[go: up one dir, main page]

DE102005054745B4 - Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes - Google Patents

Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes Download PDF

Info

Publication number
DE102005054745B4
DE102005054745B4 DE102005054745A DE102005054745A DE102005054745B4 DE 102005054745 B4 DE102005054745 B4 DE 102005054745B4 DE 102005054745 A DE102005054745 A DE 102005054745A DE 102005054745 A DE102005054745 A DE 102005054745A DE 102005054745 B4 DE102005054745 B4 DE 102005054745B4
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
quartz
frequency
quartz crystal
irradiation
electromagnetic radiation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE102005054745A
Other languages
English (en)
Other versions
DE102005054745A1 (de
Inventor
Wilhelm Lennartz
Stefan Dr. Metzger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE102005054745A priority Critical patent/DE102005054745B4/de
Priority to PCT/EP2006/010224 priority patent/WO2007057086A1/de
Publication of DE102005054745A1 publication Critical patent/DE102005054745A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE102005054745B4 publication Critical patent/DE102005054745B4/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/02Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks
    • H03H3/04Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of piezoelectric or electrostrictive resonators or networks for obtaining desired frequency or temperature coefficient
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H3/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators
    • H03H3/007Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks
    • H03H3/08Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves
    • H03H3/10Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of impedance networks, resonating circuits, resonators for the manufacture of electromechanical resonators or networks for the manufacture of resonators or networks using surface acoustic waves for obtaining desired frequency or temperature coefficient

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Oscillators With Electromechanical Resonators (AREA)

Abstract

Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes, bei welchem der Schwingquarz mit einer elektromagnetischen Strahlung mit einer Wellenlänge von weniger als 2,5 nm beaufschlagt wird, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Masse des Schwingquarzes durch die Bestrahlung nicht ändert.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes, bei welchem die Frequenz durch Bestrahlung mit ionisierender Strahlung verringert wird.
  • Viele der heute verwendeten elektronischen Schaltungen enthalten eine digitale Elektronik. Solche digitalen Schaltungen sind auf ein präzises Taktsignal angewiesen, um sicherzustellen, dass alle verbauten digitalen Schaltkreise im gleichen Takt arbeiten und keine Signale zwischen den Schaltkreisen verloren gehen. Dies betrifft beispielsweise Fahrzeugsteuerungen, Personalcomputer, Mobiltelefone oder Steuer- und Regeleinrichtungen von Maschinen und Anlagen.
  • Gemäß dem Stand der Technik werden zur Takterzeugung so genannte Quarzoszillatoren eingesetzt. Ein solcher Quarzoszillator besteht aus einem Schwingquarz, welcher das eigentliche Taktsignal erzeugt und vorgibt, sowie einer elektronischen Steuerschaltung, welche an ihrem Ausgang das Taktsignal mit der gewünschten Impulsform und Impedanz bereit stellt. Dieses Taktsignal kann dann mittels Flachbandkabel oder Leiterbahnen auf einer Platine zu verschiedenen digitalen Schaltkreisen verteilt werden. Diese arbeiten somit alle im gleichen, vorgegebenen Arbeitstakt.
  • Bei höheren Anforderungen an die Stabilität des Taktsignals kann die Steuerschaltung des Quarzoszillators auch eine Temperaturkompensation aufweisen. Noch präziser arbeiten Ausführungen mit Thermostat, bei welchen der Schwingquarz und/oder die elektronische Steuerschaltung mittels elektrischer Beheizung auf konstanter Temperatur gehalten werden. Daneben gibt es auch spannungssteuerbare Modelle, bei welchen die Taktfrequenz in gewissen Grenzen veränderbar ist.
  • Die Leistungswerte eines Oszillators, also insbesondere die Langzeitstabilität und das Rauschen, werden zu 70 durch den eingesetzten Schwingquarz beeinflusst. Je genauer dieser Schwingquarz ist, desto weniger Abweichungen müssen in der Steuerschaltung kompensiert werden. Die Verwender von Quarzoszillatoren fordern im Regelfall die Einhaltung einer vorbestimmten Nennfrequenz. Dementsprechend obliegt es dem Hersteller der Oszillatoren, die Einhaltung dieser Nennfrequenz sicherzustellen und dem Abnehmer dies zu bestätigen. Enge Spezifikationen können jedoch im Regelfall nur eingehalten werden, wenn hochwertige Quarze eingesetzt werden. Deren Produktionsverfahren nach dem Stand der Technik bieten jedoch nur geringe Ausbeute und Reproduzierbarkeit der Nennfrequenz. Deshalb werden die Quarze häufig nach der Produktion noch selektiert, was die Ausbeute weiter verringert.
  • Ein weiteres Problem ergibt sich daraus, dass der Verwender den Quarzoszillator in seine elektronische Schaltung einbauen muss. Dies geschieht im Regelfall durch Löten. Jedoch sind die Eigenschaften eines Quarzoszillators temperaturempfindlich. Somit verändert sich auch die Arbeitsfrequenz des Oszillators beim Einbau. In vielen Fällen dauert es mehrere Tage bis Wochen, bis die Arbeitsfrequenz wieder auf ihren Nennwert zurückkehrt. Nicht ausgeschlossen ist jedoch auch, dass die Arbeitsfrequenz dauerhaft vom Nennwert abweicht.
  • Solche dauerhaften Abweichungen können im engen Rahmen durch zusätzliche elektronische Komponenten, wie beispielsweise abstimmbare Kondensatoren, korrigiert werden. Jedoch wirken sich zusätzliche Schaltungselemente negativ auf das Rauschverhalten des Oszillators aus. Durch das hohe Rauschen wird neben der Alterung ein weiterer Faktor konstituiert, welcher die Stabilität des Oszillators verschlechtert. Unter Stabilität wird in diesem Zusammenhang die Einhaltung der Nennfrequenz während des Betriebes über die Lebensdauer des Oszillators verstanden. Somit kann durch Hinzufügen zusätzlicher elektronischer Bauelemente die Arbeitsfrequenz nicht auf die Nennfrequenz justiert werden, wenn gleichzeitig die Stabilität über einen längeren Zeitraum sichergestellt werden soll.
  • Um den Aufwand des Selektierens von Quarzen nach ihrer Arbeitsfrequenz zu vermindern, schlägt die JP 05160661 A vor, einen Schwingquarz mit einem Teilchenstrahl zu bestrahlen. Durch diese Bestrahlung wird die Arbeitsfrequenz des bestrahlten Quarzes in Abhängigkeit der absorbierten Dosis verändert. Somit können Quarze, welche ursprünglich außerhalb der Nennfrequenz lagen, durch die Bestrahlung zur Nennfrequenz hin verändert werden.
  • Nachteilig an diesem Verfahren ist insbesondere die Tatsache, dass Teilchenstrahlung nur eine geringe Reichweite in Materie besitzt. So ist beispielsweise die Reichweite eines Elektronenstrahls mit einer Energie von 100 keV in Aluminium auf etwa 200 μm begrenzt. Ein solcher Strahl würde also einen Schwingquarz, welcher in einem Gehäuse eingebaut ist, gar nicht mehr erreichen. Somit können Bauteile, welche bereits inklusive Gehäuse fertig gestellt sind, nur mittels sehr hoher Energien bestrahlt werden. Ebenso ist die Reichweite an Luft begrenzt, so dass es oft erforderlich sein wird, die Bestrahlung in einer Vakuumapparatur durchzuführen.
  • Die Bereitstellung eines Teilchenstrahles mit höherer Energie erfordert aufwändige Apparaturen, welche nur mit großem Aufwand handhabbar sind. Zu berücksichtigen ist weiterhin, dass Teilchenstrahlen mit Energien oberhalb der Coulomb-Schwelle Kernreaktionen im Gehäusematerial auslösen können. Somit würde das Gehäuse nach der Frequenzeinstellung des Quarzes dauerhaft radioaktive Strahlung aussenden.
  • Gemäß der Lehre der US 6,771,135 kann die Frequenz eines Quarzoszillators dadurch eingestellt werden, dass eine Elektrode des Schwingquarzes mittels eines Innenstrahls teilweise verdampft wird. Dadurch wird die am Schwingquarz angebrachte Zusatzmasse verringert und die Schwingungsfrequenz entsprechend erhöht. Da der Energieverlust eines Innenstrahles im Vergleich zu einem Elektronenstrahl nochmals erhöht ist, kann dieses Verfahren nur im Vakuum ausgeführt werden. Es muss also jeder Quarzoszillator einzeln in eine Vakuumkammer eingeschleust werden, woraufhin der Elektrodenbereich abgesputtert wird, bis die Nennfrequenz erreicht ist. Danach wird das Bauelement wieder aus der Vakuumkammer ausgeschleust. Dieses aufwendige Verfahren eignet sich nicht für die Massenherstellung günstiger aber dennoch zuverlässiger Schwingquarze mit möglichst geringen Fertigungstoleranzen der Arbeitsfrequenz. Hinzu kommt, dass der Ionenstrahl nicht in der Lage ist, das Gehäuse des Schwingquarzes zu durchdringen. Somit ist es bei diesem Verfahren erforderlich, im Gehäuse eine Eintrittsöffnung für den Ionenstrahl vorzusehen, welche erst nach erfolgter Frequenzeinstellung verschlossen wird.
  • Die US 4,107,349 offenbart ein Verfahren zur Frequenzeinstellung eines Schwingquarzes, bei welchem der Quarz in einer Atmosphäre aus polymerisierbarem Gas einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird. Durch die Ablagerung einer Polymerschicht kommt es zur Änderung der Masse des Quarzes und damit zur Frequenzänderung.
  • Allen Bestrahlungsverfahren nach dem Stand der Technik ist gemeinsam, dass nur unverbaute Schwingquarze bzw. Quarzoszillatoren behandelt werden können. Nachdem es nur mit großem Aufwand möglich ist, ganze Baugruppen nochmals in eine große Vakuumkammer einzuschleusen, um dort den Quarzoszillator ein weiteres Mal zu bestrahlen, können temperaturinduzierte Änderungen der Arbeitsfrequenz mit den bekannten Methoden nicht korrigiert werden. Für die Änderung der Arbeitsfrequenz, welche sich durch den Wärmeeintrag beim Verlöten der Quarzoszillatoren ergibt, bieten die Bestrahlungsverfahren nach dem Stand der Technik keine Lösung. In diesem Fall bleibt nur, den Quarzoszillator in der Schaltung zu ersetzen.
  • Der vorliegenden Erfindung liegt demnach die Aufgabe zugrunde, die Arbeitsfrequenz eines fertig gestellten Schwingquarzes ohne zusätzliche elektronische Bauelemente dauerhaft auf eine vorgebbare Nennfrequenz zu verändern.
  • Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch ein Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes, bei welchem der Schwingquarz mit einer elektromagnetischen Strahlung mit einer Wellenlänge von weniger als 2,5 nm beaufschlagt wird, wobei sich die Masse des Quarzes nicht ändert.
  • Völlig überraschend wurde erkannt, dass auch elektromagnetische Strahlung geeignet ist, die Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes dauerhaft zu beeinflussen. Dies ist überraschend, da durch die elektromagnetische Strahlung keinerlei Materialabtrag verursacht wird, wie er nach dem Stand der Technik erforderlich ist. Dabei ergibt sich der Vorteil, dass elektromagnetische Strahlung geeignet ist, das Gehäuse eines Schwingquarzes zu durchdringen. Somit kann die Arbeitsfrequenz eines fertig gestellten Schwingquarzes eingestellt werden, ohne dass dieser Quarz danach noch einer mechanischen Nachbearbeitung bedarf.
  • Aufgrund der großen Reichweite der elektromagnetischen Strahlung auch bei atmosphärischen Bedingungen ist die Bestrahlung der Schwingquarze auch ohne umgebendes Vakuumgefäß möglich. Das Verfahren ist demnach einfacher durchführbar und eignet sich auch für die Massenproduktion. Nachdem die Größe der zu bestrahlenden Bauteile oder Baugruppen nicht beschränkt ist, können nicht nur Schwingquarze, sondern auch fertige Quarzoszillatoren oder bereits auf Platinen verlötete Oszillatoren in der Arbeitsfrequenz verändert werden.
  • Die verwendete elektromagnetische Strahlung weist dabei Photonenergien von mehr als 500 eV auf. Besonders bevorzugt sind Photonenenergien zwischen etwa 1,8 keV und etwa 3 MeV. Als Strahlungsquellen stehen alle nach dem Stand der Technik bekannten Quellen zur Verfügung, welche in diesem Wellenlängenbereich arbeiten. Insbesondere ist Röntgenbremsstrahlung oder charakteristische Röntgenstrahlung verwendbar, welche in einer Röntgenröhre ohne großen Aufwand erhältlich ist. Selbstverständlich wird der Fachmann jedoch auch fallweise andere Quellen vorsehen, wie beispielsweise Synchrotron-Strahlungsquellen oder Freie-Elektronen-Laser.
  • Oftmals erfolgt eine Überprüfung der Einbaulage und der Kristallebene eines fertigen Schwingquarzes mit Röntgenstrahlung. In einem solchen Fall kann diese Überprüfung mit der Anpassung der Arbeitsfrequenz durch Bestrahlung mit Röntgenstrahlung zu einem Arbeitsgang verbunden werden.
  • Sehr vorteilhaft können auch radioaktive Gamma-Emitter als Strahlungsquelle verwendet werden. Insbesondere die Gammastrahlung des Nuklids 60Co mit 1,17 MeV und 1,33 MeV kann vorteilhaft eingesetzt werden. Die Halbwertszeit von 5,3 Jahren des Radionuklides erlaubt dabei einen lang andauernden Betrieb, ohne dass die Strahlungsquelle aufwändig ausgetauscht werden müsste. Selbstverständlich wird der Fachmann hier jedoch auch andere Radionuklide, wie beispielsweise 241Am in Betracht ziehen.
  • Erfindungsgemäß wurde erkannt, dass sich die Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes bei Bestrahlung mit elektromagnetischer Strahlung verringert. Demnach kann mit dem erfindungsgemäßen Verfahren mit hoher Genauigkeit jede beliebige Arbeitsfrequenz eingestellt werden, indem ein Schwingquarz mit höherer Arbeitsfrequenz aus dem Kristall geschnitten wird, welcher nachfolgend durch Bestrahlung auf die gewünschte Arbeitsfrequenz eingestellt wird.
  • In einer bevorzugten Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird im Schwingquarz bei der Bestrahlung eine Dosis von etwa 0,1 Gray bis etwa 200 Gray deponiert. Besonders bevorzugt liegt die absorbierte Dosis zwischen etwa 1 Gray und etwa 30 Gray. Es hat sich gezeigt, dass die Frequenzänderung eines Oszillators etwa 0,5 Hz bis 2 Hz pro Gy beträgt. Demnach ergibt sich eine Untergrenze von etwa 0,1 Gy absorbierter Dosis für Schwingquarze, deren intrinsische Arbeitsfrequenz sehr nahe an der gewünschten Nennfrequenz liegt. Ab etwa 200 Gray wurde beobachtet, dass der Arbeitsstrom eines Quarzoszillators zunimmt. D.h., dass die übrigen im Quarzoszillator verbauten Bauelemente ab dieser Dosis degradieren. Selbstverständlich wird diese Beobachtung den Fachmann nicht davon abhalten, unbeschaltete Schwingquarze ohne weitere elektronische Bauelemente auch mit höheren Dosen zu bestrahlen. Bei unbeschalteten Schwingquarzen können somit auch größere Frequenzabweichungen noch korrigiert werden.
  • In Abhängigkeit von der Dosisleistung der verwendeten Strahlungsquelle wird die Bestrahlung etwa zwischen 1/100 Sekunde und 10 Sekunden, insbesondere zwischen 1/10 Sekunde und 5 Sekunden andauern. Um hohe Durchsätze zu erzielen, wird der Fachmann hier Strahlungsquellen mit hohen Dosisleistungen vorsehen, wie beispielsweise Synchroton-Strahlungsquellen, und damit die Bestrahlungszeit kurz halten. Sofern nur eine schwache radioaktive Quelle zur Verfügung steht, können die angegebenen Bestrahlungszeiten natürlich auch verlängert werden. Im Gegenzug sinkt dann der apparative Aufwand für Strahlerzeugung und Strahlenschutz.
  • Ein besonderer Vorzug des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, dass nicht nur unverbaute Schwingquarze bestrahlt werden können, sondern diese auch bereits in einem Quarzoszillator verbaut sein können. Darüber hinaus kann auch der Quarzoszillator bereits mit weiteren elektronischen Bauelementen auf einem Schaltungsträger verbaut sein. Als Schaltungsträger kommen hier insbesondere Platinen oder Lötrahmen in Frage. Somit können auch Frequenzabweichungen korrigiert werden, welche sich erst durch den Einbau und die damit verbundene Erwärmung eingestellt haben.
  • Um die Strahlung dennoch auf den Schwingquarz zu konzentrieren und eine Schädigung der übrigen Bauelemente in der Umgebung des Schwingquarzes zu minimieren, kann in einer Ausgestaltung der Erfindung auch ein kollimierter Strahl verwendet werden. Die damit verbundene Schwächung der Intensität kann durch eine verlängerte Bestrahlungszeit leicht kompensiert werden. Alternativ kann der Fachmann auch eine Schutzabschirmung vorsehen, welche alle Teile bis auf den Schwingquarz bedeckt. Auch der kleine Strahl einer Mikrofokus-Röntgenröhre eignet sich zur lokalen Bestrahlung des Schwingquarzes großer Baugruppen.
  • Zur Bestimmung der zu applizierenden Dosis können zwei unterschiedliche Verfahren angewandt werden. Zum einen kann die Arbeitsfrequenz des zu bestrahlenden Schwingquarzes während der Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung fortlautend gemessen werden.
  • Bei Erreichen eines vorgebbaren Sollwertes der Arbeitsfrequenz wird die Bestrahlung dann beendet. Dies kann bevorzugt automatisiert geschehen, indem die Strahlungsquelle, beispielsweise mit einem Shutter, bei Erreichen des Sollwertes abgeschaltet wird. In diesem Fall kann eine Vielzahl von Schwingquarzen auf einen genauen Frequenzwert eingestellt werden. Quarze mit größerer Frequenzabweichung erhalten dabei eine größere Strahlendosis als solche mit geringerer Abweichung vom Sollwert. Somit ergeben sich nach der Bestrahlung Schwingquarze, welche eine deutlich schmalere Häufigkeitsverteilung der Arbeitsfrequenz aufweisen wie vor der Bestrahlung. Somit kann sichergestellt werden, dass für eine Vielzahl von Geräten eine Vielzahl von Quarzoszillatoren oder Schwingquarzen zur Verfügung steht, welche annähernd gleiche Arbeitsfrequenzen aufweisen.
  • Nach einer weiteren Alternative des Verfahrens werden größere Stückzahlen von Quarzen oder Quarzoszillatoren in einem Arbeitsgang bestrahlt. Dabei verschiebt sich der Mittelwert der Häufigkeitsverteilung der Arbeitsfrequenz um einen vorgebbaren Wert. Die Breite der Häufigkeitsverteilung bleibt jedoch unverändert. Um die zu applizierende Dosis zu bestimmen, kann vorher optional eine Teilmenge der zu bestrahlenden Quarzoszillatoren bestrahlt werden, wobei deren Änderungsrate der Frequenz in Hz/Gy bestimmt wird. Mit diesem Wert lässt sich die zu applizierende Dosis sehr genau berechnen.
  • Nachfolgend soll die Erfindung anhand zweier Ausführungsbeispiele ohne Beschränkung des allgemeinen Erfindungsgedankens näher verdeutlicht werden.
  • 1 zeigt eine Vorrichtung zur Bestrahlung eines einzelnen Quarzoszillators bzw. Schwingquarzes mit elektromagnetischer Strahlung, bis dessen Arbeitsfrequenz einen gewünschten Nennwert erreicht hat. Hierzu befindet sich der Quarzoszillator 1 hinter einer Abschirmung 2, welche das Bedienpersonal und die Elektronik zur Kontrolle der Schwingungsfrequenz 3, 4 vor der Strahlung schützt. Im Inneren des Quarzoszillators 1 befinden sich der Schwingquarz 1a und die Steuerschaltung 1b. Eine weitere Abschirmung 5 schützt die Steuerschaltung vor der elektromagnetischen Strahlung. Nach dem Einschalten der Strahlungsquelle 6 kann am Frequenzzähler 3 die Abnahme der Arbeitsfrequenz gemessen werden. Sobald die gewünschte Nennfrequenz erreicht ist, wird die Strahlungsquelle 6 abgeschaltet.
  • Das Ergebnis des Verfahrens ist in 2 dargestellt. 2a zeigt dabei die Verteilung der gemessenen Arbeitsfrequenzen einer Vielzahl von temperaturkompensierten Quarzoszillatoren vom Typ IT7500 der Fa. Rakon. Erkennbar ist eine breite Verteilung um eine Mittelfrequenz f3. Nachdem jeder einzelne Quarzoszillator mit einer individuellen Strahlendosis aus einer 60Co-Quelle bestrahlt wurde, ergibt sich eine Verteilung der Arbeitsfrequenzen nach 2b. Die Abweichung der Quarzoszillatoren von der neuen Mittelfrequenz f0 beträgt nur mehr 0,01 ppm im Vergleich zu 5 ppm nach 2a. Die Einheit ppm bezeichnet dabei parts per million, also 1:106.
  • 3 zeigt dabei, wie sich die relative Frequenzabweichung mit der Bestrahlungszeit ändert. Erkennbar ist, dass nach Einschalten der Bestrahlungsquelle die Frequenzabweichung innerhalb weniger Sekunden um mehr als 4 ppm sinkt. Die Nennfrequenz wird schließlich mit einer Abweichung von ca. 0,01 ppm erreicht. Die in diesem Fall applizierte Dosis betrug 30 Gray. Da ein Teil der durch die Bestrahlung induzierten Frequenzänderung ausheilt, wird die Frequenz um etwa 10 % mehr als gewünscht geändert. Diese Ausheilung der Frequenzänderung geschieht innerhalb weniger Minuten nach dem Ende der Bestrahlung. Sofern eine Vielzahl Quarzoszillatoren mit gleichen Eigenschaften bestrahlt werden, tritt diese Ausheilung reproduzierbar auf. Sie muss daher nicht notwendiger Weise, wie in 3 dargestellt, überwacht werden. Vielmehr kann der Quarzoszillator sofort nach dem Ende der Bestrahlung weiter verarbeitet werden.
  • Eine weitere Verfahrensführung ist im Flussdiagramm nach 4 dargestellt. Demgemäß wird für eine Menge von n Schwingquarzen der Mittelwert f der Häufigkeitsverteilung der Arbeitsfrequenzen ermittelt. Im nächsten Arbeitsschritt wird eine Teilmenge m aus den n Schwingquarzen ausgewählt. Diese werden in eine Vorrichtung nach 1 eingeführt und entweder einzeln oder gemeinsam einer elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt. In diesem Ausführungsbeispiel wurde eine 60CO-Strahlungsquelle verwendet. Aus der Messung der eingestrahlten Dosis und der Arbeitsfrequenz nach der Bestrahlung lässt sich die Empfindlichkeit der Frequenzänderung Δf der Schwingquarze ermitteln. Dabei ergibt sich beispielsweise ein Messergebnis wie nach 7. Dargestellt ist für eine Teilmenge m = 6 die laufende Nummer des Oszillators und die Frequenzänderung in Hz/Gy. Es ergibt sich ein Mittelwert der Frequenzänderung Δf von –1,57 Hz/Gy bei einer Standardabweichung von 0,07. Dieses Ergebnis ist in 6 nochmals grafisch dargestellt.
  • Im letzten Verfahrensschritt wird aus der gewünschten
  • Frequenzänderung Δf = f – f0 die zu applizierende Dosis errechnet. Die verbleibenden (n – m) Schwingquarze werden sodann mit dieser Dosis bestrahlt. Dabei kann gemäß 5 die Bestrahlung ohne weitere Frequenzüberwachung erfolgen. Je nach technischen Möglichkeiten können dabei alle Schwingquarze auf einmal bestrahlt werden oder aber es wird sequenziell ein Quarz nach dem anderen bestrahlt.
  • Als Ergebnis der Bestrahlung hat sich der Mittelwert der Häufigkeitsverteilung der Frequenzen der Gesamtmenge von n Schwingquarzen vom Wert f zum Wert f0 verschoben. Die Breite der Häufigkeitsverteilung ist unverändert geblieben. Diese Verfahrensführung ist insbesondere vorteilhaft, wenn bereits eine Menge von gut selektierten Schwingquarzen zur Verfügung steht, jedoch die Arbeitsfrequenz dieser Schwingquarze nicht den Erfordernissen der geplanten Anwendung entspricht.

Claims (12)

  1. Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes, bei welchem der Schwingquarz mit einer elektromagnetischen Strahlung mit einer Wellenlänge von weniger als 2,5 nm beaufschlagt wird, dadurch gekennzeichnet, dass sich die Masse des Schwingquarzes durch die Bestrahlung nicht ändert.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Schwingquarz mit einer elektromagnetischen Strahlung mit einer Wellenlänge von weniger als 0,7 nm beaufschlagt wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass die elektromagnetische Strahlung eine Wellenlänge von mehr als 4 × 10–13 m aufweist.
  4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Arbeitsfrequenz durch die Beaufschlagung mit der elektromagnetischen Strahlung verringert wird.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass im Schwingquarz eine Dosis von 0,1 Gray bis 200 Gray, insbesondere von 1 Gray bis 30 Gray deponiert wird.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Bestrahlung zwischen 1/100 Sekunde und 10 Sekunden, insbesondere zwischen 1/10 Sekunden und 5 Sekunden andauert.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Schwingquarz vor der Bestrahlung in einen Quarzoszillator eingesetzt wird.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Quarzoszillator vor der Bestrahlung auf einem elektronischen Schaltungsträger verbaut wird.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Arbeitsfrequenz des Schwingquarzes oder des Quarzoszillators während der Beaufschlagung mit elektromagnetischer Strahlung fortlaufend gemessen wird und die Bestrahlung bei Erreichen eines vorgebbaren Wertes der Arbeitsfrequenz beendet wird.
  10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Arbeitsfrequenz nach der Beaufschlagung des Schwingquarzes mit elektromagnetischer Strahlung im Bereich von ± 10 ppb vom vorgebbaren Sollwert abweicht.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass eine Mehrzahl von Schwingquarzen oder Quarzoszillatoren gleichzeitig der elektromagnetischen Strahlung ausgesetzt wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass vor der Bestrahlung der Mehrzahl von Schwingquarzen oder Quarzoszillatoren die Strahlungsdosis dadurch bestimmt wird, dass eine Teilmenge der zu bestrahlenden Schwingquarze oder Quarzoszillatoren ausgewählt wird, diese mit einer vorgebbaren Dosis bestrahlt wird und die Frequenzänderung in Abhängigkeit der applizierten Dosis bestimmt wird.
DE102005054745A 2005-11-17 2005-11-17 Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes Expired - Lifetime DE102005054745B4 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005054745A DE102005054745B4 (de) 2005-11-17 2005-11-17 Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes
PCT/EP2006/010224 WO2007057086A1 (de) 2005-11-17 2006-10-24 Verfahren zur beeinflussung der arbeitsfrequenz eines schwingquarzes

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005054745A DE102005054745B4 (de) 2005-11-17 2005-11-17 Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE102005054745A1 DE102005054745A1 (de) 2007-05-24
DE102005054745B4 true DE102005054745B4 (de) 2007-11-29

Family

ID=37671009

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102005054745A Expired - Lifetime DE102005054745B4 (de) 2005-11-17 2005-11-17 Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102005054745B4 (de)
WO (1) WO2007057086A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2010032085A1 (en) * 2008-09-19 2010-03-25 Remko Arentz Method for growing synthetic crystals
DE102021208363B4 (de) 2021-08-02 2022-10-06 iSyst Intelligente Systeme GmbH Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung einer Kenngröße für elektronische Bauteile

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4107349A (en) * 1977-08-12 1978-08-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of adjusting the frequency of piezoelectric resonators
JPH05160661A (ja) * 1991-12-03 1993-06-25 Yoshiaki Saito 粒子線照射による水晶振動子の周波数トリミング法
US5512863A (en) * 1985-08-12 1996-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of minimizing the aging and radiation induced frequency shifts of quartz oscillators
US6771135B2 (en) * 2002-02-20 2004-08-03 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Temperature-compensated crystal oscillator

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55134519A (en) * 1979-04-06 1980-10-20 Citizen Watch Co Ltd Frequency adjusting method for crystal vibrator
JP2005223893A (ja) * 2004-01-06 2005-08-18 Seiko Epson Corp 圧電振動子の周波数調整方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4107349A (en) * 1977-08-12 1978-08-15 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of adjusting the frequency of piezoelectric resonators
US5512863A (en) * 1985-08-12 1996-04-30 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Army Method of minimizing the aging and radiation induced frequency shifts of quartz oscillators
JPH05160661A (ja) * 1991-12-03 1993-06-25 Yoshiaki Saito 粒子線照射による水晶振動子の周波数トリミング法
US6771135B2 (en) * 2002-02-20 2004-08-03 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Temperature-compensated crystal oscillator

Also Published As

Publication number Publication date
WO2007057086A1 (de) 2007-05-24
DE102005054745A1 (de) 2007-05-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69027561T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Hemmung der Bildung von übermässiger Strahlung
DE69708524T2 (de) Virtueller Kompensator
DE10109193B4 (de) Beschleuniger, medizinisches System und Verfahren zum Betreiben desselben
DE19725168C2 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Überwachen einer Kontamination bei einem Ionenimplantationsprozess
DE19510267A1 (de) Datenreduktionssystem für die Echtzeit-Überwachung einer Einrichtung zur Erzeugung von Strahlung
DE69633486T2 (de) System und Methode zur Steuerung der emittierten Strahlen in einer Strahlenvorrichtung
DE19927743B4 (de) Verfahren und System zum Steuern der von einem strahlungsabgebenden System abgegebenen Strahlung während einer Bestrahlungsbehandlung
CH659150A5 (de) Verfahren und anlage zum gleichmaessigen akkumulierten bestrahlen einer ebenen oberflaeche mit einem strahl geladener teilchen.
DE102013200021A1 (de) Verfahren zur Kalibrierung eines zählenden digitalen Röntgendetektors, Röntgensysteme zur Durchführung eines solchen Verfahrens und Verfahren zur Aufnahme eines Röntgenbildes
DE102015202999A1 (de) Automatisierte Justierung von Signalanalyseparametern für Röntgendetektoren
DE2062633C3 (de) Röntgenbelichtungsautomat
DE102005054745B4 (de) Verfahren zur Beeinflussung der Arbeitsfrequenz eines Schwingquarzes
DE102004001185A1 (de) Verfahren zur Einstellung der Strahlungsemissionsrate einer Strahlungsquelle
EP2820448A1 (de) Verfahren zur detektion von strahlung und untersuchungseinrichtung zur strahlungsbasierten untersuchung einer probe
DE102011079179A1 (de) Monochromatische Röntgenquelle
WO2022179665A1 (de) Transmissionsionisationskammer für den ultrahochdosisbereich und zugehöriges verfahren zur herstellung sowie nutzung
DE2411841B2 (de) Auger-Elektronenspektrometer
EP0340866B1 (de) Anordnung zur Erzeugung von Röntgenaufnahmen mittels eines Photoleiters
DE3936716C2 (de) Vorrichtung zur Beeinflussung von Material durch gepulste Lichteinstrahlung sowie Verwendung hierzu
DE3702914A1 (de) Verfahren zur herstellung von roentgenaufnahmen
DE19758512C2 (de) Ionenmobilitätsspektrometer
DE1950938B2 (de) Massenspektrograph
DE68911779T2 (de) Elektronensynchrotronbeschleunigungsanlage.
DE2854909A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur fotoionisation
DE1931099B2 (de) Verfahren und vorrichtung zur modulation oder stabilisierung eines von einem ionenbeschleuniger erzeugten neutronenflusses

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8364 No opposition during term of opposition
R071 Expiry of right