DE102006019491A1 - Optical encoder has light source, a main scale, which has a first grid, and a second grid, which has a 4N group of slots arranged in a sample matrix, whereby each group of slot has several slots - Google Patents
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Abstract
Description
Die Erfindung bezieht sich auf einen optischen Encoder, der robust gegen Störungen, wie eine Verschmutzung oder eine Aufbaufuge auf einer Skala ist.The The invention relates to an optical encoder that is robust against disorders, how a fouling or build-up bead is on a scale.
Bei
einem derartigen optischen System kann die Hauptskala
Allgemein kann ein optischer Encoder ein derartiges periodisches Verschiebungssignal, welches erhältlich ist, wenn sich die Hauptskala verschiebt, elektrisch interpolieren und dividieren, um eine hohe Auflösung sicherzustellen. Zu diesem Zweck kann das optische System vier Arten von Verschiebungssignalen erzeugen, welche gegenseitige Phasendifferenzen von 90 Grad aufweisen. In der folgenden Beschreibung stellen "a", "b", "a/", und "b/" die vier Arten von Verschiebungssignalen verwandter bzw. ähnlicher optischer Systeme dar. Die Verschiebungssignale "b", "a/" und "b/" haben eine Phasendifferenz, in elektrischen Winkeln, von 90 Grad, 180 Grad und 270 Grad bezüglich des Verschiebungssignals "a".Generally For example, an optical encoder may have such a periodic displacement signal, which is available is when the main scale shifts, electrically interpolate and divide to ensure high resolution. To this end For example, the optical system can generate four types of displacement signals. which have mutual phase differences of 90 degrees. In In the following description, "a", "b", "a /", and "b /" represent the four types of Displacement signals of related or similar optical systems The displacement signals "b", "a /" and "b /" have a phase difference, in electrical angles, of 90 degrees, 180 degrees and 270 degrees with respect to the Shift signal "a".
Die
Verschiebungssignale eines optischen Encoders können als Sinuswellen betrachtet,
werden. Repräsentiert "x" eine Ver schiebung der Hauptskala
Zum
Beispiel kann, wenn die vier Arten von Verschiebungssignalen gleich
bzw. ähnlich
im Verursachen einer Änderung
der Offsetkomponente oder der Amplitude als Folge auf eine Änderung
der Quantität
des Lichts sind, welches von dem Lichterzeugungselement
Wenn jedoch die vier Arten von Verschiebungssignalen gegenseitig unabhängig bei der Änderung der Offsetkomponente oder der Amplitude sind, kann die Interpolation und die Division nicht genau bzw. exakt ausgeführt werden, und es werden Interpolationsfehler entstehen.If however, the four types of shift signals are mutually independent the change the offset component or the amplitude are, can the interpolation and the division will not be executed accurately, and there will be interpolation errors arise.
Um
vier Arten von Signalen zu erhalten, sind bei herkömmlichen
optischen Encodern vier Schlitzgruppen auf der Indexskala
Um
Verschiebungssignale mit unterschiedlichen Phasen zu erhalten, können zum
Beispiel die Schlitze, welche zu der Schlitzgruppe Gb gehören, leicht
in der Längsrichtung
der Hauptskala
Der
Strahl, der diese Schlitzgruppen passiert hat, kann in das Lichtempfangselement
Es
wird nun angenommen, dass eine Verschmutzung oder Ähnliches
auf der Hauptskala
Bewegt
sich die Hauptskala
Des
Weiteren, im Falle der Verwendung einer Indexskala, welche Schlitzgruppen,
wie in
Eine
Fuge (das heißt
ein Verbindungsbereich) der Hauptskala kann ebenso Interpolationsfehler
erzeugen. Meistens ist die Hauptskala aus einem gläsernen Material
aufgebaut. Aufgrund von materialeigenen Beschränkungen ist die Länge einer
Glassektion selten mehr oder größer als
2 m bis 3 m. Deswegen ist es zur Positionsbestimmung einer langen Strecke
oder eines langen Striches notwendig, eine Vielzahl von Sektionen
aneinander zu fügen
um eine Hauptskala mit einer genügenden
Länge zu
gestalten. Wird dies gemacht, so hat die Hauptskala zumindest eine
Aufbaufuge entlang einer Linie, die senkrecht zur Längsrichtung
verläuft.
Bewegt
sich die Hauptskala aus
Wenn
des Weiteren eine Indexskala mit Schlitzgruppen wie in
Des Weiteren können, wie in der internationalen Patentanmeldung WO 01/031292 beschrieben, mehrere Lichtempfangsbereiche für jedes Signal vorgesehen sein, um Fehler durch Verschmutzungen auszumitteln. Jedoch ist der Ausmittlungseffekt, der in dieser Veröffentlichung offenbart ist, ungenügend, wenn die Skala eine Fuge, eine teilweise Verschmutzung oder eine andere Art eines defekten oder kaputten Schlitzes aufweist.Of Further, as described in international patent application WO 01/031292, several light receiving areas for each signal must be provided to average out faults due to contamination. However, the polling effect is in this publication is revealed, insufficient, if the scale is a joint, a partial pollution or a another type of defective or broken slot has.
Wie aus der vorangehenden Beschreibung offensichtlich, wird das Layout von herkömmlichen Schlitzgruppen nachteilig durch eine Verschmutzung oder eine Fuge auf der Hauptskala beeinflusst. Dadurch werden Interpolationsfehler erzeugt.As From the foregoing description, the layout becomes from conventional slot groups disadvantageous due to contamination or a joint on the main scale affected. This generates interpolation errors.
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf einen optischen Encoder, der Schlitzgruppen beinhaltet, die in einem derartigen Muster angeordnet sind, dass nachteilige Effekte bzw. Wirkungen von einer Verschmutzung oder einer Fuge auf der Hauptskala gleichmäßig zwischen jeweiligen Verschiebungssignalen verteilt werden können.The The present invention relates to an optical encoder, includes slot groups arranged in such a pattern, that adverse effects or effects of pollution or a groove on the main scale evenly between respective displacement signals can be distributed.
Die beiliegenden Zeichnungen, die einen Teil der Beschreibung bilden und auf die sich die Beschreibung bezieht, stellen erfindungsgemäße Ausführungsformen dar und dienen zusammen mit der Beschreibung dazu, die Prinzipien der Erfindung zu erklären. In diesen zeigen:The accompanying drawings, which form a part of the description and to which the description refers, embodiments of the invention and, together with the description, serve the principles to explain the invention. In these show:
Im Folgenden werden exemplarisch Ausführungsbeispiele der Erfindung in Bezug auf die Figuren beschrieben.in the Below are exemplary embodiments of the invention described with reference to the figures.
Ausführungsbeispiel 1Embodiment 1
Das
optische System eines ersten erfindungsgemäßen Ausführungsbeispiels ist mit Ausnahme
der Anordnung der Indexskala und des Lichtempfangselementes im Wesentlichen
gleich dem herkömmlichen
optischen System, wie es in
Auf ähnliche Weise können die Schlitzgruppen Gb1, Gb2, Gb3 und Gb4 jeweils Abweichungssignale erzeugen, die dieselbe Phase haben. Die Verschiebungssignale, die von den Schlitzgruppen Gb1 bis Gb4 erhalten werden, haben Phasenunterschiede von 90 Grad in Bezug auf die Verschiebungssignale, die von den Schlitzgruppen Ga1 bis Ga4 erhalten werden. Die Verschiebungssignale, die von den Schlitzgruppen Ga/1 bis Ga/4 erhalten werden, haben Phasendifferenzen von 180 Grad in Bezug auf die Verschiebungssignale, die von den Schlitzgruppen Ga1 bis Ga4 erhalten werden. Die Verschiebungssignale, die von den Schlitzgruppen Gb/1 bis Gb/4 erhalten werden, haben Phasenunterschiede von 270 Grad in Bezug auf die Verschiebungssignale, welche von den Schlitzgruppen Ga1 bis Ga4 erhalten werden. Mit anderen Worten können die Schlitzgruppen, welche mit unterschiedlichen Buchstaben bezeichnet sind (zum Beispiel a oder a/), Verschiebungssignale mit gegenseitig unterschiedlichen Phasen erzeugen. Die Schlitzgruppen, welche mit denselben Buchstaben bezeichnet sind, können, auch wenn sie mit unterschiedlichen Nummern bezeichnet sind, Verschiebungssignale erzeugen, welche dieselben Phasen aufweisen.On similar Way you can the slot groups Gb1, Gb2, Gb3 and Gb4 each have deviation signals generate that have the same phase. The displacement signals, the are obtained from the slit groups Gb1 to Gb4 have phase differences of 90 degrees with respect to the displacement signals coming from the slot groups Ga1 to Ga4 are obtained. The shift signals coming from the slot groups Ga / 1 to Ga / 4 have phase differences of 180 degrees with respect to the displacement signals coming from the slot groups Ga1 to Ga4 are obtained. The displacement signals used by the Slot groups Gb / 1 to Gb / 4 are obtained, have phase differences of 270 degrees with respect to the displacement signals coming from the slot groups Ga1 to Ga4 are obtained. In other words, the slot groups, which are labeled with different letters (for example a or a /), displacement signals with mutually different phases produce. The slot groups, which are denoted by the same letters are, can, too if they are labeled with different numbers, shift signals generate, which have the same phases.
Wie
in
- 1. Es gibt vier (das heißt a, b, a/ und b/) Arten von Schlitzgruppen und jede Art beinhaltet dieselbe Anzahl von Schlitzgruppen (das heißt vier Schlitzgruppen);
- 2. Jede Spalte beinhaltet vier (a, b, a/ und b/) Arten von Schlitzgruppen; und
- 3. Jede Kombination von vier Schlitzgruppen, die in einer rechteckigen Form angeordnet ist, wie eine Matrix, welche aus 2 Zeilen × 2 Spalten besteht, beinhaltet jede der vier Arten der Schlitzgruppen.
- 1. There are four (ie a, b, a / and b /) types of slot groups and each type contains the same number of slot groups (ie four slot groups);
- 2. Each column contains four (a, b, a / and b /) types of slot groups; and
- 3. Each combination of four slot groups arranged in a rectangular shape, such as a matrix consisting of 2 rows × 2 columns, includes each of the four types of slot groups.
Wenn
beispielsweise bei einem optischen Encoder, der die Schlitzgruppen
verwendet, die, wie oben beschrieben angeordnet sind, eine Verschmutzung
auf der Hauptskala
Da die vier Arten von Schlitzgruppen nahe aneinander, wie oben beschrieben, angeordnet sind (zum Beispiel als eine Matrix), kann weiterhin sichergestellt werden, dass eine beliebige Region auf der Indexskala regelmäßig beziehungsweise grundsätzlich vier (a, b, a/ und b/) Arten von Schlitzgruppen beinhalten kann. Anders gesagt, unabhängig von der Position der Verschmutzung wird die Auswirkung, die dieser Effekt auf jede der vier Arten von Schlitzgruppen haben wird, im Wesentlichen derselbe sein.There the four types of slot groups close to each other, as described above, can be arranged (for example as a matrix), can continue to ensure be that any region on the index scale regularly or respectively in principle four (a, b, a / and b /) may include types of slot groups. In other words, independent from the position of pollution becomes the impact that this Effect on each of the four types of slot groups will have in the Be essentially the same.
In den Gleichungen, welche die vier Arten von Verschiebungssignalen ausdrücken (das heißt Sa = K + M·sinX, Sb = K + M·cosX, Sa/ = K – M·sinX und Sb/ = K – M·cosX), kann genauer gesagt die Offsetkomponente K als ein Ergebnis einer Subtraktion zwischen Sa und Sa/ und als Ergebnis einer Subtraktion zwischen Sb und Sb/ ausgelöscht werden, wenn sich die Offsetkomponente K in den entsprechenden Signalen mit derselben Rate vergrößert oder verkleinert. Des Weiteren hat die Amplitude M keine Auswirkungen auf das Rechenergebnis, wenn sich die Amplitude M mit derselben Rate in den entsprechenden Signalen vergrößert oder verkleinert, da die endgültige Position, basierend auf dem Verhältnis 2M·sinX/2M·cosX ausgerechnet wird. In der Praxis können sich die entsprechenden Signale unabhängig von einander verändern. Verglichen mit der oben beschriebenen herkömmlichen Technik kann jedoch dieses Ausführungsbeispiel größtenteils Interpolationsfehler verringern.In the equations containing the four types of displacement signals express (that's Sa = K + M · sinX, Sb = K + M × cosX, Sa / = K - M · sinX and Sb / = K - M · cosX), more precisely, the offset component K as a result of a Subtraction between Sa and Sa / and as a result of a subtraction between Sb and Sb / extinguished when the offset component K in the corresponding signals enlarged or at the same rate reduced. Furthermore, the amplitude M has no effect on the result of calculation, when the amplitude M coincides with the same Rate in the corresponding signals increased or decreased, as the final Position, based on the ratio 2M · sinX / 2M · cosX calculated becomes. In practice you can the corresponding signals change independently of each other. Compared with the conventional one described above Technique, however, this embodiment Mostly Reduce interpolation error.
Wenn
des Weiteren eine Fuge auf der Hauptskala
Die Indexskala, die von diesem Ausführungsbeispiel beschrieben wird, beinhaltet eine Gesamtanzahl von 16 Schlitzgruppen, welche in einem Matrixmuster von 4 Zeilen × 4 Spalten angeordnet sind. Jedoch kann jede Indexskala, welche die oben beschriebenen drei Bedingungen erfüllt, verwendet werden. Zum Beispiel kann die Indexskala dieses Ausführungsbeispiels eine Gesamtanzahl von 64 Schlitzgruppen aufweisen, welche in einem Matrixmuster von 8 Zeilen × 8 Spalten angeordnet sind, oder kann weitere Schlitzgruppen aufweisen. Das Ausbilden von so vielen Schlitzgruppen wie möglich ist vorteilhaft in Bezug auf die Verbesserung des Effektes der Auslöschung oder des Ausgleichens der nachteiligen Auswirkung einer Verschmutzung auf die vier Arten von Schlitzregionen, da jede Verschmutzung eine einzigartige Form und Größe aufweist.The Index scale used by this embodiment includes a total of 16 slot groups, which are arranged in a matrix pattern of 4 rows × 4 columns. However, any index scale containing the above three Conditions fulfilled, be used. For example, the index scale of this embodiment have a total of 64 slot groups, which in one Matrix pattern of 8 lines × 8 Columns are arranged, or may have more slot groups. The formation of as many slot groups as possible is advantageous with respect to on improving the effect of extinguishing or balancing the adverse effect of pollution on the four types of slit regions, since every pollution a unique shape and size.
Obwohl des Weiteren die Beschreibung dieser Ausführungsform, wie oben beschrieben, auf einem optischen System des Übertragungstyps bzw. Durchlasstyps basiert, das eine Lichtquelle beinhaltet, die einen Strahl aussendet, der durch die Schlitze einer Hauptskala dringen kann und ein Lichtempfangselement erreicht, ist entsprechend diesem Ausführungsbeispiel jeder nicht durchlässige beziehungsweise nicht übertragende Bereich der Hauptskala ein metallischer Film, der eine höhere Reflektivität aufweist. Das Muster eines abwechselnden durchlässigen Bereiches und eines nicht-durchlässigen Bereiches kann somit durch ein gleiches Muster ersetzt werden, in dem nichtreflektierende Bereiche und reflektierende Bereiche wechseln. Dementsprechend kann dieses Ausführungsbeispiel auf ein optisches System des Reflektionstyps angewendet werden, das ein Lichtempfangselement aufweist, welches auf derselben Seite wie eine Lichtquelle bezüglich der Hauptskala angeordnet ist. Ein optisches System des Reflektionstyps kann ebenso in Verbindung mit jedem der folgenden Ausführungsbeispiele angewendet werden.Even though Furthermore, the description of this embodiment, as described above, on a transmission-type optical system or Durchlaß-type, which includes a light source, the sends out a beam that passes through the slits of a main scale can penetrate and reaches a light receiving element is appropriate this embodiment anyone not permeable or not transferring Area of the main scale is a metallic film, which has a higher reflectivity. The pattern of an alternating permeable area and a non-permeable Area can thus be replaced by a similar pattern, in the non-reflective areas and reflective areas change. Accordingly, this embodiment be applied to a reflection-type optical system, which has a light receiving element which is on the same side like a light source the main scale is arranged. An optical system of the reflection type may also be used in conjunction with any of the following embodiments become.
Ausführungsbeispiel 2Embodiment 2
Genauer
gesagt hat das Lichtempfangselement
Da die Indexskala und das Lichtempfangselement einstückig ausgebildet sind, kann die Anordnung gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel ein kompakteres optisches System bieten, verglichen zu dem des ersten Ausführungsbeispiel. Des Weiteren benötigt das System nach dem zweiten Ausführungsbeispiel keine vorbereitenden Arbeiten zur Ausrichtung der Indexskala in Bezug auf das Lichtempfangselement. Derartige Ausrichtungsarbeiten werden in dem ersten Ausführungsbeispiel benötigt, da das Licht, welches durch die Schlitzgruppen auf der Indexskala auftritt, genau eine korrespondierende Lichtempfangsoberfläche des Lichtempfangselementes erreichen muss. Diesbezüglich kann das System nach dem zweiten Ausführungsbeispiel leichter eine hochgenaue Positionierung der Lichtempfangsoberflächen und der Schlitzgruppen realisieren, da die Positionierung bei dem zweiten Ausführungsbeispiel als ein Halbleiterprozess beziehungsweise -herstellungsprozess ausgeführt werden kann.There formed the index scale and the light receiving element integrally can, the arrangement according to the second embodiment offer a more compact optical system compared to the first Embodiment. Furthermore needed the system according to the second embodiment No preparatory work to align the index scale in With respect to the light receiving element. Such alignment work be in the first embodiment needed because the light passing through the slit groups on the index scale occurs, exactly one corresponding light receiving surface of the Must reach Lichtempfangselementes. In this regard, the system can after the second embodiment easier a highly accurate positioning of the light receiving surfaces and realize the slot groups, since the positioning in the second embodiment as a semiconductor process.
Genauer gesagt, wird jede Schlitzgruppe einen kleineren Bereich haben, wenn die Gesamtanzahl der Schlitzgruppen vergrößert wird, um die oben beschriebene ausgleichende Wirkung zu steigern. In einem derartigen Fall können mit dem zweiten Ausführungsbeispiel die Schlitzgruppen genauer in Bezug auf die Lichtempfangsoberflächen ausgerichtet werden. Dementsprechend kann das zweite Ausführungsbeispiel bevorzugt sein, wenn die Gesamtanzahl an Schlitzgruppen groß ist.More accurate said, each slot group will have a smaller area if the total number of slot groups is increased to those described above to increase the balancing effect. In such a case can with the second embodiment the slot groups are more accurately aligned with respect to the light receiving surfaces. Accordingly, the second embodiment may be preferable when the total number of slot groups is large.
Ausführungsbeispiel 3Embodiment 3
Gemäß einem
dritten Ausführungsbeispiel stellt
die Erfindung ein Verfahren zum Ausbilden der Lichtempfangsoberflächen, welche
eine Schlitzanordnung auf dem Lichtempfangselement haben, bereit.
Bei dem Herstellungsprozess des Lichtempfangselementes kann jede
Lichtempfangsoberfläche, welche
eine Lichtempfangsempfindlichkeit hat, in einer Schlitzanordnung ähnlich zu
der in
Ausführungsbeispiel 4Embodiment 4
Als
Nächstes
wird die oben beschriebene Indexskala oder die Schlitzgruppen, welche
auf dem Lichtempfangselement ausgebildet sind, genauer beschrieben.
Als dabei vereinfachstes Beispiel, wie in
Jedoch weist das aktuelle Verschiebungssignal höhere harmonische Komponenten auf, deren Perioden gleich 1 / 2 oder 1 / 3 der Signalperiode sind. Im Allgemeinen kann ein Verschiebungssignal, welches höhere harmonische Komponenten aufweist, größere Interpolationsfehler erzeugen. Des Weiteren tendieren höhere harmonische Komponenten dazu, abhängig von dem Abstand oder der Lücke zwischen der Hauptskala und der Indexskala oder abhängig von Herstellungsfehlern der Schlitze zu variieren. Des wegen können höhere harmonische Komponenten nicht durch einfaches Korrigieren derselben durch Interpolationsberechnungen entfernt werden.however the current displacement signal has higher harmonic components whose periods are equal to 1/2 or 1/3 of the signal period. In general can be a displacement signal, which has higher harmonic components has, greater interpolation error produce. Furthermore, higher harmonic components tend to, depending from the distance or the gap between the main scale and the index scale or depending on Manufacturing errors of the slots to vary. Because of that, higher harmonious Components not by simply correcting them by interpolation calculations be removed.
Das
vierte erfindungsgemäße Ausführungsbeispiel
schlägt
ein effektives Layout einer Vielzahl von Schlitzen in einer Schlitzgruppe
vor, das höhere Harmonische
entfernen kann.
Des Weiteren ist ein Abstand zwischen zwei Schlitzen SL1 und SL3 um P/10 kleiner als zweimal die Schlitzperiode P der Hauptskala (das heißt der Abstand zwischen SL1 und SL3 ist 2P – P/10). Ähnlich ist ein Abstand zwischen zwei Schlitzen SL2 und SL4, ein Abstand zwischen SL5 und SL7 und ein Abstand zwischen SL6 und SL8 gleich 2P – P/10. Mit dieser abgeänderten Anordnung können die höheren Harmonischen der 5. Ordnung, die eine Periode von P/5 haben, gegenseitig ausgelöscht werden.Of Further, a space between two slots SL1 and SL3 is around P / 10 less than twice the slot scale P of the main scale (the is called the distance between SL1 and SL3 is 2P - P / 10). Similarly, there is a gap between two slots SL2 and SL4, a gap between SL5 and SL7 and a distance between SL6 and SL8 equals 2P - P / 10. With this modified Arrangement can the higher harmonics of the 5th order, which have a period of P / 5, are mutually canceled out.
Auf diese Weise kann das Verfahren des vierten Ausführungsbeispiels die höheren Harmonischen der 3. und die höheren Harmonischen der 5. Ordnung von den entsprechenden Verschiebungssignalen entfernen und genaue Sinussignale, welche nicht gestört bzw. verzerrt sind, erhalten. Durch Verwendung einer ähnlichen Methode können Harmonische der 7. Ordnung und höherer Ordnung ebenso ausgelöscht werden. Des Weiteren können höhere harmonische Komponenten der 2. Ordnung und anderer gerader Ordnungen durch eine Subtraktion von zwei Verschiebungssignalen entfernt werden, die eine Phasendifferenz von 180 Grad aufweisen, zum Beispiel Sa und Sa/ oder Sb und Sb/, wie oben bei dem Interpolations- und Divisionsverfahren beschrieben. Wird das Schlitz-Layout des vierten Ausführungsbeispiels auf entsprechende Schlitzgruppen angewendet, können Interpolationsfehler reduziert werden und eine hohe Genauigkeit der Positionsdetektion realisiert werden.On In this way, the method of the fourth embodiment, the higher harmonics the 3rd and the higher 5th order harmonics from the corresponding displacement signals remove and accurate sinusoidal signals that are not disturbed or distorted, preserved. By using a similar method, harmonics can be used of the 7th order and higher Order also extinguished become. Furthermore you can higher harmonic Components of 2nd order and other straight orders by one Subtraction of two displacement signals are removed, the one Phase difference of 180 degrees, for example Sa and Sa / or Sb and Sb /, as above in the interpolation and division method described. Will the slot layout of the fourth embodiment Applied to appropriate slot groups, interpolation errors can be reduced and a high accuracy of the position detection can be realized.
Die Erfindung kann ebenso auf einen Rotationsencoder angewendet werden, der eine kreisförmige Hauptskala zur Detektion eines Rotationswinkels aufweist. Des Weiteren ist die Erfindung nicht auf Encoder des Transmissionstyps bzw. Durchlasstyps beschränkt, dessen optisches System in den oben angeführten Ausführungsbeispielen beschrieben ist, sondern kann entsprechend auch auf einen Encoder des Reflektionstyps angewendet werden, der eine Hauptskala des Reflektionstyps aufweist.The Invention can also be applied to a rotary encoder, the one circular Main scale for detecting a rotation angle has. Furthermore the invention is not on encoders of the transmission type or transmission type limited, its optical system described in the above-mentioned embodiments is, but can also apply to an encoder of the reflection type be applied, which has a main scale of the reflection type.
Wie oben beschrieben, können, ohne Vergrößerung der Anzahl der wesentlichen Bestandteile oder Komponenten, nachteilige Wirkungen einer Verschmutzung oder einer Fuge auf der Hauptskala zwischen den verschiedenen Verschiebungssignalen aufgelöst oder ausgeglichen werden, und Interpolationsfehler können größtenteils reduziert werden. Des Weiteren schlägt die Erfindung vor, die Gesamtanzahl der Schlitzgruppen, die auf einer Indexskala angeordnet sind, zu vergrößern und die Schlitzgruppen entsprechend den oben beschriebenen Regeln anzuordnen, was Interpolationsfehler, die aus einer Verschmutzung oder einer Fuge auf der Hauptskala resultieren, äußerst deutlich reduzieren kann.As described above, without enlargement of the Number of essential components or components, detrimental Effects of soiling or fugue on the main scale resolved between the different displacement signals or be compensated, and interpolation errors can be largely reduced. Furthermore, suggests the invention before, the total number of slot groups on an index scale are arranged to increase and the slot groups accordingly order the rules described above, which means interpolation errors, that result from a fouling or fugue on the main scale, very clearly can reduce.
Während die Erfindung in Bezug auf beispielhafte Ausführungsformen beschrieben wurde, ist verständlich, dass die Erfindung nicht auf die beschriebenen beispielhaften Ausführungsformen beschränkt ist. Der Schutzbereich der folgenden Ansprüche soll breit ausgelegt werden, so dass alle Modifikationen, äquivalente Ausführungen und Funktionen eingeschlossen sind.While the Invention has been described with reference to exemplary embodiments, is understandable, that the invention is not limited to the described exemplary embodiments is limited. The scope of the following claims should be construed broadly so that all modifications, equivalent versions and functions are included.
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Cited By (2)
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