DE102007057393A1 - Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop - Google Patents
Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop Download PDFInfo
- Publication number
- DE102007057393A1 DE102007057393A1 DE102007057393A DE102007057393A DE102007057393A1 DE 102007057393 A1 DE102007057393 A1 DE 102007057393A1 DE 102007057393 A DE102007057393 A DE 102007057393A DE 102007057393 A DE102007057393 A DE 102007057393A DE 102007057393 A1 DE102007057393 A1 DE 102007057393A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- port
- realized
- calibration
- gate
- measurement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 111
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 73
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 26
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 24
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 15
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 11
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene 1-oxide Chemical compound O=S1CCCC1 ISXOBTBCNRIIQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 208000001848 dysentery Diseases 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000006978 adaptation Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009795 derivation Methods 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000002847 impedance measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000003012 network analysis Methods 0.000 description 1
- 230000003071 parasitic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R35/00—Testing or calibrating of apparatus covered by the other groups of this subclass
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R27/00—Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
- G01R27/28—Measuring attenuation, gain, phase shift or derived characteristics of electric four pole networks, i.e. two-port networks; Measuring transient response
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Measurement Of Resistance Or Impedance (AREA)
Abstract
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Kalibrieren eines n Messtore und m Messstellen (n > 1) aufweisenden vektoriellen Netzwerkanalysators durch aufeinander folgende Messung der Reflexions- und Transmissionsparameter an verschiedenen, zwischen den Messtoren in beliebiger Reihenfolge geschalteten Zweitor-Kalibrierstandards, die alle einen Transmissionspfad aufweisen müssen, und drei verschiedenen zwischen den Messtoren in beliebiger Reihenfolge geschalteten n-Tor-Kalibrierstandards, die keine Transmission aufweisen dürfen.The The invention relates to a method for calibrating a measuring gate and m measuring points (n> 1) having vectorial network analyzer through each other following measurement of the reflection and transmission parameters at different, two-port calibration standards connected in any order between the test ports, all of which must have a transmission path and three different ones between the test ports in any order connected n-port calibration standards, which must have no transmission.
Vektorielle Netzwerkanalysatoren (VNA) dienen der präzisen Vermessung von elektronischen Bauteilen und Komponenten sowie aktiven und passiven Hochfrequenzschaltungen und Hochfrequenzbaugruppen bis hin zu Antennen.vectorial Network analyzers (VNA) are used for precise measurement of electronic Components and components as well as active and passive high-frequency circuits and high frequency assemblies to antennas.
Die in der Hochfrequenztechnik übliche Beschreibungsform des elektrischen Verhaltens von elektronischen Bauteilen und Komponenten erfolgt über deren Streuparameter (auch S-Parameter). Sie verknüpfen nicht Ströme und Spannungen miteinander, sondern Wellengrößen. Diese Darstellung ist den physikalischen Gegebenheiten besonders angepasst. Es werden die so genannten Streuparameter von n-Toren (n = 1, 2, ...) detektiert, die ggf. in 2n-Pol-Parameter (z.B. Z- oder Y-Parameter) umgerechnet werden.The in the high-frequency technology usual Description of the electrical behavior of electronic Components and components take place via their scattering parameters (also S-parameters). They do not link streams and tensions with each other, but wave sizes. This illustration is specially adapted to the physical conditions. It will detects the so-called scattering parameters of n-gates (n = 1, 2, ...), possibly in 2n pole parameters (e.g., Z or Y parameters).
Für die beispielsweise auf ein Zweitor zulaufenden Wellen a1 und a2 und die sich entsprechend in umgekehrter Richtung fortpflanzenden Wellen b1 und b2 gilt die Beziehung: wobei [S] die Streumatrix ist, welche die elektronischen Eigenschaften des Zweitors kennzeichnet.For example, for the waves a 1 and a 2 , which converge, for example, on a two-port, and the waves b 1 and b 2 propagate correspondingly in the opposite direction, the relationship applies: where [S] is the scattering matrix characterizing the electronic properties of the two-port.
Eine so genannte Systemfehlerkorrektur sorgt dafür, dass präzise Messungen der Streuparameter der Bauteile und Komponenten mit vektoriellen Netzwerkanalysatoren überhaupt durchführbar sind. Diese Systemfehlerkorrektur setzt die präzise Messung von Standards voraus, deren elektronisches Verhalten bekannt oder im Rahmen der Systemfehlerkorrektur bestimmbar ist.A so-called system error correction ensures that precise measurements of the scattering parameters of components and components with vectorial network analyzers at all feasible are. This system error correction sets the precise measurement of standards advance, whose electronic behavior is known or under the System error correction can be determined.
Bekanntermaßen werden dazu innerhalb des so genannten Kalibrierverfahrens das Reflexions- und/oder Transmissionsverhalten der unbekannten oder teilweise oder ganz bekannten Kalibrierstandards an mehreren, hinsichtlich Lage und Anzahl zu optimierenden Messstellen vermessen.Be known within the so-called calibration method, the reflection and / or Transmission behavior of unknown or partial or total known calibration standards at several, in terms of location and Measure the number of measuring points to be optimized.
Aus den Messwerten der Kalibrierstandards erhält man über spezielle Rechenverfahren Korrekturdaten, so genannte Fehlergrößen oder -koeffizienten. Mit diesen Korrekturdaten und einer entsprechenden Korrekturrechnung bekommt man für jedes beliebige Messobjekt Messwerte, die von Systemfehlern des vektoriellen Netzwerkanalysators und der Zuleitungen, beispielsweise von Verkopplungen (Übersprecher) oder Fehlanpassungen (Reflexionen), befreit sind.Out The measured values of the calibration standards are obtained via special calculation methods Correction data, so-called error quantities or coefficients. With this correction data and a corresponding correction calculation you get for any measured object measured by system errors of the vectorial network analyzer and the feeder lines, for example of couplings (crosstalk) or mismatches (reflections), are exempt.
Ein bekanntes Kalibrierverfahren für ein Zweitormodell mit 10 bzw. 12 Fehlergrößen ist das so genannte 10-Term- bzw. 12-Term-Verfahren. In der amerikanischen Literatur wird es auch als SOLI (S: Short, O: Open, L: Load = Match, T: Thru) und in Europa als TMSO bezeichnet. Es ist das einzige Systemkalibrierverfahren für Zweitor-Netzwerkanalysatoren mit lediglich drei Messstellen, einer Messstelle am für beide Tore gemeinsamen Messkanal vor dem Schalter, welcher jeweils eines der Tore zur Messung schaltet, und jeweils einer weiteren Messstelle an dem Messkanal jedes Tores. Bei dieser Anordnung der Messstellen ist jedoch der Schalter in die Messung der Kalibrierstandards integriert.One known calibration method for a two-standard model with 10 or 12 error quantities is the so-called 10-term or 12-term procedure. In American literature it is also called SOLI (S: Short, O: Open, L: Load = Match, T: Thru) and referred to in Europe as TMSO. It is the only system calibration method for two-port network analyzers with only three measuring points, one measuring point on for both Gates common measuring channel in front of the switch, which one each the gates for the measurement switches, and in each case another measuring point at the measuring channel of each gate. With this arrangement of measuring points however, the switch is integrated into the measurement of calibration standards.
Bei diesem in der Praxis am häufigsten eingesetzte TMSO-Kalibrierverfahren müssen zur Ermittlung der Korrekturdaten zunächst die beiden Messtore verbunden werden, was dem Kalibrierstandard T (T = Thru) entspricht. Danach muss man an jedem Messtor drei bekannte Eintore, z.B. die Kalibrierstandards Wellensumpf (M = Match), Kurzschluss (S = Short) und Leerlauf (O = Open) kontaktieren und vermessen.at this in practice most often used TMSO calibration procedure have to To determine the correction data, the two test ports are first connected which corresponds to the calibration standard T (T = Thru). After that At each gate, three known gates, e.g. the calibration standards Wellsock (M = match), short circuit (S = short) and idle (O = Open) and measure.
Das Mehrtor-Messproblem besteht darin, dass alle Messtore über das Messobjekt miteinander verkoppelt sind. Man erhält somit nicht mehr an einer Messstelle ein Maß für die hinlaufende, an der nächsten ein Maß für die reflektierte und letztlich an einer weiteren ein Maß für die transmittierte Welle, das von den Abschlüssen des Mehrtores unabhängig ist, sondern man muss zusätzlich die Reflexionseigenschaften der anderen Messtore im Modell berücksichtigen.The multi-port measurement problem consists of the fact that all the test ports are coupled together via the test object. It is thus no longer possible to obtain a measure for the traversing at one measuring point, a measure for the reflected one at the next, and finally a measure for the transmitted wave which is independent of the terminations of the multi-port at another at take into account their measuring gates in the model.
Für dieses
Mehrtor-Messproblem wurden in den letzten Jahren einige Lösungen publiziert
und patentiert. Die Lösung
des Mehrtor-Messproblems
von Ferrero, beschrieben in
In
Die
Multiport-7-Term-Verfahren, welche in
Ein
weiteres Verfahren des Unternehmens ATN wird in der amerikanischen
Patentschrift
Die Kalibriereinrichtung enthält neben den Standards Open, Short und Match (auch Termination) eine Anordnung verschiedener Transmissionsleitungen, die über Halbleiterschalter zwischen die Anschlüsse der Kalibriereinrichtung geschaltet werden können. Somit müssen alle Standards wie beim TMSO-Verfahren vollständig bekannt sein. Im Gegensatz zur Aussage im Abstract findet jedoch keine vollständige Mehrtorkalibrierung und -fehlerkorrektur statt.The Includes calibration in addition to the standards Open, Short and Match (also Termination) an arrangement different transmission lines, the semiconductor switch between the connections the calibration device can be switched. So everyone has to Standards as in the TMSO process to be completely known. In contrast however, the statement in the abstract does not find complete multi-well calibration and error correction instead.
Stattdessen werden nur Zweitor-Pfade kalibriert, die restlichen Tore werden nicht berücksichtigt (Spalte 18, Zeile 57). Im späteren Messbetrieb werden nacheinander Zweitor-Messungen durchgeführt. Dabei werden die in der Kalibrierung nicht eingeschlossenen Messtore nacheinander durch innerhalb des Testsets eingebaute unterschiedliche Reflexionsstandards abgeschlossen. Für jeden Wert des Reflexionsstandards wird genau eine 2-Tor-Messung durchgeführt (Spalte 21, Zeile 1). Nachdem die Messungen an allen Messtoren durchgeführt wurden, kann aus den erhaltenen Messwerten und den bekannten Werten der Reflexionsstandards ein um die systematischen Fehler korrigiertes Ergebnis berechnet werden. Für die Vermessung eines 3-Tor-Prüfobjektes sind laut Patentschrift 2 Zweitor-Messungen von Tor 1 nach Tor 2 und von Tor 1 nach Tor 3 notwendig (Spalte 21, Zeile 1 und Zeile 45), wobei zur vollständigen Charakterisierung aller Parameter das nicht eingeschlossene dritte Tor des Prüfobjektes bei der Messung von Tor 1 nach Tor 2 durch mindestens 3 unterschiedliche Reflexionsstandards abgeschlossen werden muss (Spalte 21, Zeile 28). Dies bedeutet, dass zur vollständigen Charakterisierung eines 3-Tores 3 + 1 = 4 Zweitor Messungen erforderlich sind.Instead only two-port paths will be calibrated, the remaining goals will be not considered (Col. 18, line 57). In the later Measuring operation successively two-port measurements are performed. there The measuring gates not included in the calibration are successively by different reflection standards built in within the test set completed. For every value of the reflection standard becomes exactly a 2-port measurement carried out (Col. 21, line 1). After measurements have been taken at all test gates, can be calculated from the obtained measured values and the known values of Reflection standards corrected for the systematic errors Result can be calculated. For the measurement of a 3-door test object are according to patent document 2 two-port measurements from port 1 to port 2 and from port 1 to port 3 (column 21, line 1 and line 45), whereby the complete Characterization of all parameters not included third Gate of the test object when measuring from gate 1 to gate 2 by at least 3 different ones Reflection standards must be completed (column 21, line 28). This means that to fully characterize a 3-gates 3 + 1 = 4 two-port measurements are required.
In
der
Problematisch ist jedoch in jedem Fall, dass die Messung elektro nischer Bauteile im Wafer-Verband (On-Wafer-Messungen) besonderen Randbedingungen unterliegt, insbesondere hinsichtlich der Realisierbarkeit der Kalibrierstandards.Problematic However, in any case, that is the measurement of electronic components in the wafer dressing (on-wafer measurements) special boundary conditions subject, in particular, with regard to the feasibility of the calibration standards.
Im Halbleiterbereich ist es nicht unüblich, dass Anwender auf den Wafern selbst die Kalibrierstandards realisieren. Die geometrische Reproduzierbarkeit und Gleichheit von derartig selbst gefertigten Kalibrierstandards ist sehr hoch. Vorteilhaft ist dabei auch, dass sich die Kalibrierstandards auf dem gleichen Substratträger (Halbleiter) befinden wie auch die Messobjekte. Neben den Vorteilen der geringen Verfahrwege können außerdem parasitäre Elemente sowie Übergangseffekte von der Messspitze zum Wafer „herauskalibriert" werden. Jedoch werden die elektronischen Eigenschaften nur in guter Näherung realisiert. Insbesondere der Reflexionsstandard Leerlauf lässt sich nicht mit der notwendigen Güte herstellen.in the Semiconductor sector, it is not uncommon that users on the Wafern even realize the calibration standards. The geometric Reproducibility and equality of such self-made Calibration standards is very high. It is also advantageous that the calibration standards are on the same substrate carrier (semiconductor) are as well as the measurement objects. Besides the advantages of the low Travels can Furthermore parasitic Elements as well as transition effects However, it will be "calibrated out" from the tip to the wafer the electronic properties realized only to a good approximation. Especially the standard of reflection idle does not match the necessary Produce goodness.
Die Reflexionsstandards (R) lassen sich auf Halbleitern sehr genau beschreiben, variieren jedoch in der Regel sehr stark bzgl. der Gleichstrom-Widerstandswerte. Bei den beschriebenen verfahren nach dem Stand der Technik ist es notwendig, dass R-Standards mit möglichst identischem Reflexionsverhalten an jedem Messtor angeschlossen werden. Kann dieses nicht gewährleistet werden, wie es bei Mehrtor-On-Wafer-Messungen der Fall ist, da Standards regelmäßig im 90°-Winkel zueinander angeordnet werden, so kommt es zu so genannten Verspannungen, die regelmäßig die Quelle für sehr große Messfehler sind.The Reflection standards (R) can be described very precisely on semiconductors, however, they usually vary very much in terms of DC resistance values. It is the described prior art method necessary that R standards with as identical as possible reflection behavior be connected to each test port. Can not guarantee this As is the case with multi-port on wafer measurements, there are standards regularly at 90 ° to each other are arranged, so it comes to so-called tension, the regularly the Source for very big Measuring errors are.
Ein weiteres Problem sind die Anzahl der Messstellen, die insbesondere bei automatischen Messungen zu optimieren sind, um aparativen Aufwand und Kosten zu sparen und dennoch reproduzierbare Messergebnisse zu erzielen. Hierbei stehen sich die insbesondere auf Wafer-Ebene dargelegte mangelhafte Realisierbarkeit von Kalibrierstandards mit bekannten Eigenschaften und das Erfordernis zur Minimierung der Messstellen gegenüber. Denn einerseits erfordert die Verwendung unbekannter Standards die Anwendung des 7- Term-Verfahrens, um die Streuparameter dieser Standards zu ermitteln. Andererseits ist das 7-Term-Verfahren wegen der oben genannten Fehleranfälligkeit für den Einsatz von nur n + 1 Messstellen, bei denen an jeder Zuleitung zu einem Tor eine und vor dem Schalter zur Schaltung des jeweiligen Tores eine weitere Messstelle angeordnet ist.One Another problem is the number of measuring points, in particular to optimize for automatic measurements to aparativen effort and save costs and yet reproducible measurement results to achieve. Here are the particular on wafer level lacking feasibility of calibration standards known characteristics and the need to minimize the measuring points across from. On the one hand, the use of unknown standards requires the Application of the 7-term method, to determine the scattering parameters of these standards. on the other hand is the 7-term method because of the above error rate for the Use of only n + 1 measuring points, where at each supply line to a gate one and in front of the switch to the circuit of the respective one Tores another measuring point is arranged.
Somit liegt der Erfindung die Aufgabenstellung zugrunde, ein Verfahren zum Kalibrieren von Netzwerkanalysatoren darzustellen, welche n Messtore aufweisen und der Mehrtormessung auf Halbleiterscheiben dienen, mit dem auch unter Verwendung von anwenderseitig realisierten und von nicht vollständig bekannten Kalibrierstandards eine Optimierung der Anzahl der Messstellen bei weitgehend reproduzierbarer Kalibrierung mit verbesserter Messgenauigkeit möglich ist.Consequently the invention is the task, a method to calibrate network analyzers, which n Have test ports and serve multi-port measurement on semiconductor wafers, with the also using user-implemented and not complete known calibration standards an optimization of the number of measuring points with largely reproducible calibration with improved measurement accuracy possible is.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch Verfahren gelöst, welche durch die Merkmale gemäß Anspruch 1 oder alternativ Anspruch 2 gekennzeichnet sind. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind den abhängigen Ansprüchen zu entnehmen.According to the invention Task solved by methods, which by the features according to claim 1 or alternatively claim 2 are characterized. Advantageous embodiments are entitled to the dependent claims remove.
Die erfindungsgemäßen Verfahren zeichnen dadurch aus, dass in Abhängigkeit von den entsprechend dem eingesetzten Verfahren bekannten und unbekannten Kalibrierstandards und den Anforderungen an die Messqualität die Zahl der Messstellen kleiner sein kann als 2n, z.B. indem an ausgewählten Messleitungen anstelle zweier nur eine Messstelle eingerichtet oder der Schalter für einzelne Kalibriermessungen mit einbezogen wird, wie es von den Netzwerkanalysatoren mit n + 1 Messstellen bekannt ist. Gleichzeitig werden in gewohnter Weise neben den n Impedanzstandards, welche an dem n-fachen Eintor (n-Eintor) gemessen werden, zwei Reflexionsstandards (R), Kurzschlüssen und Leerläufen ähnelnd, vermessen. Damit bietet das angemeldete Verfahren bei Verringerung der Messstellen die gleichen Vorteile, wie das RRMT-Verfahren, nämlich dass die Kalibrierstandards nicht exakt bekannt sein müssen. Folglich lassen sich mit diesen Verfahren und von Anwendern selbst gefertig ten Kalibrierstandards Mehrtor-Messungen mit sehr hoher Präzision und sehr geringen Kosten für die Kalibrierstandards durchführen. Alle erfindungsgemäßen Verfahren sind durch die folgenden Eindeutigkeitskriterien der Kalibrierstandards gekennzeichnet:
- 1.: Die Phase des Reflexionsstandards (R) muss nur auf ±90° bekannt sein. Mehr Informationen werden nicht benötigt. In der Praxis setzt man einen realen Kurzschluss und einen Leerlauf ein. Die Abweichungen zu einem idealen Kurzschluss oder Leerlauf haben keinen Einfluss auf die Messgenauigkeit.
- 2.: Die Impedanzstandards (M) müssen vollständig bekannt sein. Diese können beim RRMT-Verfahren jedoch unterschiedlich sein. Derartige Standards werden oft auch als Transfer-Match bezeichnet.
- 3.: Der Leitungsstandard (T) bei den RRMT-Verfahren nach Anspruch 1 und 2 und ebenso (L) bei den LRRM-Verfahren nach Anspruch 3 und 4 muss vollständig bekannt sein, kann aber eine endliche Dämpfung und ggf. ein bekanntes Reflexionsverhalten aufweisen. Es können zwischen verschiedenen Messtoren auch unterschiedliche Leitungsstandards eingesetzt werden.
- 1 .: The phase of the reflection standard (R) need only be known to ± 90 °. More information is not needed. In practice, a real short circuit and an open circuit is used. The deviations from an ideal short circuit or open circuit have no influence on the measuring accuracy.
- 2 .: The impedance standards (M) must be completely known. However, these may be different in the RRMT procedure. Such standards are often referred to as a transfer match.
- 3: The line standard (T) in the RRMT method according to claim 1 and 2 and also (L) in the LRRM method according to claim 3 and 4 must be completely known, but may have a finite attenuation and possibly a known reflection behavior , Different line standards can be used between different test ports.
Insbesondere die Verwendung des 10-Term-Verfahrens zur Ermittlung der Fehlerkoeffizienten der gemessenen Zweitor-Kalibrierstandards und der Streumatrix erweist sich in Verbindung mit den weiteren Merkmalen des Verfahrens als vorteilhaft, da das 10-Term-Verfahren unempfindlicher gegenüber Modellfehlern reagiert.In particular, the use of the 10-term method for determining the error coefficients of the measured two-port calibration standards and the scattering matrix proves to be advantageous in conjunction with the further features of the method since the 10-term method is less sensitive to model errors acts.
Aufgrund der Kalibriermessungen der n Impedanzstandards an einem n-Eintor liegt ein besonderer Vorteil des Verfahrens darin, dass die Messgenauigkeit gegenüber dem Stand der Technik wesentlich erhöht wird. Abweichungen gegenüber dem gemessenen Referenztor am so genannten Anpassungspunkt (S11 = 0), an welchem die Eigenschaften des M-Standards zu den anderen Messtoren nur „übergerechnet" wird, werden auf diese Weise vermieden. Die im Vergleich zur Messung an einem Eintor erforderlichen zusätzlichen n – 1 Messungen sind bei On-Wafer-Messungen nicht nachteilig, da sie zu einem beträchtlichen Teil vollautomatisch ablaufen und diese Kosten folglich nur einen Bruchteil der Kosten des Gesamtsystems ausmachen und da sie zusätzliche Informationen zur Erhöhung der Qualität des Kalibrierverfahrens liefern.Due to the calibration measurements of the n impedance standards on an n-port, a particular advantage of the method is that the measurement accuracy is significantly increased compared to the prior art. Deviations from the measured reference gate at the so-called adaptation point (S 11 = 0), at which the properties of the M standard are only "extrapolated" to the other test ports, are avoided in this way n-1 measurements are not detrimental to on-wafer measurements as they are fully automated and therefore cost only a fraction of the cost of the overall system and provide additional information to increase the quality of the calibration process.
Darüber hinaus zeichnet sich das RRMT-Verfahren, wie auch die Verfahren nach den Ansprüchen 2 bis 4 dadurch aus, dass sie stets Leitungen für die Verbindungen der Messtore verwenden. Dies entspricht den besonderen Bedingungen von On-Wafer-Messungen, wo sich im Gegensatz zu koaxialen Messungen die Messtore (On-Wafer-Messspitzen oder Probes) nicht unmittelbar verbinden lassen und deshalb niemals ein echter Thru-Standard eingesetzt werden kann.Furthermore The RRMT method, as well as the methods according to the claims 2 to 4 characterized in that they always lines for the connections of the test gates use. This corresponds to the special conditions of on-wafer measurements, where, in contrast to coaxial measurements, the measuring ports (on-wafer probes or Probes) and therefore never a genuine Thru standard can be used.
Übliche und nicht zu vermeidende Schwankungen bei bekannten Gleichstrom-Widerstandswerten der auf Halbleitern vorhandenen Impedanzstandards beeinflussen die Verfahren dieser Erfindung hingegen nicht.Usual and unavoidable fluctuations in known DC resistance values The impedance standards present on semiconductors affect the On the other hand, methods of this invention do not.
Die erfindungsgemäßen Verfahren arbeiten gegenüber den bekannten Verfahren, insbesondere welche Netzwerkanalysatoren mit n + 1 Messstelle verwenden, deutlich präziser und langzeitstabiler, weil bei diesen Verfahren Drifteffekte der elektronischen Umschalter keinen Einfluss auf die Messqualität haben.The inventive method work opposite the known methods, in particular which network analyzers use with n + 1 measuring point, much more precise and long-term stable, because in these methods drift effects of the electronic switch have no influence on the measurement quality.
Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabenstellung wird ebenso durch das Verfahren gemäß den Merkmalen des Anspruchs 2 gelöst. Dieses Verfahren ermöglicht ebenfalls die Verwendung von Reflexionsstandards, welche nicht exakt bekannt sein müssen. Da darüber hinaus die Impedanzstandards am n-Eintor gemessen werden, ermöglicht dieses Verfahren ebenfalls Kalibriermessungen mit hoher Messgenauigkeit.The The object underlying the invention is also by the method according to the features of claim 2 solved. This procedure allows also the use of reflection standards which are not exact must be known. There about it In addition, the impedance standards are measured at the n-gate, this allows Method also calibration measurements with high accuracy.
Da dieses Kalibrierverfahren jedoch das 7-Term-Verfahren für die rechnerische Ermittlung der Fehlerkoeffizienten und der Streumat rix verwendet, wodurch der rechnerische Aufwand verringert wird, und der Thru-Standard anstelle zwischen allen Messtorkombinationen zwischen einem Referenztor und den übrigen n – 1 Toren gemessen wird, findet dieses Verfahren insbesondere bei Mehrtormessungen mit n > 2 Anwendung. Im Folgenden soll es als Mehrtor-RRMT-Verfahren oder GRRMT-Verfahren bezeichnet sein. Die höhere Empfindlichkeit des 7-Term-Verfahrens gegenüber Modellfehlern hat nur geringen Einfluss, da die Impedanzmessung am n-Eintor erfolgt und kein Überrechnen erforderlich ist und da es eine Optimierung des rechnerischen Aufwandes für diese Mehrtore darstellt. Die beschriebenen schaltungs- und messtechnischen Vorteile des RRMT-Verfahrens kennzeichnen auch das Mehrtor-RRMT-Verfahren.There However, this calibration method, the 7-term method for the computational Determining the error coefficients and the litter matrix used, which reduces the computational effort, and the Thru standard instead of between all test tube combinations between a reference gate and the rest n - 1 Gates is measured, this method finds especially in Mehrtormessungen with n> 2 application. in the Hereafter referred to as multi-gate RRMT method or GRRMT method be. The higher one Sensitivity of the 7-term method to model errors has little Influence, since the impedance measurement takes place at the n-gate and no conversion is necessary and there is an optimization of the computational effort for this Represents multiple goals. The described circuit and metrological Advantages of the RRMT procedure also feature the multi-gate RRMT method.
Für Mehrtormessungen mit n > 2 ist es alternativ zu dem RRMT- und dem GRRMT-Verfahren auch möglich, dass die weitere Kalibriermessung anstelle an einem n-Eintor, realisiert mittels n bekannter Impedanzen, an einem Eintor durchgeführt wird, welches mittels einer bekannten Impedanz (z.B. so genannte Wellenabschlüsse mit 50 Ω, M = Match) realisiert ist und die Eigenschaften dieser Impedanz an den übrigen n – 1 Eintoren aus dieser Kalibriermessung rechnerisch ermittelt werden. Diese Ausgestaltungen der Erfindung werden nachfolgend als LRRM- und GLRRM- oder Mehrtor-LRRM-Verfahren bezeichnet. Bei diesen beiden Verfahren findet wiederum eine Optimierung zwischen dem rechnerischen sowie dem schaltungs- und messtechnischen Aufwand für Mehrtore mit Bezug auf die erforderliche Messgenauigkeit statt.For multi-gate measurements with n> 2 it is alternative to the RRMT and the GRRMT method also possible that the further calibration measurement instead of an n-gate, realized by means of n known impedances, performed at a one-port which is detected by means of a known impedance (e.g. wave statements with 50 Ω, M = match) and the properties of this impedance at the rest n - 1 goals calculated from this calibration measurement. These Embodiments of the invention are hereinafter referred to as LRRM and GLRRM- or Multi-port LRRM method. In these two methods finds again an optimization between the computational and the switching and metrological effort for Mehrtore with respect to the required measurement accuracy instead.
Die vier Verfahren, die in dieser Erfindung unter den Ansprüchen 1-4 angemeldet werden, unterscheiden sich bei der Durchführung um einzelne Merkmale, die sich jedoch in der Praxis deutlich auswirken können. Den größten Unterschied gibt es zwischen den RRMT-Verfahren nach den Ansprüchen 1 und 2 und den Mehrtor-LRRM-Verfahren unter den Ansprüchen 3 und 4. Bei den Mehrtor-LRRM-Verfahren wird nur ein Impedanzstandard an einem Tor kontaktiert und vermessen, wobei dieses Tor als Referenztor dient. Hingegen wird bei den beiden RRMT-Verfahren an jedem Tor ein Impedanzstandard, der sich mit keinem anderen Impedanzstandard gleichen muss, kontaktiert und vermessen.The four methods used in this invention among claims 1-4 are logged in, differ in the implementation order individual characteristics, which however have a significant effect in practice can. The biggest difference There is between the RRMT method according to claims 1 and 2 and the multi-port LRRM method among the claims 3 and 4. In the multi-port LRRM process only one impedance standard is contacted and measured at a gate, this gate serves as a reference gate. On the other hand, with the two RRMT method at each gate an impedance standard that matches with none different impedance standard, contacted and measured.
Der Unterschied zwischen den beiden RRMT- bzw. Multiport-LRRM-Verfahren liegt in der Anzahl der T- bzw. L-Messungen. Bei den Verfahren nach Anspruch 1 und 3 benötigt man k Messungen und somit mehr als bei den Verfahren nach den Ansprüchen 2 und 4, wo nur n – 1 Messungen erforderlich sind. Die Verfahren nach Anspruch 1 und 3 zeichnen sich wiederum durch eine größere Robustheit aus. So kann man z.B. zeigen, dass die Transmissionsmessdynamik bei den Verfahren 1 und 3 der des Gerätes entspricht und sie dort angewendet werden, wo die Messdynamik des Netzwerkanalysators erreicht werden soll. Hingegen gibt es bei den Verfahren den Ansprüchen nach 2 und 4 eine deutlich größere Sensibilität bezüglich kleiner Kontaktierungsfehler und Unvollkommenheiten in den Kalibrierstandards. Folglich wird man die Verfahren nach 2 und 4 erst einsetzen, wenn die Anzahl n der Messtore unverhältnismäßig groß ist.The difference between the two RRMT and multiport LRRM methods lies in the number of T or L measurements. The methods according to claims 1 and 3 require k measurements and thus more than in the methods according to claims 2 and 4, where only n-1 measurements are required. The method of claim 1 and 3 are characterized in turn by a greater robustness. So you can show eg that the transmission measurement dynamics in methods 1 and 3 correspond to those of the device and they are applied where the dynamic range of the network analyzer is to be achieved. By contrast, in the methods according to claims 2 and 4 there is a significantly greater sensitivity with respect to small contacting errors and imperfections in the calibration standards. Consequently, the methods according to FIGS. 2 and 4 will not be used until the number n of the measuring gates is disproportionately large.
Mit derartig geringen Ansprüchen an die Kalibrierstandards lassen sich die erfindungsgemäßen Mehrtorkalibrierverfahren auch ausgezeichnet für automatisierte Kalibrierungen von vektoriellen Netzwerkanalysatoren in koaxialen Umgebungen einsetzen. Für Zweitor-Kalibrierungen werden Algorithmen und zugehörige Schaltnetzwerke bereits von mehreren Herstellern vertrieben. Bei Multiport-Kalibrierungen ist die Anzahl der Kontaktierungen der Kalibrierstandards merklich größer, was Zeit und Geld kostet und größere Fehlerrisiken in sich birgt.With such low demands The multi-calibration calibration methods according to the invention can be applied to the calibration standards also excellent for automated calibrations of vector network analyzers in coaxial environments. For two-port calibrations Algorithms and associated switching networks already distributed by several manufacturers. For multiport calibrations the number of contacts of the calibration standards is noticeable bigger, what Time and money costs and greater error risks in harbors.
Die Reflexionsstandards Open und Short, sind besonders geeignet, an den einzelnen Toren physikalisch gleiche Kalibrierstandards zu realisieren, so dass die durch die unbekannten Durchverbindungen erforderlichen Terme zur Ermittlung der Streuparameter auch aus dieser Randbedingung des Verfahrens zu gewinnen. Damit ist es möglich, von der Messung eines der Reflexionsstandards auf die elektronischen Eigenschaften des dazu physikalisch gleichen Standards am anderen Tor zu schliefen.The Reflection standards Open and Short, are particularly suitable to to realize physically the same calibration standards for the individual gates, so that those required by the unknown interconnections Terms for determining the scattering parameters also from this boundary condition to win the process. This makes it possible to measure by measuring the reflection standards on the electronic properties of the to physically same standards at the other gate to sleep.
Vergleichbare
Vorteile erzielt man, wenn sich Transmissionsstandards symmetrisch
zueinander verhalten. In Bezug auf die
Die Erfindung soll nachfolgend anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert werden. Die zugehörige Zeichnung zeigt inThe Invention will be explained in more detail with reference to an embodiment. The associated Drawing shows in
In gleicher Weise ist ein n-Tor mit den Wellen a1 bis an, b1 bis bn und der kennzeichnenden Streumatrix [S] darzustellen.In the same way, an n-port with the waves a 1 to a n , b 1 to b n and the characteristic scattering matrix [S] is to be represented.
Mit
dem Blockschaltbildes der
Für eine hinlaufende
Welle, die durch besagte, kaskadierte Umschalter
In
jeder der mit den beiden Umschaltern
Als
Blockschaltbild ist der Fall eines 4-Tor Netzwerkanalysesystems,
d.h. n = 4, im
Im
In jeder Schalterstellung werden an den jeweils zwei Messstellen die Messwerte mn für das Reflexions- oder das Transmissionsverhalten der realisierten Kalibrierstandards erfasst. Für das Verfahren nach Anspruch 1 sind das sechs Transmissionsstandards bekannter Länge und Dämpfung zwischen den Toren T1 und T2, T3 und T1, T4 und T1, T3 und T2, T2 und T4 sowie T3 und T4 angeschlossen sind. Darüber hinaus sind das die jeweils n-fachen Match-Standards sowie Reflexions-Standards, Kurzschlüssen und Leerläufen ähnelnd, an jedem Eintor, als n-Eintor bezeichnet. Sofern eines der anderen Verfahren zur Anwendung kommt, werden die Messwerte mn entsprechend den dafür beschriebenen Merkmalen gemessen, wobei bei den Verfahren nach Anspruch 2 ein beliebiges der Tore als Referenztor definiert wird und die Zweitore durch dieses Referenztor und jedes der anderen Tore gebildet werden. Aus diesen Messwerten wird, wie nachfolgend beschrieben, die Streumatrix ermittelt.In each switch position, the measured values m n for the reflection or the transmission behavior of the realized calibration standards are recorded at the two measuring points. For the method according to claim 1, the six transmission standards of known length and attenuation between the gates T 1 and T 2 , T 3 and T 1 , T 4 and T 1 , T 3 and T 2 , T 2 and T 4 and T 3 and T 4 are connected. In addition, these are the n-fold match standards as well as reflection standards, short circuits and open-runs similar, at each one-port, referred to as n-gate. If one of the other methods is used, the measured values m n are measured according to the features described therefor, wherein in the method according to claim 2, any of the gates is defined as a reference gate and the two ports are formed by this reference gate and each of the other gates. From these measured values, as described below, the scattering matrix is determined.
Die erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich von der mathematischen Seite in drei Schritte unterteilen:
- 1. die sog. Selbstkalibrierung der unbekannten Reflexionsstandards,
- 2. die sog. direkte Kalibrierung und
- 3. die Systemfehlerkorrektur.
- 1. the so-called self-calibration of the unknown reflection standards,
- 2. the so-called direct calibration and
- 3. the system error correction.
Im
ersten Schritt werden die unbekannten Parameter in den Kalibrierstandards
berechnet. Hier werden Spur- und Determinanteneigenschaften von
Abbildungsmatrizen ausgenutzt, wie in
Beim
zweiten Schritt der direkten Kalibrierung werden die Fehlerkoeffizienten
berechnet. Dies geschieht für
das RRMT-Verfahren nach Anspruch 1 und für das LRRM-Verfahren nach Anspruch
3 auf klassischen Wegen der 10-Term-Verfahren, wie diese in
Für die Verfahren
nach Anspruch 2 und 4 werden Wege der 7-Term-Verfahren zur Berechnung der Fehlerkoeffizienten
ebenfalls in
Beim dritten Schritt zur Durchführung einer Systemfehlerkorrektur werden die Messdaten eines unbekannten Messobjektes von den Fehlern des vektoriellen Netzwerkanalysators und den Zuleitungen korrigiert.At the third step to carry out A system error correction will be the measurement data of an unknown Measured object from the errors of the vector network analyzer and the supply lines corrected.
Für die Verfahren nach Anspruch 1, die auf dem 10-Term-Prinzip basieren, bildet die Ausgangsbasis für die mathematische Beschreibung der 10-Term Mehrtorverfahren (oft auch Multiportverfahren genannt) das oben beschriebene Fehlermodell. Der Einfachheit halber soll hier die mathematische Herleitung nur für den Fall der Vermessung von Dreitoren, durchgeführt werden. Durch eine entsprechende Schalterstellung I, II und III wird ein Quellsignal auf den Zweig des jeweiligen Tores geschalten. Die Verallgemeinerung dieser Vorgehensweise zu n-Toren ist auf einfache Art und Weise möglich.For the procedures according to claim 1, which are based on the 10-term principle forms the Starting point for the mathematical description of the 10-term Mehrtorverfahren (often also called multiport method) the error model described above. For the sake of simplicity, here is the mathematical derivation only in the case the measurement of three-tone, be performed. By an appropriate Switch position I, II and III will be a source signal to the branch switched the respective gate. The generalization of this procedure to n-gates is possible in a simple manner.
Zur Ermittlung der klassischen Fehlermatrizen des 10-Term Modells wird eine Zweitorkalibrierung zwischen jeder der drei möglichen Messtorkombinationen mit der jeweiligen Fehlermatrize [A], [F] und [G] durchgeführt. Es gilt: [F] = [BI]–1 und [G] = [BII]–1.To determine the classical error matrices of the 10-term model, a two-phase calibration is performed between each of the three possible probe stack combinations with the respective error matrices [A], [F] and [G]. The following applies: [F] = [B I ] -1 and [G] = [B II ] -1 .
Für eine erste Schalterstellung I ist die Fehlermatrix [A] das Referenztor, das drei Fehlergrößen enthält, für II ist es [F] und für III [G], Die für jede Schalterstellung zwei anderen Messtore enthalten nur die zwei Fehlergrößen (z.B.; FT, FL) des Transmissionsfehlernetzwerkes. Die zugehörigen Größen sollen im Weiteren abhängig von der Schalterstellung einfach, zweifach und dreifach gestrichen werden. Für den Dreitorfall ergeben sich somit 3·3 + 3·2·2 = 21 Fehlergrößen.For a first switch position I, the error matrix [A] is the reference gate containing three error sizes, for II it is [F] and for III [G], which for each switch position contains two other test gates only the two error sizes (eg; F T , F L ) of the transmission error network. Depending on the position of the switch, the associated variables are to be deleted once, twice and three times. For the three-port case, this results in 3 × 3 + 3 × 2 × 2 = 21 error quantities.
Die Korrekturrechnung der Messwerte des Messobjektes (mi) unter Verwendung der 21 Fehlergrößen lässt sich wie folgt ansetzen: Nach Umstellung erhält man 6 Gleichungen für die 6 Wellengrößen a'1, a'2, a'3, b'1, b'2, b'3.The correction calculation of the measured values of the measurement object (mi) using the 21 error quantities can be set as follows: After conversion '1, a' is obtained 6 equations for the 6 wave parameters A 2, A '3, b' 1, b '2, b'. 3
Genauso verfährt man für die übrigen Schalterstellungen. Diese 3·6 Gleichungen lassen sich in der Gleichung einsetzen. Hierbei bekommt man für jede Schalterstellung die Werte einer Matrixspalte, was letztlich zu einem linearen Gleichungssystem bestehend aus zwei n·n Messwertmatrizen und der n·n Streumatrix führt. Löst man dieses Gleichungssystem nach der [Sx]-Matrix auf, so stehen die fehlerkorrigierten Streuparameter eines n-Tores zur Verfügung.The same procedure is followed for the other switch positions. These 3 · 6 equations can be found in the equation deploy. In this case, one obtains the values of a matrix column for each switch position, which ultimately leads to a linear equation system consisting of two n × n measured value matrices and the n × n scattering matrix. Solving this system of equations according to the [S x ] matrix, the error-corrected scattering parameters of an n-gate are available.
Für die Verfahren nach Anspruch 2 und 4, die auf dem 7-Term-Prinzip basieren bildet die Ausgangsbasis für die mathematische Beschreibung der 7-Term Mehrtorverfahren (oft auch Multiportverfahren genannt) ebenfalls das gleiche Fehlermodell. Der Einfachheit halber soll hier ebenfalls die mathematische Herleitung nur für Fall der Vermessung von Dreitoren durchgeführt werden. Die Verallgemeinerung dieser Vorgehensweise zu n-Toren kann wiederum auf einfache Art und Weise durchgeführt werden, indem man einen Umschalter mit n Ausgangstoren vorsieht und für jedes weitere Tor des Messobjektes zusätzliche Messstellen berücksichtigt.For the methods according to claim 2 and 4, which are based on the 7-term principle, the starting point for the mathematical description of the 7-term Mehrtorverfahren (often called multiport method) forms also the same error model. For the sake of simplicity, the mathematical derivation should also be carried out here only for the case of the measurement of three-ports. The generalization of this procedure to n-gates can in turn be carried out in a simple manner by providing a switch with n output ports and taken into account for each additional gate of the measurement object additional measuring points.
Zur Ermittlung der klassischen Fehlermatrizen des 7-Term Modells wird eine Zweitorkalibrierung zwischen dem Referenztor mit der Fehlermatrix [A] und den Fehlermatrizen [Bi] (i = 1, 2, ..., n) durchgeführt. Die Bezeichnung 7-Term Modell rührt von der Tatsache, dass die zugehörigen 2·2 Fehlermatrizen [A] und [Bi] insgesamt 7 Fehlerterme enthalten, da immer eine der 8 enthaltenen Größen auf 1 gesetzt werden kann.To determine the classical error matrices of the 7-term model, a second calibration is performed between the reference gate with the error matrix [A] and the error matrices [B i ] (i = 1, 2,..., N). The term 7-term model derives from the fact that the associated 2 × 2 error matrices [A] and [B i ] contain a total of 7 error terms, since one of the 8 variables contained can always be set to 1.
Im
Weiteren ist es vorteilhaft, die mathematische Formulierung des
Zweitormodells in der inversen Form der angegebenen Trans missionsparameter
anzusetzen:
- T1 bis T4 T 1 to T 4
- Messtore 1 bis 4test ports 1 to 4
- S1 bis S6 S 1 to S 6
- Transmissionsstandard 1 bis 6transmission standard 1 to 6
- 1010
- Messobjektmeasurement object
- 1111
- Messstellemeasuring point
- 1212
- Umschalterswitch
- 1313
- FehlermatrizeFehlermatrize
- 14a14a
- FehlermatrizeFehlermatrize
- 14b14b
- FehlermatrizeFehlermatrize
- 1717
- Quellesource
- 1818
- Zweigbranch
- 1919
- Zweigbranch
- 2020
- Zweigbranch
- 2121
- Messobjektmeasurement object
Claims (7)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102007057393A DE102007057393A1 (en) | 2006-11-27 | 2007-11-27 | Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102006056191 | 2006-11-27 | ||
| DE102006056191.0 | 2006-11-27 | ||
| DE102007057393A DE102007057393A1 (en) | 2006-11-27 | 2007-11-27 | Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102007057393A1 true DE102007057393A1 (en) | 2008-05-29 |
Family
ID=39326661
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102007057393A Withdrawn DE102007057393A1 (en) | 2006-11-27 | 2007-11-27 | Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102007057393A1 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106062572A (en) * | 2014-03-04 | 2016-10-26 | 株式会社村田制作所 | S parameter derivation method for electric network |
-
2007
- 2007-11-27 DE DE102007057393A patent/DE102007057393A1/en not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106062572A (en) * | 2014-03-04 | 2016-10-26 | 株式会社村田制作所 | S parameter derivation method for electric network |
| CN106062572B (en) * | 2014-03-04 | 2018-10-30 | 株式会社村田制作所 | The S parameter deriving method of circuit network |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE102004020037B4 (en) | Calibration method for performing multi-port measurements on semiconductor wafers | |
| DE102013014175B4 (en) | Method for calibrating a measurement setup | |
| EP2156202B1 (en) | Method and device for the calibration of network analyzers using a comb generator | |
| DE102007027142B4 (en) | Method and device for calibrating a network analyzer for measurements on differential connections | |
| EP0793110B1 (en) | Method for measuring an electronic object with a network analyser | |
| EP0706055B1 (en) | Method for calibrating a network analyzer according to the 7-term principle | |
| WO2013143681A1 (en) | Vectorial network analyser | |
| DE20305226U1 (en) | Device for performing a multi-port passage element, reflection element, line element calibration and measurement | |
| DE4332273A1 (en) | Calibrating network analyser, e.g. for MMIC | |
| DE102009029906A1 (en) | Method for determining electrical properties of electronic components and method for calibrating the measuring unit | |
| DE10106254B4 (en) | Method for error correction by de-embedding scattering parameters, network analyzer and switching module | |
| DE102005025144A1 (en) | A method and apparatus for performing a minimum connection multiple port continuity reflection line calibration and measurement | |
| EP3102961A1 (en) | Time domain measuring method with calibration in the frequency range | |
| DE102007057394A1 (en) | Vector network analyzer calibrating method, involves implementing reflection standards resembling short-circuit and open-circuit operation in which ports are physically equal, and realizing transmission values of port by through connection | |
| DE3912795A1 (en) | Method for calibrating a network analyser | |
| US7769555B2 (en) | Method for calibration of a vectorial network analyzer | |
| DE112005001211B4 (en) | Measurement error correction method and two electronic component characteristic measurement devices | |
| DE19918697A1 (en) | Calibrating vectorial network analyzer | |
| DE19918960B4 (en) | Method for calibrating a vector network analyzer having n measuring gates and at least 2n measuring points | |
| DE102006035827B4 (en) | Method and device for the vectorial measurement of the scattering parameters of frequency converting circuits | |
| DE102007057393A1 (en) | Vectorial multi-port network analyzer calibrating method, involves mathematically determining reflection values of one-port, which is realized by unknown reflective termination to be same as short-circuit and open loop | |
| EP2817650A1 (en) | System and method for calibrating a measuring arrangement and for characterizing a measuring mount | |
| DE4433375A1 (en) | Method for calibrating a network analyser | |
| DE102014019008B4 (en) | Procedure for calibrating a measurement adaptation with two differential interfaces | |
| DE102005013583B4 (en) | Method for measuring the scattering parameters of multi-ports with 2-port network analyzers and corresponding measuring device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |
Effective date: 20130601 |