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Die
vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Positionsbestimmung
mindestens einer Struktur auf einem Substrat. Die Struktur zeichnet sich
durch mehrere Kanten aus. Die Struktur wird mit einem Messobjektiv
auf ein Detektorelement einer Kamera abgebildet.
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Ein
Koordinaten-Messgerät ist hinlänglich aus dem
Stand der Technik bekannt. Beispielsweise wird dabei auf
das
Vortragsmanuskript „Pattern Placement Metrology for Mask
making" von Frau Dr. Carola Bläsing verwiesen.
Der Vortrag wurde gehalten anlässlich der Tagung Semicon,
Education Program in Genf am 31. März. 1998, in
dem die Koordinaten-Messmaschine ausführlich beschrieben
worden ist. Der Aufbau einer Koordinaten-Messmaschine, wie er z.
B. aus dem Stand der Technik bekannt ist, wird in der nachfolgenden
Beschreibung zu der
1 näher erläutert.
Ein Verfahren und ein Messgerät zur Positionsbestimmung
von Strukturen auf einem Substrat ist aus der Deutschen Offenlegungsschrift
DE 10047211 A1 bekannt.
Zu Einzelheiten der genannten Positionsbestimmung sei daher ausdrücklich
auf diese Schrift verwiesen.
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Ferner
ist eine Koordinaten-Messmaschine aus einer Vielzahl von Patentanmeldungen
bekannt, wie z. B. aus der
DE
19858428 , aus der
DE 10106699 oder
aus der
DE 102004023739 .
In allen hier genannten Dokumenten des Standes der Technik wird
eine Koordinaten-Messmaschine offenbart, mit der Strukturen auf
einem Substrat vermessen werden können. Dabei ist das Substrat
auf einem in X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung verfahrbaren
Messtisch gelegt. Die Koordinaten-Messmaschine ist dabei derart
ausgestaltet, dass die Positionen der Strukturen, bzw. der Kanten der
Strukturen mittels eines Objektivs bestimmt werden. Zur Bestimmung
der Position der Strukturen, bzw. deren Kanten ist es erforderlich,
dass die Position des Messtisches mittels mindestens eines Interferometers
bestimmt wird. Schließlich wird die Position der Kante
in Bezug auf ein Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine
ermittelt.
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Aufgabe
der gegenwärtigen Erfindung ist, ein Verfahren zu schaffen,
mit dem unabhängig vom Fokuszustand des Messobjektivs der
Koordinaten-Messmaschine die Lage der Kante mindestens einer Struktur
auf dem Substrat bestimmt werden kann.
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Die
obige Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren, das die
Merkmale des Anspruchs 1 umfasst.
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Das
Verfahren zur Positionsbestimmung mindestens einer Struktur auf
einem Substrat umfasst mehrere Schritte. Zunächst werden
mehrere Messintensitätsprofile von mindestens einem Teil
der Struktur aufgenommen, wobei sich die mehreren Messintensitätsprofile
hinsichtlich eines jeweiligen relativen Z-Abstand des Messobjektivs
zu der Struktur unterscheiden. Mehrere der aufgenommenen Messintensitätsprofile
werden mit den Modell-Intensitätsprofilen verglichen, wobei
dasjenige Modell-Intensitätsprofil mit der besten Übereinstimmung
mit dem gerade zu untersuchenden Messintensitätsprofil ausgewählt
wird; wobei daraus die Position des mindestens einen Teils der jeweiligen
Struktur bestimmt wird. Schließlich werden die Werte der
Position der mindestens einen Kante der Struktur in Abhängigkeit von
der relativen Änderung des Abstandes des Messobjektivs
aufgetragen. Aus der Auftragung wird ein einziger Wert für
die Position des Teils der Struktur bestimmt.
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Die
Erfindung ist besonders vorteilhaft bei phasenschiebenden Masken
anzuwenden, bei denen sich während eines Fokusdurchlaufs
die optische Abbildung des auszuwertenden Messprofils stark ändert.
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Der
mindestens eine Teil der Struktur kann mindestens eine der Kanten
der Struktur sein. Ebenso ist es denkbar, dass der Ausdruck „mindestens
ein Teil der Struktur” auch als die gesamte Struktur angesehen
werden kann.
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Die
einzelnen Modell-Intensitätsprofile werden durch die Abbildung
einer Modell-Kante aus dem Bild der Kamera errechnet. Dabei wird
zusätzlich der relative Abstand des Messobjektivs zu der
Struktur oder der Oberfläche des Substrats in Z-Koordinatenrichtung
variiert.
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Ebenso
ist es möglich, dass die einzelnen Modell-Intensitätsprofile
durch eine Modellrechnung erzeugt werden. Dabei wird für
jedes errechnete Modell-Intensitätsprofil zusätzlich
ein anderer relativer Abstand des Messobjektivs zum Substrat oder
der Struktur in Z-Koordinatenrichtung in die Modellrechnung einbezogen.
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Alle
der aufgenommenen Messintensitätsprofile werden mit den
Modell-Intensitätsprofilen verglichen. Ebenso ist es möglich,
dass an jedes in einem anderen relativen Abstand aufgenommenen Messintensitätsprofil
eine Modellfunktion angepasst, bzw. angefittet wird.
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Das
jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schritten
mathematisch an relativ zu einem jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben, wobei das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils angibt. Es ist für
einen Fachmann selbstverständlich, dass man neben der Interpolation
der Korrelationsfunktion für eine Subpixelgenauigkeit auch
die Option der Interpolation von Modell-Intensitätsprofil
oder Messintensitätsprofil hat und damit eine Korrelationsfunktion
in beliebig kleinen Schritten erhalten kann, Dies gilt selbstverständlich
für alle nachstehend beschriebenen Verfahren. Ein diskreter
Korrelationswert Kj(z) wird für
Jede eingenommene, fiktive Position xj(z)
bestimmt, wobei mehrere Korrelationsfunktionen K(x, z) in Abhängigkeit
von der z-Position aus den diskreten Kj(z)
bestimmt werden (wobei Kj(z) ≅ K(x,
z) an den Pixeln j ist). Mehrere lokale Maxima der Korrelationsfunktion K(x,
z) werden bestimmt. Es werden dann diejenigen lokalen Maxima der
Korrelationswerte Kj(z) aussortiert, die
von Intensitätsverläufen im Rauschen verursacht
wurden. Die gesuchte Kantenposition p(z) wird aus den verbleibenden
lokalen Maxima xm(z), die von der zu vermessenden
Kante verursacht wurden, mit p(z) = xm(z)
+ xk(z) bestimmt.
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Das
jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schritten
mathematisch an relativ zu einem jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben, wobei das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils angibt. Ein diskreter Korrelationswert
Kj(z) wird für jede eingenommene,
fiktive Position xj(z) bestimmt, wobei mehrere
Korrelationsfunktionen K(x, z) In Abhängigkeit von der
Z-Position aus den diskreten Kj(z) bestimmt
werden (wobei Kj(z) ≅ K(x, z) an
den Pixeln j ist). Für Jede der Korrelationsfunktionen
K(x, z) werden jeweils eine Ableitung ΔK(x, z) der Korrelationsfunktionen
und die Nullstellen der jeweiligen Ableitung ΔK(x, z) bestimmt.
Die lokalen Maxima wurden von Intensitätsverläufen
im Rauschen verursacht. Die gesuchte Kantenposition p(z) wird aus
den verbleibenden lokalen Maxima xm(z),
die von der zu vermessenden Kante verursacht wurden, mit p(z) =
xm(z) + xk(z) bestimmt.
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Das
jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schritten
mathematisch an relativ zu dem Jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben. Dabei gibt das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils an. Ebenso wird ein diskreter Korrelationswert
Kj(z) für Jede eingenommene, fiktive
Position xj(z) bestimmt, wobei für
die verschiedenen Z-Positionen jeweils ein Gradient ΔKj(z) = Kj(z) – Kj+l(z) für jedes Kj(z)
gebildet wird. Ein Geradenfit wird In der Umgebung aller möglichen
Nullstellen gebildet, wobei der Geradenfit jeweils mit einer Gruppe von ΔKj(z) erfolgt, von denen mindestens Jeweils
ein Wert ΔKj(z) größer
als Null und einer kleiner als Null ist. Anschließend werden
die Nullstellen der mehreren Geradenfits bestimmt und diejenigen
Nullstellen, die von Intensitätsverläufen im Rauschen
verursacht wurden, werden aussortiert. Die gesuchte Kantenposition
p(z) wird aus den verbleibenden Nullstellen xm(z),
die von der zu vermessenden Kante verursacht wurden, mit p(z) =
xm(z) + xk(z), bestimmt.
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Das
jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schritten
mathematisch an relativ zu einem jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben, wobei das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils angibt. Es wird ein diskreter Korrelationswert
Kj(z) für Jede eingenommene, fiktive
Position xj(z) bestimmt, wobei mehrere Korrelationsfunktionen
K(x, z) in Abhängigkeit von der Z-Position aus den diskreten
Kj(z) bestimmt werden (wobei Kj(z) ≅ K(x,
z) an den Pixeln j ist). Für jede der Korrelationsfunktionen
K(x, z) werden Jeweils eine Ableitung ΔK(x, z) der Korrelationsfunktionen
und die Nullstellen der jeweiligen Ableitung ΔK(x, z) bestimmt;
wobei diejenigen lokalen Maxima aussortiert werden, die von Intensitätsverläufen
im Rauschen verursacht wurden. Die gesuchte Kantenposition p(z) wird
aus den verbleibenden lokalen Maxima xm(z), die
von der zu vermessenden Kante verursacht wurden, mit p(z) = xm(z) + xk(z) bestimmt.
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Das
Jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schritten
mathematisch an relativ zu dem jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben, wobei das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils angibt. Ein oder mehrere
lokale Parabelfits werden in der Umgebung derjenigen diskreten Korrelationswerte
Kj(z), deren benachbarte Korrelationswerte
Kj-l(z), und Kj-l(z)
kleinere Werte aufweisen, durchgeführt. Es werden die jeweiligen
lokalen Maxima der Jeweiligen lokalen Parabelfits bestimmt; wobei
diejenigen lokalen Maxima der Korrelationswerte Kj(z)
aussortiert werden, die von Intensitätsverläufen
im Rauschen verursacht wurden. Die gesuchte Kantenposition p(z)
wird aus den verbleibenden lokalen Maxima xm(z),
die von der zu vermessenden Kante verursacht wurden, mit p(z) =
xm(z) + xk(z), bestimmt.
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Das
jeweilige Modell-Intensitätsprofil wird in Pixel-Schriften
mathematisch an relativ zu dem jeweiligen Bezugspunkt gelegenen,
fiktiven Positionen xj(z) (j = Pixelindex)
verschoben, wobei das Pixel j den fiktiven Ort des ersten Intensitätswerts
des Modell-Intensitätsprofils angibt. Ein oder mehrere
lokale Parabelfits werden in der Umgebung derjenigen diskreten Korrelationswerte
Kj(z) durchgeführt, deren benachbarte
Korrelationswerte Kj-l(z), und Kj-l(z) kleinere Werte aufweisen. Es werden
die jeweiligen lokalen Maxima der jeweiligen lokalen Parabelfits
bestimmt, wobei diejenigen lokalen Maxima der Korrelationswerte
Kj(z) aussortiert werden, die von Intensitätsverläufen
im Rauschen verursacht wurden. Die gesuchte Kantenposition p(z)
wird aus den verbleibenden lokalen Maxima xm(z)
bestimmt, die von der zu vermessenden Kante verursacht wurden, wobei p(z)
= xm(z) + xk(z)
ist.
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Anhand
der verschiedenen Modell-Intensitätsprofile in Z-Richtung
und der verschiedenen Messintensitätsprofile In Z-Richtung
werden die ermittelten Positionen der Kanten der Struktur als Funktion des
relativen Abstandes des Messobjektivs graphisch dargestellt.
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Die
Position der Kante einer Struktur wird durch korrelationsgradabhängige
Wichtung eines aufgenommenen Messintensitätsprofils mit
mehreren Modellintensitätsprofilen ermittelt. Dies wird
für alle an unterschiedlichen relativen Abständen
aufgenommenen Messintensitätsprofile durchgeführt.
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Im
Folgenden sollen Ausführungsbeispiele die Erfindung und
ihre Vorteile anhand ihrer beigefügten Figuren näher
erläutern.
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1 zeigt
schematisch eine Koordinaten-Messmaschine, wie sie für
die Bestimmung der Lage der Strukturen auf einem Substrat seit längerem
verwendet wird.
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2 zeigt
die Zuordnung eines Messfensters, welches bei der Kamera der Koordinaten-Messmaschine
zugeordnet ist, Indem die Breite der Struktur vermessen wird.
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3 zeigt
schematisch die resultierenden Intensitätsprofile, die
entstehen, wenn eine Struktur an unterschiedlichen relativen Abständen
des Messobjektivs vermessen wird.
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4 zeigt
schematisch die Zuordnung von Messintensitätsprofilen zu
den jeweiligen Modell-Intensitätsprofilen, wobei hier ebenfalls
eine Wichtung vorgenommen werden kann.
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5 zeigt
schematisch die graphische Darstellung der Position der Kante in
Abhängigkeit von dem relativen Abstand des Messobjektivs.
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Ein
Koordinaten-Messgerät der in 1 dargestellten
Art ist bereits ausführlich im Stand der Technik beschrieben
und wird zur Durchführung des erfindungsgemäßen
Verfahrens verwendet. Das Koordinaten-Messgerät 1 umfasst
einen In X-Koordinatenrichtung und in Y-Koordinatenrichtung beweglichen
Messtisch 20. Der Messtisch 20 trägt
ein Substrat, bzw. eine Maske für die Halbleiterherstellung.
Auf einer Oberfläche des Substrats 2 sind mehrere
Strukturen 3 aufgebracht. Der Messtisch selbst ist auf
Luftlagern 21 gestützt, die ihrerseits auf einem
Block 25 abgestützt sind. Die hier beschriebenen
Luftlager stellen eine mögliche Ausführungsform
dar uns sollen nicht als Beschränkung der Erfindung aufgefasst werden.
Der Block 25 kann aus einem Granitblock gebildet sein.
Für einen Fachmann ist es selbstverständlich,
dass der Block 25 aus jedem Material bestehen kann, das
für die Ausbildung einer Ebene 25a geeignet ist,
in der sich der Messtisch 20 bewegt bzw. verfahren wird.
Für die Beleuchtung des Substrats 2 sind mindestens
eine Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 und/oder eine Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 vorgesehen.
In der hier dargestellten Ausführungsform wird das Licht
der Durchlichtbeleuchtungseinrichtung 6 mittels eines Umlenkspiegels 7 in die
Beleuchtungsachse 4 für das Durchlicht eingekoppelt.
Das Licht der Beleuchtungseinrichtung 6 gelangt über
einen Kondensor 8 auf das Sub strat 2. Das Licht
der Auflichtbeleuchtungseinrichtung 14 gelangt durch das
Messobjektiv 9 auf das Substrat 2. Das von dem
Substrat 2 ausgehende Licht wird durch das Messobjektiv 9 gesammelt
und von einem halbdurchlässigen Spiegel 12 aus
der optischen Achse 5 ausgekoppelt. Dieses Messlicht gelangt
auf eine Kamera 10, die mit einem Detektor 11 vorsehen
ist. Dem Detektor 11 ist eine Recheneinheit 16 zugeordnet,
mit der aus den aufgenommenen Daten digitale Bilder erzeugt werden
können.
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Die
Position des Messtisches 20 wird mittels eines Laser-Interferometers 24 gemessen
und bestimmt. Das Laser-Interferometer 24 sendet hierzu einen
Messlichtstrahl 23 aus. Ebenso ist das Messmikroskop 9 mit
einer Verschiebeeinrichtung in Z-Koordinatenrichtung verbunden,
damit das Messobjektiv 9 auf die Oberfläche 2a des
Substrats 2 fokussiert werden kann. Die Position des Messobjektivs 9 kann z.
B. mit einem Glasmaßstab (nicht dargestellt) gemessen werden.
Der Block 25 ist ferner auf schwingungsgedämpft
gelagerten Füßen 26 aufgestellt. Durch
diese Schwingungsdämpfung sollen alle möglichen
Gebäudeschwingungen und Eigenschwingungen des Koordinaten-Messgerätes
weitestgehend reduziert, bzw. eliminiert werden. Obwohl hier die
Verschiebung des Messobjektivs in Z-Koordinatenrichtung beschrieben
worden ist, ist es für einem Fachmann selbstverständlich,
dass eine Fokussierung auch durch eine Bewegung des Messtisches
in Z-Koordinatenrichtung erreicht werden kann. Es kommt lediglich
auf eine Änderung des relativen Abstandes des Messobjektivs
zu der Oberfläche 2a des Substrats an.
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2 zeigt
die schematische Zuordnung eines Messfenster 30 zu einer
zu vermessenden Struktur 3. Die zu vermessende Struktur 3 wird
dabei mit dem Messtisch in die optische Achse 5 des Messobjektivs 9 verfahren,
Im Detektor 11 der Kamera 10 ist das Messfenster 30 zugeordnet.
Wie in 2 dargestellt, liegt das Messfenster 30 quer über
der zu vermessenden Struktur 3. Somit kommen im Messfenster 30 eine
erste Kante 3a und eine zweite Kante 3b der Struktur 3 zu
liegen. Es ist für einen Fachmann selbstverständlich,
dass im Messfenster 30 auch nur eine Kante der Struktur 3 zu
liegen kommen muss. Des erfindungsgemäße Verfahren
funktioniert auch, wenn nur eine der Kanten der Struktur 3 im
Messfenster liegt.
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3 zeigt
die schematische Darstellung der Aufnahme des Messintensitätsprofils
mit dem in 2 dargestellten Messfenster 30. 3 zeigt ebenfalls
die zu vermessende Struktur 3, welche auf dem Substrat 2 aufgebracht
ist. In 3 ist das Messfenster 30,
welches quer über der Struktur 3 angeordnet ist,
durch eine gestrichelt gepunktete Linie gekennzeichnet. Der Detektor 11 der
Kamera 10 registriert eine In tensität. Bei der
In 3 gezeigten Darstellung wird das Messobjektiv 9 der
Koordinaten-Messmaschine 1 in Z-Koordinatenrichtung verfahren.
An mehreren Positionen bzw. relativen Abständen des Messobjektivs 9 in
Z-Koordinatenrichtung werden die unterschiedlichen Messintensitätsprofile
Z1, Z2 bis ZN aufgenommen, Das Messobjektiv 9 der
Koordinaten-Messmaschine 1 wird dabei in einem Bereich
in Z-Koordinatenrichtung derart verfahren, dass der Bereich zumindest
die Position des besten Fokus ebenfalls mit umfasst.
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4 zeigt
die Zuordnung von Messintensitätsprofilen Z1,
Z2, ..., ZN zu Modell-Intensitätsprofilen M1, M2, ..., MJ. Wie In 4 dargestellt
ist, können mehrere unterschiedliche Messintensitätsprofile
einem Modell-Intensitätsprofil zugeordnet werden. In 4 ist
dies z. B. mit dem Messintensitätsprofil Z1, Z2 und ZN der Fall,
welchem mehren Modell-Intensitätsprofile M1,
M2, ..., MJ zugeordnet
werden können. In der hier gezeigten schematischen Darstellung
wird das Messintensitätsprofil Z1 dem
Modell-Intensitätsprofil M1 und
M2 zugeordnet. Ferner ist das Messintensitätsprofil
Z2 dem Modell-Intensitätsprofil
M2 zugeordnet. Eine weitere Zuordnung ist
in 4 dargestellt, dabei ist das Messintensitätsprofil
ZN dem Modell-Intensitätsprofil
M2 und MN zugeordnet.
Werden mehrere Messintensitätsprofile einem Modell-Intensitätsprofil
zugeordnet, kann selbstverständlich eine Wichtung zwischen
den einzelnen Modell-Intensitätsprofilen durchgeführt
werden. Die Wichtung gibt das Maß der Übereinstimmung
zwischen dem Messintensitätsprofil und dem jeweiligen Modell-Intensitätsprofil
an. In der in 4 gezeigten Darstellung ist
die Wichtung durch unterschiedlich dicke Pfeile 50 dargestellt.
Aus der Übereinstimmung ergibt sich dann die Lage der jeweiligen
Kanten, bzw. der jeweiligen Kante der Struktur. Das Modell-Intensitätsprofil
kann aus dem Modell berechnet, wobei man die Position der Kanten
aus den Designdaten der Maske kennt. Ebenso werden bei dieser Modellberechnung
unterschiedliche relative Abstände des Messobjektivs 9 in Bezug
auf die zu vermessende Struktur In die Modellrechnung miteinbezogen.
Eine andere Möglichkeit ist, dass man die Modell-Intensitätsprofile
anhand einer Struktur vermisst und die unterschiedlichen Modell-Intensitätsprofile
in Abhängigkeit von der relativen Z-Position des Messobjektivs
abspeichert. Diese Modell-Intensitätsprofile können
dann mit den gemessenen Messintensitätsprofilen verglichen
werden. Aus dem Vergleich kann die Übereinstimmung zwischen
Modell-Intensitätsprofil und Messintensitätsprofil
ermittelt werden. Für die Ermittlung der Übereinstimmung
zwischen Modell-Intensitätsprofil und Messintensitätsprofil
gibt es mehrere mathematische Modelle, welche Im einleitenden Teil
der Beschreibung erwähnt worden sind.
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5 zeigt
schematisch die graphische Darstellung der Positionen einer Kante
der Struktur in X-Richtung in Abhängigkeit von der Z-Position
des Messobjektivs. Die Z-Position des Messobjektivs ist auf der
Abszisse 40 aufgetragen. Auf der Ordinate 41 ist
die Position der Kante in X-Richtung aufgetragen. Anhand des Vergleichs
von mindestens einem Messintensitätsprofil mit mindestens
einem Modell-Intensitätsprofil erhält man die
Position der Kante in X-Richtung in Abhängigkeit von der
Jeweiligen Position des Messobjektivs 9 in Z-Koordinatenrichtung. Die
Streuung der Messwerte der Position der Kante In X-Koordinatenrichtung
kann man durch eine Gerade 42 annähern. Die Gerade 42 ist
im Wesentlichen parallel zur Abszisse 40. Daraus ergibt
sich, dass man unabhängig von der relativen Position des Messobjektivs
in Z-Koordinatenrichtung, sprich dem Fokuszustand des Messobjektivs,
Immer die korrekte Position der Kante in X-Koordinatenrichtung bestimmen
kann.
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Die
Erfindung wurde unter Berücksichtigung spezieller Ausführungsformen
beschrieben. Es ist jedoch denkbar, dass Abwandlungen und Änderungen durchgeführt
werden können, ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden
Ansprüche zu verlassen.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Diese Liste
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des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen
Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt
keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
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Zitierte Patentliteratur
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- - DE 10047211
A1 [0002]
- - DE 19858428 [0003]
- - DE 10106699 [0003]
- - DE 102004023739 [0003]
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Zitierte Nicht-Patentliteratur
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- - das Vortragsmanuskript „Pattern
Placement Metrology for Mask making” von Frau Dr. Carola
Bläsing verwiesen. Der Vortrag wurde gehalten anlässlich
der Tagung Semicon, Education Program in Genf am 31. März.
1998 [0002]