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DE102008001291B3 - Hochpräzises Messverfahren zur Bestimmung von Materialspannungen - Google Patents

Hochpräzises Messverfahren zur Bestimmung von Materialspannungen Download PDF

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DE102008001291B3
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Clemens Dr. Kunisch
Ralf Dr. Jedamzik
Frank Elsmann
Joachim Hengst
Michael Selle
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ILIS GMBH, DE
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Schott AG
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Abstract

Verfahren zur Bestimmung von Materialspannungen in hochhomogenen optischen Materialien mittels Messung der Spannungsdoppelbrechung, mit den Schritten Positionieren eines zu messendes Objekt bestehend aus dem hochhomogenen optischen Material in einer Messvorrichtung, Erzeugen von linear polarisiertem Licht mittels einer Lichtquelle, Führen des linear polarisierten Lichts durch das Objekt und Bestimmung einer durch eine Materialspannung in dem Objekt verursachten Abweichung der Polarisation (Polarisationswinkel) des aus dem Objekt austretenden Lichtes gegenüber dem in das Objekt eingestrahlten Licht. Das Objekt wird vor der Messung thermisch an die Umgebungstemperatur der Messvorrichtung angepasst, bis der Temperaturunterschied zwischen dem Objekt und der Messumgebung höchstens ± 0,1° K beträgt.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Bestimmung von Materialspannungen in hochhomogenen optischen Materialien mittels Messung der Spannungsdoppelbrechung mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Anspruch 1.
  • Derartige Verfahren, mit denen man beispielsweise Spannungen in Glas misst und bei denen man sich den Einfluss der Spannungsdoppelbrechung zunutze macht, sind bekannt. Vorrichtungen, mit denen dieses Verfahren ausgeführt werden kann, werden beispielsweise von der Firma Ilis GmbH unter der Bezeichnung „strainmatic®" vertrieben. Darin kommt ein Polarimeter zur Messung der Spannungsdoppelbrechung nach Sénarmont zum Einsatz. Linear polarisiertes Licht wird durch ein zu messendes Objekt (Probe) geleitet und in diesem beim Durchlaufen eines Messfeldes durch wechselnde innere Spannung elliptisch polarisiert. Das aus der Probe austretende elliptisch polarisierte Licht wird mittels λ/4-Platte wieder in linear polarisiertes Licht umgewandelt, welches dann regelmäßig eine andere Polarisationsrichtung aufweist als das eingestrahlte linear polarisierte Licht. Der Differenz- oder Polarisationswinkel α wird dann mithilfe eines Analysators bestimmt und aus diesem der optische Gangunterschied R, der durch die Spannung verursachten Teilwellen nach der Gleichung R = α·λ/180° berechnet. λ bezeichnet hierin die Wellenlänge des Lichtes. Der so ermittelte optische Gangunterschied R wird auf die Dicke des Objekts in cm normiert und in der Einheit nm/cm als Maß für die Spannungsdoppelbrechung angegeben.
  • Während sich dieses System zur Prüfung einfacher Glasprodukte wie Flaschen, Gläser, Ampullen, Flachgläser oder optischer Elemente ohne höhere Ansprüche eignet und insbesondere im Hinblick auf die Optimierung des Herstellungsprozesses bewährt hat, stößt es bei den eingangs genannten hochhomogenen optischen Materialien an seine Grenzen. Solche Materialien kommen beispielsweise in der Astronomie, Mikroskopie, Mikrolithographie, Laseroptik und der Lithographie für die Herstellung von Flachbildschirmen zum Einsatz und erfordern einen erheblichen Produktionsaufwand mit langen Herstellungszeiten, insbesondere Temperzeiten, um jegliche Form von Spannungen im Glas zu vermeiden.
  • Die JP 05-306 133 A beschreibt beispielsweise ein Temperverfahren, bei dem während der Temperzeit und der nachfolgenden Abkühlzeit die innere Objektspannung eines Glaskörpers optisch überwacht wird. Eine gemessene Phasendifferenz zwischen einem Referenzsignal und einem den Körper durchlaufenden Signal wird als Regelgröße zur Regelung der Temperatur dergestalt verwendet, dass sich die gemessene Spannungsdoppelbrechung innerhalb eines vorbestimmten Bereiches einstellt.
  • Im gleichen Maße, wie sich der Produktionsaufwand erhöht, wachsen auch die Anforderungen an die Qualitätsprüfung der Glasobjekte. So ist es beispielsweise erforderlich, die Nachweisgrenze und Messgenauigkeit für die Spannungsdoppelbrechung weiter herabzusetzen. Dies ist mit dem zuvor beschriebenen Verfahren ohne weitere Maßnahmen nicht möglich.
  • Des eingangs beschriebenen Messprinzips zur Bestimmung der Spannungsdoppelbrechung bedient sich auch das in der Offenlegungsschrift DE 10 227 345 A1 beschriebene Verfahren, wonach das optische Material mit einem Laserstrahl punktweise auf einem vorbestimmten Raster abgetastet wird und ebenfalls die Polarisation des austretenden Lichts bestimmt wird. Hiernach lässt sich die Spannungsdoppelbrechung immerhin bis zu einem Wert von 0,3 nm/cm nachweisen.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der im Oberbegriff von Anspruch 1 beschriebenen Art bereitzustellen, welches die Bestimmung von Spannungen in hochhomogenen optischen Materialien mit einer verbesserten Auflösung ermöglicht.
  • Die Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen von Patentanspruch 1 gelöst.
  • Erfindungsgemäß wird das zu messende Objekt vor der Messung thermisch an die Umgebungstemperatur der Messvorrichtung angepasst, bis der Temperaturunterschied zwischen dem Objekt und der Messumgebung höchstens ±0,1 K beträgt.
  • Die Erfinder haben festgestellt, dass es neben der materialimmanenten intrinsischen Spannungsdoppelbrechung einen von Temperaturschwankungen abhängigen Beitrag zur lokalen Spannungsdoppelbrechung gibt. Beide Beiträge sind in der herkömmlichen Messung der Spannungsdoppelbrechung überlagert. Es können daher keine eindeutigen Rückschlüsse auf die materialimmanente Spannungsdoppelbrechung gezogen werden, wenn der Temperatureinfluss überwiegt. Daher ist es notwendig, eine Temperaturstabilisation in dem zu messenden Objekt zu erzielen. Durch die erfindungsgemäße Maßnahme ist diese insoweit sichergestellt, dass die temperaturbedingten Schwankungen der gemessenen Spannungsdoppelbrechung nicht größer sind, als das nachzuweisende Spannungsfeld und ±0,2 nm/cm, bevorzugt ±0,1 nm/cm nach Möglichkeit nicht übersteigen.
  • Bevorzugt erfolgt die Messung der Spannungsdoppelbrechung unter Einsatz eines ortsauflösenden Detektors flächig. Dies erspart Messzeit, indem nicht, wie aus dem Stand der Technik bekannt, das Objekt mithilfe eines Lasers Punkt für Punkt abgetastet werden muss, sondern das Objekt über ein Gebiet vorbestimmter Größe simultan vermessen wird.
  • Die Messung der Spannungsdoppelbrechung erfolgt besonders bevorzugt unter Einsatz einer zwischen das Objekt und den Detektor eingeschalteten telezentrischen Optik. Die Variation der Optik erlaubt eine Anpassung der Messapparatur, um entweder eine gewünschte Ortsauflösung zu erreichen oder eine bestimmten Fläche simultan messen zu können.
  • Die Messung der Spannungsdoppelbrechung erfolgt bevorzugt mit einer Ortsauflösung von ≤ 1 mm.
  • Des Weiteren hat es sich zur Vermeidung von Temperaturschwankungen als vorteilhaft herausgestellt, die Lichtquelle mittels eines thermisch isolierenden Fensters von dem Objekt zu entkoppeln. Hierfür werden bevorzugt Fenster aus einem optisch transparenten Material mit möglichst großer Wärmeleitfähigkeit λ verwendet. Bevorzugt kommen Gläser mit einem λ ≥ 1,3 W/mK zum Einsatz.
  • Besonders bevorzugt werden Fenster aus hochreinem synthetischem SiO2-Quarzglas (z. B. Schott Lithosil®), Zerodur®, FK 51 oder SF 57 eingesetzt. Diese Materialien zeichnen sich außer durch die hohe Wärmeleitfähigkeit ferner dadurch aus, dass sie selbst möglichst spannungsneutral und optisch schlierenfrei herstellbar sind. Einige Eigenschaften dieser Gläser sind in nachfolgender Tabelle 1 zusammengestellt: Tabelle 1
    Abdeckplatten Material
    Koeffizient Einheit SF57 N-FK51 Lithosil® Zerodur®
    Wärmeleitfähigkeit λ W/(m·K) 0,62 0,911 1,31 1,46
    Therm. Spannungsfaktor φ MPa/K 0,626 1,507 0,04 0,002
    Dichte ρ g/cm3 5,51 3,73 2,2 2,53
    spezifische Wärmekapazität cp J/(g·K) 0,36 0,636 0,79 820
    Temperaturleitfähigkeit κ = λ/(ρ·cp) 10–3 cm2/s 0,31 0,38 0,75 0,001
  • Ganz besonders hat sich Schott Zerodur® als geeignet Werkstoff für ein thermisch isolierendes Fenster in der Messapparatur herausgestellt, weil in ihm die Eigenschaften eines sehr kleinen Spannungsfaktors φ und einer hohe Wärmekapazität cp vereint sind. Eine Referenzmessung eines Fensters aus Zerodur (d. h. ohne Probe) ergab ein Grundrauschen, welches über die gesamte Messfläche geringer als 0,2 nm/cm ausfiel. Dies stellt gegenüber den bekannten Fenstermaterialien mit einem ermittelten Rauschen von maximal 0,5 nm/cm eine deutliche Verbesserung dar. Aber auch Lithosil ist wegen des sehr kleinen Spannungsfaktors φ ein geeignetes Material.
  • In einer bevorzugten Weiterbildung des Verfahrens erfolgt das thermische Anpassen (Thermalisieren) des Objekts wenigstens über eine vorbestimmte, minimale Anpassungsdauer, die in Abhängigkeit von dem Produkt aus der Wärmeleitfähigkeit λ und der spezifischen Wärmekapazität cp des optischen Materials ermittelt wird. Es hat sich herausgestellt, dass die Spannungsdoppelbrechung von optischen Materialien, bei denen das Produkt aus der Wärmeleitfähigkeit λ (in W/(m·K)) und der spezifischen Wärmekapazität cp (in J/(g·K)) kleiner als 1 ist, erheblich empfindlicher auf Temperaturschwankungen reagiert als Materialien, bei denen dieses Produkt über 1 liegt. Eine Einordnung in der Gestalt kritische und unkritische Materialien ist der Tabelle 2 zu entnehmen. Tabelle 2
    Material
    Koeffizient Einheit FK5HT LF5HT LLF1HT synthet. Quarzglas (Lithosil®) CaF2-Kristall
    Wärmeleitfähigkeit λ W/(m·K) 0,925 0,866 0,951 1,31 9,71
    spezifische Wärmekapazität cp J/(g·K) 0,808 0,657 0,65 0,79 0,854
    λ·cp 0,75 0,57 0,62 1,03 8,29
    Messempfindlichkeit Kritisch unkritisch
  • Die Anpassungsdauer hängt weiterhin von der Masse und der Oberfläche des zu messenden Objekts ab. Sie beträgt bevorzugt 2 bis 24 Stunden. Längere Zeiten sind für einige Materialien hilfreich aber unwirtschaftlich für den Produktionsablauf.
  • Insbesondere wird eine thermische Anpassungsdauer von 6 bis 12 Stunden im ersten Schritt und weitere 6 bis 12 Stunden im zweiten Schritt angestrebt. in speziellen Fällen, in denen eine besonders hohe Messgenauigkeit angestrebt wird, wird eine noch weitergehende Feinklimatisierung angestrebt
  • Zwar bedarf es grundsätzlich keiner Vorthermalisierung in einem separaten Raum, wenn der Prüfling hinreichend lange in der Messumgebung gelagert wird. Dies geht jedoch zu Lasten der Raumnutzung und damit der Auslastung der Messaparatur. Deshalb erfolgt das thermische Anpassen des Objekts bevorzugt in einem ersten Schritt (Vorthermalisieren) in einem thermisch von der Messumgebung getrennten Raum oder Raumbereich und in einem zweiten Schritt (Fertigthermalisieren) in der Messumgebung, d. h. in demselben Raum oder Raumbereich, in dem sich auch die Messvorrichtung befindet.
  • Der getrennte Raum oder Raumbereich weist vorzugsweise eine Temperaturkonstanz von ≤ ±0,5 K auf. Dies stellt sicher, dass die in die Messumgebung mit dem zu messenden, vorthermalisierten Objekt eingebrachte Energie unabhängig von äußeren Bedingungen (Außentemperatur) hinreichend genau bekannt ist, so dass das zu messende Objekt keinen unerwarteten Temperaturschwankungen beim Umlagern in die Messumgebung ausgesetzt ist und auch die Temperatur der Messumgebung nicht in unvorhergesehener Weise beeinflusst wird.
  • Ferner folgt das thermische Anpassen im ersten Schritt bevorzugt auf einen Temperaturunterschied von höchstens ±2,0 K zu der Messumgebung. Dieser Toleranzbereich stellt sicher, dass die Dauer des thermischen Anpassens im zweiten Schritt, d. h. in der Messumgebung, in hinreichend kurzer Zeit erfolgen kann.
  • Die Messumgebung selbst weist dabei bevorzugt eine Temperaturkonstanz von ≤ ±0,1 K und besonders bevorzugt von ≤ ±0,05 K auf. Dies stellt sicher, dass der erfindungsgemäße Temperaturunterschied zwischen dem Objekt und der Messumgebung von höchstens ±0,1 K eingehalten werden kann.
  • Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung erfolgt das Positionieren des Objekts bevorzugt unter Vermeidung von Wärmeeinkopplung oder -auskopplung. Da das Positionieren des Objekts in der Messvorrichtung aus Gründen der effizienten Nutzung der Vorrichtung unmittelbar vor der Messung stattfinden muss, ist es gerade bei diesem Schritt erforderlich, auf eine thermische Entkopplung des Objekts von allen Wärmequellen zu achten. Das Positionieren des Objekts geschieht daher bevorzugt unter Einsatz eines Greifwerkzeugs, damit keine Handwärme in das Objekt eingetragen wird. Besonders bevorzugt erfolgt das Positionieren des Objekts automatisiert, d. h. mittels einer Positioniereinheit (Handlings-Roboter) damit jeglicher Wärmeeintrag durch Personen in der Messumgebung ausgeschlossen werden kann.
  • Weiterhin sind Vorkehrungen vorteilhaft, durch welche Rechner, Monitore, Steuerungen, oder andere Elektronik, Netzteile, Motoren und andere Energieverbraucher sowie die Abwärmeführung der Messeinrichtung und der Positioniereinheit gegenüber dem zu messenden Objekt abgeschirmt werden. Entsprechende Abschirmungen sind vorzugsweise zumindest zwischen dem Energieverbraucher bzw. der Abwärmeführung und dem Messplatz einerseits sowie der Lagerstätte, an welcher das Fertigthermalisieren des Objekts geschieht, andererseits vorzusehen.
  • Eine vorteilhafte Weiterbildung des Verfahrens sieht vor, dass vor jeder Messung der Spannungsdoppelbrechung an dem Objekt eine Kalibrierungsmessung ohne Objekt durchgeführt wird. Die zeitnahe Kalibrierung stellt sicher, dass etwaige (temperaturbedingte) zeitliche Änderungen der Nullmessung berücksichtigt werden, wenn die Messung des Objekts korrigiert wird.
  • Eine weitere vorteilhafte Maßnahme sieht vor, die Messung der Spannungsdoppelbrechung an dem Objekt wenigstens einmal nach 15 bis 20 Minuten zu wiederholen, um etwaige temperaturbedingte Restschwankungen des Messergebnisses subtrahieren zu können.
  • Weitere Aufgaben, Merkmale und Vorteile der Erfindung werden nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispiels mithilfe der Zeichnungen näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 ein Diagramm mit dem Verlauf der Spannungsdoppelbrechung nach einem plötzlichen Temperaturanstieg;
  • 2 eine schematische Darstellung der Messvorrichtung;
  • 3 ein Schema einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Thermalisierungsprozesses; und
  • 4 eine mögliche Ausführungsform der Raumanordnung zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.
  • In dem Diagramm gemäß 1 ist der Wert der Spannungsdoppelbrechung δ in nm/cm über der Relaxationszeit t in Stunden für 4 verschiedene plötzliche Temperaturänderungen aufgetragen. Dargestellt ist das Ergebnis einer Simulationsrechnung unter der Annahme einer zylindrischen Probe mit einem Durchmesser von 270 mm und einer Dicke von 49,2 mm und eines konstanten Wärmeübergangskoeffizienten von 5 W/m2K an allen Zylinderflächen (Oberseite, Unterseite, Mantelfläche). Die Spannungsdoppelbrechung wird am äußersten Rand, d. h. bei einem Radius von 135 mm ermittelt. Dort stellt sich der Einfluss von Temperaturschwankungen auf das Messergebnis bei einer sprungartigen Temperaturunterschied der Umgebungstemperatur als am stärksten heraus.
  • Wie die Simulation zeigt, besteht zwischen der Spannungsdoppelbrechung und der Temperaturdifferenz ein linearer Zusammenhang. Der Maximalwert der Spannungsdoppelbrechung steigt etwa je 0,1°K Erhöhung des Temperatursprunges um 0,15 nm/cm an.
  • Entscheidend für die Thermalisierungsdauer ist die teilweise erheblich lange Relaxationszeit. So benötigt der Wert der Spannungsdoppelbrechung 6 Stunden, bis er auf ein zehntel des Maximalwertes abgefallen ist. Das bedeutet, dass im Fall eines sprunghaften Temperaturanstieges um 1 K erst nach etwa 6 Stunden der Wert von 0,15 nm/cm erreicht ist und somit die angestrebte Genauigkeit von ±0,2 nm/cm der Messung erreicht werden kann.
  • Die Simulation zeigt ferner, dass im Grenzfall unendlich langer Relaxationszeit auch nach einem Temperaturanstieg die Spannungsdoppelbrechung auf den Wert 0 zurückgeht. D. h., dass die absolute Temperatur bei der Messung keine Rolle spielt, sondern eben nur besagte Temperaturänderungen. Im Ergebnis lässt sich also festhalten, dass eine Temperaturstabilisation der Messumgebung auf ±0,1 K und besonders bevorzugt von ±0,05 K angestrebt werden sollte.
  • Die durchgeführten Messungen an einer Probe bestätigten den in 1 gezeigten Zusammenhang.
  • In 2 ist die Messvorrichtung 200 in einer vorteilhaften Ausführungsform schematisch dargestellt, wie sie bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zum Einsatz kommt. Die Messvorrichtung 200 weist eine Lichtquelle 202 auf, welche unpolarisiertes Licht abstrahlt. Das Licht wird einem Polarisator 204 zugeführt, welcher, aus dem unpolarisierten Licht, Licht mit linearer Polarisation passieren lässt. Das linear polarisierte Licht passiert danach ein thermisch isolierendes Fenster 206. Das Fenster 206 dient zur thermischen Isolation der Lichtquelle 202 und verhindert somit, das die Wärme der Lichtquelle 202 auf ein über dem Fenster 206 positioniertes Objekt 208 übertragen wird.
  • Als Fenstermaterial werden typischerweise Gläser mit einer mit möglichst großer Wärmeleitfähigkeit, insbesondere mit einem λ ≥ 1,3 W/mK, verwendet. Auch an die optischen Eigenschaften dieses Fenstermaterials sind hohe Anforderungen zu stellen. So sollte das Material des Fensters eine hohe Homogenität, d. h. einen weitestgehend konstanten Brechungsindexes, aufweisen, schlierenfrei und seinerseits möglichst spannungsarm sein. Zwar werden materialimmanente optische Artefakte des Fensters durch eine Kalibrierungsmessung ermittelt und von dem Resultat der Probenmessung abgezogen. Jedoch sollten auf diese Weise nach Möglichkeit nur Restfehler der Apparatur eliminiert werden. Als besonders geeignet hat sich synthetisches Quarzglas (z. B. Schott Lithosil®), Zerodur®, FK 51 oder SF 57 herausgestellt.
  • Über dem Fenster 206 ist die Probe bzw. das zu messende Objekt 208 innerhalb der Messvorrichtung positioniert. Es liegt üblicherweise auf einem Objektträger (nicht dargestellt) auf. Ferner kann es vorteilhaft sein, wenn das Objekt mit einem Halter in Verbindung steht, mit welchem zusammen es bereits die thermische Anpassung durchlaufen hat. In diesem Fall liegt der Objekthalter auf dem Objektträger auf, und trägt zur Isolierung des Objektes 208 gegenüber dem Objektträger am Gerät bei. Der Objektträger und/oder der Objekthalter 210 sollten deshalb aus einem Material geringer Wärmeleitfähigkeit bestehen.
  • Nachdem das linear polarisierte Licht das zu messende Objekt durchlaufen hat, weist dieses in Abhängigkeit von der Spannungsdoppelbrechung, die in dem Objekt stattgefunden hat, eine elliptische Polarisation auf. Das elliptisch polarisierte Licht wird hiernach mittels einer über dem Objekt angeordneten λ/4-Platte 212 wieder in linear polarisiertes Licht umgewandelt. In dem Maße, in dem eine Spannungsdoppelbrechung dem zu messenden Objekt 208 stattgefunden hat, hat sich die Polarisationsrichtung des linear polarisierten Lichtes gedreht. Der Differenzwinkel zur ursprünglichen Polarisationsrichtung, also zur Stellung des Polarisators 204, wird mittels eines Analysators 214 ermittelt. Der so festgestellte Polarisationswinkel gibt ein Maß für die Doppelbrechung und damit für die Spannung in dem Probenmaterial an.
  • Nicht notwendig aber von Vorteil ist, wenn in den Strahlengang eine telezentrische Optik 216, hier vereinfacht durch eine Sammellinse und eine Streulinse dargestellt, eingeschaltet ist, die das parallele Eingangsstrahlenbündel in ein paralleles Ausgangsstrahlenbündel mit verändertem Querschnitt umwandelt. Durch eine solche telezentrische Optik 216 ist es möglich, die Bildgröße unabhängig von der Größe des zu Messbereichs auf die Querschnittsfläche eines ortsauflösenden Detektors 218 anzupassen. Bei dem ortsauflösenden Detektor 218 handelt es sich vorzugsweise um eine CCD-Kamera. Die Ortsauflösung der Messvorrichtung 200 ist in diesem Fall durch die Pixelauflösung der CCD-Kamera und das Abbildungsverhältnis der telezentrischen Optik 216 bestimmt. Die Ortsauflösung beträgt vorzugsweise ≤ 1 mm.
  • In 3 ist die Einbindung des erfindungsgemäßen Thermalisierungsprozesses in den Messablauf schematisch dargestellt. Hiernach besteht der Schritt des thermischen Anpassens des Objektes an die Umgebungstemperatur der Messvorrichtung aus zwei Thermalisierungsschritten.
  • In einem ersten Thermalisierungsschritt T1 wird das zu messende Objekt bestimmten thermischen Bedingungen über eine vorbestimmte Anpassungsdauer ausgesetzt. Die thermischen Bedingungen sind charakterisiert durch die absolute Temperatur T1 und die thermische Schwankungsbreite ΔT1. Die Thermalisierungsdauer ist festgelegt auf eine Mindestzeit T1 min, die minimale Thermalisierungs- oder Anpassungsdauer. Sie wird bevorzugt in Abhängigkeit von dem Produkt aus der Wärmeleitfähigkeit und der spezifischen Wärmekapazität des optischen Materials ermittelt, aus dem das Objekt besteht. Sie beträgt vorzugsweise zwischen 2 und 24 Stunden und für ein Objekt mit einem Durchmesser von etwa 250 mm und einer Dicke von etwa 45 mm typischer Weise 12 Stunden. Solche Objekte (auch als „Blanks" bezeichnet) sind beispielsweise Ausgangsmaterial für die Herstellung hochpräziser optischer Elemente wie Platten, Filter, Linsen, Prismen oder dgl. Die Thermalisierungsdauer variiert ferner mit der Masse und der Oberflächengröße des Objekts. Die Thermalisierungstemperatur T1 liegt vorzugsweise in einem Temperaturintervall von ±2,0 K ausgehend von der Temperatur der Messumgebung, welche in dem in 3 dargestellten Beispiel zugleich der Thermalisierungstemperatur T2 entspricht.
  • Die Temperaturkonstanz während des ersten Thermalisierungsvorganges liegt bevorzugt in einem Intervall ΔT1 von ±0,5 K. Hierdurch wird sichergestellt, dass das Objekt dem zweiten Thermalisierungsschritt mit einer definierten Temperatur zugeführt wird. Liegt die Temperatur T1 unter der Messumgebungstemperatur T2, so ist damit sichergestellt, dass die Probe im zweiten Thermalisierungsschritt stets Wärme aufnimmt und nicht abgibt. Dies sorgt für eine kalkulierbare Temperaturstabilität in dem Feinklima der Messumgebung.
  • Nach dem Thermalisierungsschritt T1 schließt sich ein Prüfschritt Q1 an, in welchem überprüft wird, ob die Temperatur des Objekts T0 in dem Intervall [T1 ± ΔT1] liegt. Ist dies nicht der Fall, wird die Probe für eine weitere zu bestimmende Dauer, die auch unter der minimalen Thermalisierungszeit t1 min liegen kann, dem Thermalisierungsschritt T1 zugeführt. Ist die Bedingung erfüllt, wird sie anschließend dem zweiten Thermalisierungsschritt T2 zugeführt.
  • Der zweite Thermalisierungsschritt T2 ist durch eine absolute Temperatur T2, eine Temperaturschwankungsbreite ΔT2 und eine Thermalisierungsdauer t2 min charakterisiert. Die Thermalisierungstemperatur T2 entspricht zugleich der Temperatur der Messumgebung, auf deren Absolutwert es, wie oben ausgeführt, nicht ankommt. Die Schwankungsbreite ΔT2 des Feinklimas in dem Thermalisierungsschritt T2 sowie der Messumgebung liegt bevorzugt in einem Bereich von ±0,1 K und besonders bevorzugt von ±0,05 K. Um eine hinreichende Anpassung des Objektes an die herrschende Temperatur zu gewährleisten, liegt die minimale Thermalisierungsdauer t2 min in einem Intervall von 2 bis 24 Stunden, bevorzugt bei 12 Stunden.
  • Nach dem Thermalisierungsschritt T2 wird die Probe einer zweiten Temperaturprüfung in dem Schritt Q2 unterzogen. Wird festgestellt, dass die Temperatur der Probe T0 in dem Intervall [T2 ± ΔT2] liegt, wird die Probe anschließend der Messung M1 zugeführt. Andernfalls wird die Probe für eine zu bestimmende Dauer, die auch unter der minimalen Thermalisierungszeit t2 min liegen kann, nochmals dem Thermalisierungsschritt T2 unterzogen. Bei hinreichend langer Thermalisierungsdauer kann der Prüfschritt Q2 ebenso wie der Prüfschritt Q1 entfallen.
  • Anders als in 3 dargestellt, kann die Thermalisierung auch in einem einzelnen Thermalisierungsschritt erfolgen. Hierbei sind als Zielparameter für die Thermalisierung die Absoluttemperatur T2 und die Schwankungsbreite ΔT2 des Feinklimas der Messumgebung anzusetzen. Nachteilig bei dem einstufigen Thermalisierungsprozess ist allerdings, dass der der Messung unmittelbar vorgeschaltete Thermalisierungsschritt nach Möglichkeit ohne räumliche Trennung im Bereich der Messumgebung stattfinden sollte, um eine weitere Quelle für Temperaturschwankungen ausschließen zu können. Dies hat dann wiederum zur Folge, dass die unthermalisierten Proben abhängig von den Umgebungsbedingungen (Außentemperatur) unterschiedliche Energieeinträge in die Messumgebung bringen und somit das Feinklima nur schwer in dem engen Temperaturintervall von ±0,05 K zu halten ist.
  • Ferner kann es ebenfalls vorgesehen sein, anstelle von zwei Thermalisierungsschritten drei oder mehr Thermalisierungsschritte vorzunehmen, wobei man von Thermalisierungsschritt zu Thermalisierungsschritt sich an die thermischen Bedingungen der Messumgebung annähert.
  • In 4 eine räumliche Anordnung schematisiert, in der das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt werden kann. Das zu messende Objekt 408 wird zunächst einzeln oder in einer Charge bestimmter Größe durch eine Schleuse 412 in einen abgeschlossenen ersten Thermalisierungsraum 414 eingebracht. In dem Thermalisierungsraum 414 herrschen die zuvor beschriebenen Umgebungsbedingungen, welche durch die Größen T1, ΔT1 beschrieben werden. Zu diesem Zweck ist der erste Thermalisierungsraum 414 klimatisiert. Die Abluft wird mittels einer ersten Klimatisierungseinrichtung (nicht dargestellt) möglichst effizient aus dem ersten Thermalisierungsraum 414 herausgeführt, um selbst bei größeren Energieeinträgen, durch eine Vielzahl von eingebrachten Objekten mit großer Gesamtmasse die geforderte Temperaturkonstanz ΔT1 einzuhalten.
  • Nach Verstreichen einer bestimmten Thermalisierungsdauer t1, welche wenigstens der minimalen Thermalisierungsdauer t1 min entspricht, werden das oder die Objekte in einen zweiten, thermisch von dem ersten Thermalisierungsraum 414 getrennten Raumbereich (nachfolgend zweiter Thermalisierungsraum) 416 verbracht. In dem zweiten Thermalisierungsraum 416 herrschen die zuvor beschriebenen thermischen Bedingungen, charakterisiert durch die Parameter T2 und ΔT2. Dieselben Bedingungen herrschen auch in der unmittelbaren Messumgebung 418, in welcher die Messvorrichtung 400 aufgestellt ist. Der zweite Thermalisierungsraum 416 und die Messumgebung 418 sind also nicht thermisch sondern nur funktional getrennt (dargestellt eine gestrichelte Trennlinie). Der zweite Thermalisierungsraum 416 ist eingerichtet, eines oder mehrere zu messende Objekte vorrätig zu lagern und zwar über eine Thermalisierungsdauer t2, welche wenigstens der minimalen Thermalisierungsdauer t2 min entspricht. Die zu messenden Objekte werden zu diesem Zweck vorzugsweise in luftdurchlässigen Regalen oder Schränken (auch in unmittelbarer Nachbarschaft) zu dem Messplatz aufbewahrt. Die thermischen Bedingungen in dem zweiten Thermalisierungsraum 416 bzw. der Messumgebung 418 werden durch eine zweite Klimatisierungseinrichtung (nicht dargestellt) sichergestellt, deren Abluft ebenfalls nach außen geleitet wird.
  • Ebenfalls in 4 angedeutet ist, dass die Beleuchtungseinheit 402 thermisch von der Messumgebung 418 entkoppelt ist. Ein separater Raumbereich 420 ist hierfür vorgesehen, welcher unter anderem durch das oben beschriebene Fenster 406 von der Messumgebung 418 getrennt ist. Der Beleuchtungsraum 420 ist ferner mit einer eigenen Klimatisierungseinrichtung versehen, deren Abluft nach außen geführt wird. Das Herausführen der Abluft geschieht dabei nach Möglichkeit isoliert, d. h. weiträumig an dem zu prüfenden Objekt und den Lagerplätzen vorbeigeleitet und/oder mit entsprechenden Isolationsmaßnahmen.
  • Dasselbe gilt für Abwärme, welche durch jedwede (nicht dargestellte) Automaten, beispielsweise ein Transfersystem für den Transfer des oder der Objekte aus einem Raum/Raumbereich in den nächsten oder eine Positioniereinheit zum Positionieren des Objektes in der Messvorrichtung 400.
  • Zur Einhaltung der mittels der Klimatisierungseinrichtung einzustellenden thermischen Bedingungen ist es schließlich vorteilhaft, wenn die Anzahl der insbesondere in der Messumgebung befindlichen Personen in dem Prozessablauf festgeschrieben ist. Nach Möglichkeit sollten sich nicht mehr als eine Person in der Messumgebung bzw. dem zweiten Thermalisierungsraum aufhalten und günstigstenfalls sollte während der Messung gar keine Person in diesem Raum bzw. Raumbereich anzutreffen sein.
  • 200
    Messvorrichtung
    202
    Lichtquelle/Beleuchtungseinheit
    204
    Polarisator
    206
    thermisch isolierendes Fenster
    208
    Objekt
    210
    Objekthalter
    212
    λ/4-Platte
    214
    Polarisationsfilter, Analysator
    216
    telezentrische Optik
    218
    Detektor
    400
    Messvorrichtung
    402
    Beleuchtungseinheit
    406
    Fenster
    408
    Objekt
    412
    Schleuse
    414
    erster Thermalisierungsraum
    416
    zweiter Thermalisierungsraum
    418
    Messumgebung
    420
    Beleuchtungsraum

Claims (15)

  1. Verfahren zur Bestimmung von Materialspannungen in hochhomogenen optischen Materialien mittels Messung der Spannungsdoppelbrechung mit den Schritten: – Positionieren eines zu messenden Objekts (208, 408) bestehend aus dem hochhomogenen optischen Material in einer Messvorrichtung (200, 400) – Erzeugen von linear polarisiertem Licht mittels einer Lichtquelle (202) – Führen des linear polarisierten Lichts durch das Objekt (268, 408) – Bestimmen einer durch eine Materialspannung in dem Objekt (208, 408) verursachten Abweichung der Polarisation (Polarisationswinkel) des aus dem Objekt (208, 408) austretenden Lichtes gegenüber dem in das Objekt (208, 408) eingestrahlten Licht dadurch gekennzeichnet, dass das Objekt (208, 408) vor der Messung thermisch an die Umgebungstemperatur der Messvorrichtung (200, 400) angepasst wird, bis der Temperaturunterschied zwischen dem Objekt (208, 408) und der Messumgebung (418) höchstens ±0,1 K beträgt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abweichung der Polarisation mittels einer λ/4-Platte (212) und eines linearen Polarisationsfilters (Analysator) (214) bestimmt wird.
  3. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Messung der Spannungsdoppelbrechung unter Einsatz eines ortsauflösenden Detektors (218) flächig erfolgt.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Messung der Spannungsdoppelbrechung unter Einsatz einer zwischen das Objekt (208, 408) und den Detektor (218) eingeschalteten telezentrischen Optik (216) erfolgt.
  5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Messung der Spannungsdoppelbrechung mit einer Empfindlichkeit von wenigsten ±0,1 nm/cm erfolgt.
  6. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Lichtquelle (202) mittels eines thermisch isolierenden Fensters (206) thermisch von dem Objekt (208, 408) entkoppelt ist.
  7. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Anpassen des Objekts (208, 408) wenigstens über eine vorbestimmte, minimale Anpassungsdauer erfolgt, die in Abhängigkeit von dem Produkt aus der Wärmeleitfähigkeit λ und der spezifischen Wärmekapazität cp des optischen Materials ermittelt wird.
  8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Anpassen des Objekts (208, 408) in einem ersten Schritt in einem thermisch von der Messumgebung (418) getrennten Raum oder Raumbereich (420) und in einem zweiten Schritt in der Messumgebung (418) erfolgt.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass der getrennten Raum oder Raumbereich (420) eine Temperaturkonstanz von ≤ ±0,5 K aufweist.
  10. Verfahren nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, dass das thermische Anpassen im ersten Schritt auf einen Temperaturunterschied von höchstens ±2,0 K zu der Messumgebung (418) erfolgt.
  11. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Messumgebung (418) eine Temperaturkonstanz von ≤ ±0,05°K aufweist.
  12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Positionieren des Objekts (208, 408) unter Vermeidung von Wärmeeinkopplung oder -auskopplung erfolgt.
  13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Positionieren des Objekts (208, 408) unter Einsatz eines Greifwerkzeugs erfolgt.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass das Positionieren des Objekts (208, 408) automatisiert erfolgt.
  15. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor jeder Messung der Spannungsdoppelbrechung an einem Objekt (208, 408) eine Kalibrierungsmessung ohne Objekt durchgeführt wird.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011157815A1 (fr) * 2010-06-17 2011-12-22 Agc Glass Europe Analyse des marques de trempe
DE102011121118B3 (de) * 2011-12-14 2013-06-13 Westsächsische Hochschule Zwickau Verfahren zur in-situ spannungsoptischen Erfassung von Belastungszuständen und belastungsbedingten Schädigungen
DE102012205311A1 (de) * 2012-03-30 2013-10-02 Anton Paar Gmbh Optische Vorrichtung, insbesondere Polarimeter, zur Detektion von Inhomogenitäten in einer Probe

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3512851A1 (de) * 1984-04-19 1985-10-31 Saint-Gobain Recherche, Aubervilliers Verfahren und vorrichtung zur messung von spannungen in float-glas
JPH05306133A (ja) * 1992-04-30 1993-11-19 Hoya Corp ガラス体の除歪方法及びその装置
DE19819670A1 (de) * 1998-05-02 1998-11-26 Thueringisches Inst Textil Verfahren und Vorrichtung zur schnellen Messung hoher Gangunterschiede von doppelbrechenden Proben nach Senarmont
DE19953528A1 (de) * 1999-11-05 2001-05-10 Schott Rohrglas Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur automatischen Messung der Spannungsdoppelbrechung mit feststehendem Analysator
DE10227345A1 (de) * 2002-06-19 2004-01-15 Schott Glas Verfahren zur Bestimmung lokaler Strukturen in optischen Kristallen

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3512851A1 (de) * 1984-04-19 1985-10-31 Saint-Gobain Recherche, Aubervilliers Verfahren und vorrichtung zur messung von spannungen in float-glas
JPH05306133A (ja) * 1992-04-30 1993-11-19 Hoya Corp ガラス体の除歪方法及びその装置
DE19819670A1 (de) * 1998-05-02 1998-11-26 Thueringisches Inst Textil Verfahren und Vorrichtung zur schnellen Messung hoher Gangunterschiede von doppelbrechenden Proben nach Senarmont
DE19953528A1 (de) * 1999-11-05 2001-05-10 Schott Rohrglas Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur automatischen Messung der Spannungsdoppelbrechung mit feststehendem Analysator
DE10227345A1 (de) * 2002-06-19 2004-01-15 Schott Glas Verfahren zur Bestimmung lokaler Strukturen in optischen Kristallen

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JP 05-306 133 A (mit PAJ u. Online-Übersetzung)
JP 05306133 A in: Patent Abstracts of Japan (Online-Übersetzung) *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011157815A1 (fr) * 2010-06-17 2011-12-22 Agc Glass Europe Analyse des marques de trempe
BE1019378A3 (fr) * 2010-06-17 2012-06-05 Agc Glass Europe Analyse des marques de trempe.
DE102011121118B3 (de) * 2011-12-14 2013-06-13 Westsächsische Hochschule Zwickau Verfahren zur in-situ spannungsoptischen Erfassung von Belastungszuständen und belastungsbedingten Schädigungen
DE102012205311A1 (de) * 2012-03-30 2013-10-02 Anton Paar Gmbh Optische Vorrichtung, insbesondere Polarimeter, zur Detektion von Inhomogenitäten in einer Probe
DE102012205311B4 (de) * 2012-03-30 2013-10-17 Anton Paar Gmbh Optische Vorrichtung, insbesondere Polarimeter, zur Detektion von Inhomogenitäten in einer Probe
US9448161B2 (en) 2012-03-30 2016-09-20 Anton Paar Gmbh Optical device, particularly a polarimeter, for detecting inhomogeneities in a sample

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