DE102009055828A1 - Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel - Google Patents
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- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 96
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 79
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims abstract description 79
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 44
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 title claims abstract description 22
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 17
- 239000000976 ink Substances 0.000 title claims description 7
- 239000000049 pigment Substances 0.000 title claims description 7
- 239000003086 colorant Substances 0.000 title 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 63
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 22
- -1 tetraalkylphosphonium cation Chemical class 0.000 claims description 87
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 19
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 claims description 16
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 12
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 12
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 11
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 11
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 11
- JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N trifluoro phosphate Chemical compound FOP(=O)(OF)OF JFZKOODUSFUFIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 9
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910004013 NO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 6
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 4
- LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N methanide Chemical compound [CH3-] LGRLWUINFJPLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000004224 protection Effects 0.000 claims description 4
- 125000005207 tetraalkylammonium group Chemical group 0.000 claims description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 3
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical compound FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N tin(ii) oxide Chemical class [Sn]=O QHGNHLZPVBIIPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 2
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 2
- 229910001251 solid state electrolyte alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000005497 tetraalkylphosphonium group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 claims description 2
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical class [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 241000276425 Xiphophorus maculatus Species 0.000 claims 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 31
- 125000006340 pentafluoro ethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 11
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 6
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- SVONMDAUOJGXHL-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(C)CCCC1 SVONMDAUOJGXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 5
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(C)CCCC1 PXELHGDYRQLRQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JWPBORWCDZAHAU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 JWPBORWCDZAHAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZGZLRWJZGFRHHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CN1C=C[N+](CCO)=C1 ZGZLRWJZGFRHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N ferrocene Chemical compound [Fe+2].C=1C=C[CH-]C=1.C=1C=C[CH-]C=1 KTWOOEGAPBSYNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- 125000006343 heptafluoro propyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000005246 nonafluorobutyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKOADRMSALOJAG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dihexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 JKOADRMSALOJAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-ethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CC)CCCC1 YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XIPZVAFVVCJUQT-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 XIPZVAFVVCJUQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XGWCAUNVXQXUIZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 XGWCAUNVXQXUIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AROZXIPMFUNQLO-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 AROZXIPMFUNQLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000530 1-propynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#C* 0.000 description 2
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 2
- 125000000069 2-butynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004493 2-methylbut-1-yl group Chemical group CC(C*)CC 0.000 description 2
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- HBDRSCGXYGFKFA-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(2-hydroxyethyl)imidazol-1-ium-1-yl]propan-1-ol Chemical compound OCCC[N+]=1C=CN(CCO)C=1 HBDRSCGXYGFKFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 2
- 125000000474 3-butynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- CROSHWMSKMXXDW-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(2-hydroxyethyl)imidazol-1-ium-1-yl]butan-1-ol Chemical compound OCCCC[N+]=1C=CN(CCO)C=1 CROSHWMSKMXXDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYYZRUIUROBMBH-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(3-hydroxypropyl)imidazol-3-ium-1-yl]butan-1-ol Chemical compound OCCCCN1C=C[N+](CCCO)=C1 MYYZRUIUROBMBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GIIZYNGNGTZORC-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;2-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CN1C=C[N+](CCO)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F GIIZYNGNGTZORC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000005980 hexynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 239000013528 metallic particle Substances 0.000 description 2
- BIUUTLHYFPFWRB-UHFFFAOYSA-N methyl-tris(2-methylpropyl)phosphanium Chemical compound CC(C)C[P+](C)(CC(C)C)CC(C)C BIUUTLHYFPFWRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003538 pentan-3-yl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010970 precious metal Substances 0.000 description 2
- 125000003548 sec-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 2
- HOMONHWYLOPSLL-UHFFFAOYSA-N tributyl(ethyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](CC)(CCCC)CCCC HOMONHWYLOPSLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](C)(CCCC)CCCC XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N trihexyl(tetradecyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 2
- ZKUWNFAAKJBRSA-UHFFFAOYSA-N (1-butylpyrrolidin-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CCCC[N+]1(CO)CCCC1 ZKUWNFAAKJBRSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBRPUSYDCBZSJL-UHFFFAOYSA-N (1-ethylpyrrolidin-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CC[N+]1(CO)CCCC1 KBRPUSYDCBZSJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOEBATDQOMBMIM-UHFFFAOYSA-N (1-methylpyrrolidin-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound OC[N+]1(C)CCCC1 OOEBATDQOMBMIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVQWDMIFHBOEJS-UHFFFAOYSA-N (1-propylpyrrolidin-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CCC[N+]1(CO)CCCC1 YVQWDMIFHBOEJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- KXJPFYHAMWXPCN-UHFFFAOYSA-N (3-butylimidazol-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CCCCN1C=C[N+](CO)=C1 KXJPFYHAMWXPCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEVZQYCSTFYXOM-UHFFFAOYSA-N (3-ethylimidazol-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CCN1C=C[N+](CO)=C1 VEVZQYCSTFYXOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQCASDGVNZHSRX-UHFFFAOYSA-N (3-methylimidazol-3-ium-1-yl)methanol Chemical compound C[N+]=1C=CN(CO)C=1 AQCASDGVNZHSRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBERJYHBIYXBBP-UHFFFAOYSA-N (3-propylimidazol-1-ium-1-yl)methanol Chemical compound CCCN1C=C[N+](CO)=C1 BBERJYHBIYXBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004400 (C1-C12) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- DOYSIZKQWJYULQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoro-n-(1,1,2,2,2-pentafluoroethylsulfonyl)ethanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F DOYSIZKQWJYULQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFHSUXXCNVCUER-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethoxyboronic acid Chemical compound OB(O)OC(F)(F)C(F)(F)F OFHSUXXCNVCUER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBWQFDNGNOOMDZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,3-heptafluoropropane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F XBWQFDNGNOOMDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIAZNDAYSCULMI-UHFFFAOYSA-N 1,1-dibutylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 QIAZNDAYSCULMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVHJNCLVABFYGX-UHFFFAOYSA-N 1,1-didecylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCCCC)CCCC1 MVHJNCLVABFYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWZSCBSKFVJMJH-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(CC)CCCC1 PWZSCBSKFVJMJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOUSJWBVFFBHRT-UHFFFAOYSA-N 1,1-diheptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 MOUSJWBVFFBHRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound C[N+]1(C)CCCC1 GARJMFRQLMUUDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXOSCSSPCCNKFZ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dioctylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 LXOSCSSPCCNKFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUNOSRMSQRHNLX-UHFFFAOYSA-N 1,1-dipentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 PUNOSRMSQRHNLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBHKHVSKPJNNQD-UHFFFAOYSA-N 1,1-dipropylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(CCC)CCCC1 WBHKHVSKPJNNQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBMCNXWCDKJXRU-UHFFFAOYSA-N 1-[bis(1,1,2,2,2-pentafluoroethylsulfonyl)methylsulfonyl]-1,1,2,2,2-pentafluoroethane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)[C-](S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F)S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F PBMCNXWCDKJXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLBBYYNJEHFECS-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-decylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 PLBBYYNJEHFECS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMSXPWVTZLNVHH-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 FMSXPWVTZLNVHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISRFWLYSLBASFE-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 ISRFWLYSLBASFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZJDNKTZWIOOJE-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+]1(C)CCCC1 WZJDNKTZWIOOJE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ILEUMJQBHUIAII-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 ILEUMJQBHUIAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNUMOMQLEHPHJX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 WNUMOMQLEHPHJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBKRPLNRDHUION-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 YBKRPLNRDHUION-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCC)CCCC1 HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCDJCIZOGUUMJB-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-ethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 WCDJCIZOGUUMJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUKAFAVBJNZIMP-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 RUKAFAVBJNZIMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQDKVNGDAHQCDU-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCC)CCCC1 WQDKVNGDAHQCDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPKUOQRBNZPMAE-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 YPKUOQRBNZPMAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWRXGWLPVNFXHM-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 HWRXGWLPVNFXHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKESTDZOVLJXIU-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 YKESTDZOVLJXIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVHVCSARNZGEAH-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 PVHVCSARNZGEAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAYARTBUZGCOKP-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-heptylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 PAYARTBUZGCOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNVSNJDXLYCKSH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-hexylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 VNVSNJDXLYCKSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCCC1 NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJGKIAQBXIXHST-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 GJGKIAQBXIXHST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJDSYJKWLPZBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CC)CCCC1 KIJDSYJKWLPZBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUPNNPKTBYFKKC-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CC)CCCC1 BUPNNPKTBYFKKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNXMTMCQDZQADU-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(CC)CCCC1 QNXMTMCQDZQADU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZDPRAGZNFQVIM-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 XZDPRAGZNFQVIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHLOVGBCBDFCNI-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 OHLOVGBCBDFCNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTGOIQCVRRNXNS-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCCCC)CCCC1 XTGOIQCVRRNXNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDOMGVJEVDMYAG-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 WDOMGVJEVDMYAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRBIHAQFQIFSDL-UHFFFAOYSA-N 1-heptyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 BRBIHAQFQIFSDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VJGVQNNAIRBPJB-UHFFFAOYSA-M 1-hexyl-1-methylpyrrolidin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCCCC[N+]1(C)CCCC1 VJGVQNNAIRBPJB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FKBYITRYIIAMSU-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 FKBYITRYIIAMSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUCGEEIXOHYZCR-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 QUCGEEIXOHYZCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMSPMULSARFKPJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-nonylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 LMSPMULSARFKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMHSNYURXVUPJO-UHFFFAOYSA-M 1-methyl-1-octylpyrrolidin-1-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1 CMHSNYURXVUPJO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RRYKUXCBJXYIOD-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(C)CCCC1 RRYKUXCBJXYIOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(C)CCCC1 YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQFPYJGJBDHTAL-UHFFFAOYSA-N 1-nonyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCCCCC)CCCC1 DQFPYJGJBDHTAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQNQYKHBPGSNRN-UHFFFAOYSA-N 1-nonyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 SQNQYKHBPGSNRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OPMLTMOJVRKEFK-UHFFFAOYSA-N 1-nonyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 OPMLTMOJVRKEFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWVAERUMTYYRBP-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1-pentylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCCCC)CCCC1 YWVAERUMTYYRBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOEBEUFXBPCKMQ-UHFFFAOYSA-N 1-octyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 OOEBEUFXBPCKMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNWJRAXYYMXSF-UHFFFAOYSA-N 1-pentyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 XVNWJRAXYYMXSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004214 1-pyrrolidinyl group Chemical group [H]C1([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001462 1-pyrrolyl group Chemical group [*]N1C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- NDPHLMDQAUCGNE-UHFFFAOYSA-N 2-(1-butylpyrrolidin-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CCCC[N+]1(CCO)CCCC1 NDPHLMDQAUCGNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGNFSHMDTJHQCJ-UHFFFAOYSA-N 2-(1-ethylpyrrolidin-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound OCC[N+]1(CC)CCCC1 GGNFSHMDTJHQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDJQSBUDLXCWRU-UHFFFAOYSA-N 2-(1-methylpyrrolidin-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound OCC[N+]1(C)CCCC1 LDJQSBUDLXCWRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBUDBMKIXILJTK-UHFFFAOYSA-N 2-(1-propylpyrrolidin-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CCC[N+]1(CCO)CCCC1 GBUDBMKIXILJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDPLFDDQVOYUFR-UHFFFAOYSA-N 2-(3-butylimidazol-3-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CCCC[N+]=1C=CN(CCO)C=1 LDPLFDDQVOYUFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFNBXRZHUSGVDY-UHFFFAOYSA-N 2-(3-ethylimidazol-1-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CCN1C=C[N+](CCO)=C1 GFNBXRZHUSGVDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZGCSDDVMNLPCW-UHFFFAOYSA-N 2-(3-propylimidazol-3-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CCC[N+]=1C=CN(CCO)C=1 GZGCSDDVMNLPCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGGABWSTMPGDPJ-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethyl)imidazol-3-ium-1-yl]ethanol Chemical compound OCCN1C=C[N+](CCO)=C1 DGGABWSTMPGDPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPGIQUIOYKTBGB-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(hydroxymethyl)imidazol-3-ium-1-yl]ethanol Chemical compound OCCN1C=C[N+](CO)=C1 PPGIQUIOYKTBGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006276 2-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004198 2-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(F)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000002941 2-furyl group Chemical group O1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000006304 2-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(I)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004485 2-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 125000000389 2-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000175 2-thienyl group Chemical group S1C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005809 3,4,5-trimethoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C(OC([H])([H])[H])C(OC([H])([H])[H])=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- UNLQIRXDGQFNFJ-UHFFFAOYSA-N 3-(1-butylpyrrolidin-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound CCCC[N+]1(CCCO)CCCC1 UNLQIRXDGQFNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCXNIZVQQSKHEO-UHFFFAOYSA-N 3-(1-ethylpyrrolidin-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound OCCC[N+]1(CC)CCCC1 HCXNIZVQQSKHEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVECPPQYIUUGEG-UHFFFAOYSA-N 3-(1-methylpyrrolidin-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound OCCC[N+]1(C)CCCC1 GVECPPQYIUUGEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIPFJLVAAYVWTP-UHFFFAOYSA-N 3-(1-propylpyrrolidin-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound OCCC[N+]1(CCC)CCCC1 HIPFJLVAAYVWTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOWQARDLXGAQRN-UHFFFAOYSA-N 3-(3-butylimidazol-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound CCCCN1C=C[N+](CCCO)=C1 FOWQARDLXGAQRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHCYGBJTVGBXMH-UHFFFAOYSA-N 3-(3-ethylimidazol-1-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound CCN1C=C[N+](CCCO)=C1 LHCYGBJTVGBXMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFXCYNGTSCSHND-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound CN1C=C[N+](CCCO)=C1 ZFXCYNGTSCSHND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZBDPALRWLLVBU-UHFFFAOYSA-N 3-(3-propylimidazol-3-ium-1-yl)propan-1-ol Chemical compound CCC[N+]=1C=CN(CCCO)C=1 GZBDPALRWLLVBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUBXWGIBQLCGSE-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-hydroxypropyl)imidazol-3-ium-1-yl]propan-1-ol Chemical compound OCCCN1C=C[N+](CCCO)=C1 PUBXWGIBQLCGSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOIGIGIUGUSJ-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(hydroxymethyl)imidazol-3-ium-1-yl]propan-1-ol Chemical compound OCCCN1C=C[N+](CO)=C1 YLZOIGIGIUGUSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006275 3-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Br)=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004179 3-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(Cl)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004180 3-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(F)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003682 3-furyl group Chemical group O1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006305 3-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(I)=C([H])C(*)=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003349 3-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([*])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004575 3-pyrrolidinyl group Chemical group [H]N1C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001397 3-pyrrolyl group Chemical group [H]N1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001541 3-thienyl group Chemical group S1C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ICVJRSZVDGARPC-UHFFFAOYSA-N 4-(1-butylpyrrolidin-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound OCCCC[N+]1(CCCC)CCCC1 ICVJRSZVDGARPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWQCSRQHMPMJOK-UHFFFAOYSA-N 4-(1-ethylpyrrolidin-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound OCCCC[N+]1(CC)CCCC1 OWQCSRQHMPMJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEQDOHACAIHPFT-UHFFFAOYSA-N 4-(1-methylpyrrolidin-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound OCCCC[N+]1(C)CCCC1 VEQDOHACAIHPFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHTFCBOOYUIFFO-UHFFFAOYSA-N 4-(1-propylpyrrolidin-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound OCCCC[N+]1(CCC)CCCC1 WHTFCBOOYUIFFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPGVIPXHAGRNMN-UHFFFAOYSA-N 4-(3-butylimidazol-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound CCCCN1C=C[N+](CCCCO)=C1 PPGVIPXHAGRNMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYQCBZAULVPTBL-UHFFFAOYSA-N 4-(3-ethylimidazol-1-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound CCN1C=C[N+](CCCCO)=C1 MYQCBZAULVPTBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWNPODYIPACARY-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound CN1C=C[N+](CCCCO)=C1 JWNPODYIPACARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJMMNXDGWMUPMY-UHFFFAOYSA-N 4-(3-propylimidazol-3-ium-1-yl)butan-1-ol Chemical compound CCC[N+]=1C=CN(CCCCO)C=1 ZJMMNXDGWMUPMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYMIKBRKDBLTAH-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxybutyl)imidazol-3-ium-1-yl]butan-1-ol Chemical compound OCCCCN1C=C[N+](CCCCO)=C1 CYMIKBRKDBLTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHTZRPBAMGGUNI-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(hydroxymethyl)imidazol-3-ium-1-yl]butan-1-ol Chemical compound OCCCCN1C=C[N+](CO)=C1 QHTZRPBAMGGUNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004800 4-bromophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Br 0.000 description 1
- 125000001255 4-fluorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1F 0.000 description 1
- SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-butyl Chemical group [CH2]CCCO SXIFAEWFOJETOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006306 4-iodophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1I 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- 125000000590 4-methylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000339 4-pyridyl group Chemical group N1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 4-thiazolyl Chemical compound [C]1=CSC=N1 KDDQRKBRJSGMQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004539 5-benzimidazolyl group Chemical group N1=CNC2=C1C=CC(=C2)* 0.000 description 1
- CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 5-thiazolyl Chemical group [C]1=CN=CS1 CWDWFSXUQODZGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical class C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical class CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical group [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N Tetradecylamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCN PLZVEHJLHYMBBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCUFXCLKSWFPLD-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)imidazol-3-ium-1-yl]methanol Chemical compound OCN1C=C[N+](CO)=C1 GCUFXCLKSWFPLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- HSLXOARVFIWOQF-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-butyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(C)CCCC1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F HSLXOARVFIWOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZSJXAHBNZXKSK-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-methyl-1-octylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCCCCCC[N+]1(C)CCCC1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F IZSJXAHBNZXKSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQWLFOMXECTXNQ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)methylsulfonyl-trifluoromethane Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)[C-](S(=O)(=O)C(F)(F)F)S(=O)(=O)C(F)(F)F UQWLFOMXECTXNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001162 cycloheptenyl group Chemical group C1(=CCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002100 cyclohexa-1,3-dienyl group Chemical group [H]C1([*])C([H])=C([H])C([H])=C([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002150 cyclohexa-1,4-dienyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])(*)C([H])=C([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- INOMZHMKUGNJGV-UHFFFAOYSA-N difluoro(1,1,2,2,2-pentafluoroethoxy)borane Chemical compound B(OC(C(F)(F)F)(F)F)(F)F INOMZHMKUGNJGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMSCISMJPBPSK-UHFFFAOYSA-N difluoro(trifluoromethoxy)borane Chemical compound FB(F)OC(F)(F)F LZMSCISMJPBPSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002848 electrochemical method Methods 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N ethyltrimethylammonium Chemical compound CC[N+](C)(C)C YOMFVLRTMZWACQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N n,n-dihexylhexan-1-amine Chemical compound CCCCCCN(CCCCCC)CCCCCC DIAIBWNEUYXDNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000005069 octynyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C#C* 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000000636 p-nitrophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)[N+]([O-])=O 0.000 description 1
- 239000005022 packaging material Substances 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 125000000286 phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004346 phenylpentyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)CCCCC* 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000010333 potassium nitrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000004323 potassium nitrate Substances 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002206 pyridazin-3-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)N=N1 0.000 description 1
- 125000004940 pyridazin-4-yl group Chemical group N1=NC=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000006513 pyridinyl methyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000246 pyrimidin-2-yl group Chemical group [H]C1=NC(*)=NC([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004527 pyrimidin-4-yl group Chemical group N1=CN=C(C=C1)* 0.000 description 1
- 125000004528 pyrimidin-5-yl group Chemical group N1=CN=CC(=C1)* 0.000 description 1
- 125000004943 pyrimidin-6-yl group Chemical group N1=CN=CC=C1* 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- QRUBYZBWAOOHSV-UHFFFAOYSA-M silver trifluoromethanesulfonate Chemical compound [Ag+].[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F QRUBYZBWAOOHSV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
- VWGARRKCFILYNY-UHFFFAOYSA-N tetra(nonyl)azanium Chemical compound CCCCCCCCC[N+](CCCCCCCCC)(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC VWGARRKCFILYNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCKZOASXBBGEKB-UHFFFAOYSA-N tetra(nonyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCC[P+](CCCCCCCCC)(CCCCCCCCC)CCCCCCCCC WCKZOASXBBGEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutylphosphanium Chemical compound CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAUOXRUBCACRRL-UHFFFAOYSA-N tetradecylphosphane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCP DAUOXRUBCACRRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N tetraethylphosphanium Chemical compound CC[P+](CC)(CC)CC SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFZDLRVCXDBOPH-UHFFFAOYSA-N tetraheptylazanium Chemical compound CCCCCCC[N+](CCCCCCC)(CCCCCCC)CCCCCCC YFZDLRVCXDBOPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATWHYDCJSAROQC-UHFFFAOYSA-N tetraheptylphosphanium Chemical compound CCCCCCC[P+](CCCCCCC)(CCCCCCC)CCCCCCC ATWHYDCJSAROQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium Chemical compound CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGWJLDNNUJKAHP-UHFFFAOYSA-N tetrahexylphosphanium Chemical compound CCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC AGWJLDNNUJKAHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXYHVFRRNNWPMB-UHFFFAOYSA-N tetramethylphosphanium Chemical compound C[P+](C)(C)C BXYHVFRRNNWPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N tetraoctylazanium Chemical compound CCCCCCCC[N+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC CHYBTAZWINMGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N tetraoctylphosphanium Chemical compound CCCCCCCC[P+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N tetrapentylammonium Chemical compound CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRPOXSSMNVVCMT-UHFFFAOYSA-N tetrapentylphosphanium Chemical compound CCCCC[P+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC LRPOXSSMNVVCMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOGCTUKDUDAZKA-UHFFFAOYSA-N tetrapropylphosphanium Chemical compound CCC[P+](CCC)(CCC)CCC XOGCTUKDUDAZKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004753 textile Substances 0.000 description 1
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 1
- 231100000027 toxicology Toxicity 0.000 description 1
- SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N triethyl(methyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CC SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- CCZXMDQFIVMWMF-UHFFFAOYSA-N trifluoromethoxyboronic acid Chemical compound OB(O)OC(F)(F)F CCZXMDQFIVMWMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/66—Electroplating: Baths therefor from melts
- C25D3/665—Electroplating: Baths therefor from melts from ionic liquids
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel umfassend die elektrochemische Metallabscheidung auf elektrisch leitenden oder halbleitenden Substratpartikeln, nach diesem Verfahren hergestellte Partikel und elektrochemische Bäder zur Verwendung in diesem Verfahren.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel, umfassend die elektrochemische Metallabscheidung auf mindestens oberflächlich elektrisch leitenden oder halbleitenden Substratpartikeln, nach diesem Verfahren hergestellte Partikel und elektrochemische Bäder zur Verwendung in diesem Verfahren.
- Metallische Eigenschaften von Stoffen sind in Hinblick auf ihre speziellen physikalischen Eigenschaften, wie die ausgeprägte Reflexion elektromagnetischer Strahlung, die elektrische Leitfähigkeit und die Wärmeleitfähigkeit, in vielen Bereichen unersetzlich. Insbesondere von Interesse sind oftmals metallische Oberflächenbeschichtungen von Nichtmetallen, da so metallische Effekte auf den Nichtmetallen erzeugt werden können. Dadurch ist ein Ersatz von Metallen, z. B. durch Kunststoffe, möglich, was auch kostengünstiger ist.
- Jedoch sind die Möglichkeiten zur Aufbringung homogener Metallschichten wie z. B. durch Physical Vapor Deposition (PVD) energetisch und anlagenseitig aufwändig, da die Beschichtungen im Vakuum vorgenommen und die Metalle verdampft werden müssen.
undWO 2006/053362 DE 10108893 beschreiben Verfahren zur elektrochemischen Herstellung von Metallschichten auf einem Substrat in einer ionischen Flüssigkeit, wobei die zu beschichtenden Substrate wie üblich als Kathode geschaltet werden. beschreibt ein Verfahren zur elektrochemischen Abscheidung von grauem Selen auf einem Substrat in einer ionischen Flüssigkeit, wobei die zu beschichtenden Substrate ebenfalls als Kathode eingesetzt werden.WO 2007/039035 - Oftmals sind reine Metallschichten an der Oberfläche nicht erforderlich, da die metallischen Eigenschaften hinsichtlich visuellem Effekt und/oder Funktionalität vorteilhaft eingestellt werden sollen. Von Interesse sind deshalb auch nichtmetallische Beschichtungen, insbesondere solche mit Lacksystemen, welche metallische Partikel enthalten. Aus
ist ein Verfahren zur Herstellung von Metallpartikeln durch PVD in ionischen Flüssigkeiten bekannt.WO 2007/084558 - Beschichtungen, die metallische Partikel enthalten, stellen je nach Zusammensetzung ein Bindeglied zwischen reiner metallischer Schicht und organischer Schicht dar, sowohl in Bezug auf die elektrischen Leitfähigkeiten und das Reflektionsvermögen als auch in Bezug auf den optischen Eindruck. Solche Lacksysteme werden mit anderen Beschichtungsverfahren aufgebracht als reine Metallschichten und sind somit kostengünstiger als diese zumeist auf Vakuumtechnologie angewiesenen Methoden. Aber auch hier sind die Qualität und vor allem die Art der verwendeten Metalle bzw. Metallpartikel entscheidend für die Eigenschaften der Beschichtung. Dies gilt insbesondere hinsichtlich der Korrosionsstabilität, da partikuläre Materialien verglichen mit Substraten wesentlich empfindlicher gegenüber oxidierenden Substanzen reagieren.
- Edelmetalle oder Edelstähle als Materialien zur Partikelherstellung führen aufgrund der höheren Kosten für die meisten Anwendungen kaum zu einer kostengünstigen Lösung. Oftmals werden deshalb oberflächenmodifizierte Aluminiumpartikel verwendet. Dies sind üblicherweise Oberflächenbeschichtungen, die in den meisten Fällen zwar die Anwendung auch für Außenbereiche ermöglichen, jedoch nicht zu vollständig stabilisierten Partikeln führen. Ein besonderes Interesse gilt der Beschichtung von Oberflächen mit Metallen, welche zwar keine Edelmetalle darstellen, deshalb aber kostengünstiger sind, und welche jedoch durch eine entsprechende fest haftende Oxidschicht exzellent stabilisiert werden. Diesbezüglich sind vor allen anderen Titan und Zinn von Bedeutung, da diese in Bezug auf Umwelt und Toxikologie als relativ unbedenklich angesehen werden. Verfahren, welche diese Art von Metallen in feinkristalliner Form kostengünstig abscheiden, sind jedoch nicht bekannt.
- Insgesamt herrscht ein Mangel an Verfahren zur homogenen Beschichtung von Partikeln mit Metallen.
- Aus der
ist ein Verfahren bekannt, mit dem Partikel, insbesondere Polymerpartikel, mit einer Metallschicht versehen werden, indem die Partikel zusammen mit einem Metall in einem speziellen Lösemittel wie Diethylenglykolmonomethylether gemahlen und anschließend mit einem Dispergierhilfsmittel aufbereitet werden.US 2006/0150770 - Oftmals wäre es von Vorteil, edlere Metalle als hinreichend dicke Schicht mit einem einfachen Verfahren auf Partikeln abzuscheiden. Wie bereits aufgeführt, sind auch unedlere Metalle wie z. B. Titan, welche eine fest haftende passivierende Oxidschicht erzeugen, von Interesse. In gewöhnlichen elektrochemischen Abscheideverfahren sind diese Schichten infolge der gleichzeitigen Sauerstoff – oder Wasserstoffentwicklungen nicht zugänglich. Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel zur Verfügung zu stellen.
- Die vorliegende Erfindung löst diese Aufgabe durch ein Verfahren mit dem es in einfacher Art und Weise möglich ist, metallische Oberflächenschichten auf Partikeln abzuscheiden.
- Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel umfassend die elektrochemische Metallabscheidung eines oder mehrerer Metalle auf Substratpartikeln, die mindestens oberflächlich elektrisch leitend oder halbleitend sind.
- Überraschenderweise wurde nun gefunden, dass bei der Verwendung von leitenden oder halbleitenden Substratpartikeln, bevorzugt bei geringen Strömen, elektrochemisch oberflächliche Metallschichten auf den Substratpartikeln abgeschieden werden bzw. aufwachsen. Werden analog aufgebaute, jedoch nicht leitfähige Substratpartikel verwendet, findet unter gleichen Bedingungen keine Metallabscheidung statt. Bevorzugt wird das erfindungsgemäße Verfahren in einer Flüssigkeit oder Flüssigkeitsmischung enthaltend mindestens eine ionische Flüssigkeit und optional eine oder mehrere organische Flüssigkeiten und/oder optional ein oder mehrere Additive durchgeführt. Bevorzugt enthält die Flüssigkeit oder Flüssigkeitsmischung ≥ 50 Vol.-%, bevorzugt 75 Vol.-%, insbesondere ≥ 90 Vol.-%, einer oder mehreren ionischen Flüssigkeiten. Die Verwendung ionischer Flüssigkeiten ohne Zusatz organischer Lösemittel ist auch bevorzugt. Ionische Flüssigkeiten eignen sich insbesondere für dieses Verfahren aufgrund ihres Lösevermögens für Metallsalze und aufgrund ihrer elektrochemischen Stabilitäten, der Sauerstofffreiheit und Reinheit. Mischungen ionischer Flüssigkeiten mit einem oder mehreren organischen Lösemitteln, insbesondere stabilen organischen Lösemitteln wie z. B. DMSO oder Acrylnitril, sind ebenfalls geeignet.
- Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, dass es einfach durchgeführt werden kann und keine aufwendige Aufarbeitung notwendig ist. Außerdem besteht ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens in der Anzahl der Parameter, welche zur Optimierung herangezogen werden können. Durch Anpassung von ionischer Flüssigkeit, Temperatur, Zeit, Spannung, Strömstärke, Konzentration und Art der Metallionen und der Oberfläche der zu beschichtenden Partikel kann die Belegung gesteuert und für viele Metalle und viele zu beschichtende Partikel optimiert werden. Die konventionellen Parameter zur Belegung von Partikeloberflächen werden gegenüber dem Stand der Technik (Konzentration von Belegungssubstanz und Substrat, Temperatur) infolge dessen durch die genau justierbaren elektrotechnischen Größen erweitert. Auch das Einfügen einer kompatibilisierenden vorbereitenden Schicht, welche insbesondere eine gewisse elektrische Leitfähigkeit aufweist, ist weiterhin vorteilhaft.
- Insbesondere durch die Verwendung zersetzungsstabiler ionischer Flüssigkeiten als Elektrolyt kann außerdem ein größerer Spannungsbereich zur Abscheidung genutzt werden. Ferner kommt es nicht wie bei elektrochemischen Verfahren in wässriger Lösung zur Entstehung korrosiver Agenzien wie Hydroxid- oder Wasserstoffionen oder zur Bildung von Sauerstoff oder Wasserstoff, welche die abgeschiedenen Metallschichten korrosiv bzw. durch Einlagerung schädigen würden. Ferner können, bevorzugt bei der Durchführung in reinen ionischen Flüssigkeiten, infolge der antikorrosiven Verfahrensweise auch viele unedlere Metalle abgeschieden werden, ohne dass Inertbedingungen erzeugt werden müssen, obwohl auch dies mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ohne Weiteres zusätzlich möglich ist.
- Die erfindungsgemäß erzeugten metallbeschichteten Partikel unterscheiden sich somit in der Art und Weise in der die Metallschichten auf den Partikeln aufwachsen von nach dem Stand der Technik hergestellten metallbeschichteten Partikeln. Die Metallschichten zeigen bevorzugt eine eigene Morphologie. Sie sind zumeist homogener, vor allem auch in Hinblick auf die Kristallite, welche extrem feinteilig und insbesondere zum großen Teil nanokristallin anfallen, so dass die bei anderen Verfahren oftmals anfallenden schwarzen Metallabscheidungen vermieden werden. Zusätzlich kann, wenn erforderlich, die Kristallitgröße bekanntermaßen durch die elektrischen Verfahrensparameter angepasst werden. Insbesondere sind Unterschiede gegenüber gewöhnlichen Partikeln vorhanden, bei deren Metallbeschichtung durch nasschemische Reduktion ein intermediäres Metallsol bei höheren Temperaturen erzeugt und aufgefällt wird.
- Weiterhin können ionische Flüssigkeiten, insbesondere solche welche mehrere Aminofunktionalitäten und/oder zusätzlichen aromatischen Charakter aufweisen, über die Möglichkeit zur Komplexierung von Metallionen verfügen, so dass unter bestimmten Bedingungen bei nicht zu großer Stromdichte, die ionischen Flüssigkeiten mit den Metallen abgeschieden bzw. eingeschlossen werden. Hierbei können sich neuartige oberflächliche Metallschichten bilden, die sich hinsichtlich Morphologie und Zusammensetzung je nach Wahl der ionischen Flüssigkeit unterscheiden.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung sind somit metallbeschichtete Partikel, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt sind und auch solche metallbeschichteten Partikel umfassend eine oder mehrere Metallschichten enthaltend mindestens eine ionische Flüssigkeit, insbesondere solche Partikel hergestellt nach dem erfindungsgemäßen Verfahren.
- Die erfindungswesentlichen Substratpartikeln sind mindestens oberflächlich elektrisch leitend oder halbleitend. D. h. die Substratpartikel besitzen mindestens an ihrer Oberfläche eine elektrisch leitend oder halbleitend Schicht. Bei den erfindungswesentlichen Substratpartikeln kann es sich aber auch um Partikel handeln, die an sich, also vollständig, elektrisch leitend oder halbleitend sind.
- Als partikuläre Substratmaterialien sind sowohl anorganische Materialien, insbesondere oxidische Materialien, organische Materialien, insbesondere Polymerpartikel, als auch Partikel bestehend aus unedlen Metallen möglich, soweit mindestens die Oberfläche dieser Substratpartikel elektrisch leitend oder zumindest halbleitend ausgestattet ist.
- Die zu beschichtenden Substratpartikel können somit aus elektrisch leitfähigen oder halbleitenden Materialien bestehen oder sie bestehen aus an sich nicht leitenden aber entsprechend oberflächenbehandelten Materialien bestehen. Bevorzugt werden Metalle, Metalllegierungen, Halbmetalle, dotierte anorganische Materialien, leitfähige und/oder metallisierte Keramiken oder leitfähige und/oder metallisierte Kunststoffe verwendet. Geeignet sind z. B. leitende Materialien wie Metall, insbesondere Stahl, und metallisierte, nicht leitende Gegenstände, z. B. Kunststoffe.
- Die Vorteile von Kunststoffen als Grundmaterial sind vielfältig, z. B. geringes Gewicht, Unempfindlichkeit gegenüber Korrosion und preiswerte Herstellung. Üblicherweise sind Kunststoffe nicht elektrisch leitfähig, daher muss die Oberfläche für eine anschließende elektrolytische Beschichtung erst mit einer gut haftenden, elektrisch leitfähigen Schicht überzogen werden. Hierfür stehen prinzipiell verschiedene, dem Fachmann bekannte Verfahren zur Verfügung, wie z. B. PVD (Physical Vapor Deposition), PECVD (Physical Enhanced Chemical Vapor Deposition), thermisches Spritzen, chemische Beschichtungen unter Zuhilfenahme von Palladiumaktivierung, chemische Ätzverfahren, Plasmavorbehandlung, mechanische Aufrauhung. Eine Kombination dieser Verfahren stellt z. B. das META-COAT-Verfahren dar. Es ist auch denkbar, dass die Kunststoffsubstrate mit leitfähigen Polymeren, insbesondere Polythiophenen oder Polyanilinverbindungen beschichtet sind. Auch Partikel auf Basis von Kohlenstoff wie leitfähige Ruße, Fullerene oder Carbonnanotubes oder Carbonfasern kommen als zu beschichtende Partikel prinzipiell in Frage, wobei die erforderlichen ionischen Flüssigkeiten anzupassen sind. Dies gilt insbesondere hinsichtlich der Benetzung und Stabilisierung dieser partikulären Kohlenstoffsubstrate.
- Besonders geeignet als zu beschichtende Substratpartikel sind dotierte anorganische Materialien und leitfähige und/oder metallisierte Keramiken. Insbesondere bevorzugt werden Substratpartikel aus dotierten Zinnoxiden, Zinkoxiden und/oder Zinksulfiden oder aus mit solchen Materialien beschichteten Grundmaterialien, wie z. B. bevorzugt Glimmer, verwendet, z. B. kommerziell erhältlich als Minatec® Pigmente der Firma Merck Darmstadt. Weitere bevorzugte Materialien sind Titandioxidnadeln, welche ebenfalls mit dotierten Zinnoxiden oberflächenbeschichtet werden.
- Die erfindungsgemäßen Substratpartikel können jede beliebige Form aufweisen. Bevorzugt handelt es sich um geometrisch anisotrope Partikel, insbesondere um plättchenförmige oder nadelförmige Partikel. Insbesondere plättchenförmige Substratpartikel sind bevorzugt.
- Bezüglich der Partikelgröße besteht bei dem erfindungsgemäßen Beschichtungsverfahren keine Limitierung. Bevorzugt werden homogene Partikeldispersionen verwendet, deren Viskosität bevorzugt nicht zu hoch ist. Die Partikeldispersion sollte hinsichtlich der Viskosität den üblichen Anforderungen elektrochemischer Prozesse angelehnt werden. Die erfindungsgemäßen Partikel weisen bevorzugt eine mittlere Partikelgröße von 0,1 bis 800 μm, insbesondere von 0,5 bis 800 μm, auf. Weiterhin bevorzugt beträgt die mittlere Partikelgröße 1 bis 200 μm und insbesondere liegt die mittlere Partikelgröße bei 10 bis 80 μm. Die mittlere Partikelgröße wird mittels eines Malvern ZETASIZER (dynamischer Lichtstreuung) bzw. Transmissionselektronenmikroskop bestimmt.
- Die für das erfindungsgemäße Verfahren geeigneten ionischen Flüssigkeiten sind gut leitfähig und in der Regel bis zu 400°C thermisch stabil. Insbesondere werden ionische Flüssigkeiten eingesetzt, die unter den weiter unten beschriebenen Abscheidungsbedingungen elektrochemisch stabil sind. Sie haben beispielsweise ein elektrochemisches Fenster im kathodischen Ast, welches von 0 mV bis –3500 mV gegen Ferrocen/Ferrocinium, vorzugsweise von –2000 mV bis –3000 mV gegen Ferrocen/Ferrocinium reicht. Im anodischen Ast weisen geeignete ionische Flüssigkeiten ein elektrochemisches Fenster auf, das von 0 mV bis +3500 mV gegen Ferrocen/Ferrocinium reicht, vorzugsweise von +2000 bis +3000 mV gegen Ferrocen/Ferrocinium. Die Angaben beziehen sich auf die weiter unten angeführten Messanordnungen und – bedingungen.
- Geeignete Ionische Flüssigkeiten enthalten insbesondere mindestens ein Tetraalkylammonium-, Tetraalkylphosphonium-Kation, wobei die Alkylgruppen jeweils unabhängig voneinander 1 bis 10 C-Atome haben können, oder ein heterocyclisches Kation ausgewählt aus wobei
R1' bis R4' jeweils unabhängig voneinander
Wasserstoff, -CN, -OR', -NR'2, -P(O)R'2, -P(O)(NR'2)2, -C(O)R',
geradkettiges oder verzweigtes Alkyl mit 1-20 C-Atomen,
geradkettiges oder verzweigtes Alkenyl mit 2-20 C-Atomen und einer oder mehreren Doppelbindungen,
geradkettiges oder verzweigtes Alkinyl mit 2-20 C-Atomen und einer oder mehreren Dreifachbindungen,
gesättigtes, teilweise oder vollständig ungesättigtes Cycloalkyl mit 3-7 C-Atomen, das mit Alkylgruppen mit 1-6 C-Atomen substituiert sein kann, gesättigtes, teilweise oder vollständig ungesättigtes Heteroaryl, Heteroaryl-C1-C6-alkyl oder Aryl-C1-C6-alkyl bedeutet,
wobei die Substituenten R1', R2', R3' und/oder R4' zusammen auch ein Ringsystem bilden können,
wobei ein oder mehrere Substituenten R1' bis R4' teilweise oder vollständig mit Halogenen, insbesondere -F und/oder -Cl, oder -OR', -CN, -C(O)OH, -C(O)NR'2, -SO2NR'2, -C(O)X, -SO2OH, -SO2X, -NO2, substituiert sein können, wobei jedoch nicht gleichzeitig R1' und R4' vollständig mit Halogenen substituiert sein dürfen, und wobei ein oder zwei nicht benachbarte und nicht am Heteroatom gebundene Kohlenstoffatome der Substituenten R1' bis R4', durch Atome und/oder Atomgruppierungen ausgewählt aus der -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -C(O)-, -N+R'2-, -C(O)NR'-, -SO2NR'-, -P(O)(NR'2)NR'-, -PR'2=N- oder -P(O)R'- ersetzt sein können mit R'=H, nicht, teilweise oder perfluoriertes C1- bis C6-Alkyl, C3- bis C7-Cycloalkyl, unsubstituiertes oder substituiertes Phenyl und X = Halogen. - Der Substituent R2' oder R3' ist jeweils unabhängig voneinander insbesondere Wasserstoff, Methyl, Ethyl, Isopropyl, Propyl, Butyl, sek.-Butyl, tert.-Butyl, Cyclohexyl, Phenyl oder Benzyl. Besonders bevorzugt ist R2' Wasserstoff, Methyl, Ethyl, Isopropyl, Propyl, Butyl oder sek.-Butyl. Ganz besonders bevorzugt sind R2' und R3' Wasserstoff. Die C1-C12-Alkylgruppe ist beispielsweise Methyl, Ethyl, Isopropyl, Propyl, Butyl, sek.-Butyl oder tert.-Butyl, ferner auch Pentyl, 1-, 2- oder 3-Methylbutyl, 1,1-, 1,2- oder 2,2-Dimethylpropyl, 1-Ethylpropyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, Nonyl, Decyl, Undecyl oder Dodecyl. Gegebenenfalls Difluormethyl, Trifluormethyl, Pentafluorethyl, Heptafluorpropyl oder Nonafluorbutyl.
- Ein geradkettiges oder verzweigtes Alkenyl mit 2 bis 20 C-Atomen, wobei auch mehrere Doppelbindungen vorhanden sein können, ist beispielsweise Allyl, 2- oder 3-Butenyl, Isobutenyl, sek.-Butenyl, ferner 4-Pentenyl, iso-Pentenyl, Hexenyl, Heptenyl, Octenyl, -C9H17, -C10H19 bis -C20H39; vorzugsweise Allyl, 2- oder 3-Butenyl, Isobutenyl, sek.-Butenyl, ferner bevorzugt ist 4-Pentenyl, iso-Pentenyl oder Hexenyl.
- Ein geradkettiges oder verzweigtes Alkinyl mit 2 bis 20 C-Atomen, wobei auch mehrere Dreifachbindungen vorhanden sein können, ist beispielsweise Ethinyl, 1- oder 2-Propinyl, 2- oder 3-Butinyl, ferner 4-Pentinyl, 3-Pentinyl, Hexinyl, Heptinyl, Octinyl, -C9H15, -C10H17 bis -C20H37, vorzugsweise Ethinyl, 1- oder 2-Propinyl, 2- oder 3-Butinyl, 4-Pentinyl, 3-Pentinyl oder Hexinyl.
- Aryl-C1-C6-alkyl bedeutet beispielsweise Benzyl, Phenylethyl, Phenylpropyl, Phenylbutyl, Phenylpentyl oder Phenylhexyl, wobei sowohl der Phenylring als auch die Alkylenkette, wie zuvor beschrieben teilweise oder vollständig mit Halogenen, insbesondere -F und/oder -Cl, oder teilweise mit -OR', -CN, -C(O)OH, -C(O)NR'2, -SO2NR'2, -C(O)X, -SO2OH, -SO2X, -NO2 substituiert sein können.
- Unsubstituierte gesättigte oder teilweise oder vollständig ungesättigte Cycloalkylgruppen mit 3-7 C-Atomen sind daher Cyclopropyl, Cyclobutyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl, Cycloheptyl, Cyclopentenyl, Cyclopenta-1,3-dienyl, Cyclohexenyl, Cyclohexa-1,3-dienyl, Cyclohexa-1,4-dienyl, Phenyl, Cycloheptenyl, Cyclohepta-1,3-dienyl, Cyclohepta-1,4-dienyl oder Cyclohepta-1,5-dienyl, welche mit C1- bis C6-Alkylgruppen substituiert sein können, wobei wiederum die Cycloalkylgruppe oder die mit C1- bis C6-Alkylgruppen substituierte Cycloalkylgruppe auch mit Halogenatomen wie F, Cl, Br oder I, insbesondere F oder Cl oder mit -OR', -CN, -C(O)OH, -C(O)NR'2, -SO2NR'2, -C(O)X, -SO2OH, -SO2X, -NO2 substituiert sein kann.
- In den Substituenten R1' bis R4' können auch ein oder zwei nicht benachbarte und nicht α-ständig zum Heteroatom gebundene Kohlenstoffatome, durch Atome und/oder Atomgruppierungen ausgewählt aus der Gruppe -O-, -S-, -S(O)-, -SO2-, -N+R'2-, -C(O)NR'-, -SO2NR'-, -P(O)(NR'2)NR'- oder -P(O)R'- ersetzt werden, mit R' = nicht, teilweise oder perfluoriertes C1- bis C6-Alkyl, C3- bis C7-Cycloalkyl, unsubstituiertes oder substituiertes Phenyl.
- Ohne Einschränkung der Allgemeinheit sind Beispiele für derart modifizierte Substituenten R1' bis R4':
-OCH3, -OCH(CH3)2, -CH2OCH3, -CH2-CH2-O-CH3, -C2H4OCH(CH3)2, -C2H4SC2H5, -C2H4SCH(CH3)2, -S(O)CH3, -SO2CH3, -SO2C6H5, -SO2C3H7, -SO2CH(CH3)2, -SO2CH2CF3, -CH2SO2CH3, -O-C4H8-O-C4H9, -CF3, -C2F5, -C3F7, -C4F9, -C(CF3)3, -CF2SO2CF3, -C2F4N(C2F5)C2F5, -CHF2, -CH2CF3, -C2F2H3, -C3FH6, -CH2C3F7, -C(CFH2)3, -CH2C(O)OH, -CH2C6H5 oder P(O)(C2H5)2. - In R' ist C3- bis C7-Cycloalkyl beispielsweise Cyclopropyl, Cyclobutyl, Cyclopentyl, Cyclohexyl oder Cycloheptyl.
- In R' bedeutet substituiertes Phenyl, durch C1- bis C6-Alkyl, C1- bis C6-Alkenyl, NO2, F, Cl, Br, I, C1-C6-Alkoxy, SCF3, SO2CF3, COOH, SO2X', SO2NR''2 oder SO3H substituiertes Phenyl, wobei X' F, Cl oder Br und R'' ein nicht, teilweise oder perfluoriertes C1- bis C6-Alkyl oder C3- bis C7-Cycloalkyl wie für R' definiert bedeutet, beispielsweise, o-, m- oder p-Methylphenyl, o-, m- oder p-Ethylphenyl, o-, m- oder p-Propylphenyl, o-, m- oder p-Isopropylphenyl, o-, m- oder p-tert.-Butylphenyl, o-, m- oder p-Nitrophenyl, o-, m- oder p-Methoxyphenyl, o-, m- oder p-Ethoxyphenyl, o-, m-, p-(Trifluormethyl)phenyl, o-, m-, p-(Trifluormethoxy)phenyl, o-, m-, p-(Trifluormethylsulfonyl)phenyl, o-, m- oder p-Fluorphenyl, o-, m- oder p-Chlorphenyl, o-, m- oder p-Bromphenyl, o-, m- oder p-Iodphenyl, weiter bevorzugt 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dimethylphenyl, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dihydroxyphenyl, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Difluorphenyl, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dichlorphenyl, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dibromphenyl, 2,3-, 2,4-, 2,5-, 2,6-, 3,4- oder 3,5-Dimethoxyphenyl, 5-Fluor-2-methylphenyl, 3,4,5-Trimethoxyphenyl oder 2,4,5-Trimethylphenyl.
- In R1' bis R4' wird als Heteroaryl ein gesättigter oder ungesättigter mono- oder bicyclischer heterocyclischer Rest mit 5 bis 13 Ringgliedern verstanden, wobei 1, 2 oder 3 N- und/oder 1 oder 2 S- oder O-Atome vorliegen können und der heterocyclische Rest ein- oder mehrfach durch C1- bis C6-Alkyl, C1- bis C6-Alkenyl, NO2, F, Cl, Br, I, C1-C6-Alkoxy, SCF3, SO2CF3, COOH, SO2X', SO2NR''2 oder SO3H substituiert sein kann, wobei X' und R'' eine zuvor angegebene Bedeutung haben.
- Der heterocyclische Rest ist vorzugsweise substituiertes oder unsubstituiertes 2- oder 3-Furyl, 2- oder 3-Thienyl, 1-, 2- oder 3-Pyrrolyl, 1-, 2-, 4- oder 5-Imidazolyl, 3-, 4- oder 5-Pyrazolyl, 2-, 4- oder 5-Oxazolyl, 3-, 4- oder 5-Isoxazolyl, 2-, 4- oder 5-Thiazolyl, 3-, 4- oder 5-Isothiazolyl, 2-, 3- oder 4-Pyridyl, 2-, 4-, 5- oder 6-Pyrimidinyl, weiterhin bevorzugt 1,2,3-Triazol-1-, -4- oder -5-yl, 1,2,4-Triazol-1-, -4- oder -5-yl, 1- oder 5-Tetrazolyl, 1,2,3-Oxadiazol-4- oder -5-yl 1,2,4-Oxadiazol-3- oder -5-yl, 1,3,4-Thiadiazol-2- oder -5-yl, 1,2,4-Thiadiazol-3- oder -5-yl, 1,2,3-Thiadiazol-4- oder -5-yl, 2-, 3-, 4-, 5- oder 6-2H-Thiopyranyl, 2-, 3- oder 4-4H-Thiopyranyl, 3- oder 4-Pyridazinyl, Pyrazinyl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzofuryl, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzothienyl, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6- oder 7-1H-Indolyl, 1-, 2-, 4- oder 5-Benzimidazolyl, 1-, 3-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzopyrazolyl, 2-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzoxazolyl, 3-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzisoxazolyl, 2-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzthiazolyl, 2-, 4-, 5-, 6- oder 7-Benzisothiazolyl, 4-, 5-, 6- oder 7-Benz-2,1,3-oxadiazolyl, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Chinolinyl, 1-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Isochinolinyl, 1-, 2-, 3-, 4- oder 9-Carbazolyl, 1-, 2-, 3-, 4-, 5-, 6-, 7-, 8- oder 9-Acridinyl, 3-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Cinnolinyl, 2-, 4-, 5-, 6-, 7- oder 8-Chinazolinyl oder 1-, 2- oder 3-Pyrrolidinyl.
- Unter Heteroaryl-C1-C6-alkyl wird nun in Analogie zu Aryl-C1-C6-alkyl beispielsweise Pyridinyl-methyl, Pyridinyl-ethyl, Pyridinyl-propyl, Pyridinylbutyl, Pyridinyl-pentyl, Pyridinyl-hexyl verstanden, wobei weiterhin die zuvor beschriebenen Heterocycien in dieser Weise mit der Alkylenkette verknüpft werden können.
- R1' bis R4' sind insbesondere Alkylgruppen mit 1 bis 10 C-Atomen oder Hydroxyalkylgruppen mit 1 bis 10 C-Atomen.
- Besonders geeignete ionische Flüssigkeiten enthalten ein Tetraalkylammonium-, Tetraalkylphosphonium-, 1,1-Dialkylpyrrolidinium-, 1-Hydroxyalkyl-1-alkyl-pyrrolidinium-, 1-Hydroxyalkyl-3-alkyl-imidazolium- oder 1,3-Bis(hydroxyalkyl)imidazolium-Kation, wobei die Alkylgruppen oder die Alkylenkette der Hydroxyalkylgruppe jeweils unabhängig voneinander 1 bis 10 C-Atome haben können.
- Unter einer Alkylgruppe mit 1 bis 10 C-Atomen versteht man beispielsweise Methyl, Ethyl, Isopropyl, Propyl, Butyl, sek.-Butyl oder tert.-Butyl, ferner auch Pentyl, 1-, 2- oder 3-Methylbutyl, 1,1-, 1,2- oder 2,2-Dimethylpropyl, 1-Ethylpropyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, Nonyl oder Decyl. Die Alkylgruppen können auch teilweise oder vollständig mit Fluor substituiert sein. Fluorierte Alkylgruppen sind beispielsweise Difluormethyl, Trifluormethyl, Pentafluorethyl, Pentafluorpropyl, Heptafluorpropyl, Heptafluorbutyl oder Nonafluorbutyl.
- Unter einer Hydroxyalkylgruppe mit 1 bis 10 C-Atomen versteht man beispielsweise 1-Hydroxymethyl, 2-Hydroxyethyl, 3-Hydroxyropyl, 4-Hydroxybutyl, ferner auch 5-Hydroxypentyl, 6-Hydroxyhexyl, 7-Hydroxyheptyl, 8-Hydroxyoctyl, 9-Hydroxynonyl oder 10-Hydroxydecyl. Die Alkylenkette der Hydroxygruppe kann auch teilweise oder vollständig mit Fluor substituiert sein. Fluorierte Hydroxyalkylgruppen können beispielsweise durch die Teilformel -(CHF)n-OH oder -(CF2)-OH beschrieben werden, wobei n 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 oder 10 bedeuten kann.
- Geeignete Anionen, die in Kombination mit den erfindungsgemäßen Kationen, die zuvor genannte Bedingung in Bezug auf die Stabilität erfüllen, können aus der Gruppe PF6, BF4, Alkylsulfat, Perfluoralkylsulfonat, Perfluoracetat, Bis(fluorsulfonyl)imid, Bis(perfluoralkylsulfonyl)imid, Tris(perfluoralkyl)trifluorphosphat, Bis(perfluoralkyl)tetrafluorphosphat, Tris(perfluoralkylsulfonyl)methid oder Perfluoralkylborat ausgewählt werden.
- Der Begriff Perfluoralkylgruppe bedeutet, dass alle H-Atome der entsprechenden Alkylgruppe durch F-Atome ersetzt sind. Bevorzugt haben die Alkyl- bzw. Perfluoralkylgruppen in den angegebenen Anionen jeweils unabhängig voneinander 1 bis 10 C-Atome, besonders bevorzugt 1, 2, 3 oder 4 C-Atome.
- Anionen, die erfindungsgemäß geeignet sind, können beispielsweise aus der Gruppe Trifluormethylsulfonat, Pentafluorethylsulfonat, Heptafluorpropylsulfonat, Nonafluorbutylsulfonat, Bis(fluorsulfonyl)imid, Perfluoracetat, Bis(trifluormethylsulfonyl)imid, Bis(pentafluorethylsulfonyl)imid, Bis(heptafluorpropylsulfonyl)imid, Bis(nonafluorbutylsulfonyl)imid, Tris(trifluormethylsulfonyl)methid, Tris(pentafluorethylsulfonyl)methid, Tris(heptafluorpropylsulfonyl)methid, Tris(nonafluorbutylsulfonyl)methid, Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat, Tris(heptafluorpropyl)trifluorphosphat, Tris(nonafluorbutyl)trifluorphosphat, Bis(pentafluorethyl)tetrafluorphosphat, Tetrakis(trifluormethyl)borat, Tetrakis(pentafluorethyl)borat, Trifluormethyltrifluorborat, Pentafluorethyltrifluorborat, Bis(trifluormethyl)difluorborat, Bis(pentafluorethyl)difluorborat, Tris(trifluormethyl)fluorborat, Tris(pentafluorethyl)fluorborat oder Bis(pentafluorethyl)trifluormethylfluorborat ausgewählt werden.
- Sobald in den Anionen mehrere Perfluoralkylgruppen auftreten, so können diese unabhängig voneinander verschiedene Perfluoralkylgruppen bedeuten. Unter die oben genannte Definition fallen daher beispielsweise auch gemischte Anionen wie Trifluormethylsulfonylpentafluorethylsulfonylimid, Bis(trifluormethyl)sulfonylpentafluorethylsulfonylmethid.
- Besonders bevorzugt werden die Anionen der Gruppe Trifluormethansulfonat, Bis(trifluormethylsulfonyl)imid oder Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat ausgewählt.
- Geeignete Kationen sind insbesondere, gegebenenfalls lineares oder verzweigtes, Tetramethylammonium, Tetraethylammonium,
Tetrapropylammonium, Tetrabutylammonium, Tetrapentylammonium, Tetrahexylammonium, Tetraheptylammonium, Tetraoctylammonium, Tetranonylammonium, Tetradecylammonium, Trimethylalkylammonium, Trimethyl(ethyl)ammonium, Triethyl(methyl)ammonium, Trihexylammonium, Methyl(trioctyl)ammonium,
Tetramethylphosphonium, Tetraethylphosphonium,
Tetrapropylphosphonium, Tetrabutylphosphonium,
Tetrapentylphosphonium, Tetrahexylphosphonium,
Tetraheptylphosphonium, Tetraoctylphosphonium, Tetranonylphosphonium, Tetradecylphosphonium, Trihexyl-tetradecylphosphonium, Triisobutyl(methyl)phosphonium, Tributyl(ethyl)phosphonium, Tributyl(methyl)phosphonium,
1,1-Dimethyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-ethyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-propyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-butyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-pentyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-hexyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Methyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Diethyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-propyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-butyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-pentyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-hexyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Ethyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dipropyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-butyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-pentyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-hexyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Propyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dibutyl-pyrrolidinium, 1-Butyl-1-pentyl-pyrrolidinium, 1-Butyl-1-hexyl-pyrrolidinium, 1-Butyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Butyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Butyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1- Butyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dipentyl-pyrrolidinium, 1-Pentyl-1-hexyl-pyrrolidinium, 1-Pentyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Pentyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Pentyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Pentyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dihexyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dihexyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-heptyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Hexyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Diheptyl-pyrrolidinium, 1-Heptyl-1-octyl-pyrrolidinium, 1-Heptyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Heptyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1,1-Dioctyl-pyrrolidinium, 1-Octyl-1-nonyl-pyrrolidinium, 1-Octyl-1-decyl-pyrrolidinium, 1-1-Dinonyl-pyrrolidinium, 1-Nony-1-decyl-pyrrolidinium oder 1,1-Didecyl-pyrrolidinium,
1-Hydroxymethyl-1-methyl-pyrrolidinium, 1-Hydroxymethyl-1-ethyl-pyrrolidinium, 1-Hydroxymethyl-1-propyl-pyrrolidinium, 1-Hydroxymethyl-1-butyl-pyrrolidinium, 1-(2-Hydroxyethyl)-1-methyl-pyrrolidinium, 1-(2-Hydroxyethyl)-1-ethyl-pyrrolidinium, 1-(2-Hydroxyethyl)-1-propyl-pyrrolidinium, 1-(2-Hydroxyethyl)-1-butyl-pyrrolidinium, 1-(3-Hydroxypropyl)-1-methyl-pyrrolidinium, 1-(3-Hydroxypropyl)-1-ethyl-pyrrolidinium, 1-(3-Hydroxypropyl)-1-propyl-pyrrolidinium, 1-(3-Hydroxypropyl)-1-butyl-pyrrolidinium, 1-(4-Hydroxybutyl)-1-methyl-pyrrolidinium, 1-(4-Hydroxybutyl)-1-ethyl-pyrrolidinium, 1-(4-Hydroxybutyl)-1-propyl-pyrrolidinium oder 1-(4-Hydroxybutyl)-1-butylpyrrolidinium,
1-(1-Hydroxymethyl)-3-methyl-imidazolium, 1-(1-Hydroxymethyl)-3-ethyl-imidazolium, 1-(1-Hydroxymethyl)-3-propyl-imidazolium, 1-(1-Hydroxymethyl)-3-butyl-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methyl-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-ethyl-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-propyl-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-butyl-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-methyl-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-ethyl-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-propyl-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-butyl-imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-methyl- imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-ethyl-imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-propyl-imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-butyl-imidazolium,
1,3-Bis(1-hydroxymethyl)-imidazolium, 1,3-Bis(2-hydroxyethyl)-imidazolium, 1,3-Bis(3-hydroxypropyl)-imidazolium, 1,3-Bis(4-hydroxybutyl)-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-(1-hydroxymethyl)-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-(3-hydroxypropyl)-imidazolium, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-(4-hydroxybutyl)-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-(1-hydroxymethyl)-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-(2-hydroxyethyl)-imidazolium, 1-(3-Hydroxypropyl)-3-(4-hydroxybutyl)-imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-(1-hydroxymethyl)-imidazolium, 1-(4-Hydroxybutyl)-3-(2-hydroxyethyl)-imidazolium oder 1-(4-Hydroxybutyl)-3-(3-hydroxypropyl)-imidazolium. - Besonders geeignete Kationen sind Tetramethylammonium, Trimethylalkylammonium, wobei die Alkylgruppe 1 bis 10 C-Atome haben kann, insbesondere Trihexyl-tetradecylphosphonium, Triisobutyl(methyl)phosphonium, Tributyl(ethyl)phosphonium, Tributyl(methyl)phosphonium, darüber hinaus vorzugsweise 1-Butyl-1-methylpyrrolidinium, 1-Butyl-1-ethylpyrrolidinium, 1-Hexyl-1-methylpyrrolidinium, 1-Methyl-1-octylpyrrolidinium oder 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methyl-imidazolium, ganz besonders geeignete Kationen sind 1-Butyl-1-methylpyrrolidinium, 1-Hexyl-1-methylpyrrolidinium, 1-Methyl-1-octylpyrrolidinium oder 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methyl-imidazolium.
- Besonders geeignete ionische Flüssigkeiten für den Einsatz in dem erfindungsgemäßen Verfahren sind
1-Butyl-1-methylpyrrolidinium Trifluormethansulfonat, 1-Butyl-1-methylpyrrolidinium Bis(trifluormethylsulfonyl)imid, 1-Butyl-1-methylpyrrolidinium Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat, 1-Hexyl-1-methylpyrrolidinium Trifluormethansulfonat, 1-Hexyl-1-methylpyrrolidinium Bis(trifluormethylsulfonylimid, 1-Hexyl-1-methylpyrrolidinium Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat, 1-Methyl-1-octylpyrrolidinium Trifluormethansulfonat, 1-Methyl-1-octylpyrrolidinium Bis(trifluormethylsulfonyl)imid, 1-Methyl-1-octylpyrrolidinium Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methylimidazolium Trifluormethansulfonat, 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methylimidazolium Bis(trifluormethylsulfonyl)imid oder 1-(2-Hydroxyethyl)-3-methylimidazolium
Tris(pentafluorethyl)trifluorphosphat. - Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich besonders zur Herstellung von Metallschichten aus Gold, Silber, Palladium, Platin, Kupfer, Titan, Tantal, Zirkonium, Zink, Vanadium, Zinn, Eisen, Germanium, Silizium und Aluminium. Insbesondere eignet sich das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Metallschichten aus Eisen, Titan, Aluminium, Kupfer und Silber. Auch Mehrfachschichten aus einem oder mehreren unterschiedlichen Metallen sind möglich, wobei natürlich betreffend der Korrosionsbeständigkeit das Kontaktpotential der Schichten zu beachten ist.
- Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren werden Metallionen bevorzugt in einer geeigneten Flüssigkeit oder Flüssigkeitsmischung, insbesondere in einer ionischen Flüssigkeit, wie zuvor beschrieben, gelöst. Dies kann durch Auflösung eines Metallsalzes in der Flüssigkeit erfolgen.
- Geeignete Metallsalze sind beispielsweise Metallsulfate oder -sulfonate, bevorzugt fluorierte Methylsulfonate, wie z. B. Trifluormethylsulfonat. Insbesondere bestehen die Metallsalze aus Metallkationen und mehratomigen organischen oder anorganischen Anionen. Das Gegenion sollte wenn möglich nicht korrosiv wirken und elektrochemisch unter den Bedingungen inert reagieren. Prinzipiell ist jedes Metallsalz geeignet, welches sich in ausreichender Menge in der verwendeten Flüssigkeit löst und obige Parameter erfüllt.
- Die Ionenkonzentration in der Flüssigkeit zur Metallabscheidung ist vorzugsweise 10–5 bis 10 mol/l. Bevorzugt wird mit einer Ionenkonzentration von 10–3 bis 4 mol/l, insbesondere 102 bis 1 mol/l, gearbeitet, wobei eine Verarmung der Metallionenkonzentration weiterhin bevorzugt durch entsprechende kontinuierliche Zuführung ausgeglichen wird.
- Das erfindungsgemäße elektrochemische Verfahren kann prinzipiell in allen dem Fachmann bekannten Anlagen und mit den hierbei gängigen Arbeitsweisen auf den erfindungsgemäßen Substratpartikeln durchgeführt werden.
- Dies schließt insbesondere galvanostatische, potentiostatische und auch gepulste Metallabscheidungsverfahren ein, wobei in einer weiterhin bevorzugten Ausführung der Kathoden – und Anodenraum durch die üblichen beschriebenen Methoden getrennt werden. Dies kann, wie in den Beispielen ausgeführt, durch eine entsprechende Salzbrücke erreicht werden.
- Bevorzugt wird die Belegungen unter gemäßigtem Rühren galvanostatisch durchgeführt, da sich hier die für die Methode vorteilhaften kleinen Stromwerten besser anpassen lassen und die direkte Kathodenabscheidung unterdrückt werden kann.
- In einer bevorzugten Ausführungsform können mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens mehrere aufeinander folgende Metallschichten oder Mischschichten abgeschieden werden. Dies kann durch Wiederholung der erfindungsgemäßen Verfahrensweise, beziehungsweise auch durch Anlegen unterschiedlicher Potentiale erreicht werden, wobei die entsprechenden Salze unterschiedlicher Metalle in der Flüssigkeit gelöst werden. Zusätzlich kann die Art des abgeschiedenen Metalls auch über eine entsprechende zeitliche Zudosierung variiert werden, so dass bei stufenförmiger Zudosierung zumindest für jede Modifikationsstufe eine galvanostatische Arbeitsweise ermöglicht wird.
- Auch ein Gradientenverfahren, in dem ein Metallsalz gegenüber einem anderen kontinuierlich erhöht wird, ist bei entsprechender Steuerung der Abscheidungsparameter prinzipiell möglich.
- Darüber hinaus kann das erfindungsgemäße Verfahren auch unter Zusatz von Hilfsstoffen wie z. B. Benetzungshilfsstoffen für die Substratpartikel, Leitsalze, organische Lösemittel wie z. B. Acrylnitril oder Passivierungsagenzien durchgeführt werden, sofern diese sich in Bezug auf die Metallbelegung passiv verhalten, d. h. insbesondere die notwendigen elektrochemischen Stabilitäten besitzen und nicht mit den gebildeten Metallen reagieren.
- Das erfindungsgemäße Verfahren kann prinzipiell bei Temperaturen stattfinden, welche für die verwendete Flüssigkeit als Arbeitsfenster angegeben werden, wobei es vorteilhaft ist, eine längere Belastung bei Temperaturen über 130 bis 150°C, sofern der entsprechende Siedepunkt überhaupt diese Bereiche zulässt, zu vermeiden. Die bevorzugten Temperaturbereiche liegen zwischen 15°C und 80°C.
- Übliche Stromdichten von 0,01 bis 2000 mA/cm2 bezogen auf die Elektroden können prinzipiell eingesetzt werden, wobei erfahrungsgemäß als wesentliche Kenngröße des Verfahrens bevorzugt die Stromstärke bezogen auf das Volumen des ionischen Lösemittels zu verwenden ist. Die eingesetzten Stromstärken, bezogen auf das Volumen der durchflossenen ionischen Flüssigkeit können dem aufzubringenden Material angepasst werden. Bevorzugt betragen sie 0.1 bis 100 mA/dm3, besonders bevorzugt 1.0 bis 10.0 mA/dm3, insbesondere 2 bis 8 mA/dm3. Um eine direkte Abscheidung an den Elektroden zu unterdrücken, kann bevorzugt, wie schon erläutert, eher im unteren Bereich der angegebenen Stromstärkewerte gearbeitet und das Elektrodenmaterial, besonders der Kathode sorgfältig ausgewählt werden. Bevorzugt kann eine Platinkathode in netzartiger Ausführung verwendet werden.
- Bei potentiostatischer Arbeitsweise können die Potentiale in der Art und Weise eingeregelt werden, dass die resultierenden Stromdichten im Mittel den obigen Bereichen entsprechen, bevorzugt liegen die angelegten Potentialdifferenzen zwischen 0,1 und 70 Volt. Die jeweiligen Zersetzungsspannungen von Zusatzstoffen oder der ionischen Flüssigkeit an den Elektroden sollten bevorzugt deutlich unterschritten werden. Auch hier werden die Potentiale bevorzugt so eingeregelt, dass es an der Kathode zu keiner merklichen Metallabscheidung kommt.
- Die Dauer der Metallabscheidung richtet sich unter anderem bevorzugt nach der gewünschten Dicke der Metallbeschichtung und kann vom Fachmann ohne weiteres leicht angepasst werden. Bevorzugt wird die Beschichtung wie schon erläutert durch Anwendung geringer Stromdichten galvanostatisch als dünne Schicht ausgeführt, wobei das abzuscheidende Metallsatz auch entsprechend gelöst kontinuierlich zudosiert werden kann, um eine zeitlich konstante, ökonomische Abscheidung zu gewährleisten. Zur Aufbereitung können die metallbeschichteten Partikel, sofern es sich nicht um unedle, schwach passivierte Metalloberflächen handelt, gemäß den allgemein gängigen Filtrations- und Sedimentationsverfahren abgetrennt und gereinigt und getrocknet werden. Für unedlere Oberflächen können bevorzugt Vakuum und/oder Inertgasprozesse zur Aufarbeitung herangezogen werden, insbesondere bei Verfahrensschritten welche höhere Temperaturen benötigen wie z. B. Trocknungsprozesse.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist die Verwendung von ionischen Flüssigkeiten, insbesondere den im Vorangegangenen beschriebenen bevorzugten ionischen Flüssigkeiten, sowie deren Mischungen mit organischen Flüssigkeiten und/oder Additiven zur Abscheidung von Metallen auf Substratpartikeln, insbesondere auf solchen Substratpartikeln, die mindestens oberflächlich elektrisch leitend oder halbleitend sind, insbesondere auf den im Vorangegangenen beschriebenen bevorzugten Substratpartikeln.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung sind elektrochemische Bäder enthaltend ionische Flüssigkeiten oder Flüssigkeitsgemische und Substratpartikel, insbesondere solche Substratpartikel, die mindestens oberflächlich elektrisch leitend oder halbleitend sind. Bevorzugt enthalten die elektrochemischen Bäder die im Vorangegangenen beschriebenen bevorzugten ionischen Flüssigkeiten und bevorzugten Substratpartikel.
- Ein weiterer Gegenstand der Erfindung ist die Verwendung von metallbeschichteten Partikeln, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt sind und auch von solchen metallbeschichteten Partikel umfassend eine oder mehrere Metallschichten enthaltend mindestens eine ionische Flüssigkeit, insbesondere solche Partikel hergestellt nach dem erfindungsgemäßen Verfahren, in Lacken, Farben, Tinten, Druckfarben, Beschichtungen, Pigmentmischungen, Kunststoffen, Kunststoffmischungen, als Katalysatoren, in optischen Schichten, in funktionellen, insbesondere leitfähigen, Schichten, in Sicherheitselementen für Sicherheitserzeugnisse und für den Markenschutz, in Elektrolyten, Festkörperelektrolyten, Batterien, Kondensatoren, Akkumulatoren, Solarzellen, Photozellen oder Elektroartikeln. Bei den Sicherheitserzeugnissen handelt es sich bevorzugt um Banknoten, Schecks, Bank- und Kreditkarten, Scheckkarten, Wertpapiere und -gegenstände, Pässe, Ausweisdokumente, Chipkarten, Zertifikate, Prüfbescheinigungen, Führerscheine, Eintrittskarten, Wert- und Briefmarken, Identifikationskarten, Fahrscheine, Bahn- und Flugtickets, Eintrittskarten, Telefonkarten, Etiketten, Verpackungsmaterialien, Prüfmarken, Siegel und zu schützende Gebrauchsgegenstände wie Textilien, Lederwaren, Verpackungen oder Elektronikartikel.
- Außer den in der Beschreibung genannten bevorzugten Stoffen und Verbindungen, deren Verwendung, Mitteln und Verfahren sind weitere bevorzugte Kombinationen der erfindungsgemäßen Gegenstände in den Ansprüchen offenbart.
- Die Offenbarungen in den zitierten Literaturstellen gehören hiermit ausdrücklich auch zum Offenbarungsgehalt der vorliegenden Anmeldung.
- Die folgenden Beispiele erläutern die vorliegende Erfindung näher, ohne den Schutzbereich zu beschränken. Insbesondere sind die in den Beispielen beschriebenen Merkmale, Eigenschaften und Vorteile der den betreffenden Beispielen zugrunde liegenden Verbindungen auch auf andere nicht im Detail aufgeführte, aber unter den Schutzbereich fallende Stoffe und Verbindungen anwendbar, sofern an anderer Stelle nicht Gegenteiliges gesagt wird. Im Übrigen ist die Erfindung im gesamten beanspruchten Bereich ausführbar und nicht auf die hier genannten Beispiele beschränkt.
- Beispiele:
- Beispiel 1: Elektrochemische Abscheidung einer Silberschicht auf leitfähigen anorganischen Minatec® 31 Substratpartikeln
- Die Abscheidung erfolgt galvanostatisch bei einem konstanten Strom von 200 μA unter Rühren bei Raumtemperatur. Für den Kathoden- und Anodenraum werden Bechergläser mit einem Volumen von 100 ml mit jeweils 80 ml der ionischen Flüssigkeit 1-Ethyl-3-methylimidazoliumtrifluormethylsulfat (pro Synthese, Fa. Merck Darmstadt) verwendet. Im Kathodenraum wird anschließend Silbertrifluormethylsulfonat in einer Konzentration von 0.4 mol/l gelöst und 1 g des zu beschichtenden plättchenförmigen Minatec® 31 Pigments (mit Antimon dotiertem Zinnoxid beschichtete Glimmerschuppen, Fa. Merck Darmstadt) eingerührt. Als Anode wird ein Silberblech verwendet, die Kathode stellt ein Platinnetz dar. Kathoden- und Anodenraum werden über eine Salzbrücke aus Kaliumnitrat verbunden. Nach vier Tagen Abscheidungsdauer werden silbrig glänzende Partikel mit einem abgeschiedenen Silbergehalt von ca. 45% bezogen auf das Substratmaterial erhalten.
- Beispiel 2: Versuch der elektrochemischen Abscheidung einer Silberschicht auf nichtleitfähigen anorganischen Glimmer-Partikeln
- Der Versuch erfolgt analog Beispiel 1, nur dass nicht leitende Glimmerpartikel verwendet werden. Nach vier Tagen Abscheidungsdauer können keine silberbelegten Partikel nachgewiesen werden. Die Metallabscheidung erfolgt nicht an der Partikeloberfläche, sondern das abgeschiedene metallische Silber bildet separate Phasen und auch Mischungen mit den verwendeten Glimmerpartikeln.
- Beispiel 3: Versuch der elektrochemischen Abscheidung einer Silberschicht auf nichtleitfähigen anorganischen Pigmenten
- Sowohl Partikel bestehend aus Iriodin® 103 (Titandioxid-Interferenzpigment der Fa. Merck Darmstadt) als auch Partikel bestehend aus mit Zinnoxid belegtem Glimmer werden einem Beschichtungsversuch unterworfen.
- Der Versuch erfolgt analog Beispiel 1, nur dass jeweils ein nicht leitendes anorganisches Pigment verwendet wird. Nach vier Tagen Abscheidungsdauer können keine silberbelegten Partikel nachgewiesen werden. Das Ergebnis entspricht bei beiden Pigmenten demjenigen aus Beispiel 2.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
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- - WO 2006/053362 [0003]
- - DE 10108893 [0003]
- - WO 2007/039035 [0003]
- - WO 2007/084558 [0004]
- - US 2006/0150770 [0008]
Claims (18)
- Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel, umfassend die elektrochemische Metallabscheidung eines oder mehrerer Metalle auf Substratpartikeln, die mindestens oberflächlich elektrisch leitend oder halbleitend sind.
- Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass es in einer Flüssigkeit oder Flüssigkeitsmischung enthaltend mindestens eine ionische Flüssigkeit und optional eine oder mehrere organische Flüssigkeiten und/oder optional ein oder mehrere Additive durchgeführt wird.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratpartikel mindestens oberflächlich aus Metallen, Metalllegierungen, Halbmetallen, dotiertem anorganischen Material, leitfähigen und/oder metallisierten Keramiken oder leitfähigen und/oder metallisierten Kunststoffen bestehen.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratpartikel mindestens oberflächlich aus anorganischen Halbleitermaterialien, insbesondere aus dotierten Zinnoxiden, Zinkoxiden oder Zinksulfiden bestehen.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den Substratpartikeln um geometrisch anisotrope Partikel, insbesondere um plättchenförmige oder nadelförmige Partikel.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass es sich bei den Substratpartikeln um schichtartige Komposite handelt.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Substratpartikel eine mittlere Partikelgröße von 0,5 bis 800 μm, bevorzugt eine mittlere Partikelgröße von 1 bis 200 μm, aufweisen.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass elektrochemisch Gold, Silber, Palladium, Platin, Kupfer, Titan, Tantal, Zirkonium, Zink, Vanadium, Zinn, Eisen, Germanium, Silizium und Aluminium abgeschieden werden.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die ionische Flüssigkeit mindestens ein Tetraalkylammonium-, Tetraalkylphosphonium-Kation aufweist, wobei die Alkylgruppen jeweils unabhängig voneinander 1 bis 10 C-Atome haben können, oder ein heterocyclisches Kation ausgewählt aus aufweist, wobei R1' bis R4' jeweils unabhängig voneinander Wasserstoff, -CN, -OR', -NR'2, -P(O)R'2, -P(O)(NR'2)2, -C(O)R', geradkettiges oder verzweigtes Alkyl mit 1-20 C-Atomen, geradkettiges oder verzweigtes Alkenyl mit 2-20 C-Atomen und einer oder mehreren Doppelbindungen, geradkettiges oder verzweigtes Alkinyl mit 2-20 C-Atomen und einer oder mehreren Dreifachbindungen, gesättigtes, teilweise oder vollständig ungesättigtes Cycloalkyl mit 3-7 C-Atomen, das mit Alkylgruppen mit 1-6 C-Atomen substituiert sein kann, gesättigtes, teilweise oder vollständig ungesättigtes Heteroaryl, Heteroaryl-C1-C6-alkyl oder Aryl-C1-C6-alkyl bedeutet, wobei die Substituenten R1', R2', R3' und/oder R4' zusammen auch ein Ringsystem bilden können, wobei ein oder mehrere Substituenten R1' bis R4' teilweise oder vollständig mit Halogenen, insbesondere -F und/oder -Cl, oder -OR', -CN, -C(O)OH, -C(O)NR'2, -SO2NR'2, -C(O)X, -SO2OH, -SO2X, -NO2, substituiert sein können, wobei jedoch nicht gleichzeitig R1' und R4' vollständig mit Halogenen substituiert sein dürfen, und wobei ein oder zwei nicht benachbarte und nicht am Heteroatom gebundene Kohlenstoffatome der Substituenten R1' bis R4', durch Atome und/oder Atomgruppierungen ausgewählt aus der -O-, -S-, -5(O)-, -SO2-, -C(O)-, -N+R'2-, -C(O)NR'-, -SO2NR'-, -P(O)(NR'2)NR'-, -PR'2=N- oder -P(O)R'- ersetzt sein können mit R'=H, nicht, teilweise oder perfluoriertes C1-bis C6-Alkyl, C3- bis C7-Cycloalkyl, unsubstituiertes oder substituiertes Phenyl und X = Halogen.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die ionische Flüssigkeit mindestens ein Tetraalkylammonium-, Tetraalkylphosphonium-, 1,1-Dialkylpyrrolidinium-, 1-Hydroxyalkyl-1-alkyl-pyrrolidinium-, 1-Hydroxyalkyl-3-alkyl-imidazolium- oder 1,3-Bis(hydroxyalkyl)imidazolium-Kation enthält, wobei die Alkylgruppen oder die Alkylenkette der Hydroxyalkylgruppe jeweils unabhängig voneinander 1 bis 10 C-Atome haben können.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Anion der ionischen Flüssigkeit PF6, BF4, Alkylsulfat, Perfluoralkylsulfonat, Perfluoracetat, Bis(fluorsulfonyl)imid, Bis(perfluoralkylsulfonyl)imid, Tris(perfluoralkyl)trifluorphosphat, Bis(perfluoralkyl)tetrafluorphosphat, Tris(perfluoralkylsulfonyl)methid oder Perfluoralkylborat ist.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, dass in der Flüssigkeit oder Flüssigkeitsmischung Metallionen gelöst vorliegen.
- Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass zwei oder mehrere auf einander folgende Metallschichten durch wiederholte elektrochemische Metallabscheidung eines Metalls oder mehrerer Metalle und/oder durch die gleichzeitige Verwendung unterschiedlicher Metallsalze abgeschieden werden.
- Metallbeschichtete Partikel, beschichtet nach einem Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 13.
- Metallbeschichtete Partikel umfassend eine oder mehrere Metallschichten enthaltend mindestens eine ionische Flüssigkeit, insbesondere hergestellt nach einem Verfahren gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 13.
- Verwendung von metallbeschichteten Partikeln gemäß einem oder mehreren der Ansprüche 14 bis 15 in Lacken, Farben, Tinten, Druckfarben, Beschichtungen, Pigmentmischungen, Kunststoffen, Kunststoffmischungen, als Katalysatoren, in optischen Schichten, in funktionellen, insbesondere leitfähigen, Schichten, in Sicherheitselementen für Sicherheitserzeugnisse und für den Markenschutz, in Elektrolyten, Festkörperelektrolyten, Batterien, Kondensatoren, Akkumulatoren, Solarzellen, Photozellen oder Elektroartikeln.
- Verwendung von ionischen Flüssigkeiten sowie deren Mischungen mit organischen Flüssigkeiten und/oder Additiven zur Abscheidung von Metallen auf Substratpartikeln.
- Elektrochemische Bäder enthaltend ionische Flüssigkeiten und Substratpartikel.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102009055828A DE102009055828A1 (de) | 2008-12-19 | 2009-11-26 | Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102008063678 | 2008-12-19 | ||
| DE102008063678.9 | 2008-12-19 | ||
| DE102009055828A DE102009055828A1 (de) | 2008-12-19 | 2009-11-26 | Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102009055828A1 true DE102009055828A1 (de) | 2010-07-01 |
Family
ID=42221091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102009055828A Withdrawn DE102009055828A1 (de) | 2008-12-19 | 2009-11-26 | Verfahren zur Herstellung metallbeschichteter Partikel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102009055828A1 (de) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8697785B2 (en) | 2009-12-01 | 2014-04-15 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | N-allyl carbamate compounds and use thereof, in particular in radiation-curing coatings |
| CN104894618A (zh) * | 2015-04-28 | 2015-09-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种离子液体电沉积制备锗/铝纳米薄膜的方法 |
| WO2016055579A1 (en) * | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. | Compositions for electrodeposition of metals, electrodeposition process and product obtained |
| AT516876A1 (de) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | Ing W Garhöfer Ges M B H | Abscheidung von dekorativen Palladium-Eisen-Legierungsbeschichtungen auf metallischen Substanzen |
| US11046658B2 (en) | 2018-07-02 | 2021-06-29 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
| US11926616B2 (en) | 2018-03-08 | 2024-03-12 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-γ inhibitors |
| US12512513B2 (en) | 2020-02-21 | 2025-12-30 | Lg Energy Solution, Ltd. | Non-aqueous electrolyte solution for lithium secondary battery and lithium secondary battery comprising same |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10108893A1 (de) | 2001-02-23 | 2002-10-24 | Rolf Hempelmann | Verfahren zur elektrochemischen Abscheidung von Metallen, Legierungen und Halbleitern aus ionischen Flüssigkeiten und niedrig schmelzenden Salzgemischen |
| WO2006053362A2 (de) | 2004-11-19 | 2006-05-26 | Plansee Se | Verfahren zur abscheidung von schichten aus ionischen flüssigkeiten |
| US20060150770A1 (en) | 2005-01-12 | 2006-07-13 | Onmaterials, Llc | Method of making composite particles with tailored surface characteristics |
| WO2007039035A1 (de) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Merck Patent Gmbh | Elektrochemische abscheidung von selen in ionischen flüssigkeiten |
| WO2007084558A2 (en) | 2006-01-17 | 2007-07-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid |
-
2009
- 2009-11-26 DE DE102009055828A patent/DE102009055828A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10108893A1 (de) | 2001-02-23 | 2002-10-24 | Rolf Hempelmann | Verfahren zur elektrochemischen Abscheidung von Metallen, Legierungen und Halbleitern aus ionischen Flüssigkeiten und niedrig schmelzenden Salzgemischen |
| WO2006053362A2 (de) | 2004-11-19 | 2006-05-26 | Plansee Se | Verfahren zur abscheidung von schichten aus ionischen flüssigkeiten |
| US20060150770A1 (en) | 2005-01-12 | 2006-07-13 | Onmaterials, Llc | Method of making composite particles with tailored surface characteristics |
| WO2007039035A1 (de) | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Merck Patent Gmbh | Elektrochemische abscheidung von selen in ionischen flüssigkeiten |
| WO2007084558A2 (en) | 2006-01-17 | 2007-07-26 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Method of producing particles by physical vapor deposition in an ionic liquid |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8697785B2 (en) | 2009-12-01 | 2014-04-15 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | N-allyl carbamate compounds and use thereof, in particular in radiation-curing coatings |
| WO2016055579A1 (en) * | 2014-10-10 | 2016-04-14 | Solvay Specialty Polymers Italy S.P.A. | Compositions for electrodeposition of metals, electrodeposition process and product obtained |
| AT516876A1 (de) * | 2015-03-09 | 2016-09-15 | Ing W Garhöfer Ges M B H | Abscheidung von dekorativen Palladium-Eisen-Legierungsbeschichtungen auf metallischen Substanzen |
| CN104894618A (zh) * | 2015-04-28 | 2015-09-09 | 哈尔滨工业大学 | 一种离子液体电沉积制备锗/铝纳米薄膜的方法 |
| CN104894618B (zh) * | 2015-04-28 | 2017-05-03 | 哈尔滨工业大学 | 一种离子液体电沉积制备锗/铝纳米薄膜的方法 |
| US11926616B2 (en) | 2018-03-08 | 2024-03-12 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-γ inhibitors |
| US12365668B2 (en) | 2018-03-08 | 2025-07-22 | Incyte Corporation | Aminopyrazine diol compounds as PI3K-y inhibitors |
| US11046658B2 (en) | 2018-07-02 | 2021-06-29 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
| US12421197B2 (en) | 2018-07-02 | 2025-09-23 | Incyte Corporation | Aminopyrazine derivatives as PI3K-γ inhibitors |
| US12512513B2 (en) | 2020-02-21 | 2025-12-30 | Lg Energy Solution, Ltd. | Non-aqueous electrolyte solution for lithium secondary battery and lithium secondary battery comprising same |
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