DE102008047337A1 - Verfahren zur Prüfung eines Testsubstrats in einem Prober unter definierten thermischen Bedingungen - Google Patents
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Abstract
Description
- Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Prüfen oder Testen von Testsubstraten, d. h. von Wafern und anderen elektronischen Halbleiterbauelementen, in einem Prober unter definierten thermischen Bedingungen. Eine solche, dem Fachmann als Prober bekannte Prüfvorrichtung weist ein Gehäuse mit zumindest zwei Gehäuseabschnitten auf, in dessen einen Gehäuseabschnitt, im folgenden als Testkammer bezeichnet, das zu prüfende Testsubstrat durch einen Chuck gehalten wird und auf eine definierte Temperatur eingestellt wird und in dessen anderem Gehäuseabschnitt, im folgenden als Sondenkammer bezeichnet, Sonden gehalten werden. Zur Prüfung werden das Testsubstrat und die Sonden mittels zumindest einer Positionierungseinrichtung relativ zueinander positioniert und nachfolgend das Testsubstrat durch die Sonden kontaktiert.
- Für besondere Testaufgaben, insbesondere für die Messung sehr kleiner Ströme ist es erforderlich, Störeinflüsse auf die Messanordnung, welche die Messergebnisse verfälschen können, zu verhindern. Eine solche Anordnung weist für solche Tests ein Abschirmsystem auf, mit welchem die elektromagnetische Beeinflussung (EMI) der Messung der Testsubstrate minimiert werden kann. Ein Prober mit elektromagnetische Abschirmung ist aus der
DE 298 20 106 U1 bekannt. Darin wird beschrieben, dass eine Baugruppe zur Aufnahme der Testsubstrate einschließlich deren Positionierungseinheit sowie eine Baugruppe zur Aufnahme und Positionierung von Sonden, üblicherweise als Probes bezeichnet, mit einem Gehäuse von den äußeren elektromagnetischen Einflüssen abgeschirmt wird. Die Schnittstellen nach außen stellen die Kabel zu den Steuerungs- und Auswertungseinheiten dar. Damit werden eine optische und eine elektromagnetische Abschirmung des Messequipments erzielt. Besonders problematisch erweist sich auch eine Abschirmung gegenüber niederfrequenten magnetischen Feldern. Eine solche NF-Abschirmung ist durch dickwandige Gehäuse aus ferromagnetischen Materialien zu erzielen. Zugänge durch solche Wandungen sind jedoch nicht realisierbar, ohne die Schirmung wesentlich zu schwächen. - Das Problem derartiger Gehäuse ist jedoch die Zugänglichkeit zu einzelnen Komponenten, insbesondere zu den Positionierungseinheiten der Sonden und/oder der Halterung des Testsubstrats, allgemein als Chuck bezeichnet. In der
US 6,492,822 B2 sind deshalb Teile beider Positionierungseinheiten durch die Gehäusewandung nach außen geführt, so dass deren Manipulation ohne Öffnung des Gehäuses von außen möglich ist. Derartige Gehäuseeingänge erweisen sich jedoch als nachteilig, da sie eine Unterbrechung der Schirmung darstellen. - Aus der
DE 10 2007 053 862 A1 ist ein Prober bekannt, dessen Gehäuse so unterteilt ist, dass sowohl der Chuck mit seiner Chuck-Positionierungseinheit als auch die Sondenhalterungen mit deren Positioniereinheiten im schirmenden Gehäuse integriert sind. Die Integration solcher oder vergleichbarer Vorrichtungen und deren Kabel in das elektromagnetische Abschirmsystem erfolgt in einer solchen Weise, dass auch innerhalb des Systems eine gegenseitige Beeinflussung der Vorrichtungen und des Testsubstrats minimiert werden kann. Trotz des komplexen und variablen Abschirmsystems sind die einzelnen, während eines Messzyklus zu bedienenden Komponenten, wie z. B. die Positionierungseinheit des Chucks und gegebenenfalls auch der Sonden, zugänglich und eine Beobachtung des Testsubstrats während der Messung möglich. Z. B. sind durch Öffnen einzelner Gehäuseabschnitte die Sondenhalterungen zugänglich, während der das Testsubstrat unmittelbar umgebende Gehäuseabschnitt geschlossen bleibt. - Die Gestaltung des Gehäuses mit mehreren, einzeln zu öffnenden Gehäuseabschnitten und die damit mögliche gute Zugänglichkeit einzelner Komponenten des Probers mit minimierter Unterbrechung der Schirmung gestattet auch die Aufnahme einer Vorrichtung zur Signalaufbereitung, z. B. zur Signalvorverarbeitung oder zur Signalverarbeitung in die elektromagnetische Abschirmung des Gehäuses. Damit sind z. B. auch solche Kabel in die Schirmung des Gehäuses integrierbar, welche außerhalb des Gehäuses als Antenne wirken und die Messung verfälschen können. Der in der der
DE 10 2007 053 862 A1 vorgeschlagene Prober umfasst auch die Möglichkeit, das Abschirmsystem für die Abschirmung gegenüber niederfrequenten magnetischen Feldern zu konfigurieren. Eine solche Abschirmung wird durch Gehäuse oder Gehäuseabschnitte aus dickwandigen, ferromagnetischen Materialien erzielt. - Im Prober wird ein Testsubstrat auf dem Chuck angeordnet und mit der Positionierungseinheit des Chucks, allgemein auch als Chuckantrieb bezeichnet, im Arbeitsbereich verfahren, so dass es relativ zu den Sonden des Probers positioniert ist. Die Positionierung des Testsubstrats erfolgt im Allgemeinen in der horizontalen, d. h. X-Y-Ebene durch einen Kreuztisch sowie durch eine Vorrichtung zur winkligen Ausrichtung und durch einen vertikalen, d. h. Z-Vortrieb, der z. B. eine Zustellbewegung des Testsubstrats in Richtung der über dem Testsubstrat angeordneten Sonden ermöglicht. Mit den Positionierungseinheiten der Sonden, auch als Probeheads bezeichnet, können mehrerer Sonden relativ zueinander oder zu einer Vorzugsrichtung des Testsubstrats in X-, Y- und Z-Richtung oder in einer Zustellbewegung zum Testsubstrat bewegt werden. In alternativen Ausgestaltungen sind die Sonden fest montiert.
- Zur Prüfung wird das Testsubstrat mittels der Sonden, welche die Form von Kontaktiernadeln haben, kontaktiert und mit Prüfsignalen beaufschlagt oder Prüfsignale abgegriffen. Die Sonden einschließlich der Probeheads befinden sich im Allgemeinen außerhalb des Arbeitsbereiches auf einer Platte, die den Arbeitsbereich nach oben abgrenzt und die häufig auch der Halterung der Sonden dient und in diesem Fall als Sondenhalterplatte bezeichnet ist. Die Spitzen der Sonden kontaktieren das Testsubstrat durch eine Öffnung in der Platte, wobei zur Optimierung der elektromagnetische Schirmung die Öffnung selbst so klein wie möglich gestaltet ist oder durch ein elektromagnetisches Schild, als Shield bekannt, ergänzt wird, das über dem Testsubstrat und unterhalb der Platte angeordnet ist und die erforderlich kleine Öffnung für den Durchgriff der Sonden aufweist.
- Die Prüfung von elektronischen Bauelementen auf ihre Funktionssicherheit erfolgt in Probern vorzugsweise unter den Umgebungsbedingungen, die den Einsatzbedingungen des jeweiligen Bauelementes entsprechen, wobei die Einstellung des Testsubstrats auf definierte Temperaturen üblicherweise im Bereich bis einige Hundert Grad Celsius ein Schwerpunkt darstellt. Die Einstellung der Temperatur des Testsubstrats erfolgt über den Chuck, der mittels geeigneter Vorrichtungen heizbar oder kühlbar ist.
- Es hat sich jedoch heraus gestellt, dass über die den Arbeitsbereich nach oben abgrenzenden Platte und insbesondere über die Öffnung darin und ebenso über den Kontakt der Sonden mit dem Testsubstrat ein Wärmeaustausch zwischen dem Arbeitsraum und dem darüber liegenden Gehäuseabschnitt erfolgt, in welchem die Sondenhalterungen, die Probeheads und gegebenenfalls auch die Vorrichtung zur Signalaufbereitung angeordnet sind und der im Folgenden als Sondenkammer bezeichnet sein soll.
- Insbesondere bei größeren Temperaturunterschieden zur Umgebungstemperatur, z. B. bei Messtemperaturen von einigen hundert Grad Celsius, werden alle in der Sondenkammer angeordneten Komponenten und Vorrichtungen auf eine solche Temperatur erhitzt, die eine exakte Positionierung der Sonden oder eine Aufrechterhaltung deren Position über einen längeren Prüfzeitraum verhindern oder zumindest erschweren. Denn eine Erwärmung oder Abkühlung der Probeheads und auch der Sonden führt zu Drifterscheinungen infolge thermischer Ausdehnung im Verlaufe der Messung, wobei sich diese Auswirkungen mit der Länge der Prüfspitzen verstärken. Sind der Vorrichtungen zur Signalaufbereitung in einer Sondenkammer angeordnet werden auch deren elektrische Parameter verändert und die Messung verfälscht. Darüber hinaus kann sich auch das Gehäuse einer Sondenkammer so stark erwärmen, dass es zu Verbrennungen bei einer Berührung mit dem Gehäuse kommen kann.
- Zur Überwindung dieser Probleme ist ein Prober angegeben, in welchem in einem Gehäuseabschnitt, der außerhalb des Arbeitsbereiches liegt und zumindest eine Sonde und deren Sondenhalterung umfasst, mittels einer temperierten und diesen Gehäuseabschnitt durchströmenden Gasströmung eine Temperatur eingestellt wird, die unabhängig ist von der Temperatur des Testsubstrats. Die unabhängige Temperatureinstellung von Testsubstrat und Sonden gestattet es, in Abhängigkeit z. B. von der Testtemperatur, von den thermischen Eigenschaften der Sonden und/oder von der Art des Tests die Sonden auf eine solche Temperatur einzustellen, die entweder das Testsubstrat minimal beeinflusst, die Positionierung der Sonden auch für Langzeittests aufrechterhält und/oder die gleichbleibende Funktion empfindlicher, weiterer Komponenten des Probers zu gewährleisten, die mit den Sonden in Verbindung stehen. So können z. B. selbst bei sehr hohen oder tiefen Testtemperaturen die Sonden und deren Umgebung wie z. B. Signalaufbereitungsvorrichtungen in der Sondenkammer auf die Umgebungstemperatur des Probers eingestellt werden. Durch geeignete, nachfolgend beschriebene weitere Maßnahmen ist dennoch eine Aufrechterhaltung der Temperatur des Testsubstrats möglich.
- Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. In der zugehörigen Zeichnung zeigt
-
1 einen Prober mit einem Gehäuse in einer frontalen Schnittdarstellung, wobei das Gehäuse durch eine Probenhalterplatte in zwei Gehäuseabschnitte unterteilt ist, -
2 eine weitere Ausgestaltung von oberhalb einer Sondenhalterplatte angeordneten Gehäuseabschnitten in Schnittdarstellung und -
3 eine Detaildarstellung eines Gasauslasses in der Gehäusewandung. - Eine in
1 dargestellte Ausführungsform eines Probers weist ein Gehäuse mit zwei Gehäuseabschnitten auf. In dem unteren der beiden Gehäuseabschnitte ist ein Chuck5 angeordnet, auf dem ein Testsubstrat7 aufgelegt und gehalten ist. Als Chuck5 wird allgemein eine besondere Haltevorrichtung für Testsubstrate7 verstanden, die auf deren besonderen mechanischen, elektrischen und geometrischen Anforderungen angepasst ist und entsprechend des Testsubstrats7 und der Prüfung geeignete Haltemechanismen realisiert. Ein Chuck5 umfasst regelmäßig eine Chuck-Positionierungseinheit6 , mit welcher der Chuck5 in X-, Y- und Z-Richtung zu bewegen und um die Z-Achse in einem gewissen Winkelbereich drehbar ist. Der Chuck5 einschließlich seiner Chuck-Positionierungseinheit6 ist auf einer Grundplatte1 des Probers montiert und seitlich von einer unteren Gehäusewandung10 umgeben. Mittels eines kühlbaren oder heizbaren Chucks5 wird das Testsubstrat7 auf die Testtemperatur eingestellt und während der gesamten Testdauer gehalten. - Dem Chuck
5 und gleichzeitig dem Testsubstrat7 gegenüberliegend ist eine Sondenhalterplatte4 angeordnet, welche die untere Gehäusewandung10 nach oben abschließt und somit den unteren Gehäuseabschnitt bildet. Dieser untere Gehäuseabschnitt umhüllt den Chuck5 , die Chuck-Positionierungseinheit6 und das Testsubstrat7 und soll deshalb im Folgenden der besseren Unterscheidung wegen als Testkammer2 bezeichnet sein. Die untere Gehäusewandung10 , die Grundplatte1 und die Sondenhalterplatte4 bestehen aus einem elektrisch leitfähigen Material und realisieren, ggf. durch einen speziellen Aufbau des Chucks5 ergänzt, die elektromagnetische Abschirmung des Testsubstrats7 . - Oberhalb der Sondenhalterplatte
4 erstreckt sich der obere Gehäuseabschnitt, dessen Wandung zur elektromagnetischen Abschirmung der darin angeordneten Komponenten ebenfalls aus elektrisch leitfähigem Material bestehen. Folglich unterteilt die Sondenhalterplatte4 das Gehäuse des Probers in einen unteren Gehäuseabschnitt und einen oberen Gehäuseabschnitt, wobei beide Gehäuseabschnitte eine elektromagnetische Abschirmung zur Umgebung und zum jeweils anderen Gehäuseabschnitt realisieren. Die einzelnen Gehäuseteile und die Sondenhalterplatte sind über ihre Flächenkontakte miteinander elektrisch verbunden, so dass eine geschlossene Abschirmung erzielt wird. In einer weiteren Ausgestaltung dient das Gehäuse nicht der elektromagnetischen Abschirmung, sondern lediglich der Umhüllung der Testanordnung, z. B. zur Einstellung von Testbedingungen, die von den Umgebungsbedingungen abweichen. - In der Sondenhalterplatte
4 ist eine zentrale Öffnung26 angeordnet, durch welche die Sonden23 , die auf der Sondenhalterplatte4 mittels Probeheads21 montiert sind, das Testsubstrat7 elektrisch kontaktieren. Als Probeheads21 werden allgemein Halterungen verstanden, welche die Sonden23 entweder einzeln oder angeordnet auf so genannten Sondenkarten (Probecards) in ihrer definierten Position zur Sondenhalterplatte4 und zu den weiteren Sonden23 halten und die elektrische Verbindung zu den Sonden23 realisieren. - Die zentrale Öffnung
26 der Sondenhalterplatte4 stellt eine Öffnung in der Abschirmung der Testkammer2 nach oben sowie des oberen Gehäuseabschnitts nach unten dar. Diese Öffnung wird in der dargestellten Ausführungsform durch ein Schild9 nahezu vollständig geschlossen, das sich zwischen der Sondenhalterplatte4 und dem Testsubstrat7 erstreckt und lediglich in dem unmittelbaren Bereich der Kontaktierung des Testsubstrats5 durch die Sondenspitzen25 eine Öffnung aufweist. Da das Schild9 die Abschirmung beider hier aneinandergrenzender Gehäuseabschnitte ergänzt, besteht auch das Schild9 aus einem elektrisch leitfähigen Material und ist mittels Abstandshalter14 an der Sondenhalterplatte4 montiert. - Diese Ausgestaltung ist lediglich eine von vielen möglichen. In einer alternativen Ausgestaltung kann die Abschirmung der beiden Gehäuseabschnitte zueinander ohne Schild
9 , durch geeignete Ausgestaltung der Sondenhalterplatte4 oder durch einen weitestgehenden Verschluss der zentralen Öffnung26 realisiert sein. In einer anderen Ausgestaltung kann die Trennung der Testkammer2 von einer oder mehrerer oberer Gehäuseabschnitte anstelle mittels Sondenhalterplatte4 durch eine weitere Gehäusewandung erfolgen, z. B. wenn die Sonden23 auf andere Weise gehalten und angeordnet sind. - Die Abschirmung zwischen den beiden Gehäuseabschnitten realisiert gleichzeitig auch deren weitestgehende räumliche Trennung. In anderen Ausgestaltungen kann die räumliche Trennung, die entsprechend der nachfolgenden Beschreibung den Einfluss des die Sondenkammer
3 durchströmenden, temperierten Gases auf das Testsubstrat7 vermindert, auch durch andere geeignete Maßnahmen erfolgen. - In dem in
1 dargestellten Ausführungsform ist die Sondenkammer3 durch einen Beobachtungsbereich40 in zwei Teilabschnitte untergliedert, indem sich der Beobachtungsbereich40 zentral und über die gesamte Tiefe (senkrecht zur Zeichnungsebene betrachtet) des oberen Gehäuseabschnittes erstreckt und gegenüber der oberen Gehäusewandung30 bis nahe an die Sondenhalterplatte4 abgesenkt ist. Der abgesenkte Beo bachtungsbereich40 wird zur Sondenhalterplatte4 hin durch den abgesenkten Teil der oberen Gehäusewandung30 begrenzt, der ungefähr parallel und mit einem solchen Abstand zur Sondenhalterplatte4 verläuft, dass sich in diesem Abstand die Sonden23 erstrecken können, ohne die Sondenhalterplatte4 oder den besagten abgesenkten Teil zu berühren. In diesen mittleren Abschnitt ragt das Objektiv eines Mikroskops43 , so dass mittels des Mikroskops43 die Herstellung des Kontakts zwischen Sondenspitzen25 und Testsubstrat7 sowie dessen Beibehaltung während des Tests zu beobachten ist. Dieser mittlere Bereich ist ein Bestandteil der Sondenkammer3 , soll im Folgenden jedoch der besseren Unterscheidung wegen als Objektivkammer41 bezeichnet sein. - Beide Teilabschnitte der Sondenkammer
3 umfassen jeweils eine Gruppe von Probeheads21 . Jedes Probehead21 nimmt eine Sonde23 auf und umfasst eine Sonden-Positionierungseinheit22 , vorliegend Mikrometerschrauben, mit der jede Sonde23 einzeln in X-, Y- und Z-Richtung fein positionierbar ist. In alternativen Ausgestaltungen des Probers können anstelle der Mikrometerschrauben andere, auch elektrisch angetriebene Mittel zur Positionierung der Sonden23 angeordnet sein oder die Sonden23 sind selbst nicht beweglich, so dass die Kontaktierung des Testsubstrats7 durch die Sonden23 mittels einer Zustellbewegung erfolgt, die durch die Chuck-Positionierungseinheit6 oder durch eine Bewegung der gesamten Sondenhalterplatte4 ausgeführt wird. - Unmittelbar neben jeder Gruppe von Probeheads
26 und damit innerhalb der Sondenkammer3 ist je eine Vorrichtung zur Signalaufbereitung28 auf der Sondenhalterplatte4 angeordnet, wie z. B. eine Signalverarbeitungseinheit. Jede Vorrichtung zur Signalaufbereitung28 ist über einen Verbinder29 mit außerhalb des Gehäuses angeordneten und nicht näher dargestellten Messanordnungen oder Auswertungseinrichtungen verbunden. - Zur Erzeugung einer Gasströmung weist die Sondenkammer
3 in jedem seiner Abschnitte im oberen Bereich verteilt Gaseinlässe12 und im unteren Bereich verteilt Gasauslässe13 . Als Gasauslässe13 sind in Abhängigkeit von dem für die Temperierung der Sondenkammern3 erforderlichen Volumenstrom des Gases Öffnungen in der oberen Gehäusewandung30 als auch ein nicht gasdichter Anschluss der oberen Gehäusewandung30 an die Sondenhalterplatte4 möglich. - In einer Ausgestaltung wird aufgrund der thermischen Verhältnisse bereits durch die Lage und die Verteilung der Gaseinlässe
12 und Gasauslässe13 ein Gasstrom11 durch die Sondenkammer3 erzeugt. In einer anderen Ausgestaltung kann die Strömungsrichtung durch eine Absaugung an den Gasauslässen13 unterstützt werden, so dass die Gasstö mung11 nicht oder zu einem zu vernachlässigenden Anteil in die Testkammer2 eindringt. Auch andere geeignete Maßnahmen sind zu diesem Zweck möglich, z. B. die Erzeugung einer Gegenströmung aus der Testkammer2 in die Sondenkammer3 oder die Minimierung von Durchlässen zwischen beiden Kammern, wie oben beschrieben. - Die Gasströmung
11 wird, bevor sie in die Sondenkammer3 eingeleitet wird, auf die erforderliche Temperatur eingestellt, wobei sowohl eine Erwärmung des Gases als auch eine Kühlung, z. B. mittels Peltier-Kühler erfolgen kann. Erfolgt die Prüfung im Prober bei hohen Temperaturen kann auch bereits mit einer Gasströmung11 mit Raumtemperatur eine Kühlung der Sonden erfolgen. Für die Gasströmung11 kann Luft verwendet werden, die getrocknet sein kann, um Kondensat in der Sondenkammer3 oder gegebenenfalls auch am Testsubstrat7 oder der Testkammer zu vermeiden. Auch eine Stickstoffspülung ist verwendbar, z. B. um Oxidationsprozesse zu verhindern oder zur Ausnutzung dessen günstiger Wärmeübertragungseigenschaften. Andere Gase sind unter Berücksichtigung der Testbedingungen und des Aufbaus des Probers ebenso verwendbar. - Mit der in der Ausführungsform nach
1 von oben nach unten durch die Sondenkammer3 verlaufenden Gasströmung11 werden die Probeheads21 und auch die Vorrichtungen zur Signalaufbereitung28 umströmt und temperiert. Auf diese Weise ist es z. B. möglich, auch bei höheren Testtemperaturen von einigen hundert Grad die Temperatur von in der Sondenkammer angeordneten elektronischen Komponenten nahezu auf Zimmertemperatur oder auf 25°C ± 5 Grad einzustellen, bei denen die Funktionsparameter dieser Komponenten gewährleistet sind. - Aufgrund der über die gesamte Breite der Sondenkammer
3 verteilten Gaseinlässe12 , wird die gesamte Sondenkammer3 durchströmt und temperiert, bevor das Gas durch die unteren Gasaulässe13 aus der Sondenkammer3 austritt. Dabei bewirkt der Anteil der Gasströmung11 , der den mittleren Teil der Sondenkammer3 durchströmt, welcher als Objektivkammer41 dient und im Ausführungsbeispiel eine geringere Höhe aufweist, die Temperierung der Sondenarme24 . Diese sind im Ausführungsbeispiel relativ lang, so dass sich eine Temperaturdrift aufgrund der damit verbundenen Änderung thermischen Ausdehnung deutlich in einer Drift der Position der Sondenspitzen25 auf dem Testsubstrat7 auswirken würde. Mit der Temperierung der Sonden23 mittels Gasströmung11 kann eine solche Drift vermieden werden, da die Temperierung die Aufrechterhaltung eines vor der Messung eingestellten thermischen Gleichgewichts im gesamten System unterstützt. Diese Gleichgewichtstemperatur kann rechnerisch oder experimentell ermittelt und der Tempe rierung der Sonden23 zugrunde gelegt werden. - Sofern in einer weiteren Ausgestaltung anstelle der nadelartigen Sonden
23 , Probecards mit einer Vielzahl von kurzen Sonden verwendet werden, kann auch die Probecard, die parallel zum Testsubstrat7 in der zentralen Öffnung26 der Sondenhalterplatte4 angeordnet würde, durch die vorbeiströmende Gasströmung11 temperiert werden. - Durch die Gasströmung
11 in der Objektivkammer41 kann darüber hinaus auch das Objektiv temperiert werden, z. B. um dessen langsame Anpassung an die Temperatur des direkt unterhalb des Objektiv liegenden Testsubstrats7 zu verhindern und damit die fortlaufende Beobachtung des Tests zu gewährleisten. - In einer weiteren Ausgestaltung kann ergänzend auch die Testkammer
2 und/oder die Chuck-Positionierungseinheit6 temperiert sein, um Änderungen in der Position des Testsubstrats7 oder dessen elektrischer Eigenschaften durch eine Temperaturdrift zu vermeiden. -
2 zeigt eine weitere Ausgestaltung der Sondenkammer3 des Probers. Der wesentliche Aufbau des dargestellten Teils des Probers entspricht dem in1 , weshalb auf die Darlegungen dazu verwiesen wird. Die gleichen Komponenten des Probers wurden mit den gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet. Der besseren Übersicht wegen ist keine Beobachtungseinrichtung dargestellt. Es ist aber unbenommen, dass eine Beobachtung der Sondenspitzen25 während der Prüfung auf andere geeignete Weise erfolgen kann. Die Ausgestaltung gemäß2 unterscheidet sich darüber hinaus von der in1 dargestellten, dass kein Schild9 unter der Sondenhalterplatte4 angeordnet ist. Um dennoch den thermischen Einfluss des Testsubstrats7 und des Chucks5 auf die Sondenkammer3 zu verringern, wurde die zentrale Öffnung26 in der Sondenhalterplatte4 auf das für die Positionierung der Sondenspitzen minimal erforderliche Maß vermindert. - In der Ausgestaltung gemäß
2 ist ein mittlerer Teilabschnitt der Sondenkammer3 , in welchem sich die Sondenarme24 erstrecken, durch thermische Blenden31 von den seitlichen Teilabschnitten, in welchen die Probeheads21 angeordnet sind, thermisch abgeschirmt. Die von den Probeheads21 gehaltenen Sonden23 erstrecken sich durch die Blenden31 bis in den zentralen Bereich der Sondenkammer3 . Die Blenden31 sind thermisch isolierend aber durchlässig für einen Gasstrom11 , der mittels Gaskanälen32 in jedem Teilabschnitt separat erzeugt wird. In jedem Teilabschnitt der Sondenkammer3 ist im oberen Bereich ein rohrförmiger Gaskanal32 angeordnet, der entlang einer Mantellinie Öffnungen aufweist, die als Gaseinlass12 dienen. Diese Gestaltung des Gaseinlasses12 gestattet eine gerichtete Strömung, z. B. zu den Halterungen der Sonden23 und den Blenden31 . Der Gaskanal32 im mittleren Teilabschnitt der Sondenkammer3 ist derart ausgestaltet, dass der Gasstrom11 in Richtung der Sonden23 strömt jedoch nicht in die zentrale Öffnung26 , da die Temperatur des Gasstromes11 deutlich von der des Testsubstrats7 abweichen kann und so thermische Spannungen und Verschiebungen im Testsubstrat7 und den Sondenspitzen25 vermieden werden. - Die Richtung der Gasströmung
11 kann darüber hinaus durch einen drehbaren Gaskanal32 und/oder durch gerichtete, düsenartige Öffnungen im Gaskanal32 eingestellt und verändert werden. Die Verwendung einer gerichteten Gasströmung11 , welche die Sondenkammer3 durchströmt, gestattet die gezielte Temperierung auch von einzelnen Komponenten bei minimalem Einfluss auf die Temperatur des Arbeitsbereiches und des dort angeordneten Testsubstrats7 . - Sofern die Temperatur in der Testkammer
2 deutlich über der in der Sondenkammer liegt, verhindert zudem die aus der Testkammer2 aufströmende Luft ein Eindringen des kühleren Gasstromes11 in die Testkammer2 . Die sich im mittleren Teilabschnitt der Sondenkammer3 vermischenden Gasströme11 entweichen durch die Blenden31 in die seitlichen Teilabschnitte, werden dort weiter abgekühlt und entweichen durch die am Fußpunkt der oberen Gehäusewandung30 verteilten Gasauslässe13 , gegebenenfalls durch eine Absaugung unterstützt. Wird zum Beispiel eine Messung bei 200 bis 300°C durchgeführt, kann die Sondenkammer3 durch einen Luftstrom bei Zimmertemperatur gekühlt werden und bei entsprechender Bemessung der die Sondenkammer3 durchströmenden Luftmenge ist in der Sondenkammer3 eine Temperatur von ca. 25°C während der gesamten Prüfung aufrechtzuerhalten. - Dies wird auch die thermische Trennung mittels der Blenden
31 unterstützt, die in einer Ausgestaltung eines Probers zur flexiblen Anwendung entnehmbar sind. Die Verwendung von Blenden31 hängt zum einen von der Temperaturdifferenz und zum anderen von der Größe der Öffnung zwischen beiden Kammern ab. - Sowohl die Gasströmung
11 in der Objektivkammer41 als auch die in den seitlich davon liegenden Teilabschnitten der Sondenkammer3 bewirken eine Temperierung der Sondenhalterplatte4 , was sich stabilisierend auf das thermische Gleichgewicht des Testsystems auswirkt. In dem oben beschriebenen Fall einer hohen Temperaturdifferenz zwischen Sondenkammer3 und Testsubstrat7 , kann die Sondenhalterplatte4 eine thermische Isolierung27 aufweisen. Im Ausführungsbeispiel ist diese wegen der Montage der Sonden23 und der Probeheads21 auf der Sondenhalterplatte4 an deren Unterseite angeordnet. Alternativ ist das auch oberhalb möglich. - In einer weiteren Ausgestaltung kann das Gehäuse eines Probers neben der Funktion als EMI-Abschirmung auch lichtdicht ausgeführt sein, z. B. zur Prüfung optoelektronischer Testsubstrate
7 .3 zeigt einen möglichen Gasauslass13 , der beide Funktionen erfüllt. Zu diesem Zweck ist in einer Öffnung in der oberen Gehäusewandung30 ein Profil34 eingefügt, das durch einander überlappende Stege einen direkten Sichtkontakt durch die Öffnung ausschließt aber durch genügend große Abstände der Stege zueinander einen Gasstrom durch das Profil34 gestattet. Für eine größtmögliche Absorption von einfallendem Licht ist das Profil34 aus mattschwarzem Material gefertigt. Die elektromagnetische Abschirmung im Bereich der Öffnung wird durch einen EMI-Abschirmstoff35 realisiert, welcher in elektrischem Kontakt mit der Sondenhalterplatte4 und der oberen Gehäusewandung30 steht. Alternativ kann der Gasauslass13 auch nur eine der Funktionen erfüllen und folglich nur entweder das Profil34 oder die elektromagnetische Abschirmung aufweisen. - Zur Prüfung, die im Ausführungsbeispiel bei Temperaturen oberhalb 200°C durchgeführt werden soll, wird ein Testsubstrat
7 auf einem Chuck5 angeordnet und im Arbeitsbereich innerhalb der Testkammer2 und damit unterhalb der zentralen Öffnung26 grob positioniert. Nachfolgend wird das Testsubstrat7 , welches flächig auf dem Chuck5 aufliegt, mittels einer Chuckheizung (nicht dargestellt) auf die Testtemperatur geheizt. Zu diesem Zeitpunkt wird die Sondenkammer3 , die sich in drei Teilabschnitte mit einer mittleren Objektivkammer41 untergliedert, von drei separaten Gasströmen11 aus getrockneter Luft mit Raumtemperatur durchströmt. Auf diese Weise wird eine starke Erwärmung der Sonden23 und über deren thermischen Kontakt auch der Probeheads21 verhindert. Es stellt sich ein thermisches Gleichgewicht ein, bei dem das Testsubstrat7 die Testtemperatur eingenommen hat und für die Sonden23 , die Probeheads21 und Signalvorverarbeitungseinheiten innerhalb der seitlichen Teilabschnitte der Sondenkammer3 eine Temperatur von ca. 25°C eingestellt wird. - Nach der Einstellung des thermischen Gleichgewichts wird der Kontakt des Sonden
23 mit dem Testsubstrat durch eine Feinpositionierung mittels Chuck-Positionierungseinheit6 und Probeheads21 und die nachfolgende Zustellung zwischen den Sonden23 und dem Testsubstrat7 hergestellt. Aufgrund der Aufrechterhaltung der Temperatur der Sonden23 mittels der Gassströme11 erfolgt keine Änderung der thermischen Ausdehnung der Sonden, so dass auch Langzeitmessungen und insbesondere auch mit langen Sondenarmen24 möglich sind, ohne während der Prüfung den Kontakt zwischen den Sonden und dem Testsubstrat zu verlieren. -
- 1
- Grundplatte
- 2
- Testkammer
- 3
- Sondenkammer
- 4
- Sondenhalterplatte
- 5
- Chuck
- 6
- Chuck-Positionierungseinheit
- 7
- Testsubstrat
- 8
- Objektivkammer
- 9
- Schild
- 10
- untere Gehäusewandung
- 11
- Gasströmung
- 12
- Gaseinlass
- 13
- Gasauslass
- 21
- Probehead
- 23
- Sonde
- 24
- Sondenarm
- 25
- Sondenspitze
- 26
- zentrale Öffnung
- 27
- thermische Isolierung
- 28
- Vorrichtung zur Signalaufbereitung
- 29
- Verbinder
- 30
- obere Gehäusewandung
- 31
- Blende
- 32
- Gaskanäle
- 34
- Profil
- 35
- EMI-Abschirmstoff
- 40
- Beobachtungsbereich
- 41
- Objektivkammer
- 43
- Mikroskop
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- - DE 29820106 U1 [0002]
- - US 6492822 B2 [0003]
- - DE 102007053862 A1 [0004, 0005]
Claims (16)
- Verfahren zur Prüfung eines Testsubstrats (
7 ) in einem Prober unter definierten thermischen Bedingungen, wobei der Prober ein Gehäuse mit zumindest zwei Gehäuseabschnitten aufweist, in dessen einen Gehäuseabschnitt, im folgenden als Testkammer (2 ) bezeichnet, das zu prüfende Testsubstrat (7 ) durch einen Chuck (5 ) gehalten wird und auf eine definierte Temperatur eingestellt wird und in dessen anderem Gehäuseabschnitt, im folgenden als Sondenkammer (3 ) bezeichnet, Sonden (23 ) gehalten werden, indem das Testsubstrat (7 ) und die Sonden (23 ) mittels zumindest einer Positionierungseinrichtung relativ zueinander positioniert und nachfolgend das Testsubstrat (7 ) durch die Sonden (23 ) zur Prüfung kontaktiert wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Sonden (23 ) mittels einer temperierten Gasströmung (11 ), welche die Sondenkammer (3 ) durchströmt, auf eine von der Temperatur des Testsubstrats (7 ) unabhängige Temperatur eingestellt und diese Temperatur gehalten wird. - Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in zwei Teilabschnitten der Sondenkammer (
3 ) jeweils eine separate Gasströmung (11 ) erzeugt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass ein Gasvorhang in der Sondenkammer (
3 ) erzeugt wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass weitere Komponenten des Probers, welche in der Sondenkammer (
3 ) angeordnet sind, mittels einer Gasströmung (11 ) auf eine von der Temperatur des Testsubstrats (7 ) unabhängige Temperatur eingestellt und diese Temperatur gehalten wird. - Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass eine Gasströmung (
11 ) erzeugt wird, welche auf eine Komponente in der Sondenkammer (3 ) gerichtet ist. - Prober zum Prüfen von Testsubstraten (
7 ) unter definierten thermischen Bedingungen mit einem Chuck (5 ) zur Aufnahme zumindest eines Testsubstrats (7 ), mit einer Sondenhalterplatte (4 ), auf welcher Sonden (23 ) zur elektrischen Kontaktierung das Testsubstrats (7 ) mittels Sondenhalterung angeordnet sind, mit zumindest einem Positionierungssystem, mit welchem das Testsubstrat (7 ) und die Sonden (23 ) relativ zueinander positionierbar sind und ein zumindest Chuck (5 ) und Sondenanordnung umhüllendes eine Gehäuse, welches in zumindest zwei Gehäuseabschnitte unterteilt ist, von denen ein Gehäuseabschnitt, im Folgenden als Testkammer (2 ) bezeichnet, das Testsubstrat (7 ) sowie den Arbeitsbereich und der andere Gehäuseabschnitt, im Folgenden als Sondenkammer (3 ) bezeichnet, die Sondenanordnung umhüllt, dadurch gekennzeichnet, dass eine Vorrichtung zur Erzeugung einer temperierten, die Sondenkammer (3 ) durchströmenden Gasströmung (11 ) angeordnet ist. - Prober nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Vorrichtung einen Gaseinlass (
12 ) in die Sondenkammer (3 ) aufweist, mittels dem ein gerichteter Gasstrom erzeugbar ist. - Prober nach einem der Ansprüche 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Sondenkammer (
3 ) in Teilabschnitte untergliedert ist mittels Blenden (31 ), welche die Gasströmung (11 ) passieren lassen. - Prober nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest zwei Teilabschnitte der Sondenkammer (
3 ) eine eigene Vorrichtung zur Erzeugung einer temperierten, den Teilabschnitt durchströmenden Gasströmung (11 ) aufweist. - Prober nach einem der Ansprüche 6 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse eine elektromagnetische Abschirmung bildet.
- Prober nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Gehäuseabschnitt gegenüber einem anderen die gleiche elektromagnetische Abschirmung bildet, wie das Gehäuse zur Umgebung.
- Prober nach einem der Ansprüche 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse einen Gasauslass (
13 ) mit einer elektromagnetischen Abschirmung aufweist. - Prober nach einem der Ansprüche 6 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse lichtdicht ausgebildet ist.
- Prober nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest ein Gehäuseabschnitt gegenüber einem anderen lichtdicht ausgebildet ist.
- Prober nach einem der Ansprüche 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, dass das Gehäuse einen lichtdicht ausgeführten Gasauslass (
13 ) aufweist. - Prober nach einem der vorstehenden Ansprüche 6 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Trennung zwischen Testkammer (
2 ) und Sondenkammer (3 ) eine thermische Isolierung aufweist.
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| JP6250449B2 (ja) * | 2014-03-25 | 2017-12-20 | エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 | 半導体検査装置 |
| US10060950B2 (en) * | 2016-01-15 | 2018-08-28 | Formfactor Beaverton, Inc. | Shielded probe systems |
| TWI664130B (zh) * | 2016-01-29 | 2019-07-01 | Mpi Corporation | 晶圓匣 |
| TWI628449B (zh) * | 2017-05-05 | 2018-07-01 | 漢民科技股份有限公司 | 晶圓針測裝置主動式預熱及預冷系統及晶圓檢測方法 |
| US10698002B2 (en) * | 2017-10-02 | 2020-06-30 | Formfactor Beaverton, Inc. | Probe systems for testing a device under test |
| EP3734301A1 (de) * | 2019-05-03 | 2020-11-04 | Afore Oy | Kryogener wafertester mit beweglichem wärmestrahlungsschild |
| JP7694864B2 (ja) | 2019-11-19 | 2025-06-18 | ハイ プレシジョン デバイセズ インコーポレイテッド | 極低温ウェーハ検査システム |
| CN115406887B (zh) * | 2021-05-28 | 2025-10-28 | 长鑫存储技术有限公司 | 微光探测装置和半导体设备 |
| US11639957B2 (en) * | 2021-07-02 | 2023-05-02 | Northrop Grumman Systems Corporation | Planar ring radiation barrier for cryogenic wafer test system |
| CN120254566B (zh) * | 2025-04-02 | 2025-11-28 | 芯卓科技(浙江)有限公司 | 测试接口结构和芯片测试设备 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5321453A (en) * | 1991-08-03 | 1994-06-14 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus for probing an object held above the probe card |
| DE29820106U1 (de) | 1998-11-11 | 1999-01-07 | Karl Suss Dresden GmbH, 01561 Sacka | Anordnung zum Testen von Halbleitersubstraten |
| US6194907B1 (en) * | 1998-12-17 | 2001-02-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Prober and electric evaluation method of semiconductor device |
| DE20119157U1 (de) * | 2001-11-26 | 2002-03-07 | Karl Suss Dresden GmbH, 01561 Sacka | Vorrichtung zum Prüfen von Halbleiterscheiben |
| US6492822B2 (en) | 1992-06-11 | 2002-12-10 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station for low-current measurements |
| DE102007053862A1 (de) | 2006-11-17 | 2008-06-12 | Suss Microtec Test Systems Gmbh | Prober zum Testen von Halbleitersubstraten mit EMI-Abschirmung |
| DE102007058457A1 (de) * | 2006-12-08 | 2008-07-03 | Suss Microtec Test Systems Gmbh | Anordnung und Verfahren zur Testung von Halbleitersubstraten unter definierter Atmosphäre |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3710251A (en) * | 1971-04-07 | 1973-01-09 | Collins Radio Co | Microelectric heat exchanger pedestal |
| US4845426A (en) * | 1987-05-20 | 1989-07-04 | Signatone Corporation | Temperature conditioner for tests of unpackaged semiconductors |
| US5084671A (en) * | 1987-09-02 | 1992-01-28 | Tokyo Electron Limited | Electric probing-test machine having a cooling system |
| US5325052A (en) * | 1990-11-30 | 1994-06-28 | Tokyo Electron Yamanashi Limited | Probe apparatus |
| DE4109908C2 (de) * | 1991-03-26 | 1994-05-05 | Erich Reitinger | Anordnung zur Prüfung von Halbleiter-Wafern |
| JPH06349909A (ja) * | 1993-06-14 | 1994-12-22 | Hitachi Ltd | プローブ検査装置 |
| DE10216786C5 (de) | 2002-04-15 | 2009-10-15 | Ers Electronic Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Konditionierung von Halbleiterwafern und/oder Hybriden |
| US6963207B2 (en) * | 2003-03-06 | 2005-11-08 | Celadon Systems, Inc. | Apparatus and method for terminating probe apparatus of semiconductor wafer |
| DE102004057215B4 (de) * | 2004-11-26 | 2008-12-18 | Erich Reitinger | Verfahren und Vorrichtung zum Testen von Halbleiterwafern mittels einer Sondenkarte unter Verwendung eines temperierten Fluidstrahls |
| TWI362717B (en) * | 2005-10-18 | 2012-04-21 | Gsi Group Corp | Methods for alignment utilizing an optical reference |
| JP2007165390A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Fujitsu Ltd | 検査装置及び方法 |
| DE102006038457B4 (de) * | 2006-08-16 | 2014-05-22 | Cascade Microtech, Inc. | Verfahren und Vorrichtung zum Temperieren elektronischer Bauelemente |
| US8278951B2 (en) * | 2006-11-17 | 2012-10-02 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station for testing semiconductor substrates and comprising EMI shielding |
| US8497693B2 (en) * | 2007-10-10 | 2013-07-30 | Cascade Microtech, Inc. | Method for testing a test substrate under defined thermal conditions and thermally conditionable prober |
| US7999563B2 (en) * | 2008-06-24 | 2011-08-16 | Cascade Microtech, Inc. | Chuck for supporting and retaining a test substrate and a calibration substrate |
| DE102008047337B4 (de) * | 2008-09-15 | 2010-11-25 | Suss Microtec Test Systems Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Prüfung eines Testsubstrats in einem Prober unter definierten thermischen Bedingungen |
-
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5321453A (en) * | 1991-08-03 | 1994-06-14 | Tokyo Electron Limited | Probe apparatus for probing an object held above the probe card |
| US6492822B2 (en) | 1992-06-11 | 2002-12-10 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station for low-current measurements |
| DE29820106U1 (de) | 1998-11-11 | 1999-01-07 | Karl Suss Dresden GmbH, 01561 Sacka | Anordnung zum Testen von Halbleitersubstraten |
| US6194907B1 (en) * | 1998-12-17 | 2001-02-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Prober and electric evaluation method of semiconductor device |
| DE20119157U1 (de) * | 2001-11-26 | 2002-03-07 | Karl Suss Dresden GmbH, 01561 Sacka | Vorrichtung zum Prüfen von Halbleiterscheiben |
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