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DE102007047473B3 - Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbaren rohrförmigen Bauteils - Google Patents

Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbaren rohrförmigen Bauteils Download PDF

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DE102007047473B3
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Klaus Gessner
Ulf Dipl.-Ing. Schümann
Andreas Dipl.-Ing. Stelzer
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Abstract

Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbaren rohrförmigen Bauteils angegeben, bei dem in einer Schmelzform mit einem rohrförmigen Hohlraum ein in axialer Richtung erster Abschnitt des Hohlraumes mit einem nieder schmelzenden Metall gefüllt wird, wobei in dem in axialer Richtung sich anschließenden Abschnitt des Hohlraumes ein mittels eines Pulvers aus hoch schmelzendem Metall hergestellter rohrförmiger poröser Rohling eingebracht wird, und in dem in axialer Richtung sich daran anschließenden Abschnitt des Hohlraumes ein nieder schmelzendes Metall bereitgestellt wird, bevor der Inhalt der Schmelzform im Vakuum für eine zur teilweisen Schmelzdiffusion in den porösen Rohling ausreichende Zeit auf eine ausreichend hohe Temperatur gebracht wird, und nach dem Abkühlen der Schmelzform ein rohrförmiges Bauteil zur Weiterverarbeitung entnommen wird.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbaren rohrförmigen Bauteils.
  • Aus der DE 10 2004 061 497 A1 ist eine Vakuumschaltröhre bekannt, deren Abschirmung einheitlich aus einem Kupfer-Chrom-Schmelzwerkstoff mit einem Kupfer- und Chromanteil von jeweils 50% hergestellt ist.
  • Aus der DE 39 32 159 C2 ist eine Abschirmung einer Vakuumschaltröhre bekannt, welche zwischen zwei Endbereichen aus Edelstahl als erstem Metall einen mittleren Abschnitt aus einem Kupfer-Chrom-Verbundwerkstoff aufweist, bekannt.
  • Aus der DE 44 12 991 A1 ist weiterhin eine Abschirmung für eine Vakuumschaltkammer bekannt, bei der ein Abschirmkörper aus einem Sintermaterial wie beispielsweise Kupfer hergestellt ist.
  • Aus der Patentschrift DE 44 29 379 C2 ist eine Vakuumschaltröhre bekannt, deren zylindrischer Dampfschirm oder Abschirmung ganz aus Kupfer hergestellt ist.
  • Ausgehend von diesem Stand der Technik liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung einsetzbaren rohrförmigen Bauteils anzubieten, welches die Vorteile verschiedener Metalle vereinigt.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung eines derartigen als Abschirmung einsetzbaren rohrförmigen Bauteils sieht als ersten Verfahrensschritt vor, dass in einer Schmelzform mit einem rohrförmigen Hohlraum ein in axialer Richtung erster Abschnitt des Hohlraums mit einem nieder schmelzenden Metall gefüllt wird, wobei in einem weiteren Arbeitsschritt in dem in axialer Richtung sich anschließenden Abschnitt des Hohlraums ein mittels eines Pulvers aus hoch schmelzendem Metall hergestellter rohrförmiger poröser Rohling eingebracht wird, und wobei weiterhin in dem in axialer Richtung sich daran anschließenden Abschnitt des Hohlraums ein nieder schmelzendes Metall bereitgestellt wird, bevor der Inhalt der Schmelzform im Vakuum für eine zur teilweisen Schmelzdiffusion in den porösen Rohling ausreichende Zeit auf eine ausreichend hohe Temperatur gebracht wird, und wobei schließlich nach dem Abkühlen der Schmelzform ein rohrförmiges Bauteil zur Weiterverarbeitung entnommen wird.
  • Ein nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestelltes als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbares rohrförmiges Bauteil aus Metall verfügt zwischen zwei Endbereichen aus einem ersten Metall über einen mittleren Abschnitt verfügt, der ein zweites Metall mit einer Schmelztemperatur aufweist, die höher als die Schmelztemperatur des ersten Metalls ist, und nach dem oben beschriebenen Verfahren hergestellt ist.
  • Dabei ist es besonders von Vorteil, wenn die Endbereiche aus Kupfer bestehen und zwischen den Endbereichen ein mittlerer Abschnitt aus einer Kupfer und Chrom enthaltenden Legierung vorhanden ist.
  • Auf diese Weise wird eine Abschirmung realisiert, die im relevanten Kontaktspaltbereich aus Kupfer-Chrom besteht. Bei einer derartigen Gestaltung zeichnet sich die Abschirmung im Kontaktspaltbereich durch eine hohe Abbrandfestigkeit gegenüber reinem Kupfer aus. Weiterhin ergibt sich der Vorteil der verminderten Leitfähigkeit zur Reduzierung von Wirbelströmen und damit geringerer Wechselwirkungen des Schaltplasmas mit der Abschirmung. Außerhalb des Kontaktspaltbereichs kann das dort vorliegende Kupfer besonders einfach bearbeitet und verformt werden.
  • Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen, bei der teilweise auf die Figuren der Zeichnung Bezug genommen wird.
  • Es zeigen:
  • 1 eine teilweise geschnittene Seitenansicht einer Vakuumschaltröhre gemäß einem Ausführungsbeispiel der Erfindung,
  • 2 eine Pressform zum Herstellen eines Presslings, insbesondere eines CrCu-Rohlings, und
  • 3 eine Schmelzform zur Herstellung einer Abschirmung in Gestalt einer metallischen, überwiegend rotationssymmetrischen Hülle, in der sich die Werkstoffzusammensetzung nur in axialer Richtung heterogen verhält.
  • 1 zeigt eine teilweise geschnittene Seitenansicht einer Vakuumschaltröhre 1, die ein zweiteiliges hohlzylindrisches Keramikgehäuse 2a und 2b aufweist, dessen Gehäuseteile 2a und 2b jeweils stirnseitig durch metallische Deckel 3 und 4 vakuumdicht verschlossen sind, so dass eine Vakuumschaltkammer 5 ausgebildet ist. Der Deckel 3 ist von einer Festkontaktstange 6 vakuumdicht durchgriffen. An dem in der Vakuumschaltkammer 5 angeordneten freien Ende der Festkontaktstange 6 ist ein Festkontakt 7 angeordnet.
  • Der Deckel 4 wird von einer Schaltstange 8 durchragt, die einen Bewegkontakt 9 trägt. Der Bewegkontakt 9 und der Festkontakt 7 weisen Schlitze auf, um ein die Löschung eines gezogenen Lichtbogens unterstützendes Magnetfeld zu erzeugen. Die Schaltstange 8 sowie der Bewegkontakt 9 sind längs beweglich geführt, so dass der Bewegkontakt 9 aus seiner in der in 1 gezeigten Trennstellung heraus in eine Kontaktstellung überführbar ist, in der der Bewegkontakt 9 an dem Festkontakt 7 anliegt und ein Stromfluss über den Vakuumschalter 1 ermöglicht ist. Um für die Beweglichkeit des Bewegkontaktes 9 zu sorgen, ist dieser über einen ein- und ausziehbaren Metallfaltenbalg 10 mit dem Deckel 4 vakuumdicht verbunden.
  • Werden die Kontakte 7 und 9 bei einem über die Vakuumschaltröhre 1 fließenden Strom voneinander getrennt, wird zwischen den Kontakten 7 und 9 ein Lichtbogen gezogen. Im Bereich des Kontaktspaltes kommt es aufgrund der hohen Lichtbogen-temperaturen zu einem Abbrand an den Kontaktflächen der Kontakte 7 und 9 und damit zu einer Bildung von Metalldampf.
  • Um die Ablagerung dieses Metalldampfes an der Innenseite des Keramikgehäuses 2a und 2b zu vermeiden, ist eine Abschirmung 11 vorgesehen. Die zylinderförmige Abschirmung 11 ist als Hülse mit drei Abschnitten 12, 13 und 14 ausgebildet. Die Abschirmung 11 umgibt die aus dem Festkontakt 7 und dem Bewegkontakt 9 bestehende Kontaktanordnung. Die in 1 im Innern der Vakuumschaltröhre 1 dargestellte Abschirmung 11 dient somit zur Vermeidung von Keramikbedampfung der hohlzylindrischen Keramikgehäuse 2a und 2b.
  • Zur Halterung der als Dampfschirm wirksamen hülsenförmigen Abschirmung 11 ist diese mit einem Befestigungselement 16 verbunden, das mit den als Keramikrohr realisierten Gehäuseteilen 2a und 2b fest verlötet ist.
  • Die Abschirmung 11 besteht aus einem Metall, insbesondere Kupfer oder einer Kupfer enthaltenden Legierung, wie beispielsweise Kupfer-Chrom. Vorzugsweise sind die Endbereiche oder Abschnitte 12, 14 aus Kupfer und der mittlere Bereich oder mittlere Abschnitt 13 aus einer Kupfer-Chrom-Legierung hergestellt.
  • Nachfolgend wird beschrieben, wie die metallische, überwiegend rotationssymmetrische Hülle oder Abschirmung 11 mit Hilfe eines Schmelzdiffusionsverfahrens hergestellt werden kann. Das Verfahren zur Herstellung der Abschirmung 11 führt zu einer Abschirmung 11, deren Werkstoffzusammensetzung sich in axialer Richtung heterogen verhält. In der Abschirmung 11 folgen in axialer Richtung abwechselnd auf einen Abschnitt 12 aus Kupfer ein Abschnitt 13 aus Kupfer-Chrom, und dann ein Abschnitt 14, der wieder aus Kupfer besteht.
  • Der Aufbau der Abschirmung 11 aus drei Abschnitten 12, 13 und 14 gestattet es, durch den mittleren Abschnitt 13 einen Mittelschirm für Vakuumschaltröhren so zu realisieren, dass die Abschirmung 11 nur im Kontaktspaltbereich der Kontakte 7 und 9 aus Kupfer-Chrom besteht. Der mittlere Abschnitt 13 aus Kupfer-Chrom hat gegenüber einem Dampfschirm nur aus Kupfer den Vorteil der erhöhten Abbrandfestigkeit des Kupfer-Chroms, der verminderten Leitfähigkeit zur Reduzierung von Wirbelströmen und weiterhin den Vorteil der besseren Eigenschaften von Kupfer-Chrom bei Wechselwirkungen des Schaltplasmas mit der Abschirmung 11.
  • Das Verfahren zur Herstellung der drei Abschnitte 12, 13, 14 aufweisenden Abschirmung 11 beginnt damit, dass ein Rohrabschnitt, Pressling oder Rohling aus gepresstem hochschmelzendem Metall, beispielsweise mechanisch verdichtetem Chrompulver oder gesintertem Chrompulver, hergestellt wird. Dies kann mit Hilfe einer in 2 schematisch dargestellten Pressform 21 aus Stahl oder einer ähnlich aufgebauten Graphitsinterform erfolgen. Die Pressform 21 besteht im Wesentlichen aus einem Basisteil 23 mit einem ebenen Boden und einem ringförmigen umlaufenden Anschlag 25. Der Anschlag 25 bildet eine zylinderförmige Ausnehmung, in die ein Formzylinderkern 27 einsetzbar ist. Zusammen mit einem den Anschlag 25 auf der Außenseite umgreifenden Hohlzylinder 29 bildet der Formzylinderkern 27 einen Ringraum 31. Der Hohlzylinder 29 ist auf einem Flansch 33 des Basisteils 23 unter Zwischenlage eines Gummirings 35 abgestützt.
  • Zur Herstellung des mittleren Abschnittes 13 der Abschirmung 11 wird zunächst ein Rohrabschnitt, Rohling oder Pressling mit Hilfe der Pressform 21 oder einer in der Zeichnung nicht dargestellten Graphitsinterform hergestellt, indem der Ringraum 31 beispielsweise mit einer Mischung aus Chrompulver und Kupferpulver bis zu einer vorbestimmten Füllhöhe aufgefüllt wird. Mit Hilfe eines ringförmigen Pressstempels 32 wird dann das im Ringraum 31 vorhandene Pulver verdichtet. Um die Formstabilität des im Ringraum 31 entstehenden Rohlings zu erhöhen, kann es zweckmäßig sein, das Pulver in einer Graphitsinterform zu sintern statt es in einer Pressform 21 aus Stahl zu verdichten. Das Kupferpulver kann eine Körnung von 40–250 μm und das Chrompulver eine Körnung von 50–300 μm aufweisen.
  • 3 veranschaulicht schematisch eine Schmelzform 41 zur Herstellung der Abschirmung 11 mit den Abschnitten 12, 13 und 14. Die Schmelzform 41 verfügt über eine kreisscheibenförmige Bodenplatte 43 mit einem Zentrierloch 42 und einer kreisförmig umlaufenden Randleiste 44. Die Bodenplatte 43 sowie die anderen im folgenden noch beschriebenen Einzelteile der Schmelzform 41 bestehen vorzugsweise aus Hartgraphit.
  • Das Zentrierloch 42 dient zur Aufnahme eines an einer Formführungssäule 46 ausgebildeten Zapfens 47. Die Randleiste 44 dient zur Führung eines Führungszylinders 48, in den ein unteres Formteil 49, ein mittleres Formteil 51, ein oberes Formteil 53 und ein abschließendes Formteil 55 eingesetzt sind. Die Formteile 49 bis 55 bestehen jeweils aus einem an der Formführungssäule 46 geführten inneren Ringteil 54 und einem vom Führungszylinder 48 geführten äußeren Ringteil 56. Sie berühren sich entlang von Ringflächen, die mit in der Zeichnung erkennbaren Ausnehmungen und Vorsprüngen ineinander greifen. Die Formteile 49 bis 55 bestehen somit jeweils aus einem äußeren Ringteil 56, der gegen den Führungszylinder 48 abgestützt ist, sowie jeweils einem inneren Ringteil 54, der durch die Formführungssäule 46 geführt ist. Zwischen den inneren und äußeren Ringteilen 54, 56 der Formteile 49, 51, 53 und 55 sind jeweils ringförmige oder rohrförmige Hohlräume ausgebildet. Da der Zwischenraum zwischen dem inneren und äußeren Ringteil des unteren Formteils 49 in radialer Richtung kleiner ist als der entsprechende Spalt in den anderen Formteilen 51, 53 und 55, ergibt sich in dem rohrförmigen Hohlraum ein umlaufender Absatz 59.
  • Zur Herstellung der Abschirmung wird der rohrförmige Spalt im Bereich 61 des unteren Formteils 49 mit einem nieder schmelzenden Metall ganz oder teilweise gefüllt. Dabei kann es sich um ein Kupfer-Pulver oder um einen Abschnitt eines Kupfer-Rohres handeln. Der rohrförmige Spaltabschnitt 63 zwischen den beiden Ringteilen des mittleren Formteils 51 dient zur Aufnahme von hoch schmelzendem Metall wie einem rohrförmigen Pressling 65, der beispielsweise in der Pressform 21 aus einer Mischung von Kupferpulver mit einer Körnung von 40–300 μm und Chrompulver mit einer Körnung von 50–300 μm hergestellt wurde.
  • Statt eines Presslings 65 kann auch ein Rohling verwendet werden, der durch Sintern von Chrompulver hergestellt wurde. Dazu kann ein Chrompulver mit einer Körnung von 50–300 μm bei einer Temperatur von 1250°C während 60 min in einem in der Zeichnung nicht dargestellten Vakuumofen geglüht werden. Die Abmessungen des Rohlings oder Presslings 65 sind dabei so gewählt, dass er am umlaufenden Absatz 59 anschlägt und nicht in den Spalt des unteren Formteils 49 absinken kann, auch wenn dieser nur teilweise mit einem Material gefüllt ist. Nach dem Einsetzen des Rohlings oder Presslings 65 in den Spaltabschnitt 63 wird der Spaltabschnitt 67 im Bereich der Formteile 53 und 55 ähnlich wie der rohrförmige Spalt im Bereich 61 mit einem nieder schmelzenden Metall ganz oder teilweise ausgefüllt. Dabei kann es sich wiederum um ein Kupfer-Pulver oder um einen Abschnitt eines Kupfer-Rohres handeln.
  • Wenn die Schmelzform 41 im Vakuum auf die Schmelztemperatur des nieder schmelzenden Metalls, insbesondere des Kupfers, erhitzt wird, füllt das geschmolzene Metall die Schmelzform 41 im unteren Bereich 61 aus. Das niedrig schmelzende Metall, insbesondere Kupfer, im oberen Bereich 67 diffundiert dann durch den Pressling 65 und füllt dessen Poren aus. Dadurch entsteht im rohrförmigen Spaltabschnitt 63 eine Legierung aus dem nieder und hoch schmelzenden Metall. Über die Porigkeit des Rohlings oder rohrförmigen Presslings 65 lässt sich die Legierung in ihrer Zusammensetzung verändern. Bei der vorbeschriebenen Anordnung für die Herstellung der Abschirmung 11 in der Schmelzform 41 wird das niedrig schmelzende Metall aus dem oberen Bereich 67 als Legierungsdepot verwendet. Aus diesem Grunde muss im oberen Bereich 67 eine ausreichende Menge an Material vorgehalten werden, um ein homogenes Gefüge sicherzustellen.
  • Die Einwirkdauer der schmelzflüssigen Phase muss so lange ausgedehnt werden, bis der Rohling oder rohrförmige Pressling 65 vollständig durch das niedrig schmelzende Metall, insbesondere Kupfer, gesättigt ist. Der beschriebene Schmelzvorgang bei einer Temperatur von 1150 bis 1250°C mit einer Haltezeit von 20 bis 60 min erfolgt im Vakuum, um ein Oxidieren der verwendeten Metalle, insbesondere des Kupfers und des Chroms, zu verhindern. Geschieht dies nicht im Vakuum, findet keine Verbindung der Metalle statt.
  • Wenn der in der Schmelzform 41 erstellte Schmelzrohling für die Abschirmung 11 abgekühlt ist, wird er der Schmelzform 41 entnommen. Anschließend kann eine spanabhebende Bearbeitung sowie auch eine spanlose Verformung der Abschirmung 11 erfolgen, um die einbaufertige Abschirmung zu erhalten.
  • Die auf die oben beschriebene Weise hergestellte Abschirmung 11 bildet eine hohlzylinderförmige Hülle, in der sich metallische Materialien in axialer Richtung einander abwechseln, wobei die Übergänge zum mittleren Abschnitt 13 abrupt sind. An einem Übergang liegt immer ein nieder schmelzendes Metall und eine Legierung aus dem nieder schmelzenden und hoch schmelzenden Metall vor. Die beschriebene Kombination von Kupfer-Kupfer-Chrom-Kupfer stellt eine Abschirmung 11 dar, die als Dampfschirm in Vakuumschaltröhren 1 in besonders vorteilhafter Weise eingesetzt wird, um im relevanten Kontaktspaltbereich eine erhöhte Abbrandfestigkeit und Reduzierung von Wirbelströmen zu erzielen.

Claims (8)

  1. Verfahren zur Herstellung eines als Abschirmung in einer Vakuumschaltröhre einsetzbaren rohrförmigen Bauteils, bei dem in einer Schmelzform mit einem rohrförmigen Hohlraum ein in axialer Richtung erster Abschnitt des Hohlraumes mit einem nieder schmelzenden Metall gefüllt wird, wobei in dem in axialer Richtung sich anschließenden Abschnitt des Hohlraumes ein mittels eines Pulvers aus hoch schmelzendem Metall hergestellter rohrförmiger poröser Rohling eingebracht wird, und in dem in axialer Richtung sich daran anschließenden Abschnitt des Hohlraumes ein nieder schmelzendes Metall bereitgestellt wird, bevor der Inhalt der Schmelzform im Vakuum für eine zur teilweisen Schmelzdiffusion in den porösen Rohling ausreichende Zeit auf eine ausreichend hohe Temperatur gebracht wird, und nach dem Abkühlen der Schmelzform ein rohrförmiges Bauteil zur Weiterverarbeitung entnommen wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das nieder schmelzende Metall ein Kupfer-Rohr ist.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das nieder schmelzende Metall Kupfer in Pulverform ist.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der poröse Rohling aus einem aus Kupfer und Chrom bestehenden Pulver durch Pressen in einer Pressform bei einem ausreichend hohem Druck hergestellt wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, bei dem der poröse Rohling dadurch hergestellt wird, dass Chrompulver in einer Sinterform bei einer Temperatur von 1250°C während 60 min in einem Vakuumofen geglüht wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem zur Herstellung des porösen Rohlings Chrompulver mit einer Körnung von 50–300 μm verwendet wird.
  7. Verfahren nach Anspruch 4, bei dem zur Herstellung des porösen Rohlings Kupferpulver mit einer Körnung von 40–300 μm und Chrompulver mit einer Körnung von 50–300 μm verwendet wird.
  8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem die Schmelzform im Vakuumofen auf 1150 bis 1250°C mit einer Haltezeit von 20 bis 60 min erhitzt wird.
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