DE102005052758A1 - Substrathalterungseinrichtung zur Verwendung in einem Positionsmessgerät - Google Patents
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Abstract
Die Erfindung betrifft eine Substrathalterungseinrichtung (41) zur Verwendung in einem Positionsmessgerät (1) zur Bestimmung der Position eines Substrates (30, 45), das von der Substrathalterungseinrichtung (41) getragen wird, mittels eines Laser-Interferometersystems (29), wobei die Substrathalterungseinrichtung (41) eine verfahrbare Tischkonstruktion (26, 42) sowie einen der Tischkonstruktion fest zugeordneten Tischspiegel (9, 43) zur Reflexion eines Laserstrahls des Laser-Interferometersystems (29) aufweist, wobei vorgeschlagen wird, dass die messkritischen, einander räumlich fest zugeordneten Komponenten der Substrathalterungseinrichtung (41) in der Verbindungskette von Tischspiegel (9, 43) zu Substrat (30, 45) aus Materialstrukturen gefertigt sind, deren Elastizitätsmodul um höchstens 15% von demjenigen des Substrates (30, 45) abweicht. Hierdurch kann der negative Einfluss von Luftdruckschwankungen auf die laserinterferometrische Positionsmessung stark vermindert werden.
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102007036850A1 (de) * | 2007-08-06 | 2009-02-19 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Koordinaten-Messmaschine und Verfahren zur Korrektur von Nichtlinearitäten der Interferometer einer Koordinaten-Messmaschine |
| DE102007043803A1 (de) | 2007-09-13 | 2009-04-09 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Einrichtung und Verfahren zur Bestimmung der räumlichen Lage bewegter Elemente einer Koordinaten-Messmaschine |
| WO2009049826A1 (de) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Messsystem und messverfahren |
| WO2008122335A3 (en) * | 2007-04-05 | 2009-05-28 | Zeiss Carl Sms Gmbh | Apparatus for measurement of substrates |
| DE102009019773A1 (de) | 2009-04-30 | 2010-11-04 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Verbesserung der Positioniergenauigkeit von mittels Gaslagerelementen geführten Tischen und Verwendung von Luftlagerelementen mit Dichtsystemen für in Umgebungsatmosphäre geführten Tischsystemen |
| DE102008030153B4 (de) | 2008-06-27 | 2018-08-23 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zum Bestimmen von Positionen von Strukturen auf einem Substrat mit einer Koordinaten-Messmaschine und Koordinaten-Messmaschine |
| DE102017115367A1 (de) * | 2017-07-10 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Erfassung und Kompensation von Umgebungseinflüssen in einem Messmikroskop |
| DE102023131119B3 (de) | 2023-11-09 | 2025-02-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Inspektionsvorrichtung |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8582113B2 (en) | 2007-02-13 | 2013-11-12 | Kla-Tencor Mie Gmbh | Device for determining the position of at least one structure on an object, use of an illumination apparatus with the device and use of protective gas with the device |
| DE102007049133A1 (de) * | 2007-02-13 | 2008-08-21 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Vorrichtung zur Bestimmung der Position mindestens einer Struktur auf einem Objekt, Verwendung einer Beleuchtungseinrichtung für die Vorrichtung und Verwendung von Schutzgas für die Vorrichtung |
| US20090066970A1 (en) * | 2007-05-21 | 2009-03-12 | Muetec Automatisierte Mikroskopie Und Messtechnik Gmbh | Arrangement and method for improving the measurement accuracy in the nm range for optical systems |
| DE102008015631A1 (de) * | 2008-03-20 | 2009-09-24 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Vermessung von Masken für die Photolithographie |
| CN106773553B (zh) * | 2017-03-06 | 2018-11-30 | 重庆京东方光电科技有限公司 | 承载装置和曝光设备 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69100518T2 (de) * | 1990-03-30 | 1994-03-31 | American Telephone & Telegraph | Verminderung des Amplitudenrauschens in optisch gepumpten modengekoppelten Lasern. |
| US6264165B1 (en) * | 1996-04-12 | 2001-07-24 | Nikon Corporation | Stage and supporting mechanism for supporting movable mirror on stage |
| DE19858428C2 (de) * | 1998-12-17 | 2002-09-12 | Leica Microsystems | Koordinaten-Messanordnung |
| EP1092946B1 (de) * | 1999-10-11 | 2004-12-08 | Leica Microsystems Semiconductor GmbH | Hochgenauer Maskenhalter zur Dickenmessung und Verfahren zur Bestimmung von Dickenabweichungen |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TW245772B (de) * | 1992-05-19 | 1995-04-21 | Akzo Nv | |
| US20030179354A1 (en) * | 1996-03-22 | 2003-09-25 | Nikon Corporation | Mask-holding apparatus for a light exposure apparatus and related scanning-exposure method |
| JP2000286189A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Nikon Corp | 露光装置および露光方法ならびにデバイス製造方法 |
| JP2001244177A (ja) * | 2000-02-28 | 2001-09-07 | Nikon Corp | ステージ装置とホルダ、および走査型露光装置並びに露光装置 |
| DE10047211B4 (de) * | 2000-09-23 | 2007-03-22 | Leica Microsystems Semiconductor Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Positionsbestimmung einer Kante eines Strukturelementes auf einem Substrat |
| US7050147B2 (en) * | 2004-07-08 | 2006-05-23 | Asml Netherlands B.V. | Method of adjusting a height of protrusions on a support surface of a support table, a lithographic projection apparatus, and a support table for supporting an article in a lithographic apparatus |
-
2005
- 2005-11-04 DE DE102005052758A patent/DE102005052758A1/de not_active Ceased
-
2006
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- 2006-10-31 JP JP2006296249A patent/JP2007127646A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE69100518T2 (de) * | 1990-03-30 | 1994-03-31 | American Telephone & Telegraph | Verminderung des Amplitudenrauschens in optisch gepumpten modengekoppelten Lasern. |
| US6264165B1 (en) * | 1996-04-12 | 2001-07-24 | Nikon Corporation | Stage and supporting mechanism for supporting movable mirror on stage |
| DE19858428C2 (de) * | 1998-12-17 | 2002-09-12 | Leica Microsystems | Koordinaten-Messanordnung |
| EP1092946B1 (de) * | 1999-10-11 | 2004-12-08 | Leica Microsystems Semiconductor GmbH | Hochgenauer Maskenhalter zur Dickenmessung und Verfahren zur Bestimmung von Dickenabweichungen |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008122335A3 (en) * | 2007-04-05 | 2009-05-28 | Zeiss Carl Sms Gmbh | Apparatus for measurement of substrates |
| DE102007036850A1 (de) * | 2007-08-06 | 2009-02-19 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Koordinaten-Messmaschine und Verfahren zur Korrektur von Nichtlinearitäten der Interferometer einer Koordinaten-Messmaschine |
| DE102007036850B4 (de) * | 2007-08-06 | 2010-04-08 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zur Korrektur von Nichtlinearitäten der Interferometer einer Koordinaten-Messmaschine |
| DE102007043803A1 (de) | 2007-09-13 | 2009-04-09 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Einrichtung und Verfahren zur Bestimmung der räumlichen Lage bewegter Elemente einer Koordinaten-Messmaschine |
| WO2009049826A1 (de) * | 2007-10-15 | 2009-04-23 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Messsystem und messverfahren |
| DE102008030153B4 (de) | 2008-06-27 | 2018-08-23 | Vistec Semiconductor Systems Gmbh | Verfahren zum Bestimmen von Positionen von Strukturen auf einem Substrat mit einer Koordinaten-Messmaschine und Koordinaten-Messmaschine |
| DE102009019773A1 (de) | 2009-04-30 | 2010-11-04 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Verbesserung der Positioniergenauigkeit von mittels Gaslagerelementen geführten Tischen und Verwendung von Luftlagerelementen mit Dichtsystemen für in Umgebungsatmosphäre geführten Tischsystemen |
| DE102009019773B4 (de) | 2009-04-30 | 2022-03-03 | Friedrich-Schiller-Universität Jena | Verfahren zur Verbesserung der Positioniergenauigkeit von mittels Gaslagerelementen geführten Tischen und Verwendung von Luftlagerelementen mit Dichtsystemen für in Umgebungsatmosphäre geführte Tischsysteme |
| DE102017115367A1 (de) * | 2017-07-10 | 2019-01-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zur Erfassung und Kompensation von Umgebungseinflüssen in einem Messmikroskop |
| US10585274B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-03-10 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Method for capturing and compensating ambient effects in a measuring microscope |
| DE102023131119B3 (de) | 2023-11-09 | 2025-02-27 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Optische Inspektionsvorrichtung |
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