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DE102006056614A1 - Vorrichtung mit verbesserter thermischer Leitfähigkeit und Verfahren zum Herstellen derselben - Google Patents

Vorrichtung mit verbesserter thermischer Leitfähigkeit und Verfahren zum Herstellen derselben Download PDF

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DE102006056614A1
DE102006056614A1 DE102006056614A DE102006056614A DE102006056614A1 DE 102006056614 A1 DE102006056614 A1 DE 102006056614A1 DE 102006056614 A DE102006056614 A DE 102006056614A DE 102006056614 A DE102006056614 A DE 102006056614A DE 102006056614 A1 DE102006056614 A1 DE 102006056614A1
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DE
Germany
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layer
heating
ceramic
heating element
temperature
Prior art date
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Withdrawn
Application number
DE102006056614A
Other languages
English (en)
Inventor
Kensuke Kobe Fujimura
Akira Takatsuki Miyahara
Takeshi Kobe Higuchi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
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Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of DE102006056614A1 publication Critical patent/DE102006056614A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10P95/00
    • H10P72/0432
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B3/00Ohmic-resistance heating
    • H05B3/10Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
    • H05B3/12Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material
    • H05B3/14Heating elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor characterised by the composition or nature of the conductive material the material being non-metallic
    • H05B3/141Conductive ceramics, e.g. metal oxides, metal carbides, barium titanate, ferrites, zirconia, vitrous compounds
    • H05B3/143Conductive ceramics, e.g. metal oxides, metal carbides, barium titanate, ferrites, zirconia, vitrous compounds applied to semiconductors, e.g. wafers heating

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
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Abstract

Es wird eine Vorrichtung bereitgestellt zum Regeln der Temperatur eines Heizobjekts und zum Tragen des Heizobjekts, wie etwa ein Halbleitersubstrat oder eine Metall/Keramik-Schmelzform oder andere industrielle Prozesse, die Temperaturregelungen erfordern, wie etwa Ausgasen oder Ausheizen. In einer Ausführungsform umfasst die Vorrichtung einen Heizobjekt-Träger zum Tragen des Heizobjekts; ein keramisches Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C; eine zwischen dem Substratträger und der keramischen Heizschicht angeordnete, erste thermisch leitfähige Schicht; eine unterhalb der keramischen Heizschicht angeordnete, zweite Schicht. Sowohl die erste Schicht als auch die zweite Schicht in der Heizvorrichtung weisen ein Elastizitätsmodul von weniger als 5 GPa auf zum Vorspannen der keramischen Heizschicht, ohne eine Beschädigung der keramischen Schicht zu verursachen, während für das Substrat immer noch gleichförmige und außergewöhnliche Heizung bereitgestellt wird.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich allgemein auf eine Vorrichtung zum Regeln der Temperatur eines Substrats in einer Halbleiterverarbeitungskammer zum Regeln der Temperatur einer Metall- oder Keramikgießform einschließlich einer Glasschmelzform, zum Ausgasen, zum Legieren oder für andere industrielle Prozesse, die Temperaturregelungen erfordern.
  • Widerstandsheizvorrichtungen sind aufgrund der hohen Energieeffizienz und der leichten Messung und Steuerung verbreitete Mittel zum Aufheizen des Objekts. Unter diesen Widerstandsheizvorrichtungen werden typischerweise keramische Heizvorrichtungen ausgewählt, wenn höhere Temperaturen erforderlich sind als diejenigen, die herkömmliche metallische Heizvorrichtungen überleben können. Keramische Heizvorrichtungen werden auch für Prozesse eingesetzt, die empfindlich sind in Bezug auf Metallverunreinigungen. Halbleiterprozesse, Schmelzen von Metall oder Keramik, Ausgasen und Legieren sind Beispiele von Anwendungsbereichen, wo typischerweise keramische Heizvorrichtungen eingesetzt werden. Anwendungen in diesen Anwendungsbereichen erfordern typischerweise, dass das Objekt die Temperaturen von 600°C oder höher erreicht. Die Temperatursteuerung des Heizobjekts, d.h. des Halbleiter-Wafers oder der Schmelzform, ist kritisch, um die erforderliche Prozessqualität bzw. -leistungsfähigkeit zu erzielen.
  • Thermische Regelungsgeräte, die eine Widerstandsheizvorrichtung enthalten, können zwischen dem Objekt und der Widerstandsheizvorrichtung auch ein separates Teil eines Objekttrageelements enthalten. Derartige Aufbauten sind beispielsweise gewünscht, wenn die Widerstandsheizvorrichtung vor rauer Prozessumgebung, mechanischen Belastungen oder Verunreinigungen geschützt werden muss. Ein derartiges Objekttrageelement ist auch wünschenswert, wenn auf dem Heizobjekt eine verbesserte Temperaturgleichförmigkeit erforderlich ist. In derartigen Aufbauten gibt es allgemein zwei Gesichtspunkte, die Beachtung verdienen und die sich auf die Temperatursteuerung des Heizobjekts beziehen. Der erste Gesichtspunkt ist die Wärmeübertragung zwischen dem Heizobjekt und der Oberfläche des Objektträgers und der zweite ist die thermische Regelung des Objektträgers aus dem Vorrichtungsaufbau heraus. Zusammengebaute Thermogeräte weisen typischerweise das Problem des thermischen Kontaktwiderstands auf. Dies wird unter Vakuum oder in einer Umgebung mit niedrigem Gasdruck (20 Pa oder weniger), wo Konvektionswärmeübertrag durch Gas weniger effektiv ist, sogar ein wichtigerer Gesichtspunkt. Allgemein wird ein Unterstützungsgas (Englisch: Backside Gas), wie etwa Argon oder Helium, als ein Wärmeübertragungsmedium zwischen dem Substrat und dem Objektträger verwendet, um eine solche Schwierigkeit der Wärmeübertragung zu kompensieren.
  • Das Objekttrageelement kann eine Funktionalität, beispielsweise Einspannen vermittels Vakuum oder elektrostatisch, aufweisen, um das Heizobjekt in einer Position zu halten. Als ein anderes Beispiel der Funktionalität kann der Objektträger als eine Hochfrequenz-Elektrode (RF Electrode) für Plasmaverarbeitung fungieren.
  • Der zweite Gesichtspunkt ist die thermische Regulierung des Objektträgers. Die thermische Regulierung des Objektträgers aus der Vorrichtung heraus wird allgemein durch eine innerhalb der Vorrichtung angeordnete metallische Kühlplatte bewirkt. Die Verbesserung der Wärmeübertragung durch Wärmeleitfäigkeit durch Materialien mit einem Fest-zu-fest-Kontakt ermöglicht höhere Wärmeübertragungsraten, weil die thermische Leitfähigkeit durch feste Materialien mit einer höheren Rate auftritt als im Gegensatz zur thermischen Übertragung durch Luftzwischenräume oder Leerräume, einschließlich Zwischenräumen, die durch Oberflächenunregelmäßigkeiten (Flachheit, Rauhigkeit, etc.) in den zusammenpassenden Oberflächen erzeugt werden. Es ist eine verbesserte Energieeffizienz zum schnelleren Heizen/Kühlen und zum Schutz von nicht-wärmebeständigen Teilen in der Vorrichtung, wie etwa einem O-Ring aus Elastomer, angestrebt.
  • Schichten aus thermischem Grenzflächenmaterial (TIM: Thermal Interface Material) sind eingesetzt worden, um den Fest-zu-fest-Kontakt zwischen dem keramischen Träger und der Kühlplatte zu maximalisieren. US Patent Nummer 6,292,346 offenbart die Verwendung einer Metallfolie oder Kohlenstoffschicht mit einer Dicke von weniger als 500 μm. US Patent Nummer 6,563,686 offenbart die Verwendung einer auf Zwischengitterplätzen gelegenen bzw. interstitiellen Schicht (Interstitial Layer) aus konformem Graphit, um eine verbesserte thermische Leitfähigkeit zu bewirken. Um jedoch die beste Leistungsfähigkeit aus den Graphit- oder Kohlenstoffschichten zu erhalten, ist eine ausreichende Kompression gegen das Heizelement und das Objekttrageelement erforderlich, um die Luftzwischenräume oder Leeräume in den zusammenpassenden Oberflächen zu minimalisieren.
  • Das durch die oben zitierten Patente offenbarte Verfahren der Verwendung einer einzigen TIM Schicht ist jedoch auf keramische Heizvorrichtungen nicht leicht anwendbar. Obwohl keramische Heizvorrichtungen eine Vielzahl von Vorteilen gegenüber herkömmlichen metallischen Heizvorrichtungen aufweisen, weisen keramische Teile normalerweise inhärente Nachteile bezüglich Brüchigkeit bzw. Sprödigkeit auf. Es ist schwierig, eine ausreichende Kompression gegen die Heizvorrichtung zu erzielen, um die Leistungsfähigkeit der TIM Schicht zu maximalisieren, ohne das Heizelement zu beschädigen. Ineffektiver Wärmeübertrag, verursacht durch unzureichende Kompression, war ein verbreitetes Problem der keramischen Heizvorrichtungen. Darüber hinaus versagen die Lösungen mit TIM Kompression im Stand der Technik darin, auf dem Heizobjekt eine gleichförmige Temperaturverteilung bereitzustellen, was für Halbleiterprozesse und Linsenschmelz- bzw. -formprozesse ein Erfordernis ist. Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit waren andere Probleme in Bezug auf den unzureichenden Kontakt mit der TIM. Die Leistungsfähigkeit ist sensibel in Bezug auf die tatsächliche Kontaktfläche, die von der Variation von Bauteil zu Bauteil und von der Variation durch das Bedienpersonal beim Zusammenbau abhängen.
  • Daher besteht eine Notwendigkeit für eine Heizvorrichtung mit verbesserten Wärmeübertragungseigenschaften mit minimalen Effekten auf das Heizelement.
  • Die vorliegende Erfindung beabsichtigt, zumindest einige der obigen Probleme zu lösen. Die Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung zum Regeln der Temperatur nach dem unabhängigen Anspruch 1, die Verwendung dieser Vorrichtung nach dem unabhängigen Anspruch 14, und eine Heizvorrichtung nach dem unabhängigen Anspruch 15 und die Verwendung dieser Vorrichtung nach dem unabhängigen Anspruch 17.
  • Weitere Vorteile, Merkmale, Aspekte und Einzelheiten der Erfindung sind aus den abhängigen Ansprüchen, der Beschreibung und den beigefügten Zeichnungen offensichtlich. Es ist beabsichtigt, dass die Ansprüche als ein erster, nicht begrenzender Ansatz zum Definieren der Erfindung in allgemeinen Ausdrücken verstanden werden.
  • In einem allgemeinen Aspekt bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zum Regeln der Temperatur eines Heizobjekts, und zum Tragen eines Heizobjekts. Insbesondere bezieht sich die Erfindung auf eine Vorrichtung zum Regeln der Temperatur (eines Objekts) und zum Tragen eines Objekts in einer Prozesskammer, wie etwa eine Wafer-Verarbeitungskammer oder einer Hochtemperatur-Schmelzformkammer, wobei die Vorrichtung folgendes umfasst: einen Objektträger zum Tragen des Wafer-Substrats oder der Gieß- bzw. Schmelzform; ein keramisches Heizelement zum Heizen des Objekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C; eine zwischen dem Objektträger und der keramischen Heizschicht angeordnete, erste thermisch leitfähige Schicht; eine unterhalb der keramischen Heizschicht angeordnete, zweite Schicht. Die erste Schicht und die zweite Schicht umfassen beide ein Material mit einem Elastizitätsmodul von weniger als 5 GPa, um die keramische Heizschicht vorzuspannen, ohne eine Beschädigung der keramischen Schicht zu bewirken, während noch stets eine gleichförmige und außergewöhnliche Erwärmung des Substrats bereitgestellt wird.
  • In einer Ausführungsform umfassen sowohl die erste als auch die zweite Schicht das gleiche Material, wie etwa Graphit. In einer zweiten Ausführungsform umfasst die erste Schicht eine Graphit-Lage bzw. -Schicht und die zweite Schicht umfasst ein keramisches Filzmaterial. In einer dritten Ausführungsform weist die zweite Schicht eine Dicke von mindestens 500 μm auf.
  • In einem weiteren Aspekt bezieht sich die Erfindung auf die Verwendung einer oben beschriebenen Vorrichtung zum Regeln der Temperatur eines Heizobjekts und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer.
  • In einer weiteren Ausführungsform bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine Heizvorrichtung zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer, wobei die Vorrichtung folgendes umfasst: einen Objekttrageelement mit einer oberen Oberfläche und einer unteren Oberfläche, wobei die obere Oberfläche zum Tragen des Heizobjekts angepasst ist; ein keramisches Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C, wobei das keramische Heizelement eine obere Oberfläche und eine untere Oberfläche aufweist; eine zwischen dem Objekttrageelement und dem keramischen Heizelement angeordnete erste Schicht, wobei die erste Schicht gegen die obere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die erste Schicht eine thermische Leitfähigkeit von mindestens 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem keramischen Heizelement und ein Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa aufweist; eine unterhalb des keramischen Heizelements angeordnete zweite Schicht, wobei die zweite Schicht gegen die untere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die zweite Schicht ein Material mit einem Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa umfasst, wobei das keramische Heizelement eine Überzugsschicht mit einer der folgenden Verbindungen umfasst: ein Nitrid, Carbid, Carbonitrid, Oxinitrid von Elementen, die ausgewählt sind aus einer Gruppe, die aus B, Al, Si, Ga, Y, hochschmelzenden Hartmetallen, Übergangsmetallen und Kombinationen davon besteht; ein Zirkoniumphosphat mit einer NZP Struktur von NaZr2(PO4)3; eine Glas-Keramik-Zusammensetzung, die mindestens ein Element enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die die Elemente der Gruppe 2a, der Gruppe 3a und der Gruppe 4a enthält; ein BaO-Al2O3-B2O3-SiO2-Glas; und eine Mischung aus SiO2 und einem plasma-beständigen Material, die ein Oxid oder Fluorid von Y, Sc, La, Ce, Gd, Eu, Dy und Yttrium-Aluminium-Granat (YAG) umfasst.
  • In einer weiteren Ausführungsform bezieht sich die vorliegende Erfindung auf eine Heizvorrichtung zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer, wobei die Vorrichtung folgendes umfasst: ein Objekttrageelement mit einer oberen Oberfläche und einer unteren Oberfläche, wobei die obere Oberfläche zum Tragen des Heizobjekts ausgebildet ist, wobei das Objekttrageelement ein transparentes oder undurchsichtiges Quarzmaterial umfasst; ein keramisches Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C, wobei das keramische Heizelement eine obere Oberfläche und eine untere Oberfläche aufweist; eine zwischen dem Objekttrageelement und dem keramischen Heizelement angeordnete, erste Schicht, wobei die erste Schicht gegen die obere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die erste Schicht ein Material mit einer thermischen Leitfähigkeit von mindestens 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem keramischen Heizelement aufweist und eine Kompressibilität von mindestens 20% aufweist; eine unterhalb des keramischen Heizelements angeordnete, zweite Schicht, wobei die zweite Schicht gegen die untere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die zweite Schicht ein Material mit einer Ausdehnungseigenschaft von mindestens 5% umfasst.
  • In einem weiteren Aspekt bezieht sich die vorliegende Erfindung auf die Verwendung der oben beschriebenen Heizvorrichtung zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer.
  • Folglich wird eine Vorrichtung zum Regeln der Temperatur eines Heizobjekts und zum Tragen eines Heizobjekts, wie etwa einem Halbleiter-Substrat oder einer Metall/Keramikschmelzform oder für andere industrielle Prozesse, die Temperaturregelungen erfordern, wie etwa Ausgasen oder Ausheizen, bereit gestellt. In einer Ausführungsform umfasst die Vorrichtung einen Heizobjektträger zum Tragen des Heizobjekts, ein keramisches Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C, eine zwischen dem Substratträger und der keramischen Heizschicht angeordnete, erste thermisch leitfähige Schicht; eine unterhalb der keramischen Heizschicht angeordnete, zweite Schicht. Sowohl die erste Schicht als auch die zweite Schicht in der Heizvorrichtung, weisen ein Elastizitätsmodul von weniger als 5 GPa auf, um die keramische Heizschicht vorzuspannen, ohne eine Beschädigung an der keramischen Schicht zu bewirken, während noch stets ein gleichförmiges und außergewöhnliches Aufheizen des Substrats ermöglicht wird.
  • Die Erfindung wird besser verstanden durch Verweis auf die folgende Beschreibung von Ausführungsformen der Erfindung zusammengenommen mit den beigefügten Zeichnungen, für die gilt:
  • 1 stellt eine perspektivische Ansicht dar, die eine Ausführungsform einer keramischen Heizvorrichtung zeigt.
  • 2A, 2B und 2C sind Querschnittsansichten von verschiedenen Ausführungsformen der keramischen Heizvorrichtung der 1 mit unterschiedlich geschichteten Konfigurationen.
  • 3 stellt eine Explosionsansicht einer Ausführungsform der Heizvorrichtung gemäß der Erfindung dar.
  • 4 stellt eine Querschnittsansicht einer anderen Ausführungsform der Heizvorrichtung gemäß der Erfindung dar.
  • 5 stellt eine Querschnittsansicht einer dritten Ausführungsform der Heizvorrichtung gemäß der Erfindung dar.
  • Wie hierin benutzt, können sprachliche Formulierungen in einem näherungsweisen Sinne angewandt werden, um eine beliebige quantitative Darstellung zu modifizieren, die variieren kann, ohne zu einer Veränderung der grundlegenden Funktion, auf die sie sich bezieht, zu führen. Dem entsprechend kann ein Wert, der durch einen Ausdruck oder Ausdrücke, wie etwa "ungefähr" und "im wesentlichen", modifiziert wird, in einigen Fällen nicht auf den genauen, angegebenen Wert begrenzt werden.
  • Wie hierin verwendet, bezieht sich der Ausdruck "Objekt" oder "Substrat" auf den Halbleiter-Wafer oder die Schmelzform, die durch die Heizvorrichtung nach der Erfindung getragen/erwärmt wird. Wie hierin ebenfalls verwendet, kann "Behandlungsvorrichtung" auswechselbar verwendet werden mit "Heizer", "Heizvorrichtung", "Heizgerät" oder "Verarbeitungsvorrichtung", die sich auf eine Vorrichtung, mit mindestens einem Heizelement und/oder einem Kühlgerät zum Regulieren der Temperatur des darauf getragenen Substrats beziehen.
  • Wie hierin verwendet, kann der Ausdruck "Stromkreis" auswechselbar verwendet werden mit "Elektrode" und der Ausdruck "Heizelement" kann auswechselbar verwendet werden mit "Widerstand", "Heizwiderstand" oder "Heizer". Der Ausdruck "Stromkreis" kann entweder in der Einzahl- oder der Mehrzahlform verwendet werden, was andeutet, dass mindestens eine Einheit vorhanden ist.
  • Wie hierin verwendet, kann der Ausdruck "Lage" auswechselbar verwendet werden mit "Schicht".
  • Die Vorrichtung, wie etwa ein Heizgerät, stellt eine effektive Wärmeleitung zwischen einem Heizelement und einem Objekt, beispielsweise ein Wafer-Heizsubstrat, eine Heizschmelze oder ein Behälter zum Aufheizen von anderen Formen von Proben, wobei die Heizobjekte auf eine Temperatur von mindestens 300°C aufgeheizt werden. Die Vorrichtung bewirkt eine relativ gleichförmige Temperaturverteilung an dem Objekt, selbst für Heizelemente mit einer nicht perfekten, beispielsweise unebenen Kontaktoberfläche. Ausführungsformen der Vorrichtung werden durch eine Beschreibung der eingesetzten Materialien, der Vorrichtung der Komponenten und deren Herstellungsprozess und ebenfalls mit Verweis auf die Zeichnungen wie folgt veranschaulicht.
  • Allgemeine Ausführungsformen des keramischen Heizelements: In einer Ausführungsform umfasst die Vorrichtung eine keramische Heizvorrichtung, wie in 1 veranschaulicht. Der keramische Heizer 33 umfasst ein scheibenförmiges, dichtes, keramisches Substrat 12 mit einem darin versenkten Heizwiderstand 16 (nicht gezeigt), dessen obere Oberfläche 13 als eine Trageoberfläche für ein Heizobjekt, d.h. einen Wafer, eine Schmelzform oder ein anderes Behältnis S für eine Probe dient. Elektrische Anschlüsse 15 zum Zuführen von Elektrizität an den Heizwiderstand können an dem Mittelpunkt der unteren Oberfläche des keramischen Substrats oder in einer Ausführungsform an den Seiten des keramischen Substrats befestigt werden.
  • In einer Ausführungsform wie in 2A veranschaulicht, umfasst das keramische Basissubstrat eine Scheibe oder ein Substrat 18, die ein elektrisch leitfähiges Material enthält und eine elektrisch isolierende Überzugsschicht 19 aufweist und optional einen Haftvermittler (nicht gezeigt), um dazu beizutragen, die Adhäsion bzw. Anhaftung zwischen der Schicht 19 und dem Basissubstrat 18 zu verbessern. Beispiele des elektrisch leitfähigen Materials umfassen Graphit, hochschmelzende Metalle, wie etwa W und Mo, Übergangsmetalle, Seltenerd-Metalle und Legierungen; Oxide und Carbide des Hafniums, Zirkoniums und des Cers und Mischungen davon. Bezüglich der Überzugsschicht 19 gilt, dass diese Schicht mindestens eines der folgenden umfasst: Oxide, Nitride, Carbide, Carbonitride oder Oxinitride von Elementen, die ausgewählt sind aus einer Gruppe, die aus B, Al, Si, Ga, Y, hochschmelzenden Hartmetallen, Übergangsmetallen besteht; Oxide, Oxinitride des Aluminiums, und Kombinationen davon. Bezüglich des optionalen Haftvermittlers gilt, dass diese Schicht mindestens eines der folgenden umfasst: ein Nitrid, Carbid, Carbonitrid, Borid, Oxid, Oxinitrid von Elementen ausgewählt aus Al, Si, hochschmelzenden Metallen einschließlich Ta, W, Mo, Übergangsmetallen, einschließlich Titan, Chrom, Eisen, und Mischungen davon. Beispiele umfassen TiC, TaC, SiC, MoC und Mischungen davon.
  • In einer Ausführungsform, wie in 2B veranschaulicht, umfasst das Basissubstrat 18 ein elektrisch isolierendes Material einschließlich gesinterter Keramik, das beispielsweise ausgewählt ist aus der Gruppe, die enthält: Oxide, Nitride, Carbide, Carbo nitride oder Oxinitride von Elementen, die ausgewählt sind aus einer Gruppe, die aus B, Al, Si, Ga, Y besteht, Zirkoniumphosphate, die thermisch hochstabil sind und die die NZP Struktur von NaZr2(PO4)3 aufweisen, hochschmelzende Hartmetalle, Übergangsmetalle; Oxide, Oxinitride von Aluminium, und Kombinationen davon, die jeweils einen hohen Verschleißwiderstand und hohe Hitzebeständigkeitseigenschaften aufweisen. In einer Ausführungsform umfasst das Basissubstrat 18 AlN mit einer Reinheit von >99,7% und ein gesintertes Mittel, das aus Y2O3, Er2O3 und Kombinationen davon ausgewählt ist.
  • In einer Ausführungsform, wie in 2C veranschaulicht, ist eine Elektrode 16 mit einem optimierten Schaltkreisentwurf in dem keramischen Substrat 12 "versenkt". Das Heizelement 16 umfasst ein Material, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die aus folgenden besteht: pyrolytischer Graphit, Wolfram, Molybdän, Rhenium und Platin oder Legierungen davon; Carbide und Nitride von Metallen, die zu den Gruppen IVa, Va und Via des Periodensystems der Elemente gehören; Carbide oder Oxide des Hafniums, Zirkoniums und des Cers sowie Kombinationen davon. In einer Ausführungsform umfasst das Heizelement 16 ein Material mit einem thermischen Ausdehnungskoeffizienten (CTE, Coefficient of Thermal Expansion), der an den CTE des Substrats (oder seiner Überzugsschichten) dicht angepasst ist.
  • In einer anderen Ausführungsform wie in den 2A2B veranschaulicht, umfasst das Heizelement 33 eine Filmelektrode 16 mit einer von 5–1000 μm reichenden Dicke, die auf dem elektrisch isolierenden Basissubstrat 18 (der 2B) oder der Überzugsschicht 19 (der 2A) aufgebracht ist durch im Stand der Technik bekannte Prozesse bzw. Verfahren, einschließlich Siebdruck, Rotationsbeschichtung, Plasma-Zerstäubung, Zerstäubungspyrolyse, Abscheidung durch reaktive Zerstäubung, Sol-Gel, Verbrennungslötlampe (Combustion Torch), Lichtbogen, Ionenplattieren, Ionenimplantation, Sputterabscheiden, Laserablation, Verdampfung, Elektroplattieren und Legieren der Oberfläche vermittels Laser. In einer Ausführungsform umfasst die Filmelektrode 16 ein Metall mit einem hohen Schmelzpunkt, beispielsweise Wolfram, Molybdän, Rhenium und Platin, oder Legierungen davon. In einer anderen Ausführungsform umfasst die Filmelektrode 16 mindestens eines der folgenden Carbide oder Oxide des Hafniums, Zirkoniums, Cers und Mischungen davon.
  • In der Heizvorrichtung nach der Erfindung können eine oder mehrere Elektroden eingesetzt werden. In Abhängigkeit von der Anwendung kann die Elektrode als ein Widerstandsheizelement, als eine ein Plasma erzeugende Elektrode, eine Elektrode einer elektrostatischen Spannvorrichtung oder eine Elektronenstrahl-Elektrode funktionieren.
  • In einer Ausführungsform der Erfindung, wie in den 2A und 2B veranschaulicht, ist der keramische Heizer 33 ferner beschichtet mit einem ätz-beständigen Schutzüberzugsfilm 25, der mindestens eines der folgenden umfasst: ein Nitrid, Carbid, Carbonitrid oder Oxinitrid von Elementen, die ausgewählt sind aus einer Gruppe, die aus B, Al, Si, Ga, Y, hochschmelzenden Hartmetallen, Übergangsmetallen besteht, und Kombinationen davon; ein Zirkoniumphosphat mit einer NZP Struktur von NaZr2(PO4)3; eine Glas-Keramik-Zusammensetzung, die mindestens ein Element enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die aus den Elementen der Gruppe 2a, Gruppe 3a und Gruppe 4a besteht; ein BaO-Al2O3-B2O3-SiO2 Glas; und eine Mischung von SiO2 und einem plasma-beständigen Material, das ein Oxid oder Fluorid von Y, Sc, La, Ce, Gd, Eu, Dy und Yttrium-Aluminium-Granat (YAG) umfasst. In einer Ausführungsform umfasst der Überzugsfilm ein Material mit einem CTE, der von 2,0 × 10–6/K bis 10 × 10–6/K in einem Temperaturbereich von 25 bis 1000°C reicht. In einer anderen Ausführungsform umfasst die Schicht 25 hochthermisch stabile Zirkoniumphosphate mit der NZP Struktur von NaZr2(PO4)3, die auch den isotrukturellen Phosphaten und Siliziumphosphaten mit einer ähnlichen Kristallstruktur zugehörig sind. In einer dritten Ausführungsform enthält die Schicht 25 eine Glas-Keramik-Zusammensetzung, die zumindest ein Element enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die die Elemente der Gruppe 2a, der Gruppe 3a und der Gruppe 4a des Periodensystems der Elemente enthält. Beispiele von geeigneten Glas-Keramik-Zusammensetzungen umfassen Lanthanaluminosilikat (LAS), Magnesiumaluminosilikat (MAS), Calciumaluminosilikat (CAS) und Yttriumaluminosilikat (YAS). Die Dicke der schützenden Überzugsschicht 25 variiert in Abhängigkeit von der Anwendung und dem verwendeten Prozess, beispielsweise CVD, Ionenplattieren, ETP etc., und variiert in Abhängigkeit von der Anwendung von 1 μm bis zu einigen hundert μm.
  • Allgemeine Ausführungsformen der Vorrichtung: In einer Ausführungsform ist das Temperaturregelungsgerät, beispielsweise das Heizelement 33, ganz oder teilweise von einem Heizergehäuse umschlossen und der Wärmeübertragungsmodus zwischen dem Heizelement und dem Heizergehäuse wird durch Wärmeleitung dominiert. In einer anderen Ausführungsform ist das Heizergehäuse transparent, was zusätzlich zu der Wärmeleitung eine direkte Erwärmung durch Strahlung durch das Heizergehäuse hindurch auf das Heizobjekt S erlaubt. In noch einer anderen Ausführungsform ist das Heizergehäuse undurchlässig. In einer Ausführungsform wird die Verarbeitung des Heizobjekts S allgemein in einem Teil-Vakuum ausgeführt, wobei ein Unterstützungsgas (Backside Gas) verwendet wird, um die Wärmeübertragung zwischen dem Substrat S und dem keramischen Heizer 10 zu verbessern.
  • 3 zeigt eine Explosionsansicht einer Ausführungsform eines Heizgeräts. Beginnend von oben nach unten umfasst das Gerät mit einem Heizgehäuse 37 ein Objekttrageelement 31, eine erste, thermisch leitfähige Schicht 32, ein Heizelement 33, eine zweite Schicht 34, eine optionale thermische Isolationsschicht 35 und ein Podest 36. Ein Trageelement 31 ist bereitgestellt, um das Heizobjekt S zu tragen. In einer Ausführungsform sind das Trageelement 31 und das Podest 36 durch mechanische Befestigungsmittel oder andere Befestigungsmittel 38 miteinander verbunden, so dass ein Heizergehäuse 37 ausgebildet wird, das die übrigen Teile vollständig einschließt. Beispiele für mechanische Befestigungsmittel umfassen Stäbe, Schrauben, Bolzen und dergleichen. In einer Ausführungsform wird das Trageelement 31 mit der Plattform 36 durch die Verwendung von keramischen Bindungen, Klebemitteln und dergleichen zusammen verbunden. In einer Ausführungsform kann eine Feder oder ein anderes elastisches Mittel als das Befestigungsmittel 38 eingesetzt werden.
  • In einer Ausführungsform spannt (presst) sowohl die erste als auch die zweite Schicht im Betrieb gegen das Heizelement 33 und das Trageelement 31, um einen innigen Kon takt zwischen den Schichten und dem Heizelement bei einer Vorspannkraft gegen das Heizelement 33 im Bereich von 0,05 bis 30 psi zu erzielen. In einer Ausführungsform ist die Vorspannkraft gegen das Heizelement 33 (oder ein Temperaturregelungsgerät, wie etwa ein Kühlgerät) im Bereich von 0,10 bis 20 psi.
  • In anderen Ausführungsformen, wie in 5 veranschaulicht, überdeckt das Heizergehäuse 37 teilweise die innere Vorrichtung. In der Figur wird elektrische Leistung durch den Netzteil-Block 39 des Heizelements 33 zugeführt. In den 4 und 5 erstrecken sich Netzteil-Mittel monolithisch von dem Heizelement 33. In noch einer anderen Ausführungsform (nicht gezeigt) umfassen die Netzteil-Mittel 39 flexible Drähte, die mit dem Heizelement 33 verbunden sind. Die Netzteil-Mittel sind in einer Ausführungsform so ausgebildet, dass sie die vertikale Verschiebung des Heizelements 33 nicht beschränken, was es ermöglicht, dass sich das Heizelement 33 entsprechend der thermischen Ausdehnung der Kohlenstoffschichten oder anderen Teilen des Heizgeräts frei bewegt. In einer Ausführungsform, wie in den 4 und 5 veranschaulicht, ist die erste thermisch leitfähige Schicht 32 auf der Heizobjekt-Seite S dünner als die zweite Schicht 34, was durch Differenzieren des thermischen Widerstands eine effektivere Wärmeübertragung in Richtung auf das Heizobjekt S erlaubt.
  • In einer Ausführungsform umfasst das Gerät ferner eine optionale Schicht eines unter der zweiten Schicht 34 angeordneten thermischen Isolators 35, um mehr thermischen Widerstand hinzuzufügen. In einer Ausführungsform (nicht gezeigt) ist zwischen der zweiten Schicht 34 und dem Heizelement 33 eine thermische Isolationsschicht angeordnet. In noch einer anderen Ausführungsform ist unter der zweiten thermisch leitfähigen Schicht 34 eine zusätzliche thermische Isolationsschicht 35 angeordnet.
  • In einer Ausführungsform der 5 umfassen Leistungszufuhrmittel Graphitpfosten mit einer Gewindebohrung, die sich von dem Heizer 33 erstrecken und die dazu entworfen sind, elektrisch leitfähige, mit einem Gewinde versehene Stäbe aufzunehmen. Die elektrisch leitfähigen, mit einem Gewinde versehenen Stäbe können ferner mit flexiblen Drähten (nicht gezeigt) verbunden sein. In einer Ausführungsform wird als das Heiz element in dem Heizer 33 eine eingebettete Elektrode aus pyrolytischem Graphit (PG) verwendet. In einer anderen Ausführungsform weitet sich ein auf dem Podest 40 gegenüberstehender Trageansatz von dem Objekttrageelement 31 aus, um den Heizer aus keramischem PBN vor der Prozesslast zu schützen.
  • Im Betrieb wird das Substrat S durch Hindurchführen von Wärme (d.h. thermischer Energie) von dem Heizelement 33 zu der ersten thermisch leitfähigen Schicht 32, dem Objekttrageelement 31 und zu dem Substrat S thermisch geregelt. Das Objekttrageelement 31 und das Podest 36 umfassen das gleiche Material oder verschiedene Materialien, die aus der Gruppe, die Kupfer, rostfreien Stahl, HSS-Stahl (High Speed Steel), Wolfram, Molybdän, Kovar® oder Legierungen davon enthält, ausgewählt sind. Wenn die beiden Komponenten verschiedene Materialien umfassen, dann weisen sie vorzugsweise einen angepassten thermischen Ausdehnungskoeffizient (CTE, Coefficient of Thermal Expansion) auf, d.h. das Material weist einen CTE auf, der von 0,75 bis 1,25-mal von dem CTE des zweiten Materials reicht. Alternativ können Keramiken oder gesinterte harte Legierungen ausgewählt werden. Beispiele umfassen, sind jedoch nicht beschränkt auf: Aluminiumnitrid, Siliciumnitrid, Siliciumcarbid, Wolframcarbid, Graphit, usw.
  • Die thermische Isolationsschicht 35 wird typischerweise aus einem Material mit niedriger thermischer Leitfähigkeit hergestellt. Beispiele umfassen, sind jedoch nicht beschränkt auf pyrolytisches Bornitrid, Siliciumnitrid, Aluminiumoxid, Zirkonium, Quarzglas, etc. Die Schicht weist eine von 50 μm bis 1 cm reichende Dicke auf. In einer Ausführungsform weist die Isolationsschicht 35 eine Dicke von mindestens 100 μm auf. In einer zweiten Ausführungsform eine Dicke von weniger als 5 mm. In einer dritten Ausführungsform weist die thermische Isolationsschicht eine von 100–2000 μm reichende Dicke auf.
  • Sowohl die thermisch leitfähige erste Schicht 32 als auch die zweite Schicht 34 sind dadurch gekennzeichnet, dass sie verformbar bzw. duktil sind, d.h. dass sie ein Material mit elastischen Eigenschaften/Flexibilität umfassen, um der Schicht ein kissenarti ge/federhafte Eigenschaften zu verleihen, um das Temperaturregelgerät elastisch zu deformieren und zu komprimieren, beispielsweise das Heizelement 33 gegen das Gehäuse 32, mit minimaler oder ohne Beschädigung am Heizelement. Beispielhafte Materialien umfassen, sind jedoch nicht beschränkt auf: Kohlenstoffschichten, keramisches Gewebe, keramischer Filz, keramischer Schaum, Graphitschaum und dergleichen mit außergewöhnlicher Verformbarkeit bzw. Duktilität. In einer Ausführungsform umfassen die erste und zweite Schicht dasselbe Material oder verschiedene Materialien, wobei das Material der Konstruktion eine Dehnungseigenschaft von mindestens 5% aufweist. In einer zweiten Ausführungsform weist das Material einen Elastizitätsmodul von weniger als 10 GPa auf. In einer dritten Ausführungsform umfassen die Schichten ein Material mit einem Elastizitätsmodul von weniger 5 GPa. In einer vierten Ausführungsform weisen die Schichten ein Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa auf. In einer fünften Ausführungsform umfassen die Schichten ein Material mit einer Kompressibilität von mindestens 20%. In einer sechsten Ausführungsform umfassen die Schichten ein Material mit einer Kompressibilität von mindestens 40%.
  • Zusätzlich zu der Verformungseigenschaft ist die erste Schicht 32 ferner gekennzeichnet durch eine ausgezeichnete thermische Leitfähigkeitseigenschaft. Die thermische Leitfähigkeitseigenschaft ist für die zweite Schicht kein Erfordernis. Jedoch umfasst die zweite Schicht 34 in einer Ausführungsform ein Material, das sowohl thermisch leitfähig als auch duktil bzw. verformbar ist, wie etwa Graphit. In einer Ausführungsform umfasst die zweite Schicht 34 ein Material, das thermisch isolierend und verformbar ist, wie etwa keramischer Filz oder Schaum.
  • In einer Ausführungsform umfasst die erste Schicht 32 ein verformbares bzw. duktiles Material, wie etwa Kohlenstoff, mit einer thermischen Leitfähigkeit von etwa 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem Heizelement. In einer zweiten Ausführungsform umfasst mindestens eine der ersten und zweiten Schichten eine Schicht aus Graphitschaum mit einer thermischen Leitfähigkeit von mindestens 100 W/mK. In einer dritten Ausführungsform umfasst sowohl die erste als auch die zweite Schicht eine Vielzahl von Schichten aus verschiedenen Materialien, beispielsweise Zwischenschichten aus Koh lenstofflagen und Graphitschaum. In einer Ausführungsform umfasst die erste und zweite Schicht eine als Grafoil® kommerziell verfügbare Graphitschicht, die eine Kompressibilitätseigenschaft (ASTM F-36) von 43% und ein Elastizitätsmodul von 1380 MPa aufweist. In einer anderen Ausführungsform ist die erste Schicht eine Grafoil® Schicht und die zweite Schicht umfasst ein keramisches Gewebe mit einem Elastizitätsmodul von weniger als 2 GPa und einer Porosität von weniger als 20 vol%.
  • In einer Ausführungsform weisen sowohl die thermisch leitfähige erste Schicht 32 als auch die zweite Schicht 34 jeweils eine von 50 μm bis 10 mm reichende Dicke auf. In einer zweiten Ausführungsform weist jede Schicht eine von 10 μm bis 5 mm reichende Dicke auf. In einer dritten Ausführungsform weist jede Schicht eine von 10 μm bis 2 mm reichende Dicke auf, wobei die zweite Schicht 34 eine Dicke von 1,5 bis 4-mal der Dicke der ersten thermisch leitfähigen Schicht 32 aufweist. In einer vierten Ausführungsform weist die erste Schicht 32 eine Dicke von 200 μm und die zweite Schicht 34 eine Dicke von 600 μm auf.
  • Weil das Heizelement 33 zwischen zwei Schichten 32 und 34 eingebettet ist, wobei jede Schicht außergewöhnliche federnde Eigenschaften aufweist, füllen die Schichten den durch die thermische Ausdehnung bei erhöhten Temperaturen verursachten Raum zwischen dem keramischen Heizer 33 und dem Heizergehäuse aus. Weil die Schichten auf beiden Seiten des Heizelements 33 zusätzlich eine ebene Stütze auf die gesamte Fläche der Oberfläche von beiden Seiten des Heizers 33 bewirken, wird jede Biegung auf dem Heizelement 33 gerade ausgerichtet, ohne übermäßige Kraft auf die partiellen Plätze des Heizelements 33 aufzubringen, was eine besonders wichtige Funktion ist, wenn das Heizelement 33 aus brüchigen keramischen Materialien konstruiert ist. Aufgrund der anisotropen thermischen Leitfähigkeit der ersten Schicht 32, die Materialien, wie etwa Kohlenstoff, Graphit und dergleichen, umfasst, verteilt die erste Schicht 32 darüber hinaus die Wärme in der planaren Richtung, während sie es der Wärme ermöglicht, durch hindurch zu dem Heizobjekt S übertragen zu werden.
  • Weil die thermische Leitfähigkeit von hexagonalem Kohlenstoff und/oder von Graphit in der Richtung parallel zu den Schichten hoch ist und jedoch niedrig in der Richtung durch die Dicke hindurch, verbessert diese anisotrope Eigenschaft ferner die Temperaturgleichförmigkeit auf dem Objekttrageelement 31 und mithin auf dem Heizobjekt S. Weil in dem Heizelement erzeugte Wärme durch die erste thermisch leitfähige Schicht 32 und die zweite Schicht 34 hindurch geleitet wird, kann auch mehr Wärme, die sich in Richtung auf die erste Schicht 32 überträgt, gerichtet werden durch Einstellen der Differenz des thermischen Widerstands zwischen der ersten und zweiten Schicht, beispielsweise durch Bereitstellen einer viel dickeren zweiten Schicht 34 oder Verwendung eines thermisch isolierenden Materials, wie etwa keramischer Filz, für die zweite Schicht 34.
  • In einer Ausführungsform der Erfindung mit der Verwendung des thermisch leitfähigen Materials für beide Schichten 32 und 34 kann die thermische Leistungsfähigkeit des Heizgeräts mit großer Genauigkeit vorhergesagt werden. Der thermische Kontaktwiderstand zwischen Teilen in dem Heizgerät ist aufgrund der schlechten Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit, die durch die Variation von „Produkt zu Produkt", die Variation des Bedienpersonals beim Zusammenbau, die Oberflächen- und Flachheitsbedingungen usw., verursacht sind, typischerweise schwierig vorherzusagen. Eine derartige Unvorhersagbarkeit stellt ein Problem dar, wenn ein Heizgerät entworfen wird. Oft sind Experimente erforderlich, um den thermischen Kontaktwiderstand zu bestimmen, was häufig kostspielig und zeitaufwendig ist. Jedoch mit der Verwendung des verformbaren Materials mit derselben thermischen Leitfähigkeit und Elastizität für beide Schichten 32 und 34, befindet sich das Heizelement 33 zwischen Schichten desselben thermisch leitfähigen Materials, und die Kontaktbedingung auf beiden Seiten des Heizers ist immer eben. Solange in dem Heizelement eine vorbestimmte Leistung erzeugt wird, wird sie schlussendlich übertragen, was eine Modellierung der hervorragenden thermischen Leistung zum Heizen des Substrats auf Temperaturen im Bereich von 300–700°C erlaubt, während die durch die Variation des thermischen Kontaktwiderstands verursachte Variation der Leistungsfähigkeit minimalisiert wird.
  • Die hierin veranschaulichten Ausführungsformen sind für eine Vorrichtung mit mindestens einem Heizelement zum Heizen eines Heizobjekts. Jedoch sind Ausführungsformen mit einem Kühlgerät innerhalb des Umfangs der Erfindung, wobei das Kühlgerät in der Vorrichtung anstelle des hierin beschriebenen Heizelements eingebaut ist. In einer Ausführungsform wird zum Regeln der Substratstemperatur auf –80°C eine Kühlplatte anstelle des Heizelements verwendet. In einer zweiten Ausführungsform wird eine Kühlplatte zusätzlich zu dem Heizelement verwendet, um die Zieltemperatur im Bereich von –80°C bis 600°C zu regeln. Die Verwendung der ersten thermisch leitfähigen Schicht 32 und der zweiten Schicht 34 zusammen mit einem Kühlgerät in einer Vorrichtung, wie etwa einem Halbleiter-Waferhalter ermöglicht, dass die Temperatur eines Substrats gleichförmig eingestellt werden kann.
  • Diese schriftliche Beschreibung benutzt Beispiele, einschließlich dem besten Modus, um die Erfindung zu offenbaren und auch um es jedem Fachmann zu ermöglichen, die Erfindung herzustellen und zu verwenden. Der patentierbare Schutzumfang der Erfindung wird durch die Patentansprüche definiert und kann andere Beispiele enthalten, die dem Fachmann erscheinen. Es ist beabsichtigt, dass derartige andere Beispiele innerhalb des Schutzumfangs der Patentansprüche sind, wenn sie strukturelle Elemente aufweisen, die nicht vom Wortlaut der Patentansprüche abweichen oder wenn sie äquivalente strukturelle Elemente mit unwesentlichen Unterschieden vom Wortlaut der Patentansprüche enthalten.
  • Diese Anmeldung beansprucht die Vorteile der US Patentanmeldung mit der Seriennummer 60/826,150 , eingereicht am 19. September 2006, welche Patentanmeldung hierin durch Verweis vollständig mit aufgenommen wird.
  • Alle hierin verwiesenen Fundstellen werden hierin durch Verweis ausdrücklich mit aufgenommen.

Claims (17)

  1. Vorrichtung zum Regeln der Temperatur einer Prozesskammer, und zum Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer, die Vorrichtung umfassend: ein Objekt-Trageelement mit einer oberen Oberfläche und einer unteren Oberfläche, wobei die obere Oberfläche dazu ausgebildet ist, das Heizobjekt zu tragen; ein Temperatur-Regelungsgerät zum Regeln der Substrattemperatur, wobei das Temperatur-Regelungsgerät eine obere Oberfläche und eine untere Oberfläche aufweist; eine erste Schicht, die zwischen dem Basisträger und dem Temperatur-Regelungsgerät angeordnet ist, wobei die erste Schicht gegen die obere Oberfläche des Temperatur-Regelungsgeräts vorgespannt ist, wobei die erste Schicht ein Material mit einer thermischen Leitfähigkeit von mindestens 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem Temperatur-Regelungsgerät und einen Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa umfasst; eine unterhalb des Temperatur-Regelungsgeräts angeordnete zweite Schicht, wobei die zweite Schicht gegen die untere Oberfläche des Temperatur-Regelungsgeräts vorgespannt ist und wobei die zweite Schicht ein Material mit einem Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa umfasst.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei das Temperatur-Regelungsgerät ein keramisches Heizgerät und eine Kühlplatte zum Regeln der Temperatur des Substrats in einem Bereich von –80°C bis 600°C umfasst.
  3. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–2, wobei das Temperatur-Regelungsgerät ein keramisches Heizgerät zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C ist.
  4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–3, wobei entweder die erste Schicht oder die zweite Schicht ein Material mit einer Ausdehnungseigenschaft von mindestens 5% umfasst.
  5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–4, wobei entweder die erste Schicht oder die zweite Schicht ein Material mit einer Komprimierbarkeit von mindestens 20% umfasst.
  6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–5, wobei die erste Schicht und die zweite Schicht jeweils eine Dicke von 50 μm bis 10 mm aufweisen.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–6, wobei die zweite Schicht eine Dicke von mindestens 500 μm und die erste Schicht eine Dicke von mindestens 100 μm aufweist.
  8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–7, wobei die zweite Schicht eine Dicke von 1,5 bis 4-mal der Dicke der ersten Schicht aufweist.
  9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–8, wobei sowohl die erste als auch die zweite Schicht beide mit einer Kraft von weniger als 30 psi gegen das keramische Heizelement vorgespannt werden.
  10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–9, wobei die erste Schicht mindestens eine Graphitschicht umfasst, und wobei die zweite Schicht ein Material umfasst, das ausgewählt ist aus folgenden: eine Graphitschicht, ein Keramikfilz, ein Ke ramikschaum, eine Kohlenstoffschicht, ein Keramikgewebe und einem Graphitschaum.
  11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–10, wobei das Temperatur-Regelungsgerät ein keramisches Heizgerät zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C ist, und die Vorrichtung ferner umfasst: eine unterhalb der zweiten Schicht angeordnete, thermisch isolierende Schicht; und eine Plattform, die mit dem Objekt-Trageelement abgedichtet gekoppelt ist, wodurch ein Gehäuse zum Aufnehmen der ersten und zweiten Schicht, dem keramischen Heizgerät und der thermisch isolierenden Schicht ausgebildet wird.
  12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–11, wobei sowohl die erste Schicht als auch die zweite Schicht jeweils eine Vielzahl von Graphitlagen umfasst.
  13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–12, wobei die erste Schicht eine Graphitschicht ist und wobei die Vorrichtung zum Regeln der Temperatur von und zum Stützen von mindestens einem Halbleiter-Wafer in einer Wafer-Verarbeitungskammer und in einer Glasschmelzform ist.
  14. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1–13 zum Regeln der Temperatur von einer Prozesskammer und zum Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer.
  15. Heizvorrichtung zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer, die Vorrichtung umfassend: ein Objekt-Trageelement mit einer oberen Oberfläche und einer unteren Oberfläche, wobei die obere Oberfläche zum Tragen des Heizobjekts angepasst ist; ein Keramik-Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C, wobei das Keramik-Heizelement eine obere Oberfläche und eine untere Oberfläche aufweist; eine zwischen dem Objekt-Trageelement und dem keramischen Heizelement angeordnete, erste Schicht, wobei die erste Schicht gegen die obere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die erste Schicht eine thermische Leitfähigkeit von mindestens 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem keramischen Heizelement und einen Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa aufweist; eine unterhalb des keramischen Heizelements angeordnete zweite Schicht, wobei die zweite Schicht gegen die untere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die zweite Schicht ein Material mit einem Elastizitätsmodul von weniger als 1 GPa aufweist; wobei das keramische Heizelement eine Überzugsschicht umfasst, die eines aus den folgenden umfasst: ein Nitrid, Carbid, Carbonitrid, Oxinitrid von Elementen, die ausgewählt sind aus einer Gruppe, die aus B, Al, Si, Ga, Y, hochschmelzenden Hartmetallen, Übergangsmetallen besteht, und Kombinationen davon; ein Zirkoniumphosphat mit einer NZP Struktur von NaZr2(PO4)3; eine Glas-Keramik-Zusammensetzung, die mindestens ein Element enthält, das ausgewählt ist aus der Gruppe, die aus Elementen der Gruppe 2a, Gruppe 3a und Gruppe 4a besteht; ein BaO-Al2O3-B2O3-SiO2-Glas; und eine Mischung aus SiO2 und einem plasma-resistenten Material mit einem Oxid oder Fluorid von Y, Sc, La, Ce, Gd, Eu, Dy und Yttrium-Aluminium-Granat (YAG).
  16. Heizvorrichtung zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer, die Vorrichtung umfassend: ein Objekt-Trageelement mit einer oberen Oberfläche und einer unteren Oberfläche, wobei die obere Oberfläche dazu ausgebildet ist, das Heizobjekt zu tragen, wobei das Objekt-Trageelement ein transparentes oder undurchsichtiges Quarzmaterial umfasst; ein keramisches Heizelement zum Heizen des Heizobjekts auf eine Temperatur von mindestens 300°C, wobei das keramische Heizelement eine obere Oberfläche und eine untere Oberfläche aufweist; eine zwischen dem Objekt-Trageelement und dem keramischen Heizelement angeordnete erste Schicht, wobei die erste Schicht gegen die obere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die erste Schicht ein Material mit einer thermischen Leitfähigkeit von mindestens 20 W/mK in einer Ebene parallel zu dem keramischen Heizelement und eine Komprimierbarkeit von mindestens 20% umfasst; eine unterhalb des keramischen Heizelements angeordnete zweite Schicht, wobei die zweite Schicht gegen die untere Oberfläche des keramischen Heizelements vorgespannt ist, wobei die zweite Schicht ein Material mit einer Ausdehnungseigenschaft von mindestens 5% umfasst.
  17. Verwendung einer Heizvorrichtung nach Anspruch 15 und 16 zum Heizen und Tragen eines Heizobjekts in einer Prozesskammer.
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