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DE102008016652B3 - Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles - Google Patents

Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles Download PDF

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DE102008016652B3
DE102008016652B3 DE200810016652 DE102008016652A DE102008016652B3 DE 102008016652 B3 DE102008016652 B3 DE 102008016652B3 DE 200810016652 DE200810016652 DE 200810016652 DE 102008016652 A DE102008016652 A DE 102008016652A DE 102008016652 B3 DE102008016652 B3 DE 102008016652B3
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laser
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Dominik Giel
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    • H01S5/14External cavity lasers
    • H01S5/141External cavity lasers using a wavelength selective device, e.g. a grating or etalon
    • HELECTRICITY
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Abstract

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles mit einem laseraktiven Medium und einem externen Resonator, wobei eine Differenzfrequenzstabilisierung durch ein Polarisationsgitter erzeugt wird.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles, mit der eine Differenzfrequenzstabilisierung ermöglicht ist. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine interferometrische Meßanordnung mit einer solchen Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles und die Verwendung der interferometrischen Meßanordnung zur Vermessung von Oberflächen.
  • Bei interferometrischen Meßverfahren wird die Welleneigenschaft von kohärentem Licht zur Vermessung von Oberflächen aus der Bestimmung unterschiedlicher Lichtlaufzeiten ausgenutzt. So lassen sich durch Interferenzeffekte z. B. Oberflächenverläufe mit einer Genauigkeit unterhalb der eingesetzten Wellenlänge bestimmen. Im Bereich der optischen Meßtechnik bedeutet dies eine Genauigkeit deutlich unterhalb eines Mikrometers bis hin in den Nanometerbereich.
  • Allerdings ist mit der erreichbaren hohen Genauigkeit interferometrischer Meßverfahren ein geringer Eineindeutigkeitsbereich verknüpft, da die Meßverfahren auf einer relativen Phasenlage zweier Lichtwellen (Meßstrahl und Referenzstrahl) beruhen und deren Eindeutigkeitsbereich damit auf die Wellenlänge des verwendeten Lichtes (Phasenlagen von +π bis –π) beschränkt ist.
  • Folglich erfordert eine Bestimmung absoluter Entfernungen zusätzlichen Aufwand. Ein möglicher Ansatz zur Bestimmung absoluter Entfernungen ist das sukzessive oder gleichzeitige Messen mit mehreren Wellenlängen, wobei zwei Messungen mit unterschiedlichen Wellenlängen I1 und I2 als eine Messung mit einer „synthetischen” Wellenlänge L L = (I1·I2)/(I1 – I2) (1)interpretiert werden können.
  • Eine Messung mit einer möglichst großen synthetischen Wellenlänge kann daher durch zwei spektral nahe beieinander liegende, schmalbandige Lichtquellen der Wellenlängen I1 und I2 erreicht werden, deren Differenz (I1 – I2) allerdings möglichst konstant bleiben soll, um eine zeitlich unveränderliche synthetische Wellenlänge L zu gewährleisten.
  • Hierfür könnten Laserlichtquellen verwendet werden, die gleichzeitig zwei Lasermoden unterschiedlicher Polarisation emittieren. So beschreibt die US 5,586,131 A für Anwendungen in der Telekommunikation einen Halbleiterlaser auf der Basis eines Wellenleiters mit integrierten diffraktiven Strukturen, der je nach Strom in einer von zwei möglichen Lasermoden unterschiedlicher Frequenz und Polarisation emittiert. Eine Veränderung der Differenzfrequenz zwischen den beiden möglichen Lasermoden besteht nicht.
  • Ebenfalls bekannt sind Laserlichtquellen, bei denen ein Beugungsgitter in der sogenannten Littrow-Konfiguration einen externen Resonator bildet (siehe z. B. die Druckschriften DE 689 12 656 T2 und US 2006/0233205 A1 ). Durch Drehung des Beugungsgitters kann die Resonanzfrequenz und somit die Wellenlänge des erzeugten Laserstrahls verändert werden. Eine Verstärkung von genau zwei Lasermoden mit unterschiedlicher Wellenlänge ist mit dieser Konfiguration aber nicht möglich.
  • Verfahren zur Herstellung von optischen Beugungsgittern, auch solchen mit räumlich variablen Gitterperioden, sind beispielsweise aus der Druckschrift EP 1 605 288 A1 bekannt.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles anzugeben, mit der zumindest zwei Wellenlängen I1 und I2 auf einfache Weise erzeugbar sind und bei der eine Stabilisierung der Differenzfrequenz (I1 – I2) ermöglicht ist.
  • Die vorliegende Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch eine Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahls mit einem laseraktiven Medium und einem externen Resonator, wobei der Resonator ein Polarisationsgitter (Beugungsgitter) aufweist, das aus einer Überlagerung von genau zwei Ortsfrequenzen besteht, zur Erzeugung zweier kollinearer, unterschiedlicher Laserstrahlen orthogonaler Polarisation.
  • Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles erfolgt die Differenzfrequenzstabilisierung durch das Polarisationsgitter (Beugungsgitter).
  • Vorzugsweise ist ein relativer Einfallswinkel der vom laseraktiven Medium abgegebenen Photonen auf das Polarisationsgitter (Beugungsgitter) einstellbar, wodurch eine einfache Einstellung der Differenzfrequenz in einem besonders weiten Bereich ermöglicht ist.
  • Vorzugsweise ist das Polarisationsgitter (Beugungsgitter) drehbar gelagert.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel weist der Resonator weiterhin eine Viertelwellenplatte auf, die im Strahlengang zwischen laseraktivem Medium und Beugungsgitter angeordnet ist. Durch die Viertelwellenplatte werden rückgekoppelte (vorliegend zirkulare) Wellen in horizontal bzw. vertikal polarisierte Strahlung im laseraktiven Medium transferiert. Hierbei ist zu bevorzugen, wenn das laseraktive Medium beide Polarisationen gleichermaßen verstärken kann, damit beide Moden nebeneinander emittiert werden. Eine solche Ausbildung ist insbesondere bei Gaslasern (z. B. Helium-Neonlasern), bei diodengepumpten Festkörperlasern (z. B. Nd:YAG) und vertikal emittierenden Halbleiterlasern (VCSEL) vorteilhaft.
  • Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel weist das Polarisationsgitter einen zweikomponentigen ortsabhängigen Brechungsindexvektor n →(x), auf der die Brechzahl des Gittermaterials für zwei orthogonal linear polarisierte elektromagnetische Wellen beschreibt und damit den Brechungsindexellipsoid, der sich durch folgende Formel beschreiben lässt: n →(x)= [A1sin(2πw1x + p1), A1cos(2πw1x + p1)] + [A2sin(2πw2x + p2), A2cos(2πw2x + p2)], (2)wobei w1 und w2 die Liniendichten der beiden Ortsfrequenzen sind, A1 und A2 die Amplituden der jeweiligen Ortsfrequenzen wiedergeben, p1 und p2 die Phasen der Ortsfrequenzen beschreiben und die Differenz (p1 – p2) die Lage des (willkürlich wählbaren) Nullpunktes angibt.
  • Mit der vorliegenden Vorrichtung Erzeugung eines Laserstrahles sind zwei Laserstrahlen mit unterschiedlicher Wellenlänge erzeugbar, so dass diese in besonders vorteilhafter Weise in einer interferometrischen Messanordnung einsetzbar sind, mit der Oberflächen durch Bestimmung einer relativen Phasenlage zwischen den erzeugten Laserstrahlen mittels Interferenz derselben vermessen werden können.
  • Die vorliegende Erfindung wird nachfolgend anhand bevorzugter Ausführungsbeispiele in Verbindung mit den zugehörigen Figuren näher beschrieben. In diesen zeigen:
  • 1 ein Ausführungsbeispiel der Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles mit laseraktivem Medium und externem Resonator aus Beugungsgitter, Viertelwellenplatte und Spiegel,
  • 2 ein Beugungsbild des vorliegenden Polarisationsgitters (Beugungsgitters) und
  • 3 ein Beugungsbild für eine Rückkopplung in das laseraktive Medium, bei dem der aus dem Lasermedium emittierte Strahl 4a und die jeweiligen minus ersten Beugungsordnungen 7 und 8 kolinear sind.
  • Der in 1 gezeigte externe Resonator weist ein Beugungsgitter (Polarisationsgitter) 5 und ein Viertelwellenplättchen 2b auf, welche auf einer Seite eines laseraktiven Mediums 1 angeordnet sind. Das Beugungsgitter 5 ist senkrecht zur Lichtausbreitungsrichtung drehbar angeordnet. Auf der dem Beugungsgitter 5 und Viertelwellenplättchen 2b gegenüber liegenden Seite des laseraktiven Mediums 1 ist zudem ein Spiegel 2a angeordnet.
  • Vorliegend wird die erfindungsgemäße Aufgabe also durch ein Lasermedium 1 mit einem externen Resonator 2 gelöst, wobei der externe Resonator 2 ausschließlich die gewünschten Frequenzen I1 und I2 in zwei orthogonalen Polarisationszuständen zurück in die Laserdiode koppelt und wobei der externe Resonator 2 in der sogenannten Littrow-Anordnung durch ein drehbares Polarisationsgitter 5 realisiert ist.
  • Mit dieser Anordnung von Beugungsgitter 5, Viertelwellenplättchen 2b und Spiegel 2a als externem Resonator vor einem laseraktiven Medium 1 sind daher zwei kollineare, unterschiedliche Laserstrahlen 3 orthogonaler Polarisation erzeugbar.
  • Im Unterschied zur bekannten Littrow-Anordnung, die auf einem einfachen Gitter bzw. einem „blazed grating” beruht und eine einzige Ortsfrequenz ins laseraktive Medium rückkoppelt, beinhaltet die hier beschriebene Anordnung ein solches Polarisationsgitter 5, das aus der Überlagerung von genau zwei Ortsfrequenzen besteht.
  • Diese beiden Ortsfrequenzen sind derart beschaffen, dass diese vorliegend entgegengesetzte Händigkeit besitzen, d. h. die von ihnen erzeugten Fernfeldbeugungsbilder liegen nahezu (aber nicht exakt) symmetrisch zur null-ten Beugungsordnung, was durch die spezifische Eigenschaft von Polarisationsgittern ohne weiteres realisierbar ist.
  • Bei diesem Ausführungsbeispiel lässt sich das vorliegende Polarisationsgitter im Detail beschreiben durch einen ortsabhängigen Vektor, der die Lage z. B. der langen Achse des Brechungsindexellipsoids des Polarisationsgitters angibt. Dieser lässt sich beschreiben durch einen 2-komponentigen Vektor n ⇀(x), der durch folgende Formel wiedergegeben werden kann: n →(x) = [A1sin(2πw1 x + p1), A1cos(2πw1x + p1)] + [A2sin(2πw2x + p2), A2cos(2πw2x + p2)],wobei w1 und w2 für die Liniendichte der beiden Ortsfrequenzen stehen und wobei A1 und A2 für die Amplituden der jeweiligen Ortsfrequenzen stehen.
  • Durch eine Wahl des Vorzeichens der Liniendichten w1 und w2 der beiden Ortsfrequenzen lässt sich die Händigkeit der beiden Beugungsordnungen einstellen, so entspricht es sign(w1) = sign(w2) gleicher Händigkeit.
  • Die in vorgenannter Formel angegebenen Phasen p1 und p2 der Ortsfrequenzen haben in diesem Zusammenhang keine besondere Bedeutung. Physikalisch betrachtet gibt eine Differenz der Phasen (p1–p2) die willkürlich wählbare Lage des Nullpunktes an.
  • Durch das Polarisationsgitter 5 der vorgenannten Art wird das in 2 gezeigte Beugungsbild erzeugt. Genauer wird durch das spezielle Polarisationsgitter 5 aus dem einfallenden Strahl 4a ein Strahl null-ter Beugungsordnung 4b, zwei Strahlen erster Beugungsordnung 6, 9 und zwei Strahlen minus erster Ordnung 7, 8 erzeugt.
  • Der Strahl null-ter Beugungsordnung 4b weist die gleiche Polarisation auf wie der einfallende Strahl 4a.
  • Der Strahl erster Beugungsordnung der tieferen Ortsfrequenz 6 weist eine definierte Händigkeit, im Folgenden linkshändige Polarisation LHP auf.
  • Darüber hinaus weist der Strahl erster Beugungsordnung der zweiten Ortsfrequenz 7 aufgrund der oben beschriebenen Beschaffenheit des Polarisationsgitters 5 eine Händigkeit entgegengesetzt zur Händigkeit des Strahles der ersten Ordnung der ersten tieferen Ortsfrequenz auf. Im Folgenden wird die Händigkeit der ersten Ordnung der zweiten höheren Ortsfrequenz 7 als rechtshändige Polarisation RHP bezeichnet.
  • Für eine Rückkopplung in das laseraktive Medium sind der aus dem Lasermedium emittierte Strahl 4a und die jeweiligen minus ersten Beugungsordnungen 7 und 8 kolinear. Dieser Fall ist in 3 dargestellt. Der Winkel a in den folgenden Gleichungen, der zwischen einfallendem Strahl 4a und der Flächennormalen 10 des Polarisationsgitters 5 vorliegt, ist durch Nummer 11 gekennzeichnet.
  • Die zur Rückkopplung verwendeten minus ersten Ordnungen 7, 8 der beiden Ortsfrequenzen besitzen dann entgegengesetzte Händigkeiten, so dass im laseraktiven Medium 1 zwei orthogonal polarisierte Lasermoden anschwingen können, deren Wellenlängen über die folgenden Bedingungen gegeben sind: I1 = sin(2a)/(2w1) (3a) I2 = sin(2a)/(2w2) (3b)definiert ist, wobei „a” einen relativen Auftreffwinkel der Photonen auf das Beugungsgitter (gemessen an der Normalen auf dem Beugungsgitter) angibt.
  • Für die synthetische Wellenlänge L ergibt sich aus vorgenannten Gleichungen (1) und (3a, b): L = sin(2a)/[2(w2 – w1)]
  • Somit lässt sich aufgrund einer Veränderung des relativen Auftreffwinkels auf das Gitter die synthetische Wellenlänge kontinuierlich variieren.
  • Damit das Lasermedium zwei Moden unterschiedlicher Polarisation synchron und mit gleicher Intensität emittiert, kann es von Vorteil sein, die Amplituden A1 und A2 des Polarisationsgitters 5 derart zu wählen, dass das Medium zu gleich starker Emission der Photonen stimuliert wird. Je nach dem individuellen Verstärkungsprofil des Mediums kann dies bedeuten, dass unterschiedliche Amplituden A1 und A2 zu erwählen sind.
  • Die Berechnung des Polarisationsgitters kann analytisch nach Gleichung (2) erfolgen. Alternativ dazu kann das Polarisationsgitter auch mit den bekannten Methoden zur Berechnung von Computer generierten Hologrammen bestimmt werden, wie z. B. iterative Fourier-Transformationsalgorithmus oder Simulated annealing.
  • Die Herstellung der Polarisationsgitter erfolgt nach den bekannten Methoden der Polarisationsholografie, wie z. B. Generierung von Sub-Wellenlängen-Gittern oder Verwendung doppelbrechender Materialien (z. B. Kunststoffe, Kristalle). Als Herstellungsmethoden sind die bekannten Methoden der Halbleiterfertigung, wie z. B. Masken-, Elektronenstrahl- oder Interferenzlithographie, oder Methoden der Materialbearbeitung denkbar, wie zum Beispiel Laserablation, direktes optisches Schreiben in photoaddressierbare Polymere oder Ultrapräzisionsbearbeitung.
  • Wenn die kleinsten noch aufgelösten Strukturen des Polarisationsgitters die Größe d haben und das Polarisationsgitter eine Kantenlänge von X hat, kann es als Beugungsgitter aufgefasst werden, das sich aus N×N Pixeln zusammensetzt, mit: N = X/d
  • Die Ortsfrequenzen w1 und w2, die zur größtmöglichen virtuellen Wellenlänge führen, sind dann gegeben durch: w1 = 2N/[(N + 4)d] w2 = 2/d
  • Die resultierende größtmögliche synthetische Wellenlänge beträgt dann für hinreichend große N: L = Xsin(2a)/16
  • Für typische Abmessungen z. B. X = 10 mm und a = 45° können damit synthetische Wellenlängen bis zu 625 μm generiert werden.
  • Es kann bei bestimmten Anwendungen auch von Vorteil sein, wenn die Wellenlängen I1 und I2 mit unterschiedlicher Intensität emittiert werden – auch dies kann durch eine entsprechende Wahl von A1 und A2 erzielt werden.
  • Durch eine Wahl des Polarisationsgitters 5 als Überlagerung von zwei Ortsfrequenzen mit gleicher Händigkeit wiederum lässt sich bewerkstelligen, dass zwei Moden mit gleicher Polarität emittiert werden, was bei bestimmten Anwendungen ebenfalls von Vorteil sein kann.
  • Der Vorteil der vorliegenden Anordnung liegt im besonders großen Durchstimmbereich der synthetischen Wellenlänge L. Insbesondere ist der Durchstimmbereich nicht auf einen freien Spektralbereich des eingesetzten externen Laserresonators begrenzt. Insbesondere bei Verwendung des drehbaren Polarisationsgitters kann eine Durchstimmbarkeit von I1 und I2 über einen breiten Bereich auf einfache Art erreicht werden.

Claims (7)

  1. Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles mit einem laseraktiven Medium (1) und einem externen Resonator (2), wobei der Resonator (2) ein Polarisationsgitter (5) aufweist, das aus einer Überlagerung von genau zwei Ortsfrequenzen besteht, zur Erzeugung zweier kollinearer Laserausgangsstrahlen (3) unterschiedlicher Wellenlänge und orthogonaler Polarisation.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei ein relativer Einfallswinkel (a) der vom laseraktiven Medium abgegebenen Photonen auf das Polarisationsgitter (5) einstellbar ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei das Polarisationsgitter (5) drehbar gelagert ist.
  4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Resonator (2) weiterhin ein Viertelwellenplättchen (2b) aufweist, das im Strahlengang zwischen laseraktivem Medium (1) und Beugungsgitter (5) angeordnet ist.
  5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei das Polarisationsgitter (5) einen ortsabhängigen Brechungsindexvektor n →(x) besitzt, er sich durch folgende Formel beschreiben lässt: n →(x) = [A1sin(2πw1x + p1), A1cos(2πw1x + p1)] + [A2sin(2πw2x + p2), A2cos(2πw2x + p2)],wobei w1 und w2 die Liniendichten der beiden Ortsfrequenzen sind, A1 und A2 die Amplituden der jeweiligen Ortsfrequenzen wiedergeben und die Differenz der Phasen (p1–p2) die Lage des Nullpunktes angibt.
  6. Interferometrische Messanordnung mit einer Vorrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahles nach einem der Ansprüche 1 bis 5, mit der zwei Laserstrahlen mit unterschiedlicher Wellenlänge (I1, I2) erzeugbar sind.
  7. Verwendung der interferometrischen Messanordnung nach Anspruch 6 zur Vermessung von Oberflächen durch Bestimmung einer relativen Phasenlage zwischen den erzeugten Laserstrahlen mittels Interferenz dieser Laserstrahlen.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68912656T2 (de) * 1988-06-17 1994-08-18 Hewlett Packard Co Durch Beugungsgitter abgestimmter Laser.
EP1605288A1 (de) * 2000-01-27 2005-12-14 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Optisches Element
US20060233205A1 (en) * 2005-04-13 2006-10-19 Farmiga Nestor O Mode-matching system for tunable external cavity laser

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE68912656T2 (de) * 1988-06-17 1994-08-18 Hewlett Packard Co Durch Beugungsgitter abgestimmter Laser.
EP1605288A1 (de) * 2000-01-27 2005-12-14 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Optisches Element
US20060233205A1 (en) * 2005-04-13 2006-10-19 Farmiga Nestor O Mode-matching system for tunable external cavity laser

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