DE102006035865B3 - Material placing method for use in integrated circuit, involves positioning transfer plate opposite to target plate, where material is casted out from blind holes to contact with target plate and to place at target plate - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Platzieren von Material auf einer Zielplatte mithilfe einer Transferplatte sowie eine Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens zum Platzieren von Material auf einer Zielplatte mithilfe einer Transferplatte sowie eine integrierte Schaltung. The The invention relates to a method for placing material a target plate using a transfer plate and a device to carry out a method of placing material on a target plate using a transfer plate and an integrated circuit.
Die moderne integrierte Schaltungstechnik erfordert oft das präzise und wohldefinierte Platzieren eines Materials auf einer Zielplatte. Als Material kommen dabei oft elektrische Verbindungsmaterialien, wie beispielsweise metallische Lote, oder auch optisch bzw. elektronisch funktionalisierte Materialien, wie beispielsweise Leuchtstoffe oder organische Halbleiter in Lösung, zum Einsatz. Die Zielplatte kann dabei ferner ein Substrat, eine integrierte Schaltung auf einem Mikrochip, oder etwa ein Gehäuse zur Kontaktierung der integrierten Schaltung sein. Bei der Platzierung des Materials gilt es, eine einzelne Portion des Materials und den Abstand der Materialportionen untereinander (Pitch) im Sinne einer fortschreitenden Integration stetig zu verkleinern.The modern integrated circuit technology often requires the precise and well-defined placement of a material on a target plate. As material often come electrical connection materials, such as metallic solders, or optically or electronically functionalized materials such as phosphors or organic semiconductors in solution, for use. The target plate can also be a substrate, a integrated circuit on a microchip, or about a housing for contacting be the integrated circuit. When placing the material It is a matter of a single portion of the material and the distance of the Material portions with each other (pitch) in the sense of a progressive To shrink integration steadily.
Stößt man bei den räumlichen Dimensionen der Materialportionen in den Mikrometerbereich vor, so wird ein zuverlässiges und reproduzierbares dichtes Platzieren von Material zunehmend schwieriger. Einerseits muss gewährleistet sein, dass eine Materialportion mit einer hinreichenden Mengengenauigkeit an einer gegebenen Stelle. zuverlässig platziert wird, andererseits muss ein Kontakt zwischen zwei dicht benachbarten Materialportionen verhindert werden. Letzteres kann beispielsweise bei der Verwendung von Lotmaterialien zu einem Zusammenfließen und damit zu einem Kurzschluss führen. Präzise Verfahren nutzen eine Transferplatte im Sinne einer Matrize, die Vertiefungen an den gegebenen Positionen der Platzierung des Materials aufweist. In diese Vertiefungen wird dann das Material portionsweise abgelegt, die korrekte Befüllung der Vertiefungen mit Material gegebenenfalls überprüft, und die Materialportionen werden dann auf einer Zielplatte gleichzeitig in einem Schritt platziert.You come in the spatial Dimensions of the material portions in the micrometer range before, so becomes a reliable one and reproducible dense placement of material increasingly difficult. On the one hand must be guaranteed be that a material portion with a sufficient quantity accuracy at a given location. reliably placed, on the other hand Must be a contact between two closely spaced material portions be prevented. The latter can be used, for example from solder materials to a confluence and thus to a short circuit to lead. Precise Methods use a transfer plate in the sense of a die, the Recesses at the given positions of the placement of the material having. In these wells then the material is in portions filed, the correct filling If necessary, the wells are checked with material, and the material portions are then placed on a target plate simultaneously in one step.
Es ist bekannt, eine derartige Transferplatte mit einer Portioniervorrichtung zu befüllen, wobei die Portioniervorrichtung eine Reihe von Düsen aufweist und die Portioniervorrichtung über die Transferplatte gefahren wird. Während des Verfahrens der Portioniervorrichtung über der Transferplatte werden die Düsen derart angesteuert, sodass Materialportionen zum richtigen Zeitpunkt aus der Düse ausgetrieben werden und in entsprechenden Vertiefungen der Transferplatte abgelagert werden. Eine solche Vorgehensweise ist hinsichtlich der Präzision stark an die Genauigkeit der Positionierung der Portioniervorrichtung gegenüber der Transferplatte gebunden. Ferner erfordert das Verfahren der Portioniervorrichtung Zeit und daher sind solche Verfahren in der Regel langsam.It is known, such a transfer plate with a portioning device to fill wherein the portioning device comprises a number of nozzles and the portioning device over the Transfer plate is driven. While the method of the portioning device over the transfer plate the nozzles controlled so that material portions at the right time from the nozzle be driven out and in corresponding wells of the transfer plate be deposited. Such an approach is in terms of precision strong on the accuracy of the positioning of the portioning device across from bound to the transfer plate. Furthermore, the method requires the Portioning time and therefore such methods are in the Usually slow.
Es
sind ferner aus A. Satoh, Jpn. J. Appl. Phys. 40, Seiten 4774-4780
(2001), der
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Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein verbessertes Verfahren zum Platzieren von Material auf einer Zielplatte bereitzustellen. Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Substrat zur Verwendung in einem erfindungsgemäßen Verfahren zum Platzieren von Material bereitzustellen. Es ist ferner Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine verbesserte integrierte Schaltung bereitzustellen. Es ist darüber hinaus Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zum Platzieren von Material bereitzustellen.It is therefore an object of the present invention, an improved method to provide material on a target plate. It is a further object of the present invention to provide a substrate for Use in a method according to the invention for placing of material. It is a further object of the present invention Invention to provide an improved integrated circuit. It is about it It is an object of the present invention to provide a device for execution the method according to the invention to provide material placement.
Diese Aufgaben werden durch das Verfahren gemäß Anspruch 1, der integrierten Schaltung gemäß Anspruch 17 und der Vorrichtung gemäß Anspruch 25 ge löst. Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den abhängigen Ansprüchen angegeben.These Objects are integrated by the method according to claim 1 Circuit according to claim 17 and the device according to claim 25 ge triggers. Further advantageous embodiments of the invention are specified in the dependent claims.
Gemäß eines ersten Aspekts der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren zum Platzieren von Material auf einer Zielplatte mithilfe einer Transferplatte vorgesehen. Die Transferplatte weist dabei eine Vielzahl von Sacklöchern auf. Das Verfahren umfasst die Schritte eines Eintauchens der Transferplatte in ein Materialbad, in dem sich das Material in einem flüssigen Zustand befindet, wobei auf das Materialbad ein erster Druck wirkt und in den Sacklöchern ein zweiter Druck herrscht, und wobei während des Eintauchens der erste Druck im Wesentlichen gleich dem zweiten Druck ist; eines Herstellens einer Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck auf das Materialbad und dem zweiten Druck in den Sacklöchern nach dem Eintauchen, wobei der zweite Druck größer ist als der erste Druck, sodass die Sacklöcher der Transferplatte zumindest teilweise mit dem flüssigen Material gefüllt werden; eines Herausziehens der Transferplatte aus dem Materialbad und eines Positionierens der Transferplatte gegenüber der Zielplatte, wobei das Material aus den Sacklöchern ausgetrieben wird, um in Kontakt mit der Zielplatte gebracht zu werden.According to a first aspect of the present invention, a method of placing material on a target plate by means of a transfer plate is provided. The transfer plate has a plurality of blind holes. The method comprises the steps of immersing the transfer plate in a bath of material in which the material is in a liquid state, wherein a first pressure acts on the material bath and a second pressure prevails in the blind holes, and wherein during the immersion the first pressure in the Is substantially equal to the second pressure; establishing a pressure difference between the first pressure on the material bath and the second pressure in the blind holes after immersion, the second pressure being greater than the first pressure such that the blind holes of the transfer plate are at least partially filled with the liquid material; pulling out the transfer plate from the material bath and positioning the transfer plate with respect to the target plate, wherein the material is expelled from the blind holes to be brought into contact with the target plate.
Durch das erfindungsgemäße Herstellen einer Druckdifferenz zwischen einem ersten Druck auf das Materialbad und dem zweiten Druck in den Sacklöchern nach dem Eintauchen der Transferplatte in ein Materialbad, in dem sich ein Material in einem flüssigen Zustand befindet, werden die Sacklöcher der Transferplatte zumindest teilweise mit dem flüssigen Material gefüllt. Diese Befüllung der Sacklöcher erfolgt in vorteilhafter Weise parallel: Alle Sacklöcher der Transferplatte werden in einem Schritt mit Material gefüllt. Dies reduziert den Zeitbedarf zur Befüllung der Transferplatte erheblich. Ein zeitaufwändiges Abrastern der Transferplatte mit einer Füllvorrichtung ist nicht notwendig. Ferner ist auch eine aufwändige präzise Positionierung der Füllvorrichtung zur Transferplatte nicht notwendig, da die Position der Sacklö cher gleichzeitig die Position des zu platzierenden Materials festlegt. Dies reduziert den Verfahrensaufwand und die Fehleranfälligkeit erheblich.By the manufacture according to the invention a pressure difference between a first pressure on the material bath and the second pressure in the blind holes after immersing the Transfer plate into a bath of material in which a material in a liquid state is located, the blind holes of the Transfer plate at least partially filled with the liquid material. These filling the blind holes done in an advantageous manner parallel: all blind holes of the transfer plate are filled with material in one step. This reduces the time required for filling the transfer plate considerably. A time-consuming scanning of the transfer plate with a filling device is not necessary. Furthermore, a complex precise positioning of the filling device for Transfer plate not necessary because the position of Sacklö cher simultaneously determines the position of the material to be placed. This reduces the process cost and the error rate considerably.
Gemäß eines zweiten Aspekts der vorliegenden Erfindung ist ein Substrat, insbesondere zur Verwendung eines Verfahrens gemäß einer Ausführungsform des ersten Aspekts der vorliegenden Erfindung vorgesehen, wobei das Substrat eine Vielzahl von Sacklöchern und Kontaktflächen in einem Bereich der Öffnungen der Sacklöcher an einer Oberfläche des Substrats aufweist.According to one Second aspect of the present invention is a substrate, in particular for using a method according to one embodiment of the first aspect of the present invention, wherein the substrate has a variety of blind holes and contact surfaces in a range of openings the blind holes on a surface of the substrate.
Das erfindungsgemäße Substrat kann somit Träger einer funktionalen Gruppe, beispielsweise einer integrierten Schaltung sein, und gleichzeitig Mittel zur Kontaktierung, beispielsweise der integrierten Schaltung, aufweisen. Die Sacklöcher können in vorteilhafter Weise mit einem Material gefüllt werden, das, wenn ausgetrieben, mit den Kontaktflächen in Kontakt tritt. Ferner kann das Substrat, etwa eine integrierte Schaltung auf einem Halbleitersubstrat, durch Eintauchen in ein Lotbad und durch das Herstellen einer Druckdifferenz mit Lotmaterial befüllt werden, das in einem darauf folgenden Schritt ausgetrieben wird und die Kontaktflachen benetzt und mit einem Lotmaterial versieht.The inventive substrate can thus carrier a functional group, such as an integrated circuit be, and at the same time means for contacting, for example the integrated circuit. The blind holes can be in an advantageous manner filled with a material which, when expelled, contact the contact surfaces occurs. Furthermore, the substrate, such as an integrated circuit on a semiconductor substrate, by immersion in a solder bath and be filled with solder material by making a pressure difference, which is expelled in a subsequent step and the Wet contact surfaces and apply a soldering material.
Gemäß eines dritten Aspekts der vorliegenden Erfindung ist eine integrierte Schaltung mit wenigstens einem Substrat mit Sacklöchern gemäß des zweiten Aspekts der vorliegenden Erfindung und einem weiteren Substrat mit Kontaktflächen vorgesehen, wobei Kontaktflächen des Substrates mit den Sacklöchern mit den gegenüberliegenden Kontaktflächen des weiteren Substrates mithilfe von aus den Sacklöchern ausgetriebenem Lotmaterial elektrisch verbunden sind.According to one third aspect of the present invention is an integrated Circuit having at least one substrate with blind holes according to the second Aspect of the present invention and a further substrate with contact surfaces provided, with contact surfaces of the substrate with the blind holes with the opposite contact surfaces the further substrate by means of expelled from the blind holes Lotmaterial are electrically connected.
Die erfindungsgemäße integrierte Schaltung kann in vorteilhafter Weise mehrere Substrate umfassen, die jeweils wieder eine integrierte Schaltung aufweisen können. Die Substrate können gemäß der Erfindung in vorteilhafter Weise untereinander kontaktiert werden, indem gleichzeitig das Lotmaterial aus allen Sacklöchern ausgetrieben wird und gleichzeitig alle entsprechenden Kontaktflächen kontaktiert. Dies ermöglicht eine besonders schonende Kontaktierung mehrerer Substrate, da, beispielsweise bei der Verwendung von aufschmelzendem Lotmaterial, alle Substrate nur einmal aufgewärmt werden müssen. Ferner kann die erfindungsgemäße integrierte Schaltung eine erhöhte Integration aufweisen und die Herstellung wesentlich vereinfacht werden.The Integrated invention Circuit may advantageously comprise a plurality of substrates, each again may have an integrated circuit. The Substrates can according to the invention be contacted with each other in an advantageous manner by simultaneously the solder material from all blind holes is expelled and simultaneously contacted all the corresponding contact surfaces. this makes possible a particularly gentle contacting of multiple substrates, there, for example when using melting solder material, all substrates just warmed up once Need to become. Further can the integrated invention Circuit an increased Integrate and significantly simplifies the production become.
Gemäß eines vierten Aspekts der vorliegenden Erfindung wird eine Vorrichtung zur Durchführung eines Verfahrens gemäß des ersten Aspekts der vorliegenden Erfindung bereitgestellt. Demnach weist die Vorrichtung einen Rezipienten, eine Steuereinheit und eine Druckstelleinheit auf, wobei in dem Rezipienten ein Materialbad mit flüssigem Material und eine Positioniereinheit vorgesehen ist. Ferner ist an der Positioniereinheit eine Transferplatte mit einer Vielzahl von Sacklöchern angeordnet. Die Steuereinheit ist ausgelegt, die Druckstelleinheit in einem ersten Schritt derart anzusteuern, dass in den Rezipienten ein erster Rezipientendruck herrscht, die Positioniereinheit in einem zweiten Schritt derart anzusteuern, dass sie die Transferplatte mit der Vielzahl von Sacklöchern in das Materialbad taucht, die Druckstelleinheit nach dem Eintauchen der Transferplatte in einem dritten Schritt derart anzusteuern, dass in dem Rezipienten ein zweiter Rezipientendruck herrscht, und die Positioniereinheit in einem vierten Schritt derart anzusteuern, dass sie die Transferplatte mit einer Vielzahl von Sacklöchern aus dem Materialbad herauszieht.According to one Fourth aspect of the present invention is a device to carry out a method according to the first Aspect of the present invention. Accordingly, points the device comprises a recipient, a control unit and a pressure point unit on, wherein in the recipient a material bath with liquid material and a positioning unit is provided. Further, on the positioning unit a transfer plate with a plurality of blind holes arranged. The control unit is designed, the pressure point unit in a first step in such a way to control that in the recipient a first recipient pressure prevails, the positioning unit in a second step in such a way to control that they have the transfer plate with the large number of blind holes in the material bath dives, the pressure unit after immersion the transfer plate in a third step in such a way, that in the recipient a second recipient pressure prevails, and to control the positioning unit in a fourth step in such a way that they use the transfer plate with a variety of blind holes pulling out of the material bath.
Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird beim Positionieren der Transferplatte gegenüber der Zielplatte zunächst das Material aus den Sacklöchern der Transferplatte ausgetrieben, wobei perlenförmige Portionen des Materials in einem Bereich der Öffnungen der Sacklöcher ausgebil det werden, und dann die Transferplatte gegenüber der Zielplatte positioniert, wobei die perlenförmigen Portionen des Materials in Kontakt mit der Zielplatte gebracht werden, so dass das Material auf der Zielplatte platziert wird.According to one embodiment The present invention is used in positioning the transfer plate across from the target plate first the material from the blind holes expelled from the transfer plate, wherein beaded portions of the material in a range of openings the blind holes be ausgebil det, and then the transfer plate opposite the Target plate positioned, with the bead-shaped portions of the material be brought into contact with the target plate, leaving the material placed on the target plate.
Damit besteht in vorteilhafter Weise eine Möglichkeit, das Volumen des zu platzierenden Materials zu kontrollieren und ferner die Materialportionen in einer Perlenform mit der Zielplatte in Kontakt zu bringen. Die im Wesentlichen abgerundete Perlenform der Materialportion ermöglicht einen Erstkontakt des Materials mit der Zielplatte in einem möglichst kleinen Bereich, von dem ausgehend sich das restliche Material konzentrisch in Kontakt mit der Zielplatte bringt. Damit wird in vorteilhafter Weise verhindert, dass sich Gas- oder Vakuumeinschlüsse in Form von Blasen bilden können.Thus, there is advantageously a way to control the volume of the material to be placed and also to bring the material portions in a bead shape with the target plate in contact. The substantially rounded bead shape of the material portion allows initial contact of the material with the target plate in as small an area as possible, from which the rest of the material concentrically contacts the target plate brings. This advantageously prevents the formation of gas or vacuum inclusions in the form of bubbles.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird während des Positionierens der Transferplatte gegenüber der Zielplatte zunächst die Transferplatte gegenüber der Zielplatte positioniert und dann das Material aus den Sacklöchern der Transferplatte ausgetrieben, wobei das Material in Kontakt mit der Zielplatte gebracht wird.According to one another embodiment The present invention is used during positioning of the Transfer plate opposite the target plate first the transfer plate opposite The target plate is positioned and then the material from the blind holes of the Driven out transfer plate, wherein the material in contact with the Target plate is brought.
Damit wird in vorteilhafter Weise das Material direkt auf die Transferplatte ausgetrieben und ein separater Schritt zum Austreiben des Materials vor dem Platzieren auf der Transferplatte kann entfallen.In order to is advantageously the material directly on the transfer plate expelled and a separate step to expel the material can be omitted before placing on the transfer plate.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entspricht der erste Druck und der zweite Druck vor dem Eintauchen im Wesentlichen einem Vakuum und betragen vorzugsweise weniger als 5 mbar.According to one another embodiment According to the present invention, the first pressure and the second one correspond Pressure before immersing essentially a vacuum and amount preferably less than 5 mbar.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Druckdifferenz durch ein Erhöhen des ersten Drucks auf Atmosphärendruck, im Wesentlichen auf 1 bar, erzeugt.According to one another embodiment According to the present invention, the pressure difference is increased by increasing the first pressure to atmospheric pressure, essentially at 1 bar, generated.
Durch den Druckausgleich des Drucks auf das Materialbad und den Druck in den Sacklöchern auf Vakuum wird in vorteilhafter Weise in einem darauf folgenden Prozessschritt ein hinreichendes Eintreiben des Materials in die Sacklöcher durch Atmosphärendruck ermöglicht. Die weiteren Prozessschritte können so bei Atmosphärendruck durchgeführt. Ferner muss zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens lediglich ein Vakuum erzeugt werden.By the pressure equalization of the pressure on the material bath and the pressure in the blind holes Vacuum is advantageously in a subsequent process step sufficiently driving the material into the blind holes atmospheric pressure allows. The further process steps can so at atmospheric pressure carried out. Further must to carry the method according to the invention only a vacuum can be generated.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung entspricht der erste Druck und der zweite Druck vor dem Eintauchen im Wesentlichen dem Atmosphärendruck, vorzugsweise im Wesentlichen 1 bar.According to one another embodiment According to the present invention, the first pressure and the second one correspond Pressure before immersion substantially at atmospheric pressure, preferably substantially 1 bar.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Druckdifferenz durch ein Absenken des zweiten Drucks in den Sacklöchern auf ein Vakuum, vorzugsweise auf einen geringeren Druck als 5 mbar, erzeugt.According to one another embodiment In the present invention, the pressure difference is lowered the second pressure in the blind holes to a vacuum, preferably to a pressure lower than 5 mbar, generated.
In vorteilhafter Weise ist das Eintreiben des Materials in die Sacklöcher bei Atmosphärendruck möglich. Alle Prozessschritte können so bei Atmosphärendruck durchgeführt werden, und eine aufwändige Anordnung zur Erzeugung eines Vakuums oder Überdrucks auf das Materialbad ist nicht erforderlich. Der Druck in den Sacklöchern kann durch einen entsprechenden Anschluss der Sacklöcher an eine Druckstelleinrichtung oder Pumpe erfolgen.In Advantageously, the driving of the material in the blind holes at Atmospheric pressure possible. All Process steps can so at atmospheric pressure carried out be, and an elaborate one Arrangement for generating a vacuum or overpressure on the material bath not necessary. The pressure in the blind holes can by a corresponding Connection of the blind holes to a pressure regulating device or pump.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Druckdifferenz geregelt, so dass die Menge des Materials in den Sacklöchern festgelegt wird.According to one another embodiment the present invention, the pressure difference is regulated, so that the amount of material in the blind holes is set.
Die Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck auf das Materialbad und dem zweiten Druck in den Sacklöchern bestimmt, wie viel Material in die Sacklöcher hineingepresst wird. Der Druck kann im Allgemeinen mit einfachen technischen Hilfsmit teln hinreichend exakt und einfach geregelt werden, so dass sich die ansonsten sehr aufwändige Festlegung der Materialmenge in den Sacklöchern gemäß dieser Ausführungsform der vorliegenden Erfindung einfach und effizient gestalten lässt. Ferner kann in vorteilhafter Weise durch ein Regeln der Druckdifferenz die Menge der Materialportion in einem Sackloch eingestellt werden. Damit können in vorteilhafter Weise alle Sacklöcher gleichzeitig mit einer wohl definierten Materialportion in einem Schritt effizient befüllt werden.The Pressure difference between the first pressure on the material bath and the second pressure in the blind holes determines how much material is pressed into the blind holes. Of the Pressure is generally sufficient with simple technical aids be regulated exactly and easily, so that the otherwise very complex Determining the amount of material in the blind holes according to this embodiment of the present invention can be made simple and efficient. Further can be done advantageously by regulating the pressure difference the amount of material portion can be adjusted in a blind hole. With that you can advantageously all blind holes simultaneously with a Well defined material portion can be efficiently filled in one step.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Transferplatte vor dem Eintauchen aufgeheizt, vorzugsweise auf eine Temperatur in einem Bereich zwischen 150 und 300°C.According to one another embodiment According to the present invention, the transfer plate is prior to dipping heated, preferably to a temperature in a range between 150 and 300 ° C.
Ist das Material in dem Materialbad nur bei höheren Temperaturen in einem flüssigen Zustand, so kann durch das Aufheizen der Transferplatte auf eine Temperatur, die im Wesentlichen der Temperatur des Materials entspricht, ein zu abrupter Temperaturübergang, und ein somit verbundener möglicher Schaden an der Transferplatte, verhindert werden.is the material in the material bath only at higher temperatures in one liquid Condition, so can by heating the transfer plate on a Temperature that is substantially equal to the temperature of the material, too abrupt temperature transition, and possible damage associated therewith on the transfer plate, can be prevented.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird das Material nach dem Herausziehen der Transferplatte in den Sacklöchern verfestigt.According to one another embodiment In the present invention, the material is withdrawn solidified the transfer plate in the blind holes.
Damit ist das Material in den Sacklöchern stabil in der Transferplatte verankert, und die Transferplatte kann in vorteilhafter Weise einfach gehandhabt und transportiert werden. Außerdem ist auch ein Wechsel der Prozesskammer einfach möglich. Die Effizienz des gesamten Herstellungsprozesses kann somit optimiert werden.In order to the material is stable in the blind holes anchored in the transfer plate, and the transfer plate can in Advantageously easy to handle and transported. Furthermore is also a change of the process chamber easily possible. The efficiency of the whole Manufacturing process can thus be optimized.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung erfolgt das Verfestigen des flüssigen Materials in den Sacklöchern durch ein Abkühlen, vorzugsweise auf eine Temperatur in einem Bereich zwischen 10 und 50°C.According to one another embodiment The present invention involves the solidification of the liquid material in the blind holes by cooling, preferably to a temperature in a range between 10 and 50 ° C.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung kann das verfestigte Material vor dem Austreiben durch ein Erhitzen wieder verflüssigt werden. Vorzugsweise, erfolgt das Verflüssigen durch ein Aufheizen auf eine Temperatur in einem Bereich zwischen 150°C und 300°C.According to another embodiment of the present invention, the solidified material may be re-liquefied prior to expulsion by heating. Preferably, the liquefaction is carried out by heating to a temperature in egg in the range between 150 ° C and 300 ° C.
In vorteilhafter Weise, kann das Material durch entsprechendes Temperieren der Transferplatte nach Wahl verfestigt und verflüssigt werden. Diese erhöht die Flexibilität und die Einsatzmöglichkeiten des erfindungsgemäßen Verfahrens erheblich.In Advantageously, the material can by appropriate tempering the transfer plate can be solidified and liquefied at will. This increases the flexibility and the possible uses of the inventive method considerably.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird zum Austreiben des Materials aus den Sacklöchern der Transferplatte eine weitere Druckdifferenz zwischen dem zweiten Druck in den Sacklöchern und einem dritten Druck außerhalb der Sacklöcher hergestellt.According to one another embodiment The present invention is used to expel the material the blind holes the transfer plate another pressure difference between the second Pressure in the blind holes and a third pressure outside the blind holes produced.
Damit kann durch das Herstellen einer weiteren Druckdifferenz zwischen dem Druck in den Sacklöchern und dem Druck außerhalb der Sacklöcher das Material aus den Sacklöchern wohl definiert ausgetrieben werden. Somit wirkt insgesamt sowohl die Druckdifferenz als auch das Bestreben des Materials einen Tropfen außerhalb der Transferplatte zu bilden, auf das Material. Durch die Oberflächenspannung des Materials wird das Ausbilden einer perlenförmigen Portion des Materials außerhalb der Sacklöcher begünstigt. Die weitere Druckdifferenz kann dieses Bestreben in vorteilhafter Weise unterstützen oder, zur Verringerung der Portionsmenge des Materials außerhalb des Sacklochs, hemmen.In order to can by establishing a further pressure difference between the pressure in the blind holes and the pressure outside the blind holes that Material from the blind holes well defined to be expelled. Thus, overall affects both the pressure difference as well as the endeavor of the material a drop outside the transfer plate to form on the material. Due to the surface tension of the Material will be the formation of a beaded portion of the material outside the blind holes favors. The further pressure difference can this endeavor in an advantageous Support way or, to reduce the portion amount of the material outside of the blind hole, inhibit.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird als Material ein leitendes Material, vorzugsweise ein Lotmaterial, platziert.According to one another embodiment The present invention uses a conductive material as the material. preferably a solder material, placed.
Durch die Verwendung eines leitenden Materials, vorzugsweise eines Lotmaterials, können mit dem erfindungsgemäßen Verfahren in vorteilhafter und effizienter Weise parallel Portionen von Lotmaterial zur Bildung von elektrischen Kontakten platziert werden. Damit ist es möglich, in einem Arbeitsschritt eine ganze Zielplatte mit Lotperlen zu versehen.By the use of a conductive material, preferably a solder material, can with the method according to the invention in an advantageous and efficient manner parallel portions of solder material be placed to form electrical contacts. This is it is possible To provide a whole target plate with solder balls in one step.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung sind die Zielplatte und die Transferplatte Substrate mit elektrischen Kontaktflächen, wobei die Sacklöcher der Transferplatte im Bereich der elektrischen Kontaktflächen an der Oberfläche angeordnet sind. Ferner erfolgt das Positionieren der Transferplatte gegenüber der Zielplatte, so dass sich die Kontaktflächen der Transferplatte und die Kontaktflächen der Zielplatte im Wesentlichen gegenüberstehen, und wobei das Austreiben des Lotmaterials aus den Sacklöchern erfolgt, so dass über das Lotmaterial eine Verbindung zwischen zwei sich gegenüberstehenden Kontaktflächen hergestellt wird.According to one another embodiment of the present invention are the target plate and the transfer plate Substrates with electrical contact surfaces, wherein the blind holes of the Transfer plate in the field of electrical contact surfaces the surface are arranged. Furthermore, the positioning of the transfer plate takes place across from the target plate, so that the contact surfaces of the transfer plate and the contact surfaces substantially face the target plate, and wherein the expelling of the solder material from the blind holes done so that over the Lotmaterial a connection between two facing each other contact surfaces will be produced.
Somit ist die parallele und effiziente elektrische Verbindung von zwei Substraten in einem Schritt möglich.Consequently is the parallel and efficient electrical connection of two Substrates possible in one step.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung beträgt der Durchmesser der Sacklöcher weniger als 10 μm, der minimale Abstand der Sacklöcher weniger als 50 μm und ist das Verhältnis der Tiefe der Sacklöcher zum Durchmesser der Sacklöcher größer als 3.According to one another embodiment of the present invention the diameter of the blind holes less than 10 μm, the minimum distance of the blind holes less than 50 μm and is the relationship the depth of the blind holes to the diameter of the blind holes greater than Third
Damit lässt sich eine genügende Menge an Lotmaterial in den Sacklöchern deponieren, das dann in vorteilhafter Weise Kontaktflächen in hoher Integration benetzen und kontaktieren kann.In order to let yourself a sufficient one Deposit amount of soldering material in the blind holes, then advantageously contact surfaces can wet and contact in high integration.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist die Oberfläche des Substrats an den Öffnungen der Sacklöcher Fasen auf.According to one another embodiment The present invention features the surface of the substrate at the openings the blind holes Chamfering up.
Damit wird die Platzierung und der Halt des Materials, das aus den Sacklöchern ausgetrieben wird, stabilisiert. Ferner können perlenförmige Portionen des Materials gut und zuverlässig an der Oberfläche des Substrats angehaftet werden.In order to the placement and the hold of the material expelled from the blind holes stabilized. Furthermore, can beaded Portions of the material well and reliably on the surface of the Substrate are adhered.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist die Oberfläche des Substrats benetzende Ösen um die Öffnungen der Sacklöcher auf, wobei Lotmaterial die benetzenden Ösen benetzt.According to one another embodiment According to the present invention, the surface of the substrate has wetting wands around the openings the blind holes with solder material wetting the wetting eyelets.
Durch die benetzenden Ösen wird das Material, das aus den Sacklöchern ausgetrieben wird, in vorteilhafter Weise stabil und wohl definiert auf dem Substrat gehalten. Damit kann auch eine Ungenauigkeit der Positionierung des Materials und/oder ein Verfließen zweier benachbarter Portionen des Lotmaterials verhindert werden.By the wetting eyelets the material that is expelled from the blind holes, in more advantageous Way stable and well defined on the substrate held. In order to may also be an inaccuracy of the positioning of the material and / or a flow two adjacent portions of the solder material can be prevented.
Gemäß weiterer Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung ist die Öffnung eines Sacklochs innerhalb einer Kontaktfläche, angrenzend an eine Kontaktfläche oder in einer Umgebung einer Kontaktfläche, wobei die Umgebung nicht breiter ist als der minimale Abstand zweier benachbarter Kontaktflächen auf dem Substrat, angeordnet.According to others embodiments The present invention is the opening of a blind hole within a contact surface, adjacent to a contact surface or in an environment of a contact surface, where the environment is not wider than the minimum distance between two adjacent contact surfaces the substrate, arranged.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist zwischen dem wenigstens einen Substrat mit den Sacklöchern und dem weiteren Substrat eine Verbindungsschicht angeordnet.According to one another embodiment The present invention is between the at least one substrate with the blind holes and the further substrate, a bonding layer arranged.
Die Verbindungsschicht bindet mechanisch das wenigstens eine Substrat an das weitere Substrat und weist in Bereichen der Kontaktflächen Öffnungen auf. Damit können zwei Substrate in vorteilhafter Weise aneinander gebunden werden und die relative Position zueinander bleibt konstant. Damit können auch mehrere Substrate übereinander angeordnet werden, wobei ein Austreiben des Materials aus den Sacklöchern in einem abschließenden Schritt gemeinsam für alle Substrate mit Sacklö chern erfolgen kann. Während des Stapelns bleibt durch die Verbindungsschicht in vorteilhafter Weise die Position der bereits verbundenen Substrate konstant. Durch die Öffnungen in der Verbindungsschicht im Bereich der Kontaktflächen wird ein Volumen gebildet, das dann durch das ausgetriebene Lotmaterial aus den Sacklöchern zumindest teilweise ausgefüllt werden kann.The bonding layer mechanically binds the at least one substrate to the further substrate and has openings in areas of the contact surfaces. Thus, two substrates can be bonded to each other in an advantageous manner and the relative position to each other remains constant. Thus, a plurality of substrates can be arranged one above the other, with an expelling of the material from the blind holes in a final step together done for all substrates with Sacklö Chern can. During the stacking, the position of the already connected substrates advantageously remains constant due to the bonding layer. Through the openings in the connecting layer in the region of the contact surfaces, a volume is formed, which can then be at least partially filled by the expelled solder material from the blind holes.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Steuereinheit ausgelegt, die Positioniereinheit in einem fünften Schritt derart anzusteuern, dass sie die Transferplatte mit der Vielzahl von Sacklöchern gegenüber einer Zielplatte positioniert.According to one another embodiment According to the present invention, the control unit is designed which Positioning unit in a fifth Step to control such that they the transfer plate with the Variety of blind holes across from a target plate positioned.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist eine weitere Positioniereinheit und eine weitere Steuereinheit vorgesehen und die weitere Steuereinheit ist ausgelegt, die weitere Positioniereinheit derart anzusteuern, dass sie die Transferplatte mit der Vielzahl von Sacklöchern gegenüber einer Zielplatte positioniert. Die weitere Positioniereinheit kann ferner eine Temperiereinheit aufweisen, die ausgelegt ist, die Transferplatte geregelt zu temperieren, vorzugsweise in einem Bereich von 10°C bis 300°C.According to one another embodiment The present invention is another positioning and another control unit is provided and the further control unit is designed to control the further positioning unit in such a way that they have the transfer plate with the plurality of blind holes opposite one Target plate positioned. The further positioning unit can also a tempering unit, which is designed, the transfer plate controlled to temper, preferably in a range of 10 ° C to 300 ° C.
Damit kann in vorteilhafter Weise das Füllen der Sacklöcher mit dem Material zunächst mithilfe der Positioniereinheit erfolgen, und das Positionieren der Transferplatte gegenüber einer Zielplatte mithilfe der weiteren Positioniereinheit erfolgen. Da sich das Positionieren mit der Positioniereinheit lediglich auf das einfache Tauchen und Herausziehen der Transferplatte in das Materialbad beschränkt kann die Positioniereinheit möglichst einfach ausgeführt sein. Das Positionieren der Transferplatte gegenüber einer Zielplatte erfordert in der Regel eine höhere Präzision, oft in einem Bereich unter 1 μm, wofür die weitere Positioniereinheit optimiert sein kann. Ferner erlaubt ein Wechsel der Positioniereinheit oder auch der Ausbau der Transferplatte aus einer Positio niereinheit Zwischenschritte, wie etwa eine optische Inspektion zur Qualitätssicherung.In order to can advantageously with the filling of the blind holes the material first using the positioning unit, and positioning the Transfer plate opposite a target plate with the help of the further positioning unit. Since the positioning with the positioning only on the simple dipping and pulling the transfer plate into the material bath limited the positioning unit can as possible simply executed be. Positioning the transfer plate relative to a target plate requires usually a higher one Precision, often in a range below 1 μm, for what further positioning unit can be optimized. Furthermore, a Changing the positioning unit or removing the transfer plate From a positioning niereinheit intermediate steps, such as an optical Inspection for quality assurance.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Steuereinheit ausgelegt, die Druckstelleinheit nach dem Herausziehen der Transferplatte aus dem Materialbad derart anzusteuern, dass in dem Rezipienten ein dritter Rezipientendruck herrscht.According to one another embodiment According to the present invention, the control unit is designed which Pressure adjusting unit after removing the transfer plate from the To control material bath such that in the recipient a third Recipient pressure prevails.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist die Druckstelleinheit ausgelegt, den ersten Rezipientendruck und den zweiten Rezipientendruck festzulegen, so dass die Druckdifferenz zwischen dem ersten Rezipientendruck und dem zweiten Rezipientendruck im Wesentlichen 1 bar entspricht. Dies kann durch ein Einstellen des ersten Rezipientendrucks unter 5 mbar, im Wesentlichen ein Vakuum, und dem Einstellen des zweiten Rezipientendrucks bei 1 bar, im Wesentlichen Atmosphärendruck, erfolgen. Fernen kann der erste Rezipientendruck bei 1 bar, im Wesentlichen Atmosphärendruck, und der zweite Rezipientendruck bei etwa 2 bar festgelegt werden, um eine Druckdiffrenz von etwa 1 bar zu erzeugen.According to one another embodiment According to the present invention, the printing unit is designed set the first recipient pressure and the second recipient pressure so that the pressure difference between the first recipient pressure and the second recipient pressure substantially equal to 1 bar. This can be done by adjusting the first recipient pressure below 5 mbar, essentially a vacuum, and adjusting the second recipient pressure at 1 bar, essentially atmospheric pressure. Far the first recipient pressure can be at 1 bar, essentially atmospheric pressure, and the second recipient pressure is set at about 2 bar, to produce a Druckdiffrenz of about 1 bar.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist die Positioniereinheit eine Temperiereinheit auf, die ausgelegt ist, die Transferplatte geregelt zu temperieren, vorzugsweise in einem Bereich von 10 bis 300°C.According to one another embodiment According to the present invention, the positioning unit has a tempering unit auf, which is designed to control the transfer plate regulated, preferably in a range of 10 to 300 ° C.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung weist das Materialbad eine weitere Temperiereinheit auf, die ausgelegt ist, das Material geregelt zu temperieren, vorzugsweise in einem Bereich von 10 bis 300°C.According to one another embodiment According to the present invention, the material bath has a further tempering unit on, which is designed to control the material regulated, preferably in a range of 10 to 300 ° C.
Bevorzugte Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend anhand der beigefügten Zeichnung näher erläutert. Es zeigen: preferred embodiments The present invention will be described below with reference to the accompanying drawings explained in more detail. It demonstrate:
Wie
in
In
diesem Schritt des Verfahrens entspricht der erste Druck 200 im
Wesentlichen dem zweiten Druck
In
einem weiteren Verfahrensschritt, wie in
Durch
ein Herstellen einer ersten Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck
In
einem weiteren Verfahrensschritt, wie in
Wie
in
Wie
in
Wie
in
Die
Die
In
einem weiteren Schritt, wie in
Ist
das Material der perlenförmigen
Portionen
Wie
in
Gemäß einer
achten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, wie in
Die
Gemäß einer
zehnten Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, wie in
Gemäß einer
elften Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung, wie in
In
dem Rezipienten
In einer Variante VL, dargestellt durch eine gepunktete Linie, wird in einem Schritt S6R die Transferplatte zunächst optional abgekühlt. Hierbei kann das Material in den Sacklöchern erstarren. Daraufhin wird die Transferplatte gegenüber der Zielplatte positioniert, woraufhin, sofern die optionale Abkühlung erfolgte, ein Aufheizen der Transferplatte zur Verflüssigung des Materials in den Sacklöchern der Transferplatte erfolgen kann. In einem Schritt S6L erfolgt daraufhin ein Austreiben des Materials, um, um die Variante VL abzuschließen, in einem Schritt S7 das Material auf der Zielplatte zu platzieren. Optional kann in dem Schritt S6L auch eine Druckdifferenz zwischen dem ersten Druck p1 und dem zweiten Druck P2 hergestellt werden, sodass der erste Druck p1 kleiner ist als der zweite Druck p2 und das Material aus den Sacklöchern der Transferplatte ausgetrieben wird.In a variant VL, represented by a dotted line, the transfer plate is first optionally cooled in a step S6R. This can cause the material in the blind holes to solidify. Thereafter, the transfer plate is positioned opposite the target plate, whereupon, if the optional cooling has taken place, the transfer plate can be heated to liquefy the material in the blind holes of the transfer plate. In a step S6L, the material is then expelled to place the material on the target plate in a step S7 in order to complete the variant VL. Optionally, in step S6L also a pressure difference between the first pressure p 1 and the second pressure P2 can be established, so that the first pressure p 1 is smaller than the second pressure p 2 and the material is expelled from the blind holes of the transfer plate.
In einer Variante VR, dargestellt mit einer gestrichelten Linie, erfolgt zunächst das Austreiben gemäß dem Schritt S6L und dann das Positionieren in einem Schritt S6R, um die Variante VR, wieder mit dem Schritt S7 eines Platzierens des Ma terials auf der Zielplatte, abzuschließen. Bezüglich der Optionen innerhalb der Variante VR wird auf die Optionen der Variante VL verwiesen.In a variant VR, shown with a dashed line occurs first the expulsion according to the step S6L and then positioning in a step S6R to the variant VR, again with the step S7 of placing the material on the Target plate to complete. In terms of The options within the variant VR will be based on the options of Variant VL referenced.
- 1010
- Transferplattetransfer plate
- 1111
- Transfersubstrattransfer substrate
- 100100
- Sacklochblind
- 101101
- Phasephase
- 102102
- benetzende Ösewetting eyelet
- 110110
- erstes Volumenfirst volume
- 111111
- zweites Volumensecond volume
- 140140
- Kontaktflächecontact area
- 141141
- benachbarte Kontaktflächeadjacent contact area
- 2020
- MaterialbadMaterialbad
- 2121
- Materialmaterial
- 200200
- erster Druckfirst print
- 201201
- zweiter Drucksecond print
- 210210
- Material in einem Sacklochmaterial in a blind hole
- 211211
- perlenförmiges Materialbeaded material
- 212212
- Lotmaterial in einem Sacklochsolder in a blind hole
- 213213
- perlenförmiges Lotmaterialbead-shaped solder material
- 214214
- Lotverbindungsolder
- 220220
- LotmaterialrestLotmaterialrest
- 3030
- Zielplattetarget plate
- 3131
- Zielsubstrattarget substrate
- 310310
- benetzende Flächewetting area
- 4040
- Verbindungsschichtlink layer
- 400400
- Öffnungopening
- 500500
- Rezipientrecipient
- 501501
- Positioniereinheitpositioning
- 502502
- DruckstelleinheitPressure control unit
- 503503
- Steuereinheitcontrol unit
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| Satoh, Akinobu: Wiring of bumpless, threedimensional integrated Si wafers block using through-hole interconnections. In: Japanese Journal of Applied Physics, ISSN 0021-4922, Part 1, 2001, Vol. 40, No. 8, S. 477-4780 * |
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