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DE102006050155A1 - Optical arrangement e.g. gas laser, for forming laser beam, has unit from wave plate, where beam, which can be formed, is divided into two partial beams of different polarizations by unit from wave plate - Google Patents

Optical arrangement e.g. gas laser, for forming laser beam, has unit from wave plate, where beam, which can be formed, is divided into two partial beams of different polarizations by unit from wave plate Download PDF

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DE102006050155A1 DE200610050155 DE102006050155A DE102006050155A1 DE 102006050155 A1 DE102006050155 A1 DE 102006050155A1 DE 200610050155 DE200610050155 DE 200610050155 DE 102006050155 A DE102006050155 A DE 102006050155A DE 102006050155 A1 DE102006050155 A1 DE 102006050155A1
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Abstract

In dieser Patentanmeldung werden optische Anordnungen zur Formung von Strahlen angegeben, bei denen mindestens eine Verzögerungsplatte zur Aufteilung des Strahls mit unterschiedlichen Polarisationen verwendet wird. Die Teilstrahlen unterschiedlicher Polarisationen werden räumlich überlagert.In this patent application, optical arrangements for shaping beams are given in which at least one retarder plate is used for splitting the beam with different polarizations. The partial beams of different polarizations are spatially superimposed.

Description

Stand der TechnikState of the art

Laser gewinnen immer mehr Bedeutung in Materialbearbeitung. Es gibt verschiedene Laser, z. B. Gaslaser, Halbleiterlaser, Faserlaser, Festkörperlaser und Excimer Laser. In meisten Fällen haben die Laser rotationssymmetrische Verstärkungsvolumen, so dass die meisten Laserstrahlen einen runden Strahlquerschnitt aufweisen. Für flächige Bearbeitung, wie Abtragen und Markierung ist aufgrund des runden Strahlquerschnitts ineffektiv für Flächenfüllung. Um flächige Bearbeitung zu ermöglich ist oft hohe prozentige Überlappung der Bearbeitungszonen erforderlich.laser gain more and more importance in material processing. There are different Laser, z. As gas lasers, semiconductor lasers, fiber lasers, solid state lasers and excimer lasers. In most cases the lasers have rotationally symmetric gain volume, so that the Most laser beams have a round beam cross section. For surface processing, how to remove and mark is due to the round beam cross section ineffective for Fill. Around area Editing possible is often high percentage overlap the processing zones required.

Darüber hinaus ist das Intensitätsprofil von Strahlen hoher Qualität gaußförmig. Aufgrund der Intensitätsschwellen unterschiedlicher Prozesse. In diesem Fall trägt die Energie/Leistung unterhalb der Schwellenintensität für die Prozesse nicht bei und stellt als Verlust dar.Furthermore is the intensity profile of high quality beams Gaussian. by virtue of the intensity thresholds different processes. In this case, the energy / power carries below the threshold intensity for the Processes do not and represent a loss.

Optimaler Strahlquerschnitt im Bezug auf Flächenfüllung ist rechteckig bzw. quadratisch. Optimale Intensitätsverteilung im Bezug auf effektive Nutzung von Laserenergie/-leistung ist eine Top-Hat-Verteilung. Zur Generierung von Top-Hat Intensitätsverteilung gibt es unterschiedliche optische Anordnungen.optimal Beam cross-section with respect to surface filling is rectangular or square. Optimum intensity distribution in terms of effective use of laser energy / power is a top hat distribution. There are different ways to generate top-hat intensity distribution optical arrangements.

Zu einem wird oft Integrator wie Leichtwellenleiter mit einem runden oder rechteckigen Querschnitt verwendet. Zu anderen wird zur Homogenisierung der Intensität Mikrolinsenarray verwendet. Ein Nachteil der Anordnungen ist die starke Verlust der Strahlqualität nach der Strahlformung.To One often becomes integrator like light waveguide with a round one or rectangular cross-section used. To others is to homogenization the intensity Microlens array used. A disadvantage of the arrangements is the strong loss of beam quality after beam shaping.

Beschreibungdescription

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf optische Anordnungen, mit den die Intensitätsverteilung homogenisiert werden kann, ohne die Strahlqualität deutlich reduziert wird. Im Folgenden werden die optischen Anordnungen gemäß dieser Erfindung am Beispiel eines eindimensionalen Gaußschen Strahls erläutert.The The present invention relates to optical devices with the intensity distribution can be homogenized without the beam quality is significantly reduced. Hereinafter, the optical arrangements according to this Invention explained using the example of a one-dimensional Gaussian beam.

1 zeigt die Intensitätsverteilung eines Gaußschen Strahls. Es wird vorausgesetzt, dass der Gaußsche Strahl linear polarisiert ist. Wie in 2 und 3 dargestellt ist, wird in den Strahlgang eine lambda/2-Verzörgerungsplatte (7) verwendet. Die lambda/2-Verzörgerungsplatte (7) wird so angeordnet, dass etwa die Hälfte des Strahls die lambda/2-Verzörgerungsplatte durchläuft. Das heißt, dass die Hälfte des Strahlquerschnitts durch die lambda/2-Verzörgerungsplatte (7) gedeckt wird (vgl. 2). Hinter der lambda/2-Verzörgerungsplatte wird der Strahl in zwei Teilstrahlen mit unterschiedlicher Polarisation unterteilt. Die Polarisation des durch die lambda/2-Verzörgerungsplatte durchgelaufenen Teilstrahls wird um 90° gedreht, während die Polarisation des anderen Teilstrahls unverändert bleibt. Dies wird mit den Symbolen Kreis mit einem Punkt und einem Pfeil gedeutet (vgl. 1 und 2). 1 shows the intensity distribution of a Gaussian beam. It is assumed that the Gaussian beam is linearly polarized. As in 2 and 3 is shown in the beam path, a lambda / 2-Verzörgerungsplatte ( 7 ) used. The lambda / 2 retardation plate ( 7 ) is placed so that about half of the beam passes through the lambda / 2 retarder plate. This means that half of the beam cross-section through the lambda / 2-Verzörgerungsplatte ( 7 ) is covered (cf. 2 ). Behind the lambda / 2-Verzörgerungsplatte the beam is divided into two partial beams with different polarization. The polarization of the sub-beam traversed by the λ / 2-retardation plate is rotated by 90 ° while the polarization of the other sub-beam remains unchanged. This is interpreted by the symbols circle with a dot and an arrow (cf. 1 and 2 ).

Zur Aufteilung des Strahls kann auch zwei lambda/4-Verzögerungplatten verwendet werden. Dabei werden die zwei lambda/4-Verzögerungsplatten so angeordnet, dass die jeweils etwa die Hälfte des Strahls abdeckt und einer der Teilstrahlen links und der andere rechts zirkular polarisiert ist.to Splitting the beam can also include two lambda / 4 delay plates be used. Thereby the two lambda / 4-delay plates become arranged so that each covers about half of the beam and one of the partial beams on the left and the other on the right circularly polarized is.

Andere Anordnungen von Verzögerungsplatten können zur Erzeugung von Teilstrahlen, die unterschiedliche Polarisationen haben, verwendet werden.Other Arrangements of retarder plates can for generating partial beams having different polarizations have to be used.

Um die beiden Teilstrahlen räumlich zwecks Homogenisierung zu überlagern, wird ein Prisma (21) verwendet (vgl. 3). Das Prisma bricht einen der beiden Teilstrahlen so, dass die beiden Teilstrahlen sich räumlich schneiden. Die Kurven in 4a und 5a zeigen die Intensitätsverteilungen der beiden Teilstrahlen jeweils an axialen Positionen 101 und 102. Da die beiden Teilstrahlen senkrecht zueinander stehende Polarisationen haben, entspricht die Intensitätsverteilung des Gesamtstrahls der Summe der Intensitäten der beiden Teilstrahlen, wie die 4b für die axiale Position 101 und 5b für die axiale Position 102 zeigen. An der axialen Position überlagern zu einem Gesamtstrahl mit einer in wesentlich homogene Intensitätsverteilung (Top-Hat-Intensitätsverteilung) (vgl. 5b). Andere Intensitätsverteilung des Gesamtstrahls kann an unterschiedlichen Positionen eingestellt werden kann. Die Intensitätsverteilung des Gesamtstrahls kann mit einer geeigneten Optik in die Bedarf/Bearbeitungszone abgebildet werden.To spatially superimpose the two partial beams for homogenization, a prism ( 21 ) (cf. 3 ). The prism breaks one of the two partial beams so that the two partial beams intersect spatially. The curves in 4a and 5a show the intensity distributions of the two partial beams respectively at axial positions 101 and 102 , Since the two partial beams have mutually perpendicular polarizations, the intensity distribution of the total beam corresponds to the sum of the intensities of the two partial beams, such as 4b for the axial position 101 and 5b for the axial position 102 demonstrate. At the axial position superpose a total beam with a substantially homogeneous intensity distribution (top hat intensity distribution) (see. 5b ). Other intensity distribution of the total beam can be set at different positions. The intensity distribution of the total beam can be imaged with a suitable optics in the demand / processing zone.

Eine Variation der Ausführung mit einem Prisma bildet eine Anordnung, wo zwei Prismen verwendet werden, die jeweils ein Teilstrahl zugeordnet werden.A Variation of execution with a prism forms an arrangement where two prisms are used which are each assigned a sub-beam.

Bei den beiden oben genannten Anordnungen wird die Strahlqualität durch die Prismen reduziert. Dies kann vermieden werden, indem doppelbrechende Prismen verwendet wird. 6 zeigt eine beispielhafte Ausführung derartiger Anordnung. Dabei wird ebenfalls eine lambda/2-Verzörgerungsplatte (7) zur Aufteilung des Strahls in zwei Teilstrahlen mit senkrecht zu einander stehender Polarisation verwendet. Die beiden Teilstrahlen laufen durch das doppelbrechende Prisma (26). Aufgrund der unterschiedlichen Polarisation werden die beiden Teilstrahlen durch das doppelbrechende Prisma unterschiedlich gebrochen, so dass die beiden Teilstrahlen sich räumlich scheiden und deren Intensität überlagern. Eine parallele Überlagerung der Intensität von beiden Teilstrahlen kann erreicht, indem ein zweites doppelbrechendes Prisma (26) an der Stelle angeordnet, wo die beiden Teilstrahlen im wesentlich sich gegenseitig decken. Im diesem Fall hat der überlagerte Strahl die höchste Strahlqualität, die bei Multimode-Strahl mit einem Faktor 2 besser ist als die des Ausgangsstrahls.In the two above-mentioned arrangements, the beam quality is reduced by the prisms. This can be avoided by using birefringent prisms. 6 shows an exemplary embodiment of such arrangement. In this case also a lambda / 2-Verzörgerungsplatte ( 7 ) used to divide the beam into two partial beams with polarization perpendicular to each other. The two partial beams pass through the birefringent prism ( 26 ). Due to the different polarization, the two partial beams are under the birefringent prism broken differently, so that the two partial beams divide spatially and their intensity superimposed. A parallel superposition of the intensity of both partial beams can be achieved by using a second birefringent prism ( 26 ) are arranged at the point where the two partial beams essentially cover each other. In this case, the superimposed beam has the highest beam quality, which is a factor of 2 better than that of the output beam in multimode beam.

7a zeigt eine optische Anordnung gemäß vorliegender Patentanmeldung. Dabei werden die beiden Teilsstrahlen unterschiedlicher Polarisation durch den ersten Polarisator (27) aufgespaltet. Der Teilstrahl Strahl mit s-Polarisation (81) wird durch die beiden Umlenkspiegel (28 und 28) und den zwei Polarisator (27 und 27) mit den Teilstrahl (82) im wesentlich parallel zur einander überlagert wird. 7a shows an optical arrangement according to the present patent application. In this case, the two partial beams of different polarization by the first polarizer ( 27 ) split. The partial beam beam with s-polarization ( 81 ) is due to the two deflection mirror ( 28 and 28 ) and the two polarizers ( 27 and 27 ) with the partial beam ( 82 ) is superimposed substantially parallel to each other.

Ein Alternativ zu der in 7a dargestellten Ausführung zeigt die 7b, wo ein Polarisator (23) mit zwei polarisierende Grenzflächen (91 und 92) aufweisen. Dabei wird der s-polarisierte Teilstrahl (81) durch die polarisierende Grenzfläche (92) zuerst nach unten reflektiert. Die polarisierende Grenzfläche (91) reflektiert den Teilstrahl (81) und lenkt ihn wieder in die Richtung des Teilstrahls (82). Danach bereiten die beiden Teilstrahl in wesentlich parallel zu einander.An alternative to the in 7a illustrated embodiment shows the 7b where a polarizer ( 23 ) with two polarizing interfaces ( 91 and 92 ) exhibit. The s-polarized partial beam ( 81 ) through the polarizing interface ( 92 ) reflected first down. The polarizing interface ( 91 ) reflects the partial beam ( 81 ) and directs it again in the direction of the sub-beam ( 82 ). Then prepare the two partial beam in much parallel to each other.

8 zeigt eine Ausführung, wo ein Strahlversetzer (61) verwendet wird. Hinter der lambda/2-Verzögerungsplatte entsteht aus dem linear polarisierten Eingangstrahl zwei Teilstrahlen (81, 82) mit senkrecht zu einander stehender Polarisation. Die beiden Teilstrahlen laufen durch den Strahlversetzer (61). Hinter dem Strahlversetzer werden die beiden Teilstrahlen räumlich überlagert mit gleicher oder in wesentlicher gleicher Ausbreitungsrichtung. Wie die räumliche Überlappung aussehen sollte, kann einfach durch die Länge des Strahlversetzers entlang der Ausbreitungsrichtung bestimmt werden. Da die beiden Teilstrahlen senkrecht zu einander stehende Polarisation haben, entspricht die Intensität des gesamten Ausgangsstrahl (36, 37, 78) der Summe der Intensitäten der beiden Teilstrahlen (vlg. 5b). Damit wird die Interferenz und damit verbundene stark Intensitätsmodulation unterbunden. 8th shows an embodiment where a beam displacer ( 61 ) is used. Behind the lambda / 2 retardation plate, two partial beams are formed from the linearly polarized input beam ( 81 . 82 ) with polarization perpendicular to each other. The two partial beams pass through the beam offset ( 61 ). Behind the beam displacer, the two partial beams are spatially superimposed with the same or essentially the same propagation direction. How the spatial overlap should look like can be determined simply by the length of the beam displacer along the propagation direction. Since the two partial beams have polarization perpendicular to one another, the intensity of the entire output beam ( 36 . 37 . 78 ) of the sum of the intensities of the two partial beams (vg. 5b ). Thus, the interference and associated strong intensity modulation is suppressed.

Beim Beam-Displacer handelt es sich um ein doppelbrechendes Medium, bei der Eintritt in das Medium und Austritt aus dem Medium die Strahlen unterschiedlicher Polarisation unterschiedlich gebrochen wird (vgl. 9). Bei dem Beispiel in 9 fällt ein Strahl, der sowohl s- als auch p-polarisierte Komponente entählt, senkrecht in den Beam-Displacer ein. Der Beam-Displacer ist so konfiguriert, daß beim Eintreten die s-polarisierte Komponente sich ungebrochen wird, während die p-polarisierte Komponente nach oben gebrochen wird. Beim Austreten wird die s-Komponente wie beim Eintreten nicht gebrochen, während die p-polarisierte Komponente nach unten gebrochen wird. Durch Brechung beim Eintreten und Austreten entsteht ein laleraler Versatz zwischen die beiden Komponenten. Beim Beam-Displacer mit parallelen Eintritts- und Austrittsfläche breiten sich dei beiden Strahlen unterschiedlicher Polarisationen nach dem Durchgang mit einem lateralen Versatz parallel aus. Unter den doppelbrechenden Medien sind zu nennen: YVO4, BBO, Quartz, LiNbO3.The beam displacer is a birefringent medium in which the rays of different polarization are refracted differently when entering the medium and leaving the medium (cf. 9 ). In the example in 9 If a beam that includes both s- and p-polarized components falls perpendicularly into the beam displacer. The beam displacer is configured so that upon entering the s-polarized component unbroken, while the p-polarized component is broken up. Upon exit, the s-component is not broken as it did on entry while the p-polarized component is broken down. Refraction as it enters and exits creates a laleral offset between the two components. In the case of the beam displacer with parallel entrance and exit surfaces, the two beams of different polarizations propagate in parallel after the passage with a lateral offset. Among the birefringent media are: YVO 4 , BBO, Quartz, LiNbO3.

Statt Verzögerungsplatte zur Veränderung der Polarisation kann auch ein Rotator aus Quartz, Faraday-Rotator aus TGG oder YIG, oder ein Rotator aus Reflektionsflächen etc. sein. Es hat die Eigenschaft, daß im Element Strahlen unterschiedlicher Polarisation sich unterschiedlich schnell ausbreiten, so daß nach einem Durchgang durch das Element die Phasen unterschiedlicher Polarisation ungleiche Verzögerung erfahren und so relative Beziehung zwischen den unterschiedlichen Polarisationskomponenten und der Polarisationszustand geändert wird. Z. B. bei einer lambda/4-Verzögerungsplatte wird ein linearer polarisierter Strahl zu einem zirkular oder elliptisch polarisierten Strahl. Bei einer lambda/2-Verzörgerungsplatte dreht sich die Polarisation um einen Winkel, der doppelt so groß wie der Winkel zwischen der Eingangspolarisation und der optischen Achse der Platte. Die Verzögerungsplatte kann aus Quartz, YVO4, BBO etc bestehen. Ein Rotator ist gekennzeicht, daß die Polarisation sich in Abhängigkeit der Ausbreitungsweg im Rotator dreht.Instead of a retardation plate for changing the polarization can also be a rotator made of quartz, Faraday rotator of TGG or YIG, or a rotator of reflection surfaces, etc. It has the property that rays of different polarization propagate at different rates in the element, so that after passage through the element, the phases of different polarization undergo unequal delay, thus changing the relative relationship between the different polarization components and the polarization state. For example, in a λ / 4 retardation plate, a linear polarized beam becomes a circularly or elliptically polarized beam. In a lambda / 2 retarder plate, the polarization rotates at an angle twice the angle between the input polarization and the optical axis of the plate. The retardation plate can consist of Quartz, YVO 4 , BBO etc. A rotator is characterized in that the polarization rotates depending on the propagation path in the rotator.

Für viele Anwendung wird frequenzkonvertierte Laserstrahl benötigt. Die Frequenzkonversion wird mittel nichtlineare Kristall realisiert. Bei Phasenanpassung Typ II steht die Polarisation der frequenzkonvertierte Strahl unter 45° zur Polarisation des Eingangsstrahls. Wird der überlagerte Ausgangsstrahl (36, 37, 78) in einem nichtlinearen Kristall der Phasenanpassung II in Frequenz konvertiert, so hat der frequenzkonvertierte Strahl aus dem nichtlinearen Kristall lineare Polarisation. Diesem Strahl kann eine der oben beschriebene optische Anordnung zur weiteren Erhöhung der Intensitätshomogenität oder zur Formung der Intensitätsverteilung in anderer Ebene nachgeschaltet. So kann ein zwei dimensionale Gaußsche Strahl in einen Strahl umgeformt wird, der in beiden Ebene quasi Top-Hat-Strahlprofil hat.Frequency-converted laser beam is required for many applications. The frequency conversion is realized by means of nonlinear crystal. In phase matching type II, the polarization of the frequency-converted beam is less than 45 ° to the polarization of the input beam. If the superimposed output beam ( 36 . 37 . 78 ) is frequency converted in a nonlinear phase matching crystal II, the frequency converted nonlinear crystal beam has linear polarization. This beam can be followed by one of the optical arrangement described above to further increase the intensity homogeneity or to form the intensity distribution in another plane. Thus, a two-dimensional Gaussian beam can be transformed into a beam that has quasi top-hat beam profile in both planes.

Der ursprüngliche Strahl vor den optischen Anordnungen gemäß vorliegender Patentanmeldung kann durch eine quadratische oder rechteckige Blende aus einem Strahl mit einem beliebigen Querschnitt abgeleitet werden. Dies ist mit Leistungsverlust verbunden.Of the original Beam in front of the optical arrangements according to the present patent application through a square or rectangular aperture of a ray be derived with any cross section. This is with Power loss associated.

Verlustfrei kann ein Strahl mit einem quadratischen oder rechteckigen Querschnitt mit einem Slablaser, deren Verstärkungsvolumen einen quadratischen oder rechteckigen Querschnitt haben, generiert werden. Zur Erzeugung eines Strahls mit einem quadratischen oder rechteckigen Querschnitt wird ein Scheibenlaser so gebildet, dass das scheibenförmige Medium mit Pumpstrahl oder Pumpstrahlen so gepumpt wird, dass es einen quadratischen oder rechteckigen Verstärkungsbereich hat.lossless can be a beam with a square or rectangular cross section with a slab laser, whose gain volume have a square or rectangular cross section generated become. For generating a beam with a square or rectangular section, a disk laser is formed so that the disc-shaped Medium pumped with pumping or pumping jets so that it is has a square or rectangular gain area.

Für Erzeugung von Strahlen mit quadratischen oder rechteckigen Querschnitt wird das Kern von Faserlaser quadratisch oder rechteckig ausgebildet.For generation of rays with square or rectangular cross section becomes the core of fiber laser square or rectangular formed.

Claims (17)

Optische Anordnung zur Formung von Strahlen dadurch gekennzeichnet, dass eine Einheit aus mindestens einer Verzögerungsplatte verwendet wird und dass durch eine Einheit von Verzögerungsplatten der zu formende Strahl mindestens in zwei Teilstrahlen unterschiedlicher Polarisationen aufgeteilt wird.Optical arrangement for shaping of rays, characterized in that a unit of at least one retarder plate is used and that is divided by a unit of retarder plates of the beam to be formed at least in two sub-beams of different polarizations. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass die Einheit von Verzögerungsplatten aus einer lambda/2-Verzögerungsplatte (7) besteht und der zu formende Strahl in zwei Teilstrahlen aufgeteilt wird.Optical arrangement for the shaping of beams according to claim 1, characterized in that the unit of retardation plates from a lambda / 2 retardation plate ( 7 ) and the beam to be formed is split into two sub-beams. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 2 dadurch gekennzeichnet, dass die beiden Teilstrahlen etwa gleiche Leistung/Energie haben.Optical arrangement for shaping rays after The claim 2, characterized in that the two partial beams have about the same power / energy. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 2 oder 3 dadurch gekennzeichnet, dass durch Verwendung von mindestens einem Prisma (21) ein Teilstrahl so gebrochen, dass die beiden Teilstrahlen unterschiedlicher Polarisation sich in der Ausbreitungsrichtung schneiden und gemäß Intensität überlagern.Optical arrangement for the shaping of beams according to claim 2 or 3, characterized in that by using at least one prism ( 21 ) a partial beam is broken so that the two partial beams of different polarization intersect in the propagation direction and superimpose according to intensity. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 4 dadurch gekennzeichnet, dass Prisma oder Prismen aus doppelbrechendem Material wie YVO4 und alpha-BBO (26) verwendet wird/werden.Optical arrangement for shaping of rays according to claim 4, characterized in that prism or prisms of birefringent material such as YVO4 and alpha-BBO ( 26 ) is / are used. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 4 dadurch gekennzeichnet, dass sowohl nichtdoppelbrechende als auch doppelbrechende Prismen verwendet werden.Optical arrangement for shaping rays after The claim 4, characterized in that both non-birefringent as well as birefringent prisms are used. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 2 oder 3 dadurch gekennzeichnet, dass die beiden senkrecht zueinander polarisierten Teilstrahlen (81 und 82) mit einem Polarisationsstrahlteiler (27) separiert werden, und ein Teilstrahl (81) mit zwei Umlenkspiegel (28 und 28) reflektiert wird und die beiden Teilstrahlen mit einem weiteren Polarisator (27) in wesentlich koaxial überlagert werden.Optical arrangement for shaping of beams according to claim 2 or 3, characterized in that the two mutually perpendicular polarized partial beams ( 81 and 82 ) with a polarization beam splitter ( 27 ) and a partial beam ( 81 ) with two deflection mirrors ( 28 and 28 ) is reflected and the two partial beams with a further polarizer ( 27 ) are superimposed substantially coaxially. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 2 oder 3 dadurch gekennzeichnet, dass eine Optik (23) mit zwei polarisierenden Grenzflächen (91 und 92) verwendet wird und ein der Teilstrahlen (81) nach zweimal Reflektionen jeweils durch die Grenzflächen (91 und 92) mit dem anderen Teilstrahl (82) überlagert wird.Optical arrangement for the shaping of beams according to claim 2 or 3, characterized in that an optical system ( 23 ) with two polarizing interfaces ( 91 and 92 ) and one of the partial beams ( 81 ) after twice reflections respectively through the interfaces ( 91 and 92 ) with the other partial beam ( 82 ) is superimposed. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 2 oder 3 dadurch gekennzeichnet, dass ein Strahlversetzter (61) verwendet wird und nach dem Strahlversetzter (61) die beiden senkrecht zu einander polarisierten Teilstrahlen überlagert werden.Optical arrangement for the shaping of beams according to claim 2 or 3, characterized in that a beam offset ( 61 ) and after the beam offset ( 61 ) The two perpendicular to each other polarized partial beams are superimposed. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 5 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die beiden überlagerten Teilstahlen die gleiche Ausbreitungsrichtung haben.Optical arrangement for shaping rays after one of the claims 5 to 9, characterized in that the two superimposed Partial steel have the same propagation direction. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Frequenz des überlagerten Strahls (31, 37, 36, 78) mit einem nichtlinearen Kristall unter Phasenanpassung Typ II verdoppelt wird.Optical arrangement for the shaping of beams according to one of claims 1 to 9, characterized in that the frequency of the superimposed beam ( 31 . 37 . 36 . 78 ) is doubled with a non-linear crystal under phase matching type II. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach dem Anspruch 11 dadurch gekennzeichnet, dass dem frequenzverdoppelten Strahl eine optische Anordnung zur weiteren Formung nachgeschaltet wird.Optical arrangement for shaping rays after The claim 11, characterized in that the frequency doubled Beam is followed by an optical arrangement for further shaping. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der zu formende Strahl mit einem Slablaser erzeugt wird.Optical arrangement for shaping rays after one of the claims 1 to 12, characterized in that the beam to be formed with a slab laser is generated. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der zu formende Strahl mit einem Scheibenlaser, dessen Verstärkungsschichte einen quadratischen oder recheckigen Querschnitt hat, generiert wird.Optical arrangement for shaping rays after one of the claims 1 to 12, characterized in that the beam to be formed with a disk laser whose gain layer is a square one or rectangular cross section is generated. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass der zu formende Strahl mit einem Faserlaser erzeugt wird, dessen Kern einen quadratischen oder rechteckigen Querschnitt hat.Optical arrangement for shaping rays after one of the claims 1 to 12, characterized in that the beam to be formed with a fiber laser is generated, whose core is a square or has rectangular cross-section. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass die Intensitätsverteilung des geformten Strahls mit einer Optikanordnung in die Bedarf-/Bearbeitungszone abgebildet wird.Optical arrangement for shaping of rays according to one of claims 1 to 15, characterized in that the intensity distribution of the shaped beam with an optical arrangement in the Be may be displayed / processing zone. Optische Anordnung zur Formung von Strahlen nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, dass zur Polarsaitionsänderung ein Rotator z. B. Quartz-Rotator oder Faraday-Rotator verwendet wirdOptical arrangement for shaping rays after one of the claims 1 to 15, characterized in that the Polarsaitionsänderung a rotator z. As quartz rotator or Faraday rotator used becomes
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