DE102009059016A1 - Treating free-flowing grain from inorganic raw material, comprises continuously supplying grain to heated treatment chamber over grain inlet and then heating the grain in it, and exposing treatment gas flowing between gas inlet and -outlet - Google Patents
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- 239000002994 raw material Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title abstract description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 65
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims abstract description 62
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 40
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000003179 granulation Effects 0.000 claims description 54
- 238000005469 granulation Methods 0.000 claims description 54
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 35
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 abstract 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 33
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 13
- 239000006004 Quartz sand Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 4
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 3
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 230000009969 flowable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910001510 metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000000284 resting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000005204 segregation Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/12—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles moved by gravity in a downward flow
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/08—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with moving particles
- B01J8/087—Heating or cooling the reactor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00017—Controlling the temperature
- B01J2208/00106—Controlling the temperature by indirect heat exchange
- B01J2208/00168—Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles
- B01J2208/00212—Plates; Jackets; Cylinders
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00761—Details of the reactor
- B01J2219/00763—Baffles
- B01J2219/00765—Baffles attached to the reactor wall
- B01J2219/0077—Baffles attached to the reactor wall inclined
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Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung rieselfähiger Körnung aus anorganischem Rohstoff, indem die Körnung über einen Körnungseinlass einem beheizten Behandlungsraum kontinuierlich zugeführt, darin erhitzt und dabei einem zwischen einem Gaseinlass und einem Gasauslass strömenden, Behandlungsgas ausgesetzt, und mittels Schwerkraft zu einem Körnungsauslass transportiert und kontinuierlich aus dem Behandlungsraum abgeführt wird.The present invention relates to a method for the treatment of flowable granules of inorganic raw material by the grain continuously fed via a grit inlet to a heated treatment chamber, heated therein while exposed to a flowing between a gas inlet and a gas outlet, treatment gas, and transported by gravity to a Körnungsauslass and is continuously discharged from the treatment room.
Weiterhin betrifft die Erfindung ein zur Durchführung des Verfahrens geeignetes Behandlungsmodul zur Behandlung rieselfähiger Körnung aus anorganischem Rohstoff, mit einem beheizbaren Behandlungsraum, der in einem oberen Bereich einen Körnungseinlass und in einem unteren Bereich einen Körnungsauslass aufweist sowie einen Gaseinlass und einen Gasauslass für ein Behandlungsgas.The invention furthermore relates to a treatment module suitable for carrying out the method for treating free-flowing granules of inorganic raw material, having a heatable treatment space which has a granulation inlet in an upper region and a granulation outlet in a lower region, and a gas inlet and a gas outlet for a treatment gas.
Stand der TechnikState of the art
Mineralische Rohstoffe können durch Behandlung unter chlorhaltiger Atmosphäre bei hoher Temperatur (Thermochlorierung) von Verunreinigungen wie Eisen, Titan, Alkali- und Erdalkalimetallen befreit werden. Für die Thermochlorierung werden unterschiedliche Methoden und Reaktoren eingesetzt, bei denen es sich im Wesentlichen um Wirbelschicht-, Drehrohr- und Schachtöfen handelt.Mineral raw materials can be freed from impurities such as iron, titanium, alkali metals and alkaline earth metals by treatment under a chlorine-containing atmosphere at high temperature (thermochlorination). For the thermochlorination different methods and reactors are used, which are essentially fluidized bed, rotary kiln and shaft furnaces.
Wirbelschichtöfen werden insbesondere bei der Erzaufbereitung eingesetzt und sind für hohe Stoffumsätze geeignet. In der
Durch diese Verfahrensweise wird eine weitgehend gleichmäßige Behandlung der Körnung gewährleistet; es kann jedoch aufgrund eines Windsichteffektes zu einer Entmischung von Feinstaub kommen. Das bekannte Verfahren ist zudem nur für den diskontinuierlichen Betrieb geeignet.By this procedure, a largely uniform treatment of the grain is ensured; However, it may come to a segregation of fine dust due to an air view effect. The known method is also suitable only for discontinuous operation.
Diesen Nachteil vermeidet die kontinuierliche Reinigung von kristallinem Quarzpulver durch Thermochlorierung in einem Drehrohrofen, wie beispielsweise in der
Die Thermochlorierung in einem Drehrohrofen führt ebenfalls zu einer gleichmäßigen Behandlungsintensität der Körnung und es sind hohe Körnungsreinheiten erzielbar. Allerdings ist die Reinigung von Feinstpulvern und Stäuben nicht ohne weiteres möglich, da diese leicht mit dem Gasstrom ausgetragen werden. Der Drehrohrofen hat einen hohen Platzbedarf und die sich drehenden Bauteile des Ofens unterliegen beträchtlichem Verschleiß. Außerdem kommt es durch stirnseitig offene Enden des Drehohrofens zu einer beträchtlichen Wärmeabstrahlung.The thermochlorination in a rotary kiln also leads to a uniform treatment intensity of the grain and high grain fineness can be achieved. However, the cleaning of ultrafine powders and dusts is not readily possible because they are easily discharged with the gas stream. The rotary kiln has a large space requirement and the rotating components of the furnace are subject to considerable wear. In addition, it comes through frontally open ends of the rotary kiln to a considerable heat radiation.
Die beiden zuletzt genannten Nachteile vermeidet das Schachtofen-Verfahren zur kontinuierlichen Reinigung von rieselfähigem Quarzsand, wie es beispielsweise aus der
Der Schachtofen ist relativ einfach im Aufbau und hat keine beweglichen Teile. Wegen ihrer wärmeisolierenden Wirkung dauert das Aufheizen der Körnungsschüttung von Außen nach Innen jedoch lange und erzwingt einen relativ langsamen Durchsatz. Die Verfahrensweise führt auch nicht zu einer hinreichend reproduzierbaren Reinheit der Körnung, was auf unterschiedliche Behandlungsintensitäten innerhalb der siloartigen Körnungsschüttung in der Thermochlorierzone zurückgeführt werden, die sich durch ungleichmäßige Verteilung des Behandlungsgases und durch eine ausgeprägte Siloströmung im Bereich der Schüttung aufgrund von Strömungsrandeffekten ergibt.The shaft furnace is relatively simple in construction and has no moving parts. However, because of its heat-insulating effect, heating the granulation pad from the outside to the inside takes a long time and forces a relatively slow throughput. The procedure also does not lead to a sufficiently reproducible purity of the grain, which can be attributed to different treatment intensities within the silo-like granulation in the thermochlorination zone, which results from uneven distribution of the treatment gas and by a pronounced silo flow in the bulk due to flow edge effects.
Ein von diesen Standard-Methoden grundsätzlich abweichendes Verfahren zur Reinigung von SiO2-Körnung durch Thermochlorierung ist aus der
Technische AufgabenstellungTechnical task
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, das eine Behandlung rieselfähiger anorganischer Körnung, insbesondere auch die Aufreinigung von besonders feinteiligen mineralischen Rohstoffen, bei geringem Verbrauch von Behandlungsgas zuverlässig und reproduzierbar ermöglicht.The invention has for its object to provide a method that allows a reliable and reproducible treatment of free-flowing inorganic grain, in particular the purification of particularly finely divided mineral resources, with low consumption of treatment gas.
Weiterhin liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen möglichst kompakten und flexiblen Reaktor zur Durchführung des Verfahrens bereitzustellen.Furthermore, the invention has for its object to provide a compact and flexible reactor as possible for performing the method.
Hinsichtlich des Verfahrens wird diese Aufgabe ausgehend von einem Verfahren der eingangs genannten Gattung erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass die Körnung über mindestens eine Teilstrecke zwischen Körnungseinlass und Körnungsauslass als Körnungsschicht auf einer innerhalb des Behandlungsraums angeordneten ersten Rutsche transportiert wird, die an einer Übergabeöffnung oberhalb des Körnungsauslasses endet.With regard to the method, this object is achieved on the basis of a method of the type mentioned in the introduction, that the grain is transported over at least a section between Grannungseinlass and Körnungsauslass as a grain layer on a disposed within the treatment room first chute, which ends at a transfer opening above the Körnungsauslasses ,
Bei der erfindungsgemäßen Abwandlung des bekannten Schachtofen-Verfahrens wird die Körnung nicht in einer siloartigen, vertikalen Aufschüttung innerhalb des Reaktionsbehälters dem Behandlungsgas ausgesetzt, sondern sie rieselt aufgrund ihrer Rieselfähigkeit entlang eines Gefälles unter Bildung einer Körnungsschicht mit vergleichsweise geringer Dicke durch mindestens einen Teil des Behandlungsraums. Durch diese Bewegung und wegen der vergleichsweise geringen Dicke der Körnungsschicht auf der Rutsche steht dem Behandlungsgas eine vergleichsweise große Körnungs-Oberfläche zur Verfügung, was eine gleichmäßige und effektive Behandlung der Körnung und damit beispielsweise eine hohe Reinheit ermöglicht. Die Bewegung der Körnung erfolgt dabei aufgrund ihrer Rieselfähigkeit und ihrem eigenen Gewicht. Bewegliche mechanische Teile sind nicht erforderlich.In the modification of the known shaft furnace method according to the invention, the grain is not exposed to the treatment gas in a silo-like, vertical bed within the reaction vessel, but it trickles due to their flowability along a slope to form a grain layer of comparatively small thickness through at least a portion of the treatment space. As a result of this movement and because of the comparatively small thickness of the graining layer on the chute, a comparatively large graining surface is available to the treatment gas, which enables a uniform and effective treatment of the grain and thus, for example, a high degree of purity. The movement of the grain occurs due to their flowability and their own weight. Moveable mechanical parts are not required.
Insoweit vereint die Erfindung die Vorteile von Drehrohrofen- und Schachtofenverfahren und vermeidet gleichzeitig deren Nachteile.In that regard, the invention combines the advantages of rotary kiln and shaft furnace method while avoiding their disadvantages.
Die Körnung fließt in Form der Körnungsschicht allmählich vom Körnungsauslass über die Übergabeöffnung in Richtung des Körnungsauslasses und wird dabei mit dem Behandlungsgas behandelt. Auf der Rutsche bildet sich eine Schüttung mit einem körnungsspezifischen Schüttwinkel. Je nach „Steigung” der Rutsche ist die Dicke der Körnungsschicht dabei im Wesentlichen konstant, oder sie nimmt von oben nach unten ab, oder sie nimmt von oben nach unten zu. Der körnungsspezifische Schüttwinkel ist beispielsweise von Korngröße, Korngrößenverteilung, Morphologie und chemischer Zusammensetzung der Körnung abhängig. In der Regel nimmt der körnungsspezifische Schüttwinkel mit der mittleren Korngröße ab.The grain gradually flows in the form of the granulation layer from the granulation outlet via the transfer opening in the direction of the granulation outlet and is treated with the treatment gas. On the slide, a bed forms with a grain-specific angle of repose. Depending on the "slope" of the chute, the thickness of the grain layer is substantially constant, or it decreases from top to bottom, or it increases from top to bottom. The grain-specific angle of repose depends, for example, on the grain size, grain size distribution, morphology and chemical composition of the grain. As a rule, the grain-specific angle of repose decreases with the mean grain size.
Die Rutsche erstreckt sich zwischen dem Körnungseinlass und der Übergabeöffnung. Sie ist im einfachsten Fall eine zur Vertikalen geneigte Platte; sie kann jedoch beispielsweise auch halbschalenförmig ausgebildet sein. Auch bei horizontaler Orientierung der Rutsche stellt sich zwischen dem Körnungsauslass und der Übergabeöffnung eine Schüttung mit dem körnungsspezifischen Schüttwinkel ein, jedoch kommt es hierbei zu bewegungslosen oder bewegungsarmen Körnungsbereichen innerhalb der Körnungsschicht. Die Rutsche kann auch wendelförmig innerhalb des Behandlungsraumes verlaufen. Wesentlich ist lediglich, dass sich auf der Rutsche und zwischen Körnungsauslass und Übergabeöffnung eine Körnungsschicht mit dem spezifischen Schüttwinkel ausbildet.The chute extends between the grit inlet and the transfer opening. It is in the simplest case a plate inclined to the vertical; However, it may also be formed, for example, half-shell-shaped. Even with a horizontal orientation of the chute, a bed with the grain-specific angle of repose arises between the grain outlet and the transfer opening, but in this case, there are still or poor-moving grain areas within the grain layer. The chute can also run helically within the treatment room. All that is essential is that a granulation layer with the specific angle of repose forms on the chute and between the grain outlet and the transfer opening.
Bei dem Behandlungsgas handelt es sich beispielsweise um ein chlorhaltiges Gas, wie es auch sonst aus dem Stand der Technik zur Reinigung von mineralischem Schüttgut eingesetzt wird, um ein Dotiergas zum Dotieren der Körnung, oder um ein Spülgas wie Wasserstoff oder Helium zum Austausch gegen ein anderes an der Körnungs-Oberfläche adsorbierten Gases. Während der Behandlung mit dem Behandlungsgas wird die Körnung innerhalb des Behandlungsraumes auf hohe Temperatur erhitzt, beispielsweise auf eine Temperatur oberhalb 800°C.The treatment gas is, for example, a chlorine-containing gas, as is otherwise used in the prior art for the purification of mineral bulk material, a doping gas for doping the grain, or a flushing gas such as hydrogen or helium for exchange with another adsorbed on the graining surface gas. During the treatment with the treatment gas, the grain is heated to a high temperature within the treatment space, for example to a temperature above 800 ° C.
Bei der anorganischen Körnung handelt es sich um Quarzsand aus natürlich vorkommendem Rohstoff, um synthetische Quarzglaskörnung, um SiC-Körnung oder um Graphit und dergleichen.Inorganic graining is quartz sand of naturally occurring raw material, synthetic quartz glass grain, SiC grain or graphite and the like.
Durch die Übergabeöffnung gelangt die Körnung in einen unterhalb der ersten Rutsche angeordneten Bereich des Behandlungsraumes. In diesem Raum kann eine weitere Rutsche zur Aufnahme der Körnungsschicht angeordnet sein, oder es handelt es um einen Freiraum, der in den Körnungsauslass mündet und in dem die Körnung aufgeschüttet und über den Körnungsauslass entfernt werden kann.The granulation passes through the transfer opening into a region of the treatment space arranged below the first slide. In this space may be arranged another slide for receiving the granulation layer, or it is a free space which opens into the granulation outlet and in which the granulation can be poured up and removed via the granulation outlet.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren ergeben sich somit mindestens zwei Körnungsschüttungen innerhalb des Behandlungsraumes, wovon eine Schüttung auf der ersten Rutsche und eine weitere Schüttung unterhalb der ersten Rutsche ausgebildet sind. In the method according to the invention thus results in at least two granulation beds within the treatment chamber, of which a bed on the first slide and a further bed below the first slide are formed.
Es hat sich gezeigt, dass aufgrund dieser Verfahrensweise, mit sich innerhalb des Behandlungsraumes in relativ geringer Schichtdicke abrieselnder Körnung, eine schnelle Aufheizung der Körnung und eine gleichmäßige und effektive Behandlung erreichbar sind. Dazu trägt bei, dass die Körnungsschicht von allen Seiten, insbesondere auch von unten beheizbar ist. Das Verfahren ist kontinuierlich und somit auch aus Gesichtspunkten der Produktivität vorteilhaft.It has been shown that, due to this procedure, within the treatment space with a relatively low layer thickness of trickling granulation, a rapid heating of the granulation and a uniform and effective treatment can be achieved. This contributes to the fact that the granulation layer can be heated from all sides, especially from below. The process is continuous and therefore also advantageous from a productivity point of view.
Je dünner die Körnungsschicht auf der Rutsche ausgebildet ist, umso höher ist der Behandlungseffekt, insbesondere ein Reinigungseffekt. Daher wird eine Verfahrensweise bevorzugt, bei der die Körnungsschicht oberhalb der Übergabeöffnung eine minimale Dicke von weniger als 5 cm, vorzugsweise eine minimale Dicke von weniger als 3 cm aufweist.The thinner the granulation layer is formed on the chute, the higher the treatment effect, in particular a cleaning effect. Therefore, a procedure is preferred in which the granulation layer above the transfer opening has a minimum thickness of less than 5 cm, preferably a minimum thickness of less than 3 cm.
Von der Übergabeöffnung aus nimmt die Schichtdicke in Richtung des Körnungseinlasses gemäß dem körnungsspezifischen Schüttwinkel entweder ab oder zu. Die minimale Dicke der Körnungsschicht stellt sich aufgrund des Verhältnisses von Zugabe und Entnahme der Körnung je nach Steigung des ersten Rutsche entweder oberhalb der Übergabeöffnung ein oder unterhalb des Körnungseinlasses. Im Idealfall ist die Entnahme der Körnung derart, dass sich eine minimale Schichtdicke nahe Null einstellt.From the transfer opening, the layer thickness either decreases or increases in the direction of the grain inlet in accordance with the grain-specific angle of repose. The minimum thickness of the graining layer, due to the ratio of addition and removal of the grain, will either be above the transfer port at or below the grain inlet, depending on the slope of the first chute. Ideally, the removal of the grain is such that a minimum layer thickness approaches zero.
An der Übergabeöffnung ergibt sich eine Brückenbildung zwischen der Schüttung auf der ersten Rutsche und dem darunter liegenden Bereich.At the transfer opening there is a bridging between the bed on the first slide and the area below it.
Bei einer bevorzugten Verfahrensvariante ist vorgesehen, dass die Körnungsschicht über die Übergabeöffnung auf eine innerhalb des Behandlungsraums angeordnete zweite Rutsche übergeben wird, die sich entgegengesetzt zur ersten Rutsche innerhalb des Behandlungsraums erstreckt.In a preferred variant of the method, it is provided that the granulation layer is transferred via the transfer opening to a second chute disposed within the treatment space, which extends opposite to the first chute within the treatment space.
Bei dieser Ausführungsform sind mindestens zwei Rutschen innerhalb des Behandlungsraumes angeordnet, die eine Kaskade miteinander bilden, indem sie beispielsweise zickzackförmig oder mäanderförmig innerhalb des Behandlungsraumes verlaufen. An der Übergabeöffnung gelangt die Körnungsschicht von der ersten, oberen Rutsche auf die zweite, untere Rutsche. Die jeweiligen Körnungsschichten sind dabei über eine Körnungs-Brücke verbunden, die sich durch die Übergabeöffnung erstreckt. Die zweite Rutsche endet am Körnungsauslass oder an einer weiteren Übergabeöffnung, so dass unterhalb der zweiten Rutsche eine oder mehrere weiteren Rutschen kaskadenartig angeordnet sein können.In this embodiment, at least two slides are arranged within the treatment space, which form a cascade with one another, for example by running zigzag or meandering within the treatment space. At the transfer opening, the granulation layer passes from the first, upper chute to the second, lower chute. The respective granulation layers are connected via a granulation bridge which extends through the transfer opening. The second chute ends at the grain outlet or at another transfer opening, so that one or more further chutes can be arranged in cascade manner below the second chute.
Aufgrund dieses Ausbreitens der Körnung in Form einer kaskadenartig innerhalb des Behandlungsraumes verlaufenden Körnungsschicht ergeben sich eine besonders hohe Oberfläche und eine effektive Behandlungswirkung auch bei hohen Durchsätzen.Due to this spreading of the grain in the form of a cascade-like grain layer extending within the treatment space, a particularly high surface area and an effective treatment effect result, even at high throughputs.
Dazu trägt bei, dass die Körnungsschicht auf der ersten Rutsche aufliegende Unterseitenkörnung und eine freie Oberseite aufweist, wobei die Körnungsschicht bei der Übergabe von der ersten auf die zweite Rutsche derart gewendet wird, dass mindestens ein Teil der Unterseitenkörnung an der freien Oberseite zu liegen kommt. Das „Wenden” der Körnungsschicht beim Übergang von der ersten, oberen Rutsche auf die untere Rutsche trägt zusätzlich zur Vergleichmäßigung der Reaktion mit dem Behandlungsgas bei.This contributes to the fact that the graining layer has underside grains resting on the first chute and a free upper side, the graining layer being turned over from the first to the second chute in such a way that at least part of the undersize grains come to rest on the free upper side. The "turning" of the graining layer at the transition from the first, upper chute to the lower chute additionally contributes to the homogenization of the reaction with the treatment gas.
Um ein optimales Abrieseln der Körnung über die Körnungsschicht zu gewährleisten hat es sich bewährt, wenn der Körnungseinlass in einer oberen Öffnungsebene und die Übergabeöffnung in einer unteren Öffnungsebene liegen, wobei die Verbindungslinie zwischen Körnungseinlass und Übergabeöffnung mit der Horizontalen einen Anlagenwinkel einschließt, der mindestens so groß ist wie ein spezifischer Schüttwinkel der Körnung.In order to ensure optimal trickling of the grain over the granulation layer, it has proven useful if the granulation inlet in an upper opening plane and the transfer opening lie in a lower opening plane, wherein the connecting line between Grazernseinlass and transfer opening with the horizontal includes a plant angle that is at least as large is like a specific angle of repose of the grain.
Dadurch wird gewährleistet, dass sich zwischen dem Körnungseinlass und der Übergabeöffnung eine Körnungsschüttung mit dem körnungsspezifischen Schüttwinkel ausbilden kann. Andernfalls kann es zu einer Verlangsamung des Abrieselns oder zum Rückstau kommen. Die Verbindungslinie zwischen Körnungseinlass und Übergabeöffnung ergibt sich als Verbindung zwischen den Schnittpunkten von jeweiliger Öffnungsebene und Öffnungsmittellinie.This ensures that a grain charge with the grain-specific angle of repose can form between the grain inlet and the transfer opening. Otherwise, it may slow down the trickle or backwater. The connecting line between the granulation inlet and the transfer opening results as a connection between the intersections of the respective opening plane and the opening center line.
Ein großer Anlagenwinkel hat den Vorteil, dass ein und dasselbe Behandlungsmodul für eine Vielzahl unterschiedlicher Körnungen und körnungsspezifischer Schüttwinkel einsetzbar ist. Andererseits ergibt sich bei Anlagenwinkeln, die wesentlich größer sind als der körnungsspezifische Schüttwinkel, eine unnötig hohe Schüttung und damit eine vergleichsweise schlechtere Behandlungs- und Reinigungswirkung. Daher ist eine Verfahrensweise bevorzugt, bei der der Anlagenwinkel an den körnungsspezifischen Schüttwinkel angepasst ist, derart, dass der Anlagewinkel um maximal 10°, vorzugsweise maximal 5°, größer ist als der spezifische Schüttwinkel der Körnung. Im Fall einer Quarzglas-Körnung liegen typische Schüttwinkel im Bereich von 25 bis 36 Grad, so dass sich Anlagenwinkel bis maximal 46 Grad, vorzugsweise maximal 41 Grad als besonders günstig erweisen.A large installation angle has the advantage that one and the same treatment module can be used for a large number of different grain sizes and grain-specific angles of repose. On the other hand results in plant angles that are much larger than the grain-specific angle of repose, an unnecessarily high bed and thus a comparatively poorer treatment and cleaning effect. Therefore, a procedure is preferred in which the installation angle is adapted to the grain-specific angle of repose, such that the contact angle by a maximum of 10 °, preferably a maximum of 5 °, greater than the specific angle of repose of the grain. In the case of a quartz glass grain size typical angle of repose in the range of 25 to 36 degrees, so that plant angles up to 46 degrees, preferably a maximum of 41 degrees prove to be particularly favorable.
Bei einer besonders bevorzugten Verfahrensweise ist vorgesehen, dass die erste Rutsche eine Gleitfläche aufweist, die mit der Horizontalen einen Kaskadenwinkel einschließt, der mindestens so groß ist wie ein spezifischer Schüttwinkel der Körnung.In a particularly preferred procedure, it is provided that the first chute has a sliding surface which encloses with the horizontal a cascade angle which is at least as great as a specific angle of repose of the grain.
Bei dieser Verfahrensweise ist die Steigung mindestens der ersten Rutsche größer als der körnungsspezifische Schüttwinkel. Dies führt dazu, dass sich eine Körnungsschicht ausbildet, die im Bereich des Körnungseinlasses dünn ist und die nach unten hin gemäß dem körnungsspezifischen Schüttwinkel zunimmt, und an der Übergabeöffnung am größten ist. Der große Kaskadenwinkel hat den Vorteil, dass die Körnung auf der Rutsche nicht stabil aufliegen kann, sondern abrieselt. Dadurch werden bewegungsarme Bereiche innerhalb der Körnungsschicht vermieden, was zu einer gleichmäßigeren Behandlung beiträgt. Besonders vorteilhaft ist auch, dass der Behandlungsraum auch ohne Verkippen vollständig von Körnung entleert werden kann.In this procedure, the slope of at least the first chute is greater than the grain-specific angle of repose. This results in the formation of a graining layer which is thin in the region of the grain inlet and which increases downwards according to the grain-specific angle of repose, and is largest at the transfer port. The large cascade angle has the advantage that the grain on the chute can not rest stably, but trickles away. As a result, areas with little movement are avoided within the granulation layer, which contributes to a more uniform treatment. It is also particularly advantageous that the treatment room can be emptied completely of grain even without tilting.
Dafür genügt es, wenn der Kaskadenwinkel geringfügig größer ist als der körnungsspezifische Schüttwinkel. Andererseits ergibt sich bei Kaskadenwinkeln, die wesentlich größer sind als der körnungsspezifische Schüttwinkel, eine unnötig hohe Schüttung und damit eine vergleichsweise schlechtere Behandlung- und Reinigungswirkung. Daher ist eine Verfahrensweise bevorzugt, bei der der Kaskadenwinkel an den körnungsspezifischen Schüttwinkel angepasst ist, derart, dass der Anlagewinkel um maximal 10°, vorzugsweise maximal 5°, größer ist als der spezifische Schüttwinkel der Körnung.For this it is sufficient if the cascade angle is slightly larger than the grain-specific angle of repose. On the other hand, at cascade angles, which are significantly greater than the grain-specific angle of repose, an unnecessarily high bed and thus a comparatively poorer treatment and cleaning effect. Therefore, a procedure is preferred in which the cascade angle is adapted to the grain-specific angle of repose, such that the contact angle is greater than the specific angle of repose of the grain by a maximum of 10 °, preferably a maximum of 5 °.
Es hat sich besonders bewährt, wenn das Behandlungsgas den Behandlungsraum von unten nach oben und durch die Übergabeöffnung durchströmt.It has proven particularly useful if the treatment gas flows through the treatment space from bottom to top and through the transfer opening.
Das Behandlungsgas wird dabei über mindestens eine Teilstrecke innerhalb des Behandlungsraums im Gegenstrom zur Bewegung der Körnungsschicht geführt. Dadurch ergibt sich ein besonders effektiver Behandlungseffekt.The treatment gas is guided over at least a partial section within the treatment chamber in countercurrent to the movement of the granulation layer. This results in a particularly effective treatment effect.
Dies gilt insbesondere für die Körnungsschicht im Bereich der Übergabeöffnung. Denn dort wird das Behandlungsgas zwangsweise gleichzeitig mit der entgegenströmenden Körnung durch die Übergabeöffnung geleitet, so dass es zu einem besonders innigen Kontakt und damit zu einer wirksamen Behandlung, insbesondere einer effektiven Reinigung, kommt. In dem Zusammenhang hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die Öffnungsweite der Übergabeöffnung maximal 20 mm aufweist. Die maximale Öffnungsweite bestimmt die Schichtdicke der Körnungsschicht im Bereich der Übergabeöffnung.This applies in particular to the granulation layer in the region of the transfer opening. Because there, the treatment gas is forcibly passed simultaneously with the opposite grain through the transfer opening, so that it comes to a particularly intimate contact and thus to an effective treatment, in particular an effective cleaning. In this context, it has proved to be advantageous if the opening width of the transfer opening has a maximum of 20 mm. The maximum opening width determines the layer thickness of the granulation layer in the region of the transfer opening.
Es hat sich bewährt, wenn das Behandlungsgas ein chlorhaltiges Reaktionsgas ist und die Körnung in dem Behandlungsraum eine Verweildauer von mindestens 30 min erfährt.It has proven useful if the treatment gas is a chlorine-containing reaction gas and the grain in the treatment room undergoes a residence time of at least 30 minutes.
Der Durchsatz durch den Behandlungsraum bestimmt die mittlere Verweildauer der Körnung. Für unterschiedliche Bereiche der Körnungsschicht ergeben sich jedoch unterschiedlich lange Behandlungsdauern. Die Körnungsbereiche mit minimaler Verweildauer können leicht empirisch ermittelt werden. Der Durchsatz ist auf Basis dieser Erkenntnis so einzustellen, dass sich eine minimale Verweildauer von 30 min oder länger ergibt. Im Fall einer Reinigung der Körnung unter Einsatz eines chlorhaltigen Reaktionsgases ergibt sich in der Regel ein ausreichender Reinigungseffekt.The throughput through the treatment room determines the mean residence time of the granulation. For different areas of the graining layer, however, different treatment periods result. The grain areas with minimal residence time can be easily determined empirically. The throughput is to be adjusted on the basis of this finding so that a minimum residence time of 30 minutes or longer results. In the case of cleaning the grain using a chlorine-containing reaction gas usually results in a sufficient cleaning effect.
Hinsichtlich des Reaktors wird die oben angegebene Aufgabe ausgehend von einem Reaktor der eingangs genannten Gattung erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass sich in dem Behandlungsraum eine erste Rutsche mindestens über eine Teilstrecke zwischen Körnungseinlass und Körnungsauslass erstreckt, die die an einer Übergabeöffnung oberhalb des Körnungsauslasses endet.With regard to the reactor, the object stated above, starting from a reactor of the type mentioned in the introduction, is achieved by a first chute extending at least over a partial section between the grain inlet and the grain outlet in the treatment space, which ends at a transfer opening above the grain outlet.
Das Behandlungsmodul ist Teil einer Reinigungsanlage. Es ersetzt den Behandlungsraum bei dem bekannten Schachtofen. In Abwandlung dazu ist bei der Erfindung innerhalb des Behandlungsraums mindestens eine Rutsche vorgesehen, die zur Aufnahme einer Körnungsschicht dient, die aufgrund der Rieselfähigkeit der Körnung entlang eines Gefälles nach unten bewegt wird und dabei einem Behandlungsgas ausgesetzt wird. Die Körnungsschicht weist im Vergleich zu der bekannten, siloartigen, vertikalen Aufschüttung eine geringe Dicke auf, so dass eine gleichmäßige Behandlung der Körnung mit dem Behandlungsgas erfolgt, eine Siloströmung verhindert, und damit eine effektive Behandlung ermöglicht wird. Bewegliche mechanische Teile sind nicht erforderlich, da die Bewegung der Körnung aufgrund ihrer Rieselfähigkeit und ihrem eigenen Gewicht erfolgt.The treatment module is part of a cleaning system. It replaces the treatment room in the known shaft furnace. In a modification to this, at least one chute is provided in the invention within the treatment space, which serves to receive a granulation layer which is moved downwards along a slope due to the flowability of the granulation and is thereby exposed to a treatment gas. The graining layer has a small thickness compared to the known silo-like vertical bed, so that a uniform treatment of the granulation with the treatment gas, prevents silo, and thus enables effective treatment. Movable mechanical parts are not required because the movement of the grain is due to their flowability and their own weight.
Insoweit vereint die Erfindung die Vorteile von Drehrohrofen und Schachtofen und vermeidet gleichzeitig deren Nachteile.In that regard, the invention combines the advantages of rotary kiln and shaft furnace while avoiding their disadvantages.
Die Rutsche erstreckt sich zwischen dem Körnungseinlass und der Übergabeöffnung. Sie ist im einfachsten Fall eine zur Vertikalen geneigte Platte; sie kann jedoch beispielsweise auch halbschalenförmig ausgebildet sein. Auch bei horizontaler Orientierung der Rutsche stellt sich zwischen dem Körnungseinlass und der Übergabeöffnung eine Schüttung mit dem für die Körnung spezifischen Schüttwinkel ein, jedoch kommt es hierbei zu bewegungslosen oder bewegungsarmen Körnungsbereichen innerhalb der Körnungsschicht. Die Rutsche kann auch wendelförmig innerhalb des Behandlungsraumes verlaufen.The chute extends between the grit inlet and the transfer opening. It is in the simplest case a plate inclined to the vertical; However, it may also be formed, for example, half-shell-shaped. Even with a horizontal orientation of the chute is between the grain inlet and the transfer opening a bed with the specific grain for the angle of repose, However, this results in motionless or low-motion grit areas within the granulation layer. The chute can also run helically within the treatment room.
Der Behandlungsraum ist mittels einer Heizeinrichtung auf hohe Temperatur erhitzbar, beispielsweise auf eine Temperatur oberhalb 800°C, vorzugsweise oberhalb 1200°C.The treatment chamber can be heated to a high temperature by means of a heating device, for example to a temperature above 800 ° C., preferably above 1200 ° C.
In dem Bereich des Behandlungsraums unterhalb der Übergabeöffnung kann eine weitere Rutsche zur Aufnahme der Körnungsschicht angeordnet sein, oder es handelt es um einen Freiraum, der mit dem Körnungsauslass verbunden ist, und in dem die Körnung aufgeschüttet wird und über den Körnungsauslass entfernt werden kann.In the region of the treatment space below the transfer opening, a further chute for receiving the granulation layer can be arranged, or it is a free space, which is connected to the grain outlet, and in which the grain is heaped up and can be removed via the grain outlet.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Behandlungsmoduls ergeben sich aus den Unteransprüchen. Soweit in den Unteransprüchen angegebene Ausgestaltungen des Behandlungsmoduls den in Unteransprüchen zum erfindungsgemäßen Verfahren genannten Verfahrensweisen nachgebildet sind, wird zur ergänzenden Erläuterung auf die obigen Ausführungen zu den entsprechenden Verfahrensansprüchen verwiesen. Die übrigen Modifikationen werden im Folgenden näher erörtert.Advantageous embodiments of the treatment module of the invention will become apparent from the dependent claims. Insofar as in the subclaims specified embodiments of the treatment module, the procedures mentioned in subclaims for the method according to the invention are modeled, reference is made for supplementary explanation to the above statements on the corresponding method claims. The remaining modifications are discussed in more detail below.
Die Übergabeöffnung weist vorzugsweise eine maximale Öffnungsweite von 20 mm auf.The transfer opening preferably has a maximum opening width of 20 mm.
Die maximale Öffnungsweite bestimmt die maximale Schichtdicke der Körnungsschicht im Bereich der Übergabeöffnung. Durch eine geringe Öffnungsweite ergibt sich ein inniger Kontakt mit dem Behandlungsgas, wenn dieses zwangsweise gleichzeitig mit der entgegenströmenden Körnung durch die Übergabeöffnung geleitet wird.The maximum opening width determines the maximum layer thickness of the granulation layer in the area of the transfer opening. Due to a small opening width, an intimate contact with the treatment gas results when it is forcibly passed through the transfer opening simultaneously with the counterflowing grain.
Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, wenn der Behandlungsraum und die mindestens eine Rutsche aus Quarzglas bestehen.It has proved to be advantageous if the treatment space and the at least one slide consist of quartz glass.
Quarzglas zeichnet sich durch hohe mechanische Beständigkeit und Temperaturfestigkeit aus und trägt wenig zu einer zusätzlichen Verunreinigung der zu reinigenden Körnung bei; dies gilt insbesondere dann, wenn es sich bei der zu reinigenden Körnung um Quarzglaskörnung handelt. Ein besonderer Vorteil dieser Konstruktion liegt auch in der Transparenz der Quarzglasbauteile, indem die Körnung effektiv mittels Wärmestrahlung aufheizbar ist. Beispielsweise ermöglichen transparente Wandungen des Behandlungsraums das schnelle Aufheizen der Körnung von außen und transparente Rutschen das Aufheizen der Körnungsschicht von allen Seiten, insbesondere auch von unten.Quartz glass is characterized by high mechanical resistance and temperature resistance and contributes little to an additional contamination of the grain to be cleaned; this applies in particular when the grain to be cleaned is quartz glass grains. A particular advantage of this construction is also the transparency of the quartz glass components, in that the grain size can be effectively heated by thermal radiation. For example, transparent walls of the treatment space allow the rapid heating of the grain from the outside and transparent chutes the heating of the granulation layer from all sides, especially from below.
Das Behandlungsmodul eignet sich zur Verbindung mit anderen Bestandteilen der Behandlungsvorrichtung. In einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist zu diesem Zweck vorgesehen, dass das Behandlungsmodul eine Unterseite aufweist, die mit Anschlusselementen zum Körnungseinlass mindestens einer weiteren Behandlungskammer versehen ist.The treatment module is suitable for connection with other components of the treatment device. In a particularly preferred embodiment, it is provided for this purpose that the treatment module has a lower side, which is provided with connection elements for grit inlet of at least one further treatment chamber.
Bei der anschließbaren Behandlungskammer kann es sich um ein weiteres Behandlungsmodul handeln, insbesondere um ein Reinigungsmodul für die Reinigung der Körnung, ein Desorptionsmodul, mittels dem unter Einsatz eines Spülgases an der Körnung adsorbierte Gase, wie HCl oder Chlor, entfernt werden, oder es handelt sich bei der Behandlungskammer um eine Abkühleinrichtung oder um einen Ofen zum Erschmelzen der Körnung.The connectable treatment chamber can be a further treatment module, in particular a cleaning module for cleaning the grain, a desorption module by means of which gases, such as HCl or chlorine, adsorbed on the grain using a purge gas are removed, or it is at the treatment chamber around a cooling device or around an oven for melting the grain.
Bei dem Anschlusselement handelt es sich im einfachsten Fall um den Körnungsauslass des oberen Behandlungsmoduls. Dieser korrespondiert, beispielsweise über eine Schliffverbindung, mit dem Körnungseinlass der Behandlungskammer.In the simplest case, the connection element is the grain outlet of the upper treatment module. This corresponds, for example via a ground joint, with the grain inlet of the treatment chamber.
Ausführungsbeispielembodiment
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und einer Zeichnung näher erläutert. Im Einzelnen zeigt in schematischer DarstellungThe invention will be explained in more detail with reference to an embodiment and a drawing. In detail shows in a schematic representation
Das in
Innerhalb des Behälters
Die beiden oberen Rutschen
An der Oberseite des Behälters
Über den Körnungseinlass
Die Mittellinie
Von der Übergabeöffnung
Die Körnung
Von unten, über den Gaseinlass
Der Durchsatz durch das Reinigungsmodul
Bei den in den
Bei der Ausführungsform des Reinigungsmoduls
Das in
Innerhalb des Behälters
Die obere Rutsche
An der Oberseite des Behälters
Über den Körnungseinlass
Die Mittellinie
Die Körnung
Von unten, über den Gaseinlass
Der Durchsatz durch das Reinigungsmodul
An den mit einem Kugelschliff
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG QUOTES INCLUDE IN THE DESCRIPTION
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Claims (17)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009059016.1A DE102009059016B4 (en) | 2009-12-17 | 2009-12-17 | Process for the treatment of a quartz sand or quartz glass grain |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009059016.1A DE102009059016B4 (en) | 2009-12-17 | 2009-12-17 | Process for the treatment of a quartz sand or quartz glass grain |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102009059016A1 true DE102009059016A1 (en) | 2011-06-22 |
| DE102009059016B4 DE102009059016B4 (en) | 2019-02-21 |
Family
ID=44311191
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| DE102009059016.1A Expired - Fee Related DE102009059016B4 (en) | 2009-12-17 | 2009-12-17 | Process for the treatment of a quartz sand or quartz glass grain |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| US11236002B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-02-01 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of an opaque quartz glass body |
| US10618833B2 (en) | 2015-12-18 | 2020-04-14 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a synthetic quartz glass grain |
| US11708290B2 (en) | 2015-12-18 | 2023-07-25 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of a quartz glass body in a multi-chamber oven |
| US11492285B2 (en) | 2015-12-18 | 2022-11-08 | Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg | Preparation of quartz glass bodies from silicon dioxide granulate |
| CN109433119A (en) * | 2018-12-10 | 2019-03-08 | 储晞 | It is used to prepare the reaction unit of particle and prepares the method for particle |
| WO2020118482A1 (en) * | 2018-12-10 | 2020-06-18 | 储晞 | Reaction device for preparing particles and method for preparing particles |
| CN109433119B (en) * | 2018-12-10 | 2025-06-10 | 储晞 | Reaction device for preparing particles and method for preparing particles |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE102009059016B4 (en) | 2019-02-21 |
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