DE102006028618A1 - Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen Download PDFInfo
- Publication number
- DE102006028618A1 DE102006028618A1 DE102006028618A DE102006028618A DE102006028618A1 DE 102006028618 A1 DE102006028618 A1 DE 102006028618A1 DE 102006028618 A DE102006028618 A DE 102006028618A DE 102006028618 A DE102006028618 A DE 102006028618A DE 102006028618 A1 DE102006028618 A1 DE 102006028618A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- formula
- compound
- substituted
- oxetane
- compounds
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- -1 oxetane compound Chemical class 0.000 title claims abstract description 34
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 24
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 title claims abstract description 23
- 150000003527 tetrahydropyrans Chemical class 0.000 title claims abstract description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 34
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 14
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 125000004404 heteroalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- 125000004415 heterocyclylalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 24
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims description 15
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 claims description 13
- AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N oxetane Chemical compound C1COC1 AHHWIHXENZJRFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims description 12
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 8
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical group C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 claims description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 238000009903 catalytic hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 238000005906 dihydroxylation reaction Methods 0.000 claims description 5
- 230000008030 elimination Effects 0.000 claims description 5
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 5
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 claims description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000004446 heteroarylalkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims 1
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 241000702421 Dependoparvovirus Species 0.000 description 12
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 12
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethylpiperidine Chemical compound CC1(C)CCCC(C)(C)N1 RKMGAJGJIURJSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N (e)-4-(6-aminopurin-9-yl)but-2-en-1-ol Chemical compound NC1=NC=NC2=C1N=CN2C\C=C\CO DYLIWHYUXAJDOJ-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 5
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 5
- DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N lithium butane Chemical compound [Li+].CCC[CH2-] DLEDOFVPSDKWEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical group C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 4
- ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N lithium diisopropylamide Chemical compound [Li+].CC(C)[N-]C(C)C ZCSHNCUQKCANBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002921 oxetanes Chemical class 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical class CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical class [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 3
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 4-toluenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=C(S(Cl)(=O)=O)C=C1 YYROPELSRYBVMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N epibromohydrin Chemical compound BrCC1CO1 GKIPXFAANLTWBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005004 perfluoroethyl group Chemical group FC(F)(F)C(F)(F)* 0.000 description 2
- 125000005009 perfluoropropyl group Chemical group FC(C(C(F)(F)F)(F)F)(F)* 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 238000006894 reductive elimination reaction Methods 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- WHRNULOCNSKMGB-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran thf Chemical compound C1CCOC1.C1CCOC1 WHRNULOCNSKMGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQQZRZQVBFHBHL-UHFFFAOYSA-N 12-crown-4 Chemical compound C1COCCOCCOCCO1 XQQZRZQVBFHBHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNODDICFTDYODH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxytetrahydrofuran Chemical class OC1CCCO1 JNODDICFTDYODH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 2154-56-5 Chemical compound [CH2]C1=CC=CC=C1 SLRMQYXOBQWXCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241001655883 Adeno-associated virus - 1 Species 0.000 description 1
- 241000702423 Adeno-associated virus - 2 Species 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical group [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010533 azeotropic distillation Methods 0.000 description 1
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M bis(2-methylpropyl)alumanylium;chloride Chemical compound CC(C)C[Al](Cl)CC(C)C HQMRIBYCTLBDAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011089 carbon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012230 colorless oil Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000003950 cyclic amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001934 cyclohexanes Chemical class 0.000 description 1
- NNGAQKAUYDTUQR-UHFFFAOYSA-N cyclohexanimine Chemical compound N=C1CCCCC1 NNGAQKAUYDTUQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002084 enol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002373 hemiacetals Chemical class 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N lithium amide Chemical class [Li+].[NH2-] AFRJJFRNGGLMDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002642 lithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910003002 lithium salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000002 lithium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCBPHBQMSDVIPZ-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexatriene Chemical compound CC1=CC=C=C[CH]1 HCBPHBQMSDVIPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002900 organolithium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004880 oxines Chemical class 0.000 description 1
- 150000002924 oxiranes Chemical class 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 1
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D405/00—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom
- C07D405/02—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings
- C07D405/04—Heterocyclic compounds containing both one or more hetero rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms, and one or more rings having nitrogen as the only ring hetero atom containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D309/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings
- C07D309/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D309/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom, not condensed with other rings having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D309/06—Radicals substituted by oxygen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/32—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems
- C09K2019/327—Non-steroidal liquid crystal compounds containing condensed ring systems, i.e. fused, bridged or spiro ring systems containing a spiro ring system
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
- C09K2019/3416—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a four-membered ring, e.g. oxetane
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K19/00—Liquid crystal materials
- C09K19/04—Liquid crystal materials characterised by the chemical structure of the liquid crystal components, e.g. by a specific unit
- C09K19/06—Non-steroidal liquid crystal compounds
- C09K19/34—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring
- C09K19/3402—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom
- C09K2019/3422—Non-steroidal liquid crystal compounds containing at least one heterocyclic ring having oxygen as hetero atom the heterocyclic ring being a six-membered ring
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von 2,5-disubstituierten Tetrahydropyranen, ausgehend von 3-substituierten Oxetanen und Iminoenolaten.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von 2,5-disubstituierten Tetrahydropyranen ausgehend von 3-substituierten Oxetanen und Iminoenolaten.
- Tetrahydropyranringe als Bestandteil von chemischen Strukturen sind ein wichtiges Merkmal einer ganzen Reihe von Verbindungsklassen. Eine wichtige Rolle nehmen die Tetrahydropyrane bereits bei der Substanzklasse der Flüssigkristalle ein, wie z. B. in der
beschrieben. Von besonderem Interesse auf diesem Gebiet sind 2,5-substituierte Derivate der Tetrahydropyrane in struktureller Analogie zu den üblichen 1,4-substituierten Cyclohexanderivaten. In derEP 967261 A1 werden unter anderem Synthesen von Tetrahydropyranen offenbart. Eine Synthese ausgehend von einem terminalen Aldehyd weist nach drei Reaktionsschritten eine Zwischenstufe in Form eines 2-Oxetans auf, das zur Ausbildung einer C-C-Verknüpfung dient. Nach drei weiteren Schritten wird ein 2,5-disubstituiertes Tetrahydropyran erhalten.EP 967261 A1 - Weitere Synthesen von Pyransystemen, die als Zwischenstufe ein Oxetan aufweisen, sind in der Literatur zu finden. Substituierte Lactone ausgehend von substituierten Oxetanen werden von Yamaguchi et al. (Tetrahedron Lett. 1984, 25, 11, 1159-62) beschrieben. Als Reaktionspartner dienen hier Enolate von Estern oder Amiden. In einem Beispiel wird am entstehenden Pyranonsystem eine Substitution mit Alkylresten in para-Stellung beobachtet.
- Eine Reaktion von Iminoverbindungen an Epoxiden wird von Le Borgne (J. Organomet. Chem. 1976, 122, 139-43) offenbart, wobei 2-Hydroxy-Tetrahydrofurane mit bestimmten Substitutionsmustern erhalten werden.
- Es besteht daher die Aufgabe, einen allgemeinen Zugang zu in 2-Stellung und in 5-Stellung substituierten Tetrahydropyranen ausgehend von einfachen Edukten zu erschließen.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Verfahren zur Herstellung von Verbindungen der Formel I, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man ein Oxetan der Formel II mit einem Iminoenolat der Formel III wobei M+ für ein ein- oder mehrwertiges Kation und
R3 für ein einwertiges, substituiertes oder unsubstituiertes, verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Alkyl, Arylalkyl, Aryl, Heteroalkyl oder Heteroaryl steht,
oder mit einem dem Iminoenolat analogen Imin in Kombination mit einer Base zu Verbindungen der Formel IV umsetzt, und in einem oder mehreren weiteren Verfahrensschritten die Verbindungen der Formel IV in Verbindungen der Formel I überführt, wobei in den Formeln I, II, III und IV, unabhängig voneinander, gleich oder verschieden,
R1 und R2 für ein C1-C10-Alkyl, Cycloalkyl, Alkylcycloalky, Aryl, Arylalkyl, Alkylaryl, Heteroaryl, Heteroarylalkyl, Heterocyclyl oder Heterocyclylalkyl, die weiter substituiert oder unsubstituiert sein können, steht. - Die Reste R1 und R2 können in den Produkten der Formel I von denen in den Edukten abweichen. Im einfachsten Fall sind sie gleich, wenn keine weiteren Zwischenschritte oder Parallelreaktionen im Rahmen des Verfahrens stattgefunden haben.
- Aryl bezeichnet z. B. Benzol oder Naphthalin, Heteroaryl z. B. Pyridin oder Benzofuran, Arylalkyl z. B. einen Benzylrest, Cycloalkyl z. B. einen Cyclohexylrest, Heterocyclyl z. B. ein Tetrahydropyran und Alkylaryl z. B. einen p-Tolylrest. Weitere Substituenten sind bevorzugt ausgewählt aus C1-7-n-Alkyl, F, Cl, Br, CN, -CF3, -OCF3, -CF2O-Aryl oder eine der oben genannten Gruppen Cycloalkyl und Aryl, bevorzugt C1-7-n-Alkyl, F, -CF3 und -OCF3.
- Die Reste R1 und R2 können in vielfältiger Weise variiert werden, solange sie unter den Reaktionsbedingungen gegen Basen stabil sind. Die Größe der Substituenten hat kaum Auswirkung auf die Reaktion und kann von einfachen Ketten bis zu Systemen mit mehreren Ringen, Ketten und Substituenten reichen.
-
- Die Lage des Gleichgewichts ist abhängig von den Substituenten R1 und R2, insbesondere von den Eigenschaften des Substituenten R2, was in der Praxis aber eine untergeordnete Rolle spielt. Daher erstreckt sich das erfindungsgemäße Verfahren auch auf Verbindungen der Formel V wann immer die Verbindungen der Formel IV angesprochen sind. Die Eliminierungsreaktionen an IV führen auch für den Anteil, der in der offenkettigen Form der Formel V vorliegt, über das Gleichgewicht zu den gewünschten ringförmigen Dihydro- und Tetrahydropyranen.
- Bevorzugt stehen die Substituenten R1 und R2 für typische mesogene Reste aus dem Bereich der Flüssigkristalle. Die Substituenten R1 und R2 sind daher bevorzugt ein verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Alkyl oder Alkenyl, die ein- oder mehrfach mit Halogen substituiert sein können, ein sechsgliedriges Ringsystem wie 1,4-Phenyl oder Cyclohexan-1,4-diyl, worin auch ein oder zwei -CH2- durch -O- substituiert sein können, sowie weiter verzweigte und/oder mit Halogen, CN, -OBenzyl, etc. substituierte Kombinationen dieser Alkyl- oder Alkenyl-Ketten und Ringe, wobei die Ketten durch weitere Sauerstoffatome unterbrochen sein können. Ebenso stehen die Substituenten R1 und R2 bevorzugt für Gruppen, die sich dazu eignen, solche mesogenen Verbindungen in wenigen synthetischen Schritten herzustellen. Besonders geeignete Vorstufen sind in der Regel Verbindungen, die eine reaktive Gruppe enthalten, die zu dem erfindungsgemäßen Verfahren kompatibel ist, wie z. B. Halogenaromaten, aromatische Boronate, geschützte Alkohole, Alkene sowie Ester.
- Besonders bevorzugt ist ein Verfahren zur Herstellung von Tetra hydropyran-Derivaten der Formel Ia, das dadurch gekennzeichnet ist, dass man ein Oxetan der Formel IIa mit einem Iminoenolat der Formel IIIa wobei M+ für ein ein- oder mehrwertiges Kation und
R3 für ein einwertiges, substituiertes oder unsubstituiertes, verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Alkyl, Arylalkyl, Aryl, Heteroalkyl oder Heteroaryl steht,
oder mit einem dem Iminoenolat IIIa analogen Imin in Kombination mit einer Base zu Verbindungen der Formel IVa umsetzt, und anschließend die Verbindung der Formel IVa in Verbindungen der Formel Ia überführt, wobei in den Formeln Ia, IIa, IIIa und IVa, unabhängig voneinander, gleich oder verschieden,
R11 und R12 einen unsubstituierten oder einfach oder mehrfach, gleich oder verschieden mit Halogen, OR4 oder CN substituierten Alkylrest mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen bedeutet, wobei in diesem Rest auch eine oder mehrere CH2-Gruppen durch -C≡C-, -CH=CH-, -O-, -S-, -(CO)O- und/oder -O(CO)- so ersetzt sein können, dass Heteroatome (O, S) nicht direkt miteinander verknüpft sind, oder, für den Fall, dass d+e+f ungleich O, R11 und R12 auch H, Halogen, CN, NCS oder SF5 bedeuten,
R4 ein verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Arylalkyl oder eine andere OH-Schutzgruppe,
A1, A2, A3, A4, A5, A6 1,4-Phenylen (welches 0-4 mal unabhängig voneinander durch Halogen, CH3, CHF2, CH2F, OCH3, OCHF2, OCF3 substituiert sein kann und wobei ein Ring-CH 0-2 mal durch N substituiert sein kann), Cyclohexan-1,4-diyl (wobei CH2 0-2 mal unabhängig voneinander durch O oder S und H durch F substituiert sein kann), Cyclobutan-1,3-diyl, Bicyclo[1.1.1]pentan-1,3-diyl, Bicyclo[2.2.2]octan-1,4-diyl, Spiro[3.3]heptan-2,6-diyl bedeuten,
Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6 unabhängig voneinander, gleich oder verschieden, eine Einfachbindung, -C=C-, -C≡C-, -CH2CH2-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2-, -CH2O-, -OCH2-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2CH2CF2O-, -OCF2CH2CH2-, -(CO)O- oder -O(CO)- bedeuten, und
a, b, c, d, e, f 0 oder 1 bedeuten, wobei a + b + c + d + e + f ≤ 4 ist. Bevorzugt ist die jeweils direkt an das Oxetan, das Iminoenolat und das Tetrahydropyran gebundene Gruppe (Z1-6; R1; R2) nicht über ein Heteroatom (O) angebunden. - Theoretisch wird ein Äquivalent einer Lewis-Säure zur Umsetzung des Iminoenolats mit dem Oxetan benötigt. Daher verwendet man in der Praxis bevorzugt mindestens 0,8 Äquivalente Lewis-Säure, besonders bevorzugt 0,8 bis 5 Äquivalente und insbesondere 0,9 bis 3 Äquivalente.
- Als Lewis-Säuren kommen beispielsweise die folgenden Lewis-Säuren zum Einsatz:
BF3 als Gas oder BF3-Etherat (BF3·OEt2), Di-iso-butylaluminiumchlorid, Trialkylsilyltriflat, sowie BIII(X1)3, AlIII(X1)3, GaIII(X1)3, InIII(X1)3, SnIV(X1)4, TiIV(X1)4, FeIII(X1)3, ZnII(X1)2, ZrIV(X1)4, NbV(X1)5, AuIII(X1)3 und BiIII(X1)3 mit X1 gleich Chlor, Brom oder Iod, bevorzugt Chlor oder Brom. Bevorzugt werden BF3, BF3-Etherat, SnCl4 oder Trialkylsilyltriflat verwendet, besonders bevorzugt BF3 oder BF3-Etherat. - Die genaue Menge an einzusetzender Lewis-Säure kann in einem weiten Bereich variieren und hängt – vor allem was die zu verwendende Mindestmenge betrifft – unter anderem von der pro Molekül Lewis-Säure vorhandenen Anzahl an reaktiven Äquivalenten, also z. B. Halogenatomen X1 ab. So können im Fall der Lewis-Säuren, deren Atom M die formale Oxidationszahl +4 (+IV) aufweist, bereits 25 mol%, bezogen auf das umzusetzende Iminoenolat der Formel III, ausreichen, um einen vollständigen Umsatz der Reaktionspartner zu gewährleisten.
- Der Reaktionspartner Iminoenolat der Formel III und IIIa wird am einfachsten aus einem entsprechenden Imin der Formel VI bzw. VIa in Kombination mit einer Base durch Deprotonierung hergestellt. Die Herstellung von geeigneten Iminen, z. B. durch Kondensation aus Methylketonen und primären Aminen, erfolgt nach allgemein bekannten Methoden.
- Der Substituent am Amin (R3 in den Strukturformeln) taucht nicht im Endprodukt auf. Die Wahl des primären Amins spielt daher mehr eine verfahrenstechnische Rolle, z. B. für die Entfernbarkeit des Amins aus der Reaktionsmischung während der Aufarbeitung. Bevorzugt werden einfache primäre Amine eingesetzt, insbesondere Amine der Formel H2NR3, wobei R3 wie für Formel III definiert ist. Besonders bevorzugte Reste R3 sind gerade, verzweigte oder cyclische Alkyle, wie z. B. in den Stoffen i-Propylamin oder Cyclohexylamin, wobei die Anzahl der C-Atome im (Cyclo-)Alkylrest bevorzugt zwischen 2 und 15, besonders bevorzugt zwischen 3 und 6 liegt.
- Der zweite Substituent am Methylketon bzw. an der entsprechenden Stelle im Iminoenolat (R2 in den Strukturformeln) bestimmt den Substituenten in Position 2 des entstehenden Pyranderivates. Durch die Vielfalt der möglichen Edukte, käuflich oder nach Standardmethoden herzustellen, entsteht eine Vielfalt an wertvollen Produkten vom Typ der Tetrahydropyrane oder Dihydropyrane, woraus ein Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens ersichtlich ist. Der Vorteil erhöht sich durch die Tatsache, dass sich die Vielfalt an möglichen Produkten durch Variation der eingesetzten Oxetankomponenten multipliziert.
- Die Herstellung der eingesetzten Iminoenolate erfolgt vorzugsweise in situ, also ohne Isolierung der eigentlichen Salze, aus den Vorstufen, bevorzugt aus dem Imin, oder wahlweise direkt aus der Ketonkomponente und der Aminkomponente. Besonders bevorzugt wird ein vorbereitetes Imin in die Reaktion eingesetzt und mit einer Base deprotoniert.
- Die eingesetzte Base besteht vorzugsweise aus einem Metallamid oder einer metallorganischen Verbindung der elektropositiven Metalle wie z. B. Li, Na, K, Mg oder Al. Die Base muss die erforderliche Stärke haben, um das Imin zu deprotonieren. Bevorzugt werden Lithiumverbindungen der genannten Art eingesetzt, also Lithiumamide und lithiumorganische Verbindungen. Unter den metallorganischen Verbindungen sind besonders die einfach erhältlichen Metallalkyle bevorzugt, im Falle des Magnesiums auch der Metallalkylhalogenide (Grignard-Verbindungen). Ebenso sind die einfachen Dialkylamide und cyclischen Amide besonders bevorzugt. Ganz besonders bevorzugt sind insgesamt Dialkylamide und Metallalkyle des Lithiums wie z. B. Lithiumdi-iso-propylamid (LDA) oder das Lithium-Salz des 2,2,6,6-Tetramethylpiperidins (TMP) bzw. n-Butyllithium. Dabei ist es auch möglich, ein sekundäres Amin zusammen mit einem Metall oder Metallalkyl einzusetzen, um ein entsprechendes Metallamid in situ zu erzeugen. Daher besteht das Gegenion M+ des Iminoenolats ganz oder teilweise aus einem der genannten Metalle, bevorzugt aus einem Alkalimetall wie z. B. Li, Na oder K, insbesondere Li.
- Bevorzugt ist eine erste Variante des Verfahrens, die dadurch gekennzeichnet ist, dass die Umsetzung von Zwischenprodukten der Formel IV zu den Tetrahydropyranen der Formel I durch eine reduktive Dehydroxylierung erfolgt. Dabei wird formal die OH-Gruppe durch ein Wasserstoffatom ersetzt. Für solche reduktiven Eliminierungen sind in der Literatur zahlreiche Verfahrenswege bekannt, wie z. B. mit Et3SiH und BF3-Etherat, mit Et3SiCl, MeI und MeCN, mit NaBH4 in F3CCOOH oder mit (H3C)2SiI2; darüber hinaus mittels katalytischer Hydrierung an benzylischer Position, also wenn der benachbarte Ring ein Aromat ist (wenn -[Z4A4]d- in Formel IVa bzw. R2 in Formel IV ein Aromat ist).
- Eine zweite Variante des Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung von Zwischenprodukten der Formel IV zu den Tetrahydropyranen der Formel I durch eine Eliminierung der OH-Gruppe als Wasser und anschließende katalytische Hydrierung des entstandenen Dihydropyrans erfolgt. Als Zwischenprodukt der Eliminierung tritt ein Dihydropyran der Formel VII auf. Unter Umständen ist diese Variante des Verfahrens gegenüber der reduktiven Eliminierung bevorzugt, wenn die Abspaltung von Wasser sehr leicht erfolgt. Dies ist der Fall, wenn elektronenziehende Substituenten R2 an dem Kohlenstoff der OH-Gruppe sitzen, insbesondere wenn es sich beispielsweise um Perfluoralkylgruppen (z. B. Perfluorethyl oder Perfluorpropyl) oder fluorierte Ketten zu einem weiteren Ring handelt (d. h. wenn z. B. die Gruppe Z2 -CF2CF2- bedeutet).
- Die übrigen Reaktionsbedingungen in der Reaktion des Oxetans mit dem Iminoenolat oder dem entsprechenden Imin werden wie im Folgenden gewählt.
- Die Reihenfolge der Vereinigung der Reaktionskomponenten kann variieren. Bevorzugt wird das Iminoenolat zuerst aus Imin und Base gebildet und dazu die weiteren Komponenten nacheinander oder gleichzeitig zugefügt. Die Reihenfolge der weiteren Komponenten ist vorzugsweise nacheinander in der Reihenfolge Oxetan – Lewis-Säure. Die Reaktionstemperatur beträgt vorzugsweise –80 bis –40 °C während der Vereinigung des Oxetans und der Lewis-Säure mit dem Iminoenolat. Besonders bevorzugt ist eine Reaktionstemperatur von –70 bis –50 °C. Als Lösemittel werden in der Regel getrocknete, organische Lösemittel verwendet, wahlweise auch superkritisches CO2 oder ionische Flüssigkeiten. Bevorzugte Lösemittel sind Ether wie Tetrahydrofuran, Diethylether, Dibutylether, Anisol, Dioxan, Mono-, Di-, Tri-, Polyethylenglykolether und andere inerte Lösungsmittel wie Petrolether, Cyclohexan, Methylcyclohexan, Decalin, Benzol, Toluol, Xylole, Dimethylformamid, Pyridin, N-Methylpyrrolidon oder Acetonitril, insbesondere jedoch die genannten Ether.
- Die Reaktion kann als Batch-Reaktion oder kontinuierlich betrieben werden. In der kontinuierlichen Arbeitsweise werden die Reaktanden an verschiedenen Stellen eines thermostatisierten Strömungsrohres oder an verschiedenen Stationen einer Rührkesselkaskade zugegeben, wobei als Ausgangsstoff die gelöste Iminkomponente oder das Iminoenolat dient.
- Eine weitere Ausführungsform der Erfindung ist eine Verbindung der Formel I erhältlich aus dem erfindungsgemäßen Verfahren.
- Weitere Ausführungsformen des Verfahrens gebildet aus Kombinationen der offenbarten Verfahrensvarianten ergeben sich aus den Ansprüchen.
- Vor- und nachstehend werden folgende Abkürzungen verwendet:
- TMP
- 2,2,6,6-Tetramethylpiperidin
- n-BuLi
- n-Butyllithium
- MTB-Ether
- Methyl-t-butylether
- THF
- Tetrahydrofuran
- RT
- Raumtemperatur
- Die vorliegende Erfindung wird durch die nachfolgenden Beispiele weiter veranschaulicht, ohne auf sie beschränkt werden zu sollen.
- 2,2,6,6-Tetramethylpiperidin (3,90 ml; 22,90 mmol) wird unter Stickstoffatmosphäre in THF (30 ml) gegeben und unter Rühren auf –78 °C abgekühlt. Bei dieser Temperatur wird langsam eine Lösung von n-BuLi (15 % in Hexan) (14,37 ml; 22,90 mmol) zugegeben und 20 min bei –78 °C nachgerührt. Nun wird eine Lösung von Ketoncyclohexylimin (23,0 mmol) in THF (30 ml) tropfenweise zugegeben, weitere 40 min bei –60 bis –70 °C gerührt und eine Lösung von 3-substituiertem Oxetan der Formel II (16,50 mmol) in THF (20 ml) zugetropft, gefolgt von einer langsamen Zugabe der Lewissäure BF3·OEt2 (5,10 ml; 40,60 mmol). Es wird weitere 1,5 h bei –60 °C gerührt, anschließend langsam auf RT erwärmt und weitere 10 h gerührt. Man versetzt mit einer gesättigten NH4Cl-Lösung (70 ml), vollzieht eine Phasentrennung und extrahiert die wässrige Phase zweimal mit je 30 ml MTB-Ether. Die vereinigten organischen Phasen werden mit einer gesättigten NaCl-Lösung ausgeschüttelt, über Na2SO4 getrocknet, abgefiltert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Das Rohprodukt wird über Kieselgel (Heptan:Ethylacetat 8:1) filtriert und die entsprechenden Fraktionen vereinigt und zur Trockne eingeengt. Man erhält das Zwischenprodukt der Formel IV als farblose Kristalle. Ölige Produkte kristallisieren nach Stehen, Anreiben oder Animpfen vollständig zu farblosen Kristallmassen. Die Versuchsbeispiele sind in Tabelle 1 wiedergegeben.
- Das Zwischenprodukt der Formel IV (8,10 mmol) bzw. das Produktgemisch aus IV und V wird unter Stickstoff in Methylenchlorid (100 ml) gelöst und auf –70 °C abgekühlt. Dazu wird zuerst zügig Triethylsilan (2,10 ml; 13,00 mmol) und anschließend langsam BF3·OEt2 (0,85 ml; 13 mmol) zugegeben. Bei dieser Temperatur wird noch 3 h gerührt. Die Mischung wird langsam auf RT erwärmt und dann bei 40 °C bis zur Beendigung der Reduktion gerührt. Anschließend wird vorsichtig mit einer 10%igen NaOH-Lösung bis auf pH 7 neutralisiert. Es wird zweimal mit je 40 ml Methylenchlorid extrahiert, die vereinigten organischen Phasen mit 30 ml gesättigter NaCl-Lösung gewaschen, über Na2SO4 getrocknet, abfiltriert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Das Rohprodukt wird aus Heptan umkristallisiert und ergibt das trans-Isomer der Formel I. Die Versuchsbeispiele sind in Tabelle 1 wiedergegeben. Tabelle 1: Versuchsbeispiele 1-14 gemäß AAV1 und AAV 2.
- a Ausbeute vor Kristallisation;
- b Selektivität trans-Isomer (HPLC);
- c Zusatz von 12-Krone-4 Ether;
- d rohes Imin umgesetzt.
- R3 ist Cyclohexyl für Beispiel 1-15. Bn: Benzyl.
- Gemäß der AAV 1 werden die Oxetane und Imine zu IV bzw. V umgesetzt, wobei zuletzt nach Zugabe der Lewissäure 1,5 h bei –60 °C gerührt, anschließend langsam auf RT erwärmt und weitere 10 h bei RT gerührt wird.
- Gemäß der AAV2 erhält man für die Perfluorethyl- und Perfluorpropylderivate vorwiegend das Dihydropyran VII als Produkt einer Eliminierung an den cyclischen Zwischenstufen der Formel IV. Das Produktgemisch aus I und VII wird einer katalytischen Hydrierung unterworfen bis der Umsatz zum Endprodukt der Formel I vollständig ist. Dazu wird die Mischung aus I und VII (34 mmol) in THF (125 ml) zusammen mit 6 g Pd/C (10 %) für 24 h unter 6 bar Wasserstoffdruck bei 50 °C hydriert. Die Lösung wird filtriert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Die Reinigung erfolgt wie unter AAV 2.
-
- a Ausbeute vor Kristallisation;
- b Selektivität trans-Isomer (HPLC);
- c Anteil des cyclischen Enolethers VII.
- R3 ist Cyclohexyl für Beispiel 16 und 17.
- Das Alkyloxetan wird nach B. Delmond et al. (Tetrahedron Lett. 1969, 25, 2089) hergestellt. Gemäß dieser Vorschrift erhält man das Bromhydrin aus dem Diol. Darauf wird das Bromhydrin (140 g; 0,773 mol) unter Stickstoffatmosphäre mit Tributylmethoxyzinn (255,9 g; 0,773 mol) vermischt und unter vermindertem Druck (ca. 100 mbar) auf 50 °C erhitzt. Das bei der Transalkoxylierung entstehende Methanol wird abdestilliert. Direkt anschließend wird die Bromalkoxytributylzinn-Zwischenstufe durch Erhitzen auf 200 °C zersetzt (90 mbar), die Zersetzungsprodukte abdestilliert und unter Trockeneiskühlung aufgefangen. Dabei wird zuerst das Methanol erhalten, danach das erwartete Oxetan als farblose Flüssigkeit (Sdp. 54-56 °C (90 mbar); 69 g, 86 %, für eine n-Propyl-Kette).
- Zu einer eisgekühlten Lösung des Diols (0,50 mol) in THF (1,2 l) wird unter Stickstoffatmosphäre langsam n-BuLi in Hexan (15 %, 314 ml; 0,50 mol) zugegeben. Nach 40 min Rühren wird das Kältebad entfernt und eine Lösung aus Tosylchlorid (95,3 g; 0,50 mol) in 300 ml THF tropfenweise zugegeben. Nach einer weiteren Stunde Rühren wird im Eisbad gekühlt und danach ein weiteres Äquivalent n-BuLi (0,50 mol) zugegeben. Die Reaktionsmischung wird abschließend 4 h auf 60 °C erhitzt, auf RT abgekühlt und der Großteil des Lösungsmittels unter Vakuum entfernt. Der Rückstand wird zwischen Wasser (1 l) und MTB-Ether (1,5 l) ins Gleichgewicht gebracht. Die wässrige Phase wird abgetrennt und mit MTB-Ether ausgeschüttelt. Die vereinigten organischen Phasen werden mit gesättigter NaCl-Lösung gewaschen, über Natriumsulfat getrocknet und im Vakuum eingeengt. Das Oxetan wird entweder durch Chromatographie oder unter vermindertem Druck (80-90 mbar) destillativ gereinigt. Farblose Öle (46-75 %).
- Die Versuchsbeispiele gemäß AAV 4 sind in Tabelle 3 wiedergegeben.
- Allgemeine Arbeitsvorschrift 5 (AAV 5):
- Herstellung der Imine
- Die Imine werden nach Norton et al. (J. Org. Chem. 1954, 19, 1054) hergestellt unter Abwandlung der Vorschrift nach Bedarf, soweit in der Tabelle vermerkt. Das Methylketon wird mit einem Überschuss Cyclohexylamin und in der Regel etwas p-Toluolsulfonsäure unter Rückfluss in Toluol hergestellt, wobei das Reaktionswasser kontinuierlich durch azeotrope Destillation entfernt wird. Die Versuchsbeispiele sind in Tabelle 4 wiedergegeben. Tabelle 4: Versuchsbeispiele 22-33; Herstellung der Imine gemäß AAV 5.
- a Ohne Zugabe von p-TsOH.
- b Farblose Kristalle nach Kristallisation aus Toluol.
- c Benzol als Lösungsmittel statt Toluol; Verwendung eines Soxhlet-Extraktors gefüllt mit MgSO4 anstelle des Wasserabscheiders, abschließende Reinigung durch Destillation.
- d Als 45%ige Mischung des erwarteten Imins erhalten; ohne weitere Reinigung.
Claims (12)
- Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyran-Derivaten der Formel I dadurch gekennzeichnet, dass man ein Oxetan der Formel II mit einem Iminoenolat der Formel III wobei M+ für ein ein- oder mehrwertiges Kation und R3 für ein einwertiges, substituiertes oder unsubstituiertes, verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Alkyl, Arylalkyl, Aryl, Heteroalkyl oder Heteroaryl steht, oder mit einem Imin der Formel VI in Kombination mit einer Base zu Verbindungen der Formel IV umsetzt, und in einem oder mehreren weiteren Verfahrensschritten die Verbindungen der Formel IV in Verbindungen der Formel I überführt, wobei in den Formeln I, II, III und IV, unabhängig voneinander, gleich oder verschieden, R1 und R2 für ein C1-C10-Alkyl, Cycloalkyl, Alkylcycloalky, Aryl, Arylalkyl, Alkylaryl, Heteroaryl, Heteroarylalkyl, Heterocyclyl oder Heterocyclylalkyl, die weiter substituiert oder unsubstituiert sein können, steht.
- Verfahren nach Anspruch 1, zur Herstellung von Tetrahydropyran-Derivaten der Formel Ia, dadurch gekennzeichnet, dass man ein Oxetan der Formel IIa mit einem Iminoenolat der Formel IIIa wobei M+ für ein ein- oder mehrwertiges Kation und R3 für ein einwertiges, substituiertes oder unsubstituiertes, verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Alkyl, Cycloalkyl, Arylalkyl, Aryl, Heteroalkyl oder Heteroaryl steht, oder mit einem dem Iminoenolat der Formel IIIa analogen Imin in Kombination mit einer Base zu Verbindungen der Formel IVa umsetzt, und anschließend die Verbindungen der Formel IVa in Verbindungen der Formel Ia überführt, wobei in den Formeln Ia, IIa, IIIa und IVa, unabhängig voneinander, gleich oder verschieden, R11 und R12 einen unsubstituierten oder einfach oder mehrfach gleich oder verschieden mit Halogen, OR4 oder CN substituierten Alkylrest mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen bedeutet, wobei in diesem Rest auch eine oder mehrere CH2-Gruppen durch -C≡C-, -CH=CH-, -O-, -S-, -(CO)O- und/oder -O(CO)- so ersetzt sein können, dass Heteroatome (O, S) nicht direkt miteinander verknüpft sind, oder, für den Fall, dass d+e+f ungleich 0, R11 und R12 auch H, Halogen, CN, NCS oder SF5 bedeuten, und R4 ein verzweigtes oder unverzweigtes C1-C10-Arylalkyl oder eine andere OH-Schutzgruppe A1, A2, A3, A4, A5, A6 1,4-Phenylen (welches 0-4 mal unabhängig voneinander durch Halogen, CH3, CHF2, CH2F, OCH3, OCHF2, OCF3 substituiert sein kann und wobei ein Ring-CH 0-2 mal durch N substituiert sein kann), Cyclohexan-1,4-diyl (wobei CH2 0-2 mal unabhängig voneinander durch O oder S und H durch F substituiert sein kann), Cyclobutan-1,3-diyl, Bicyclo[1.1.1]pentan-1,3-diyl, Bicyclo[2.2.2]octan-1,4-diyl, Spiro[3.3]heptan-2,6-diyl bedeuten, und Z1, Z2, Z3, Z4, Z5, Z6 unabhängig voneinander, gleich oder verschieden, eine Einfachbindung, -C=C-, -C≡C-, -CH2CH2-, -CF2CH2-, -CH2CF2-, -CF2CF2-, -CH2O-, -OCH2-, -CF2O-, -OCF2-, -CH2CH2CF2O-, -OCF2CH2CH2-, -(CO)O- oder -O(CO)- bedeuten, und a, b, c, d, e, f 0 oder 1 bedeuten, wobei a + b + c + d + e + f ≤ 4 ist.
- Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass zur Umsetzung des Oxetans der Formel II 0,8 bis 5 Äquivalente einer Lewis-Säure zugegeben werden.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass als Lewis-Säure BF3, BF3-Etherat, SnCl4 oder Trialkylsilyltriflat verwendet werden.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Iminoenoiat aus einem Imin durch Umsetzung mit einer Base erzeugt wird.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass als Base zur Erzeugung des Iminoenolates ein Metallamid oder eine metallorganische Verbindung der Metalle Li, Na, K, Mg oder Al eingesetzt werden.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung des Oxetans bei –80 bis –40 °C durchgeführt wird.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Reaktion in einem cyclischen oder kettenförmigen Ether oder Polyether als Lösungsmittelkomponente durchgeführt wird.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung von Zwischenprodukten der Formel IV zu den Tetrahydropyranen der Formel I durch reduktive Dehydroxylierung erfolgt.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Dehydroxylierung mit Et3SiH und BF3-Etherat, mittels katalytischer Hydrierung (wenn -[Z4A4]d- in Formel IVa bzw. R2 in Formel IV ein Aromat ist), mit Et3SiCl, MeI und MeCN, mit NaBH4 in F3CCOOH oder mit (H3C)2SiI2 erfolgt.
- Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Umsetzung von Zwischenprodukten der Formel IV zu den Tetrahydropyranen der Formel I nacheinander durch eine Eliminierung der OH-Gruppe zum Dihydropyran und anschließender katalytischer Hydrierung des Dihydropyrans erfolgt.
- Verbindung der Formel I erhältlich aus einem Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102006028618A DE102006028618A1 (de) | 2005-07-15 | 2006-06-22 | Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102005033106.8 | 2005-07-15 | ||
| DE102005033106 | 2005-07-15 | ||
| DE102006028618A DE102006028618A1 (de) | 2005-07-15 | 2006-06-22 | Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE102006028618A1 true DE102006028618A1 (de) | 2007-01-25 |
Family
ID=37575845
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE102006028618A Withdrawn DE102006028618A1 (de) | 2005-07-15 | 2006-06-22 | Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE102006028618A1 (de) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103664851A (zh) * | 2012-07-26 | 2014-03-26 | 默克专利股份有限公司 | 四氢吡喃衍生物的制备方法 |
| WO2019111865A1 (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 株式会社クラレ | 環状エーテルの製造方法 |
-
2006
- 2006-06-22 DE DE102006028618A patent/DE102006028618A1/de not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103664851A (zh) * | 2012-07-26 | 2014-03-26 | 默克专利股份有限公司 | 四氢吡喃衍生物的制备方法 |
| WO2019111865A1 (ja) * | 2017-12-07 | 2019-06-13 | 株式会社クラレ | 環状エーテルの製造方法 |
| KR20200096919A (ko) * | 2017-12-07 | 2020-08-14 | 주식회사 쿠라레 | 고리형 에테르의 제조 방법 |
| US11104655B2 (en) | 2017-12-07 | 2021-08-31 | Kuraray Co., Ltd. | Method for producing cyclic ether |
| TWI770321B (zh) * | 2017-12-07 | 2022-07-11 | 日商可樂麗股份有限公司 | 環狀醚之製造方法 |
| KR102610955B1 (ko) | 2017-12-07 | 2023-12-06 | 주식회사 쿠라레 | 고리형 에테르의 제조 방법 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1482019B1 (de) | Pyranderivate | |
| DE19946228B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Benzol-Derivates | |
| WO2006125530A1 (de) | Tetrahydropyranderivate mit mehreren sauerstoffhaltigen ringen und verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE2424498C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von 25-Hydroxycholesterin | |
| DE2729859A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines optischen isomers eines 1-hydroxy-3- substituierten-6,6-dimethyl-6,6a,7,8,10, 10a-hexahydro-9h-dibenzo eckige klammer auf b,d eckige klammer zu pyran-9-ons | |
| EP1341742B1 (de) | Verfahren zur herstellung von verbindungen mit einer cf2o-brücke | |
| EP0004621A2 (de) | Verfahren zur mehrstufigen Synthese von Zeaxanthin und Alloxanthin über Cyclohexanon- und Cyclohexanolderivate; Cyclohexanon- und Cyclohexanolderivate | |
| EP1482020B1 (de) | Pyranderivative mit exocyclischer Doppelbindung | |
| DE2252864A1 (de) | Polycyclische verbindungen | |
| WO2006125550A1 (de) | Verfahren zur herstellung von tetrahydropyranen aus tetrahydropyran-3-onen | |
| DE102006028618A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Tetrahydropyranen aus 3-Oxetanen | |
| DE69308965T2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer gesättigten monocyclischen Kohlenwasserstoffverbindung und ein Zwischenprodukt für dieses | |
| DE2310140A1 (de) | Neue 1-phenyl-2-amino-aethanolderivate und ein verfahren zu ihrer herstellung | |
| DE10260474B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von α,α-Difluoralkylperoxiden und solche Verbindungen | |
| DE2444003C2 (de) | 6-Methyl-octa-5,7-dien-2-on und Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE2925043A1 (de) | Neue 2,4-disubstituierte pyranderivate, deren herstellung und deren verwendung als riechstoffe | |
| DE1950012C2 (de) | Neue tricyclische Verbindungen und deren Herstellung | |
| DE3244272A1 (de) | (omega),(omega)-diacyloxy-2,6-dimethyl-octatriencarbonsaeureester und -aldehyde, verfahren zu ihrer herstellung und verwendung zur synthese von terpenverbindungen | |
| EP0162235B1 (de) | Enantiomerenreine acetalisch mono-geschützte Diole, deren Herstellung und Verwendung | |
| DE602005002750T2 (de) | Chirale heptinderivate zur herstellung von epothilonen und verfahren zu deren herstellung | |
| DE602004006085T2 (de) | Neue 1-Methoxy-2-phenyl-ethene zur Herstellung von 5-Carboxaldehyde-2-3-dihydrobenzoxepinen | |
| EP0741681B1 (de) | Verfahren zur herstellung von 3-aryl-propinen und neue 3-aryl-propine | |
| DE2552615A1 (de) | Verfahren zur herstellung von dihalogenvinylcyclopropancarboxylaten | |
| DE2309885C3 (de) | 2(3)-Methyl-1-acetoxy-4-alkoxy (phenoxy)-1,3-butadiene und Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE1958646C3 (de) | In 4-Stellung substituierte 3,5-DimethyUsoxazole und deren Herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R012 | Request for examination validly filed |
Effective date: 20130402 |
|
| R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |