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Die
Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement und eine Halbleiterbaugruppe
mit Halbbrückenkonfiguration.
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Derartige
Halbleiterbauelemente bzw. mit solchen Halbleiterbauelementen realisierte
Halbleiterbaugruppen werden beispielsweise eingesetzt, wenn hohe
Ströme
zu steuern, zu regeln oder vor allem zu schalten sind. Zur Minimierung
von Schaltverlusten werden dabei häufig schnell schaltende Halbleiterelemente
wie IGBTs, MOSFETs oder schnelle Dioden eingesetzt. Der Betrag der
dabei vorkommenden differentiellen Änderung des Stromes über der
Zeit kann sehr hohe Werte annehmen. Da die in einem Leiter induzierte
elektrische Spannung proportional zu dem Produkt aus dessen Induktivität und der
zeitlichen Änderung
des ihn durchfließenden
Stromes ist, kann die in dem Leiter induzierte elektrische Spannung
hohe Werte annehmen.
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In
der Praxis treten dabei Spannungsspitzen auf, die die Halbleiterbauelemente
belasten und gegebenenfalls sogar zerstören können.
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Daher
wird bei derartigen Halbleiterbauelementen generell versucht, ihren
Aufbau so zu gestalten, dass solche Spannungsspitzen möglichst
gering gehalten werden.
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Aus
der
EP 0 277 546 A1 ist
eine Halbleiteranordnung mit zwei Anschlussleitern bekannt, bei
der ein induktivitätsarmer
Aufbau dadurch erreicht wird, dass die Anschlussleiter dicht beieinander
und wenigstens teilweise parallel zueinander angeordnet sind. Die
Schaltungsanordnung ist allerdings noch nicht optimiert im Hinblick
auf die in der Praxis verwendete Konfiguration einer Halbbrücke.
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Schaltungsanordnungen
gemäss
der
EP 0 277 546 A1 werden
häufig
beispielsweise zu Halb- oder Vollbrückenmodulen kombiniert, um
hohe Lasten wie zum Beispiel Motoren, Wechselrichter oder dergleichen anzusteuern.
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Durch
die Verschaltung von zwei oder mehreren derartigen Halbleiteranordnungen
entstehen weitere parasitäre
Induktivitäten
(Streuinduktivitäten),
die ebenfalls unerwünschte
Spannungsspitzen zur Folge haben können.
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Es
ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Halbleiterbauelement
und eine Halbleiterbaugruppe der eingangs genannten Art vorzustellen,
deren Aufbau eine gegenüber
dem Stand der Technik reduzierte Streuinduktivität aufweist.
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Diese
Aufgabe wird erfindungsgemäß durch
ein Halbleiterbauelement mit den Merkmalen des Anspruchs 1 und durch
eine Halbleiterbaugruppe mit den Merkmalen des Anspruchs 9 gelöst. Ausgestaltungen und
Weiterbildungen des Erfindungsgedankens sind Gegenstand von Unteransprüchen.
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Das
erfindungsgemäße Halbleiterbauelement
weist zwei zu einer Halbbrücke
miteinander verschaltete Elemente sowie eine erste, eine zweite
und eine dritte Anschlusslasche auf, wobei jedes der Elemente der Halbbrücke wenigstens
ein, bevorzugt steuerbares, Halbleiterelement umfasst. Die Fußpunkte
der Anschlusslaschen sind so angeordnet, dass die Strompfade des
Stromes vom Fußpunkt
der ersten zur dritten Anschlusslasche möglichst parallel zum Strompfad
des Stromes vom Fußpunkt
der zweiten zur dritten Anschlusslasche verläuft und bevorzugt ihre Richtungen
um nicht mehr als um 20° voneinander
abweichen. Eine derartige Anordnung bewirkt, dass sich in einem
für eine
Halbbrücke
typischen Umschaltvorgang die Stromrichtung kaum ändert und
dadurch die Änderung
des magnetischen Feldes in der Umgebung der Schaltungsanordnung
beim Umschalten minimiert wird. Der geometrische Bereich, in dem
es zu nennenswerten Änderungen
des Magnetfeldes kommt, wird durch die erfindungsgemäße Anordnung
auf das Innere der Schaltungsanordnung reduziert. Damit reduziert
sich auch die beim Umschaltvorgang wirksame Streuinduktivität des Aufbaus
und somit des gesamten Halbleiterbauelements.
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Eine
weitere Reduzierung der Streuinduktivität kann dadurch erreicht werden,
dass der Abstand zwischen dem Strompfad von der ersten zur dritten
Anschlusslasche zu dem Strompfad von der dritten zur zweiten Anschlusslasche
so gering wie möglich
gehalten wird. Dabei ist darauf zu achten, dass der für eine ausreichende
Isolationssicherheit erforderliche Abstand nicht unterschritten
wird.
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Die
bisherigen Betrachtungen sind in der Praxis vor allem für die Ebene
des Substrats relevant. Darüber
hinaus werden derartige Halbleiterbauelemente unter Verwendung von
Anschlusslaschen nach außen kontaktiert.
Die Anschlusslaschen erheben sich normalerweise deutlich über die
Ebene des Substrats. Da auch sie einen nicht unerheblichen Beitrag
zur Gesamtinduktivität
des Halbleiterbauelements leisten, ist eine vorteilhafte Positionierung
der Anschlusslaschen entscheidend, wenn möglichst geringe Streuinduktivitäten erreicht
werden sollen.
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Dies
gilt insbesondere für
die erste und zweite Anschlusslasche, die zum Anschluss der Spannungsversorgung
vorgesehen sind. Um eine möglichst
geringe Gesamt-Streuinduktivität
zu erzielen ist es vorteilhaft, wenn die erste und die zweite Anschlusslasche
wenigstens abschnittweise parallel und in geringem Abstand zueinander
angeordnet sind. Des weiteren kann durch eine flächige Ausgestaltung der Anschlusslaschen ebenfalls
eine Reduzierung der Streuinduktivität eines Halbleiterbauelementes
oder einer Halbleiterbaugruppe erreicht werden.
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Bei
einer bevorzugten Ausführungsform
umfasst die erste Anschlusslasche die zweite Anschlusslasche wenigstens
abschnittweise in einem Winkel von wenigstens 180°.
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Besonders
bevorzugt sind dabei die erste und die zweite Anschlusslasche wenigstens
abschnittweise zumindest annähernd
koaxial zueinander angeordnet.
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Die
in dem Halbleiterbauelement verwendeten Halbleiterelemente sind
prinzipiell beliebig. Bevorzugt werden jedoch schnell schaltende,
hochspannungsfeste und steuerbare Halbleiterbauelemente wie beispielsweise
IGBTs oder MOSFETs eingesetzt.
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Das
erfindungsgemäße Halbleiterbauelement
kann neben Halbleiterelementen noch weitere aktive oder passive
elektronische Komponenten aufweisen. Besonders wenn mit derartigen
Halbleiterbauelementen induktive Lasten geschaltet werden ist es
von Vorteil, die relevanten Elemente der Halbbrücke eines Halbleiterbauelements
mit Dioden oder anderen Freilauf-Bauelementen
zu versehen, die die Halbleiterbauelemente gegen lastseitige Induktionsspannungen
schützt,
indem sie als Freilaufdioden bzw. als Bauelemente wirken, die einen
Freilaufbetrieb zulassen.
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Bei
einer weiteren Variante des erfindungsgemäßen Halbleiterbauelements ist
ein Teil der dritten Anschlusslasche sandwichartig zwischen dem
ersten und dem zweiten Halbleiterelement angeordnet. Auf diese Weise
wird die für
eine Verbindung des ersten Elements der Halbbrücke mit dem zweiten Element
der Halbbrücke
eines Halbleiterbauelements erforderliche Verbindungsleitung hinsichtlich
ihrer Abmessung minimiert. Diese Verbindungsleitung besteht in dem
für den
sandwichartigen Aufbau verwendeten Teil der dritten Anschlusslasche.
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Dabei
ist bevorzugt die dritte Anschlusslasche unmittelbar mit dem ersten
und dem zweiten Halbleiterelement elektrisch leitend verbunden.
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Um
bestimmte Komponenten des Halbleiterbauelements elektrisch miteinander
zu verbinden, ist das Substrat mit Leiterbahnen versehen. Die Leiterbahnen
können
sowohl eine länglich
gestreckte als auch ein flächige
Form aufweisen.
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Bei
einem erfindungsgemäßen Halbleiterbauelement
sind wenigstens zwei Elemente einer Halbbrücke zu einer Einheit zusammengefasst.
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Um
eine höhere
Stromtragfähigkeit
zu erzielen fist es vorteilhaft, zwei oder mehrere Halbleiterelemente
und/oder Halbleiterbauelemente auf einem gemeinsamen Träger anzuordnen
und elektrisch parallel zu verschalten. Um die durch die Anordnung
von zwei oder mehreren Halbleiterbauelementen auf dem gemeinsamen
Träger
entstehenden parasitären
Induktivitäten
möglichst
gering zu halten, kann es von Vorteil sein, bestimmte Design Regeln
bei der Anwendung der Halbleiterbauelemente zu berücksichtigen.
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Für bestimmte
Konfigurationen ist es vorteilhaft, wenn zumindest die erste und
zweite Anschlusslasche eines Halbleiterbauelements an dessen Rand
angeordnet ist. Dadurch entsteht die Möglichkeit, zwei derartige Halbleiterbauelemente
so nebeneinander anzuordnen, dass ihre ersten und zweiten Anschlusslaschen nahe
beieinander liegen und so eine Vierergruppe bilden. Besonders vorteilhaft
ist es dabei, wenn die Anschlusslaschen dieser Vierergruppe wenigstens
abschnittweise zueinander parallel verlaufen.
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Ein
weiterer Vorteil hinsichtlich der Vermeidung parasitärer Induktivitäten ergibt
sich, wenn das Paar aus den ersten Anschlusslaschen und das Paar
aus den zweiten Anschlusslaschen über Kreuz angeordnet sind.
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Um
die Stromtragfähigkeit
einer erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe
zu erhöhen,
können
zwei oder mehrere Halbleiterbauelemente elektrisch parallel geschaltet
werden. Ebenso ist es möglich,
zwei oder mehrere Halbleiterbauelemente einer Halbleiterbaugruppe
elektrisch in Reihe zu schalten. Zur Herstel lung der elektrischen
Verbindungen zwischen miteinander verschalteten Halbleiterbauelementen
eignen sich metallische Leiterschienen, die jeweils die miteinander
zu verbindenden Anschlüsse
der Halbleiterbauelemente verbinden. Im Falle einer Parallelschaltung
werden von den betreffenden Halbleiterbauelementen jeweils die ersten,
zweiten und dritten Anschlusslaschen durch Leiterschienen miteinander
verbunden.
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Durch
die Leiterschienen entstehen auf der erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe
ebenfalls parasitäre
Induktivitäten.
Diese können
dadurch minimiert werden, dass wenigsten die erste und die zweite
Leiterschiene im geringen Abstand zueinander parallel verlaufen.
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Besonders
bevorzugt ist eine Anordnung, bei der die dritte Leiterschiene parallel
zur ersten und zweiten Leiterschiene verläuft, und bei der das Halbleiterelement
zwischen der dritten Leiterschiene und dem Paar aus der ersten und
zweiten Leiterschiene angeordnet ist, wobei die dritte Leiterschiene
bevorzugt den Lastanschluss der Halbleiterbaugruppe darstellt.
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Nachfolgend
wird die Erfindung anhand von Ausführungsbeispielen dargestellt
und in Zeichnungen näher
beschrieben.
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Es
zeigen:
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1 ein
Ersatzschaltbild für
eine Halbbrücke
mit Ersatz-Induktivitäten,
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2 ein
erfindungsgemäßes Halbleiterbauelement
mit zwei Elementen einer Halbbrücke
in Draufsicht,
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3a zwei
parallel zueinander verlaufende Anschlusslaschen für die Spannungsversorgung
eines erfindungsgemäßen Halbleiterbauelements
in Draufsicht,
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3b die
parallel zueinander verlaufenden Anschlusslaschen für die Spannungsversorgung
gemäß 3a im
Querschnitt,
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4 das
erfindungsgemäße Halbleiterbauelement
gemäß 2,
bei dem die Bonddrähte,
welche die Halbleiterbauelemente und die Freilaufdiode miteinander
sowie mit der Peripherie verbinden, in stark unterschiedlichen Richtungen
verlaufen in Draufsicht,
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5 eine
erfindungsgemäße Halbleiterbaugruppe
mit zwei auf einem gemeinsamen Träger angeordneten Halbleiterbauelementen
in Draufsicht, wobei die jeweils ersten und die jeweils zweiten
Anschlusslaschen über
Kreuz angeordnet sind,
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6 ein
erfindungsgemäßes Halbleiterbauelement,
bei dem ein Teil der dritten Anschlusslasche sandwichartig zwischen
zwei Halbleiterelementen angeordnet ist in perpektivischer Ansicht,
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7 einen
Abschnitt einer erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe
mit parallel angeordneten Schienen in Schrägsicht,
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8 einen
Vertikalschnitt durch die Halbleiterbaugruppe gemäß 7,
und
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9 eine
Draufsicht auf den Ausschnitt der erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe gemäß den 7 und 8.
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In
den Figuren bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche Teile mit gleicher
Bedeutung.
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1 zeigt
das Schaltbild eines Halbleiterbauelements, das als Halbbrücke H ausgebildet
ist. Die Halbbrücke
H umfasst ein oberes Element 10 (Highside) und ein unteres
Element 20 (Lowside). Jedes der Elemente 10, 20 der
Halbbrücke
H umfasst im wesentlichen ein Halbleiterelement 10a bzw. 20a.
Die beiden Halbleiterelemente 10a, 20a der Halbbrücke H sind
in Reihe geschaltet und beispielsweise als IGBTs oder MOSFETS ausgebildet.
Bevorzugt weisen die Halbleiterelemente 10a, 20a Steueranschlüsse 10g, 20g auf,
mittels derer sie so angesteuert werden, dass eines der Halbleiterelemente 10a, 20a leitet,
während
das jeweils andere Halbleiterelement 20a, 10a sperrt.
Beim Umschalten zwischen diesen beiden Zuständen kommt es an dem Punkt
W, an dem die beiden Halbleiterelemente 10a, 20a zusammengeschlossen
sind, zu einem Potentialwechsel. Dieser Punkt W wird deshalb auch
als Punkt wechselnden Potentials bezeichnet.
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Zu
jeder der Laststrecken der Halbleiterelemente 10a, 20a ist
jeweils eine Freilaufdiode 10d bzw. 20d parallel
und in Bezug auf die Polarität
der an der Halbbrücke
anliegenden Versorgungsspannung in Sperrrichtung geschaltet.
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Der
Punkt wechselnden Potentials W ist bevorzugt in oder zumindest nahe
der Ebene angeordnet, in der sich auch die Halbleiterelemente 10a, 20a und/oder
die Freilaufdioden 10d, 20d befinden.
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Des
weiteren ist ein Lastanschluss L zum Anschluss einer externen Last
elektrisch leitend mit dem Punkt wechselnden Potentials verbunden.
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Alle
Anschluss- und Verbindungsleitungen einer elektrischen Schaltung
weisen parasitäre
Induktivitäten
auf, die besonders dann unerwünscht
sind, wenn über
diese Leitungen schnell wechselnde Ströme fließen, da hierdurch hohe Induktionsspannungen
erzeugt werden, die Halbleiterelemente 10a, 20a, 10d, 20d oder
andere Bauteile des Halbleiterbauelements belasten, beschädigen oder
zerstören
können.
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Die
den Anschluss- bzw. Verbindungsleitungen der Schaltung innewohnenden
parasitären
Induktivitäten
sind symbolisch jeweils durch Ersatz-Induktivitäten L1 bis L5 dargestellt.
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2 zeigt
ein erfindungsgemäßes Halbleiterbauelement,
das eine Halbbrücke
aufweist, in Draufsicht. Das Halbleiterbauelement weist eine Halbbrücke mit
einem ersten und einem zweiten Element 10, 20 auf,
die gemäß der in 1 gezeigten
Schaltung miteinander verschaltet sind. Das erste Element 10 umfasst ein
beispielsweise als IGBT ausgebildetes Halbleiterelement 10a und
eine Freilaufdiode 10d. Entsprechend umfasst das zweite
Element 20 ein beispielsweise als IGBT ausgebildetes Halbleiterelement 20a und
eine Freilaufdiode 20d.
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Des
Weiteren sind zur äußeren Kontaktierung
des Halbleiterbauelements Steueranschlüsse 10g, 20g, Hilfskollektoranschlüsse 10c, 20c sowie
Hilfsemitteranschlüsse 10e, 20e vorgesehen.
Elektrische Verbindungen zwischen diesen Elementen werden durch
Leiterbahnen 10f, 20f sowie durch Bonddrähte 10b, 20b realisiert.
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All
diese Komponenten sind auf einem Leiterbahnen 10f, 20f, 15 aufweisenden
Substrat 5 angeordnet und bilden zusammen mit diesem das
Halbleiterbauelement.
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Zur äußeren Kontaktierung
des Halbleiterbauelements sind eine erste 1, eine zweite 2 und
eine dritte 3 Anschlusslasche vorgesehen. Alle drei Anschlusslaschen 1, 2, 3 sind
bevorzugt flächig
aufgebaut und jeweils mit einer der Leiterbahnen 10f, 20f, 15 kontaktiert.
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Die
erste und zweite Anschlusslasche 1, 2 dienen zur
Spannungsversorgung des Halbleiterbauelements. Dabei ist die erste
Anschlusslasche 1 mit dem Pluspol "+" und
die zweite Anschlusslasche 2 mit dem Minus-Pol "–" einer externen, an der Halbbrücke anliegenden
Spannungsversorgung verbunden. Die dritte Anschlusslasche 3 ist
zum Anschluss einer externen Last vorgesehen.
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Jede
der ersten, zweiten bzw. dritten Anschlusslasche 1, 2 bzw. 3 weist
einen dem Substrat 5 zugewandten Fußpunkt 1f, 2f bzw. 3f auf,
an dem die Anschlusslasche 1, 2, 3 mit
einer der Leiterbahnen 10f, 20f, 15 kontaktiert
ist.
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In
einem üblichen
Betriebszustand weist eine derartige Halbbrücke zwei Schaltzustände auf,
in denen jeweils eines der beiden Halbleiterelemente auf gesteuert
ist, während
das andere sperrt.
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Sperrt
beispielsweise das Halbleiterelement 20a in dem einen Schaltzustand,
so kommt es bei einem aufgesteuerten Halbleiterelement 10a – eine an
die dritte Anschlusslasche 3 angeschlossene Last vorausgesetzt – zu einem
Laststrom zwischen dem Fußpunkt 1f der
ersten Anschlusslasche 1 und dem Fußpunkt 3f der dritten
Anschlusslasche 3.
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Besondere
Aufmerksamkeit ist dabei Umschaltvorgängen bei einem Halbleiterelement 10a, 20a entgegenzubringen,
insbesondere, wenn ein aufgesteuertes und von einem Laststrom durchflossenes
Halbleiterelement abgeschaltet wird. Dies wird im folgenden beispielhaft
an dem Halbleiterelement 10a erläutert.
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Ausgangssituation
der Betrachtung ist das Halbleiterelement 10a, wobei an
der dritten Anschlusslasche 3 der Halbbrücke eine
Last angeschlossen ist. Die Laststrecke des Halbleiterelementes 10a ist
aufgesteuert, so dass der Laststrom einem Strompfad vom Fußpunkt 1f der
ersten Anschlusslasche 1 über die Laststrecke zum Fußpunkt 3f der
dritten Anschlusslasche 3 folgt, woraus sich eine Hauptstromrichtung
I13 ergibt, die durch die Fußpunkte
der ersten 1 und dritten 3 Anschlusslasche bestimmt
ist.
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Nach
dem Abschalten des Halbleiterelementes 10a stellt sich
durch Kommutierung ein Laststrom mit einem Strompfad ein, der ausgehendend
vom Fußpunkt 2f der
zweiten Anschlusslasche 2 über die Freilaufdiode 20d zum
Fußpunkt 3f der
dritten Anschlusslasche 3 verläuft, woraus sich eine Hauptstromrichtung
I23 ergibt, die durch die Fußpunkte
der zweiten 2 und dritten 3 Anschlusslasche bestimmt
ist.
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Um
die in dem Halbleiterbauelement im Moment der Kommutierung wirkenden
parasitären
Induktivitäten
möglichst
gering zu halten, müssen
die beiden Strompfade I13 und I23 möglichst parallel und in einem möglichst
geringen Abstand zueinander verlaufen. Hierbei ist zu beachten,
dass der zur Aufrechterhaltung der Isolation erforderliche Abstand
nicht unterschritten wird. Besonders bei kleinen Abständen kann
die Isolationsfestigkeit durch das Einbringen einer geeigneten Dielektrikums,
beispielsweise einer Vergussmasse, in den zwischen den voneinander
zu isolierenden Komponenten befindlichen Zwischenraum erhöht werden.
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Um
einen möglichst
parallelen Verlauf der Strompfade I13 und I23 zu erreichen, ist
erfindungsgemäß vorgesehen,
dass die Verbindungslinie zwischen den Flächenschwerpunkten 1m und 3m der
Fußpunkte 1f und 3f der
ersten bzw. dritten Anschlusslasche 1 und 3 mit
der Verbindungslinie zwischen den Flächenschwerpunkten 2m und 3m der
Fußpunkte 2f und 3f der
zweiten und dritten Anschlusslasche 2 bzw. 3 einen
Winkel α von
maximal 20° einschließt.
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Dabei
wird unter dem Begriff Flächenschwerpunkt
einer Fläche
F(x,y) der Punkt mit den Koordinaten (xs, ys) verstanden, für die gilt:
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Bei
der Berechnung des Flächenschwerpunktes
(xs, ys) des Fußpunktes 1f, 2f, 3f einer
Anschlusslasche 1, 2, 3 wird dabei die
Fläche
F(x,y) zugrunde gelegt, mit der der betreffende Fußpunkt 1f, 2f, 3f mit
seiner jeweiligen Leiterbahn 10f, 20f bzw. 15 elektrisch
leitend kontaktiert ist.
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Des
weiteren ist es vorteilhaft, wenn die Verbindungslinie der Flächenschwerpunkte 4m, 5m des
Halbleiterelementes 10a und der Freilaufdiode 10d mit
der Verbindungslinie der Flächenschwerpunkte 6m, 7m des Halbleiterelementes 20a und
der Freilaufdiode 20d einen Winkel β von maximal 20° einschließt.
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Entsprechend
der Berechnung des Flächenschwerpunktes
der Fußpunkte 1f, 2f, 3f wird
bei der Berechnung der Flächenschwerpunkte 4m, 5m, 6m, 7m der
Halbleiterelemente 10a, 10d, 20a, 20d die
Fläche F(x,y)
zugrunde gelegt, mit der das betreffende Halbleiterelement 10a, 10d, 20a, 20d mit
seiner jeweiligen Leiterbahn 10f, 10f, 15w bzw. 15w elektrisch
leitend kontaktiert ist.
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Analog
zu diesen Überlegungen
sind die für
die Spannungsversorgung vorgesehenen Anschlusslaschen 1, 2 in
einem möglichst
geringen Abstand, der bevorzugt weniger als 3,0 mm beträgt, und
parallel zueinander angeordnet.
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Eine
weitere Verringerung der parasitären
Induktivitäten
kann dadurch erreicht werden, dass der Punkt W des wechselnden Potentials,
der in diesem Ausführungsbeispiel
auf der Leiterbahn 15 lokalisiert ist, möglichst
in derselben Ebene wie die Halbleiterelemente 10a, 20a oder
zumindest in nur geringem Abstand von dieser Ebene angeordnet ist.
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Eine
bevorzugte Ausführungsform
betreffend die relative Anordnung von der ersten zur zweiten Anschlusslasche 1, 2 ist
in den 3a und 3b dargestellt. 3a zeigt
eine Draufsicht auf den relevanten Abschnitt eines Halbleiterbau elements,
während 3b einen
Vertikalschnitt durch denselben Abschnitt darstellt.
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Die
erste bzw. zweite Anschlusslasche 1 bzw. 2 sind
mit ihren Fußpunkten 1f bzw. 2f mit
Leiterbahnen 10f bzw. 20f kontaktiert, die auf
einem Träger 5 angeordnet
sind. Beide Anschlusslaschen 1, 2 verlaufen abgesehen
von ihren dem Substrat 5 zugewandten Fußpunkten 1f, 2f parallel
und näherungsweise
koaxial. Dabei umschließt
die erste Anschlusslasche 1 die zweite Anschlusslasche
(2) in einem Winkel von mehr als 180°.
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Eine
weitere Maßnahme
zur Verringerung der Gesamtinduktivität eines Halbleiterbauelements
ist in dem Halbleiterbauelement gemäß 4 gezeigt.
Der Grundaufbau dieses Halbleiterbauelements entspricht dem Halbleiterbauelement
gemäß 2.
Der wesentliche Unterschied zu diesem besteht in der flächigeren Bondung
der Halbleiterelemente 10a, 20a und der Freilaufdioden 10d, 20d.
Dies wird dadurch erreicht, dass sich die Bonddrähte 10b, 20b nicht
in einer Vorzugsrichtung erstrecken, sondern verschiedene, möglichst gleich
verteilte Richtungen aufweisen. Um dies zu verdeutlichen, wurden
gegenüber
dem Halbleiterbauelement gemäß 2 weitere
Bonddrähte 10h, 20h hinzugefügt, die
sich in einer deutlich anderen Richtung erstrecken als die Bonddrähte 10b, 20b.
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In
bestimmten Anwendungsfällen
ist es vorteilhaft, zwei oder mehrere Halbleiterelemente auf einem Substrat
so anzuordnen, dass eine erfindungsgemäße Halbleiterbaugruppe entsteht.
Auf diese Weise können komplexe
Schaltungsstrukturen realisiert werden. Insbesondere ist eine Erhöhung der
Stromtragfähigkeit durch
Parallelschalten zweier oder mehrerer Halbleiterbauelemente möglich.
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Der
Ausschnitt einer derartigen Halbleiterbaugruppe ist in 5 dargestellt.
Auf einem gemeinsamen Substrat 5 sind zwei Halbleiterbauelemente 100a und 100b angeordnet.
Ihr Auf bau kann beispielsweise dem in den 2 oder 4 gezeigten
Aufbau und ihre elektrische Verschaltung der in 1 gezeigten
Schaltung entsprechen. Aus Gründen
der Übersichtlichkeit
sind lediglich die ersten 1a, 1b, die zweiten 2a, 2b und
die dritten 3a, 3b Anschlusslaschen der Halbleiterelemente 100a, 100b dargestellt.
Außerdem
sind noch Leiterbahnen in Form von Metallisierungen des Substrates 5 schematisch
angedeutet, wobei die zur Isolation zwischen verschiedenen Leiterbahnen
erforderlichen Abstände
nicht dargestellt sind.
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Die
Halbleiterbauelemente 100a, 100b sind so nebeneinander
auf dem gemeinsamen Substrat 5 angeordnet, dass ihre ersten 1a, 1b und
ihre zweiten 2a, 2b Anschlusslaschen jeweils nahe
des dem anderen Halbleiterelement 100b, 100a zugewandten
Rand des Halbleiterbauelements 100a, 100b positioniert
sind. Dadurch bilden die ersten und zweiten Anschlusslaschen 1a, 1b, 2a, 2b eine
Vierergruppe. Außerdem
verlaufen die Anschlusslaschen 1a, 1b, 2a, 2b der
Vierergruppe größtenteils
parallel. Ihr Abstand ist sehr gering, wobei der zur Aufrechterhaltung
der Isolationsfestigkeit erforderliche Mindestabstand nicht unterschritten
werden darf.
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Besonders
vorteilhaft ist es, wenn die über
Kreuz angeordneten ersten und zweiten Anschlusslaschen 1a, 1b, 2a, 2b dieser
Vierergruppe jeweils dieselbe Polarität aufweisen. In diesem Fall
kompensieren sich die durch die zeitliche Veränderung der Lastströme hervorgerufenen Änderungen
des magnetischen Feldes wenigstens teilweise.
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Ein
bevorzugtes Ausführungsbeispiel
eines eine Halbbrücke
umfassenden Halbleiterbauelements zeigt 6 in perspektivischer
Ansicht. Auf einem Substrat 5 sind voneinander unabhängige Leiterbahnen 10f, 20f, 15 angeordnet.
Die Leiterbahnen 10f, 20f, 15 sind flächig ausgebildet.
Alle drei Anschlusslaschen 1, 2, 3 sind
ebenfalls flächig
ausgebildet und verlaufen im wesentlichen parallel. Jede Anschlusslasche 1, 2 bzw. 3 weist
auf ihrer dem Substrat 5 zugewandten Seite einen Fuß punkt 1f, 2f bzw. 3f auf,
der mit genau einer der Leiterflächen 10f, 20f bzw. 15 elektrisch
kontaktiert ist. Die erste und die zweite Anschlusslasche 1, 2 sind
zum Anschluss einer externen Spannungsversorgung vorgesehen. Um
ihre Induktivität
so gering wie möglich
zu halten, ist ihr Abstand so gering wie möglich gewählt, ohne den für eine ausreichende
Isolationsfestigkeit erforderlichen Mindestabstand zu unterschreiten.
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Ein
Abschnitt bzw. ein Ende der dritten Anschlusslasche 3 ist
sandwichartig zwischen zwei Halbleiterelementen 10a, 20a angeordnet.
Beide Halbleiterelemente 10a, 20a sind flächig ausgebildet.
Das Halbleiterelement 20a des unteren Elementes (Lowside)
der Halbbrücke
ist auf seiner dem Substrat abgewandten Seite mit der zweiten Anschlusslasche 2 elektrisch
leitend kontaktiert. Das Halbleiterelement 10a ist dem
oberen Element (Highside) der Halbbrücke zugeordnet und auf seiner
dem Substrat zugewandten Seite über
die Leiterbahn 10f mittelbar mit dem Fußpunkt 1f der ersten
Anschlusslasche 1 elektrisch leitend kontaktiert. Ein Ende der
dritten Anschlusslasche 3 ist zum Anschluss einer externen
Last vorgesehenen.
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Die
besonders geringe Gesamtinduktivität dieses Halbleiterbauelements
beruht insbesondere auf der geringen Länge der Verbindungsleitung
zwischen den Halbleiterelementen 10a und 20a.
Die Induktivität
dieser Verbindungsleitung entspricht der Summe der Ersatz-Induktivitäten L2 und
L3 aus 1 und kann bei dieser Schaltungsanordnung vernachlässigt werden.
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Bei
dieser Art des Aufbaus muss ein Großteil der in den Halbleiterelementen 10a, 20a anfallenden Wärme über die
Anschlusslaschen 2 bzw. 3 abgeleitet werden. Diese
sind daher thermisch gut leitend ausgebildet und stehen sowohl mit
den jeweiligen Metallisierungen 20f bzw. 15 als
auch mit den Halbleiterelementen 20a bzw. 20a und 10a in
gutem thermischem Kontakt.
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Des
weiteren sind auch bei diesem Ausführungsbeispiel die zur Spannungsversorgung
vorgesehenen Anschlussleitungen 1 und 2 in geringem
Abstand voneinander angeordnet.
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Meist
ist es bei einer Halbleiterbaugruppe erforderlich, bestimmte Anschlüsse einzelner
Halbleiterbauelemente mit Anschlüssen
anderer Halbleiterbauelemente oder mit sonstigen zur selben Halbleiterbaugruppe gehörenden elektronischen
Bauteilen elektrisch zu kontaktieren. Besonders einfach kann dies
unter Verwendung von Leiterschienen realisiert werden. Ein Ausführungsbeispiel
hierfür
zeigt 7. Ein Träger 6 weist
bereichsweise Metallisierungen 21, 23 auf und
kann beispielsweise als DCB-Substrat (DCB = Direct Copper Bonding)
ausgebildet sein. Der Träger 6 kann
mit dem Substrat 5 gemäß den 2 bis 4 identisch
sein. Die Metallisierungen 21, 23 dienen zum einen
der mechanischen Befestigung und zum anderen der elektrischen Kontaktierung
elektrischer und/oder mechanischen Komponenten beispielsweise durch
Anlöten
oder Anschweißen.
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Die
in 7 gezeigt Anordnung stellt einen Abschnitt einer
erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe dar
und weist eine erste 11, eine zweite 12 und eine
dritte 13 Leiterschiene jeweils von länglicher Form auf, die sich
parallel zueinander und senkrecht zur Oberfläche eines Substrates 5 erstrecken.
Die Leiterschienen 11, 12, 13 verbinden
mehrere in dieser Ansicht nicht erkennbare, zwischen, unter oder
neben den Leiterschienen 11, 12 und 13 angeordnete
Halbleiterelemente 10a, 20a sowie weitere, außerhalb
des dargestellten Abschnitts gelegene Halbleiterbauelemente.
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Die
Leiterschienen 11, 12, 13 können, beispielsweise
wie die Leiterschiene 13, über ihre gesamte Länge auf
einer Metallisierung, hier die Metallisierung 23, aufliegen.
Es ist jedoch ebenso möglich,
dass – wie
im vorliegenden Ausführungsbeispiel
die erste Leiterschiene 11 – nur abschnittweise eine elektrische
und/oder mechanische Verbindung zu einer Metalli sierung, hier die
Metallisierung 21, sowie gegebenenfalls weiteren Metallisierungen
besteht. Zu diesem Zweck kann die Leiterschiene wie im Beispiel
der ersten Leiterschiene 11 eine Abstufung 14 aufweisen.
Auf diese Weise ist es möglich,
Metallisierungen, Leiterbahnen oder andere Leiterschienen zu überbrücken, ohne
diese elektrisch zu kontaktieren.
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Die
Leiterschienen 11, 12, 13 sind parallel
zueinander angeordnet. Dabei ist der Abstand zwischen der zur Spannungsversorgung
dienenden ersten 11 bzw. zweiten 12 Leiterschiene
so gering wie möglich
gewählt, ohne
dabei den für
eine ausreichende Isolation erforderlichen Abstand zu unterschreiten.
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Die
Abbildung in 8 zeigt einen Vertikalschnitt
durch die Leiterschienenanordnung gemäß 7. Der Träger 6 weist
voneinander unabhängige
Metallisierungen 22, 23 auf. Auf der Metallisierung 23 ist
ein Halbleiterelement 20a angeordnet, das mit der Metallisierung 23 unmittelbar
und mit der Metallisierung 22 über Bonddrähte 20h elektrisch
kontaktiert ist. Weiterhin sind die Metallisierungen 22, 23 mit
Leiterschienen 12, 13 elektrisch kontaktiert.
Die erste Leiterschiene 11 überbrückt die Metallisierung 22,
ohne diese zu kontaktieren. In dieser Ansicht ist der geringe Abstand
zwischen der ersten Leiterschiene 11 und der zweiten Leiterschiene 12 gut
erkennbar.
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Eine
Draufsicht auf den in den 7 und 8 dargestellten
Abschnitt einer erfindungsgemäßen Halbleiterbaugruppe
zeigt 9. Das Substrat 5 weist voneinander unabhängige Metallisierungen 21, 22, 23 auf.
Auf den Metallisierungen 21 bzw. 23 sind Halbleiterelemente 10a bzw. 20a sowie
Freilaufdioden 10d bzw. 20d angeordnet. Die Verschaltung
der Halbleiterelemente 10a, 20a sowie der Freilaufdioden 10d, 20d ist durch
Bonddrähte 10b, 20b sowie
durch Metallisierungen 21 und 23 realisiert. Die
elektrische Verbindung zu weiteren Halbleiterelementen, Dioden oder
sonstigen elektronische Bauteilen wird mittels Leiterschienen 11, 12, 13 hergestellt.
Die Lei terschienen 11, 12, 13 sind jeweils
in den schraffiert dargestellten Bereichen mittels den in Richtung
des Trägers 6 unter
den Leiterschienen 11, 12, 13 liegenden
Metallisierungen 21, 22, 23 elektrisch
kontaktiert.
-
Abweichend
von den Darstellungen gemäß 8 und 9 können, wie
beispielhaft in den 2 und 4 gezeigt,
mehrere elektronische und/oder mechanische Komponenten auf einem
gemeinsamen Träger 6 zu
einer Einheit zusammengefasst sein. So können auf einfache Weise mehrere
solcher Einheiten auf einer Metallisierung oder auf mehreren Metallisierungen
des Trägers 6 angeordnet
sein. Die elektrische Verbindung mit anderen, ähnlichen Einheiten oder sonstigen
elektronischen Komponenten kann wiederum in analoger Weise mit Hilfe
von Metallisierungen von Trägern,
von Leiterbahnen von Substraten sowie mit Hilfe von Leiterschienen 11, 12, 13 hergestellt
werden.
-
- 1,
1a, 1b
- Erste
Anschlusslasche
- 1m-7m
- Flächenschwerpunkte
- 2,
2a, 2b
- Zweite
Anschlusslasche
- 1f
- Fußpunkt der
ersten Anschlusslasche
- 2f
- Fußpunkt der
zweiten Anschlusslasche
- 3f
- Fußpunkt der
dritten Anschlusslasche
- 3
- Dritte
Anschlusslasche
- 5
- Substrat
- 6
- Träger
- 10,
20
- Elemente
einer Halbbrücke
- 10a,
20a
- Halbleiterelement
- 10b,
20b
- Bonddraht
- 10c,
20c
- Hilfskollektoranschluss
- 10d,
20d
- Freilaufdiode
- 10e,
20e
- Hilfsemitteranschluss
- 10f,
20f, 15
- Leiterbahn
- 10g,
20g
- Steueranschluss
- 10h,
20h
- Bonddraht
- 11
- Erste
Leiterschiene
- 12
- Zweite
Leiterschiene
- 13
- Dritte
Leiterschiene
- 14
- Abstufung
- 21,
22, 23
- Metallisierung
- 100a
- Erstes
Halbleiterbauelement
- 100b
- Zweites
Halbleiterbauelement
- H
- Halbbrücke
- 7L
- Lastanschluss
- L1-L5
- Ersatz-Induktivitäten
- W
- Punkt
wechselnden Potentials
- α
- Winkel
- β
- Winkel