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Die
vorliegende Erfindung betrifft eine Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung,
die einen flüssigen Entwickler einem Glassubstrat für
eine Photomaske wie beispielsweise einem Retikel zuführt.
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Als
Beispiel wird ein Photolithographieschritt bei einem Herstellungsprozess
eines Halbleiterbauelements oder eines Substrats wie beispielsweise
eines Retikels üblicherweise so durchgeführt,
dass eine derartige Bearbeitung vorgenommen wird, dass eine Resistaufbringungsbearbeitung
zur Ausbildung eines Resistfilms durch Aufbringen einer Resistflüssigkeit
auf das Substrat durchgeführt wird, eine Belichtungsbearbeitung
mit Durchführung einer Belichtung des Resistfilms auf dem
Substrat zur Ausbildung eines vorbestimmten Musters durchgeführt
wird, und eine Entwicklungsbearbeitung zum Entwickeln des Resistfilms
auf dem Substrat durch Zuführen eines flüssigen
Entwicklers auf das freiliegende Substrat durchgeführt
wird.
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Bei
dieser Art einer herkömmlichen Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
gibt ein Düsenkopf einen flüssigen Entwickler
ab und saugt diesen an, und daher kann ein so genannter Lufteingriffseffekt
hervorgerufen werden, bei welchem Umgebungsluft in den flüssigen
Entwickler hineingemischt wird. Es ist bereits eine Vorrichtung
zum Verhindern dieses Effekts bekannt. Diese Vorrichtung weist eine äußere Umfangsplatte
auf, beispielsweise eine Annäherungsstufe, die zusammen
mit einer drehbaren Drehbasis gedreht werden kann, und umgibt einen
Außenumfang eines Substrats, das von einem Substrathalteteil
gehaltert wird. Diese Annäherungsstufe wird dazu eingesetzt,
einen Flüssigkeitsfilm auszubilden, der sich durchgehend über
die Oberfläche des Substrats erstreckt, und dessen Oberfläche
mit der Oberfläche des Substrats fluchtet.
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In
Bezug auf den Transport des Substrats wird ein Raum zwischen dem
Substrat und der Außenumfangsplatte ausgebildet. Daher
kann eine Flüssigkeit durch den Raum nach außen
herausfließen, wenn der Flüssigkeitsfilm auf den
Oberflächen des Substrats und der Annäherungsstufe
ausgebildet wird. Zur Verhinderung dieses Problems weist eine Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung,
die im
japanischen offen
gelegten Patent Nr. 2005-236189 beschrieben wird, ein Substrathalteteil
auf, das durch Saugwirkung das Substrat in einem derartigen Zustand
haltert, dass sich das Substrathalteteil in engem Kontakt mit einer
rückwärtigen Oberfläche eines Außenumfangsabschnitt
des Substrats über den gesamten Umfang des Außenumfangsabschnitts
des Substrats befindet. Das Substrathalteteil ist weiterhin so ausgebildet,
dass ein Teil des Substrathalteteils zu einem Raum zwischen sich
und der äußeren Seitenoberfläche des
Substrats geöffnet ist, und hierdurch eine Nut ausgebildet
wird, in welcher die Flüssigkeit aufbewahrt wird.
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Bei
dieser Art einer herkömmlichen Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
steht jedoch die rückwärtige Oberfläche
des Substrats ständig in Kontakt mit dem Substrathalteteil
während der Bearbeitung, so dass es unmöglich
ist, Kontaktabschnitte der rückwärtigen Substratoberfläche
und des Substrathalteteils zu reinigen. Weiterhin umgibt ein Teil
des Substrathalteteils das Substrat zum Haltern des Flüssigkeitsfilms,
so dass Reste des flüssigen Entwicklers auf diesem Abschnitt
verbleiben können, und das Substrat verunreinigen können.
Da eine Saugleitung an einer Dreheinheit angebracht werden muss,
ist es schwierig, die Saugleitung innerhalb der Drehbasis und des
Substrathalteteils anzuordnen, und eine Dichtungsanordnung zwischen
den sich drehenden und nicht drehenden Einheiten zur Verfügung
zu stellen. Da ein Dichtungsteil für eine derartige Abdichtung
normalerweise aus beispielsweise einem O-Ring besteht, ist eine
komplizierte Dichtungseinstellung dazu erforderlich, einen gleichmäßigen Druck
auf den O-Ring auszuüben, und darüber hinaus muss
der O-Ring in regelmäßigen Abständen ausgetauscht
werden. Weiterhin werden die Drehbasis und das Substrathalteteil
gleichzeitig gedreht. Daher weist die Dreheinheit ein erhebliches
Gewicht auf, und erfordert einen Motor mit großer Leistung. Weiterhin
ist ein Mechanismus dazu erforderlich, Wärme abzuführen,
die durch Reibung des O-Rings erzeugt wird.
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Ein
Ziel der Erfindung besteht in der Bereitstellung einer Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung, die
keine unzureichende Reinigung bei der rückwärtigen
Oberfläche des Substrats und eine Verunreinigung des Substrats
hervorruft, eine Saugleitung aufweist, und eine Dichtungseinheit
mit einfachem Aufbau aufweist, und die erforderliche Antriebsleistung verringern
kann.
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Eine
Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung gemäß der
Erfindung weist eine Drehbasis auf, welche drehbar ein Bearbeitungssubstrat
haltert; eine Außenumfangsplatte, die drehbar zusammen
mit der Drehbasis ausgebildet ist, und einen Außenumfang des
Bearbeitungssubstrats umgibt, das von der Drehbasis gehalten wird;
einen Substrathaltetisch, der vertikal beweglich in Bezug auf die
Drehbasis ausgebildet ist, um das Bearbeitungssubstrat durch Saugeinwirkung
zu haltern; und einen Düsenkopf, der bewegbar entlang einer
Oberfläche des Bearbeitungssubstrats angeordnet ist, das
von dem Substrathaltetisch gehaltert wird, um gleichzeitig das Zuführen
und Absaugen eines flüssigen Entwicklers in Bezug auf das
Bearbeitungssubstrat durchzuführen. Eine obere Oberfläche
der Außenumfangsplatte fluchtet mit dem Niveau einer oberen
Oberfläche des Bearbeitungssubstrats, oder liegt geringfügig
höher. Wenn der Substrathaltetisch das Bearbeitungssubstrat
durch Saugeinwirkung haltert, steht der Substrathaltetisch in engem
Kontakt mit der Außenumfangsplatte und der Drehbasis, wobei
ein Dichtungsteil dazwischen angeordnet ist, so dass ein Flüssigkeitsaufnahmeraum
ausgebildet wird, um einen Flüssigkeitsfilm zu erzeugen,
der sich durchgehend über die obere Oberfläche
der Außenumfangsplatte und die obere Oberfläche
des Bearbeitungssubstrats erstreckt. Wenn die Saughalterung und
der enge Kontakt gelöst werden, kann sich das Bearbeitungssubstrat
zusammen mit der Drehbasis und der Außenumfangsplatte drehen.
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Bei
der voranstehend geschilderten Anordnung haltert der Substrathaltetisch
das Bearbeitungssubstrat (also das zu bearbeitende Substrat) mittels
Saugwirkung, steht der Substrathaltetisch in engem Kontakt mit der
Außenumfangsplatte, und der Drehbasis, wobei ein Dichtungsteil
dazwischen angeordnet ist, damit der Flüssigkeitsaufnahmeraum ausgebildet
wird. Dieser Flüssigkeitsaufnahmeraum kann die Flüssigkeit
zur Ausbildung des Flüssigkeitsfilms aufnehmen, der sich
durchgehend über die Oberflächen des Bearbeitungssubstrats
und die Außenumfangsplatte erstreckt. Wenn die Saughalterung
und der enge Kontakt gelöst werden, wird das Bearbeitungssubstrat
zusammen mit der Drehbasis gedreht, und der Außenumfangsplatte,
so dass verschiedene Abschnitte einschließlich der rückwärtigen Oberfläche
des Substrats gereinigt und getrocknet werden können. Daher
kann eine unzureichende Reinigungswirkung bei der rückwärtigen
Substratoberfläche sowie eine Substratverunreinigung verhindert
werden. Weiterhin können eine Saugleitung und eine Dichtungseinheit
einen einfachen Aufbau aufweisen, und kann die erforderliche Antriebsleistung verringert
werden.
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Vorzugsweise
weist die Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung darüber hinaus
eine Reinigungsflüssigkeits-Zufuhrvorrichtung auf, welche
eine Reinigungsflüssigkeit zur Drehbasis zuführt,
wobei das Bearbeitungssubstrat durch den Substrathaltetisch und
den Flüssigkeitsaufnahmeraum gehaltert wird.
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Bei
dieser Anordnung kann die Reinigungsflüssigkeits-Zufuhrvorrichtung
den Flüssigkeitsfilm bei der Entwicklungsbearbeitung ausbilden,
und kann die Reinigungsflüssigkeit in dem Reinigungsprozess
zuführen. Daher können der Wirkungsgrad der Entwicklungsbearbeitung
und der Reinigungsbearbeitung verbessert werden.
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Weiterhin
weist bei der voranstehenden Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
der Substrathaltetisch ein erstes, ringförmiges Dichtungsteil auf,
das in engen Kontakt mit der rückwärtigen Oberfläche
der Außenumfangsplatte über den gesamten Umfang
versetzt werden kann, ein zweites ringförmiges Dichtungsteil,
das in enge Berührung mit der rückwärtigen
Oberfläche der Drehbasis über den Umfang versetzt
werden kann, sowie eine Saughalteeinheit, welche eine enge Berührung
mit der rückwärtigen Oberfläche des Bearbeitungssubstrats
herstellt, und das Bearbeitungssubstrat durch Saugwirkung haltert.
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Vorzugsweise
weisen bei der voranstehend geschilderten Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung das
erste und das zweite, ringförmige Dichtungsteil flexible
Dichtungsstücke auf, die sich schräg zu den Zielbereichen
der engen Berührung erstrecken, die durch die rückwärtige
Seite der Außenumfangsplatte bzw. die rückwärtige
Seite der Drehbasis gebildet werden.
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Bei
der voranstehend geschilderten Anordnung haltert der Substrathaltetisch
das Werkstücksubstrat durch Saugeinwirkung, gelangt in
enge Berührung mit der rückwärtigen Oberfläche
der Außenumfangsoberfläche über seinen
Umfang mit dem ersten ringförmigen Dichtungsteil, das dazwischen
angeordnet ist, und gelangt in enge Berührung mit der rückwärtigen
Oberfläche der Drehbasis über seinen Umfang mit
dem zweiten, ringförmigen Dichtungsteil, das dazwischen
angeordnet ist, so dass ein Flüssigkeitsaufnahmeraum ausgebildet
werden kann, der eine hohe Wasserdichtigkeit aufweist. Daher kann der
Wirkungsgrad der Entwicklungsbearbeitung verbessert werden. Durch
Ausbildung des Dichtungsstückes sowohl an dem ersten als
auch an dem zweiten ringförmigen Dichtungsteil wie voranstehend
geschildert wird ermöglicht, die Kontaktfläche
der Dichtungseinheit zu vergrößern, im Vergleich
zu einem O-Ring, und kann hierbei die Einstellung einfacher durchgeführt
werden.
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Vorzugsweise
weist bei der voranstehend geschilderten Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung der
Substrathaltetisch einen zylindrischen Körper auf, der
ein geschlossenes Ende und ein Durchgangsloch aufweist, zur drehbaren
Einführung einer Drehwelle der Drehbasis, und eine Saughalteeinheit, die
gegenüber einer Unterseite des Körpers vorsteht, und
eine Saugöffnung an ihrer oberen Oberfläche aufweist,
um das Werkstücksubstrat durch Saugwirkung anzuziehen.
Das erste, ringförmige Dichtungsteil ist auf einer oberen
Oberfläche einer Seitenwand des Körpers angeordnet,
und das zweite, ringförmige Dichtungsteil ist auf einem
Rand des Durchgangslochs an der Unterseite des Körpers
angeordnet.
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Vorzugsweise
ist bei der voranstehend geschilderten Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
ein Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitt der Saughalteeinheit
horizontal flach ausgebildet, und ist eine obere Oberfläche
der Saughalteeinheit mit Ausnahme des Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitt
schräg ausgebildet, so dass sie sich nach unten von innen
zur Außenseite in Radialrichtung des Substrathaltetisches
erstreckt.
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Bei
der voranstehend geschilderten Anordnung kann ein Raum zwischen
der Dreheinheit, also der Drehbasis und der sich nicht drehenden
Einheit, also der Substrathaltetisch, einfach und verlässlich abgedichtet
werden. Da der Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitt der Saughalteeinheit
in Horizontalrichtung flach ausgebildet ist, und die obere Oberfläche
der Saughalteeinheit mit Ausnahme des Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitts
schräg ausgebildet ist, so dass er nach unten von einem
Innenrand zum Außenrand verläuft, kann eine Flüssigkeit,
die an der oberen Oberfläche der Saughalteeinheit anhaftet, einfach
von dort aus abgelassen werden. Daher wird ermöglicht,
beispielsweise eine derartige Situation zu verhindern, bei welcher
die Flüssigkeit, die nach dem Reinigungsprozess übrig
bleibt, an der rückwärtigen Oberfläche
des Substrats erneut anhaftet.
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Vorzugsweise
ist bei der voranstehend geschilderten Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung der
Substrathaltetisch an seiner Unterseite mit einer Ablassöffnung
versehen, und verläuft eine untere Oberfläche
des Substrathaltetisches schräg nach unten zu der Ablassöffnung.
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Bei
dieser Anordnung kann die in dem Flüssigkeitsaufnahmeraum
aufbewahrte Flüssigkeit durch die Ablassöffnung
abgelassen werden, die an der Unterseite des Substrathaltetisches
vorgesehen ist, und kann die Flüssigkeit, die an der Unterseite
anhaftet, einfach von der Unterseite abgelassen werden. Daher wird
ermöglicht, verlässlich beispielsweise eine derartige
Situation zu verhindern, bei welcher die Flüssigkeit, die
nach dem Reinigungsprozess übrig bleibt, erneut an der
rückwärtigen Oberfläche des Substrats
anhaftet.
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Vorzugsweise
ist bei der voranstehend geschilderten Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
ein Vibrator auf einer unteren Oberfläche einer Unterseite
vorgesehen, welche den Flüssigkeitsaufnahmeraum des Substrathaltetisches
festlegt, und ist ein Ultraschallgenerator an den Vibrator angeschlossen.
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Bei
der voranstehend geschilderten Anordnung legt dann, wenn das Bearbeitungssubstrat
gereinigt wird, der Ultraschallgenerator eine Funkfrequenzspannung
mit geeigneter Frequenz an den Vibrator an, um diesen zu erregen.
Daher treten Ultraschallschwingungen auf, und breiten sich durch
die Flüssigkeit aus, die in dem Flüssigkeitsaufnahmeraum
gespeichert wird, damit der flüssige Entwickler entfernt
wird, der an der rückwärtigen Oberfläche
des Substrats anhaftet. Daher kann der Reinigungswirkungsgrad verbessert
werden.
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Die
voranstehenden und weitere Ziele, Merkmale, Aspekte und Vorteile
der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden, detaillierten
Beschreibung der vorliegenden Erfindung im Zusammenhang mit den
beigefügten Zeichnungen noch deutlicher. Bevorzugte Ausführungsformen
der Erfindung werden nachstehend im Einzelnen unter Bezugnahme auf
die beigefügten Zeichnungen beschrieben. Es zeigt:
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1 einen
schematischen Querschnitt einer ersten Ausführungsform
einer Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung gemäß der
Erfindung;
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2 eine
Aufsicht auf die Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung;
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3 einen
Querschnitt eines Düsenkopfes bei der Erfindung;
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4A und 4B eine
Aufsicht, die eine Drehbasis bei der Erfindung zeigt, bzw. eine
Perspektivansicht, die in vergrößertem Maßstab
einen Abschnitt IVB in 4A zeigt;
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5 eine
Aufsicht auf den Substrathaltetisch gemäß der
Erfindung;
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6 eine
Querschnittsansicht entlang der Linie VI-VI in 5;
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7A und 7B Aufsichten,
die eine Saughalteeinheit des Substrathaltetisches gemäß der
Erfindung bzw. einen vergrößerten Querschnitt entlang
der Linie VIIB-VIIB in 7A zeigen;
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8A und 8B einen
Querschnitt eines ersten bzw. zweiten, ringförmigen Dichtungsteils
gemäß der Erfindung;
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9A bis 9I schematische
Querschnitte, welche Bearbeitungsschritte der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
gemäß der Erfindung zeigen;
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10 ein
Flussdiagramm, das die Bearbeitungsschritte der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
gemäß der Erfindung zeigt;
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11 einen
schematischen Querschnitt, der einen Hauptabschnitt einer zweiten
Ausführungsform der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
gemäß der Erfindung zeigt.
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Bei
den nachstehend geschilderten Ausführungsformen wird eine
Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung gemäß der
Erfindung bei einer Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung eingesetzt,
die eine Entwicklungsbearbeitung auf einem Bearbeitungssubstrat
(beispielsweise einem zu bearbeitenden Substrat) für eine
Photomaske durchführt, beispielsweise bei einem Glassubstrat
für einen Retikel.
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1 ist
ein schematischer Querschnitt, der eine erste Ausführungsform
der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung gemäß der
Erfindung zeigt, und 2 ist eine schematische Aufsicht
auf die Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung.
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Die
Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung gemäß der
Erfindung weist ein Gehäuse 1 auf. In dem Gehäuse 1 weist
die Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung eine Drehbasis 2 zum drehbaren
Haltern eines Glassubstrats G auf (welches nachstehend einfach als
"Substrat G" bezeichnet wird), eine Außenumfangsplatte 3 (die
nachstehend als eine "Annäherungsstufe 3" bezeichnet
wird), welche den Außenumfang des Substrats G umgibt, das
auf der Drehbasis 2 gehaltert ist, zur Ausbildung eines
Flüssigkeitsfilms, der sich durchgehend über die
gesamte Oberfläche und fluchtend mit der Oberfläche
des Substrats G erstreckt, einen Substrathaltetisch 4,
der vertikal beweglich in Bezug auf die Drehbasis 2 angeordnet
ist, um das Substrat G durch Saugeinwirkung zu haltern, und einen
Düsenkopf 5, der sich entlang der Oberfläche
des Substrats G bewegen kann, das auf dem Substrathaltetisch 4 gehaltert
wird, und gleichzeitig einen flüssigen Entwickler in Bezug
auf das Substrat G zuführen und ansaugen kann.
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Die
Drehbasis 2, die Annäherungsstufe 3 und
der Substrathaltetisch 4 können in einem Becher 6 aufgenommen
sein. Eine Reinigungsflüssigkeits-Zufuhrvorrichtung 8 ist
außerhalb des Bechers 6 vorgesehen, um eine Reinigungsflüssigkeit
(also eine Spülflüssigkeit) wie etwa sauberes
Wasser der Drehbasis 2 zuzuführen, dem Substrat
G, das auf dem Substrathaltetisch 4 gehaltert wird, und
einen Flüssigkeitsaufnahmeraum 7, der nachstehend
genauer erläutert wird.
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Bei
der voranstehend geschilderten Anordnung, wie dies in den 4A und 4B gezeigt
ist, besteht die Drehbasis 2 aus einem scheibenartigen Basisabschnitt 11,
der mit einer Drehwelle 10 gekuppelt ist, horizontalen
Halterungen 12, die sich von vier radial äußeren
Abschnitten des Basisabschnitts 11 jeweils aus erstrecken,
einem ringförmigen, horizontalen Stück 13,
das mit Enden der horizontalen Halterungen 12 gekuppelt
ist, ersten Halterungssäulen 14, die sich von
vier Abschnitten des ringförmigen, horizontalen Stücks 13 jeweils
nach oben erstrecken, und einem Paar von Positionierungsstiften 15,
die von der Oberseite jeder ersten Halterungssäule 14 vorstehen,
um eine Ecke eines Substrats G zu haltern. Zweite Halterungssäulen 16 stehen
gegenüber vier Positionen des ringförmigen, horizontalen
Stücks 13 vor, die einen Winkelabstand jeweils
von 45 Grad gegenüber den ersten Halterungssäulen 14 aufweisen.
Die Drehbasis 2 ist mit einer Drehantriebseinheit 17 wie
beispielsweise einem Motor über eine Drehwelle 10 gekuppelt,
und kann sich mit einer vorbestimmten Drehzahl um die Drehwelle 10 herum
drehen.
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Die
Annäherungsstufe 3 weist die Form einer dünnen
Platte auf, die bei Betrachtung von der Oberseite wie in 2 gezeigt
kreisförmig ist, und ist in ihrem Zentrum mit einer rechteckigen Öffnung 3a zur Aufnahme
des Substrats G versehen. Infolge dieser kreisförmigen
Ausbildung der Annäherungsstufe 3 wird ermöglicht,
die Erzeugung einer Turbulenz in der Nähe des Außenumfangs
der Annäherungsstufe 3 zu verhindern, die sich
dreht. Bei dieser Anordnung ist die Annäherungsstufe 3 auf
demselben Niveau wie die Oberfläche des Substrats G oder
auf einem etwas höheren Niveau angeordnet, um beispielsweise
etwa 200 bis 400 Mikrometer. Diese Anordnung kann einen Flüssigkeitsfilm
ausbilden, der sich durchgehend auf derselben Ebene über
der Oberfläche des Substrats G und der Oberfläche
der Annäherungsstufe 3 erstreckt. Die Öffnung 3a der
Annäherungsstufe 3 ist etwas größer
als das Substrat G, und ein Raum 9 ist zwischen dem Substrat
G, das auf dem Substrathaltetisch 4 gehaltert wird, und
der Annäherungsstufe 3 vorgesehen, zur Übertragung
des Substrats G.
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Wie
in den 5 und 6 gezeigt, weist der Substrathaltetisch 4 einen
am Ende geschlossenen zylindrischen Körper 20 auf, der
ein Durchgangsloch 21 aufweist, durch welches sich die
Drehwelle 10 der Drehbasis 2 drehbeweglich erstreckt,
und eine Saughalteeinheit 23, die gegenüber der
Unterseite 22 des Körpers 20 nach oben
vorsteht, und Saugöffnungen 23b aufweist, um das
Substrat G zur oberen Oberfläche 23a anzuziehen.
Eine erste Umfangsnut 24b zum Eingriff mit einem ersten,
ringförmigen Dichtungsteil 25a, das nachstehend
genauer erläutert wird, ist an einer oberen Oberfläche 24a einer
zylindrischen Seitenwand 24 des Körpers 20 vorgesehen. Eine
zweite Umfangsnut 24c zum Eingriff mit einem zweiten, ringförmigen
Dichtungsteil 25b, das nachstehend genauer erläutert
wird, ist an einem Rand um das Durchgangsloch 21 herum
in der Unterseite 22 des Körpers 20 vorgesehen.
Der Substrathaltetisch 4 kann in Vertikalrichtung in Bezug
auf eine Drehbasis 2 durch einen Vertikalantriebsmechanismus 4A bewegt
werden, der beispielsweise als Zylinder, ein Motormechanismus oder
dergleichen ausgebildet ist.
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Das
erste, ringförmige Dichtungsteil 25a ist in die
erste Umfangsnut 24b des Substrathaltetisches 4 eingepasst,
und kann in enger Berührung mit der rückwärtigen
Oberfläche der Annäherungsstufe 3 über
den Umfang stehen, und ein zweites, ringförmiges Dichtungsteil 25b,
das in die zweite Umfangsnut 24c eingepasst ist, kann in
enger Berührung mit der rückwärtigen
Oberfläche der Drehbasis 2 über seinen
Umfang stehen.
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Hierbei
bestehen das erste und zweite, ringförmige Dichtungsteil 25a und 25b beispielsweise aus
einem flexiblen Harz wie PCTFE (Polychlor-Trifluorethylen) oder
PTFE (Polytetrafluorethylen), oder aus einem Gummimaterial, das
eine ausreichende Beständigkeit gegenüber Chemikalien
aufweist, und beispielsweise Silikon enthält, wobei jeweils
ein flexibles Dichtungsstück 25c vorgesehen ist,
das sich schräg zum Ziel der Berührung erstreckt, also
zur rückwärtigen Oberfläche der Annäherungsstufe 3 oder
zur rückwärtigen Oberfläche der Drehbasis 2.
Wie voranstehend geschildert, sind erste und zweite, ringförmige
Dichtungsteile 25a und 25b mit flexiblen Dichtungsstücken 25c versehen,
die sich schräg zu den rückwärtigen Seiten
der Annäherungsstufe 3 bzw. der Drehbasis 2 erstrecken,
so dass Kontaktbereiche in Bezug auf die rückwärtigen
Oberflächen der Annäherungsstufe 3 und
der Drehbasis 2 groß sein können, und
einfach eine Einstellung durchgeführt werden kann.
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Wie
in den 7A und 7B gezeigt,
ist die voranstehend geschilderte Saughalteeinheit 23 als
in Umfangsrichtung unterteilte vier Abschnitte ausgebildet, um eine
gegenseitige Störung mit vier horizontalen Halterungen 12 zu
vermeiden. Jeder unterteilte Abschnitt der Saughalteeinheit 23 ist
an seiner oberen Oberfläche 23a mit zwei Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitten 23c mit
Schlitzform versehen, die sich entlang den Ecken des Substrats G
erstrecken. Jeder Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitt 23c weist
eine horizontal flache Form auf, und die obere Oberfläche 23a mit
Ausnahme des Saugöffnungs-Ausbildungsabschnitts 23c ist
als eine schräge oder sich verjüngende Oberfläche 23d ausgebildet,
die so schräg verläuft, dass sie nach unten gegenüber
dem inneren Rand zum äußeren Rand ausweicht. Diese
Anordnung kann wirksam die Flüssigkeit abziehen, die dazu
neigt, an der oberen Oberfläche 23a der Saughalteeinheit 23 anzuhaften.
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Die
Unterseite 22 des Substrathaltetisches 4 ist an
einem Ort mit einer Ablassöffnung 26 versehen,
und eine untere Oberfläche 22a der Unterseite 22 verläuft
schräg nach unten zur Ablassöffnung 26. Diese
Anordnung kann wirksam die Flüssigkeit abführen,
die dazu neigt, an der unteren Oberfläche 22a der
Unterseite 22 anzuhaften.
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Der
Substrathaltetisch 4 ist an einem geeigneten Ort der Unterseite 22 mit
einem Kanal 22b versehen, der eine Spülflüssigkeit,
beispielsweise reines Wasser, hindurchlässt, die von einer
rückwärtigen Spüldüse 70 eingespritzt
wird (siehe 6).
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Der
Substrathaltetisch 4 mit der voranstehend geschilderten
Ausbildung haltert das Substrat G mittels Saugwirkung. Weiterhin
steht der Substrathaltetisch 4 in engem Kontakt mit der
Annäherungsstufe 3, wobei das erste, ringförmige
Dichtungsteil 25a dazwischen angeordnet ist, und steht
in enger Berührung mit der Drehbasis 2, wobei
das zweite, ringförmige Dichtungsteil 25b dazwischen angeordnet
ist. Hierdurch wird der Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 ausgebildet.
Weiterhin ist das Substrat G drehbar zusammen mit der Drehbasis 2 und
der Annäherungsstufe 3, wenn die Saughalterung
durch den Substrathaltetisch 4 gelöst wird, und
die enge Berührung mit dem ersten und dem zweiten ringförmigen
Dichtungsteil 25a bzw. 25b freigegeben wird. Daher
drehen sich die Drehbasis 2 und die Annäherungsstufe 3 ohne
den sich drehenden Substrathaltetisch 4, so dass die erforderliche
Leistung für die Drehantriebseinheit 17 klein
sein kann.
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Der
Substrathaltetisch 4 weist drei vertikale Durchgangslöcher 27 auf,
die sich jeweils an einem Ort befinden, der eine gegenseitige Störung
mit der Drehbasis 2 verhindern kann, und dem Außenumfangsabschnitt
des Substrats G entspricht. Ein Halterungsstift 28 ist
vertikal beweglich in das Durchgangsloch 27 eingeführt,
um das Substrat G zu haltern und in Vertikalrichtung zu bewegen.
Der Halterungsstift 28 kann in Vertikalrichtung durch eine
Vertikalantriebseinheit 29 wie beispielsweise einen Zylinder bewegt
werden, und kann nach oberhalb der Drehbasis 2 vorgestellt
werden, um das Substrat G zur Drehbasis 2 oder von dieser
weg zu transportieren.
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Die
Drehbasis 2 und der Substrathaltetisch 4 sind
im Becher 6 angeordnet, der die Flüssigkeit aufnehmen
und sammeln kann, die vom Substrat G abgegeben wird oder von dort
herunterfällt. Der Becher 6 weist beispielsweise
eine im Wesentlichen rechteckig-zylindrische Form auf, beispielsweise
mit einem geschlossenen, unteren Ende und einem oberen, offenen
Ende, und deckt die radial äußeren Seiten und unteren
Seiten der Drehbasis 2 und des Substrathaltetisches 4 ab.
Die untere Oberfläche des Bechers 6 ist an ein
Ablassrohr 6a angeschlossen, das beispielsweise in Verbindung
mit einer Ablasseinheit einer Fabrik steht, so dass die Flüssigkeit,
die sich in dem Becher 6 angesammelt hat, nach außen
von der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung abgegeben werden kann.
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Wie
in 2 gezeigt, ist eine erste Bereitschaftsstufe 61 an
einer negativen Seite in Richtung Y (also der linken Seite in 2)
des Bechers 6 angeordnet. An der ersten Bereitschaftsstufe 61 kann ein
Düsenkopf 5, welcher den flüssigen Entwickler und
die Reinigungsflüssigkeit (Spülflüssigkeit)
zuführt und ansaugt, in der Bereitschaftsstufe angeordnet
sein. Der Düsenkopf 5 weist eine im Wesentlichen
rechteckig-quaderförmige Form auf, die in Richtung X verläuft,
und eine Länge von beispielsweise größer
oder gleich einer Abmessung der Seite des Substrats G aufweist.
Der Düsenkopf 5 wird durch einen tor- oder portalartigen
Kopfarm 5b gehaltert, und kann in Horizontalrichtung von
der ersten Bereitschaftsstufe 61 bis zumindest zu einem
Ort in der Nähe eines positiven Endes (dem rechten Ende
in 2) in der Y-Richtung des Bechers 6 durch
einen Horizontalbewegungsmechanismus 5c bewegt werden (also diesen
Bereich abtasten), der beispielsweise als eine Kugelumlaufspindel
ausgebildet ist, die mit dem Kopfarm 5b gekuppelt ist,
und einem zugehörigen Antriebsmotor. Weiterhin kann der
Düsenkopf 5 in Vertikalrichtung durch einen Vertikalantriebsmechanismus
(nicht gezeigt) bewegt werden, etwa einen Zylinder, der an beispielsweise
dem Kopfarm 5b angebracht ist.
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Wie
in 3 gezeigt, verläuft eine untere Oberfläche 5a des
Düsenkopfes 5 in Horizontalrichtung und parallel
zur Oberfläche des Substrats G. Der Düsenkopf 5 ist
an seiner unteren Oberfläche 5a mit einer Flüssigkeitsentwickler-Auslassöffnung 30 versehen,
die in seinem zentralen Abschnitt in Richtung Y angeordnet ist,
also in Bewegungsrichtung des Düsenkopfes 5. Die
Flüssigkeitsentwickler-Auslassöffnung 30 weist
eine Schlitzform auf, die sich in Längsrichtung (Richtung
X) des Düsenkopfes 5 erstreckt, und ist länger
als beispielsweise die Seite des Substrats G, und kann den flüssigen
Entwickler bandförmig abgeben. Die Flüssigkeitsentwickler-Auslassöffnung 30 steht
in Verbindung mit einer ersten Aufnahmeeinheit 31, die
im Inneren des Düsenkopfes 5 vorgesehen ist, und
mit einer Flüssigkeitsentwickler-Versorgungsquelle 32 verbunden
ist, die außerhalb der Entwicklerbearbeitungsvorrichtung über
ein Flüssigkeitsentwickler-Zufuhrrohr 33 angeordnet
ist. Die Flüssigkeitsentwickler-Zufuhrquelle 32 kann
den flüssigen Entwickler mit einer vorbestimmten Flussrate
dem Düsenkopf 5 über das Entwicklerzufuhrrohr 33 zuführen.
Der Düsenkopf 5 kann zeitweilig den zugeführten
flüssigen Entwickler in der ersten Aufnahmeeinheit 31 zum
Zwecke der Druckeinstellung aufbewahren, und kann dann gleichmäßig
den flüssigen Entwickler von der Auslassöffnung 30 für
flüssigen Entwickler abgeben.
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Der
Düsenkopf 5 ist an seiner unteren Oberfläche 5a mit
Saugöffnungen 40 für flüssigen
Entwickler versehen, die an den entgegengesetzten Seiten der Auslassöffnung 30 für
flüssigen Entwickler liegen, um den flüssigen
Entwickler auf dem Substrat G anzusaugen. Jede Saugöffnung 40 für
flüssigen Entwickler weist beispielsweise eine schlitzartige
Form parallel zur Auslassöffnung 30 für
flüssigen Entwickler auf. Die Saugöffnung 40 für
flüssigen Entwickler steht in Verbindung mit einer zweiten
Aufnahmeeinheit 41, die beispielsweise innerhalb des Düsenkopfes 5 vorgesehen
ist, und über eine Saugleitung 43 mit einer Saugvorrichtung 42 verbunden
ist, die außerhalb der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung angeordnet
ist. Die Saugvorrichtung 42 kann ein Ansaugen mit einem
vorbestimmten Druck über die Saugleitung 43 durchführen.
Daher kann ein Fluss des flüssigen Entwicklers von der
Auslassöffnung 30 für flüssigen
Entwickler zur Saugöffnung 40 für flüssigen
Entwickler auf der Oberfläche des Substrats G ausgebildet
werden.
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Der
Düsenkopf 5 ist weiterhin an seiner unteren Oberfläche 5a mit
Auslassöffnungen 50 für Spülflüssigkeit
versehen, die an der Außenseite jeweiliger Saugöffnungen 40 für
flüssigen Entwickler angeordnet sind, um die Spülflüssigkeit
wie beispielsweise reines Wasser abzugeben. Jede Auslassöffnung 50 für
Spülflüssigkeit weist eine schlitzartige Form
auf, parallel beispielsweise zur Auslassöffnung 30 für flüssigen
Entwickler, und kann die Spülflüssigkeit in Form
eines Bandes abgeben, das sich in Richtung X erstreckt. Die Auslassöffnung 50 für
Spülflüssigkeit steht in Verbindung mit einer
dritten Aufnahmeeinheit 51, die innerhalb des Düsenkopfes 5 vorgesehen
ist, und ist über eine Spülflüssigkeits-Zufuhrleitung 53 mit
einer Spülflüssigkeits-Zufuhrquelle 52 verbunden,
die außerhalb der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung angeordnet
ist. Die Spülflüssigkeits-Zufuhrquelle 52 kann
die Spülflüssigkeit mit einer vorbestimmten Flussrate
dem Düsenkopf 5 durch die Spülflüssigkeits-Zufuhrleitung 53 zuführen.
Der Düsenkopf 12 kann zeitweilig die zugeführte
Spülflüssigkeit in der dritten Aufnahmeeinheit 51 zum
Zwecke der Druckeinstellung aufbewahren, und dann gleichmäßig
die Spülflüssigkeit von der Spülflüssigkeits-Auslassöffnung 50 abgeben.
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Wie
in 2 gezeigt, ist eine zweite Bereitschaftsstufe 62 an
der positiven Seite in der Richtung Y des Bechers 6 angeordnet.
An der zweiten Bereitschaftsstufe 62 kann die Spülflüssigkeits-Auslassdüse 8,
welche die Reinigungsflüssigkeits-Zufuhrvorrichtung bildet
(und nachstehend als "Spüldüse 8" bezeichnet
wird) im Bereitschaftszustand angeordnet werden. Die Spüldüse 8 wird
durch ein Ende eines Düsenarms 8b gehaltert, der
beispielsweise an einer Drehantriebswelle 8a angebracht
ist, und kann sich von der zweiten Bereitschaftsstufe 62 zu
einem Ort oberhalb des Zentrums des Substrats G innerhalb des Bechers 6 bewegen,
entsprechend der Drehung der Drehantriebswelle 8a. Die
Spüldüse 8 ist an eine Spülflüssigkeits-Zufuhrquelle 63 angeschlossen,
die beispielsweise außerhalb der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
angeordnet ist, über eine Spülflüssigkeits-Zufuhrleitung 64,
und kann die Spülflüssigkeit (reines Wasser),
das von der Spülflüssigkeits-Zufuhrquelle 63 geliefert
wird, nach unten abgeben.
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Die
Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung mit der voranstehend geschilderten
Ausbildung wird nunmehr unter Bezugnahme auf die 9A bis 9I und
das Flussdiagramm von 10 beschrieben.
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Wenn
ein Transportarm 80 außerhalb der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung
das Substrat G zur Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung transportiert,
nehmen Halterungsstifte 28, die bereits hochgefahren wurden,
das Substrat G auf, und werden dann abgesenkt, um das Substrat G
auf der Drehbasis 2 anzuordnen, und dann dienen Positionierungsstifte 15 zum
Positionieren des Substrats G (S-1; siehe die 9A und 9B).
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Dann
geht der Substrathaltetisch 4 nach oben, um das Substrat
G durch Saugwirkung zu haltern, die von der Saughalteeinheit 23 angelegt
wird, die in Kontakt mit der rückwärtigen Oberfläche
des Substrats G steht. Weiterhin gelangt der Substrathaltetisch 4 in
engen Kontakt mit der Annäherungsstufe 3, wobei
dazwischen das erste, ringförmige Dichtungsteil 25a angeordnet
ist, und gelangt auch in engen Kontakt mit der Drehbasis 2,
wobei dazwischen das zweite ringförmige Dichtungsteil 25b angeordnet ist,
zur Ausbildung des Flüssigkeitsaufnahmeraums 7 (S-2;
siehe 9C). In diesem Zustand bewegt sich
die Spüldüse 8 zu einem Ort oberhalb
des Zentrums des Substrats G, und gibt reines Wasser nach unten
ab, so dass die Spülflüssigkeit (reines Wasser) in
dem Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 aufbewahrt wird,
und ein Flüssigkeitsfilm L über den Oberflächen des
Substrats G und der Annäherungsstufe 3 ausgebildet
wird (S-3; siehe 9D). Auf diese Art und Weise
wird eine Vorbenetzungsbearbeitung durchgeführt, um die
Benetzbarkeit der Oberfläche des Substrats G zu verbessern.
Nach Ausbildung des Flüssigkeitsfilms kehrt die Spüldüse 8 zur
zweiten Bereitschaftsstufe 62 zurück.
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Dann
bewegt sich der Düsenkopf 5 an der ersten Bereitschaftsstufe 61 zu
einem Ort oberhalb der Annäherungsstufe 3, der
an der negativen Seite in Richtung Y in Bezug auf das Substrat G
angeordnet ist, und wird die untere Oberfläche 5a,
welche die Spülflüssigkeits-Auslassöffnungen 50,
die Auslassöffnung 30 für flüssigen
Entwickler, und die Saugöffnungen 40 für
flüssigen Entwickler des Düsenkopfes 5 aufweist,
oberhalb der Annäherungsstufe 3 angeordnet. Dann
geht der Düsenkopf 5 zu einer Startposition in
der Nähe der Oberfläche der Annäherungsstufe 3 herunter.
Dann bewegt sich der Düsenkopf 5 positiv in Richtung
Y (S-4; siehe 9E). Während dieser
Bewegung geben die Spülflüssigkeits-Auslassöffnungen 50 die
Spülflüssigkeit ab, gibt die Auslassöffnung 30 für
flüssigen Entwickler den flüssigen Entwickler
ab, und saugen die Saugöffnungen 40 für flüssigen
Entwickler die Spülflüssigkeit und den flüssigen
Entwickler an, die so abgegeben wurden. Bei dem voranstehend geschilderten
Vorgang ist der Raum zwischen der unteren Oberfläche 5a des
Düsenkopfes 5 und der Oberfläche der
Annäherungsstufe 3 immer mit der Spülflüssigkeit
und dem flüssigen Entwickler gefüllt, und wird
die Bewegung von Blasen auf die obere Oberfläche 5a des
Düsenkopfes 5 verhindert. Wenn sich der Düsenkopf 5 positiv
in Richtung Y über die Oberfläche des Substrats
G bewegt, wird der flüssige Entwickler, der von der Auslassöffnung 30 für
flüssigen Entwickler auf das Substrat G abgegeben wurde,
in die Saugöffnungen 40 für flüssigen
Entwickler eingezogen, die sich an der Vorder- und Hinterseite in
Bewegungsrichtung des Düsenkopfes 5 befinden,
und wird ein Fluss des flüssigen Entwicklers in Form eines
Bandes auf einem Teilbereich der Oberfläche des Substrats
G ausgebildet. Die Oberfläche des Substrats G wird durch
diesen Fluss des flüssigen Entwicklers entwickelt. Saugöffnungen 40 für
flüssigen Entwickler geben sofort aufgelöste Erzeugnisse
ab, die durch die Entwicklung erzeugt wurden.
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Der
Düsenkopf 5 führt eine Bewegung (also eine
Abtastung) zu einem Ort in der Nähe des Endes an der positiven
Seite in Richtung Y der Annäherungsstufe 3 durch,
während er durchgehend den flüssigen Entwickler
zuführt und ansaugt. Daher bewegt sich allmählich
der Bereich, in welchem der Fluss des flüssigen Entwicklers
auftritt, und wird die Entwicklung über der gesamten Oberfläche
des Substrats G durchgeführt. Wenn sich der Düsenkopf 5 zu dem
Ort in der Nähe des Endes an der positiven Seite in Richtung
Y der Annäherungsstufe 3 bewegt hat, werden die
Zufuhr und das Ansaugen des flüssigen Entwicklers und der
Spülflüssigkeit unterbrochen, und kehrt der Düsenkopf 5 zur
ersten Bereitschaftsstufe 61 zurück.
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Nachdem
wie voranstehend geschildert die Entwicklungsbearbeitung beendet
ist, wird die Flüssigkeit (eine Mischung aus dem flüssigen
Entwickler und der Spülflüssigkeit), die in dem
Aufnahmeraum 7 aufbewahrt wird, nach außen durch
eine Ablassöffnung 26 abgegeben (S-5; siehe 9F).
Dann hört der Substrathaltetisch 4 mit der Saughalterung
auf, und geht nach unten, um seinen engen Kontakt in Bezug auf die
Annäherungsstufe 3 und die Drehbasis 2 freizugeben
(S-6; siehe 9G).
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Dann
bewegt sich die Spüldüse 8, die an der zweiten
Bereitschaftsstufe 62 gewartet hat, zu einem Ort oberhalb
des Zentrums des Substrats G, und dreht die Drehbasis 2 das
Substrat G zusammen mit der Annäherungsstufe 3.
Die Spüldüse 8 gibt die Spülflüssigkeit
auf das sich drehende Substrat G ab, um dieses zu reinigen (S-7;
siehe 9H). Bei diesem Vorgang kann
die Reinigungsflüssigkeit beispielsweise von der rückwärtigen
Spüldüse 70 der rückwärtigen
Oberfläche des Substrats G zugeführt werden. Bei
dieser Reinigungsbearbeitung stehen die Drehbasis 2 und
die Annäherungsstufe 3 nicht in Kontakt mit dem
Substrathaltetisch 4, so dass der Abschnitt der rückwärtigen
Oberfläche des Substrats G, der in Kontakt mit der Saughalteeinheit 23 stand, gereinigt
werden kann.
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Nachdem
das Substrat wie voranstehend geschildert über eine vorbestimmte
Zeit gereinigt wurde, wird das Substrat G schnell gedreht, damit
es trocknet (S-8; 9I).
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Nachdem
das Substrat G getrocknet ist, gehen die Halterungsstifte 28 wieder
nach oben, um das Substrat G anzuheben, und transportiert ein Transportarm 80 außerhalb
der Entwicklungsbearbeitungsvorrichtung das Substrat G nach außerhalb von
der Substratbearbeitungsvorrichtung.
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Bei
der voranstehend geschilderten Ausführungsform bewahrt
der Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 die Flüssigkeit
auf, und wird der durchgehende Flüssigkeitsfilm über
den Oberflächen des Substrats G und der Annäherungsstufe 3 ausgebildet.
Daher kann das Eindringen oder Mischen von Blasen in den flüssigen
Entwickler verhindert werden, wenn der Düsenkopf 5 den
flüssigen Entwickler zuführt und ansaugt.
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Weiterhin
wird die Entwicklungsbearbeitung durchgeführt, während
der Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 mit der Flüssigkeit
gefüllt ist. Daher wird ermöglicht, eine derartige
Situation zu verhindern, dass sich die Flüssigkeit auf
dem Substrat G herum auf die rückwärtige Seite
des Substrats G bewegt.
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Weiterhin
kann der Substrathaltetisch 4 von dem Substrat G und der
Annäherungsstufe 3 während der Reinigungsbearbeitung
im Abstand gehalten werden. Daher wird ermöglicht, den
Abschnitt der rückwärtigen Oberfläche
des Substrats G zu reinigen, der in engem Kontakt mit der Saughalteeinheit 23 stand.
Daher wird ermöglicht, zu verhindern, dass ein ungereinigter
Abschnitt in der hinteren Oberfläche des Substrats G vorhanden
ist, und das Substrat verunreinigt ist. Weiterhin weisen die Saugleitung und
die Dichtungseinheit einen einfachen Aufbau auf, und kann die erforderliche
Antriebskraft gering sein.
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Bei
der voranstehend beschriebenen Ausführungsform wird die
Spülflüssigkeit von der Spüldüse 8 auf
die Oberfläche des Substrats G abgegeben, und gibt die
rückwärtige Spüldüse 70 die
Spülflüssigkeit zur rückwärtigen
Oberfläche des Substrats G hin ab. Allerdings kann die
Reinigungsbearbeitung mit einem anderen Verfahren durchgeführt
werden. 11 zeigt ein entsprechendes
Beispiel. Bei dieser Anordnung ist ein Vibrator 101 auf
der unteren Oberfläche des Bodens 22 vorgesehen,
welcher den Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 des Substrathaltetisches 4 bildet,
und ist an einen Ultraschallgenerator 100 angeschlossen,
der mit einer Ultraschallantriebsversorgungsquelle 102 verbunden
ist. Bei dieser Anordnung legt der Ultraschallgenerator 100 eine
Funkfrequenzspannung geeigneter Frequenz an den Vibrator 101 an,
um diesen zu erregen, so dass Ultraschallschwingungen auftreten,
und sich durch die Flüssigkeit ausbreiten, die im Flüssigkeitsaufnahmeraum 7 aufbewahrt
wird, um flüssigen Entwickler zu entfernen, der an der
rückwärtigen Oberfläche des Substrats
G anhaftet (siehe S-9 in 10).
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Bei
der in 11 gezeigten, zweiten Ausführungsform
ist im Übrigen der Aufbau ebenso wie bei der ersten Ausführungsform.
Gleiche Abschnitte sind mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet, und
auf deren erneute Beschreibung wird verzichtet.
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Die
Erfindung kann bei rechteckigen Substraten für Retikel,
LCDs und FPDs (Flachbildschirme) eingesetzt werden, und ebenso bei
kreisförmigen Substraten wie Wafern und bei anderen Platten.
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Obwohl
die vorliegende Erfindung im Einzelnen beschrieben und erläutert
wurde, wird deutlich darauf hingewiesen, dass dies nur zur Erläuterung und
als Beispiel dienen sollte, und nicht einschränkend zu
verstehen ist, da sich der Umfang der vorliegenden Erfindung aus
der Gesamtheit der vorliegenden Anmeldeunterlagen ergibt, und von
den beigefügten Patentansprüchen umfasst sein
soll.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur
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