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DE102006018921A1 - Integrierter Halbleiterspeicher mit Auffrischung von Speicherzellen - Google Patents

Integrierter Halbleiterspeicher mit Auffrischung von Speicherzellen Download PDF

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DE102006018921A1
DE102006018921A1 DE102006018921A DE102006018921A DE102006018921A1 DE 102006018921 A1 DE102006018921 A1 DE 102006018921A1 DE 102006018921 A DE102006018921 A DE 102006018921A DE 102006018921 A DE102006018921 A DE 102006018921A DE 102006018921 A1 DE102006018921 A1 DE 102006018921A1
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DE
Germany
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frequency
signal
semiconductor memory
integrated semiconductor
circuit
Prior art date
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Withdrawn
Application number
DE102006018921A
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English (en)
Inventor
Stephan Dr. Schröder
Thilo Schaffroth
Manfred Pröll
Frank Dr. Fischer
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Qimonda AG
Original Assignee
Infineon Technologies AG
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Publication date
Application filed by Infineon Technologies AG filed Critical Infineon Technologies AG
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Priority to US11/739,444 priority patent/US20070247944A1/en
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Abstract

Ein integrierter Halbleiterspeicher (1000) ist in einem Self-Refresh-Betrieb betreibbar. Im Self-Refresh-Betrieb erzeugt eine Frequenzerzeugungseinheit (500) ausgangsseitig ein Frequenzsignal (RFS) mit einer Frequenz (F1), mit der Speicherzellen (SZ) eines Speicherzellenfeldes aufgefrischt werden. Die von der Frequenzerzeugungseinheit (500) erzeugte Frequenz (F1) des Fequenzsignals ist dabei abhängig von einer von einer Temperatursensorschaltung (300) detektierten Chiptemperatur. In einem Testbetriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers erzeugt die Frequenzerzeugungseinheit (500) das Frequenzsignal (RFS) mit Frequenzen (F2, F3), die gegenüber der in einem Normalbetriebszustand erzeugten Frequenz (F1) erniedrigt sind. Somit wird ein kritisches Abtesten der Auffrischung von Speicherzellen im Self-Refresh-Betrieb ermöglicht.

Description

  • Die Erfindung betrifft einen integrierten Halbleiterspeicher, bei dem Speicherzellen zum Erhalt ihres Speicherinhalts aufgefrischt werden. Des Weiteren betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers, bei dem Speicherzellen zum Erhalt ihres Speicherinhalts aufgefrischt werden.
  • Ein integrierter Halbleiterspeicher, beispielsweise ein DARM (Dynamic Random Access)-Halbleiterspeicher weist Speicherzellen auf, die entlang von Wortleitungen und Bitleitungen in einem Speicherzellenfeld angeordnet sind. Eine DRAM-Speicherzelle umfasst dabei einen Auswahltransistor und einen Speicherkondensator. Zum Auslesen einer Speicherzelle wird auf die Wortleitung, die an die Speicherzelle angeschlossen ist, eine Steuerspannung eingespeist, die den Auswahltransistor der auszulesenden Speicherzelle leitend steuert. Dadurch ist der Speicherkondensator mit der Bitleitung leitend verbunden. Zwischen dem Speicherkondensator und der Bitleitung kommt es im Folgenden zu einem Ladungsausgleich, bei dem die Ladung der Zelle auf die Zell- und Bitleitungskapazität aufgeteilt wird. Entsprechend dem Verhältnis der beiden Kapazitäten (Transfer-Ratio) führt dies zu einer Auslenkung der Bitleitungsspannung. Der sich einstellende Signalhub auf der Bitleitung wird von einem Leseverstärker, der am Ende der Bitleitung angeordnet ist, mit einer konstanten Spannung auf einer Referenzbitleitung verglichen und anschließend verstärkt.
  • Der Speicherkondensator einer Speicherzelle eines dynamischen Speicherbausteins umfasst zwei möglichst großflächige, gut leitende Schichten, die durch ein dünnes, hochohmiges Dielektrikum getrennt werden. Bei der technologischen Realisierung von Minimalstrukturen auf einem Speicherchip lässt sich nicht vermeiden, dass eine Vielzahl von hochohmigen Leckstrompfaden zur Zellumgebung oder über das Dielektrikum der Zelle existieren. Die hochohmigen Leckstrompfade, die stark temperaturabhängig sind, können zu einer Entladung der in dem Speicherkondensator gespeicherten Ladung und damit zum Datenverlust der Speicherzelle führen. Um sicherzustellen, dass der korrekte Dateninhalt einer Speicherzelle ausgelesen werden kann, darf eine Restladung auf dem Speicherkondensator einer Speicherzelle nicht unterschritten werden. Dazu muss der Dateninhalt einer Speicherzelle beziehungsweise die ausreichende Zellrestladung innerhalb eines definierten Zeitraums immer wieder neu aufgeladen werden.
  • Speicherbausteine werden im Allgemeinen in unterschiedlichen Betriebsmodi betrieben. Der sogenannte Self-Refresh-Modus von Speicherbausteinen wird, vor allem bei Laptop-Anwendungen, zum Stromsparen eingesetzt. Wenn sich eine auf einem Rechner befindliche Anwendung im Standby-Mode befindet, werden die Speichermodule auf dem Motherboard eines Rechners in einen sogenannten Schlaf-Modus versetzt. In diesem deaktivierten Betriebszustand werden keine Kommandos oder Adressen von einem Controllerbaustein an den Speicherbaustein weitergeleitet. Im deaktivierten Betriebszustand des Speicherbausteins wird die Ladungserhaltung innerhalb der Speicherzellen durch chipinterne Refresh-Kommandos gewährleistet. Die Abstände zwischen den Refresh-Kommandos garantieren eine ausreichende Ladung in den Speicherzellen, so dass bei einem Speicher zugriff die gespeicherten Daten aus den Speicherzellen wieder korrekt ausgelesen werden können.
  • Wenn die Zeiträume zwischen den internen Refresh-Kommandos sehr kurz gewählt sind, sinkt die Gefahr eines Datenverlusts. Andererseits steigt jedoch die Stromaufnahme des Halbleiterspeichers während des Stromspar-Modus an. Wenn hingegen die Intervalle zwischen den internen Refresh-Kommandos lange gewählt werden, sinkt der Stromverbrauch des Halbleiterspeichers, es erhöht sich jedoch das Risiko eines Datenverlusts, da der Speicherinhalt der Speicherzellen in sehr großen Abständen aufgefrischt wird. Man ist daher bestrebt, beim Auffrischen der Speicherzellen die Ladungserhaltung bei möglichst geringem Stromverbrauch zu sichern.
  • Da die Ladungserhaltung in den Speicherzellen abhängig von der Temperatur ist, werden die Refresh-Intervalle an die Chiptemperatur des Halbleiterspeichers angepasst. So werden bei niedrigen Temperaturen, bei denen die Ladung im Allgemeinen für einen längeren Zeitraum in den Speicherzellen erhalten bleibt, die Refresh-Intervalle verlängert, wohingegen bei hohen Temperaturen, bei denen eine Schwund der Zellladung schneller erfolgt, die Refresh-Intervalle verkürzt werden. Dadurch kann zumindest bei niedrigen Chiptemperaturen der Leistungsverbrauch eines Halbleiterspeichers reduziert werden.
  • Zum Abtesten der Funktionalität eines Halbleiterspeichers in Bezug auf das Auffrischen von Speicherinhalten im Self-Refresh-Betrieb wird der Halbleiterspeicher zunächst in einem aktiven Betriebszustand betrieben, in dem Lese- und Schreibzugriffe auf Speicherzellen des integrierten Halbleiterspeichers erfolgen. Dabei werden Daten mit Datenwerten in die Speicherzellen des Halbleiterspeichers eingelesen. Der Halbleiterspeicher wird anschließend im Self-Refresh-Betrieb betrieben, in dem die gespeicherten Daten in bestimmten zeitlichen Abständen aufgefrischt werden. Die Refresh-Frequenz wird dabei von dem Halbleiterspeicher selbst intern erzeugt. Nach einer gewissen Betriebszeit im Self-Refresh-Betrieb wird der Halbleiterspeicher wieder in den aktiven Betriebszustand umgeschaltet. Im aktiven Betriebszustand werden die Dateninhalte aus den Speicherzellen ausgelesen und mit den zuvor eingeschriebenen Datenwerten verglichen. Bausteine, die in einem solchen Test ausfallen, können entweder zu große interne Refresh-Intervalle aufweisen oder in Bezug auf die Ladungserhaltung schwache Zellen, sogenannte Retention-schwache Zellen, oder aber eine Kombination aus beiden Phänomenen aufweisen.
  • Ein Abtesten eines integrierten Halbleiterspeichers im Self-Refresh-Betriebszustand ist nur dann effektiv, wenn durch geeignete Testvorhalte Grenzgänger von Bausteinen nicht bei einer Kundenapplikation ausfallen. Stattdessen ist es wünschenswert, wenn derartige marginal funktionsfähige Bausteine bereits beim Testen vom Hersteller identifiziert werden können. Dies ist derzeit beim Testen im Self-Refresh-Modus nicht möglich, da die Refresh-Intervalle im Self-Refresh-Modus beim Testen des integrierten Halbleiterspeichers nicht modifiziert werden können. Die getesteten Intervalle sind exakt die gleichen Intervalle, in denen der Halbleiterspeicher beim späteren Betrieb bei einem Kunden aufgefrischt wird. Da die Speicherbausteine in der späteren Anwendung deutlich länger im Self-Refresh-Betrieb betrieben werden, als dies von einem Hersteller im Rahmen eines Tests getestet werden kann, besteht ein Risiko, dass im Test marginal funktionsfähige Bausteine erst im späteren Betrieb bei einem Kunden ausfallen.
  • Wenn bei einem Halbleiterspeicherbaustein die internen Refresh-Intervalle nicht temperaturabhängig von dem Speicherbaustein gewählt sind, kann ein Testvorhalt für die höchste und niedrigste Temperatur der im Datenblatt angegebenen Betriebstemperaturen durch entsprechende Temperaturvorhalte eingestellt werden. Wenn hingegen, wie dies im Allgemeinen bei Halbleiterspeichern üblich ist, die internen Refresh-Intervalle von dem Speicherbaustein temperaturabhängig erzeugt werden, können sich im Self-Refresh-Betrieb bei beliebigen Temperaturen kritische Kombinationen aus internen Refresh-Raten und Retention-schwachen Zellen ergeben. Ein Testvorhalt im Self-Refresh-Betrieb lässt sich folglich nicht mehr durch einen Temperaturvorhalt erreichen. Da die Refresh-Intervalle an die sich ändernden Chiptemperaturen angepasst werden, kann die generelle Funktionalität eines Halbleiterspeichers im Self-Refresh-Betrieb durch das Testen des Halbleiterspeichers bei einer über oder unter den im Datenblatt spezifizierten Temperaturen liegenden Testtemperatur nicht garantiert werden. Selbst beim Testen des Self-Refresh-Betriebs bei beliebigen Temperaturen innerhalb des spezifizierten Temperaturbereichs sind bei temperaturabhängig gewählten Refresh-Intervallen keine Testvorhalte möglich. Hingegen entsprechen die intern generierten Refresh-Intervalle bei einer bestimmten Chiptemperatur exakt den gleichen Werten wie beim späteren Betrieb in einer Anwendung bei einem Kunden.
  • Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, einen integrierten Halbleiterspeicher anzugeben, bei dem das Auffrischen von Speicherzellen mit hoher Zuverlässigkeit testbar ist. Eine weitere Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers anzugeben, mit dem das Auffrischen von Speicherzellen mit großer Zuverlässigkeit testbar ist.
  • Die Aufgabe betreffend den integrierten Halbleiterspeicher wird gelöst durch einen integrierten Halbleiterspeicher mit Auffrischung von Speicherzellen, der ein Temperatursensor zur Detektion einer Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers, ein Anschluss zum Anlegen eines Kommandosignals, eine Frequenzerzeugungseinheit zum Erzeugen eines Frequenzsignals mit einer Frequenz, wobei die Frequenz abhängig von der von dem Temperatursensor detektierten Chiptemperatur ist, und eine Speicherzelle zur Speicherung eines Datums, wobei das gespeicherte Datum mit der Frequenz des Frequenzsignals aufgefrischt wird, umfasst. Beim Anlegen eines ersten Zustands des Kommandosignals erzeugt die Frequenzerzeugungseinheit bei einer von dem Temperatursensor detektierten Chiptemperatur das Frequenzsignal mit einer ersten Frequenz. Beim Anlegen eines zweiten Zustands des Kommandosignals erzeugt die Frequenzerzeugungseinheit bei der gleichen Chiptemperatur das Frequenzsignal mit einer zweiten Frequenz, die gegenüber der ersten Frequenz erniedrigt ist.
  • Gemäß einer Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers ist der Temperatursensor derart ausgebildet, dass er in Abhängigkeit von der detektierten Chiptemperatur ausgangsseitig ein Auswertesignal erzeugt.
  • Bei einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers umfasst der integrierte Halbleiterspeicher eine Steuerschaltung zur Erzeugung eines Steuersignals zur Einstellung der Frequenz des Frequenzsignals.
  • Eine weitere Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sieht vor, dass der Temperatursensor als Auswertsignal eine Auswertespannung erzeugt. Die Steuerschaltung wird eingangsseitig von der Auswertespannung angesteuert und erzeugt ausgangsseitig als Steuersignal eine Steuerspannung. Die Frequenzerzeugungseinheit weist einen Steueranschluss zum Anlegen der Steuerspannung auf. Die Frequenzerzeugungseinheit ist derart ausgebildet, dass sie die Frequenz des Frequenzsignals in Abhängigkeit von der Steuerspannung erzeugt. Die Steuerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie in Abhängigkeit von dem Kommandosignal die Auswertespannung als Steuerspannung dem Steueranschluss der Frequenzerzeugungseinheit zuführt oder die Auswertespannung verändert und die veränderte Auswertespannung als Steuerspannung dem Steueranschluss der Frequenzerzeugungseinheit zuführt.
  • Bei einer weiteren Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers ist die Frequenzerzeugungseinheit als ein spannungsgesteuerter Oszillator ausgebildet.
  • Eine weitere Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers sieht einen Anschluss zum Anlegen einer Bezugsspannung vor. Die Steuerschaltung weist einen Eingangsanschluss zum Anlegen der Auswertespannung, einen ersten steuerbaren Schalter, einen ersten Widerstand und einen zweiten Widerstand auf. Der Temperatursensor ist zwischen den Eingangsanschluss der Steuerschaltung und den Anschluss zum Anlegen der Bezugsspannung geschaltet. Der erste steuerbare Schalter und der erste Widerstand sind parallel zwischen den Eingangsanschluss der Steuerschaltung und den Steueranschluss der Frequenzerzeugungseinheit geschaltet. Die Frequenzerzeugungseinheit ist parallel zu dem zweiten Widerstand zwischen den Steueran schluss der Frequenzerzeugungseinheit und den Anschluss zum Anlegen der Bezugsspannung geschaltet.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform ist der erste Widerstand über den ersten steuerbaren Schalter niederohmig überbrückbar.
  • Gemäß einem weiteren Merkmal des integrierten Halbleiterspeichers weist derselbe einen zweiten steuerbaren Schalter auf. In Reihe zu dem ersten Widerstand ist ein dritter Widerstand geschaltet. Der dritte Widerstand ist über den zweiten steuerbaren Schalter niederohmig überbrückbar.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform ist der erste und zweite steuerbare Schalter jeweils als ein Transistor ausgebildet.
  • Bei einer Weiterbildung des integrierten Halbleiterspeichers umfasst die Frequenzerzeugungseinheit einen Steueranschluss zum Anlegen des Auswertesignals, eine Oszillatorschaltung mit einem Ausgangsanschluss zur Erzeugung eines Grundfrequenzsignals mit einer Grundfrequenz, eine erste Frequenzteilerschaltung und eine zweite Frequenzteilerschaltung. Die Oszillatorschaltung ist derart ausgebildet, dass sie an dem Ausgangsanschluss das Grundfrequenzsignal mit der Grundfrequenz in Abhängigkeit von dem Auswertesignal erzeugt. Die erste Frequenzteilerschaltung und die zweite Frequenzteilerschaltung sind eingangsseitig jeweils mit dem Ausgangsanschluss der Oszillatorschaltung verbindbar. Die erste Frequenzteilerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie in Abhängigkeit von der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals und einem Teilerverhältnis der ersten Frequenzteilerschaltung aus der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals das Frequenzsignal mit der ersten Frequenz erzeugt. Die zweite Frequenzteilerschaltung ist derart ausgebildet, dass sie in Abhängigkeit von der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals und einem Teilerverhältnis der zweiten Frequenzteilerschaltung aus der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals das Frequenzsignal mit der zweiten Frequenz erzeugt.
  • Im Folgenden wird ein Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers angegeben. Das Verfahren sieht das Bereitstellen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einem Anschluss zum Anlegen eines Kommandosignals, mit Speicherzellen, in denen jeweils ein Datum speicherbar ist und mit einer Frequenzerzeugungseinheit, die in Abhängigkeit von einer Chiptemperatur auf einem Speicherchip des integrierten Halbleiterspeichers und einem Zustand des Kommandosignals ein Frequenzsignal mit einer Frequenz erzeugt, wobei zum Erhalt eines in einer der Speicherzellen gespeicherten Datums das Datum mit der Frequenz des Frequenzsignals aufgefrischt wird. Ein zweiter Zustand des Kommandosignals wird an den Anschluss zum Anlegen des Kommandosignals angelegt. Eine erste Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers wird detektiert. Das Frequenzsignals wird von der Frequenzerzeugungseinheit bei der detektierten ersten Chiptemperatur mit einer zweiten Frequenz erzeugt, wobei die zweite Frequenz gegenüber einer ersten Frequenz des Frequenzsignals erniedrigt ist und die erste Frequenz von der Frequenzerzeugungseinheit erzeugt wird, wenn der erste Zustand des Kommandosignals an den Anschluss zum Anlegen des Kommandosignals angelegt wird und die erste Chiptemperatur detektiert wird.
  • Weitere Ausführungsbeispiele in Bezug auf den integrierten Halbleiterspeicher und das Verfahren sind den Unteransprüchen zu entnehmen.
  • Die Erfindung wird im Folgenden anhand von Figuren, die Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung zeigen, näher erläutert.
  • Es zeigen:
  • 1 einen integrierten Halbleiterspeicher mit einer Auffrischung von Speicherzellen,
  • 2 eine erste Ausführungsform einer Schaltung zur Einstellung von Refresh-Intervallen zum Auffrischen von Speicherzellen,
  • 3 eine zweite Ausführungsform einer Schaltung zur Einstellung von Refresh-Intervallen zum Auffrischen von Speicherzellen,
  • 4 eine erste Abhängigkeit von Refresh-Intervallen/Refresh-Frequenzen von einer Chiptemperatur des Halbleiterspeichers,
  • 5 eine zweite Abhängigkeit von Refresh-Intervallen/Refresh-Frequenzen von einer Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers.
  • 1 zeigt eine Ausführungsform eines integrierten Halbleiterspeichers 1000, bei dem Speicherzellen in regelmäßigen Abständen bezüglich ihres Speicherinhalts aufgefrischt werden. Der integrierte Halbleiterspeicher 1000 umfasst ein Speicherzellenfeld 100, in dem Speicherzellen SZ, entlang von Wortleitungen WL und Bitleitungen BL angeordnet sind. Eine Speicherzelle SZ ist beispielhaft als eine DRAM-Speicherzelle ausgebildet, die einen Speicherkondensator SC und einen Aus wahltransistor AT umfasst. Über ein entsprechendes Steuerpotenzial auf der Wortleitung WL lässt sich der Speicherkondensator SC der dargestellten Speicherzelle SZ leitend mit der Bitleitung BL verschalten. Danach können Daten in Form einer Ladung in dem Speicherkondensator gespeichert werden oder das in der Speicherzelle gespeicherte Datum ausgelesen werden.
  • Zur Ansteuerung des Speicherzellenfeldes 100 zur Durchführung von Lese- und Schreibzugriffen ist eine Steuereinheit 200 vorgesehen, die mit dem Speicherzellenfeld 100 in Verbindung steht. Zur Durchführung der Lese- und Schreibzugriffe wird an einen Steueranschluss S200a ein Komandosignal KS mit einem entsprechenden Zustand angelegt. Zur Auswahl einer Speicherzelle für den Lese- oder Schreibzugriff ist ein Adressregister 600 mit einem Adressanschluss A600 zum Anlegen von Adresssignalen vorgesehen. Zum Auffrischen des Speicherinhalts der Speicherzellen wird in einem aktiven Betriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers ein Kommandosignal RKS an einen Steueranschluss S200b der Steuerschaltung 200 angelegt. Im aktiven Betriebszustand sind Lese- und Schreibzugriffe auf die Speicherzellen des Halbleiterspeichers ausführbar. Bei jedem Zustandswechsel des Kommandosignals RKS erfolgt beispielsweise ein Refresh-Vorgang innerhalb des Speicherzellenfeldes. Im Unterschied zum aktiven Betriebszustand erfolgt im Standby-Betrieb (Schlaf-Modus) ein Self-Refresh-Betrieb des Speichers. Dabei werden die Refresh-Kommandos intern auf dem Speicherchip des Halbleiterspeichers erzeugt. Dazu stellt eine Frequenzerzeugungseinheit 500 ein Frequenzsignal RFS, das eine Refresh-Frequenz kennzeichnet, bereit. Das Frequenzsignal RFS ist ein periodisches Signal, das der Steuereinheit 200 zugeführt wird, die die Speicherzellen des Speicherzellenfeldes SZ im Self-Refresh-Betrieb entsprechend der Frequenz des Frequenzsignals auffrischt.
  • Des Weiteren ist eine Temperatursensorschaltung 300 vorgesehen, die eine Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers ermittelt. Sie erzeugt ausgangsseitig ein Temperatur-Auswertesignal TS, das in einer ersten Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers einer Steuerschaltung 400 eingangsseitig zugeführt wird und in einer zweiten Ausführungsform des integrierten Halbleiterspeichers der Frequenzerzeugungseinheit 500 eingangsseitig zugeführt wird. Die Steuerschaltung 400 wird des Weiteren von Testmode-Steuersignalen TMS0, TMS1 oder TMS2 angesteuert. Die Zustände der Testmode-Steuersignale werden von der Steuereinheit 200 in Abhängigkeit von den Zuständen TM_off, TM_on1 oder TM_on2 des externen Kommadosignals TM erzeugt, die an den Adressanschluss A600 des integrierten Halbleiterspeichers angelegt werden.
  • Mit dem in 1 gezeigten integrierten Halbleiterspeicher wird es ermöglicht, die Frequenz des Frequenzsignals RFS beim Testen des integrierten Halbleiterspeichers gegenüber der Frequenz des Frequenzsignals RFS im späteren Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers zu erhöhen beziehungsweise die zeitlichen Intervalle, in denen Speicherzellen aufgefrischt werden, gegenüber einem späteren Betrieb bei einem Kunden zu verlängern.
  • 2 zeigt eine erste Ausführungsform einer integrierten Schaltung zur unterschiedlichen Einstellung der Frequenz des Frequenzsignal RFS im Testbetrieb gegenüber dem späteren Betrieb in einer Rechneranwendung bei einem Anwender. Die Temperatursensorschaltung 300 ist zwischen einen Eingangsanschluss E400 der Steuerschaltung 400 und einen Versorgungsanschluss V zum Anlegen einer Bezugsspannung VSS, beispielswei se eines Massepotenzials, geschaltet. Die Steuerschaltung 400 weist einen Widerstand 410 auf, der in Reihe mit einem Widerstand 430 zwischen den Eingangsanschluss E400 der Steuerschaltung 400 und einen Steueranschluss S500 der Frequenzerzeugungseinheit 500 geschaltet ist. Parallel zu dem Widerstand 430 ist ein steuerbarer Schalter 450 geschaltet, der einen Steueranschluss S450 zum Anlegen des Testmode-Steuersignals TMS2 aufweist. Wenn der steuerbare Schalter 450 leitend gesteuert wird, lässt sich der Widerstand 430 niederohmig überbrücken.
  • Des Weiteren ist zwischen den Eingangsanschluss E400 der Steuerschaltung 400 und den Steueranschluss S500 der Frequenzerzeugungseinheit 500 ein steuerbarer Schalter 440 geschaltet, der einen Steueranschluss S440 zum Anlegen des Testmode-Steuersignals TMS1 aufweist. Durch ein leitend Steuern des steuerbaren Schalters TMS1 lässt sich der Eingangsanschluss E400 mit dem Steueranschluss S500 niederohmiger verbinden, als er über die Schaltung aus dem Widerstand 410 und der Parallelschaltung aus dem Widerstand 430 und dem steuerbaren Schalter 450 verbindbar ist.
  • Darüber hinaus weist die Steuerschaltung 400 einen Widerstand 420 auf, der zwischen den Steueranschluss S500 der Frequenzerzeugungseinheit und den Versorgungsanschluss V zum Anlegen der Bezugsspannung VSS geschaltet ist. Die Frequenzerzeugungseinheit 500 ist ebenfalls zwischen dem Steueranschluss S500 und dem Versorgungsanschluss V zum Anlegen der Bezugsspannung VSS angeordnet. Sie erzeugt ausgangsseitig das Frequenzsignal RFS.
  • Im Folgenden wird die Funktionsweise der in 2 gezeigten Schaltungsanordnung dargestellt. Zunächst wird der integrier te Halbleiterspeicher in einem aktiven Betriebszustand betrieben, in dem Lese- und Schreibzugriffe auf Speicherzellen des Speicherzellenfeldes ausführbar sind. Zum Betreiben des integrierten Halbleiterspeichers im aktiven Betriebszustand wird zunächst ein zustand eines Kommandosignals MS an einen Steueranschluss S200c angelegt, der der Steuereinheit 200 den aktiven Betriebszustand anzeigt. Im aktiven Betriebszustand werden Daten in die Speicherzellen eingelesen und in Abhängigkeit von einer Frequenz des Refresh-Kommandsignals MS, das an einen Steueranschluss S200c angelegt wird, aufgefrischt. Die für einen Schreib- und Lesezugriff auszuwählenden Speicherzellen werden durch Anlegen eines Adresssignals an den Adressanschluss A600 ausgewählt.
  • Danach wird der integrierte Halbleiterspeicher durch einen entsprechenden Zustandswechsel des Kommandosignals MS in einen Schlaf-Modus (Standby-Modus) versetzt, in dem keine Schreib- und Lesezufgriffe mehr erfolgen. Im Standby-Modus ist gleichzeitig der Self-Refresh-Betrieb des Speicher eingeschaltet. Nachfolgend wird die Erzeugung des Frequenzsignals RFS zum Abtesten des Speichers im Self-Refresh-Betrieb beschrieben.
  • In Abhängigkeit von einer Chiptemperatur auf dem Speicherchip des integrierten Halbleiterspeichers erzeugt der Temperatursensor 300 ausgangsseitig die Auswertespannung TS, die der Steuerschaltung 400 zugeführt wird. Im Normalbetriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers, beispielsweise beim Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers in einer Rechnerapplikation bei einem Anwender, wird an den Adressanschluss das der Zustand TM_off des Kommadosignals TM angelegt. Die Steuereinheit 200 erzeugt daraufhin das Testmode-Steuersignal TMS1 mit einem Zustand, durch den der steuerbare Schalter 440 leitend gesteuert wird. Des Weiteren erzeugt die Steuereinheit 200 ausgangsseitig das Testmode-Steuersignal TMS2 derart, dass der steuerbare Schalter 450 gesperrt wird. In diesem Fall wird die Auswertespannung TS direkt dem Steueranschluss S500 der Frequenzerzeugungseinheit 500 zugeführt.
  • Die Frequenzerzeugungseinheit 500 ist beispielsweise als ein spannungsgesteuerter Oszillator ausgebildet. Somit wird in Abhängigkeit von der von der Temperatursensorschaltung 300 detektierten Chiptemperatur eine Frequenz des Frequenzsignals RFS erzeugt, mit der die Speicherzellen des Speicherzellenfeldes 100 aufgefrischt werden. Die Frequenzerzeugungseinheit 500 ist dabei derart ausgebildet, dass bei hohen Chiptemperaturen höhere Frequenzen des Frequenzsignals RFS erzeugt werden, als wenn niedrige Chiptemperaturen detektiert werden.
  • Im Testbetriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers wird an den Adressanschluss A600 ein Zustand TM_on1 des Kommandosignals TM oder ein Zustand TM_on2 des Kommandosignals TM angelegt. Wenn die Steuereinheit 200 feststellt, dass an den Adressanschluss A600 ein Kommandosignal TM mit der charakteristischen Bitfolge TM_on1 angelegt wird, werden die Testmode-Steuersignal TMS1 und TMS2 derart erzeugt, dass der steuerbare Schalter 440 gesperrt gesteuert wird und der steuerbare Schalter 450 leitend gesteuert wird. Aufgrund des Spannungsabfalls am Widerstand 410 wird der Steueranschluss S500 somit von einer gegenüber der Spannung TS niedrigeren Spannung TS1 angesteuert.
  • Aufgrund der Ansteuerung des Steueranschlusses S500 des spannungsgesteuerten Oszillators mit einer niedrigeren Steuerspannung wird das Frequenzsignal RFS mit einer niedrigeren Frequenz erzeugt. Die Widerstände 410 und 420 können dabei derart dimensioniert sein, dass die Frequenz des Frequenzsignals RFS gegenüber der im Betrieb bei einem Anwender erzeugten Frequenz um zehn Prozent niedriger ausfällt. Dadurch wird es ermöglicht, im Testbetriebszustand bei der gleichen Chiptemperatur, wie in einem Normalbetriebszustand die Speicherzellen mit einer niedrigeren und damit kritischeren Auffrischfrequenz aufzufrischen.
  • Wenn an den Adressanschluss A600 das Kommandosignal TM mit dem Zustand TM_on2 angelegt wird, erzeugt die Steuerschaltung 200 ausgangsseitig die Testmode-Steuersignale TMS1 und TMS2 in der Weise, dass der steuerbare Schalter 440 und der steuerbare Schalter 450 gesperrt gesteuert werden. In diesem Fall liegt an dem Steueranschluss S500 des spannungsgesteuerten Oszillators nicht mehr der volle Pegel der Spannung TS sondern ein gegenüber der Spannung TS und der Spannung TS1 nochmals verminderter Pegel einer Steuerspannung TS2 an. Durch den nochmals verminderten Pegel der Steuerspannung am Steueranschluss S500 erzeugt der spannungsgesteuerte Oszillator 500 das Frequenzsignal RFS mit einer gegenüber der Ansteuerung und mit der Steuerspannung TS1 nochmals reduzierten Frequenz. Bei geeigneter Dimensionierung der Widerstände 410, 420 und 430 wird es beispielsweise ermöglicht, dass das Frequenzsignal RFS mit einer gegenüber der Ansteuerung mit der Spannung TS um zwanzig Prozent verminderten Frequenz erzeugt wird. Dadurch wird es ermöglicht, im Testbetriebszustand des integrierten Halbleiterspeichers die Auffrischfrequenzen zum Auffrischen der Speicherzellen des Speicherzellenfeldes 100 nochmals zu vermindern.
  • 4A zeigt die Abhängigkeit der Auffrischintervalle ΔI von der Chiptemperatur T beim Betrieb des integrierten Halbleiterspeichers im Self-Refresh-Betrieb des Normalbetriebszu stands, bei dem der Adressanschluss A600 von dem Zustand TM_off des Kommandosignal TM angesteuert wird, und im Self-Refresh-Betrieb des Testbetriebszustands, bei dem der Adressanschluss A600 von den Zuständen TM_on1 und TM_on2 des Kommandosignals angesteuert wird. 4B zeigt die Abhängigkeit der Refresh-Frequenz F von der von der Temperatursensorschaltung detektierten Chiptemperatur beim Betrieb des Halbleiterspeichers in den oben genannten Betriebszuständen. Aufgrund der linearen Strom-/Spannungsabhängigkeit über den Widerständen 410, 420 und 430 lässt sich mit der in 2 gezeigten Schaltungsanordnung eine lineare Abhängigkeit der Refresh-Intervalle beziehungsweise der Refresh-Frequenzen von der detektierten Chiptemperatur erzeugen.
  • 3 zeigt eine weitere Ausführungsform und Verschaltung der Temperatursensorschaltung 300, der Steuerschaltung 400 und der Frequenzerzeugungseinheit 500 zur Erzeugung des Frequenzsignals RFS. Die Temperatursensorschaltung 300 erzeugt in Abhängigkeit von der detektierten Chiptemperatur ausgangsseitig das Temperatur-Auswertesignal TS, das einem Steueranschluss S500a der Frequenzerzeugungseinheit 500 zugeführt wird. Die Steuerschaltung 400 wird von der Steuereinheit 200 mit den Testmode-Steuersignalen TMS0, TMS1 oder TMS2 angesteuert. In Abhängigkeit von den Testmode-Steuersignale erzeugt sie an einem Steueranschluss S500b ein Steuersignal FS.
  • Die Frequenzerzeugungseinheit 500 umfasst eine Frequenzerzeugerschaltung 550, die in Abhängigkeit von der detektierten Chiptemperatur beziehungsweise in Abhängigkeit von einem Pegel des Temperatur-Auswertesignals TS ein Grundfrequenzsignal GFS mit einer Grundfrequenz F0 erzeugt, das einem Ausgangsanschluss A550 der Frequenzerzeugerschaltung 550 zugeführt wird. Die Frequenzerzeugerschaltung 550 ist beispielsweise als ein spannungsgesteuerter Oszillator ausgebildet. An den Ausgangsanschluss A550 ist eine steuerbare Schaltungseinheit 540 angeschlossen. Ausgangsseitig ist die steuerbare Schaltungseinheit 540 mit einer Frequenzteilerschaltung 510, einer Frequenzteilerschaltung 520 und einer Frequenzteilerschaltung 530 verbunden. In Abhängigkeit von dem Steuersignal FS lässt sich die steuerbare Schaltungseinheit 540 derart schalten, dass das Grundfrequenzsignal GFS der Frequenzteilerschaltung 510, der Frequenzteilerschaltung 520 oder der Frequenzteilerschaltung 530 zugeführt wird. Die Frequenzteilerschaltungen weisen unterschiedliche Teilerverhältnisse auf. In einer bevorzugten Ausführungsform sind die Teilerverhältnisse derart gewählt, dass die von der Frequenzteilerschaltung 520 erzeugte Frequenz des Frequenzsignals RFS zehn Prozent und die von der Frequenzteilerschaltung 520 erzeugte Frequenz F3 zwanzig Prozent niedriger als die von der Frequenzteilerschaltung 510 erzeugte Frequenz F1 sind.
  • Im Folgenden wird die Funktionsweise der in 3 gezeigten Schaltungsanordnung näher beschrieben. Der integrierte Halbleiterspeicher wird zunächst, wie bei der Ausführungsform der 2 beschrieben, in einem aktiven Betriebszustand betrieben, in dem Lese- und Schreibzugriffe auf Speicherzellen des Speicherzellenfeldes 100 ausgeführt werden. Dazu wird der Steueranschlusses S200c mit einem ersten Zustand des Steuersignals MS angesteuert. Der Inhalt der Speicherzellen wird bei einer Ansteuerung des Steueranschlusses S200b mit dem Refresh-Kommandosignal RKS, das beispielsweise von einem Speichercontroller erzeugt wird, aufgefrischt. Ein Zustandswechsel des Steuersignals MS bewirkt, dass der integrierte Halbleiterspeicher im Standby-Modus betrieben wird. Im Stand-by-Modus wird die Refresh-Frequenz von dem Halbleiterspeicher intern durch die Frequenzerzeugungseinheit 500 erzeugt.
  • Bei einem Standy-Betrieb außerhalb des Testbetriebs liegt an dem Adressanschluss A600 das Kommandosignal TM mit dem Zustand TM_off an. In diesem Fall erzeugt die Steuereinheit 200 ausgangsseitig das Testmode-Steuersignal TMS0, das der Steuerschaltung 400 zugeführt wird. Die Steuerschaltung 400 steuert daraufhin die steuerbare Schaltungseinheit 540 mit einem Steuersignal FS in der Weise an, dass der Ausgangsanschluss A550 der Frequenzerzeugerschaltung mit der Frequenzteilerschaltung 510 verbunden wird. Die Frequenzteilerschaltung 510 erzeugt aus der ihr zugeführten Grundfrequenz F0 das Frequenzsignal RFS mit einer Frequenz F1. In diesem Fall werden die Speicherzellen des Speicherzellenfeldes mit der Refresh-Frequenz F1 aufgefrischt.
  • Wenn hingegen der integrierte Halbleiterspeicher im Self-Refresh-Betrieb betrieben wird, und an den Adressanschluss A600 ein Kommandosignal TM mit dem Zustand TM_on1 angelegt wird, erzeugt die Steuereinheit 200 das Testmode-Steuersignal TMS1. Die Steuerschaltung 400 steuert daraufhin die steuerbare Schaltungseinheit 540 mit dem Steuersignal FS in der Weise an, dass der Ausgangsanschluss A550 der Frequenzerzeugerschaltung 550 mit der Frequenzteilerschaltung 520 verbunden wird. Aus der Grundfrequenz F0 wird somit ein Frequenzsignal RFS mit der Frequenz F2 erzeugt.
  • Wenn der Adressanschluss A600 im Self-Refresh-Betrieb mit dem Zustand TM_on2 des Kommandosignals TM angesteuert wird, erzeugt die Steuereinheit 200 ausgangsseitig das Testmode-Steuersignal TMS2, mit dem die Steuerschaltung 400 angesteuert wird. Die Steuerschaltung 400 steuert daraufhin die steuerbare Schaltungseinheit 540 derart mit dem Steuersignal FS an, dass der Ausgangsanschluss A550 mit der Frequenzteiler schaltung 530 verbunden wird. Aus der Grundfrequenz F0 wird somit das Frequenzsignal RFS mit einer Frequenz F3 erzeugt.
  • Somit können die Speicherzellen des integrierten Halbleiterspeichers im Self-Refresh-Betrieb während eines Tests des Halbleiterspeichers mit den gegenüber der Refresh-Frequenz F1 erniedrigten Refresh-Frequenzen F2 und F3 betrieben werden, wodurch sich das Verhalten des Speichers bei kritischen Refresh-Frequenzen abtesten lässt.
  • Die 4 und 5 zeigen Abhängigkeiten der Refresh-Intervalle ΔI und der Refresh-Frequenzen F in Abhängigkeit von der detektierten Chiptemperatur T, die mit der in 3 gezeigten Schaltungsanordnung erzeugbar sind. Neben dem in den 4A und 4B gezeigten linearen Zusammenhang zwischen den Refresh-Intervallen/Refresh-Frequenzen und der detektierten Chiptemperatur T ist es insbesondere mit der in 3 gezeigten Ausführungsform möglich, die in den 5A und 5B gezeigten diskreten Refresh-Intervalle/Refresh-Frequenzen zu erzeugen. Dazu ist der spannungsgesteuerte Oszillator 550 derart ausgebildet, dass er die erzeugte Grundfrequenz F0 in Abhängigkeit von der Chiptemperatur stufenweise verändert.
  • Nachdem die Refresh-Frequenzen verkürzt beziehungsweise die Refresh-Intervalle im Testbetriebszustand verlängert worden sind, wird der Halbleiterspeicher wieder in den aktiven Betriebszustand umgeschaltet. Im aktiven Betriebszustand wird der Inhalt der Speicherzellen ausgelesen und mit den Daten, die vor dem Betreiben im Testbetriebszustand in die Speicherzellen eingelesenen worden sind, verglichen. Wenn die Datenwerte übereinstimmen, hat der Halbleiterspeicherbaustein den Test erfolgreich bestanden.
  • 100
    Speicherzellenfeld
    200
    Steuereinheit
    300
    Temperatursensorschaltung
    400
    Steuerschaltung
    410, 420, 430
    Widerstand
    440, 450
    steuerbarer Schalter
    500
    Frequenzerzeugungseinheit
    510, 520, 530
    Frequenzteilerschaltungen
    540
    steuerbare Schaltungseinheit
    550
    Frequenzerzeugerschaltung
    600
    Adressregister
    AT
    Auswahltransistor
    BL
    Bitleitung
    FS
    Steuersignal
    KS
    Kommandosignal
    MS
    Kommandosignal für Self-Refresh-Betrieb
    RFS
    Frequenzsignal
    RKS
    Refresh-Kommandosignal
    S
    Steueranschluss
    SC
    Speicherkondensator
    SZ
    Speicherzelle
    TM_off, TM_on
    Zustände des Kommandosignals TM
    MS
    Testmode-Steuersignal
    TS
    Temperatur-Auswertesignal
    WL
    Wortleitung

Claims (18)

  1. Integrierter Halbleiterspeicher mit Auffrischung von Speicherzellen – mit einem Temperatursensor (300) zur Detektion einer Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers, – mit einem Anschluss (A600) zum Anlegen eines Kommandosignals (TM_off, TM_on1, TM_on2), – mit einer Frequenzerzeugungseinheit (500) zum Erzeugen eines Frequenzsignals (RFS) mit einer Frequenz (F1, F2), wobei die Frequenz abhängig von der von dem Temperatursensor (300) detektierten Chiptemperatur ist, – mit einer Speicherzelle (SZ) zur Speicherung eines Datums, wobei das gespeicherte Datum mit der Frequenz (F1, F2) des Frequenzsignals (RFS) aufgefrischt wird, – bei dem beim Anlegen eines ersten Zustands des Kommandosignals (TM_off) die Frequenzerzeugungseinheit (500) bei einer von dem Temperatursensor (300) detektierten Chiptemperatur das Frequenzsignal (RFS) mit einer ersten Frequenz (F1) erzeugt und beim Anlegen eines zweiten Zustands des Kommandosignals (TM_on1) die Frequenzerzeugungseinheit (500) bei der gleichen Chiptemperatur das Frequenzsignal (RFS) mit einer zweiten Frequenz (F2) erzeugt, die gegenüber der ersten Frequenz (F1) erniedrigt ist.
  2. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 1, bei dem der Temperatursensor (300) derart ausgebildet ist, dass er in Abhängigkeit von der detektierten Chiptemperatur ausgangsseitig ein Auswertesignal (TS) erzeugt.
  3. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 oder 2, mit einer Steuerschaltung (400) zur Erzeugung eines Steuersignals (FS) zur Einstellung der Frequenz des Frequenzsignals (RFS).
  4. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 3, – bei dem der Temperatursensor (300) als Auswertesignal eine Auswertespannung (TS) erzeugt, – bei dem die Steuerschaltung (400) eingangsseitig von der Auswertespannung (TS) angesteuert wird und ausgangsseitig (S500) als Steuersignal eine Steuerspannung erzeugt, – bei dem die Frequenzerzeugungseinheit (500) einen Steueranschluss (S500) zum Anlegen der Steuerspannung (TS, TS1, TS2) aufweist, – bei dem die Frequenzerzeugungseinheit (500) derart ausgebildet ist, dass sie die Frequenz des Frequenzsignals (RFS) in Abhängigkeit von der Steuerspannung (TS, TS1, TS2) erzeugt, – bei dem die Steuerschaltung (500) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von dem Kommandosignal (TM_off, TM_on1, TM_on2) die Auswertespannung (TS) als Steuerspannung dem Steueranschluss (S500) der Frequenzerzeugungseinheit zuführt oder die Auswertespannung (TS) verändert und die veränderte Auswertespannung (TS1, TS2) als Steuerspannung dem Steueranschluss (S500) der Frequenzerzeugungseinheit (500) zuführt.
  5. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 4, bei dem die Frequenzerzeugungseinheit als ein spannungsgesteuerter Oszillator (500) ausgebildet ist.
  6. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 4 oder 5, – mit einem Anschluss (V) zum Anlegen einer Bezugsspannung (VSS), – bei dem die Steuerschaltung (400) einen Eingangsanschluss (E400) zum Anlegen der Auswertespannung (TS), einen ersten steuerbaren Schalter (440), einen ersten Widerstand (410) und einen zweiten Widerstand (420) aufweist, – bei dem der Temperatursensor (300) zwischen den Eingangsanschluss (E400) der Steuerschaltung und den Anschluss (V) zum Anlegen der Bezugsspannung (VSS) geschaltet ist, – bei dem der erste steuerbare Schalter (440) und der erste Widerstand (410) parallel zwischen den Eingangsanschluss (E400) der Steuerschaltung und den Steueranschluss (S500) der Frequenzerzeugungseinheit (500) geschaltet sind, – bei dem die Frequenzerzeugungseinheit (500) parallel zu dem zweiten Widerstand (420) zwischen den Steueranschluss (S500) der Frequenzerzeugungseinheit und den Anschluss (V) zum Anlegen der Bezugsspannung (VSS) geschaltet sind.
  7. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 6, bei dem der erste Widerstand (410) über den ersten steuerbaren Schalter (440) niederohmig überbrückbar ist.
  8. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 6 oder 7, – mit einem zweiten steuerbaren Schalter (450), – bei dem in Reihe zu dem ersten Widerstand (410) ein dritter Widerstand (430) geschaltet ist, – bei dem der dritte Widerstand (430) über den zweiten steuerbaren Schalter (450) niederohmig überbrückbar ist.
  9. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 6 bis 8, bei dem der erste und zweite steuerbare Schalter jeweils als ein Transistor (440, 450) ausgebildet ist.
  10. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 1 bis 3, – bei dem die Frequenzerzeugungseinheit (500) einen Steueranschluss (S500a) zum Anlegen des Auswertesignals (TS), eine Oszillatorschaltung (550) mit einem Ausgangsanschluss (A550) zur Erzeugung eines Grundfrequenzsignals (GFS) mit einer Grundfrequenz (F0), eine erste Frequenzteilerschaltung (510) und eine zweite Frequenzteilerschaltung (520) umfasst, – bei dem die Oszillatorschaltung (550) derart ausgebildet ist, dass sie an dem Ausgangsanschluss (A550) das Grundfrequenzsignal (GFS) mit der Grundfrequenz (F0) in Abhängigkeit von dem Auswertesignal (TS) erzeugt, – bei dem die erste Frequenzteilerschaltung (510) und die zweite Frequenzteilerschaltung (520) eingangsseitig jeweils mit dem Ausgangsanschluss (A550) der Oszillatorschaltung (550) verbindbar sind, – bei dem die erste Frequenzteilerschaltung (510) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von der Grundfrequenz (F0) des Grundfrequenzsignals (GFS) und einem Teilerverhältnis der ersten Frequenzteilerschaltung aus der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals das Frequenzsignal (RFS) mit der ersten Frequenz (F1) erzeugt, – bei dem die zweite Frequenzteilerschaltung (520) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von der Grundfrequenz (F0) des Grundfrequenzsignals (GFS) und einem Teilerverhältnis der zweiten Frequenzteilerschaltung aus der Grundfrequenz des Grundfrequenzsignals das Frequenzsignal (RFS) mit der zweiten Frequenz (F2) erzeugt.
  11. Integrierter Halbleiterspeicher nach Anspruch 10, – mit einer steuerbaren Schaltungseinheit (540), – bei dem die steuerbare Schaltungseinheit (540) zwischen den Ausgangsanschluss (A550) der Oszillatorschaltung (550) und die Eingangsseiten der ersten und zweiten Frequenzteilerschaltung (510, 520) geschaltet ist, – bei dem die steuerbare Schaltungseinheit (540) derart ausgebildet ist, dass sie das Grundfrequenzsignal (GFS) in Abhängigkeit von dem Zustand des Kommandosignals (TM_off, TM_on1, TM_on2) der ersten Frequenzteilerschaltung (510) oder der zweiten Frequenzteilerschaltung (520) zuführt.
  12. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 10 oder 11, – mit mindestens einer weiteren Frequenzteilerschaltung (530), die eingangsseitig mit dem Ausgangsanschluss (A550) der Oszillatorschaltung (550) verbindbar ist, – bei dem die mindestens eine weitere Frequenzteilerschaltung (530) derart ausgebildet ist, dass sie in Abhängigkeit von der Grundfrequenz (F0) des Grundfrequenzsignals (GFS) und einem Teilerverhältnis der weiteren Frequenzteilerschaltung aus der Grundfrequenz (F0) des Grundfrequenzsignals (GFS) das Frequenzsignal (RFS) mit einer dritten Frequenz (F3) erzeugt, wobei die dritte Frequenz (F3) gegenüber der zweiten Frequenz (F2) erniedrigt ist, – bei dem die Frequenzerzeugungseinheit (500) derart ausgebildet ist, dass sie beim Anlegen eines dritten Zustands des Kommandosignals (TM_on2) den Ausgangsanschluss (A550) der Oszillatorschaltung (550) mit der Eingangsseite der mindestens einen weiteren Frequenzteilerschaltung (530) verbindet.
  13. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 11 oder 12, – bei dem die steuerbare Schaltungseinheit (540) zwischen den Ausgangsanschluss (A550) der Oszillatorschaltung (550) und die Eingangsseite der dritten Frequenzteilerschaltung (530) geschaltet ist, – bei dem die steuerbare Schaltungseinheit (540) derart ausgebildet ist, dass sie das Grundfrequenzsignal (GFS) in Abhängigkeit von dem Zustand des Kommandosignals (TM_off, TM_on1, TM_on2) einer der ersten, zweiten oder dritten Frequenzteilerschaltungen (510, 520, 530) zuführt.
  14. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 10 bis 13, bei dem die Oszillatorschaltung (550) derart ausgebildet ist, dass sie die Grundfrequenz (F0) des Grundfrequenzsignals (GFS) in Abhängigkeit von dem Auswertesignal (TS) erzeugt.
  15. Integrierter Halbleiterspeicher nach einem der Ansprüche 10 bis 13, – bei dem die Oszillatorschaltung (550) derart ausgebildet ist, dass sie das Grundfrequenzsignal (GFS) mit einer ersten Grundfrequenz erzeugt, wenn die Chiptemperatur in einem Bereich zwischen zwei Chiptemperaturen liegt, – bei dem die Oszillatorschaltung (550) derart ausgebildet ist, dass sie das Grundfrequenzsignal (GFS) mit einer zweiten Grundfrequenz erzeugt, wenn die Chiptemperatur in einem anderen Bereich zwischen zwei anderen Chiptemperaturen liegt.
  16. Verfahren zum Testen eines integrierten Halbleiterspeichers, umfassend die folgenden Schritte: – Bereitstellen eines integrierten Halbleiterspeichers mit einem Anschluss (A600) zum Anlegen eines Kommandosignals (TM_off, TM_on1, TM_on2), mit Speicherzellen (SZ), in denen jeweils ein Datum speicherbar ist und mit einer Frequenzer zeugungseinheit (500), die in Abhängigkeit von einer Chiptemperatur auf einem Speicherchip des integrierten Halbleiterspeichers und einem Zustand des Kommandosignals (TM_off, TM_on1, TM_on2) ein Frequenzsignals (RFS) mit einer Frequenz (F1, F2, F3) erzeugt, wobei zum Erhalt eines in einer der Speicherzellen gespeicherten Datums das Datum mit der Frequenz des Frequenzsignals (RFS) aufgefrischt wird, – Anlegen eines zweiten Zustands des Kommandosignals (TM_on1) an den Anschluss (A600) zum Anlegen des Kommandosignals, – Detektieren einer ersten Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers, – Erzeugen des Frequenzsignals (RFS) von der Frequenzerzeugungseinheit bei der detektierten ersten Chiptemperatur mit einer zweiten Frequenz (F2), wobei die zweite Frequenz gegenüber einer ersten Frequenz (F1) des Frequenzsignals erniedrigt ist und die erste Frequenz (F1) von der Frequenzerzeugungseinheit erzeugt wird, wenn der erste Zustand des Kommandosignals (TM_off) an den Anschluss (A600) zum Anlegen des Kommandosignals angelegt wird und die erste Chiptemperatur detektiert wird.
  17. Verfahren nach Anspruch 16, umfassend die folgenden Schritte: – Verändern der Chiptemperatur des Speicherchips des integrierten Halbleiterspeichers durch Erwärmen oder Abkühlen des integrierten Halbleiterspeichers, – Detektierten einer zweiten Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers, die gegenüber der ersten detektierten Chiptemperatur verändert ist, – Erzeugen des Frequenzsignals (RFS) von der Frequenzerzeugungseinheit bei der detektierten zweiten Chiptemperatur mit der zweiten Frequenz (F2), wenn die zweite Chiptemperatur zwischen einem ersten und zweiten Temperaturwert der Chiptemperatur liegt, oder – Erzeugen des Frequenzsignals (RFS) von der Frequenzerzeugungseinheit (500) mit einer veränderten zweiten Frequenz, wenn die zweite Chiptemperatur über dem ersten oder unter dem zweiten Temperaturwert der Chiptemperatur liegt.
  18. Verfahren nach Anspruch 16, umfassend die folgenden Schritte: – Verändern der Chiptemperatur des Speicherchips des integrierten Halbleiterspeichers durch Erwärmen oder Abkühlen des integrierten Halbleiterspeichers, – Detektieren einer zweiten Chiptemperatur des integrierten Halbleiterspeichers, die gegenüber der detektierten ersten Chiptemperatur verändert ist, – Erzeugen des Frequenzsignals (RFS) von der Frequenzerzeugungseinheit (500) bei der detektierten zweiten Chiptemperatur mit einer veränderten zweiten Frequenz, wobei die veränderte zweite Frequenz über der zweiten Frequenz (F2) liegt, wenn die zweite Chiptemperatur über der ersten Chiptemperatur liegt, und wobei die veränderte zweite Frequenz unter der zweiten Frequenz (F2) liegt, wenn die zweite Chiptemperatur unter der ersten Chiptemperatur liegt.
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005124785A1 (ja) * 2004-06-18 2005-12-29 Fujitsu Limited 半導体装置の温度検出器および半導体記憶装置
US8391352B2 (en) * 2008-05-13 2013-03-05 Integre Technologies, Inc. Low-cost ATSC-receiver-compatible digital TV modulator
JP2011170943A (ja) * 2010-02-22 2011-09-01 Sony Corp 記憶制御装置、記憶装置、記憶装置システム
JP6101047B2 (ja) * 2012-11-07 2017-03-22 キヤノン株式会社 情報処理装置及びその制御方法、並びにプログラム
JP2020017133A (ja) * 2018-07-26 2020-01-30 キオクシア株式会社 ストレージ装置及び制御方法
CN113945293B (zh) 2020-06-30 2023-04-18 长鑫存储技术有限公司 半导体装置
CN113948118A (zh) * 2020-07-17 2022-01-18 长鑫存储技术有限公司 半导体装置
EP3968324B1 (de) 2020-07-17 2023-07-05 Changxin Memory Technologies, Inc. Halbleiterbauelement
EP3965105B1 (de) 2020-07-17 2024-02-07 Changxin Memory Technologies, Inc. Kalibrierung eines temperaturerkennungsmoduls in einem halbleiterspeicher mit einer vielzahl von speicherchips
JP2023517553A (ja) 2020-07-17 2023-04-26 チャンシン メモリー テクノロジーズ インコーポレイテッド 半導体装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5991214A (en) * 1996-06-14 1999-11-23 Micron Technology, Inc. Circuit and method for varying a period of an internal control signal during a test mode
US6392948B1 (en) * 1996-08-29 2002-05-21 Micron Technology, Inc. Semiconductor device with self refresh test mode
US6756856B2 (en) * 2001-05-31 2004-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Clock generation circuits and integrated circuit memory devices for controlling a clock period based on temperature and methods for using the same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1617436A4 (de) * 2003-04-24 2008-12-24 Fujitsu Ltd Halbleiterspeicher
US7266031B2 (en) * 2003-11-19 2007-09-04 Infineon Technologies Ag Internal voltage generator with temperature control

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5991214A (en) * 1996-06-14 1999-11-23 Micron Technology, Inc. Circuit and method for varying a period of an internal control signal during a test mode
US6392948B1 (en) * 1996-08-29 2002-05-21 Micron Technology, Inc. Semiconductor device with self refresh test mode
US6756856B2 (en) * 2001-05-31 2004-06-29 Samsung Electronics Co., Ltd. Clock generation circuits and integrated circuit memory devices for controlling a clock period based on temperature and methods for using the same

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US20070247944A1 (en) 2007-10-25

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