a der ersten Transportvorrichtung 104a, wie beispielsweise in 3A veranschaulicht ist. Beispielsweise kann die Schiene 110a (auch als Träger oder Balken bezeichnet) und somit auch die Trägerstruktur 114a der ersten Transportvorrichtung 104a zumindest teilweise an dem Kammerdeckel befestig sein. Mit anderen Worten kann beispielsweise ein Teil der ersten Transportvorrichtung 104a, welcher auf einer ersten Seite des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden, so dass dieser Teil der ersten Transportvorrichtung 104a gemeinsam mit dem Kammerdeckel 302d aus der Prozesskammer 102 entfernt werden kann bzw. in die Prozesskammer 102 eingebracht werden kann. Ferner kann die zweite Transportvorrichtung 104b, welche auf einer zweiten Seite des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozessierbereich 111 montiert sein oder werden, so dass die zweite Transportvorrichtung 104b unabhängig vom Zustand (z.B. geöffnet oder geschlossen) des Kammerdeckels 302d bereitgestellt sein kann.According to various embodiments, the chamber lid 302d also be used to part of the transport system 104 from the process chamber 102 to take, for example, at least part of the rail 110a the first transport device 104a and at least part of the support structure 114a the first transport device 104a , such as in 3A is illustrated. For example, the rail 110a (Also referred to as a carrier or beam) and thus also the support structure 114a the first transport device 104a be at least partially fastened to the chamber lid. In other words, for example, a part of the first transport device 104a which is on a first side of the processing area 111 is arranged on the chamber lid 302d be or be mounted so that this part of the first transport device 104a together with the chamber lid 302d from the process chamber 102 can be removed or in the process chamber 102 can be introduced. Furthermore, the second transport device 104b which are on a second side of the processing area 111 is arranged on the lateral chamber wall 102s the processing area 111 be or be mounted so that the second transport device 104b regardless of the condition (eg open or closed) of the chamber lid 302d can be provided.

In diesem Fall, wie beispielsweise gemäß 3A und 3B veranschaulicht ist, ist das Transportsystem 104 nur bei geschlossenem Kammerdeckel 302d komplettiert.In this case, such as according to 3A and 3B is illustrated, is the transport system 104 only with closed chamber lid 302d completed.

Alternativ kann die Schiene 110a und somit auch die Trägerstruktur 114a der ersten Transportvorrichtung 104a an der seitlichen Kammerwand 102s montiert sein und sich über die Kammeröffnung hinweg erstrecken (vgl. beispielsweise 3C). In diesem Fall wird das Transportsystem nicht beeinflusst, wenn der Kammerdeckel 302d der Prozesskammer 102 entfernt bzw. montiert wird.Alternatively, the rail 110a and thus also the support structure 114a the first transport device 104a on the lateral chamber wall 102s be mounted and extend across the chamber opening away (see, for example 3C ). In this case, the transport system is not affected when the chamber lid 302d the process chamber 102 is removed or mounted.

Wie in 3B in einer Querschnittsansicht der Prozessieranordnung 100 bei geschlossenem Kammerdeckel 302d veranschaulicht ist, kann eine Prozessiervorrichtung 430a, 430b zum Prozessieren des Substrats innerhalb des Prozessierbereichs 111 an dem Kammerdeckel 302d montiert sein.As in 3B in a cross-sectional view of the processing arrangement 100 with closed chamber lid 302d Illustrated is a processing device 430a . 430b for processing the substrate within the processing area 111 on the chamber lid 302d be mounted.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann der Kammerdeckel 302d dazu verwendet werden, die Prozessiervorrichtung 430a, 430b, welche an dem Kammerdeckel 302d montiert ist, aus der Prozesskammer 102 zu entnehmen. Anschaulich kann der Kammerdeckel 302d Teil einer modularen Prozessiervorrichtung 430a, 430b, sein, welche seitlich (z.B. entlang Richtung 103) in die Prozesskammer 102 eingesteckt werden kann.According to various embodiments, the chamber lid 302d be used to the processing device 430a . 430b , which on the chamber lid 302d is mounted, out of the process chamber 102 refer to. Illustratively, the chamber lid 302d Part of a modular processing device 430a . 430b , which are laterally (eg along direction 103 ) in the process chamber 102 can be inserted.

Dabei kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b beispielsweise derart eingerichtet sein, dass das Substrat (z.B. einseitig oder beidseitig) beschichtet, geheizt, gekühlt, geätzt, belichtet, strukturiert und/oder auf eine andere Weise behandelt werden kann. Dabei kann die Prozesskammer 102 beispielsweise als eine Vakuumprozesskammer eingerichtet sein, so dass das Substrat beispielsweise im Vakuum prozessiert werden kann.In this case, the processing device 430a . 430b for example, be set up so that the substrate (eg one-sided or two-sided) can be coated, heated, cooled, etched, exposed, structured and / or treated in another way. In this case, the process chamber 102 For example, be configured as a vacuum processing chamber, so that the substrate can be processed, for example, in a vacuum.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b eine Prozessierquelle 430a aufweisen, welche oberhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist, und (z.B. optional) eine weitere Prozessierquelle 430b, welche unterhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist. Alternativ kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b eine Prozessierquelle 430b aufweisen, welche unterhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist, und (z.B. optional) eine weitere Prozessierquelle 430a, welche oberhalb des Substratträgers 106 angeordnet ist.According to various embodiments, the processing device 430a . 430b a processing source 430a which are above the substrate support 106 is arranged, and (eg optional) another processing source 430b , which are below the substrate carrier 106 is arranged. Alternatively, the processing device 430a . 430b a processing source 430b which are below the substrate carrier 106 is arranged, and (eg optional) another processing source 430a , which above the substrate support 106 is arranged.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b den Prozessierbereich 111 definieren.According to various embodiments, the processing device 430a . 430b the processing area 111 define.

Wenn die erste Schiene 110a der ersten Transportvorrichtung 104a nur an der seitlichen Kammerwand 102s der Prozesskammer 102 und nicht an dem Kammerdeckel 302d (auch als Kammertür bezeichnet) montiert ist, kann die erste Transportvorrichtung 104a in der Prozesskammer 102 verbleiben, wenn der Kammerdeckel 302d geöffnet wird, wie beispielsweise in 3C veranschaulicht ist. Dabei kann die Prozessiervorrichtung 430a, 430b mittels des Kammerdeckels 302d aus der Prozesskammer 102 entfernt werden bzw. in die Prozesskammer 102 eingebracht werden.If the first rail 110a the first transport device 104a only on the lateral chamber wall 102s the process chamber 102 and not on the chamber lid 302d (Also known as the chamber door) is mounted, the first transport device 104a in the process chamber 102 remain when the chamber lid 302d is opened, such as in 3C is illustrated. In this case, the processing device 430a . 430b by means of the chamber lid 302d from the process chamber 102 be removed or in the process chamber 102 be introduced.

Anstelle der Prozessiervorrichtung 430a, 430b kann auch eine zusätzliche Gasseparationsstruktur 430a, 430b an dem Kammerdeckel 302d montiert sein oder werden, so dass in dem Prozessbereich 111 eine zusätzliche Gasseparation erfolgen kann. Beispielsweise kann ein Gasseparationstunnel bei montiertem Kammerdeckel 302d mittels der am Kammerdeckel 302d montierten zusätzlichen Gasseparationsstruktur 430a, 430b bereitgestellt sein oder werden, wobei der Substratträger 106 durch den Gasseparationstunnel hindurch transportiert wird, so dass beispielsweise eine zusätzliche Gasseparation in Transportrichtung 101 erfolgen kann. In diesem Fall sind die Form und Größe des Gasseparationstunnels von der Höhe bzw. der Form des Substratträgers 106 abhängig (vgl. auch 2A), da die Gasseparationsstruktur 430a, 430b seitlich eingeschoben werden kann.Instead of the processing device 430a . 430b can also have an additional gas separation structure 430a . 430b on the chamber lid 302d be or be mounted so that in the process area 111 an additional gas separation can take place. For example, a gas separation tunnel with mounted chamber lid 302d by means of the chamber lid 302d mounted additional gas separation structure 430a . 430b be provided or, wherein the substrate carrier 106 is transported through the gas separation tunnel, so that, for example, an additional gas separation in the transport direction 101 can be done. In this case, the shape and size of the gas separation tunnel are the height or shape of the substrate carrier 106 dependent (see also 2A ), because the gas separation structure 430a . 430b can be inserted laterally.

4 veranschaulicht eine Prozessieranordnung 100 in einer schematischen Ansicht, gemäß verschiedenen Ausführungsformen, wobei die Prozessieranordnung 100 eine Prozesskammer 102 aufweist, welche aus einem ersten Prozesskammerelement 402a und einem zweiten Prozesskammerelement 402b zusammengesetzt ist. Dabei können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b gleich ausgestaltet sein, d.h. beispielsweise die gleiche Form und Größe aufweisen, vgl. beispielsweise 5A. Beispielsweise können die Prozesskammerelemente 402a, 402b mittels eines Gussverfahrens und einer Gussform hergestellt sein oder werden. Ferner können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b voneinander verschieden ausgestaltet sein, vgl. beispielsweise 5B und 5C. 4 illustrates a processing arrangement 100 in a schematic view, according to various embodiments, wherein the processing arrangement 100 a process chamber 102 which consists of a first Process chamber member 402a and a second process chamber element 402b is composed. In this case, the two process chamber elements 402a . 402b be configured equal, ie, for example, have the same shape and size, see. for example 5A , For example, the process chamber elements 402a . 402b be prepared by a casting process and a mold. Furthermore, the two process chamber elements 402a . 402b be designed differently from each other, cf. for example 5B and 5C ,

Das erste Prozesskammerelement 402a kann beispielsweise einen ersten Verbindungsabschnitt 430a aufweisen, beispielsweise an jeweils den seitlichen Kammerwänden 402s des ersten Prozesskammerelements 402a. Das zweite Prozesskammerelement 402b kann beispielsweise einen zweiten Verbindungsabschnitt 430b aufweisen, beispielsweise an jeweils den seitlichen Kammerwänden 402s des zweiten Prozesskammerelements 402b.The first process chamber element 402a For example, a first connection section 430a have, for example, on each of the lateral chamber walls 402s of the first process chamber element 402a , The second process chamber element 402b For example, a second connection section 430b have, for example, on each of the lateral chamber walls 402s the second process chamber element 402b ,

Die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b können mittels der beiden Verbindungsabschnitte 430a, 430b miteinander derart verbunden sein oder werden, dass beide Prozesskammerelemente 402a, 402b eine gemeinsame Prozesskammer 102 bilden, analog zum vorangehend Beschriebenen. Die aus den beiden Prozesskammerelementen 402a, 402b zusammengesetzte Prozesskammer 102 kann einen Prozessierbereich 111 aufweisen, wie vorangehend beschrieben ist.The two process chamber elements 402a . 402b can by means of the two connecting sections 430a . 430b be connected to each other or be such that both process chamber elements 402a . 402b a common process chamber 102 form, analogous to the previously described. The from the two process chamber elements 402a . 402b composite process chamber 102 can be a processing area 111 as described above.

Ferner kann die Prozessieranordnung 100 bzw. die Prozesskammer 102 ein Transportsystem 104 zum Transportieren des Substrats mittels eines Substratträgers 106 in dem Prozessierbereich 111 aufweisen. Das Transportsystem 104 kann eine erste Transportvorrichtung 104a und eine zweite Transportvorrichtung 104b aufweisen, wobei die erste Transportvorrichtung 104a auf einer ersten Seite 111a des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, und wobei die zweite Transportvorrichtung 104b auf einer der ersten Seite 111a gegenüberliegenden zweiten Seite 111b des Prozessierbereichs 111 angeordnet ist, so dass der Substratträger 106 mittels der beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b in dem Prozessierbereich 111 transportiert werden kann. Dabei können die beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b zumindest an einem der beiden Verbindungsabschnitte 430a, 430b montiert sind oder werden. Ferner kann zumindest einer der beiden Verbindungsabschnitte 430a, 430b jeweils als Teil der beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b dienen.Furthermore, the processing arrangement 100 or the process chamber 102 a transport system 104 for transporting the substrate by means of a substrate carrier 106 in the processing area 111 exhibit. The transport system 104 may be a first transport device 104a and a second transport device 104b have, wherein the first transport device 104a on a first page 111 of the processing area 111 is arranged, and wherein the second transport device 104b on one of the first page 111 opposite second side 111b of the processing area 111 is arranged so that the substrate carrier 106 by means of the two transport devices 104a . 104b in the processing area 111 can be transported. In this case, the two transport devices 104a . 104b at least at one of the two connecting sections 430a . 430b are mounted or are. Furthermore, at least one of the two connecting sections 430a . 430b each as part of the two transport devices 104a . 104b serve.

Beispielsweise können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b jeweils eine Zarge 430a, 430b aufweisen zum Bereitstellen eines Trägers 110a, 110b für die beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b. Beispielsweise können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b jeweils eine Zarge 430a, 430b aufweisen zum Bereitstellen einer Halterung für den jeweiligen Träger 110a, 110b der beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b. Beispielsweise können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b jeweils eine Zarge 430a, 430b aufweisen zum Verbinden der beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b miteinander und zum Bereitstellen eines Trägers 110a, 110b für die beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b. Beispielsweise können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b jeweils eine Zarge 430a, 430b aufweisen zum Bereitstellen einer Halterung für den jeweiligen Träger 110a, 110b der beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b und zum Verbinden der beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b miteinander.For example, the two process chamber elements 402a . 402b one frame each 430a . 430b for providing a carrier 110a . 110b for the two transport devices 104a . 104b , For example, the two process chamber elements 402a . 402b one frame each 430a . 430b have for providing a holder for the respective carrier 110a . 110b the two transport devices 104a . 104b , For example, the two process chamber elements 402a . 402b one frame each 430a . 430b have for connecting the two process chamber elements 402a . 402b to each other and to provide a carrier 110a . 110b for the two transport devices 104a . 104b , For example, the two process chamber elements 402a . 402b one frame each 430a . 430b have for providing a holder for the respective carrier 110a . 110b the two transport devices 104a . 104b and for connecting the two process chamber elements 402a . 402b together.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die beiden Verbindungsabschnitte 430a, 430b jeweils zueinander passend eingerichtete Dichtungsbereiche aufweisen zum gasdichten oder vakuumdichten Verbinden der beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b miteinander.According to various embodiments, the two connection sections 430a . 430b in each case suitably arranged sealing regions for gas-tight or vacuum-tight connection of the two process chamber elements 402a . 402b together.

Wie in 5A in einer schematischen Ansicht veranschaulicht ist, können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b zum Bilden der Prozesskammer 102 gleich groß eingerichtet sein und somit ein beidseitiges Prozessieren des Substrats ermöglichen, wobei das Substrat mittels des Transportsystems 104 und des Substratträgers 106, wie vorangehend beschrieben ist, transportiert werden kann. Dabei wird der Substratträger 106 im Wesentlichen mittig in der Prozesskammer 102 auf Höhe der Verbindungsabschnitte 430a, 430b transportiert.As in 5A is illustrated in a schematic view, the two process chamber elements 402a . 402b for forming the process chamber 102 be set up the same size and thus enable a two-sided processing of the substrate, wherein the substrate by means of the transport system 104 and the substrate carrier 106 , as described above, can be transported. In this case, the substrate carrier 106 essentially in the middle of the process chamber 102 at the height of the connecting sections 430a . 430b transported.

Anschaulich bildet das erste Prozesskammerelement 402a einen ersten Teil-Prozessraum 511o und das zweite Prozesskammerelement 402b bildet einen zweiten Teil-Prozessraum 511u, wobei der erste Teil-Prozessraum 511o und der zweite Teil-Prozessraum 511u im Wesentlichen das gleiche Volumen aufweisen. Beispielsweise können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b identisch bezüglicher deren Funktion in der Prozessieranordnung 100 sein.Illustratively, the first process chamber element forms 402a a first part process room 511o and the second process chamber element 402b forms a second part process space 511u , where the first part process space 511o and the second part process space 511u have substantially the same volume. For example, the two process chamber elements 402a . 402b identical with respect to their function in the processing arrangement 100 be.

5B und 5C veranschaulichen jeweils in einer schematischen Ansicht zwei Prozesskammerelemente 402a, 402b zum Bilden der Prozesskammer 102, wobei diese verschieden voneinander eingerichtet sein. Somit kann die Prozesskammer 102 effizient zum einseitigen Prozessieren des Substrats verwendet werden, wobei das Substrat mittels des Transportsystems 104 und des Substratträgers 106, wie vorangehend beschrieben ist, transportiert werden kann. Dabei wird der Substratträger 106 im Wesentlichen unten (vgl. 5B) oder oben (vgl. 5C) in der Prozesskammer 102 auf Höhe der Verbindungsabschnitte 430a, 430b transportiert. 5B and 5C each illustrate in a schematic view two process chamber elements 402a . 402b for forming the process chamber 102 , which are arranged differently from each other. Thus, the process chamber 102 be used efficiently for one-sided processing of the substrate, wherein the substrate by means of the transport system 104 and the substrate carrier 106 , as described above, can be transported. In this case, the substrate carrier 106 essentially below (cf. 5B ) or above (cf. 5C ) in the process chamber 102 at the height of the connecting sections 430a . 430b transported.

Beispielsweise bildet das erste Prozesskammerelement 402a einen ersten Teil-Prozessraum 511o und das zweite Prozesskammerelement 402b bildet einen zweiten Teil-Prozessraum 511u, wobei der erste Teil-Prozessraum 511o größer ist als der zweite Teil-Prozessraum 511u (vgl. 5B). Alternativ bildet das erste Prozesskammerelement 402a einen ersten Teil-Prozessraum 511o und das zweite Prozesskammerelement 402b bildet einen zweiten Teil-Prozessraum 511u, wobei der erste Teil-Prozessraum 511o kleiner ist als der zweite Teil-Prozessraum 511u (vgl. 5C).For example, the first process chamber element forms 402a a first part process room 511o and the second process chamber element 402b forms a second part process space 511u , where the first part process space 511o is larger than the second part process space 511u (see. 5B ). Alternatively, the first process chamber element forms 402a a first part process room 511o and the second process chamber element 402b forms a second part process space 511u , where the first part process space 511o smaller than the second part process space 511u (see. 5C ).

Anschaulich können die beiden Prozesskammerelemente 402a, 402b verschieden bezüglicher deren Funktion in der Prozessieranordnung 100 sein. Das jeweils kleinere Prozesskammerelement kann auf der Seite des Substratträgers 106 für die Prozesskammer 102 verwendet werden, auf welcher kein Prozessieren erfolgen soll. Das jeweils größere Prozesskammerelement kann auf der jeweils anderen Seite des Substratträgers 106 für die Prozesskammer 102 verwendet werden, auf welcher das Prozessieren erfolgen soll.The two process chamber elements can be clearly illustrated 402a . 402b different with respect to their function in the processing arrangement 100 be. The respective smaller process chamber element can be on the side of the substrate carrier 106 for the process chamber 102 be used on which no processing is to take place. The respective larger process chamber element can on the other side of the substrate carrier 106 for the process chamber 102 be used on which the processing is to take place.

Somit kann beispielsweise ein modulares Prozesskammerkonzept bereitgestellt sein oder werden, welches nur zwei verschieden große Prozesskammerelement-Typen benötigt. Dabei können diese beiden Prozesskammerelement-Typen vorgehalten werden, und die entsprechende Prozesskammer 102 gemäß den 5A bis 5C kann nach Bedarf aus den beiden Prozesskammerelement-Typen zusammengesetzt (z.B. zusammengeschraubt und/oder zusammengeschweißt) werden.Thus, for example, a modular process chamber concept may or may not be provided which requires only two different sized process chamber element types. In this case, these two types of process chamber element can be kept, and the corresponding process chamber 102 according to the 5A to 5C may be assembled as needed from the two types of process chamber elements (eg bolted together and / or welded together).

Wie diesbezüglich in 6 veranschaulicht ist, kann ein Verfahren 600 zum Herstellen einer Prozesskammer 102 (z.B. einer Vakuumprozesskammer 102) Folgendes aufweisen: in 610, erstes Auswählen zweier Prozesskammerelemente aus einer ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der ersten Menge die gleiche Form aufweisen; in 620, erstes Zusammenfügen der beiden aus der ersten Menge ausgewählten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer, die einen ersten Prozessraum aufweist; in 630, zweites Auswählen eines Prozesskammerelements aus der ersten Menge von Prozesskammerelementen und eines Prozesskammerelements aus einer zweiten Menge von zweiten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der zweiten Menge die gleiche Form aufweisen und verschieden sind von den Prozesskammerelementen der ersten Menge; und, in 640, zweites Zusammenfügen des aus der ersten Menge ausgewählten Prozesskammerelements und des aus der zweiten Menge ausgewählten Prozesskammerelements zu einer zweiten Prozesskammer, die einen zweiten Prozessraum aufweist. Dabei können die Prozesskammerelemente der ersten Menge und die Prozesskammerelemente der zweiten Menge derart eingerichtet sein, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer.As in this regard 6 Illustrated is a method 600 for producing a process chamber 102 (eg a vacuum process chamber 102 ) Have: in 610 first selecting two process chamber elements from a first set of first process chamber elements, wherein all process chamber elements of the first set have the same shape; in 620 firstly joining the two process chamber elements selected from the first set to a first process chamber having a first process space; in 630 second selecting a process chamber element from the first set of process chamber elements and a process chamber element from a second set of second process chamber elements, wherein all process chamber elements of the second set have the same shape and are different from the process chamber elements of the first set; and in 640 , second assembling the process chamber element selected from the first set and the process chamber element selected from the second set into a second process chamber having a second process space. In this case, the process chamber elements of the first quantity and the process chamber elements of the second quantity can be set up such that the first process space of the assembled first process chamber is larger than the second process space of the assembled second process chamber.

Ferner kann ein Verfahren zum Herstellen einer Prozesskammer 102 (z.B. einer Vakuumprozesskammer 102) Folgendes aufweisen: (z.B. erstes) Auswählen zweier erster Prozesskammerelemente (z.B. zweier großer Prozesskammerelemente des gleichen Prozesskammerelement-Typs, wie beispielsweise in 5A veranschaulicht ist) aus einer ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen, wobei alle Prozesskammerelemente der ersten Menge die gleiche Form aufweisen, und Zusammenfügen der beiden ausgewählten ersten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer mit einem ersten Prozessraum (511o, 511u); (z.B. zweites) Auswählen eines ersten Prozesskammerelements aus der ersten Menge von ersten Prozesskammerelementen und eines zweiten Prozesskammerelements aus einer zweiten Menge von zweiten Prozesskammerelementen (z.B. eines großen und eines kleinen Prozesskammerelements, d.h. verschiedene Prozesskammerelement-Typen, wie beispielsweise in 5B und 5C veranschaulicht ist), wobei alle Prozesskammerelemente der zweiten Menge die gleiche Form aufweisen, und Zusammenfügen des ausgewählten ersten Prozesskammerelements und des ausgewählten zweiten Prozesskammerelements zu einer zweiten Prozesskammer mit einem zweiten Prozessraum (511o, 511u). Dabei sind die ersten Prozesskammerelemente der ersten Menge (z.B. des ersten Prozesskammerelement-Typs) und die zweiten Prozesskammerelemente der zweiten Menge (z.B. des zweiten Prozesskammerelement-Typs) derart voneinander verschieden eingerichtet sind, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer.Furthermore, a method for producing a process chamber 102 (eg a vacuum process chamber 102 ) Comprise: (eg, first) selecting two first process chamber elements (eg, two large process chamber elements of the same process chamber element type, such as in FIG 5A 1) of a first set of first process chamber elements, wherein all process chamber elements of the first set have the same shape, and joining the two selected first process chamber elements to a first process chamber having a first process space (FIG. 511o . 511u ); (eg, second) selecting a first process chamber element from the first set of first process chamber elements and a second process chamber element from a second set of second process chamber elements (eg, a large and a small process chamber element, ie, different process chamber element types, such as in FIG 5B and 5C 1), wherein all the process chamber elements of the second set have the same shape, and joining the selected first process chamber element and the selected second process chamber element to a second process chamber having a second process space (FIG. 511o . 511u ). Here, the first process chamber elements of the first set (eg of the first process chamber element type) and the second process chamber elements of the second set (eg of the second process chamber element type) are configured differently from each other such that the first process space of the assembled first process chamber is larger than the second Process chamber of the assembled second process chamber.

Anschaulich können zwei große Prozesskammerelemente des ersten Prozesskammerelement-Typs zu einer größeren Prozesskammer zum beidseitigen Prozessieren eines Substrats verbunden werden, wie beispielsweise in 5A veranschaulicht ist. Und andererseits, z.B. nach Bedarf, können ein großes Prozesskammerelement und ein kleines Prozesskammerelement zu einer kleineren Prozesskammer zum einseitigen Prozessieren eines Substrats verbunden werden, wie beispielsweise in 5B und 5C veranschaulicht ist.Clearly, two large process chamber elements of the first process chamber element type can be connected to a larger process chamber for double-sided processing of a substrate, such as in 5A is illustrated. And on the other hand, for example, as needed, a large process chamber element and a small process chamber element can be connected to a smaller process chamber for one-sided processing of a substrate, such as in 5B and 5C is illustrated.

Wie diesbezüglich in 7 veranschaulicht ist, kann ein Verfahren 700 zum Herstellen einer Prozesskammer 102 (z.B. einer Vakuumprozesskammer 102) Folgendes aufweisen: in 710, Bereitstellen mehrerer erster Prozesskammerelemente (z.B. des ersten Prozesskammerelement-Typs), welche jeweils die gleiche Form aufweisen; in 720, Bereitstellen mehrerer zweiter Prozesskammerelemente (z.B. des zweiten Prozesskammerelement-Typs), welche jeweils die gleiche Form aufweisen; wobei die mehreren ersten Prozesskammerelemente verschieden von den mehreren zweiten Prozesskammerelementen sind; in 730, Auswählen zweier erster Prozesskammerelemente der mehreren ersten Prozesskammerelemente und Zusammenfügen der beiden ausgewählten ersten Prozesskammerelemente zu einer ersten Prozesskammer mit einem ersten Prozessraum; in 740, Auswählen eines ersten Prozesskammerelements der mehreren ersten Prozesskammerelemente und eines zweiten Prozesskammerelements der mehreren zweiten Prozesskammerelemente und Zusammenfügen der ausgewählten ersten und zweiten Prozesskammerelemente zu einer zweiten Prozesskammer mit einem zweiten Prozessraum. Dabei sind die mehreren ersten Prozesskammerelemente und die mehreren zweiten Prozesskammerelemente derart eingerichtet, dass der erste Prozessraum der zusammengefügten ersten Prozesskammer größer ist als der zweite Prozessraum der zusammengefügten zweiten Prozesskammer. As in this regard 7 Illustrated is a method 700 for producing a process chamber 102 (eg a vacuum process chamber 102 ) Have: in 710 Providing a plurality of first process chamber elements (eg of the first process chamber element type) each having the same shape; in 720 Providing a plurality of second process chamber elements (eg of the second process chamber element type) each having the same shape; wherein the plurality of first process chamber elements are different from the plurality of second process chamber elements; in 730 Selecting two first process chamber elements of the plurality of first process chamber elements and joining the two selected first process chamber elements to a first process chamber having a first process space; in 740 , Selecting a first process chamber element of the plurality of first process chamber elements and a second process chamber element of the plurality of second process chamber elements, and joining the selected first and second process chamber elements to a second process chamber having a second process space. In this case, the plurality of first process chamber elements and the plurality of second process chamber elements are set up such that the first process space of the assembled first process chamber is larger than the second process space of the assembled second process chamber.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann das Innenvolumen der jeweils zusammengefügten Prozesskammer 102 als Prozessraum verstanden werden. Mit anderen Worten wird der Prozessraum von den Kammerwänden des jeweiligen Prozesskammerelements definiert. Der jeweilige Prozessierbereich 111 kann beispielsweise kleiner als der Prozessraum sein bzw. maximal so groß wie der Prozessraum.According to various embodiments, the internal volume of the respective assembled process chamber 102 be understood as process space. In other words, the process space is defined by the chamber walls of the respective process chamber element. The respective processing area 111 For example, it can be smaller than the process space or at most as large as the process space.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können die Prozesskammerelemente (z.B. die jeweiligen Kammerwände) aus Stahl bestehen bzw. Stahl aufweisen.According to various embodiments, the process chamber elements (e.g., the respective chamber walls) may be steel or steel.

8 veranschaulicht ein Transportsystem 104 für eine Prozessieranordnung 100 bzw. Prozesskammer 102, gemäß verschiedenen Ausführungsformen. Dabei weist das Transportsystem 104, analog zum vorangehend Beschriebenen, eine erste Transportvorrichtung 804a und eine zweite Transportvorrichtung 104b auf zum Transportieren eines Substratträgers 106 bzw. mehrerer als Substratträgerband 106 transportierte Substratträger 106. Dabei kann die erste Transportvorrichtung 804a beispielsweise eine erste Schiene 110a (bzw. einen ersten Träger 110a) aufweisen, welche an einer Kammertür 302d montiert ist, wie vorangehend beschrieben ist. Ferner kann die zweite Transportvorrichtung 104b beispielsweise eine zweite Schiene 110b (bzw. einen zweiten Träger 110b) aufweisen, welche an einer der Kammertür 302d gegenüberliegenden seitlichen Kammerwand 102s montiert ist. Die Seite der Prozesskammer 102 gegenüber der Kammertür kann beispielsweise als Pumpseite bezeichnet sein oder werden (z.B. können an dieser seitlichen Kammerwand 102s Vakuumpumpen angekuppelt sein oder werden). 8th illustrates a transport system 104 for a processing arrangement 100 or process chamber 102 according to various embodiments. In this case, the transport system 104 , Analogous to the previously described, a first transport device 804a and a second transport device 104b for transporting a substrate carrier 106 or more than substrate carrier tape 106 transported substrate carrier 106 , In this case, the first transport device 804a for example, a first rail 110a (or a first carrier 110a ), which at a chamber door 302d is mounted as described above. Furthermore, the second transport device 104b for example, a second rail 110b (or a second carrier 110b ), which at one of the chamber door 302d opposite lateral chamber wall 102s is mounted. The side of the process chamber 102 with respect to the chamber door, for example, may be referred to as the pump side or (for example, at this lateral chamber wall 102s Be coupled to vacuum pumps or).

Die beiden Schienen 110a, 110b sind jeweils als Gastrenn- und Transportschiene eingerichtet. Anschaulich tragen die beiden Schienen 110a, 110b jeweils die Transportelemente 814a, 114b (z.B. Rollen, Riemen, Ketten, etc.) und bilden gleichzeitig gemeinsam mit dem Substratträger 106 einen Gasseparationsspalt 113a, 113b, wie vorangehend beschrieben ist.The two rails 110a . 110b are each set up as a gas separation and transport rail. Clearly, the two rails carry 110a . 110b in each case the transport elements 814a . 114b (eg rollers, belts, chains, etc.) and at the same time form together with the substrate carrier 106 a gas separation gap 113a . 113b as described above.

Die zweite Transportvorrichtung 104b kann in diesem Fall beispielsweise als eine Band-Transportvorrichtung, eine Riemen-Transportvorrichtung oder eine Ketten-Transportvorrichtung eingerichtet sein oder werden, wie hierin beschrieben ist. Dabei kann die zweite Transportvorrichtung 104b aktiv angetrieben sein oder werden, d.h. für den Substratträger-Transport sorgen. Die erste Transportvorrichtung 804a hingegen kann lediglich passiv mitlaufende (d.h. nicht angetriebene) Stütztrollen 814a aufweisen. Zur besseren Gasseparation kann die erste Schiene 110a höher sein (in Richtung 105) als die zweite Schiene 110b. Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können massive (z.B. verwindungssteife) Balken als Schienen 110a, 110b für die jeweilige Transportvorrichtung 104a, 804a, 104b verwendet werden.The second transport device 104b In this case, for example, it may be configured as a belt transport device, a belt transport device, or a chain transport device, as described herein. In this case, the second transport device 104b be actively driven or be, ie provide for the substrate carrier transport. The first transport device 804a on the other hand, only passive (ie non-powered) supporting wheels can be used 814a exhibit. For better gas separation, the first rail 110a be higher (in the direction 105 ) as the second rail 110b , According to various embodiments, solid (eg warp resistant) beams may be used as rails 110a . 110b for the respective transport device 104a . 804a . 104b be used.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen können seitliche Stützrollen 824 verwendet werden, damit der Substratträger 106 relativ zu den beiden Transportvorrichtungen 104a, 104b seitlich geführt wird. Die seitlichen Stützrollen 824 können beispielsweise an der jeweils verwendeten Schiene der Transportvorrichtungen 104a, 804a, 104b montiert sein oder werden.According to various embodiments, lateral support rollers 824 be used so that the substrate carrier 106 relative to the two transport devices 104a . 104b is guided laterally. The lateral support rollers 824 For example, on the rail used in each case the transport devices 104a . 804a . 104b be or be mounted.

Wie beispielsweise bezüglich 8 gemäß verschiedenen Ausführungsformen beschrieben ist, kann beispielsweise nur auf der zweiten Seite 111b des Prozessierbereichs 111, welche von der Kammertür abgewandt ist, ein aktives Antriebssystem (z.B. aufweisend Motor, Riemen, Spannrolle) bereitgestellt sein oder werden, wodurch beispielsweise eine Kostenersparnis erzielt werden kann. Ferner weist die erste Schiene 110a auf Türseite 111a keine (in Richtung 105) durchgehenden Aussparungen oder Unterbrechungen zur Aufnahme von Rollen oder anderen Transportelementen auf, wodurch eine noch bessere Gastrennung zwischen dem unteren Prozessierbereich 111u (Sputterup) und dem oberen Prozessierbereich 111o (Sputterdown) erreicht werden kann. Ferner können einfach ausgestaltete Stütz-Rollen für die erste Transportvorrichtung 104a verwendet werden.For example regarding 8th According to various embodiments, for example, only on the second side 111b of the processing area 111 which faces away from the chamber door, may or may not be provided with an active drive system (eg comprising motor, belt, tensioning roller), for example, whereby a cost saving can be achieved. Furthermore, the first rail 110a on the door side 111 no (in the direction 105 ) through recesses or interruptions for receiving rollers or other transport elements, whereby an even better gas separation between the lower processing area 111U (Sputterup) and the upper processing area 111o (Sputterdown) can be achieved. Furthermore, simply configured support rollers for the first transport device 104a be used.

Die Schiene 110a der ersten Transportvorrichtung 104a auf der Türseite 111a kann im Bereich der Prozesseinschübe zur Anlagenwartung einfach entnommen werden.The rail 110a the first transport device 104a on the door side 111 can be easily removed in the area of process inserts for system maintenance.

Gemäß verschiedenen Ausführungsformen kann die Schiene 110a der ersten Transportvorrichtung 104a im Bereich der Prozesseinschübe (d.h. im Bereich der Kammertür 302d) segmentiert sein, so dass die erste Schiene 110a teilweise an der Prozessiervorrichtung bzw. Kammertür 302d montiert sein kann und mit dieser aus der Prozesskammer 102 entfernt bzw. in die Prozesskammer 102 eingebracht werden kann.According to various embodiments, the rail 110a the first transport device 104a in the area of process inserts (ie in the area of the chamber door 302d ) be segmented so that the first rail 110a partly at the processing device or chamber door 302d can be mounted and with this from the process chamber 102 removed or in the process chamber 102 can be introduced.

Claims

Processing arrangement ( 100 ), comprising: a process chamber ( 102 ) with a processing area ( 111 ) for processing a substrate within the process chamber ( 102 ); and a transport system ( 104 ) for transporting the substrate by means of a substrate carrier ( 106 ), the transport system ( 104 ) a first transport device ( 104a ), which on a first side ( 111 ) of the processing area ( 111 ), and wherein the transport system ( 104 ) a second transport device ( 104b ), which on a second side ( 111b ) of the processing area ( 111 ) is arranged so that the substrate carrier ( 106 ) by means of the two transport devices ( 104a . 104b ) in the processing area ( 111 ), wherein the first transport device ( 104a ) and / or the second transport device ( 104b ) at least one support structure ( 114a . 114b ) for carrying and transporting the substrate carrier ( 106 ) in the processing area ( 111 ), wherein the respective at least one support structure ( 114a . 114b ) by means of at least two deflecting structures ( 204U ) is arranged endlessly circulating.

Processing arrangement according to claim 1, wherein the support structure ( 114a . 114b ) has a conveyor belt, a belt and / or a chain.

Processing arrangement according to claim 1 or 2, wherein the at least two deflecting structures ( 204U ) each have a roller, a pulley and / or a sprocket.

Processing arrangement according to one of claims 1 to 3, wherein the first transport device ( 104a ) and the second transport device ( 104b ) one rail each ( 110a . 110b ), which in the transport direction ( 101 ).

Processing arrangement according to one of claims 1 to 4, wherein the substrate carrier ( 106 ) each with an edge portion ( 206r ) flat on the corresponding at least one support structure ( 114a . 114b ) rests.

Processing arrangement ( 100 ) for processing a substrate, the processing arrangement comprising: • a process chamber element ( 402a ) with a first connecting section ( 430a ); A further process chamber element ( 402b ) with a second connecting portion ( 430b ), wherein the two process chamber elements ( 402a . 402b ) by means of the two connecting sections ( 430a . 430b ) are connected to each other such that both process chamber elements ( 402a . 402b ) a common process chamber ( 102 ) with a processing area ( 111 ) form; and a transport system ( 104 ) for transporting the substrate by means of a substrate carrier ( 106 ) in the processing area ( 111 ), the transport system ( 104 ) a first transport device ( 104a ) and a second transport device ( 104b ), wherein the first transport device ( 104a ) on a first page ( 111 ) of the processing area ( 111 ), and wherein the second transport device ( 104b ) on one of the first page ( 111 ) opposite second side ( 111b ) of the processing area ( 111 ) is arranged so that the substrate carrier ( 106 ) by means of the two transport devices ( 104a . 104b ) in the processing area ( 111 ), the two transport devices ( 104a . 104b ) at least at one of the two connecting sections ( 430a . 430b ) or at least one of the two connecting sections ( 430a . 430b ) as part of the two transport devices ( 104a . 104b ) serves.

Processing arrangement according to claim 6, wherein the two connecting sections ( 430a . 430b ) have mutually suitably arranged sealing regions for gas-tight or vacuum-tight connection of the two process chamber elements ( 402a . 402b ).

Processing arrangement according to claim 6 or 7, wherein the process chamber element ( 402a ) a first part process space ( 511o ) and wherein the further process chamber element ( 402b ) a second part process space ( 511u ) forms, wherein the first part process space ( 511o ) and the second part process space ( 511u ) have the same volume.

Processing arrangement according to claim 6 or 7, wherein the process chamber element ( 402a ) a first part process space ( 511o ) and wherein the further process chamber element ( 402b ) a second part process space ( 511u ), the first part process space ( 511o ) and the second part process space ( 511u ) have different volumes from each other.

A method of manufacturing a process chamber, the method comprising: • first selecting two process chamber elements from a first set of first process chamber elements, wherein all process chamber elements of the first set have the same shape; • first joining the two process chamber elements selected from the first set to a first process chamber having a first process space; and Second selecting a process chamber element from the first set of process chamber elements and a process chamber element from a second set of second process chamber elements, wherein all process chamber elements of the second set have the same shape and are different from the process chamber elements of the first set; Second assembling of the process chamber element selected from the first set and the process chamber element selected from the second set into a second process chamber having a second process space, Wherein the process chamber elements of the first set and the process chamber elements of the second set are set up so that the first process space of the assembled first process chamber is larger than the second process space of the assembled second process chamber.